JP2004055711A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】第１に、乱流や液溜まりが防止されて、処理がバラツキなく均一化され、プリント配線基板の精度が向上すると共に、第２に、回路の傷等のトラブル発生が防止され、プリント配線基板の不良が減少し、歩留まりが向上する、基板処理装置を提案する。
【解決手段】この基板処理装置５は、プリント配線基板の製造工程で使用される。そしてプリント配線基板材Ｐを、表面Ｑや裏面Ｆの回路形成面Ｒに無接触状態で、コンベヤ２にて搬送しつつ、スプレーノズル４から処理液Ｓを噴射すると共に、前後のエアー吹出部６からエアーＥを吹付ける。もって、回路形成面Ｒについて、左右の幅方向Ｗに沿ったエアーゾーンが形成され、処理液Ｓは、このエアーゾーンにて挟まれ規制されて、左右の幅方向Ｗに沿った流路を形成して流れつつ所定の処理を行った後、左右両サイドから流下する。
【選択図】　　　　図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板処理装置に関する。すなわち、プリント配線基板の製造工程で使用され、プリント基板材を搬送しつつ処理する、基板処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
《技術的背景》
電子機器の高性能化，高機能化，小型軽量化に伴い、プリント配線基板も高精度化，ファイン化，極薄化が進み、表面や裏面に形成される回路の高密度化，微細化が著しい。そして、プリント配線基板の製造工程では、各工程において、搬送されるプリント配線基板材の回路形成面に対し処理液が噴射され、もって各種処理が行われていた。
例えば、現像液→エッチング液→剥離液等が順次噴射され、もって、現像→エッチング→剥膜等の処理が順次行われて、回路が形成されていた。又例えば、無電解銅メッキ液への浸漬→現像液の噴射→電解銅メッキ液への浸漬→剥離液の噴射等が順次行われ、もって、化学銅メッキ→現像→電気銅メッキ→剥膜等が順次行われて、回路が形成されていた。
更に、これらの各工程の前後処理として、水洗液等が噴射され、もって洗浄処理が行われていた。
【０００３】
《従来技術》
さて、このようなプリント配線基板の製造工程では、各工程において、プリント配線基板材が、それぞれの基板処理装置に供給されて、コンベヤにて水平姿勢で搬送されつつ、処理が行われていた。
図５は、この種従来例の基板処理装置（両面基板用）の説明に供し、（１）図は要部側面図、（２）図は、（１）図のＫ−Ｋ線に沿った矢視断面図である。図６は、この種従来例の基板処理装置（片面基板用）の説明に供し、（１）図は、その１例の要部側面図、（２）図は、回路形成面の要部平面図（底面図）、（３）図は、他の例の要部側面図である。
これらの図面に示したように、前述した現像工程，エッチング工程，剥膜工程，洗浄工程等の各工程では、それぞれの基板処理装置１において、→プリント配線基板材Ｐをコンベヤ２のローラー３やホイール１３にて、水平姿勢で搬送しつつ、→表面Ｑや裏面Ｆの回路形成面Ｒに対し、スプレーノズル４から処理液Ｓを噴射し、→もって所定の処理を行っていた。
【０００４】
すなわち図５に示したように、表面Ｑと裏面Ｆに回路形成面Ｒを備えたプリント配線基板材Ｐ用の基板処理装置１、つまり両面基板用の基板処理装置１にあっては、→プリント配線基板材Ｐを、コンベヤ２のホイール１３に載せて搬送しつつ、→表面Ｑおよび裏面Ｆの回路形成面Ｒに対し、上下両側に配設されたスプレーノズル４から処理液Ｓが噴射され、→もって回路形成面Ｒが処理されていた。
又、図６の（１）図や（３）図に示したように、表面Ｑのみに回路形成面Ｒを備えたプリント配線基板材Ｐ用の基板処理装置１、つまり片面基板用の基板処理装置１にあっては、→プリント配線基板材Ｐを、コンベヤ２のローラー３にて搬送しつつ、→表面Ｑの回路形成面Ｒに対し、上側に配設されたスプレーノズル４から処理液Ｓが噴射され、→もって回路形成面Ｒが処理されていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
《第１の問題点について》
ところで、このようなこの種従来例の基板処理装置１にあっては、次の問題が指摘されていた。
第１に、図５の基板処理装置１（両面基板用）や図６の（１）図の基板処理装置１（片面基板用）については、プリント配線基板材Ｐの表面Ｑや裏面Ｆの回路形成面Ｒに、乱流Ｔや液溜まりＵが発生し易い、という問題が指摘されていた。
すなわち、回路形成面Ｒに噴射された処理液Ｓ、つまり図５の例では表面Ｑと裏面Ｆに噴射された処理液Ｓ、図６の（１）図の例では表面Ｑに噴射された処理液Ｓは、回路形成面Ｒを、前後の搬送方向Ｖと直交する左右の幅方向Ｗに流れつつ処理した後、左右両サイドから流下することになる。
しかしながら、すべての処理液Ｓが、このように所期の通り、幅方向Ｗに流れる訳ではなかった。すなわち、図６の（２）図等に示したように、処理液Ｓが副次的に、図５の例では表面Ｑや裏面Ｆの回路形成面Ｒに、図６の（１）図の例では表面Ｑの回路形成面Ｒに、散乱して前後の搬送方向Ｖへの乱流Ｔとなったり、中央部に液溜まりＵとなって停滞し易かった。これは、プリント配線基板材Ｐを搬送しつつ、処理液Ｓを噴射することに起因する。
【０００６】
そして、このように乱流Ｔや液溜まりＵが発生すると、処理液Ｓの更新が妨げられて処理の遅速・過不足が生じ、もって、処理の均一化が阻害されて処理のバラツキが顕著となり、均一な回路形成に支障が生じてしまう。
このような事態発生は、回路の高密度化，微細化が進むプリント配線基板にとって、精度的欠陥となっていた。
【０００７】
《第２の問題点について》
第２に、図５の基板処理装置１（両面基板用）にあっては、プリント配線基板材Ｐの裏面Ｆの回路形成面Ｒに、図６の（３）図の基板処理装置１（片面基板用）にあっては、プリント配線基板材Ｐの表面Ｑの回路形成面Ｒに、それぞれ傷等のトラブルが頻発する、という問題が指摘されていた。
まず、図５の基板処理装置１（両面基板用）は、下側のコンベヤ２のホイール１３上に、裏面Ｆにも回路形成面Ｒを備えたプリント配線基板材Ｐが、載せられ接触せしめられて搬送されていた。
又、表面Ｑに回路形成面Ｒを備えたプリント配線基板材Ｐを、搬送する基板処理装置１（片面基板用）のコンベヤ２としては、図６の（３）図中に示したように、プリント配線基板材Ｐにローラー３を上下から接触，圧接させて、挟んで送るものも使用されていた。
更に、搬送は前述した図６の（１）図の例と同様に、下側のコンベヤ２のローラー３上にプリント配線基板材Ｐを載せることにより行われるが、前述した乱流Ｔや液溜まりＵを阻止すべく、図６の（３）図中に示したように、上側に規制ローラー３’を配設した基板処理装置１（片面基板用）も使用されていた。すなわち、噴射された処理液Ｓが前後に流れることなく、所期のとおり左右の幅方向Ｗへと流れるように、上側の前後に、プリント配線基板材Ｐの回路形成面Ｒに圧接されるローラー３’を配設したものも、使用されていた。
【０００８】
しかしながら、これらの基板処理装置１にあっては、上側のローラー３，規制ローラー３’や下側のホイール１３との接触，圧接により、プリント配線基板材Ｐの回路形成面Ｒに、接触傷や擦り傷等が発生し易かった。表面Ｑや裏面Ｆの回路形成面Ｒの感光性レジスト，銅箔，メッキ，回路に、潰れ，凹み，変形等が発生し易かった。
そして、このような傷等の発生は、回路の高密度化，微細化が進むプリント配線基板にとって大きな不良原因となり、歩留まり悪化が問題となっていた。特に、モジュール基板の場合は、微細回路に半導体部品が予め一体的に組み込まれていることに鑑み、不良発生は大きな問題となり、１００％に近い歩留まり向上が大きなテーマとなっていた。
【０００９】
《本発明について》
本発明の基板処理装置は、このような実情に鑑み、上記従来例の課題を解決すべく、発明者の鋭意研究努力の結果なされたものである。
そして、プリント配線基板の製造工程において、プリント配線基板材の表面や裏面の回路形成面を、無接触状態で搬送しつつ、スプレーノズルから処理液を噴射すると共に、前後のエアー吹出部からエアーを吹付けて、左右の幅方向に向けた処理液の流路を形成すること、を特徴とする。
もって本発明は、第１に、乱流や液溜まりが防止されて、プリント配線基板の精度が向上すると共に、第２に、傷等のトラブルが防止されて、プリント配線基板の不良が大きく減少する、基板処理装置を提案することを、目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
《各請求項について》
このような課題を解決する本発明の技術的手段は、次のとおりである。まず、請求項１については次のとおり。すなわち、請求項１の基板処理装置は、プリント配線基板の製造工程で使用される。
そして、プリント配線基板材を回路形成面に無接触状態で搬送するコンベヤと、該プリント配線基板材に処理液を噴射するスプレーノズルと、該プリント配線基板材にエアーを吹付けるエアー吹出部と、を有してなること、を特徴とする。
【００１１】
請求項２については、次のとおり。すなわち、請求項２の基板処理装置（両面基板用）は、請求項１において、該コンベヤは、表面や裏面に該回路形成面を備えた該プリント配線基板材を、裏面の該回路形成面の両外側を保持しつつ水平姿勢で搬送する。
該スプレーノズルは、搬送される該プリント配線基板材の上下両側に配設されており、該回路形成面に対し該処理液を噴射する。該エアー吹出部は、搬送される該プリント配線基板材の上下両側に配設されると共に、該スプレーノズルの前後に配設されており、該回路形成面に対し該エアーを吹付けること、を特徴とする。
請求項３については、次のとおり。すなわち、請求項３の基板処理装置（両面基板用）は、請求項２において、該コンベヤは、該プリント配線基板材を枠台と共に搬送する。そして該枠台は、該プリント配線基板材の回路形成面を中央開口にて露出させると共に、該プリント配線基板材裏面のエッジを載せて固定的に保持し、両側下に該コンベヤのローラーが配設されていること、を特徴とする。
請求項４については次のとおり。すなわち、請求項４の基板処理装置（片面基板用）は、請求項１において、該コンベヤは、表面のみに該回路形成面を備えた該プリント配線基板材を載せて、裏面を接触，保持しつつ水平姿勢で搬送する。
該スプレーノズルは、搬送される該プリント配線基板材の上側に配設されており、該回路形成面に対し該処理液を噴射する。該エアー吹出部は、搬送される該プリント配線基板材の上側に配設されると共に、該スプレーノズルの前後に配設されており、該回路形成面に対し該エアーを吹付けること、を特徴とする。
【００１２】
請求項５については次のとおり。すなわち、請求項５の基板処理装置は、請求項２又は４において、該スプレーノズルはスプレー管に配設され、該スプレー管は、該プリント配線基板材の全幅をカバーすべく、左右の幅方向に配設されている。該エアー吹出部は風管に配設され、該風管は、該プリント配線基板材の全幅をカバーすべく、幅方向に配設されると共に、該スプレー管と平行に搬送方向の前後に対をなして配設されていること、を特徴とする。
請求項６については次のとおり。すなわち、請求項６の基板処理装置は、請求項５において、該エアー吹出部から吹付けられた該エアーは、該スプレーノズルから噴射された該処理液が、該プリント配線基板材の回路形成面上にて、前後の搬送方向に乱流となったり液溜まりとなることを規制，防止すべく機能すること、を特徴とする。
請求項７については次のとおり。すなわち、請求項７の基板処理装置は、請求項６において、該エアー吹出部から吹付けられた該エアーは、該プリント配線基板材の回路形成面にて、左右の幅方向に沿ったエアーゾーンを形成し、該スプレーノズルから噴射された該処理液は、前後の該エアーゾーンにて挟まれて規制され、もって該回路形成面に幅方向に沿った流路を形成すること、を特徴とする。
【００１３】
請求項８については次のとおり。すなわち、請求項８の基板処理装置は、請求項７であって、該プリント配線基板材の現像工程，エッチング工程，又は剥膜工程にて使用され、該スプレーノズルは、現像液，エッチング液，又は剥離液等の薬液を、該処理液として噴射すること、を特徴とする。
請求項９については次のとおり。請求項９の基板処理装置は、請求項７であって、該プリント配線基板材の洗浄工程にて使用され、該スプレーノズルは、水洗液，中和剤，その他の洗浄液を、該処理液として噴射すること、を特徴とする。
請求項１０については次のとおり。すなわち、請求項１０の基板処理装置は、請求項７において、該エアー吹出部は、左右の幅方向に直線的なスリット状吹出口よりなり、該エアーを幕状に吹出して吹付けること、を特徴とする。
請求項１１については次のとおり。すなわち、請求項１１の基板処理装置は、請求項７において、該エアー吹出部は、左右の幅方向に列設された複数の吹出孔の集合体よりなり、該エアーを、全体的には連続した幕状に吹出して吹付けること、を特徴とする。
請求項１２については次のとおり。すなわち、請求項１２の基板処理装置は、請求項７であって、モジュール基板の製造工程で用いられ、該プリント配線基板材は、回路形成面に微細回路が形成されると共に半導体部品が一体的に組み込まれており、事後に積層使用されること、を特徴とする。
【００１４】
《作用について》
本発明は、このようになっているので、次のようになる。
▲１▼この基板処理装置は、プリント配線基板例えばモジュール基板の製造工程において、各種工程に適用される。例えば、現像工程、エッチング工程、剥膜工程や、洗浄工程にて使用される。
▲２▼そしてプリント配線基板材は、表面や裏面に回路形成面を備え、コンベヤにて水平姿勢で搬送される。両面基板用のプリント配線基板材の場合は、枠台に載せられ、裏面の回路形成面の両外側がコンベヤにて保持される。片面基板用のプリント配線基板材の場合は、裏面がコンベヤにて保持される。
▲３▼このようにプリント配線基板材は、回路形成面がコンベヤに無接触状態で搬送されるので、回路形成面に傷等が発生する虞がない。
▲４▼そして、このように搬送されるプリント配線基板材の回路形成面に対し、スプレーノズルから、現像液，エッチング液，剥離液等の薬液や、水洗液等の洗浄液が、処理液として噴射される。スプレーノズルは、幅方向のプレー管に配設されている。
【００１５】
▲５▼これと共に、スプレーノズルの前後のエアー吹出部から、エアーが、回路形成面に吹付けられる。エアー吹出部は、スプレー管と平行で対をなす風管に配設されており、直線スリット状の吹出口や列設された吹出孔の集合体よりなり、エアーを幕状に吹出す。
▲６▼そして、プリント配線基板材に吹付けられたエアーが、回路形成面の幅方向にエアーゾーンを形成するので、処理液は、前後のエアーゾーンにて規制され、幅方向に沿った流路を形成する。
▲７▼このように処理液は、所期のとおり、回路形成面を幅方向に流れつつ処理した後、左右両サイドから流出，流下し、乱流や液溜まりとなることはない。
▲８▼そこで、この基板処理装置によると、プリント配線基板材の回路形成面について、処理液の更新が促進され、処理の遅速・過不足が阻止されて、バラツキのない均一した処理が実現される。
【００１６】
【発明の実施の形態】
《図面について》
以下本発明を、図面に示す発明の実施の形態に基づいて、詳細に説明する。図１，図２，図３，図４等は、本発明に係る基板処理装置の実施の形態の説明に供する。
そして図１は、その１例（両面基板用）の説明に供し、（１）図は要部側面図、（２）図は、（１）図のＪ−Ｊ線に沿った矢視断面図、（３）図は、プリント配線基板材や枠台の要部平面図（底面図）である。
図２は、他の例（片面基板用）の説明に供し、図２の（１）図は、要部側面図、（２）図は、（１）図のＡ−Ａ線に沿った矢視断面図、（３）図は、（１）図のＢ−Ｂ線に沿った矢視断面図である。図３は、要部平断面図である。
図４の（１）図は、プリント配線基板材の回路形成面の要部平面図（底面図）、（２）図は、エアー吹出部の１例の底面図（平面図）、（３）図は、エアー吹出部の他の例の底面図（平面図）である。なお図７は、プリント配線基板（材）の平面（底面）説明図である。
【００１７】
《プリント配線基板Ｃについて》
この基板処理装置５は、プリント配線基板Ｃの製造工程で用いられる。そこでまず、図７を参照しつつ、プリント配線基板Ｃの概略を説明しておく。
プリント配線基板Ｃは、各種電子機器用に広く用いられており、片面基板，両面基板，多層基板（含、最近のビルドアップ法のもの）等、各種のものがある。そして、このようなプリント配線基板Ｃの一環として、ＩＣ，ＬＳＩ素子，受動部品，駆動部品，コンデンサー等々の半導体部品が一体的に組み込まれたモジュール基板（半導体パッケージ基板）や、プラズマディスプレイＰＤＰ，液晶ＬＣＤや、ＣＳＰ，ＰＢＧＡ等も出現している。勿論、本明細書においてプリント配線基板Ｃとは、このようなものも包含する。
そしてプリント配線基板Ｃは、電子機器の高性能化，高機能化，小型軽量化に伴い、高精度化，ファイン化，極薄化，多層化等が進み、外表面つまり表面Ｑや裏面Ｆの一方又は双方に形成される、回路Ｄの高密度化，微細化が著しい。
プリント配線基板Ｃは、縦横が、例えば５００ｍｍ×５００ｍｍ程度よりなり、肉厚は、絶縁層部分が１．０ｍｍ〜６０μｍ程度、回路Ｄ部分が７５μｍ〜３５μｍ、昨今では２５μｍ〜１０μｍ前後まで極薄化されている。多層基板の場合でも、全体の肉厚が１．０ｍｍ〜０．４ｍｍ程度まで、極薄化されつつある。回路Ｄ幅や回路Ｄ間スペースも、３５μｍ〜２５μｍ程度と微細化傾向にある。
プリント配線基板Ｃは、概略このようになっている。
【００１８】
《プリント配線基板Ｃの製造方法について》
次に、この基板処理装置５が使用される、プリント配線基板Ｃの製造方法について述べる。まず、その第１例の製造方法について述べる。第１例の製造方法において、プリント配線基板Ｃは、次のステップを辿って製造される。
まず、樹脂，ガラスクロス又はセラミックス製の絶縁層（コア材）の外表面に、銅箔が熱プレス等により張り付けられた、銅張り積層板たるプリント配線基板材Ｐが準備される。そして、スルホール用の孔あけ加工が、レーザ等を使用して実施される。
スルホールは、プリント配線基板材Ｐ（プリント配線基板Ｃ）の両外表面（表面Ｑと裏面Ｆ）間の貫通孔よりなり、１枚について、極小径のものが数百個以上形成され、その径は、０．５ｍｍ〜０．２ｍｍ程度以下のものが多くなっている。そして、両外表面間や多層基板の回路Ｄ間の接続用や、回路Ｄに実装される部品の取り付け用として使用される。
なお最近は、スルホールに代えて小突起状の接点たるバンプを使用し、もってバンプにより、スルホールと同様の機能を孔あけ加工なしに実現する技術、ＮＭＢＩメソッドも開発されている。
【００１９】
さてしかる後、プリント配線基板材Ｐの銅箔の外表面（表面Ｑ，裏面Ｆの一方又は双方）に、感光性レジストが膜状に塗布又は張り付けられる。それから、回路Ｄのネガフィルムである回路写真をあてて、露光することにより、外表面の感光性レジストは、露光されて硬化した回路Ｄ形成部分を残し、その他の不要部分が、現像液の噴射により溶解除去される。
しかる後、このようなプリント配線基板材Ｐの銅箔は、感光性レジストが硬化して被覆された回路Ｄ形成部分を残し、現像により感光性レジストが溶解除去されて露出した不要部分が、エッチング液（塩化第二銅，塩化第二鉄，その他の腐食液）の噴射により、溶解除去・エッチングされる。
それから、残っていた回路Ｄ形成部分の感光性レジストが、剥離液の噴射により剥膜除去され、残った回路Ｄ形成部分の銅箔にて、プリント配線基板材Ｐの外表面（表面Ｑ，裏面Ｆの一方又は双方）に、所定の回路Ｄが形成され、もってプリント配線基板Ｃが製造される。
なお、上述した現像工程，エッチング工程，剥離工程には、それぞれ後処理用に、水洗液，中和剤液，その他の洗浄液を噴射する洗浄工程が付設されており、もって、プリント配線基板材Ｐの外表面に付着していた現像液，エッチング液，剥離液等が、洗浄，除去される。
第１例の製造方法は、このようになっている。
【００２０】
次に、第２例の製造方法について述べる。プリント配線基板Ｃの製造方法としては、上述した第１例が代表的であったが、第２例のセミアディティブ法も多用されつつある。
このセミアディティブ法では、まず、予めスルホールが形成されたプリント配線基板材Ｐの外表面（表面Ｑ，裏面Ｆの一方又は双方）に、無電解銅メッキが施される。→それから、この無電解銅メッキに、感光性レジストが膜状に塗布又は張り付けた後、→回路Ｄフィルムである回路写真をあてて、露光する。→もって感光性レジストは、露光されて硬化した部分を残し、他の部分つまり回路Ｄ形成部分が、現像液の噴射により溶解除去される。
しかる後、→回路Ｄ形成部分、つまり現像により感光性レジストが溶解除去されたメッキパターン部分、つまり無電解銅メッキが露出した部分に対し、電解銅メッキが施されて、→回路Ｄが形成される。
なお、残っていた硬化した回路Ｄ形成部分以外の感光性レジストは、剥離液の噴射により剥膜除去され、→露出した無電解銅メッキが、エッチング液の噴射によりクイックエッチングされて、融解除去される。→なお、各工程の後処理用として、洗浄工程が付設されている。
第２例のセミアディティブ法では、このようにして、電解銅メッキにて回路Ｄが形成され、もってプリント配線基板Ｃが製造される。第２例の製造方法は、このようになっている。
ところで、プリント配線基板Ｃの製造方法は、最近ますます多様化しつつあり、上述した第１例，第２例以外にも、各種方法が開発，使用されている。本発明は勿論、このような各種のプリント配線基板Ｃの製造方法に、適用される。
プリント配線基板Ｃの製造方法は、このようになっている。
【００２１】
《基板処理装置５の概要について》
以下、本発明の基板処理装置５について、図１，図２，図３，図４等を参照して、詳細に説明する。
この基板処理装置５は、プリント配線基板Ｃの製造工程に適用され、その各工程用の基板処理装置５が用いられるが、これらの各基板処理装置５はいずれも、プリント配線基板材Ｐを搬送しつつ処理を行う。
すなわち、この基板処理装置５は、上述したプリント配線基板Ｃの製造方法の各工程、つまり、その現像工程，エッチング工程，剥膜工程，洗浄工程、等において用いられる。そして各基板処理装置５は、いずれも共通に、コンベヤ２，スプレーノズル４，エアー吹出部６等を、有してなる。
つまり、プリント配線基板材Ｐを表面Ｑの回路形成面Ｒに無接触状態で搬送するコンベヤ２と、プリント配線基板材Ｐに処理液Ｓを噴射するスプレーノズル４と、プリント配線基板材ＰにエアーＥを吹付けるエアー吹出部６と、を有してなる。
【００２２】
《コンベヤ２について》
まず、コンベヤ２について述べる。図１に示したように、両面基板用の基板処理装置５のコンベヤ２は、表面Ｑと裏面Ｆの表裏両面に回路形成面Ｒを備えたプリント配線基板材Ｐを、裏面Ｆの回路形成面Ｒの両外側を保持しつつ、水平姿勢で搬送する。
図示例のプリント配線基板材Ｐは、枠台１４に載せられ枠台１４と共にコンベヤ２にて搬送され、枠台１４は、中央に広い開口１５が形成された、略ロ字状のフレームボードよりなる。そしてプリント配線基板材Ｐは、表面Ｑおよび裏面Ｆの回路形成面Ｒが、この開口１５にて上方および下方に向け露出される位置関係で、枠台１４上に載せられており、裏面Ｆの回路形成面Ｒの外周に形成されたエッジＹ（図７を参照）が、枠台１４上に載せられ、例えば形成された段部や介装されるテープを利用して、予め固定的に保持される。
そして、このような枠台１４の両側下、つまり略ロ字状をなす枠台１４の左右両側下に、コンベヤ２の回転駆動されるローラー１６が配設され，接触している。このローラー１６は、左右肉厚が薄く略ホイール状をなし、プリント配線基板材Ｐの裏面Ｆの露出した回路形成面Ｒには接触せず、回路形成面Ｒの左右両外側を枠台１４を介して保持しつつ、搬送する。
次に、図２に示したように、片面基板用の基板処理装置５のコンベヤ２は、プリント配線基板材Ｐを載せて、裏面Ｆを接触，保持しつつ水平姿勢で搬送する。すなわち、この基板処理装置５の処理室内には、コンベヤ２の回転駆動されるローラー３又はホイールが、前後の搬送方向Ｖに向け列設されている。そしてプリント配線基板材Ｐは、表面Ｑに回路形成面Ｒが形成され、裏面Ｆには形成されていないので、コンベヤ２には無接触状態で搬送される。
コンベヤ２は、このようになっている。
【００２３】
《スプレーノズル４について》
次に、スプレーノズル４について述べる。この基板処理装置５のスプレーノズル４は、搬送されるプリント配線基板材Ｐに対し、図１の両面基板用の基板処理装置５では、その上側と下側に対向配設され、図２の片面基板用の基板処理装置５では、上側に対向配設されており、表面Ｑや裏面Ｆの回路形成面Ｒに対し、処理液Ｓを図示例では斜めに噴射する。
そして、図示例のスプレーノズル４は、搬送方向Ｖに対し左右の幅方向Ｗ（左方向又は右方向）に向けられると共に、左方向又は右方向のいずれかに向け斜めに傾斜した角度で配設されている。つまり、このスプレーノズル４は、左右の幅方向Ｗに向け斜めに傾斜した噴射角度で固定されており、噴射された処理液Ｓは、左方向又は右方向に向け斜めに傾斜してプリント配線基板材Ｐに噴射される。
又、このスプレーノズル４は、現像工程で用いられた場合は、現像液を処理液Ｓとして噴射し、エッチング工程で用いられた場合は、エッチング液を処理液Ｓとして噴射し、剥膜工程で用いられた場合は、剥離液を処理液Ｓとして噴射し、洗浄工程で用いられた場合は、水洗液，中和剤液，その他の洗浄液を処理液Ｓとして噴射する。
【００２４】
このようなスプレーノズル４について、更に詳述する。図１，図２，図３に示したように、基板処理装置５の処理室内には、スプレー管７が、プリント配線基板材Ｐに対し所定高さ間隔を存しつつ、図１の例では上下両側に、図２の例では上側に配設されている。
これと共に、上側や下側においてスプレー管７は、プリント配線基板材Ｐの全幅をカバーすべく、左右の幅方向Ｗに沿って配設されると共に、複数本が、前後の搬送方向Ｖに前後間隔を存しつつ多段に配設されている。
そして、このような各スプレー管７において、プリント配線基板材Ｐへの対向面（下面や上面）に、スプレーノズル４が配設されており、図示例では、搬送方向Ｖに多段に配設されたスプレー管７毎に、左方向に傾斜したものと右方向に傾斜したものが、順次交互に配されている。例えば、１本目のスプレー管７では、左方向に傾斜したスプレーノズル４が用いられ、２本目のスプレー管７では、右方向に傾斜したスプレーノズル４が用いられ、３本目のスプレー管７では、左方向に傾斜したスプレーノズル４が用いられ、以下これが繰り返されている。
又、スプレーノズル４としては、図３のように幅方向Ｗに列設された複数の吹出孔の集合体タイプや、幅方向Ｗに直線的な１本のスリット状吹出口タイプのものが、用いられる。
【００２５】
そして処理液Ｓは、図１，図２，図３等に示したように、処理液配管８から各スプレー管７へと圧送された後、→各スプレー管７の傾斜したスプレーノズル４から、水平姿勢で搬送されるプリント配線基板材Ｐに向けて噴射される。→そこで処理液Ｓは、図４の（１）図に示したように、その表面Ｑや裏面Ｆの回路形成面Ｒを、右方向又は左方向の幅方向Ｗに向けて流れた後、→左右の両サイドから流出，流下されて、→下部の液槽へと回収される。→液槽に回収された処理液Ｓは、→事後、ポンプにて処理液配管８へと圧送され、循環使用される。
なお、裏面Ｆの回路形成面Ｒに噴射された処理液Ｓは、重力により若干量がそのまま下方へと流下するが、大部分は所期のとおり、噴射圧により回路形成面Ｒを左右の幅方向Ｗに向けて流れた後、両サイドに至ると、噴射圧より重力が勝り流下する。
スプレーノズル４は、このようになっている。
【００２６】
《エアー吹出部６について》
次に、エアー吹出部６について述べる。この基板処理装置５のエアー吹出部６は、搬送されるプリント配線基板材Ｐに対し、図１の両面基板用の基板処理装置５では、その上側と下側に対向配設され、図２の片面基板用の基板処理装置５では、上側に対向配設されている。
又、このエアー吹出部６は、上側や下側において、前述したスプレーノズル４の前後に配設されると共に、プリント配線基板材Ｐの表面Ｑや裏面Ｆの回路形成面Ｒに対し、エアーＥを吹付ける。そして、吹付けられたエアーＥは、図４の（１）図に示したように、プリント配線基板材Ｐの回路形成面Ｒについて、幅方向Ｗに沿ったエアーゾーンＧを形成する。
そこで、スプレーノズル４から噴射された処理液Ｓは、このような前後のエアーゾーンＧにて挟まれ，規制され、もって回路形成面Ｒにおいて幅方向Ｗに沿った流路Ｈを形成する。もって処理液Ｓが、プリント配線基板材Ｐの回路形成面Ｒにて、搬送方向Ｖに乱流Ｔとなったり、液溜まりＵとなったりすること（図５の（１）図，図６の（１）図，（２）図等を参照）は、規制，防止される。
【００２７】
このようなエアー吹出部６について、更に詳述する。図１，図２，図３に示したように、基板処理装置５の処理室内には、風管９が、プリント配線基板材Ｐに対し、所定高さ間隔を存しつつ（前述したスプレー管７よりはプリント配線基板材Ｐ側に寄った高さレベルで）、図１の例では上下両側に、図２の例では上側に配設されている。
これと共に風管９は、上側や下側において、プリント配線基板材Ｐの全幅をカバーすべく、幅方向Ｗに沿って配設されると共に、スプレー管７と平行に搬送方向Ｖの前後に配設されている。つまり風管９は、２本で１組をなし、スプレー管７の前後に平行に配設されている。
そして、このような各風管９において、プリント配線基板材Ｐへの対向面（下面や上面）に、それぞれ、エアー吹出部６が配設されている。エアー吹出部６としては、図３や図４の（２）図に示したように、幅方向Ｗに沿って直線的な１本のスリット状吹出口１０よりなり、エアーＥを幕状に吹出し，吹付けるタイプのものや、図４の（３）図に示したように、幅方向Ｗに直線的に列設された吹出孔１１の集合体よりなり、エアーＥを全体的には連続した幕状として吹出し，吹付けるタイプのものがある。
【００２８】
そしてエアーＥは、ブロワ，エアーコンプレッサ，エアーポンプ，ファン等のエアー源から、→エアー配管１２を介し、各風管９へと圧送される。→それからエアーＥは、各風管９のエアー吹出部６から、プリント配線基板材Ｐに向けて吹き付けられる。→エアーＥは、膜状となってプリント配線基板材Ｐに対し、図１の例では表面Ｑと裏面Ｆの回路形成面Ｒへと吹付けられ、図２の例では裏面Ｆの回路形成面Ｒへと吹付けられる。
つまり、→プリント配線基板材Ｐの上位空間や下位空間において、スプレーノズル４から噴射された処理液Ｓの前後に、両エアー吹出部６から吹出されたエアーＥの膜が形成される。
そして、→プリント配線基板材Ｐの回路形成面Ｒに至ったエアーＥは、→図４の（１）図に示したように、図１の例では、表面Ｑの回路形成面Ｒ上と裏面Ｆの回路形成面Ｒ直下に、図２の例では、表面Ｑの回路形成面Ｒ上に、それぞれ一定前後幅を備えつつ左右の幅方向Ｗに沿った、エアーゾーンＧを形成する。→つまり、噴射された１本のスプレーゾーンの処理液Ｓを中に挟んで、その前後に２本のエアーゾーンＧが形成される。
そこで、→プリント配線基板材Ｐの表面Ｑや裏面Ｆの回路形成面Ｒには、スプレーゾーンの処理液Ｓにより、左右の幅方向Ｗに沿った流路Ｈが形成され、→処理液Ｓは、流路Ｈ幅が一定に規制されつつ、左方向又は右方向へと左右両サイドに向けて流れる。なお、エアーＥとして、４０℃〜５０℃程度のホットエアーを使用すると、例えばエッチング液の温度とほぼ同温となり、都合が良い。
エアー吹出部６は、このようになっている。
【００２９】
《作用等について》
本発明の基板処理装置５は、以上説明したように構成されている。そこで、以下のようになる。
この基板処理装置５は、プリント配線基板Ｃの製造工程で使用され、プリント配線基板材Ｐを搬送しつつ処理する。例えば、モジュール基板の製造工程で用いられ、回路形成面Ｒに微細回路と共に半導体部品が組み込まれており、事後に多段・多層に積層使用されるプリント配線基板Ｃの製造に供される。
【００３０】
▲１▼まず、この基板処理装置５は、プリント配線基板Ｃの製造工程の各工程、例えば、現像工程，エッチング工程，剥膜工程，洗浄工程にて使用される。
▲２▼そして、基板処理装置５に投入，供給されたプリント配線基板材Ｐは、両面基板用や片面基板用よりなり、コンベヤ２にて水平姿勢で搬送される。
すなわち、図１の両面基板用の基板処理装置５では、表面Ｑ（上面）と裏面Ｆ（下面）に回路形成面Ｒを備えたプリント配線基板材Ｐが、枠台１４に載せられ、裏面Ｆ（下面）の回路形成面Ｒの両外側が、コンベヤ２のローラー１６にて保持される。又、図２の片面基板用の基板処理装置５では、表面Ｑ（上面）に回路形成面Ｒを備えたプリント配線基板材Ｐが、コンベヤ２のローラー３上に載せられ、その裏面Ｆ（下面）を接触，保持される。
つまり、これらのコンベヤ２では、プリント配線基板材Ｐの表面Ｑや裏面Ｆの回路形成面Ｒに接触，圧接する、ホイール１３（図５を参照）や、押さえ用のローラー３や、処理液Ｓの流れ規制ローラー３’（図６の（３）図を参照）等は、採用されていない。
▲３▼このように、この基板処理装置５において、プリント配線基板材Ｐは、表面Ｑや裏面Ｆの回路形成面Ｒが、コンベヤ２に対し無接触状態で搬送される。そこで、回路形成面Ｒについて、コンベヤ２との接触傷や擦り傷等のトラブルが、発生する虞はない。回路形成面Ｒの感光性レジスト，銅箔，メッキ，回路Ｄ等に、潰れ，凹み，変形等が発生することはない。
【００３１】
▲４▼そして、この基板処理装置５では、このように搬送されるプリント配線基板材Ｐに対し、スプレーノズル４から処理液Ｓが噴射される。
スプレーノズル４は、プリント配線基板材Ｐの上側や下側に配設されており、回路形成面Ｒに対し処理液Ｓを噴射する。例えば、現像液，エッチング液，剥離液等の薬液や、水洗液その他の洗浄液を、処理液Ｓとして噴射する。
そしてスプレーノズル４は、スプレー管７に配設され、スプレー管７は、プリント配線基板材Ｐの左右の幅方向Ｗに配設されており、このようなスプレーノズル４付きのスプレー管７が、前後の搬送方向Ｖに間隔を存しつつ多段に配設されている。
【００３２】
▲５▼これと共に、この基板処理装置５では、プリント配線基板材ＰにエアーＥを吹付けるエアー吹出部６が、採用されている。
このエアー吹出部６は、搬送されるプリント配線基板材Ｐの上側や下側に配設されると共に、スプレーノズル４の前後に配設されており、プリント配線基板材Ｐの回路形成面Ｒに対し、エアーＥを吹付ける。
そしてエアー吹出部６は、風管９に配設されており、風管９は、プリント配線基板材Ｐの幅方向Ｗに配設されると共に、スプレー管７と平行に、スプレー管７の前後に対をなして配設されている。そして、このようなエアー吹出部６付きの風管９が、２本１組で、搬送方向Ｖに間隔を存しつつ、多段に配設されている。
なおエアー吹出部６は、スリット状吹出口１０タイプや（図３，図４の（２）図を参照）、吹出孔１１の集合体タイプよりなり（図４の（３）図を参照）、エアーＥを幕状に吹出し，吹付ける。
【００３３】
▲６▼そして、この基板処理装置５では、吹付けられたエアーＥは、プリント配線基板材Ｐの回路形成面Ｒについて、幅方向Ｗに沿ったエアーゾーンＧを形成する（図４の（１）図を参照）。
すなわち、両面基板用の基板処理装置５の場合（図１を参照）は、プリント配線基板材Ｐの表面Ｑの回路形成面Ｒ上と裏面Ｆの回路形成面Ｒ直下とに、それぞれエアーゾーンＧが形成される。片面基板用の基板処理装置５の場合（図２を参照）は、表面Ｑの回路形成面Ｒ上に、エアーゾーンＧが形成される。
そこで、噴射されたスプレーゾーンの処理液Ｓは、前後のエアーゾーンＧにて挟まれることにより、表面Ｑや裏面Ｆの回路形成面Ｒにおいて、流れが規制され、もって前後幅が一定に規制されつつ、幅方向Ｗに沿った流路Ｈを形成して流れる。もって、乱流Ｔや液溜まりＵ（図６の（２）図等を参照）が、規制，防止される。
【００３４】
なお、図１の両面基板用の基板処理装置５の場合、上下のエアー吹出部６を、プリント配線基板材Ｐを介し上下で対向位置させておくと、上下から均等圧で吹付けられるエアー圧の吹付け圧により、搬送中のプリント配線基板材Ｐが、正確に水平姿勢で位置決め保持されるようになる。もって、その撓み・湾曲・蛇行・跳ね上がり・脱落等が防止されて、スムーズで安定した搬送が確保される、という利点がある。
又、図２の片面基板用の基板処理装置５の場合は、エアーＥの吹付け圧により、搬送中のプリント配線基板材Ｐが下側のコンベヤ２に向けて押し付けられる。もって、その撓み・湾曲・蛇行・跳ね上がり・脱落等が防止されて、スムーズで安定した搬送が確保される、という利点がある。
【００３５】
▲７▼このように、この基板処理装置５において、スプレーゾーンの処理液Ｓは、プリント配線基板材Ｐの回路形成面Ｒを、強制的かつ確実に所期のとおり規則的に、幅方向Ｗに流れて処理した後、プリント配線基板材Ｐの左右両サイドから、流出，流下，回収される（図４の（１）図を参照）。
処理液Ｓは図１の例では、表面Ｑの回路形成面Ｒ上および裏面Ｆの回路形成面Ｒ直下を、傾斜したスプレーノズル４に対応して、右方向又は左方向に流れた後、両サイドから流下する。図２の例では、表面Ｑの回路形成面Ｒ上を、傾斜したスプレーノズル４に対応して、右方向又は左方向に流れた後、両サイドから流下する。
よって、処理液Ｓが、回路形成面Ｒに散乱して、搬送方向Ｖに向けた乱流Ｔとなったり、回路形成面Ｒの中央部に液溜まりＵとなって滞留したりすること（図５の（１）図，図６の（１）図，（２）図等を参照）は、確実に防止される。
【００３６】
▲８▼もって、プリント配線基板材Ｐの表面Ｑや裏面Ｆの回路形成面Ｒについて、処理液Ｓの更新が促進され、処理の遅速・過不足箇所の発生が阻止される。
例えば、もしも乱流Ｔや液溜まりＵが発生すると、薬液による化学処理の場合は、処理速度に差が生じて、化学処理が遅れ・不足する箇所と、化学処理がオーバー・過度となる箇所とが生じてしまい、形成される回路Ｄ幅に、過不足・誤差・ムラ等が生じる。又、洗浄液による洗浄の場合は、洗浄自体がスムーズに実施されなくなる。しかしながら本発明では、これらの事態発生は回避される。
このようにして、この基板処理装置５によると、プリント配線基板材Ｐの回路形成面Ｒについて、処理がバラツキなく行われ、全体的に均一化された処理が実現される。
▲９▼ところで、このように基板処理装置５を使用して製造されたプリント配線基板Ｃは、表面Ｑと裏面Ｆに回路Ｄが形成された両面基板や、表面Ｑに回路Ｄが形成された片面基板よりなる。
そして、このようなプリント配線基板Ｃは、そのまま使用されることもあるが、別途製造された両面基板や片面基板と共に多段・多層に積層され、例えばモジュール基板として使用される。
【００３７】
【発明の効果】
《本発明の特徴》
本発明に係る基板処理装置は、以上説明したように、プリント配線基板の製造工程において、プリント配線基板材の表面や裏面の回路形成面を、無接触状態で搬送しつつ、スプレーノズルから処理液を噴射すると共に、前後のエアー吹出部からエアーを吹付けて、左右の幅方向に向けた処理液の流路を形成すること、を特徴とする。
そこで、本発明は、次の効果を発揮する。
【００３８】
《第１の効果》
第１に、乱流や液溜まりが防止されて、プリント配線基板の精度が向上する。すなわち、この基板処理装置にあっては、プリント配線基板材の表面や裏面の回路形成面に、エアーゾーンが形成され、もって処理液は、左右の幅方向に向けた流路を形成して流れる。
前述したこの種従来例のように、乱流や液溜まりの発生は防止され、もって処理液の更新が促進され、処理の遅速・過不足箇所の発生が防止されるので、処理が全体的に均一化され処理のバラツキが回避される。そこで、精度が飛躍的に向上し、回路の高密度化，微細化が進むプリント配線基板にとって、その意義は極めて大なるものがある。
【００３９】
《第２の効果》
第２に、傷等のトラブルが防止されて、不良が大きく減少する。すなわち、この基板処理装置にあっては、エアーの吹付けにより上述した第１の点が実現され、前述したこの種従来例のように、ローラー，規制ローラー，ホイール等が圧接，接触することはなく、表面や裏面の回路形成面は、無接触状態で搬送される。
そこで、回路形成面や回路に傷等が発生しなくなり、回路の高密度化，微細化が進むプリント配線基板について、不良発生率が大きくダウンし、歩留まりが飛躍的に向上するようになる。特に、モジュール基板の場合は、回路に半導体部品が組み込まれていることに鑑み、このような作用効果の意義は大きい。
このように、この種従来例に存した課題がすべて解決される等、本発明の発揮する効果は、顕著にして大なるものがある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る基板処理装置について、発明の実施の形態の１例（両面基板用）の説明に供し、（１）図は、要部の側面図、（２）図は、（１）図のＪ−Ｊ線に沿った矢視断面図、（３）図は、要部の平面図（底面図）である。
【図２】同発明の実施の形態の他の例（片面基板用）の説明に供し、（１）図は、要部の側面図、（２）図は、（１）図のＡ−Ａ線に沿った矢視断面図、（３）図は、（１）図のＢ−Ｂ線に沿った矢視断面図である。
【図３】同発明の実施の形態の説明に供し、要部の平断面図である。
【図４】同発明の実施の形態の説明に供し、（１）図は、プリント配線基板材の回路形成面の要部の平面図（底面図）、（２）図は、エアー吹出部の１例の底面図（平面図）、（３）図は、エアー吹出部の他の例の底面図（平面図）である。
【図５】この種従来例の基板処理装置（両面基板用）の説明に供し、（１）図は、要部の側面図、（２）図は、（１）図のＫ−Ｋ線に沿った矢視断面図である。
【図６】この種従来例の基板処理装置（片面基板用）の説明に供し、（１）図は、その１例の要部の側面図、（２）図は、回路形成面の要部の平面図（底面図）、（３）図は、他の例の要部の側面図である。
【図７】プリント配線基板（材）の平面（底面）説明図である。
【符号の説明】
１　基板処理装置（この種従来例のもの）
２　コンベヤ
３　ローラー
３’規制ローラー
４　スプレーノズル
５　基板処理装置（本発明のもの）
６　エアー吹出部
７　スプレー管
８　処理液配管
９　風管
１０　スリット状吹出口
１１　吹出孔
１２　エアー配管
１３　ホイール
１４　枠台
１５　開口
１６　ローラー
１７　フレーム
Ｃ　プリント配線基板
Ｄ　回路
Ｅ　エアー
Ｆ　裏面
Ｇ　エアーゾーン
Ｈ　流路
Ｐ　プリント配線基板材
Ｑ　表面
Ｒ　回路形成面
Ｓ　処理液
Ｔ　乱流
Ｕ　液溜まり
Ｖ　搬送方向（前後方向）
Ｗ　幅方向（左右方向）
Ｙ　エッジ

Claims (12)

1. プリント配線基板の製造工程で使用される、基板処理装置であって、
   プリント配線基板材を回路形成面に無接触状態で搬送するコンベヤと、該プリント配線基板材に処理液を噴射するスプレーノズルと、該プリント配線基板材にエアーを吹付けるエアー吹出部と、を有してなること、を特徴とする基板処理装置。
2. 請求項１に記載した基板処理装置において、該コンベヤは、表裏両面に該回路形成面を備えた該プリント配線基板材を、裏面の該回路形成面の両外側を保持しつつ水平姿勢で搬送し、
   該スプレーノズルは、搬送される該プリント配線基板材の上下両側に配設されており、該回路形成面に対し該処理液を噴射し、
   該エアー吹出部は、搬送される該プリント配線基板材の上下両側に配設されると共に、該スプレーノズルの前後に配設されており、該回路形成面に対し該エアーを吹付けること、を特徴とする基板処理装置。
3. 請求項２に記載した基板処理装置において、該コンベヤは、該プリント配線基板材を枠台と共に搬送し、
   該枠台は、該プリント配線基板材の回路形成面を中央開口にて露出させると共に、該プリント配線基板材裏面のエッジを載せて固定的に保持し、両側下に該コンベヤのローラーが配設されていること、を特徴とする基板処理液装置。
4. 請求項１に記載した基板処理装置において、該コンベヤは、表面のみに該回路形成面を備えた該プリント配線基板材を載せて、裏面を接触，保持しつつ水平姿勢で搬送し、
   該スプレーノズルは、搬送される該プリント配線基板材の上側に配設されており、該回路形成面に対し該処理液を噴射し、
   該エアー吹出部は、搬送される該プリント配線基板材の上側に配設されると共に、該スプレーノズルの前後に配設されており、該回路形成面に対し該エアーを吹付けること、を特徴とする基板処理装置。
5. 請求項２又は４に記載した基板処理装置において、該スプレーノズルはスプレー管に配設され、該スプレー管は、該プリント配線基板材の全幅をカバーすべく左右の幅方向に配設されており、
   該エアー吹出部は風管に配設され、該風管は、該プリント配線基板材の全幅をカバーすべく幅方向に配設されると共に、該スプレー管と平行に搬送方向の前後に対をなして配設されていること、を特徴とする基板処理装置。
6. 請求項５に記載した基板処理装置において、該エアー吹出部から吹付けられた該エアーは、該スプレーノズルから噴射された該処理液が、該プリント配線基板材の回路形成面上にて、前後の搬送方向に乱流となったり液溜まりとなることを規制，防止すべく機能すること、を特徴とする基板処理装置。
7. 請求項６に記載した基板処理装置において、該エアー吹出部から吹付けられた該エアーは、該プリント配線基板材の回路形成面にて、左右の幅方向に沿ったエアーゾーンを形成し、
   該スプレーノズルから噴射された該処理液は、前後の該エアーゾーンにて挟まれて規制され、もって該回路形成面に幅方向に沿った流路を形成すること、を特徴とする基板処理装置。
8. 請求項７に記載した基板処理装置において、該基板処理装置は、該プリント配線基板材の現像工程，エッチング工程，又は剥膜工程にて使用され、該スプレーノズルは、現像液，エッチング液，又は剥離液等の薬液を、該処理液として噴射すること、を特徴とする基板処理装置。
9. 請求項７に記載した基板処理装置において、該基板処理装置は、該プリント配線基板材の洗浄工程にて使用され、該スプレーノズルは、水洗液その他の洗浄液を該処理液として噴射すること、を特徴とする基板処理装置。
10. 請求項７に記載した基板処理装置において、該エアー吹出部は、左右の幅方向に直線的なスリット状吹出口よりなり、該エアーを幕状に吹出して吹付けること、を特徴とする基板処理装置。
11. 請求項７に記載した基板処理装置において、該エアー吹出部は、左右の幅方向に列設された複数の吹出孔の集合体よりなり、該エアーを全体的には連続した幕状に吹出して吹付けること、を特徴とする基板処理装置。
12. 請求項７に記載した基板処理装置において、該基板処理装置は、モジュール基板の製造工程で用いられ、該プリント配線基板材は、回路形成面に微細回路が形成されると共に半導体部品が一体的に組み込まれており、事後に積層使用されること、を特徴とする基板処理装置。

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