JP2004079904A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2004079904A5
JP2004079904A5 JP2002240818A JP2002240818A JP2004079904A5 JP 2004079904 A5 JP2004079904 A5 JP 2004079904A5 JP 2002240818 A JP2002240818 A JP 2002240818A JP 2002240818 A JP2002240818 A JP 2002240818A JP 2004079904 A5 JP2004079904 A5 JP 2004079904A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
branch
branch pipe
pipe
film
injector
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2002240818A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2004079904A (ja
JP4239520B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2002240818A priority Critical patent/JP4239520B2/ja
Priority claimed from JP2002240818A external-priority patent/JP4239520B2/ja
Publication of JP2004079904A publication Critical patent/JP2004079904A/ja
Publication of JP2004079904A5 publication Critical patent/JP2004079904A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4239520B2 publication Critical patent/JP4239520B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

JP2002240818A 2002-08-21 2002-08-21 成膜装置およびその製造方法、並びにインジェクタ Expired - Fee Related JP4239520B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002240818A JP4239520B2 (ja) 2002-08-21 2002-08-21 成膜装置およびその製造方法、並びにインジェクタ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002240818A JP4239520B2 (ja) 2002-08-21 2002-08-21 成膜装置およびその製造方法、並びにインジェクタ

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2004079904A JP2004079904A (ja) 2004-03-11
JP2004079904A5 true JP2004079904A5 (enExample) 2005-10-20
JP4239520B2 JP4239520B2 (ja) 2009-03-18

Family

ID=32023502

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002240818A Expired - Fee Related JP4239520B2 (ja) 2002-08-21 2002-08-21 成膜装置およびその製造方法、並びにインジェクタ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4239520B2 (enExample)

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1938447B (zh) * 2004-03-29 2010-06-09 大见忠弘 成膜装置及成膜方法
JP5568729B2 (ja) * 2005-09-06 2014-08-13 国立大学法人東北大学 成膜装置および成膜方法
WO2007029558A1 (ja) 2005-09-06 2007-03-15 Tohoku University 成膜用材料及び成膜用材料の推定方法
EP1937871A2 (en) * 2005-10-17 2008-07-02 OC Oerlikon Balzers AG Cleaning means for large area pecvd devices using a remote plasma source
JP5203584B2 (ja) * 2006-08-09 2013-06-05 東京エレクトロン株式会社 成膜装置、成膜システムおよび成膜方法
JP2008038224A (ja) 2006-08-09 2008-02-21 Tokyo Electron Ltd 成膜装置、成膜システムおよび成膜方法
KR101316768B1 (ko) 2006-11-29 2013-10-10 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 기판의 처리 장치
ES2331489T3 (es) * 2007-03-05 2010-01-05 Applied Materials, Inc. Instalacion de revestimiento y sistema de conduccion de gas.
KR101423556B1 (ko) 2008-02-11 2014-07-28 (주)소슬 가스 공급 장치 및 이를 구비하는 기판 처리 장치
KR101321807B1 (ko) 2009-04-03 2013-10-28 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 증착 헤드 및 성막 장치
US9540731B2 (en) * 2009-12-04 2017-01-10 Applied Materials, Inc. Reconfigurable multi-zone gas delivery hardware for substrate processing showerheads
JP5413305B2 (ja) * 2010-05-25 2014-02-12 信越半導体株式会社 エピタキシャル成長装置
JP5735226B2 (ja) * 2010-07-16 2015-06-17 株式会社アルバック 蒸着装置及び蒸着方法
JP5771372B2 (ja) * 2010-08-02 2015-08-26 株式会社アルバック プラズマ処理装置及び前処理方法
JP5618713B2 (ja) * 2010-09-02 2014-11-05 株式会社アルバック 薄膜形成装置及び薄膜形成方法
JP5685417B2 (ja) * 2010-11-05 2015-03-18 株式会社アルバック クリーニング装置及びクリーニング方法
JP5674434B2 (ja) * 2010-11-19 2015-02-25 株式会社アルバック 蒸着装置及び蒸着方法
CN101988185A (zh) * 2010-12-14 2011-03-23 无锡虹彩科技发展有限公司 镀膜源、真空镀膜装置及其镀膜工艺
JP2014057047A (ja) * 2012-08-10 2014-03-27 Tokyo Electron Ltd 基板処理装置及びガス供給装置
JP5862529B2 (ja) * 2012-09-25 2016-02-16 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置及びガス供給装置
CN109661716B (zh) * 2016-09-05 2023-03-28 信越半导体株式会社 气相生长装置、外延晶片的制造方法及气相生长装置用附接件
JP7486388B2 (ja) * 2020-09-17 2024-05-17 東京エレクトロン株式会社 ガス導入構造及び処理装置
CN111957075A (zh) * 2020-09-17 2020-11-20 潍坊潍森纤维新材料有限公司 一种粘胶快速脱气泡系统及脱气泡方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH687258A5 (de) * 1993-04-22 1996-10-31 Balzers Hochvakuum Gaseinlassanordnung.
JP3501930B2 (ja) * 1997-12-01 2004-03-02 株式会社ルネサステクノロジ プラズマ処理方法
JP2000256860A (ja) * 1999-03-08 2000-09-19 Micro System:Kk 有機金属気相成長装置用二重ゾーン反応器
JP2001115266A (ja) * 1999-10-19 2001-04-24 Sharp Corp プラズマプロセス装置
US6502530B1 (en) * 2000-04-26 2003-01-07 Unaxis Balzers Aktiengesellschaft Design of gas injection for the electrode in a capacitively coupled RF plasma reactor

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2004079904A5 (enExample)
US7000636B2 (en) Valve assemblies for use with a reactive precursor in semiconductor processing
CN104411865B (zh) Ald覆层设备
JP6195671B2 (ja) 改善されたプラズマ強化ａｌｄシステム
TWI625757B (zh) 脈衝化遠程電漿方法和系統
US10914006B2 (en) Nanoparticle continuous-coating device and method based on spatial atomic layer deposition
TW563185B (en) Method and device for plasma CVD
JP7203207B2 (ja) ガス吸気システム、原子層堆積装置および方法
JP2010515821A5 (enExample)
US20030159653A1 (en) Manifold assembly for feeding reactive precursors to substrate processing chambers
JP4239520B2 (ja) 成膜装置およびその製造方法、並びにインジェクタ
TW202113149A (zh) 用於薄膜沉積設備的流體分配裝置、相關設備和方法
TW201840948A (zh) 用於提供均勻氣流之氣體分配設備與處理腔室
KR20120109989A (ko) 웹 기판 증착 시스템
JP2009531549A5 (enExample)
JP2018501405A5 (enExample)
CN103797155A (zh) 用于直线型大面积等离子体反应器中均匀处理的气体输送和分配
KR20200110464A (ko) Ald 코팅에 의한 목표 펌프의 내부 보호
JP2007277723A5 (enExample)
US12221695B2 (en) CVD system with flange assembly for facilitating uniform and laminar flow
WO2014069309A1 (ja) プラズマｃｖｄ装置用のプラズマ源およびこのプラズマ源を用いた物品の製造方法
CN102586761A (zh) 用于原子层沉积的涡流室盖
TW202125677A (zh) 用於晶圓釋氣的電漿增強式退火腔室
CN101970714A (zh) 多通道真空镀膜系统
JP5138594B2 (ja) 大気圧下で連続化学気相堆積する装置、方法、及びその使用