JP2004014628A - ヘリウム回収・再利用機構を備えた大気圧プラズマ処理装置 - Google Patents

ヘリウム回収・再利用機構を備えた大気圧プラズマ処理装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2004014628A
JP2004014628A JP2002163206A JP2002163206A JP2004014628A JP 2004014628 A JP2004014628 A JP 2004014628A JP 2002163206 A JP2002163206 A JP 2002163206A JP 2002163206 A JP2002163206 A JP 2002163206A JP 2004014628 A JP2004014628 A JP 2004014628A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
helium
atmospheric pressure
gas
plasma processing
pressure plasma
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002163206A
Other languages
English (en)
Inventor
Hideo Takei
竹井 日出夫
Susumu Sakio
崎尾 進
Akira Ishibashi
石橋 暁
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ulvac Inc
Original Assignee
Ulvac Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ulvac Inc filed Critical Ulvac Inc
Priority to JP2002163206A priority Critical patent/JP2004014628A/ja
Publication of JP2004014628A publication Critical patent/JP2004014628A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

【課題】使用したヘリウムガスを回収して再利用することによりヘリウムの使用量を低減して、プラズマ処理のコストを低減できる、ヘリウム回収・再利用機構を備えた大気圧プラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】大気圧チャンバ内に大気圧プラズマヘッドを処理すべき基板に対向して配置し、大気圧チャンバ内に処理ガスと共に大量のヘリウムガスを供給して安定した大気圧プラズマを発生させ、基板をプラズマ処理するように構成した大気圧プラズマ処理装置において、大気圧チャンバに接続され、大気圧チャンバ内に供給されたヘリウムを回収し精製してヘリウムガス供給源へ戻すヘリウム回収・再利用機構が設けられる。
【選択図】  図1

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ヘリウム回収・再利用機構を備えた大気圧プラズマ処理装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
大気圧プラズマ処理装置は、一般的には、大気圧チャンバ内に大気圧プラズマヘッドを処理すべき基板に対向して配置し、大気圧チャンバ内に処理ガスと共に大量のヘリウムガスを供給して安定した大気圧プラズマを発生させ、基板をプラズマ処理するように構成されている。
【0003】
安定な大気圧プラズマを発生させるためにはキャリアガスとして大流量のヘリウムが有効であるが、ヘリウムガスは高価であり、そのため基板のプラズマ処理似コストが掛り、最終製品のコストが高くなる一つの要因となっている。例えば毎分30〜50リットルのヘリウムガスを供給する必要のあるライン式大気圧プラズマ処理装置の場合、一日当りのヘリウムガスの使用量は36000リットルとなり、一ヶ月のヘリウムガスのコストは500万円、一年では6000万円程度になる。
【0004】
また、大気圧プラズマ処理装置で使用したヘリウムガスを含む排出ガスをそのまま排出すると地球環境にも悪影響を与える可能性がある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、本発明は、使用したヘリウムガスを回収して再利用することによりヘリウムの使用量を低減して、プラズマ処理のコストを低減できる、ヘリウム回収・再利用機構を備えた大気圧プラズマ処理装置を提供することを目的としている。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、本発明によれば、大気圧チャンバ内に大気圧プラズマヘッドを処理すべき基板に対向して配置し、大気圧チャンバ内に処理ガスと共に大量のヘリウムガスを供給して安定した大気圧プラズマを発生させ、基板をプラズマ処理するように構成した大気圧プラズマ処理装置において、大気圧チャンバに接続され、大気圧チャンバ内に供給されたヘリウムを回収し精製してヘリウムガス供給源へ戻すヘリウム回収・再利用機構を設けたことを特徴としている。
【0007】
ヘリウム回収・再利用機構は、大気圧チャンバに接続されたガス排出ポンプと、ガス排出ポンプとヘリウムガス供給源との間に接続され、ガス排出ポンプで排出されたガスの中からヘリウムガスを回収し精製するヘリウム精製装置とから成り得る。
【0008】
ヘリウム回収・再利用機構において、ガス排出ポンプで排出されたガスの中からヘリウムガスを回収し精製する複数の並列又は直列に接続されたヘリウム精製装置が設けられ得る。
【0009】
ヘリウム精製装置は、気体分離膜や冷凍機等で構成され得、ヘリウムとその他のガスをそれらの沸点の温度差(‐100℃)に基き分離し、精製する。精製されたヘリウムは再びキャリアガスとして利用され得る。
【0010】
【発明の実施の形態】
以下添付図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。
図1は本発明の一実施の形態による大気圧プラズマ処理装置を示している。図示装置において、1は大気圧チャンバで、この大気圧チャンバ1内には、大気圧プラズマヘッド2がプラズマ処理すべき基板3に対向して配置されている。大気圧プラズマヘッド2はマッチング回路装置4を介して高周波交番電源5に接続されている。また大気圧プラズマヘッド2には、導管6、マスフローメーター7、8、9及びバルブ10、11、12を介して放電ガス源であるヘリウムガス源13並びに処理ガス源であるSFガス源14及びCFガス源15がそれぞれ接続されている。
【0011】
また、大気圧チャンバ1には、放電ガス源13及び処理ガス源14、15から大気圧チャンバ1内に供給された処理ガス及びキャリアガスを排出するガス排出ポンプ16が接続されている。このガス排出ポンプ16はヘリウム精製装置17に接続され、ヘリウム精製装置17の出力側はヘリウムガス源13の供給ラインすなわちマスフローメーター7とバルブ10との間に接続されている。図示実施の形態ではガス排出ポンプ16とヘリウム精製装置17とによりヘリウム回収・再利用機構を構成している。なお図1において18は圧力計である。
【0012】
ヘリウム精製装置17は、例えば大気圧チャンバ1からガス排出ポンプ16によって回収された低純度ヘリウムガスから不純物ガスを吸着及び凝縮させるヘリウム冷凍機を備え、吸着には活性炭を用いて高純度にヘリウムガスを精製して供給するように構成されている。
【0013】
代りに、ヘリウム精製装置17は、回収したヘリウムガス中に混入している酸素、窒素、炭化水素、一酸化炭素、二酸化炭素、水素、水分などの不純物を除去するため、加熱ヒータで加熱される反応筒及び水素除去を備え、反応筒には水分等の不純物を除去するゲッターが組み込まれ、これにより水分等の不純物は反応除去され、高純度精製ガスを得るように構成することもできる。
【0014】
このように構成した図示装置の動作について説明する。
大気圧プラズマ装置にヘリウム冷凍機を用いたヘリウム精製装置17を搭載し、電極間すなわち大気圧プラズマヘッド2に高周波交番電源5から13.56MHz、1kWの交番電力を印加し、放電ガス源13及び処理ガス源14、15からバルブ10、11、12及びマスフローメーター7、8、9を介してHeガス、SF、CFをそれぞれ流量30slm、300sccm、700sccmに調整して混合し、導管6を通って大気圧チャンバ1に導入し、図示していない複数のガス導入孔から吹出させ、基板3に作用するガスをプラズマで解離する大気圧プラズマヘッド2を用いて、シリコン基板3を厚さ400μm処理した。処理に要した時間は40分であった。処理中、ヘリウム精製装置17を介してヘリウムガスを大気圧プラズマヘッド2に還流した。その結果、ヘリウムガスの消費量は90リットルであり、ヘリウム回収装置を用いない場合に比べ、92.5%消費量が低減された。
【0015】
図2には、本発明の別の実施の形態による大気圧プラズマ装置を示し、この場合には装置は回収ヘリウムガスを大量に精製できるように構成されている。図2において図1の装置と対応する部分は図1と同じ符号で示している。ヘリウム精製装置は符号17a、17b……17nで示すように複数個並列に配置されている。配置されるヘリウム精製装置の段数は大気圧プラズマ装置の規模に応じて任意に選択できる。
【0016】
図3には、本発明のさらに別の実施の形態による大気圧プラズマ装置を示し、この場合には装置は回収ヘリウムガスを高純度に精製できるように構成されている。図2において図1の装置と対応する部分は図1と同じ符号で示している。ヘリウム精製装置は符号17a、17b……17nで示すように複数個直列に配置されている。配置されるヘリウム精製装置の段数は回収ヘリウムガスをどの程度純度に精製するかに応じて任意に選択できる。
【0017】
ところで、本発明による大気圧プラズマ装置の応用分野としては、エッチング、CVD、ドーピング、酸化・窒化、クリーニング、アッシング、表面改質、接合等を挙げることができる。また、ヘリウムガス精製装置も例示した冷凍機方式やゲッター方式に限定されるものではなく、膜分離方式、或いはこれら方式を組合わせたものを用いることもできる。
【0018】
【発明の効果】
以上説明してきたように、本発明によれば、大気圧チャンバ内に大気圧プラズマヘッドを処理すべき基板に対向して配置し、大気圧チャンバ内に処理ガスと共に大量のヘリウムガスを供給して安定した大気圧プラズマを発生させ、基板をプラズマ処理するように構成した大気圧プラズマ処理装置において、大気圧チャンバに接続され、大気圧チャンバ内に供給されたヘリウムを回収し精製してヘリウムガス供給源へ戻すヘリウム回収・再利用機構を設けたことにより、高価なヘリウムガスの消費量を大幅に削減することができ、それによりプラズマ処理コストを大幅に低減できるようになる。
【0019】
ヘリウム回収・再利用機構として、ガス排出ポンプで排出されたガスの中からヘリウムガスを回収し精製する複数の並列に接続されたヘリウム精製装置を設けた場合には、回収ヘリウムガスを大量に処理することができ、より大量のヘリウムガスを必要とする大型の大気圧プラズマ処理装置にも容易に適用できるるようになる。
【0020】
ヘリウム回収・再利用機構として、ガス排出ポンプで排出されたガスの中からヘリウムガスを回収し精製する複数の直列に接続されたヘリウム精製装置を設けた場合には、回収ヘリウムガスをより高純度に処理することができるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態による大気圧プラズマ処理装置の構成を示す概略線図。
【図2】本発明の別の実施の形態による大気圧プラズマ処理装置の構成を示す概略線図。
【図3】本発明のさらに別の実施の形態による大気圧プラズマ処理装置の構成を示す概略線図。
【符号の説明】
1:大気圧チャンバ
2:大気圧プラズマヘッド
3:プラズマ処理すべき基板
4:マッチング回路装置
5:高周波交番電源
6:導管
7:マスフローメーター
8:マスフローメーター
9:マスフローメーター
10:バルブ
11:バルブ
12:バルブ
13:ヘリウムガス源
14:SFガス源
15:CFガス源
16:ガス排出ポンプ
17:ヘリウム精製装置

Claims (4)

  1. 大気圧チャンバ内に大気圧プラズマヘッドを処理すべき基板に対向して配置し、大気圧チャンバ内に処理ガスと共に大量のヘリウムガスを供給して安定した大気圧プラズマを発生させ、基板をプラズマ処理するように構成した大気圧プラズマ処理装置において、大気圧チャンバに接続され、大気圧チャンバ内に供給されたヘリウムを回収し精製してヘリウムガス供給源へ戻すヘリウム回収・再利用機構を設けたことを特徴とする大気圧プラズマ処理処理装置。
  2. ヘリウム回収・再利用機構が、大気圧チャンバに接続されたガス排出ポンプと、ガス排出ポンプとヘリウムガス供給源との間に接続され、ガス排出ポンプで排出されたガスの中からヘリウムガスを回収し精製するヘリウム精製装置とを備えていることを特徴とする請求項1に記載の大気圧プラズマ処理装置。
  3. ヘリウム回収・再利用機構が、ガス排出ポンプで排出されたガスの中からヘリウムガスを回収し精製する複数の並列に接続されたヘリウム精製装置を備えていることを特徴とする請求項1に記載の大気圧プラズマ処理装置。
  4. ヘリウム回収・再利用機構が、ガス排出ポンプで排出されたガスの中からヘリウムガスを回収し精製する複数の直列に接続されたヘリウム精製装置を備えていることを特徴とする請求項1に記載の大気圧プラズマ処理装置。
JP2002163206A 2002-06-04 2002-06-04 ヘリウム回収・再利用機構を備えた大気圧プラズマ処理装置 Pending JP2004014628A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002163206A JP2004014628A (ja) 2002-06-04 2002-06-04 ヘリウム回収・再利用機構を備えた大気圧プラズマ処理装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002163206A JP2004014628A (ja) 2002-06-04 2002-06-04 ヘリウム回収・再利用機構を備えた大気圧プラズマ処理装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2004014628A true JP2004014628A (ja) 2004-01-15

Family

ID=30431746

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002163206A Pending JP2004014628A (ja) 2002-06-04 2002-06-04 ヘリウム回収・再利用機構を備えた大気圧プラズマ処理装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2004014628A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2911881A1 (fr) * 2007-01-29 2008-08-01 Air Liquide Procede de recyclage d'helium et dispositif pour sa mise en oeuvre

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2911881A1 (fr) * 2007-01-29 2008-08-01 Air Liquide Procede de recyclage d'helium et dispositif pour sa mise en oeuvre
WO2008107575A1 (fr) * 2007-01-29 2008-09-12 L'air Liquide Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude Procede de recyclage d'helium et dispositif pour sa mise en oeuvre

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2005536336A (ja) 廃棄ガス流の利用
US20090017206A1 (en) Methods and apparatus for reducing the consumption of reagents in electronic device manufacturing processes
JP6179246B2 (ja) 多結晶シリコン製造方法及び製造装置
CN108502888B (zh) 三氯硅烷的纯化系统以及硅晶体
KR20080011205A (ko) 가스 분리 장치 및 가스 분리 방법
WO2010103846A1 (ja) 排ガス処理装置および排ガス処理方法
JPH11218318A (ja) 排ガス処理設備
JP2004014628A (ja) ヘリウム回収・再利用機構を備えた大気圧プラズマ処理装置
WO2005116525A3 (en) On-site generation, purification, and distribution of ultra-pure anhydrous ammonia
CN101918310B (zh) 回收硅烷的方法
WO2020063143A1 (zh) 氢气回收再利用系统
KR20190109949A (ko) 디실란 합성 및 여과 정제 시스템
JP2010221097A (ja) 排ガス処理装置および排ガス処理方法
JP4430913B2 (ja) ガス供給方法及び装置
JP6101958B2 (ja) アンモニア及び水素の回収方法及び再利用方法
JP6250827B2 (ja) 多結晶質シリコンの製造方法
WO2005058753A1 (ja) オゾン処理方法及びオゾン処理装置
JPH09124514A (ja) 嫌気性消化醗酵ガスのメタン濃縮方法および装置
JP2011026205A (ja) アセチレンの製造方法
EP1180497A1 (en) Ionic purifier
US11560316B2 (en) Process and apparatus for removal of impurities from chlorosilanes
JPH01298003A (ja) オゾン発生方法
JP2003530289A (ja) 酸化ケイ素プラントのための酸素移送膜
JPH0514505Y2 (ja)
JP2000036480A (ja) リサイクル装置及びリサイクル方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050106

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20060807

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060816

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20070425