JP5344743B2 - レジスト用重合体の製造方法 - Google Patents
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Description
重合溶媒(B)に含まれるヒドロキシ基含有エステル以外の溶媒としては、ジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル(以下、「PGME」という)等の鎖状エーテルおよびテトラヒドロフラン(以下、「THF」という)、1,4−ジオキサン等の環状エーテルのエーテル化合物;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(以下、「PGMEA」という)、γ−ブチロラクトン等のエステル化合物;アセトン、メチルエチルケトン(以下、「MEK」という)、メチルイソブチルケトン(以下、「MIBK」という)等のケトン化合物;N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド等のアミド化合物;ジメチルスルホキシド等のスルホキシド化合物;ベンゼン、キシレン等の芳香族炭化水素、ヘキサン等の脂肪族炭化水素およびシクロヘキサン等の脂環式炭化水素の炭化水素化合物が挙げられる。また、これらの重合溶媒は1種を単独で、又は2種以上を併用して使用できる。
また本発明に使用される重合触媒としては、例えば、熱により効率的にラジカルを発生するものが挙げられる。このような重合触媒の具体例としては、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、ジメチル−2,2’−アゾビスイソブチレート、2,2’−アゾビス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]等のアゾ化合物および2,5−ジメチル−2,5−ビス(tert−ブチルパーオキシ)ヘキサン、ジ(4−tert−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート等の有機過酸化物が挙げられる。
ラクトン骨格としては、例えば、4〜20員環程度のラクトン骨格が挙げられる。ラクトン骨格は、ラクトン環のみの単環であってもよく、ラクトン環に脂肪族または芳香族の炭素環または複素環が縮合していてもよい。
親水性基を有する単量体としては、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸3−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシ−n−プロピル、(メタ)アクリル酸4−ヒドロキシブチル、メタクリル酸3−ヒドロキシアダマンチル等が挙げられ、レジストパターン矩形性の点から、1−メタクリロイルオキシ−3−ヒドロキシアダマンタン(以下、HAdMAと記す。)等が好ましい。
「酸脱離性基」とは、酸により開裂する結合を有する基であり、該結合の開裂により酸脱離性基の一部または全部が重合体の主鎖から脱離する基である。
下記の条件でゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーによりポリスチレン換算で求めた。
装置:東ソー(株)製高速GPC装置、HLC−8220GPC(商品名)
分離カラム:昭和電工(株)製Shodex GPC K−805L(商品名)を3本直列に連結したもの
測定温度:40℃
溶離液:THF
試料:重合体約20mgを5mlのTHFに溶解し、0.5μmメンブレンフィルターで濾過した溶液を使用
流量:1ml/分
注入量:0.1ml
検出器:示差屈折計
検量線:標準ポリスチレン約20mgを5mlのTHFに溶解した溶液を0.5μmメンブレンフィルターで濾過した溶液を用いて分離カラムに注入し、溶出時間と分子量の関係を求め、検量線を作成した。
F−20(Mw=190,000)
F−4(Mw=37,900)
F−1(Mw=10,200)
A−2500(Mw=2,630)
A−500(Mw=682、578、474、370および260の混合物)
(参考例1)
窒素導入口、攪拌機、コンデンサー、滴下漏斗および温度計を備えたフラスコに、フラスコ内を窒素雰囲気として乳酸エチル1,218部を投入した後に、フラスコ内の液を攪拌しながら湯浴の温度を80℃に上げた。
α−メタクリロイルオキシ−γ−ブチロラクトン(以下、「GBLMA」という):476部
2−メチル−2−アダマンチルメタクリレート(以下、「MAdMA」という):655部
3−ヒドロキシアダマンチルメタクリレート(以下、「HAdMA」という):330部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(以下、「PGMEA」という):2,192部
ジメチル−2,2’−アゾビスイソブチレート(和光純薬工業(株)製V−601(商品名))(以下、「V−601」という):64部
次いで、得られた反応溶液を攪拌しながら、反応溶液の約10倍量の再沈殿用の溶媒(メタノール/水=80/20(容量比))中に滴下し、白色の析出物である重合体P1の沈殿物を得た。得られた沈殿物を濾別し、再度、前記再沈殿用の溶媒と同量の溶媒(メタノール/水=90/10(容量比))中に投入し、撹拌しながら沈殿物を洗浄した。
混合物1の代わりに下記の混合物2(乳酸エチル:37.8質量%)を使用した。それ以外は参考例1と同様にして重合体P2、重合体P2溶液を作製し、評価を実施した。評価結果を表1に示す。
GBLMA:476部
MAdMA:655部
HAdMA:330部
乳酸エチル:829部
PGMEA:1,364部
V−601:54部
(比較例1)
混合物1の代わりに下記の混合物3(乳酸エチル:95質量%)を使用した。それ以外は参考例1と同様にして重合体P3、重合体P3溶液を作製し、評価を実施した。評価結果を表1に示す。
GBLMA:476部
MAdMA:655部
HAdMA:330部
乳酸エチル:2,022部
PGMEA:170部
V−601:43部
(比較例2)
乳酸エチル1,218部をフラスコ内に投入する代わりに乳酸エチル434部およびPGMEA783部を投入し、混合物1の代わりに下記の混合物4(乳酸エチル:35.7質量%)を使用した。それ以外は参考例1と同様にして重合体P4、重合体P4溶液を作製し、評価を実施した。評価結果を表1に示す。
GBLMA:476部
MAdMA:655部
HAdMA:330部
乳酸エチル:783部
PGMEA:1,410部
V−601:64部
(比較例3)
乳酸エチル1,218部をフラスコ内に投入する代わりにPGMEA1,218部を投入し、混合物1の代わりに下記の混合物5(乳酸エチル:55.5質量%)を使用した。それ以外は参考例1と同様にして重合体P5、重合体P5溶液を作製し、評価を実施した。評価結果を表1に示す。
GBLMA:476部
MAdMA:655部
HAdMA:330部
乳酸エチル:1,218部
PGMEA:975部
V−601:64部
(レジスト性能評価)
上記参考例、実施例および比較例で得られた各ポリマー溶液について、ポリマー溶液400部と、光酸発生剤であるトリフェニルスルホニウムトリフレート2部と、重合体濃度が12.5質量%になるように溶媒であるPGMEAを混合して均一溶液とした後、孔径0.1μmのメンブレンフィルターで濾過し、レジスト組成物溶液を調製した。得られた組成物をシリコンウエハー上にスピンコートし、ホットプレートを用いて120℃、60秒間プリベークを行い、膜厚0.3μmのレジスト膜を製造した。
しかし、比較例のポリマーを用いた場合には感度、解像度、焦点深度(DOF)が悪く、該パターンの鮮明さに欠けていた。
Claims (3)
- 反応開始前の反応容器中の、ヒドロキシ基含有エステルのみからなる重合溶媒(A)に、ヒドロキシ基含有エステルと前記ヒドロキシ基含有エステル以外の溶媒とを含み、かつ、前記ヒドロキシ基含有エステルの含有量が40質量%以下の重合溶媒(B)、単量体、および重合触媒を供給し、溶液ラジカル重合を行い、前記ヒドロキシ基含有エステル以外の溶媒が、エステル化合物である、レジスト用重合体の製造方法。
- 前記ヒドロキシ基含有エステル以外の溶媒が、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートである、請求項1に記載のレジスト用重合体の製造方法。
- 前記ヒドロキシ基含有エステルが乳酸エステルである請求項1または2に記載のレジスト用重合体の製造方法。
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