JP2004051785A5 - - Google Patents

Claims (9)

1. 下記式（１）
   

   

   （式中、ｍ、ｎはそれぞれ０〜３の整数を示し、Ｒ^１は水素原子またはメチル基を示し、Ｚ^１は単環式飽和炭化水素構造または多環式飽和炭化水素構造を示す。ただし、ｍとｎが同時に０であることはない。）
   で表される構成単位から選ばれる１種又は２種以上を構成単位として含有することを特徴とする重合体。
2. 下記式（２）〜（４）
   

   

   （式中、ａ〜ｆはそれぞれ０〜２の整数を示し、ｒ〜ｗはそれぞれ０〜３の整数を示し、Ｒ^２〜Ｒ^４は水素原子またはメチル基を示し、Ｚ^２〜Ｚ^４は単環式飽和炭化水素構造または多環式飽和炭化水素構造を示す。ただし、ａとｂ、ｃとｄ、ｅとｆ、ｒとｓ、ｔとｕ、またはｖとｗが同時に０であることはない。）
   で表される構成単位から選ばれる１種又は２種以上を構成単位として含有することを特徴とする重合体。
3. 下記式（５）〜（７）
   

   

   （式中、α〜ζはそれぞれ０〜３の整数を示し、Ｒ^５〜Ｒ^７は水素原子またはメチル基を示す。ただし、αとβ、γとδ、またはεとζが同時に０であることはない。）
   で表される構成単位から選ばれる１種又は２種以上を構成単位として含有することを特徴とする重合体。
4. 請求項１または２記載の構成単位から選ばれる１種又は２種以上と下記式（Ａ）〜（Ｃ）
   

   

   （式中、ｑは１〜４の整数を示し、Ｒ^８、Ｒ^１０はそれぞれ水素原子またはメチル基を示し、Ｒ^９は炭素数１〜６の直鎖若しくは分岐アルキル基、炭素数４〜８の環式炭化水素基、または炭素数４〜１６の橋かけ環式炭化水素基を示し、Ｒ^１１は水素原子、親水性官能基、親水性官能基を有する炭素数１〜６の直鎖若しくは分岐アルキル基、炭素数４〜８の環式炭化水素基、または炭素数４〜１６の橋かけ環式炭化水素基を示し、Ｒ^１２、Ｒ^１３はそれぞれ水素原子、メチル基、またはエチル基を示す。ここで前記アルキル基、環式炭化水素基、橋かけ環式炭化水素基、親水性官能基は炭素数１〜６の直鎖若しくは分岐アルキル基で置換されていても良く、さらにヒドロキシ基、カルボキシ基または炭素数１〜６のアルコールとエステル化されたカルボキシ基で置換されていても良い。）
   で表される構成単位から選ばれる１種又は２種以上を構成単位として含有することを特徴とする重合体。
5. 質量平均分子量が１，０００〜１００，０００であることを特徴とする請求項１〜４記載の重合体。
6. 請求項１〜４記載の重合体を含有することを特徴とするレジスト組成物。
7. 請求項１〜４記載の重合体及び光酸発生剤を含有することを特徴とするレジスト組成物。
8. 請求項６または７に記載のレジスト組成物を被加工基板上に塗布する工程と、２５０ｎｍ以下の波長の光で露光する工程と、必要に応じて加熱処理した後現像液を用いて現像する工程とを含むパターン形成方法。
9. 請求項６または７に記載のレジスト組成物を被加工基板上に塗布する工程と、電子線で露光する工程と、必要に応じて加熱処理した後現像液を用いて現像する工程とを含むパターン形成方法。