JP2004069902A - マスクの撓み補正機構付き露光装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】ガラスマスクの撓みの方向に関わらず、ガラスマスクの撓みを効率的に補正することができる機能を有する露光装置を提供する。
【解決手段】ガラスマスク1に接して気密空間73を形成し、ガラスマスク1がA方向に撓んでいる場合には、高圧空気源74から高圧空気を気密空間73内に導入し、ガラスマスク1がB方向に撓んでいる場合には、真空ポンプ75を作動させ、気密空間73の内圧を低下させる。
【選択図】 図1
【解決手段】ガラスマスク1に接して気密空間73を形成し、ガラスマスク1がA方向に撓んでいる場合には、高圧空気源74から高圧空気を気密空間73内に導入し、ガラスマスク1がB方向に撓んでいる場合には、真空ポンプ75を作動させ、気密空間73の内圧を低下させる。
【選択図】 図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイパネルや液晶パネルなどの製造に使用される露光装置に関し、特に、露光用マスクの反りもしくは撓みを補正する機能を有する露光装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
プラズマディスプレイパネルや液晶パネルなどの製造プロセスには、所定のパターンが予め形成されているガラスマスクを介して基板上にパターンを露光する過程が含まれている。
【0003】
この過程を実施するための露光装置の一例が特開2001−12905号公報に記載されている。以下、この露光装置について説明する。
【0004】
図2は、同公報に記載されている露光装置50の模式的な縦断面図である。図3は、露光装置50により露光を行う対象である基板4の模式的な上面図であり、図4は、露光装置50において用いられるガラスマスク1の模式的な上面図であり、図5は、露光装置50における基板ステージ6、基板4及びガラスマスク1の配置関係を示す上面図である。
【0005】
図2に示すように、露光装置50は、一辺の長さがL6である正方形形状の載置面6Sを有し、この載置面6S上に配置された基板4を真空吸着する基板ステージ6を備えている。この基板ステージ6は、駆動部43及び駆動部43を制御する制御部40によって、高さや水平度などの姿勢が制御されるようになっている。
【0006】
図3に示すように、基板4は、一辺の長さがL4の正方形をなしており、各コーナーの付近には、一辺の長さがL5の基板側ギャップ計測用マーク5が設けられている。また、図2に示すように、基板4は載置面6S上に配置される際に、載置面6Sとは反対側の表面において、基板側ギャップ計測用マーク5を除く領域にレジストが塗布されている。基板4は、例えば、ガラス基板からなる。
【0007】
図2に示すように、基板4の上方には、枠形状のマスクステージ3上に支持されたガラスマスク1が配置されている。ガラスマスク1は、所定の露光用パターンが形成されている面が基板4に対向するように配置されている。
【0008】
図4に示すように、ガラスマスク1は一辺の長さがL1の正方形をなしており、各コーナーの付近には、一辺の長さがL2の正方形のマスク側ギャップ計測用マーク2が設けられている。
【0009】
図5に示すように、ガラスマスク1及び基板4を露光装置50にセッティングする際には、ギャップ計測用マーク2、5の中心が一致するように、ガラスマスク1及び基板4が位置決めされる。
【0010】
図2に示すように、露光装置50は、さらに、ガラスマスク1の上方において、レーザ発光部7とレーザ受光部8とを備えている。レーザ発光部7は、レーザ発光部7から出射される出射レーザ光9がマスク側ギャップ計測用マーク2及び基板側ギャップ計測用マーク5に対して約45度の角度で入射するように、ガラスマスク1の上方に配置されている。また、レーザ受光部8は、出射レーザ光9がマスク側ギャップ計測用マーク2において反射された反射レーザ光10及びマスク側ギャップ計測用マーク2を透過して基板側ギャップ計測用マーク5において反射された反射レーザ光11の双方を受光し得る位置に配置されている。
【0011】
上記のような構造を有する露光装置50は、以下のようにして、ガラスマスク1と基板4との間のギャップを計測しつつ、基板4に対する露光を行う。
【0012】
レーザ発光部7から出射された出射レーザ光9は約45度の角度でマスク側ギャップ計測用マーク2に入射され、マスク側ギャップ計測用マーク2で反射されるとともに、マスク側ギャップ計測用マーク2を透過して基板側ギャップ計測用マーク5で反射される。
【0013】
レーザ受光部8は、反射レーザ光10、11を受光して、その受光位置に関するデータを制御部40に出力する。制御部40はこのデータに基づいてギャップを計算し、このギャップが一定になるように、駆動部43を介して基板ステージ6の姿勢を制御する。
【0014】
このように、露光装置50は、ガラスマスク1と基板4との間のギャップが一定になるように、基板4の高さや水平度を制御しながら、基板4に対してレーザ光の照射を行い、ガラスマスク1に形成されているパターンを基板4に対して露光する。
【0015】
近年、プラズマディスプレイパネル(PDP)などの表示ディスプレイにおいては、生産効率の向上の観点から、基板の大型化が進められており、例えば、一辺の長さが1mを超える基板(ガラス基板など)が量産されている。このような大型の基板を一括して露光することにより、小さな基板を多数回露光するよりも、大幅に生産効率を上げることができる。
【0016】
しかしながら、基板が大型化するにつれて、小さい基板では問題にならなかったガラスマスクの反りもしくは撓みが問題になっている。
【0017】
ガラスマスクが反っていると、その反りにより、基板とガラスマスクとの間のギャップが一定に保たれない。このため、例えば、ギャップが設計値のギャップよりも大きい箇所では、露光したパターンの幅は設計値よりも大きくなり、逆に、ギャップが設計値のギャップよりも小さい箇所では、露光したパターンの幅は設計値よりも小さくなる。この結果、同一面内において、パターン幅のバラツキが生じることとなる。
【0018】
このようなガラスマスクの反りを補正する機能を有する露光装置として、図6に示すような露光装置60が提案されている。
【0019】
図6に示す露光装置60は、図2に示した露光装置50の構成に加えて、レーザ発光部7とガラスマスク1との間に配置された透過ガラス61と、透過ガラス61とガラスマスク1とを、相互に平行に隔置した状態で、かつ、透過ガラス61とガラスマスク1との間に気密空間63が形成されるように、保持するマスクホルダー62と、気密空間63の内部の圧力を低下させる真空ポンプ54と、を備えている。
【0020】
露光装置60は、以下のようにして、ガラスマスク1の反りを補正する。
【0021】
ガラスマスク1は自重によって下方に凸になるように撓む。このため、真空ポンプ54によって気密空間63の内部の空気を排気し、気密空間63の内圧を下げることにより、ガラスマスク1は大気圧の作用を受けて、ガラスマスク1には上方に向かう力、すなわち、気密空間63に向かう力が作用するため、下方に凸のガラスマスク1の撓みが補正される。
【0022】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、図6に示した露光装置60には次のような問題点があった。
【0023】
第一に、ガラスマスク1の撓みの原因としては、ガラスマスク1の自重のみならず、周囲との温度差その他様々な要因があるという点である。
【0024】
このため、ガラスマスク1の撓みの補正はそれら全ての要因を考慮して行う必要があるが、考慮すべき要因は少ない方がガラスマスク1の撓みの補正に際しては有利である。
【0025】
しかしながら、露光装置60においては、ガラスマスク1の自重による撓みをも考慮に入れて、撓みの補正を行っており、必ずしも効率的な撓みの補正を行っているわけではない。
【0026】
第二に、露光装置60は、ガラスマスク1の撓みとしては、一つの方向の撓みにしか対応できないという点である。
【0027】
すなわち、露光装置60はガラスマスク1の自重による撓みしか考慮していないため、図6において、下方に向かって凸となるような撓みを補正することができるだけである。
【0028】
前述したように、ガラスマスク1の撓みの原因は、ガラスマスク1の自重のみならず、様々な要因があり、このため、図6を参照して述べれば、ガラスマスク1が上方に向かって凸となるように撓むこともある。
【0029】
しかしながら、露光装置60は、上方に向かって凸となるようなガラスマスク1の撓みには全く対処することができない。
【0030】
第三に、図6に示した露光装置60においては、基板4は横置きにされているので、露光処理中に大気中のゴミが基板4上に落下し、付着しやすいという点である。
【0031】
本発明は、このような問題点に鑑みてなされたものであり、ガラスマスクの撓みの方向に関わらず、ガラスマスクの撓みを効率的に補正することができる機能を有する露光装置及び露光方法を提供することを目的とする。
【0032】
【課題を解決するための手段】
この目的を達成するため、本発明は、所定のパターンが形成されているガラスマスクと、前記ガラスマスクを介して、前記ガラスマスクと平行に配置されている基板にレーザ光を照射するレーザ光出射部と、前記基板から反射してきたレーザ光を受光するレーザ光受光部と、を備える露光装置において、前記レーザ光出射部と前記ガラスマスクとの間に配置された透過ガラスと、前記透過ガラスと前記ガラスマスクとを、鉛直方向において相互に平行に隔置した状態で、かつ、前記透過ガラスと前記ガラスマスクとの間に気密空間が形成されるように、保持するマスクホルダーと、前記気密空間内に高圧ガスを供給する高圧ガス源と、前記気密空間内部の圧力を低下させる真空ポンプと、前記ガラスマスクの反りの方向に応じて、前記気密空間内に前記高圧ガスを供給し、あるいは、前記真空ポンプを作動させる制御装置と、を備えることを特徴とする露光装置を提供する。
【0033】
前記透過ガラスは前記ガラスマスクと同じ大きさを有していることが好ましい。
【0034】
さらに、本発明は、レーザ光をガラスマスクを介して基板に照射することにより、前記ガラスマスクに形成されている所定のパターンを前記基板に露光する際に、前記ガラスマスクの反りを補正する方法であって、前記ガラスマスクと前記レーザ光を発するレーザ光源との間において、前記ガラスマスクを縦置きにした状態で前記ガラスマスクに接して気密空間を形成する過程と、前記ガラスマスクの反りの方向に応じて、前記気密空間に正または負の圧力を発生させ、前記正または負の圧力を前記基板に作用させる過程と、を備える補正方法を提供する。
【0035】
また、本発明は、所定のパターンが形成されているガラスマスクを介して前記パターンを基板に露光する露光方法であって、前記ガラスマスクを縦置きにした状態で前記ガラスマスクに接して気密空間を形成する過程と、前記ガラスマスクを介して前記基板にレーザ光を照射し、前記基板から反射してきたレーザ光に基づいて前記ガラスマスクと前記基板との間のギャップを測定し、前記ガラスマスクの反りを検出する過程と、前記ガラスマスクの反りの向きに応じて、前記気密空間に正または負の圧力を発生させ、前記正または負の圧力を前記基板に作用させる過程と、を備えることを特徴とする露光方法を提供する。
【0036】
さらに、本発明は、上記の露光方法を用いることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。
【0037】
【発明の実施の形態】
図1は、本発明の一実施形態に係る露光装置70の概略的な構造を示す模式図である。
【0038】
本実施形態に係る露光装置70は、図2に示した露光装置50の構成に加えて、レーザ発光部7とガラスマスク1との間に配置され、ガラスマスク1と同じ大きさを有している透過ガラス71と、透過ガラス71とガラスマスク1とを、鉛直方向において相互に平行に隔置した状態で、かつ、透過ガラス71とガラスマスク1との間に気密空間73が形成されるように、保持するマスクホルダー72と、気密空間73内に高圧空気を供給する高圧空気源74と、気密空間73内部の圧力を低下させる真空ポンプ75と、ガラスマスク1の反りの方向に応じて、気密空間73内に高圧空気源74から高圧空気を供給し、あるいは、真空ポンプ75を作動させる制御装置76と、をさらに備えている。
【0039】
マスクホルダー72には、第一ガス孔72aと第二ガス孔72bが設けられており、高圧空気源74は第一バルブ77aを介して、真空ポンプ75は第二バルブ77bを介してそれぞれ第一ガス孔72aに連通している。また、第二ガス孔72bには第三バルブ77cが接続されている。
【0040】
第一バルブ77a、第二バルブ77b及び第三バルブ77cの開閉は制御装置76により制御される。
【0041】
本実施形態に係る露光装置70は以下のように作動する。
【0042】
ガラスマスク1がA方向に向かって凸になるように撓んでいる場合には、制御部40からガラスマスク1と基板4との間のギャップを示すデータ信号40aを受信した制御装置76は、データ信号40aに示されているガラスマスク1と基板4との間のギャップに応じて、第一バルブ77aの開け、高圧空気源74から高圧空気を気密空間73の内部に供給する。高圧空気が気密空間73の内部に供給されるに伴って、気密空間73の内部は大気圧よりも高圧となり、その結果、ガラスマスク1にはA方向とは反対方向Bに向く力が作用する。この力により、ガラスマスク1のA方向に向かって凸となるような撓みが補正される。
【0043】
ガラスマスク1がB方向に向かって凸になるように撓んでいる場合には、制御部40からガラスマスク1と基板4との間のギャップを示すデータ信号40aを受信した制御装置76は、データ信号40aに示されているガラスマスク1と基板4との間のギャップに応じて、第二バルブ77bの開け、次いで、真空ポンプ75を作動させる。真空ポンプ75の作動により、気密空間73の内部は大気圧よりも低圧となり、その結果、大気圧の作用により、ガラスマスク1にはB方向とは反対方向Aに向く力が作用する。この力により、ガラスマスク1のB方向に向かって凸となるような撓みが補正される。
【0044】
一般に、ガラスマスク1の撓みはガラスマスク1の両端において0、中央において最大値となるような円弧形状をなしている。このため、上記のように、ガラスマスク1に大気圧よりも高い圧力あるいは大気圧を作用させることにより、ガラスマスク1を平坦な形状に補正することが可能である。
【0045】
制御装置76には、制御部40からデータ信号40aが送信され続けているため、制御装置76は、データ信号40aに示されているガラスマスク1と基板4との間のギャップに応じて、第一バルブ77aまたは第二バルブ77bの開度を調節し、気密空間73の内部の圧力を適当な値に維持することができる。
【0046】
なお、本実施形態に係る露光装置70においては、透過ガラス71をガラスマスク1と同じ大きさを有するものとしたが、透過ガラス71をガラスマスク1のパターン部よりも大きなサイズを有するものとして形成することも可能である。
【0047】
また、本実施形態においては、高圧ガスとして高圧空気を用いたが、空気以外の気体を用いることも可能である。
【0048】
以上のように、本実施形態に係る露光装置70によれば、次のような効果を得ることができる。
【0049】
第一に、本実施形態に係る露光装置70においては、ガラスマスク1は縦置きに配置されるため、図6に示した露光装置60の場合とは異なり、ガラスマスク1の自重による撓みに対しては対処する必要がない。すなわち、ガラスマスク1の自重以外の要因による撓みに対してのみ対処すればよく、図6に示した露光装置60と比較して、ガラスマスク1の撓みの補正をより容易に行うことができる。
【0050】
第二に、本実施形態に係る露光装置70は、ガラスマスク1が何れの方向に撓んでも、ガラスマスク1の撓みを補正することが可能である。
【0051】
図6に示した露光装置60は、下方向に凸となるようなガラスマスク1の撓みしか補正できなかったが、本実施形態に係る露光装置70によれば、ガラスマスク1がA方向及びB方向(図1参照)の何れの方向に撓んでも、その撓みを補正することが可能である。
【0052】
第三に、図6に示した露光装置60においては、基板4は横置きにされているので、露光処理中に大気中のゴミが基板4上に落下し、付着しやすいという問題があったが、本実施形態に係る露光装置70においては、基板4は縦置きに配置されるため、大気中のゴミが基板4上に落下することを防止することが可能である。
【0053】
【発明の効果】
本発明に係る露光装置または補正方法によれば、以下のような効果を得ることができる。
【0054】
第一に、本発明においては、ガラスマスクは縦置きに配置されるため、図6に示した露光装置60の場合とは異なり、ガラスマスクの自重による撓みに対しては対処する必要がない。すなわち、ガラスマスクの自重以外の要因による撓みに対してのみ対処すればよく、図6に示した露光装置60と比較して、ガラスマスクの撓みの補正をより容易に行うことができる。
【0055】
第二に、本発明によれば、ガラスマスクが何れの方向に撓んでも、ガラスマスクの撓みを補正することが可能である。
【0056】
図6に示した露光装置60は、下方向に凸となるようなガラスマスクの撓みしか補正できなかったが、本発明によれば、ガラスマスクの反りの方向に応じて、高圧空気源または真空ポンプの何れかを選択することにより、ガラスマスクが何れの方向に撓んでも、その撓みを補正することが可能である。
【0057】
第三に、図6に示した露光装置60においては、基板は横置きにされているので、露光処理中に大気中のゴミが基板上に落下し、付着しやすいという問題があったが、本発明に係る露光装置においては、基板は縦置きに配置されるため、大気中のゴミが基板上に落下することを防止することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態に係る露光装置の構成を示す模式図である。
【図2】一般的な露光装置の模式的な縦断面図である。
【図3】図2に示した露光装置により露光を行う対象である基板の模式的な上面図である。
【図4】図2に示した露光装置において用いられるマスクの模式的な上面図である。
【図5】図2に示した露光装置における基板ステージ、基板及びマスクの配置関係を示す上面図である。
【図6】ガラスマスクの撓みを補正する機能を有する従来の露光装置の概略図である。
【符号の説明】
50 露光装置
1 マスク
2 マスク側ギャップ計測用マーク
4 基板
5 基板側ギャップ計測用マーク
6 基板ステージ
7 レーザ発光部
8 レーザ受光部
51 第一の例に係るガラスマスク
52、53 パターン
70 本発明の一実施形態に係る露光装置
71 透過ガラス
72 マスクホルダー
73 気密空間
74 高圧空気源
75 真空ポンプ
76 制御装置
77a、77b、77c バルブ
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイパネルや液晶パネルなどの製造に使用される露光装置に関し、特に、露光用マスクの反りもしくは撓みを補正する機能を有する露光装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
プラズマディスプレイパネルや液晶パネルなどの製造プロセスには、所定のパターンが予め形成されているガラスマスクを介して基板上にパターンを露光する過程が含まれている。
【0003】
この過程を実施するための露光装置の一例が特開2001−12905号公報に記載されている。以下、この露光装置について説明する。
【0004】
図2は、同公報に記載されている露光装置50の模式的な縦断面図である。図3は、露光装置50により露光を行う対象である基板4の模式的な上面図であり、図4は、露光装置50において用いられるガラスマスク1の模式的な上面図であり、図5は、露光装置50における基板ステージ6、基板4及びガラスマスク1の配置関係を示す上面図である。
【0005】
図2に示すように、露光装置50は、一辺の長さがL6である正方形形状の載置面6Sを有し、この載置面6S上に配置された基板4を真空吸着する基板ステージ6を備えている。この基板ステージ6は、駆動部43及び駆動部43を制御する制御部40によって、高さや水平度などの姿勢が制御されるようになっている。
【0006】
図3に示すように、基板4は、一辺の長さがL4の正方形をなしており、各コーナーの付近には、一辺の長さがL5の基板側ギャップ計測用マーク5が設けられている。また、図2に示すように、基板4は載置面6S上に配置される際に、載置面6Sとは反対側の表面において、基板側ギャップ計測用マーク5を除く領域にレジストが塗布されている。基板4は、例えば、ガラス基板からなる。
【0007】
図2に示すように、基板4の上方には、枠形状のマスクステージ3上に支持されたガラスマスク1が配置されている。ガラスマスク1は、所定の露光用パターンが形成されている面が基板4に対向するように配置されている。
【0008】
図4に示すように、ガラスマスク1は一辺の長さがL1の正方形をなしており、各コーナーの付近には、一辺の長さがL2の正方形のマスク側ギャップ計測用マーク2が設けられている。
【0009】
図5に示すように、ガラスマスク1及び基板4を露光装置50にセッティングする際には、ギャップ計測用マーク2、5の中心が一致するように、ガラスマスク1及び基板4が位置決めされる。
【0010】
図2に示すように、露光装置50は、さらに、ガラスマスク1の上方において、レーザ発光部7とレーザ受光部8とを備えている。レーザ発光部7は、レーザ発光部7から出射される出射レーザ光9がマスク側ギャップ計測用マーク2及び基板側ギャップ計測用マーク5に対して約45度の角度で入射するように、ガラスマスク1の上方に配置されている。また、レーザ受光部8は、出射レーザ光9がマスク側ギャップ計測用マーク2において反射された反射レーザ光10及びマスク側ギャップ計測用マーク2を透過して基板側ギャップ計測用マーク5において反射された反射レーザ光11の双方を受光し得る位置に配置されている。
【0011】
上記のような構造を有する露光装置50は、以下のようにして、ガラスマスク1と基板4との間のギャップを計測しつつ、基板4に対する露光を行う。
【0012】
レーザ発光部7から出射された出射レーザ光9は約45度の角度でマスク側ギャップ計測用マーク2に入射され、マスク側ギャップ計測用マーク2で反射されるとともに、マスク側ギャップ計測用マーク2を透過して基板側ギャップ計測用マーク5で反射される。
【0013】
レーザ受光部8は、反射レーザ光10、11を受光して、その受光位置に関するデータを制御部40に出力する。制御部40はこのデータに基づいてギャップを計算し、このギャップが一定になるように、駆動部43を介して基板ステージ6の姿勢を制御する。
【0014】
このように、露光装置50は、ガラスマスク1と基板4との間のギャップが一定になるように、基板4の高さや水平度を制御しながら、基板4に対してレーザ光の照射を行い、ガラスマスク1に形成されているパターンを基板4に対して露光する。
【0015】
近年、プラズマディスプレイパネル(PDP)などの表示ディスプレイにおいては、生産効率の向上の観点から、基板の大型化が進められており、例えば、一辺の長さが1mを超える基板(ガラス基板など)が量産されている。このような大型の基板を一括して露光することにより、小さな基板を多数回露光するよりも、大幅に生産効率を上げることができる。
【0016】
しかしながら、基板が大型化するにつれて、小さい基板では問題にならなかったガラスマスクの反りもしくは撓みが問題になっている。
【0017】
ガラスマスクが反っていると、その反りにより、基板とガラスマスクとの間のギャップが一定に保たれない。このため、例えば、ギャップが設計値のギャップよりも大きい箇所では、露光したパターンの幅は設計値よりも大きくなり、逆に、ギャップが設計値のギャップよりも小さい箇所では、露光したパターンの幅は設計値よりも小さくなる。この結果、同一面内において、パターン幅のバラツキが生じることとなる。
【0018】
このようなガラスマスクの反りを補正する機能を有する露光装置として、図6に示すような露光装置60が提案されている。
【0019】
図6に示す露光装置60は、図2に示した露光装置50の構成に加えて、レーザ発光部7とガラスマスク1との間に配置された透過ガラス61と、透過ガラス61とガラスマスク1とを、相互に平行に隔置した状態で、かつ、透過ガラス61とガラスマスク1との間に気密空間63が形成されるように、保持するマスクホルダー62と、気密空間63の内部の圧力を低下させる真空ポンプ54と、を備えている。
【0020】
露光装置60は、以下のようにして、ガラスマスク1の反りを補正する。
【0021】
ガラスマスク1は自重によって下方に凸になるように撓む。このため、真空ポンプ54によって気密空間63の内部の空気を排気し、気密空間63の内圧を下げることにより、ガラスマスク1は大気圧の作用を受けて、ガラスマスク1には上方に向かう力、すなわち、気密空間63に向かう力が作用するため、下方に凸のガラスマスク1の撓みが補正される。
【0022】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、図6に示した露光装置60には次のような問題点があった。
【0023】
第一に、ガラスマスク1の撓みの原因としては、ガラスマスク1の自重のみならず、周囲との温度差その他様々な要因があるという点である。
【0024】
このため、ガラスマスク1の撓みの補正はそれら全ての要因を考慮して行う必要があるが、考慮すべき要因は少ない方がガラスマスク1の撓みの補正に際しては有利である。
【0025】
しかしながら、露光装置60においては、ガラスマスク1の自重による撓みをも考慮に入れて、撓みの補正を行っており、必ずしも効率的な撓みの補正を行っているわけではない。
【0026】
第二に、露光装置60は、ガラスマスク1の撓みとしては、一つの方向の撓みにしか対応できないという点である。
【0027】
すなわち、露光装置60はガラスマスク1の自重による撓みしか考慮していないため、図6において、下方に向かって凸となるような撓みを補正することができるだけである。
【0028】
前述したように、ガラスマスク1の撓みの原因は、ガラスマスク1の自重のみならず、様々な要因があり、このため、図6を参照して述べれば、ガラスマスク1が上方に向かって凸となるように撓むこともある。
【0029】
しかしながら、露光装置60は、上方に向かって凸となるようなガラスマスク1の撓みには全く対処することができない。
【0030】
第三に、図6に示した露光装置60においては、基板4は横置きにされているので、露光処理中に大気中のゴミが基板4上に落下し、付着しやすいという点である。
【0031】
本発明は、このような問題点に鑑みてなされたものであり、ガラスマスクの撓みの方向に関わらず、ガラスマスクの撓みを効率的に補正することができる機能を有する露光装置及び露光方法を提供することを目的とする。
【0032】
【課題を解決するための手段】
この目的を達成するため、本発明は、所定のパターンが形成されているガラスマスクと、前記ガラスマスクを介して、前記ガラスマスクと平行に配置されている基板にレーザ光を照射するレーザ光出射部と、前記基板から反射してきたレーザ光を受光するレーザ光受光部と、を備える露光装置において、前記レーザ光出射部と前記ガラスマスクとの間に配置された透過ガラスと、前記透過ガラスと前記ガラスマスクとを、鉛直方向において相互に平行に隔置した状態で、かつ、前記透過ガラスと前記ガラスマスクとの間に気密空間が形成されるように、保持するマスクホルダーと、前記気密空間内に高圧ガスを供給する高圧ガス源と、前記気密空間内部の圧力を低下させる真空ポンプと、前記ガラスマスクの反りの方向に応じて、前記気密空間内に前記高圧ガスを供給し、あるいは、前記真空ポンプを作動させる制御装置と、を備えることを特徴とする露光装置を提供する。
【0033】
前記透過ガラスは前記ガラスマスクと同じ大きさを有していることが好ましい。
【0034】
さらに、本発明は、レーザ光をガラスマスクを介して基板に照射することにより、前記ガラスマスクに形成されている所定のパターンを前記基板に露光する際に、前記ガラスマスクの反りを補正する方法であって、前記ガラスマスクと前記レーザ光を発するレーザ光源との間において、前記ガラスマスクを縦置きにした状態で前記ガラスマスクに接して気密空間を形成する過程と、前記ガラスマスクの反りの方向に応じて、前記気密空間に正または負の圧力を発生させ、前記正または負の圧力を前記基板に作用させる過程と、を備える補正方法を提供する。
【0035】
また、本発明は、所定のパターンが形成されているガラスマスクを介して前記パターンを基板に露光する露光方法であって、前記ガラスマスクを縦置きにした状態で前記ガラスマスクに接して気密空間を形成する過程と、前記ガラスマスクを介して前記基板にレーザ光を照射し、前記基板から反射してきたレーザ光に基づいて前記ガラスマスクと前記基板との間のギャップを測定し、前記ガラスマスクの反りを検出する過程と、前記ガラスマスクの反りの向きに応じて、前記気密空間に正または負の圧力を発生させ、前記正または負の圧力を前記基板に作用させる過程と、を備えることを特徴とする露光方法を提供する。
【0036】
さらに、本発明は、上記の露光方法を用いることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。
【0037】
【発明の実施の形態】
図1は、本発明の一実施形態に係る露光装置70の概略的な構造を示す模式図である。
【0038】
本実施形態に係る露光装置70は、図2に示した露光装置50の構成に加えて、レーザ発光部7とガラスマスク1との間に配置され、ガラスマスク1と同じ大きさを有している透過ガラス71と、透過ガラス71とガラスマスク1とを、鉛直方向において相互に平行に隔置した状態で、かつ、透過ガラス71とガラスマスク1との間に気密空間73が形成されるように、保持するマスクホルダー72と、気密空間73内に高圧空気を供給する高圧空気源74と、気密空間73内部の圧力を低下させる真空ポンプ75と、ガラスマスク1の反りの方向に応じて、気密空間73内に高圧空気源74から高圧空気を供給し、あるいは、真空ポンプ75を作動させる制御装置76と、をさらに備えている。
【0039】
マスクホルダー72には、第一ガス孔72aと第二ガス孔72bが設けられており、高圧空気源74は第一バルブ77aを介して、真空ポンプ75は第二バルブ77bを介してそれぞれ第一ガス孔72aに連通している。また、第二ガス孔72bには第三バルブ77cが接続されている。
【0040】
第一バルブ77a、第二バルブ77b及び第三バルブ77cの開閉は制御装置76により制御される。
【0041】
本実施形態に係る露光装置70は以下のように作動する。
【0042】
ガラスマスク1がA方向に向かって凸になるように撓んでいる場合には、制御部40からガラスマスク1と基板4との間のギャップを示すデータ信号40aを受信した制御装置76は、データ信号40aに示されているガラスマスク1と基板4との間のギャップに応じて、第一バルブ77aの開け、高圧空気源74から高圧空気を気密空間73の内部に供給する。高圧空気が気密空間73の内部に供給されるに伴って、気密空間73の内部は大気圧よりも高圧となり、その結果、ガラスマスク1にはA方向とは反対方向Bに向く力が作用する。この力により、ガラスマスク1のA方向に向かって凸となるような撓みが補正される。
【0043】
ガラスマスク1がB方向に向かって凸になるように撓んでいる場合には、制御部40からガラスマスク1と基板4との間のギャップを示すデータ信号40aを受信した制御装置76は、データ信号40aに示されているガラスマスク1と基板4との間のギャップに応じて、第二バルブ77bの開け、次いで、真空ポンプ75を作動させる。真空ポンプ75の作動により、気密空間73の内部は大気圧よりも低圧となり、その結果、大気圧の作用により、ガラスマスク1にはB方向とは反対方向Aに向く力が作用する。この力により、ガラスマスク1のB方向に向かって凸となるような撓みが補正される。
【0044】
一般に、ガラスマスク1の撓みはガラスマスク1の両端において0、中央において最大値となるような円弧形状をなしている。このため、上記のように、ガラスマスク1に大気圧よりも高い圧力あるいは大気圧を作用させることにより、ガラスマスク1を平坦な形状に補正することが可能である。
【0045】
制御装置76には、制御部40からデータ信号40aが送信され続けているため、制御装置76は、データ信号40aに示されているガラスマスク1と基板4との間のギャップに応じて、第一バルブ77aまたは第二バルブ77bの開度を調節し、気密空間73の内部の圧力を適当な値に維持することができる。
【0046】
なお、本実施形態に係る露光装置70においては、透過ガラス71をガラスマスク1と同じ大きさを有するものとしたが、透過ガラス71をガラスマスク1のパターン部よりも大きなサイズを有するものとして形成することも可能である。
【0047】
また、本実施形態においては、高圧ガスとして高圧空気を用いたが、空気以外の気体を用いることも可能である。
【0048】
以上のように、本実施形態に係る露光装置70によれば、次のような効果を得ることができる。
【0049】
第一に、本実施形態に係る露光装置70においては、ガラスマスク1は縦置きに配置されるため、図6に示した露光装置60の場合とは異なり、ガラスマスク1の自重による撓みに対しては対処する必要がない。すなわち、ガラスマスク1の自重以外の要因による撓みに対してのみ対処すればよく、図6に示した露光装置60と比較して、ガラスマスク1の撓みの補正をより容易に行うことができる。
【0050】
第二に、本実施形態に係る露光装置70は、ガラスマスク1が何れの方向に撓んでも、ガラスマスク1の撓みを補正することが可能である。
【0051】
図6に示した露光装置60は、下方向に凸となるようなガラスマスク1の撓みしか補正できなかったが、本実施形態に係る露光装置70によれば、ガラスマスク1がA方向及びB方向(図1参照)の何れの方向に撓んでも、その撓みを補正することが可能である。
【0052】
第三に、図6に示した露光装置60においては、基板4は横置きにされているので、露光処理中に大気中のゴミが基板4上に落下し、付着しやすいという問題があったが、本実施形態に係る露光装置70においては、基板4は縦置きに配置されるため、大気中のゴミが基板4上に落下することを防止することが可能である。
【0053】
【発明の効果】
本発明に係る露光装置または補正方法によれば、以下のような効果を得ることができる。
【0054】
第一に、本発明においては、ガラスマスクは縦置きに配置されるため、図6に示した露光装置60の場合とは異なり、ガラスマスクの自重による撓みに対しては対処する必要がない。すなわち、ガラスマスクの自重以外の要因による撓みに対してのみ対処すればよく、図6に示した露光装置60と比較して、ガラスマスクの撓みの補正をより容易に行うことができる。
【0055】
第二に、本発明によれば、ガラスマスクが何れの方向に撓んでも、ガラスマスクの撓みを補正することが可能である。
【0056】
図6に示した露光装置60は、下方向に凸となるようなガラスマスクの撓みしか補正できなかったが、本発明によれば、ガラスマスクの反りの方向に応じて、高圧空気源または真空ポンプの何れかを選択することにより、ガラスマスクが何れの方向に撓んでも、その撓みを補正することが可能である。
【0057】
第三に、図6に示した露光装置60においては、基板は横置きにされているので、露光処理中に大気中のゴミが基板上に落下し、付着しやすいという問題があったが、本発明に係る露光装置においては、基板は縦置きに配置されるため、大気中のゴミが基板上に落下することを防止することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態に係る露光装置の構成を示す模式図である。
【図2】一般的な露光装置の模式的な縦断面図である。
【図3】図2に示した露光装置により露光を行う対象である基板の模式的な上面図である。
【図4】図2に示した露光装置において用いられるマスクの模式的な上面図である。
【図5】図2に示した露光装置における基板ステージ、基板及びマスクの配置関係を示す上面図である。
【図6】ガラスマスクの撓みを補正する機能を有する従来の露光装置の概略図である。
【符号の説明】
50 露光装置
1 マスク
2 マスク側ギャップ計測用マーク
4 基板
5 基板側ギャップ計測用マーク
6 基板ステージ
7 レーザ発光部
8 レーザ受光部
51 第一の例に係るガラスマスク
52、53 パターン
70 本発明の一実施形態に係る露光装置
71 透過ガラス
72 マスクホルダー
73 気密空間
74 高圧空気源
75 真空ポンプ
76 制御装置
77a、77b、77c バルブ
Claims (5)
- 所定のパターンが形成されているガラスマスクと、
前記ガラスマスクを介して、前記ガラスマスクと平行に配置されている基板にレーザ光を照射するレーザ光出射部と、
前記基板から反射してきたレーザ光を受光するレーザ光受光部と、
を備える露光装置において、
前記レーザ光出射部と前記ガラスマスクとの間に配置された透過ガラスと、
前記透過ガラスと前記ガラスマスクとを、鉛直方向において相互に平行に隔置した状態で、かつ、前記透過ガラスと前記ガラスマスクとの間に気密空間が形成されるように、保持するマスクホルダーと、
前記気密空間内に高圧ガスを供給する高圧ガス源と、
前記気密空間内部の圧力を低下させる真空ポンプと、
前記ガラスマスクの反りの方向に応じて、前記気密空間内に前記高圧ガスを供給し、あるいは、前記真空ポンプを作動させる制御装置と、
を備えることを特徴とする露光装置。 - 前記透過ガラスは前記ガラスマスクと同じ大きさを有していることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- レーザ光をガラスマスクを介して基板に照射することにより、前記ガラスマスクに形成されている所定のパターンを前記基板に露光する際に、前記ガラスマスクの反りを補正する方法であって、
前記ガラスマスクと前記レーザ光を発するレーザ光源との間において、前記ガラスマスクを縦置きにした状態で前記ガラスマスクに接して気密空間を形成する過程と、
前記ガラスマスクの反りの方向に応じて、前記気密空間に正または負の圧力を発生させ、前記正または負の圧力を前記基板に作用させる過程と、
を備える補正方法。 - 所定のパターンが形成されているガラスマスクを介して前記パターンを基板に露光する露光方法であって、
前記ガラスマスクを縦置きにした状態で前記ガラスマスクに接して気密空間を形成する過程と、
前記ガラスマスクを介して前記基板にレーザ光を照射し、前記基板から反射してきたレーザ光に基づいて前記ガラスマスクと前記基板との間のギャップを測定し、前記ガラスマスクの反りを検出する過程と、
前記ガラスマスクの反りの向きに応じて、前記気密空間に正または負の圧力を発生させ、前記正または負の圧力を前記基板に作用させる過程と、
を備えることを特徴とする露光方法。 - 請求項4に記載の露光方法を用いることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
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JP2013054343A (ja) * | 2011-08-10 | 2013-03-21 | Nsk Technology Co Ltd | 近接露光装置及び近接露光方法 |
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-
2002
- 2002-08-05 JP JP2002227267A patent/JP2004069902A/ja active Pending
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