JP5899584B2 - 真空蒸着方法、真空蒸着装置及び有機el表示装置の製造方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 29
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 19
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 title claims description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 154
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 99
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 44
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 40
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 30
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 23
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 claims description 22
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 claims description 22
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 20
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims description 8
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims description 6
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 17
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
2,2r,2g,2b…蒸発源
4…電圧印加手段
5…有機EL表示用基板(被着体)
14,14r,14g,14b…画素電極(電極)
16,16r,16g,16b…発光層(薄膜パターン)
21…抵抗体
25…帯電手段
26…蒸着分子(蒸着材料の分子)
Claims (7)
- 真空容器内で蒸着材料を蒸発源から蒸発させて被着体に予め定められた複数個所に選択的に被着させ、前記蒸着材料の薄膜パターンを形成する真空蒸着方法であって、
前記蒸発源から蒸発した前記蒸着材料の分子が前記被着体に到達する前に前記蒸着材料の分子を帯電させる段階と、
前記被着体に予め設けられた複数の電極にて、前記薄膜パターンを形成する箇所に対応して位置する電極に、前記帯電された蒸着材料の分子の帯電極性とは異なる極性で且つ前記蒸着材料を昇華させない程度に制限された温度を発生させると共に、電場の広がりを小さくし得るパルス状の電圧を印加して通電し、前記薄膜パターンを形成しない箇所に対応して位置する電極に、前記帯電された蒸着材料の分子の帯電極性と同じ極性で且つ前記蒸着材料を昇華させるのに十分な温度を発生させ得る電圧を印加して通電する段階と、
を含む蒸着工程を行うことを特徴とする真空蒸着方法。 - 前記電極は、前記被着体側の面に電気的に接触させて抵抗体を設け、該抵抗体に通電して発熱させるようにしたことを特徴とする請求項1記載の真空蒸着方法。
- 真空容器内で蒸着材料を蒸発源から蒸発させて被着体に予め定められた複数個所に選択的に被着させ、前記蒸着材料の薄膜パターンを形成するための真空蒸着装置であって、
前記蒸発源から蒸発した前記蒸着材料の分子が前記被着体に到達する前に前記蒸着材料の分子を帯電させる帯電手段と、
前記被着体に予め設けられた複数の電極にて、前記薄膜パターンを形成する箇所に対応して位置する電極に、前記帯電された蒸着材料の分子の帯電極性とは異なる極性で且つ前記蒸着材料を昇華させない程度に制限された温度を発生させると共に、電場の広がりを小さくし得るパルス状の電圧を印加して通電し、前記薄膜パターンを形成しない箇所に対応して位置する電極に、前記帯電された蒸着材料の分子の帯電極性と同じ極性で且つ前記蒸着材料を昇華させるのに十分な温度を発生させ得る電圧を印加して通電する電圧印加手段と、
を備えたことを特徴とする真空蒸着装置。 - 前記電極は、前記被着体側の面に電気的に接触させて抵抗体を設け、該抵抗体に通電して発熱させるようにしたことを特徴とする請求項3記載の真空蒸着装置。
- 真空容器内で有機EL材料を蒸発源から蒸発させて、基板面にマトリクス状に設けられた複数の画素電極上に選択的に被着させ、前記有機EL材料の発光層を形成する有機EL表示装置の製造方法であって、
前記蒸発源から蒸発した前記有機EL材料の分子が前記基板面に到達する前に前記有機EL材料の分子を帯電させる段階と、
前記発光層を形成する箇所に対応して位置する画素電極の基板側の面に電気的に接触させて設けられた抵抗体に、前記帯電された有機EL材料の分子の帯電極性とは異なる極性で且つ前記有機EL材料を昇華させない程度に制限された温度を発生させると共に、電場の広がりを小さくし得るパルス状の電圧を印加して通電し、前記発光層を形成しない箇所に対応して位置する画素電極の基板側の面に電気的に接触させて設けられた抵抗体に、前記帯電された有機EL材料の分子の帯電極性と同じ極性で且つ前記有機EL材料を昇華させるのに十分な温度を発生させ得る電圧を印加して通電する段階と、
を含む蒸着工程を行うことを特徴とする有機EL表示装置の製造方法。 - 前記有機EL材料は、赤、緑、青の各色に対応した3種類の有機EL材料であり、
赤色に対応した前記有機EL材料を使用して該赤色に対応した前記画素電極上に赤色の発光層を形成する工程と、
緑色に対応した前記有機EL材料を使用して該緑色に対応した前記画素電極上に緑色の発光層を形成する工程と、
青色に対応した前記有機EL材料を使用して該青色に対応した前記画素電極上に青色の発光層を形成する工程と、
を順次行うことを特徴とする請求項5記載の有機EL表示装置の製造方法。 - 前記3種類の有機EL材料は、夫々昇華温度が異なり、昇華温度の高い有機EL材料から順番に選択して蒸着されることを特徴とする請求項6記載の有機EL表示装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011176252A JP5899584B2 (ja) | 2011-08-11 | 2011-08-11 | 真空蒸着方法、真空蒸着装置及び有機el表示装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011176252A JP5899584B2 (ja) | 2011-08-11 | 2011-08-11 | 真空蒸着方法、真空蒸着装置及び有機el表示装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013041686A JP2013041686A (ja) | 2013-02-28 |
JP5899584B2 true JP5899584B2 (ja) | 2016-04-06 |
Family
ID=47889921
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011176252A Active JP5899584B2 (ja) | 2011-08-11 | 2011-08-11 | 真空蒸着方法、真空蒸着装置及び有機el表示装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5899584B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102058515B1 (ko) * | 2013-04-18 | 2019-12-24 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착장치, 이를 이용한 유기발광 디스플레이 장치 제조 방법 및 유기발광 디스플레이 장치 |
KR102086550B1 (ko) * | 2013-05-31 | 2020-03-10 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착장치, 이를 이용한 유기발광 디스플레이 장치 제조 방법 및 유기발광 디스플레이 장치 |
CN103305794B (zh) * | 2013-06-09 | 2016-03-02 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种有机镀膜装置及方法 |
DE102017106985A1 (de) * | 2017-03-31 | 2018-10-04 | Technische Hochschule Wildau (Fh) | Vorrichtung zur elektronenunterstützten Beschichtung von Substraten sowie ein entsprechendes Verfahren |
CN108300962A (zh) * | 2018-01-30 | 2018-07-20 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 蒸镀设备及蒸镀方法 |
US10541386B2 (en) | 2018-01-30 | 2020-01-21 | Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. | Evaporation deposition equipment and evaporation deposition method |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09204984A (ja) * | 1996-01-26 | 1997-08-05 | Pioneer Electron Corp | 有機elディスプレイの製造方法 |
JP4300762B2 (ja) * | 2002-07-10 | 2009-07-22 | 日新電機株式会社 | 炭素膜被覆物品及びその製造方法 |
JP2008202100A (ja) * | 2007-02-21 | 2008-09-04 | Sony Corp | 真空蒸着方法、真空蒸着装置、表示装置の製造方法および表示装置 |
JP2009211890A (ja) * | 2008-03-03 | 2009-09-17 | Toshiba Corp | 有機el表示装置 |
-
2011
- 2011-08-11 JP JP2011176252A patent/JP5899584B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013041686A (ja) | 2013-02-28 |
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