JP4742512B2 - 電気光学装置の製造方法及び電子機器 - Google Patents
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Description
記成膜室内に導入するとともに、前記膜材料に対して反応性を有する反応性ガスを、前記調整用ガスを導入する位置よりも前記膜材料に近い位置であって、前記膜材料が前記基板に蒸発する方向に対して前記膜材料が配置される位置よりも下方から導入するとともに、前記成膜室内の圧力を測定しその測定された圧力に基づいて排気機構が排気する雰囲気の排気速度を制御することで前記成膜室内の全圧を制御しながら、前記反応性ガスを前記成膜室内に導入して前記反応性ガスの分圧を独立して制御するようにした。
通常、融点の高い材料を成膜しようとする場合、スパッタ法等の下地にダメージを与えやすい方法を用いる必要がある。本発明の電気光学装置の製造方法によれば、プラズマビームによって膜材料を蒸発させるため、融点の高い材料も成膜することが可能である。更に蒸発物を付着することによって成膜を行うため、下地にダメージを与えること無く成膜を行うことが可能である。このため、成膜によりダメージを受け易い有機発光材料上に成膜をする場合でも、ダメージを抑制することができる。また、蒸発源と基板との間に電気勾配を付することなく、基板の有機発光材料上に蒸発物を付着させるようにした。このため、蒸発物が有機発光材料上に急激に衝突することはないので、有機発光材料が有する光特性が劣化することはない。
インジウム−スズ酸化物は、有機発光材料を用いた電気光学装置の電極の材料として優れた特性を有している。しかし、融点の高い化合物であるため、通常はスパッタ法を用いて成膜する必要がある。本発明の電気光学装置の製造方法によれば、前記被処理物体表面上に形成された他の膜にダメージを与えることなくインジウム−スズ酸化物の膜を成膜することができる。また、成膜中の雰囲気に酸素を添加し、その圧力を制御することにより、光透過性が高く且つ抵抗の低いインジウム−スズ酸化物膜を安定して成膜することができる。
これによれば、上記製造方法によって製造された電気光学装置を備えたので、表示品位の優れた電子機器を実現することができる。
以下、本発明の電気光学装置を有機ELディスプレイに適用した第1実施形態を図面に従って説明する。尚、以下に示す各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材ごとに縮尺を異ならせてある。
図1は、本発明の製造方法を用いて製造された有機ELディスプレイの上面図である。
前記制御回路7から出力される制御信号によって、前記走査信号のタイミングに応じたデータ信号がデータ線駆動回路6から出力され、赤、緑及び青色用有機EL素子3R,3G,3Bは、データ信号に応じた輝度で各色の光を出射し、その結果、表示領域R上に所望の画像が表示される。
ア(電子)が供給される。
隔壁Bは、アクリルやポリイミドといった撥液性を備えた有機物絶縁材料で構成されている。そして、この隔壁Bによって、図2中、その断面が凹状を成した画素形成領域2が複数個区画形成される。画素形成領域2内の各画素電極10上には、本実施形態においては、電子注入層11が形成されている。各電子注入層11上には赤、緑または青色用発光層12R,12G,12Bが形成されている。
1のパイプ26内には、例えばタンタル(Ta)で構成された第2のパイプ27が配置されている。絶縁管25と、第1及び第2のパイプ26,27との一端には、導体板部29が取り付けられている。導体板部29には、キャリアガス導入口30が形成され、そのキャリアガス導入口30を介してキャリアガスCGが第2のパイプ27内を通過し導入される。キャリアガスCGは、本実施形態においては、アルゴン(Ar)ガスである。
、そのマスフローコントローラーによって成膜室FR内へ導入されるガスの導入量が制御されるようになっている。また、第2のガス導入管33bには、成膜室FR内の圧力を、プラズマが発生する最適な圧力に調整する調整用ガスKGが導入するためのガスを導入させる導入管であって、図示しないマスフローコントローラーによってその導入量が制御されるようになっている。調整用ガスKGは、本実施形態では、窒素ガス(N2)ガスである。
層12R,12G,12Bまたは正孔注入層12といった有機材料が配置されているが、これら各層に対する酸素による有機材料へのダメージを抑えることが可能となる。
まず、基板Sの上層に、公知の方法を用いて回路形成層Sb、画素電極10、電子注入層11、赤、緑及び青色用発光層12R,12G,12B、正孔注入層13及び隔壁Bを有する素子基板SPを形成する。
、酸素が補充された状態のインジウム−スズ酸化物の蒸発物が付着され、陽極14が形成される。このとき、インジウム−スズ酸化物の蒸発物は、最適な状態のインジウム−スズ酸化物の蒸発物であるので、各赤、緑及び青色用発光層12R,12G,12B上に光透過性が高く、且つ抵抗の低い良好な、且つ高品位な膜質を有する陽極14が成膜される。
また、このとき、この成膜装置の成膜室内の真空度に基づいて圧力コントロールバルブの開度を制御して排気速度を制御しながら、反応性ガスとしての酸素ガスを第1のガス導入管から成膜室内に導入する。これにより、ハース周辺の酸素分圧が制御されて、蒸発時に抜けた酸素が補充され、パッシベーション膜Poとして最適な状態の酸化窒化珪素の蒸発物が生成される。
ション膜Po全面を覆うように回路形成層Sbに接着し封止する。
このようにして、有機ELディスプレイ1を製造することができた。
(1)本実施形態によれば、プラズマビームPBをハース31に収納された膜材料Wに照射して蒸発させ、各赤、緑及び青色用発光層12R,12G,12B上にインジウム−スズ酸化物の蒸発物を付着させて陽極14を形成するとき、成膜室FR内の真空度に基づいて圧力コントロールバルブPVの開度を制御して排気速度を制御しながら、反応性ガスRGとしての酸素ガスを成膜室FR内に導入するようにした。従って、所定のバルブ開度制
御信号Skにより圧力コントロールバルブPVの開度が調整されることで、成膜室FR内の圧力(全圧)を、前記調整用ガスKG及び反応性ガスRGの各導入量と独立して制御可能である。この結果、成膜室FR中の雰囲気を陽極14を構成するインジウム−スズ酸化物に応じた最適な状態にすることができる。この結果、高品位な膜質を有する陽極14を形成することができる。
(2)本実施形態によれば、反応性ガスRGとしての酸素ガスをハース31の周辺に供給するようにした。従って、インジウム−スズ酸化物の蒸発物に酸素を有効に反応させることができる。また、成膜室FRに供給する酸素の導入量が少なくても、透過率が高く抵抗の低い良好の陽極14を形成することができる。
(3)本実施形態によれば、従来のイオンプレーティング法とは異なり、ハース31と素子基板SPとの間に電位勾配を付することなく、素子基板SPの赤、緑及び青色用発光層12R,12G,12B上に、インジウム−スズ酸化物の蒸発物を付着させるようにした。この結果、前記蒸発物が、各赤、緑及び青色用発光層12R,12G,12Bの表面上に急激に衝突することはないので、陽極14形成時において、各赤、緑及び青色用発光層12R,12G,12Bが有する光特性が劣化することはない。
(4)本実施形態によれば、プラズマビームをハースに収納された膜材料に照射して蒸発させ、陽極14上に酸化窒化珪素の蒸発物を付着させてパッシベーション膜Poを形成するとき、成膜室内の真空度に基づいて圧力コントロールバルブの開度を制御して排気速度を制御しながら、反応性ガスとしての酸素ガスを成膜室内に導入するようにした。従って、ハース31の周辺の酸素分圧が制御されるので、欠陥密度が低く、応力の小さい酸化窒化珪素膜を安定して成膜することが形成される。
(第2実施形態)
次に、第1実施形態で説明した電気光学装置としての有機ELディスプレイ1の電子機器の適用について図6に従って説明する。
Claims (5)
- 成膜室内に配置された膜材料を収納する蒸発源にプラズマビームを照射し、膜材料を蒸発させ、前記蒸発源に対向させた基板に成膜を行う電気光学装置の製造方法において、
前記成膜室内の圧力を調整する調整用ガスを前記成膜室内に導入するとともに、前記膜材料に対して反応性を有する反応性ガスを、前記調整用ガスを導入する位置よりも前記膜材料に近い位置であって前記膜材料が前記基板に蒸発する方向に対して前記膜材料が配置される位置よりも下方から導入するとともに、
前記成膜室内の圧力を測定しその測定された圧力に基づいて排気機構が排気する雰囲気の排気速度を制御することで前記成膜室内の全圧を制御しながら、前記反応性ガスを前記成膜室内に導入して前記反応性ガスの分圧を独立して制御し、前記プラズマビームを前記蒸発源に導き、前記膜材料を蒸発させて、前記基板上に成膜を行うことを特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 請求項1に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記プラズマビームを、前記蒸発源側に有機発光材料が設けられた前記基板に対して電位勾配が付与されていない前記蒸発源に導き、前記膜材料を蒸発させて前記有機発光材料上に前記膜材料からなる膜を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 請求項1または2に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記膜材料は、インジウム−スズ若しくはインジウム−スズ酸化物であり、
前記反応性ガスは、酸素であることを特徴する電気光学装置の製造方法。 - 請求項1または2に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記膜材料は、酸化珪素若しくは窒化珪素或いはそれらの混合物であり、
前記反応性ガスは、酸素若しくは窒素或いはそれらの混合物であることを特徴する電気光学装置の製造方法。 - 請求項1乃至4のいずれか一つに記載の電気光学装置の製造方法を用いて製造された電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。
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