JP2004043965A5 - 蒸着装置、及び発光装置の作製方法 - Google Patents

蒸着装置、及び発光装置の作製方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2004043965A5
JP2004043965A5 JP2003139723A JP2003139723A JP2004043965A5 JP 2004043965 A5 JP2004043965 A5 JP 2004043965A5 JP 2003139723 A JP2003139723 A JP 2003139723A JP 2003139723 A JP2003139723 A JP 2003139723A JP 2004043965 A5 JP2004043965 A5 JP 2004043965A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
chamber
light emitting
emitting device
light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2003139723A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4634698B2 (ja
JP2004043965A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2003139723A priority Critical patent/JP4634698B2/ja
Priority claimed from JP2003139723A external-priority patent/JP4634698B2/ja
Publication of JP2004043965A publication Critical patent/JP2004043965A/ja
Publication of JP2004043965A5 publication Critical patent/JP2004043965A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4634698B2 publication Critical patent/JP4634698B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Description

【特許請求の範囲】
【請求項1】
回転する機能を有する台を備えた設置室と、
前記設置室を減圧状態とする手段と、
前記設置室に接して設けられた成膜室と、
記設置室から前記成膜室へ蒸着源ホルダを移動する手段とを有する蒸着装置であって、
前記成膜室は、前記蒸着源ホルダをX軸方向及びY軸方向に移動させる手段を有し、
前記設置室は、前記複数の容器を前記蒸着源ホルダに設置する手段を有し、
前記X軸方向及びY軸方向に移動させる手段は、前記蒸着源ホルダの蒸着範囲が重なるように移動する機能を有し、
前記蒸着源ホルダは、前記複数の容器を加熱する手段、及び前記設置された複数の容器上にそれぞれシャッターを有することを特徴とする蒸着装置。
【請求項2】
回転する機能を有する台を備えた設置室と、
前記設置室を減圧状態とする手段と、
前記設置室に接して設けられた成膜室と、
記設置室から前記成膜室へ蒸着源ホルダを移動する手段とを有する蒸着装置であって、
前記成膜室は、前記蒸着源ホルダをX軸方向及びY軸方向に移動させる手段を有し、
前記設置室は、前記複数の第1の容器がそれぞれ封入された第2の容器を前記蒸着源ホルダに設置する手段を有し、
前記X軸方向及びY軸方向に移動させる手段は、前記蒸着源ホルダの蒸着範囲が重なるように移動する機能を有し、
前記蒸着源ホルダは、前記複数の第1の容器を加熱する手段、及び前記設置された前記複数の第1の容器上にそれぞれシャッターを有することを特徴とする蒸着装置。
【請求項3】
請求項において、
前記第2の容器は、上部容器と、下部容器と、を有し、
前記上部容器と、前記下部容器とが密閉されるとき容器内を減圧に保持する手段を有することを特徴とする蒸着装置
【請求項4】
請求項1乃至請求項3のいずれか一において、
前記成膜室は、電圧を印加する電極が接続されたマスク保持手段を有することを特徴とする蒸着装置。
【請求項5】
請求項1乃至請求項4のいずれか一において、
前記蒸着源ホルダをX軸方向及びY軸方向に移動させる手段は、
前記加熱する手段により前記蒸着材料を昇華させながら、前記蒸着源ホルダを被蒸着物のX軸方向及びY軸方向に移動させ、
前記X軸方向及びY軸方向の移動は、前記被蒸着物のX軸方向の蒸着が終了した後、前記被蒸着物のY軸方向の蒸着を開始することを特徴とする蒸着装置。
【請求項6】
基板上に第1乃至第3の発光色する発光層を形成する発光装置の作製方法であって、
第1成膜室で、複数の容器が設置された蒸着源ホルダを用いて前記基板上に第1の発光色する発光層を形成し、
大気に曝すことなく、前記基板を前記第1成膜室から第2成膜室へ移動させ、複数の容器が設置された蒸着源ホルダを用いて前記基板上に第2の発光色する発光層を形成し、
大気に曝すことなく、前記基板を第2成膜室から第3成膜室へ移動させ、複数の容器が設置された蒸着源ホルダを用いて前記基板上に第3の発光層する発光層を形成することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項7】
基板上に第1乃至第3の発光層する発光層を形成する発光装置の作製方法であって、
第1成膜室で、複数の容器が設置された蒸着源ホルダを用いて前記基板上に第1の発光層する発光層を形成し、
大気に曝すことなく、前記基板を前記第1成膜室から第2成膜室へ移動させ、複数の容器が設置された蒸着源ホルダを用いて前記基板上に第2の発光層する発光層を形成し、
大気に曝すことなく、前記基板を第2成膜室から第3成膜室へ移動させ、複数の容器が設置された蒸着源ホルダを用いて前記基板上に第3の発光層する発光層を形成し、
大気に曝すことなく、前記基板を前記第3成膜室から第4成膜室へ移動させ、前記第1乃至第3の発光層上に導電膜を形成し、
大気に曝すことなく、前記基板を第4成膜室から第5成膜室へ移動させ、前記基板と封止基板とを張り合わせることを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項8】
基板上に形成された単色発光色を呈する発光層を有する発光装置の作製方法において、
第1成膜室において、複数の容器が設置された蒸着源ホルダを用いて前記基板上に前記発光層を形成し、
大気に曝すことなく、前記基板を前記第1成膜室から第2成膜室へ移動させ、前記発光層上に導電膜を形成し、
大気に曝すことなく、前記基板を前記第2成膜室から第3成膜室へ移動させ、前記基板と色変換層が形成された封止基板とを張り合わせることを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項9】
基板上に形成された単色発光色を呈する発光層を有する発光装置の作製方法において、
第1成膜室において、複数の容器が設置された蒸着源ホルダを用いて前記基板上に前記発光層を形成し、
大気に曝すことなく、前記基板を前記第1成膜室から第2成膜室へ移動させ、前記発光層上に導電膜を形成し、
大気に曝すことなく、前記基板を前記第2成膜室から第3成膜室へ移動させ、前記基板とカラーフィルターが形成された封止基板とを張り合わせることを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項10】
請求項乃至請求項のいずれか一において、前記発光層を形成する成膜室は複数設けられ、並列処理できることを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項11】
請求項及び請求項10のいずれか一において、前記封止基板に設けられたシール剤をすることを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項12】
請求項及び請求項11のいずれか一において、前記基板に設けられたシール剤をすることを特徴とする発光装置の作製方法。

JP2003139723A 2002-05-17 2003-05-19 蒸着装置 Expired - Fee Related JP4634698B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003139723A JP4634698B2 (ja) 2002-05-17 2003-05-19 蒸着装置

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002143822 2002-05-17
JP2003139723A JP4634698B2 (ja) 2002-05-17 2003-05-19 蒸着装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2004043965A JP2004043965A (ja) 2004-02-12
JP2004043965A5 true JP2004043965A5 (ja) 2006-07-06
JP4634698B2 JP4634698B2 (ja) 2011-02-16

Family

ID=31719508

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003139723A Expired - Fee Related JP4634698B2 (ja) 2002-05-17 2003-05-19 蒸着装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4634698B2 (ja)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5071699B2 (ja) * 2004-11-04 2012-11-14 独立行政法人物質・材料研究機構 フォトカソード型電子線源の陰極先端部への高量子効率物質の局所被覆装置
JP4535908B2 (ja) * 2005-03-14 2010-09-01 日立造船株式会社 蒸着装置
KR101130545B1 (ko) 2005-11-26 2012-03-23 엘지디스플레이 주식회사 유기 전계발광 표시소자의 유기 발광물질 증착방법
KR101353567B1 (ko) 2006-04-28 2014-01-22 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 전극 커버 및 증착장치
TWI477195B (zh) 2007-04-27 2015-03-11 Semiconductor Energy Lab 發光裝置的製造方法
JP5325471B2 (ja) 2007-07-06 2013-10-23 株式会社半導体エネルギー研究所 発光装置の作製方法
JP5694679B2 (ja) * 2009-05-04 2015-04-01 三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd. 有機物蒸着装置及び蒸着方法
US20100279021A1 (en) 2009-05-04 2010-11-04 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Apparatus for depositing organic material and depositing method thereof
KR101785562B1 (ko) * 2010-10-18 2017-10-18 삼성디스플레이 주식회사 연속 증착이 가능한 박막 증착 장치 및 그 박막 증착 장치에 사용되는 마스크유닛과 도가니유닛
US9055654B2 (en) 2011-12-22 2015-06-09 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Film formation apparatus and film formation method
KR101450598B1 (ko) * 2012-01-04 2014-10-15 에스엔유 프리시젼 주식회사 연속박막증착장치
FR3088078B1 (fr) * 2018-11-06 2021-02-26 Riber Dispositif d'evaporation pour systeme d'evaporation sous vide, appareil et procede de depot d'un film de matiere
CN114645250B (zh) * 2022-03-25 2024-07-19 无锡极电光能科技有限公司 蒸镀设备、钙钛矿电池蒸镀方法以及钙钛矿电池
CN115094383B (zh) * 2022-07-01 2023-06-30 江阴纳力新材料科技有限公司 一种基于蒸镀的复合正极集流体制备装置及方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62180063A (ja) * 1986-02-03 1987-08-07 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd 長尺物の薄膜生成装置
JPH1161398A (ja) * 1997-08-12 1999-03-05 Tdk Corp 電極の製造方法および電極
JP4312289B2 (ja) * 1999-01-28 2009-08-12 キヤノンアネルバ株式会社 有機薄膜形成装置
JP2000328229A (ja) * 1999-05-19 2000-11-28 Canon Inc 真空蒸着装置
TW490714B (en) * 1999-12-27 2002-06-11 Semiconductor Energy Lab Film formation apparatus and method for forming a film
JP4574039B2 (ja) * 2000-03-06 2010-11-04 株式会社半導体エネルギー研究所 El表示装置の作製方法
JP2001284048A (ja) * 2000-04-04 2001-10-12 Sharp Corp 有機el素子フルカラーディスプレイパネルおよびその製造方法
JP4408019B2 (ja) * 2002-02-05 2010-02-03 株式会社半導体エネルギー研究所 El素子の製造方法
JP4439827B2 (ja) * 2002-02-25 2010-03-24 株式会社半導体エネルギー研究所 製造装置および発光装置の作製方法
JP2004006311A (ja) * 2002-04-15 2004-01-08 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 発光装置の作製方法および製造装置
JP4096353B2 (ja) * 2002-05-09 2008-06-04 ソニー株式会社 有機電界発光表示素子の製造装置および製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2004043965A5 (ja) 蒸着装置、及び発光装置の作製方法
JP5417236B2 (ja) 照明装置の作製方法
TWI412616B (zh) 蒸鍍裝置
TW200400774A (en) In-situ method for making OLED devices that are moisture or oxygen-sensitive
US20160133838A1 (en) Manufacturing flexible organic electronic devices
JP2002060926A5 (ja) 発光装置の作製方法
JP2006057173A (ja) 成膜源、真空成膜装置、有機elパネルの製造方法
JP2007179783A (ja) 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
JP2008084701A (ja) 電子デバイス用転写材料、電子デバイスの縁層形成方法及び隔壁形成方法、並びに発光素子
JP2004047452A5 (ja)
JP2002040964A5 (ja)
TW200644312A (en) Method for manufacturing organic EL device and organic EL device manufacturing apparatus
JP5899584B2 (ja) 真空蒸着方法、真空蒸着装置及び有機el表示装置の製造方法
JP2002241925A (ja) 有機蒸着装置及び有機薄膜製造方法
US11637271B2 (en) Manufacturing flexible organic electronic devices
JP2004311111A (ja) 有機電界発光素子の製造方法及びその有機電界発光素子
JP2014186868A (ja) 転写装置、転写方法、及びデバイス製造方法
JP4696832B2 (ja) 有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法
JP3839673B2 (ja) 有機蒸着装置
JP2004288463A5 (ja) 蒸着装置及び蒸着方法
JP6912670B2 (ja) マスクなしのoled堆積及び製造のための方法
TW200901818A (en) Method of producing organic light emitting apparatus
JP6925425B2 (ja) Oledディスプレイのパッケージ方法、及びoledディスプレイ
JP2006274301A (ja) 蒸着方法
JP3924944B2 (ja) 有機el及びその製造方法