JP2004022166A

JP2004022166A - プラズマディスプレイパネルの製造方法および焼成装置

Info

Publication number: JP2004022166A
Application number: JP2002170886A
Authority: JP
Inventors: Hiroyasu Tsuji; 辻　弘恭; Masataka Morita; 森田　真登; Masanori Suzuki; 鈴木　雅教
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 2002-06-12
Filing date: 2002-06-12
Publication date: 2004-01-22
Anticipated expiration: 2022-06-12
Also published as: JP3931738B2; US20040198130A1; US7083491B2; CN100578720C; WO2003107379A1; CN1518754A

Abstract

【課題】ローラーとセッターとの摩擦により発生する磨耗粉の、パネル構造物への付着や混入を低減し、良好な焼成が可能なプラズマディスプレイパネルの製造方法および焼成装置を実現することを目的とする。
【解決手段】セッター１０３がローラー２２ａ、２３ａ、２４ａの回転によって搬送される際、摩擦により発生する磨耗粉が主に付着する、セッター１０３の、ローラー２２ａ、２３ａ、２４ａとの接触面側を洗浄するための洗浄手段１０５を、例えば、下段通路２３ｃ内に設置する。
このことにより、ローラーとセッターとの摩擦により発生する磨耗粉の、パネル構造物への付着や混入を低減し、良好な焼成が可能なプラズマディスプレイパネルの製造方法および焼成装置を実現することができる。
【選択図】　図３

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、大画面で、薄型、軽量のディスプレイ装置として知られているプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと記す）の製造方法、およびそれに用いられる焼成装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
ＰＤＰの製造方法は、前面板基板、背面板基板と称する基板の表面に、印刷、乾燥、焼成の各工程を繰り返す厚膜形成工程により、電極、誘電体、蛍光体等のパネル構造物を逐次形成する工程と、最後に、前面板基板と背面板基板とを封着する工程とを有するものであり、乾燥、焼成の工程において焼成装置が用いられる。
【０００３】
ここで、焼成装置としては、大量生産に適した、いわゆるローラーハース式連続焼成炉が用いられる。ローラーハース式連続焼成炉とは、複数本のローラーを基板の搬送方向に並べて配置することにより構成した搬送手段を有し、基板に形成したパネル構造物を焼成する際には、基板に対する傷の防止などの観点から、セッターと呼ばれる補助基板に基板を載せた状態（以後、この状態のものを被焼成物と記す）で搬送手段により搬送しながら焼成を行うものである。
【０００４】
ここで、ＰＤＰの画像の表示特性には、パネル構造物の品質が大きく影響を与えるため、パネル構造物へ異物が付着したり混入したりすることがない焼成工程およびそれを実現する焼成装置が要求される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来、上述のような焼成装置によって焼成した場合、焼成後のパネル構造物には異物の付着や混入が見られた。そして、このことにより、例えば、パネル構造物が金属配線の場合、抵抗値にばらつきが発生し、その結果、ＰＤＰの歩留まりが低下してしまうという問題が発生していた。ここで、この異物の原因の一つとしては、被焼成物をローラーで搬送する際、セッターとローラーとの間の摩擦により発生する磨耗粉を挙げることができる。そして、この磨耗粉は主に、セッターの、ローラーとの接触面側に付着し、その状態でセッターが搬送されることから、焼成装置内全域に撒き散らされてしまうこととなり、その結果、磨耗粉に起因する不具合の発生頻度が高まる原因となっていた。
【０００６】
本発明は、このような現状に鑑みなされたもので、ローラーとセッターとの摩擦により発生する磨耗粉のパネル構造物への付着や混入を低減するプラズマディスプレイパネルの製造方法および焼成装置を実現することを目的とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を実現するために本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、複数本のローラーを基板の搬送方向に並べて配置することにより構成した搬送手段によって、セッター上に載せた基板を搬送するとともに、基板に形成したパネル構造物を焼成するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、セッターを洗浄する洗浄ステップを有するものである。
【０００８】
また、上記の目的を実現するために本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、複数本のローラーを基板の搬送方向に並べて配置することにより構成した往路用搬送手段と、複数本のローラーを基板の搬送方向に並べて配置することにより構成した復路用搬送手段とを有し、往路用搬送手段によって、セッター上に載せた基板を搬送するとともに、基板に形成したパネル構造物を焼成する往路ステップと、復路用搬送手段によって、焼成後の基板をセッターに載せた状態のまま搬送する復路ステップとを備えるプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、復路ステップが、セッターを洗浄する洗浄ステップを有するものである。
【０００９】
また、上記目的を実現するために本発明のプラズマディスプレイパネルの焼成装置は、複数本のローラーを基板の搬送方向に並べて配置することにより構成した搬送手段を有し、その搬送手段によって、セッター上に載せた基板を搬送するとともに、基板に形成したパネル構造物を焼成するように構成したプラズマディスプレイパネルの焼成装置であって、セッターを洗浄する洗浄手段を有するものである。
【００１０】
また、上記目的を実現するために本発明のプラズマディスプレイパネルの焼成装置は、複数本のローラーを基板の搬送方向に並べて配置することにより構成した往路用搬送手段と、複数本のローラーを基板の搬送方向に並べて配置することにより構成した復路用搬送手段とを有し、往路用搬送手段によって、セッター上に載せた基板を搬送するとともに、基板に形成したパネル構造物を焼成し、復路用搬送手段によって、焼成後の基板をセッターに載せた状態のまま搬送するように構成したプラズマディスプレイパネルの焼成装置であって、復路ステップにおいて、セッターを洗浄するように構成された洗浄手段を有するものである。
【００１１】
【発明の実施の形態】
すなわち、本発明の、請求項１に記載の発明は、複数本のローラーを基板の搬送方向に並べて配置することにより構成した搬送手段によって、セッター上に載せた基板を搬送するとともに、基板に形成したパネル構造物を焼成するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、セッターを洗浄する洗浄ステップを有するものである。
【００１２】
また、請求項２に記載の発明は、複数本のローラーを基板の搬送方向に並べて配置することにより構成した往路用搬送手段と、複数本のローラーを基板の搬送方向に並べて配置することにより構成した復路用搬送手段とを有し、往路用搬送手段によって、セッター上に載せた基板を搬送するとともに、基板に形成したパネル構造物を焼成する往路ステップと、復路用搬送手段によって、焼成後の基板をセッターに載せた状態のまま搬送する復路ステップとを備えるプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、復路ステップが、セッターを洗浄する洗浄ステップを有するものである。
【００１３】
また、請求項３に記載の発明は、請求項１または２の発明において、洗浄ステップが、異物を溶剤により除去する湿式洗浄手段によって行われるものである。
【００１４】
また、請求項４に記載の発明は、請求項３の発明において、洗浄ステップでのセッターの温度Ｔ１（℃）が、溶剤の沸点Ｔ２（℃）に対して、０．９×Ｔ２≦Ｔ１＜Ｔ２の関係を有するものである。
【００１５】
また、請求項５に記載の発明は、請求項１または２の発明において、洗浄ステップが、異物を吸引により除去する乾式洗浄手段によって行われるものである。
【００１６】
また、請求項６に記載の発明は、請求項５の発明において、乾式洗浄手段は、吸引により、セッターの面方向に沿った気流が発生するように構成されているものである。
【００１７】
また、請求項７に記載の発明は、請求項１から６のいずれかの発明において、洗浄ステップが、セッターのローラーとの接触面側に対して洗浄を行うものである。
【００１８】
また、請求項８に記載の発明は、複数本のローラーを基板の搬送方向に並べて配置することにより構成した搬送手段を有し、その搬送手段によって、セッター上に載せた基板を搬送するとともに、基板に形成したパネル構造物を焼成するように構成したプラズマディスプレイパネルの焼成装置であって、セッターを洗浄する洗浄手段を有するものである。
【００１９】
また、請求項９に記載の発明は、複数本のローラーを基板の搬送方向に並べて配置することにより構成した往路用搬送手段と、複数本のローラーを基板の搬送方向に並べて配置することにより構成した復路用搬送手段とを有し、往路用搬送手段によって、セッター上に載せた基板を搬送するとともに、基板に形成したパネル構造物を焼成し、復路用搬送手段によって、焼成後の基板をセッターに載せた状態のまま搬送するように構成したプラズマディスプレイパネルの焼成装置であって、復路ステップにおいて、セッターを洗浄するように構成された洗浄手段を有するものである。
【００２０】
また、請求項１０に記載の発明は、請求項８または９の発明において、洗浄手段が、異物を溶剤により除去する湿式洗浄手段である。
【００２１】
また、請求項１１に記載の発明は、請求項１０の発明において、湿式洗浄手段は、セッターの温度Ｔ１（℃）が、溶剤の沸点Ｔ２（℃）に対して、０．９×Ｔ２≦Ｔ１＜Ｔ２の関係を有する箇所に設けられているものである。
【００２２】
また、請求項１２に記載の発明は、請求項８または９の発明において、洗浄手段が、異物を吸引により除去する乾式洗浄手段である。
【００２３】
また、請求項１３に記載の発明は、請求項１２の発明において、乾式洗浄手段は、吸引により、セッターの面方向に沿った気流が発生するように構成されているものである。
【００２４】
また、請求項１４に記載の発明は、請求項８から１３のいずれかの発明において、セッターのローラーとの接触面側に対して洗浄を行うように構成されているものである。
【００２５】
以下に、本発明の一実施の形態について説明するが、本発明の実施の形態はこれに制限されるものではない。
【００２６】
（実施の形態１）
ＰＤＰは、ガス放電により紫外線を発生させ、この紫外線で蛍光体を励起して発光させカラー表示を行うものであり、大別して、駆動的にはＡＣ型とＤＣ型があり、放電形式では面放電型と対向放電型の２種類があるが、高精細化、大画面化および製造の簡便性から、現状では、プラズマディスプレイパネルの主流は、３電極構造の面放電型のものである。そしてその構造は、一方の基板上に平行に隣接した表示電極対を有し、もう一方の基板上に表示電極と交差する方向に配列されたアドレス電極と、隔壁、蛍光体層を有するもので、比較的蛍光体層を厚くすることができ、蛍光体によるカラー表示に適している。
【００２７】
このようなＰＤＰは、液晶パネルに比べて高速の表示が可能であり、視野角が広いこと、大型化が容易であること、自発光型であるため表示品質が高いことなどの理由から、フラットパネルディスプレイの中で最近特に注目を集めており、多くの人が集まる場所での表示装置や家庭で大画面の映像を楽しむための表示装置として各種の用途に使用されている。
【００２８】
ここで、一般的なＰＤＰの構造を図１に示す。ＰＤＰは、前面基板１と背面基板２とから構成されている。前面基板１は、例えばフロート法による硼珪素ナトリウム系ガラス等からなるガラス基板などの透明且つ絶縁性の基板３上に形成された、走査電極４と維持電極５とが対をなすストライプ状の表示電極６と、表示電極６群を覆うように形成された誘電体層７と、誘電体層７上に形成されたＭｇＯからなる保護膜８とにより構成されている。なお、走査電極４および維持電極５は、例えばＩＴＯのような透明かつ導電性の材料で形成された透明電極４ａ、５ａと、この透明電極４ａ、５ａに電気的に接続されるように形成された、例えばＡｇからなるバス電極４ｂ、５ｂとで構成されている。
【００２９】
また、背面基板２は、基板３に対向配置される基板９上に、表示電極６と直交する方向に形成されたアドレス電極１０と、そのアドレス電極１０を覆うように形成された誘電体層１１と、アドレス電極１０間の誘電体層１１上にアドレス電極１０と平行にストライプ状に形成された複数の隔壁１２と、この隔壁１２間に形成した蛍光体層１３とにより構成されている。なお、カラー表示のために前記蛍光体層１３は、通常、赤、緑、青の３色が順に配置されている。
【００３０】
そしてＰＤＰは、以上述べた前面基板１と背面基板２とを、表示電極６とアドレス電極１０とが直交するように微小な放電空間を挟んで対向配置した状態で周囲を封着部材（図示せず）により封止した構成となっており、前記放電空間にはネオン及びキセノンなどを混合してなる放電ガスが封入されている。
【００３１】
このＰＤＰの放電空間は、隔壁１２によって複数の区画に仕切られており、この隔壁１２間に単位発光領域となる複数の放電セルが形成されるように表示電極６が設けられ、表示電極６とアドレス電極１０とが直交して配置されている。そして、アドレス電極１０および表示電極６に印加される周期的な電圧によって放電を発生させ、この放電による紫外線を蛍光体層１３に照射して可視光に変換させることにより、画像表示が行われる。
【００３２】
次に、上述した構成のＰＤＰの製造方法について、図２を用いて説明する。図２は、本発明の実施の形態によるＰＤＰの製造方法の工程を示す図である。
【００３３】
まず、前面基板１を製造する前面基板工程について述べる。基板３を受入れる基板受入れ工程（Ｓ１１）の後、基板３上に表示電極６を形成する表示電極形成工程（Ｓ１２）を行う。これは、透明電極４ａおよび５ａを形成する透明電極形成工程（Ｓ１２−１）と、その後に行われるバス電極４ｂおよび５ｂを形成するバス電極形成工程とを有し、バス電極形成工程（Ｓ１２−２）は、例えばＡｇなどの導電性ペーストをスクリーン印刷などで塗布する導電性ペースト塗布工程（Ｓ１２−２−１）と、その後、塗布した導電性ペーストを焼成する導電性ペースト焼成工程（Ｓ１２−２−２）とを有する。次に、表示電極形成工程（Ｓ１２）により形成された表示電極６上を覆うように誘電体層７を形成する誘電体層形成工程（Ｓ１３）を行う。これは、鉛系のガラス材料（その組成は、例えば、酸化鉛［ＰｂＯ］７０重量％，酸化硼素［Ｂ_２Ｏ_３］１５重量％，酸化硅素［ＳｉＯ_２］１５重量％。）を含むペーストをスクリーン印刷法で塗布するガラスペースト塗布工程（Ｓ１３−１）と、その後、塗布したガラス材料を焼成するガラスペースト焼成工程（Ｓ１３−２）とを有するものである。その後、誘電体層７の表面に真空蒸着法などで酸化マグネシウム（ＭｇＯ）などの保護膜８を形成する保護膜形成工程（Ｓ１４）を行う。以上により前面基板１が製造される。
【００３４】
次に、背面基板２を製造する背面基板工程について述べる。基板９を受入れる受入れ工程（Ｓ２１）の後、基板９上にアドレス電極１０を形成するアドレス電極形成工程（Ｓ２２）を行う。これは、例えばＡｇなどの導電性ペーストをスクリーン印刷などで塗布する導電性ペースト塗布工程（Ｓ２２−１）と、その後、塗布した導電性ペーストを焼成する導電性ペースト焼成工程（Ｓ２２−２）とを有する。次に、アドレス電極１０の上に誘電体層１１を形成する誘電体層形成工程（Ｓ２３）を行う。これは、ＴｉＯ_２粒子と誘電体ガラス粒子とを含む誘電体用ペーストをスクリーン印刷などで塗布する誘電体用ペースト塗布工程（Ｓ２３−１）と、その後、塗布した誘電体用ペーストを焼成する誘電体用ペースト焼成工程（Ｓ２３−２）とを有する。次に、誘電体層１１上のアドレス電極１０の間に隔壁１２を形成する隔壁形成工程（Ｓ２４）を行う。これは、ガラス粒子を含む隔壁用ペーストを印刷などで塗布する隔壁用ペースト塗布工程（Ｓ２４−１）と、その後、塗布した隔壁用ペーストを焼成する隔壁用ペースト焼成工程（Ｓ２４−２）とを有する。そしてその後、隔壁１２間に蛍光体層１３を形成する蛍光体層形成工程（Ｓ２５）を行う。これは、赤色，緑色，青色の各色蛍光体ペーストを作製し、これを隔壁どうしの間隙に塗布する蛍光体ペースト塗布工程（Ｓ２５−１）と、その後、塗布した蛍光体ペーストを焼成する蛍光体ペースト焼成工程（Ｓ２５−２）とを有する。以上により背面基板２が製造される。
【００３５】
次に、以上により製造された前面基板１と背面基板２との封着、そしてその後の真空排気、および放電ガス封入について述べる。まず、前面基板１及び背面基板２のどちらか一方または両方に封着用ガラスフリットからなる封着部材を形成する封着部材形成工程（Ｓ３１）を行う。これは、封着用ガラスペーストを塗布する工程（Ｓ３１−１）と、その後、塗布したガラスペースト内の樹脂成分等を除去するために仮焼するガラスペースト仮焼成する工程（Ｓ３１−２）を有する。次に、前面基板１の表示電極６と背面基板２のアドレス電極１０とが直交して対向するように重ね合わせるための重ね合わせ工程（Ｓ３２）を行い、その後、重ね合わせた両基板を加熱して封着部材を軟化させることによって封着する封着工程（Ｓ３３）を行う。次に、封着された両基板により形成された微小な放電空間を真空排気しながらパネルを焼成する排気・ベーキング工程（Ｓ３４）を行い、その後、放電ガスを所定の圧力で封入する放電ガス封入工程（Ｓ３５）を行うことによりＰＤＰが完成する（Ｓ３６）。
【００３６】
ここで、以上の製造方法における、パネル構造物２であるバス電極４ｂ、５ｂ、誘電体層７、アドレス電極１０、誘電体層１１、隔壁１２、蛍光体層１３、および封着部材（図示せず）の形成工程である、焼成工程で用いられる焼成装置について説明する。
【００３７】
図３は本実施の形態によるＰＤＰの製造方法に用いられる焼成装置の概略構成の断面図である。焼成装置２１は、複数のローラー２２ａを搬送方向に並べて構成した往路用搬送手段２２と、複数のローラー２３ａを搬送方向に並べて構成した復路用搬送手段２３と、複数のローラー２４ａを搬送方向に並べ、且つ、往路用搬送手段２２と復路用搬送手段２３との間を昇降可能に構成したリフター２４とを備えたものである。
【００３８】
被焼成物１０４の基板１０１はＰＤＰの前面板基板１もしくは背面板基板２であり、同じくパネル構造物１０２はバス電極４ｂ、５ｂ、誘電体層７、アドレス電極１０、誘電体層１１、隔壁１２、蛍光体層１３、および封着部材（図示せず）等である。そして、基板１０１の焼成時には、基板１０１への傷の発生を防止する等の理由から、セッター１０３と称する補助基板に載せられた状態（セッター１０３に基板１０１が載せられた状態の構造物を、以後、被焼成物１０４と記す）で、往路用搬送手段２２により搬送される。
【００３９】
そして、本実施の形態の特徴的な点として、セッター１０３を洗浄するための洗浄手段１０５が設置されている。図３では、セッター１０３がローラー２２ａ、２３ａ、２４ａの回転によって搬送される際、摩擦により発生する磨耗粉が主に付着する、セッター１０３の、ローラー２２ａ、２３ａ、２４ａとの接触面側（以降、裏面側と記す）を洗浄するための洗浄手段１０５が、例えば、下段通路２３ｃ内に設置されている例を示す。
【００４０】
洗浄手段１０５としては、例えば図４（ａ）に示すような乾式洗浄手段１０５ａや、図４（ｂ）に示す湿式洗浄手段１０５ｂが挙げられる。
【００４１】
乾式洗浄手段１０５ａは、セッター１０３と非接触な状態で、吸引によって発生する気流によりセッター１０３の裏面側に付着している異物等を吸引することで洗浄するというものである。気流を吹き付けて異物を吹き飛ばすのではなく、異物を吸引するという洗浄方法であることから、セッター１０３の裏面に付着している異物が、撒き散らされたり、宙に舞ったりすることがなく、周囲の雰囲気に悪影響を与えることなく効果的にセッター１０３の洗浄を行うことができる。
【００４２】
ここで、さらに効果的にセッター１０３の裏面の異物を除去するためには、セッター１０３の裏面の気流が、セッター１０３の裏面の面方向に沿った流れ、例えば慣性気流（スワール流れ）となるように吸引することが好ましい。
【００４３】
また、湿式洗浄手段１０５ｂは、有機または無機の溶剤を用いてセッター１０３の裏面側を洗浄するものである。この際、セッター１０３の温度Ｔ１（℃）が、溶剤の沸点Ｔ２（℃）より高い状態であると、溶剤が瞬時に蒸発してしまうため洗浄が十分に行われなくなり、逆に低すぎると、溶剤の乾燥が遅くなるため、湿気による悪影響が発生する場合がある。そこで、セッター１０３の温度Ｔ１（℃）と、溶剤の沸点Ｔ２（℃）との関係としては、溶剤が沸騰・蒸発せず、且つ乾燥・蒸発しやすい温度範囲、例えば、洗浄後、５分程度で乾燥するような温度関係が良い。このような温度関係は、具体的には、セッター１０３の温度Ｔ１（℃）が、溶剤の沸点Ｔ２（℃）に対して、０．９×Ｔ２≦Ｔ１＜Ｔ２の条件を満たす場合に得られることを実験的に確認している。上述のような温度条件で洗浄することにより、洗浄後、溶剤は自然に蒸発することとなり、セッター１０３の乾燥処理のための工程および装置が不要になる。また、上述のような温度条件を満たすためには、そのようなセッター１０３の温度となる場所を選んで湿式洗浄手段１０５ｂを設置すればよい。
【００４４】
また、上述したような洗浄手段１０５を、復路ステップが行われる下段通路２３ｃ内に設置することで、洗浄ステップが閉空間である下段通路２３ｃ内で行われることとなるため、セッター１０３の裏面に付着している異物が、撒き散らされたりすることがなく、周囲の雰囲気に悪影響を与えることなく効果的にセッター１０３の洗浄を行うことができる。
【００４５】
次に、上述したような焼成装置２１を用いた焼成工程について説明する。まず、往路用搬送手段２２の始端部２２ｂに、被焼成物１０４を載せる。そして、被焼成物１０４は往路用搬送手段２２によって焼成装置２１の上段通路２２ｃへ導入され、そのまま往路搬送手段２２で搬送されながら、まず加熱部において、上段通路２２ｃ内部に設けられたヒーター（図示せず）等の加熱手段からの加熱により、所定の焼成温度にまで加熱され焼成される。その後、徐冷部において、被焼成物１０４は、往路用搬送手段２２の終端部２２ｄに向かって冷却されながら搬送される。次に、被焼成物１０４は、往路用搬送手段２２の搬送終端部２２ｄに搬送された後も、そのまま搬送が行われ、リフター２４に到達する。そして、リフター２４に到達した被焼成物１０４は、リフター２４により復路用搬送手段２３と接続する高さにまで降下された後、往路用搬送手段２２での搬送方向とは逆の方向に搬送されることで、復路用搬送手段２３の搬送始端部２３ｂへ移送される。その後、被焼成物１０４は復路用搬送手段２３によって、冷却部である下段通路２３ｃ内を搬送されながら常温にまで冷却される。そしてこの間に、洗浄手段１０５により、セッター１０３のローラー２２ａ、２３ａ、２４ａとの接触面が洗浄されるため、搬送中にセッター１０３とローラー２２ａ、２３ａ、２４ａとの接触により発生しセッター１０３の裏面に付着した磨耗粉などの異物が除去されることになる。そして、被焼成物１０４が復路用搬送手段２３の搬送終端部２３ｄに到達すると、焼成を終えた基板１０１はセッター１０３から取り出される。そして、空のセッター１０３は、再び、上段位置の往路搬送手段２２の搬送始端部２２ｂに移動し、ここで次の基板１０１が載置されて、再度、焼成のために、上段通路２２ｃ内に導入される。
【００４６】
ここで、上述のような本実施の形態によるＰＤＰの製造方法で用いる焼成装置２１においては、搬送時、ローラー２２ａ、２３ａ、２４ａとセッター１０３との接触により発生し、セッター１０３の裏面に付着した磨耗粉などの異物が除去された状態で、次の焼成工程を開始することができることとなるため、セッター１０３に付着した異物が搬送により焼成装置２１内に撒き散らされるということがなくなり、パネル構造物１０２の焼成を良好に行うことが可能となる。
【００４７】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、ローラーとセッターとの摩擦により発生する磨耗粉の、パネル構造物への付着や混入を低減し、良好な焼成が可能なプラズマディスプレイパネルの製造方法および焼成装置を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】プラズマディスプレイパネルの構成を示す断面斜視図
【図２】本発明の一実施の形態のプラズマディスプレイパネルの製造方法の工程を示す工程流れ図
【図３】本発明の一実施の形態のプラズマディスプレイパネルの焼成装置の構成を示す断面図
【図４】本発明の一実施の形態のプラズマディスプレイパネルの焼成装置における洗浄手段の一例を示す断面図
【符号の説明】
２２　往路用搬送手段
２２ａ　ローラー
２３　復路用搬送手段
２３ａ　ローラー
２４　昇降手段
２４ａ　ローラー
１０１　基板
１０２　パネル構造物
１０３　セッター
１０５　洗浄手段

Claims

複数本のローラーを基板の搬送方向に並べて配置することにより構成した搬送手段によって、セッター上に載せた基板を搬送するとともに、基板に形成したパネル構造物を焼成するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、セッターを洗浄する洗浄ステップを有するプラズマディスプレイパネルの製造方法。
複数本のローラーを基板の搬送方向に並べて配置することにより構成した往路用搬送手段と、複数本のローラーを基板の搬送方向に並べて配置することにより構成した復路用搬送手段とを有し、往路用搬送手段によって、セッター上に載せた基板を搬送するとともに、基板に形成したパネル構造物を焼成する往路ステップと、復路用搬送手段によって、焼成後の基板をセッターに載せた状態のまま搬送する復路ステップとを備えるプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、復路ステップが、セッターを洗浄する洗浄ステップを有するプラズマディスプレイパネルの製造方法。
洗浄ステップが、異物を溶剤により除去する湿式洗浄手段によって行われる請求項１または２に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
洗浄ステップでのセッターの温度Ｔ１（℃）が、溶剤の沸点Ｔ２（℃）に対して、
０．９×Ｔ２≦Ｔ１＜Ｔ２
の関係を有する請求項３に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
洗浄ステップが、異物を吸引により除去する乾式洗浄手段によって行われる請求項１または２に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
乾式洗浄手段は、吸引により、セッターの面方向に沿った気流が発生するように構成されている請求項５に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
洗浄ステップが、セッターのローラーとの接触面側に対して洗浄を行うものである請求項１から６のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
複数本のローラーを基板の搬送方向に並べて配置することにより構成した搬送手段を有し、その搬送手段によって、セッター上に載せた基板を搬送するとともに、基板に形成したパネル構造物を焼成するように構成したプラズマディスプレイパネルの焼成装置であって、セッターを洗浄する洗浄手段を有するプラズマディスプレイパネルの焼成装置。
複数本のローラーを基板の搬送方向に並べて配置することにより構成した往路用搬送手段と、複数本のローラーを基板の搬送方向に並べて配置することにより構成した復路用搬送手段とを有し、往路用搬送手段によって、セッター上に載せた基板を搬送するとともに、基板に形成したパネル構造物を焼成し、復路用搬送手段によって、焼成後の基板をセッターに載せた状態のまま搬送するように構成したプラズマディスプレイパネルの焼成装置であって、復路ステップにおいて、セッターを洗浄するように構成された洗浄手段を有するプラズマディスプレイパネルの焼成装置。
洗浄手段が、異物を溶剤により除去する湿式洗浄手段である請求項８または９に記載のプラズマディスプレイパネルの焼成装置。
湿式洗浄手段は、セッターの温度Ｔ１（℃）が、溶剤の沸点Ｔ２（℃）に対して、
０．９×Ｔ２≦Ｔ１＜Ｔ２
の関係を有する箇所に設けられている請求項１０に記載のプラズマディスプレイパネルの焼成装置。
洗浄手段が、異物を吸引により除去する乾式洗浄手段である請求項８または９に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
乾式洗浄手段は、吸引により、セッターの面方向に沿った気流が発生するように構成されている請求項１２に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
洗浄ステップが、セッターのローラーとの接触面側に対して洗浄を行うように構成されている請求項７から１２のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。