JP2004079904A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1938447B (zh) * 2004-03-29 2010-06-09 大见忠弘 成膜装置及成膜方法
JP5568729B2 (ja) * 2005-09-06 2014-08-13 国立大学法人東北大学 成膜装置および成膜方法
JP5091678B2 (ja) 2005-09-06 2012-12-05 国立大学法人東北大学 成膜用材料の推定方法、解析方法、及び成膜方法
CN101292059A (zh) * 2005-10-17 2008-10-22 Oc欧瑞康巴尔斯公司 用于利用远程等离子体源的大面积等离子体增强化学气相沉积装置的清洗器具
JP5203584B2 (ja) 2006-08-09 2013-06-05 東京エレクトロン株式会社 成膜装置、成膜システムおよび成膜方法
JP2008038224A (ja) 2006-08-09 2008-02-21 Tokyo Electron Ltd 成膜装置、成膜システムおよび成膜方法
JP4987014B2 (ja) 2006-11-29 2012-07-25 東京エレクトロン株式会社 基板の処理装置
EP1970468B1 (de) * 2007-03-05 2009-07-15 Applied Materials, Inc. Beschichtungsanlage und Gasleitungssystem
KR101423556B1 (ko) 2008-02-11 2014-07-28 (주)소슬 가스 공급 장치 및 이를 구비하는 기판 처리 장치
WO2010114118A1 (ja) 2009-04-03 2010-10-07 東京エレクトロン株式会社 蒸着ヘッドおよび成膜装置
US9540731B2 (en) * 2009-12-04 2017-01-10 Applied Materials, Inc. Reconfigurable multi-zone gas delivery hardware for substrate processing showerheads
JP5413305B2 (ja) * 2010-05-25 2014-02-12 信越半導体株式会社 エピタキシャル成長装置
JP5735226B2 (ja) * 2010-07-16 2015-06-17 株式会社アルバック 蒸着装置及び蒸着方法
JP5771372B2 (ja) * 2010-08-02 2015-08-26 株式会社アルバック プラズマ処理装置及び前処理方法
JP5618713B2 (ja) * 2010-09-02 2014-11-05 株式会社アルバック 薄膜形成装置及び薄膜形成方法
JP5685417B2 (ja) * 2010-11-05 2015-03-18 株式会社アルバック クリーニング装置及びクリーニング方法
JP5674434B2 (ja) * 2010-11-19 2015-02-25 株式会社アルバック 蒸着装置及び蒸着方法
CN101988185A (zh) * 2010-12-14 2011-03-23 无锡虹彩科技发展有限公司 镀膜源、真空镀膜装置及其镀膜工艺
JP2014057047A (ja) * 2012-08-10 2014-03-27 Tokyo Electron Ltd 基板処理装置及びガス供給装置
JP5862529B2 (ja) * 2012-09-25 2016-02-16 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置及びガス供給装置
JP6628065B2 (ja) * 2016-09-05 2020-01-08 信越半導体株式会社 気相成長装置、エピタキシャルウェーハの製造方法及び気相成長装置用のアタッチメント
CN111957075A (zh) * 2020-09-17 2020-11-20 潍坊潍森纤维新材料有限公司 一种粘胶快速脱气泡系统及脱气泡方法
JP7486388B2 (ja) * 2020-09-17 2024-05-17 東京エレクトロン株式会社 ガス導入構造及び処理装置

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH687258A5 (de) * 1993-04-22 1996-10-31 Balzers Hochvakuum Gaseinlassanordnung.
JP3501930B2 (ja) * 1997-12-01 2004-03-02 株式会社ルネサステクノロジ プラズマ処理方法
JP2000256860A (ja) * 1999-03-08 2000-09-19 Micro System:Kk 有機金属気相成長装置用二重ゾーン反応器
JP2001115266A (ja) * 1999-10-19 2001-04-24 Sharp Corp プラズマプロセス装置
US6502530B1 (en) * 2000-04-26 2003-01-07 Unaxis Balzers Aktiengesellschaft Design of gas injection for the electrode in a capacitively coupled RF plasma reactor

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