JP2003535422A - 不可逆的光記録媒体 - Google Patents

不可逆的光記録媒体

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Abstract

(57)【要約】 本発明は、無機活性層（３０）と半反射性層（３２）とから構成された２層積層体を具備した媒体に関するものである。無機活性層（３０）は、半反射性層（３２）を通して導かれた光放射（３４）の作用によって変形を起こすのに適したものとされている。そのような変形により、積層体の反射係数を低減するものとされている。本発明は、例えばディスク上において、データを不可逆的に記録するに際して有効である。２層積層体は、基板上に成膜することができる。必要に応じて、保護層（４６）や、中間介在誘電体層（４４）を、付加的に設けることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、情報データの書込および読取のための不可逆的光記録媒体に関する
ものである。記録は、１度だけ書込を行うことができかつ消去も再書込もできな
いという意味において、不可逆的である。これに対し、読取は、繰り返し行うこ
とができる。
【０００２】 本発明は、例えば、ＣＤ−Ｒ（Compact Disc Recordable）や、ＷＯＲＭ（ Write-Once Read Many）や、ＤＲＡＷ（Direct Read After Write）や、ＤＶＤ
−Ｒ（Digital Versatile Disc Recordable）といったようなタイプの光ディス
ク記録に対して応用することができる。
【０００３】 しかしながら、本発明は、ディスクという応用に限定されるものではない。本
発明は、任意の形態とされた（テープ、カード、等）すべての媒体を対象として
いる。
【０００４】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】
不可逆的光記録の分野においては、ＣＤ（Compact Disk）と互換性のあるＣＤ
−Ｒが、急速に世界標準となった。世界中にわたっての進展は、１９９８年にお
いては８６２，０００，０００個というディスクであり、１９９９年においては
２，０７８，０００，０００個というディスクであるという現象から明らかであ
る。ＣＤ−Ｒの現在の価格は、少なくとも１＄であり、２年以内に３０％下がる
であろうと予測されている。よって、ＣＤ−Ｒは、もはや個人的な記録に対して
のみ使用されるだけではなく、ＣＤやＣＤ−ＲＯＭをプレス加工する代わりに一
連のディスクを製造するためにも使用される。製品の経済的寿命の長さは、評価
が困難である。最も楽観的な見方では、ＣＤ−Ｒが、ＣＤ−ＲＷ（Compact Disk
Readable Writable）やＤＶＤ系統とは競合しないとされている。特に、コンピ
ュータ分野においては、ＣＤ−Ｒは、ディスケットを決定的に代替することがで
きる。それは、ディスケットの４００倍以上の容量を有しているからである。
【０００５】 現在では、かなり大部分のディスクが、有機色素をベースとした技術を使用し
ている。ディスクの構造が、図１に示されている。
【０００６】 図示されている記録媒体は、 −透明基板（１０）（例えば、ポリカーボネート）と、 −７７５０〜７９５０オングストローム（７７５〜７９５ｎｍ）という波長に対
して敏感な色素層（１２）と、 −例えば金や銀合金から形成された、反射層（１４）と、 −１つまたは２つの保護層（１６）と、 を備えている。
【０００７】 データは、高出力レーザーから放出された光ビーム（１８）を焦点合わせする
ことによって、ディスク上に書き込まれる。光ビームは、透明基板（１０）を通
過して色素層（１２）へと到達する。色素によって吸収された光は、色素を加熱
し、光学構造の不可逆的変化を引き起こす。この変化は、色素層に限定する限定
することができるものの、透明基板（１０）や反射層（１４）といったような周
囲材料に対して到達することもできる。
【０００８】 データは、高反射特性を有した非書込領域と、低反射特性を有した書込領域と
、の交互配置という形態で記録される。データの符号化は、彫刻されるマークの
長さの変化によって、得られる。
【０００９】 データの読取は、低出力レーザーダイオードからの光ビーム読取によって得ら
れる。
【００１０】 データは、ディスク表面上において螺旋経路に沿って書き込まれる。この螺旋
経路に対する追従は、透明基板内に予め彫刻されたグルーブの存在により、読取
と書込との双方に関して可能とされる。データは、グルーブ内においてのみ書き
込まれる。螺旋経路の未使用領域は、ランドと称される。
【００１１】 この技術は、有機物質の経時劣化（例えば光や温度）に関連した問題点や、色
素の波長選択性が大きいことに関連した問題点（例えば、ＣＤのフォーマットと
ＤＶＤのフォーマットとの間における互換性という問題点）や、色素の成膜ステ
ージに関するコストに関連した問題点（成膜時間、メンテナンス、原料コスト）
、を有している。
【００１２】 特に、後者の問題点が、製造コストを低減し得るような他の手段に対しての興
味を増加させている。特に、労働時間単価の高い国においては、市場トレンドに
追従することが困難である。よって、１９９８年においては、世界総生産の中の
台湾製の割合が３７％であったのに対し、１９９９年においては、それが６０％
となっている。興味のある手段は、有機物質を無機物質によって代替することで
あろう。しかしながら、その場合には、以下のような他の問題点が発生する。 −未使用領域に関する高反射から書込済みポイントに関する低反射への移行が、
現存の材料（彫刻手段および読取手段）との互換性を可能とするように保存され
なければならないこと。 −書込パワーが、与えられた彫刻速度において現存の彫刻手段において実現可能
な範囲内に留まっていられるように、十分な感度が保存されなければならないこ
と。 −満足のいく書込および読取を保証し得るよう、適切な書込品質（大きな信号雑
音比、小さなジッター、小さな非対称性）が得られなければならないこと。 −温度や日照や衝撃や引っ掻きによる劣化にかかわらず、サービス寿命が十分な
ものでなければならないこと。
【００１３】 これらすべての問題点を同時に解決することは、困難である。さらに、工業的
実用性の点からは、実証済みの迅速な成膜技術の使用が要求される。通常は、例
えば蒸発が多くの場合遅すぎることから、霧化が使用される。同じく、コスト削
減化のために、霧化ステーションの数が最小化され、したがって、材料数や層数
が最小化され、層厚さまでもが最小化される。
【００１４】 不可逆的記録に際しての無機材料の使用は、ずっと前から考慮されている。テ
ルルおよびその合金が、色素の出現前から研究されている。色素が使用されて以
来、新たな材料が、この範疇において定期的に出現している。このような手段の
中で、いくつかのものは、彫刻および読取に関して現存材料と互換性を有してい
る。それでもなお、参考文献［１］に記載されているように、様々な手段が研究
されてきた。
【００１５】 ホール形成、参考文献［２］。これは、１９８０年代において最も研究された
方法に関するものである。この方法においては、強力な光パルスを使用すること
によって、活性層内にホールを形成する。この技術において最も使用されている
材料は、Ｉｎ、Ｂｉ、Ｔｅ、および、様々なカルコゲニドである（有機材料の使
用を除く）。これらすべての材料は、共通して、溶融温度が低く、吸収性が大き
い。
【００１６】 バブル形成、参考文献［３］。従来より、活性層は、金属層（金または白金合
金）と、有機ポリマー層と、を備えている。金属層の温度上昇は、ポリマー層に
伝達され、ポリマー層の分解を引き起こし、ガスが放出される。このガスが、金
属層を、基板から剥がしてしまう。バブルの破裂は、活性層のパラメータを最適
化することによって避けることができる。ＡｇＯｘ上のワークも、また、このカ
テゴリーに分類することができる。
【００１７】 分離、参考文献［４］。層の構成要素は、レーザー照射によって分解する。例
えば、ＴｅＯ1.1 といったような亜酸化物が、適切な候補である。この材料は、
照射後には、ＴｅＯ2 およびＴｅへと分解する。Ｔｅが反射性であることにより
、書込箇所は、周囲よりもさらに反射性となる。
【００１８】 結晶とアモルファスとの間の相変化。蒸発のフレームワーク内において研究さ
れたある種の材料は、相変化材料に近いものである。よって、相変化によって記
録のために通常使用される材料を、蒸発のフレームワーク内において不可逆的に
使用することができると結論づけることができる。しかしながら、相変化による
データ書込が高レベルから低レベルへの反射特性変化を示すことを保証するため
には、材料は、結晶状態からアモルファス状態へと変化しなければならない。し
かしながら、材料は、基板上に成膜された直後においては、アモルファスである
。したがって、相変化による書込に関しては、ディスクの表面全体にわたって材
料を結晶化するという初期化ステージが必要となる。この初期化ステージは、こ
のタイプのディスクの製造における無視できないコスト要因となってしまう。最
後に、ディスク内における熱効果の制御には、多くの場合、３〜４個の層の存在
が必要とされ、それら層の中のいくつかは、比較的厚い誘電体層とされる。した
がって、相変化に基づく不可逆的書込の使用は、経済的観点からは、興味を持て
ないもののように思われる。
【００１９】 組織（テクスチャー）の変化、参考文献［５］。この技術は、一般に、ゲルマ
ニウムベースやシリコンベースの活性層に関するものである。層がなす粗表面は
、レーザー照射後には、円滑表面となる。したがって、反射は、低レベルから高
レベルへと変化する。これは、変化の方向性として求められているものとは逆で
ある。さらに、このようなディスクは、多くの場合、大きなノイズレベルを有し
ている。
【００２０】 本出願人らが知る限りにおいては、無機材料からなる単一層によって６０％を
超える反射を有したディスクは、厚い層および／または貴金属類似材料を使用し
た場合にだけ得ることができる。しかしながら、このような材料における書込は
、特に吸収性が低いこと熱伝導度が大きいことおよび溶融温度が高いことに基づ
いて、標準的なものとは適合していないような高パワーにおいてしか行うことが
できない。例えば、良好な信号雑音比でもって（この比は、パワーにかかわらず
２０ｄＢ未満に維持されるべきである）、６０％という反射率を有した２０ｎｍ
厚さの金層内に、いわゆる“３Ｔ−３Ｔ”信号（ここで、３Ｔとは、ディスク上
に書き込まれるマークの長さおよびマークどうしの間のインターバルの長さを意
味している）を書き込むことはできない。４０％の付近の反射率を有した１０ｎ
ｍ厚さの層において同じことを試みても、同じ結果となる。一般に、感度を上げ
るために、例えばテルルといったような、貴金属よりも感度の大きな材料が、使
用される。うまくないことに、感応性材料からなる単一層では、通常、十分な初
期反射を得ることはできない。これは、また、図２に示すように、本出願人らに
よって使用された例えばテルルといったような材料についても当てはまる。図２
においては、横軸は、書込領域における反射率（Ｒ）を単位を％として示してお
り、縦軸は、最小書込パワー（Ｐ）（単位：ｍＷ）を示している。研究した材料
に関して得られた反射率は、厚さや成膜条件にかかわらず、５０％を超えること
がなかった。
【００２１】 反射率を増大させるための従来的手法においては、感光層の背面に金層または
銀層を追加する、参考文献［６］（光の入射方向に関しての背面に追加する。こ
れは、有機材料をベースとしたディスクの場合と同様の手法）。この反射層は、
通常は、誘電体層を介することによって、感光層からは隔離される。例えばホー
ル形成といったようなある種の書込機構においては、この誘電体層の存在のため
に、多くの場合、感度が低減してしまい、信号雑音比が低下してしまう。したが
って、しきい値パワーを低減するためには、感光層の厚さを低減する必要がある
。うまくないことに、一般に、非常に薄い層においては、信号雑音比が悪く、か
つ、反射率も小さい。
【００２２】 本発明の目的は、上記すべての欠点を克服することである。
【００２３】
【課題を解決するための手段】
したがって、本発明は、有機材料を使用していないような、かつ、公知技術や
公知材料に適合した操作によって得られるような、非常に単純な構造の使用を提
案する。本質的に、本発明による構造は、半反射性層と無機層とから構成された
２層積層体を具備している。書込は、半反射性層を通して行われる。読取は、同
じ面を通して行われる。光放射の作用により、無機層は、中空やクラックやバブ
ルやキャビティやクレータやバルジやスプリットや膨潤やカールや部分的蒸発ま
たは全体的蒸発や材料の流出等といったような多種多様な性質の変形を受ける。
半反射性層内において、また、基板内において、変形を起こしても良い。変形の
出現のために必要なパワーレベルは、現在の彫刻装置において使用されているパ
ワーレベルと適合している。いずれにしても、変形は、２層積層体の反射係数を
低減させるという効果を有している。そのため、変形を受けた領域の外部に位置
した外部領域における反射係数は、６５％に到達することができる。変形の起源
をなす無機層は、以下『活性層』と称する。活性層自体としては、変形を受けて
いない場合には、不十分な反射係数しか有していない。半反射性層は、無機層と
一緒に使用されることによって、反射係数を増大させるように作用する。
【００２４】 より詳細には、本発明の目的は、情報データを書き込むための記録媒体であっ
て、半反射性層と無機活性層とから構成された２層積層体を具備し、無機活性層
は、半反射性層を通して導かれた書込用光放射の作用によって変形を起こすのに
適したものとされ、変形が、積層体の反射係数を低減するものとされていること
を特徴としている。
【００２５】 本発明のさらなる目的は、情報データを読み取るための記録媒体であって、半
反射性層と無機活性層とから構成された２層積層体を具備し、無機活性層は、い
くつかの領域のところにおいて変形を有しており、積層体の反射係数は、領域の
内部においては、それら領域の外部領域よりも、小さいものとされていることを
特徴としている。
【００２６】 好ましくは、２層積層体は、基板上に成膜される。半反射性層は、基板と無機
活性層との間に配置することができる。逆に、無機活性層を、基板と半反射性層
との間に配置することもできる。前者の場合には、基板は、透明でなければなら
ない。この基板は、螺旋グルーブの形態で彫刻することができる。
【００２７】 より好ましくは、半反射性層は、金属から形成される。半反射性層をなすこの
金属は、アルミニウム、銀、銅、金、亜鉛、チタン、および、これらのいずれか
を含有した合金からなるグループの中から選択することができる。
【００２８】 半反射性層は、２つの（あるいはそれ以上の）互いに異なる材料から形成する
ことができる。例えば、半反射性層は、薄い金層と薄い銀層とを有することがで
きる。
【００２９】 好ましくは、無機活性層は、テルル、アンチモン、セレン、インジウム、ビス
マス、ヒ素、および、これらのいずれかを含有した合金からなるグループの中か
ら選択された材料から形成されている。
【００３０】 無機活性層は、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｓｉ、Ａｓからなるグループの中から選択
された金属を含有しているような、ＳｂＴｅ合金またはＳｂＳｅ合金から形成す
ることができる。
【００３１】 さらに、無機活性層をなす材料は、ある種の比例量の窒素を含有することがで
きる。
【００３２】 有利な実施形態においては、保護層が、２層積層体上において、無機活性層側
に成膜されている。保護層は、エラストマー−シリコンから形成することができ
る。可能であれば、有機材料または無機材料からなるような中間介在誘電体層を
、活性層と保護層との間に介装することができる。この中間介在層は、熱的特性
および／または化学的特性および／または機械的特性に基づいて、記録媒体の書
込および／またはサービス寿命を補助する。
【００３３】 本発明の他の目的は、上述したような記録媒体に対しての書込方法であって、
光ビームを、半反射性層を通して活性層上に導き、光ビームのパワーを、活性層
の変形を引き起こし得るようなものとする。
【００３４】 本発明のさらに他の目的は、上述したような記録媒体からの読取方法であって
、光ビームを、半反射性層を通して活性層上に導き、光ビームのパワーを、活性
層の変形に応じた強度を有した反射ビームを生成し得るようなものとする。
【００３５】
【発明の実施の形態】
図３Ａは、本発明による２層積層体を示している。この積層体は、以降『活性
層』と称することとする無機層（３０）と、例えば金属製のものといったような
半反射性層（３２）と、から構成されている。この積層体は、半反射性層（３２
）上に導かれかつ半反射性層（３２）を通過した光ビーム（３４）によって、書
き込むことができる。半反射性層（３２）を通過した後の光ビームによってもた
らされるエネルギーは、上述したのと同様にして活性層を変形させる。半反射性
層（３２）は、同様に変形することも、あるいは、変形しないことも、できる。
【００３６】 図３Ｂは、書込後の読取操作時における積層体を示している。書込ビーム（３
４）よりも強度の小さな読取ビーム（３６）が、半反射性層（３２）に向けて導
かれる。活性層（３０）の変形のために（この場合には、ホール（３３）の出現
という例で図示されている）、および、場合によっては付加的な半反射性層（３
２）の変形のために、積層体の反射係数は、非書込領域（Ｚｎｅ）におけるより
も、書込領域（Ｚｅ）における方が、小さい。したがって、反射ビーム（３８）
の強度は、非書込領域（Ｚｎｅ）におけるよりも、書込領域（Ｚｅ）における方
が、小さい。これにより、当業者に公知の光学手段によって、各領域の相違を認
識することができ、記録されたデータを読み取ることができる。
【００３７】 上述した２層積層体は、あらゆる基板上に成膜することができ、特に、彫刻さ
れたグルーブを有したディスクの形態とされた基板上に成膜することができる。
これは、いくつかのオプションも含めて、図４に示されている。図４においては
、グルーブ（４２）が彫刻されている透明基板（あるいは、透明基体）（４０）
と、本発明による２層積層体（３０，３２）と、が示されている。
【００３８】 さらに、図示した実施形態においては、媒体は、誘電体層（４４）と保護層（
４６）とを備えている。
【００３９】 基板（４０）は、プラスチック（例えば、ポリカーボネート、あるいは、ＰＭ
ＭＡ）から形成することができ、グルーブは、幅を４００〜８００ｎｍ、深さを
２０〜６０ｎｍ、とすることができる。
【００４０】 図４においては、半反射性層（３２）は、基板上に成膜されている。このこと
は、基板が透明であることが想定されていることを意味している。なぜなら、書
込と読取との双方が、基板を通して行われるからである。しかしながら、構成を
ひっくり返すこともでき、活性層を基板上に形成することができる。その場合に
は、保護層（４６）が透明でなければならない。この場合、基板は、不透明なも
のとすることができる。
【００４１】 半反射性層をなす材料は、その材料の反射特性に基づいて選択される（例えば
、Ａｌ、Ｚｎ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、あるいは、これらの合金）。半反射性層は、
わずかしか光を吸収しないことが好ましい。半反射性層が、まず最初に光ビーム
が照射される部分であることにより、半反射性層の厚さは、書込しきい値を過度
に増大させることなく反射率を増大させ得るように、できる限り正確に調節され
なければならない。半反射性層の厚さは、例えば、４〜１０ｎｍとすることがで
きる。
【００４２】 活性層は、書込機構のベースに位置しているばかりでなく、積層体の反射にも
寄与する。活性層の厚さは、１０〜１００ｎｍの程度とされ、適切な反射率を示
しつつも安価な書込パワーを維持し得るように、調節されなければならない。活
性層の成膜条件は、一定の反射を有した最適の厚さでもって動作するように、調
節される。実際、形成されるホールやバブルやキャビティ等は、コントラストが
良好であるように十分に大きなものである必要がある一方、読取ノイズを制限し
得るようあまり大きすぎても良くない。しかしながら、ホールやバブルやキャビ
ティ等のサイズは、ある種の場合には、活性層の厚さに比例するように思われる
。活性層をなす材料は、例えば、Ｔｅ、Ｓｂ2Ｔｅ3、Ｉｎ、Ｂｉ、Ｂｉ2Ｔｅ3、
ＳｅＴｅ、Ｓｅ、Ａｓ3Ｓｅ3、Ａｓ2Ｔｅ3、…とすることができる。
【００４３】 測定結果が、図５に示されている。この図は、横軸に示されているような単位
をｍＷとしたときの光学パワー（Ｐ）の関数として、縦軸として示されているよ
うな単位をｄＢとしたときの信号雑音比（Ｓ／Ｂ）の変化を示している。曲線群
は、１．２ｍ／ｓという参照速度の４倍に等しいようなすなわち４．８ｍ／ｓと
いう線速度でもってディスクを回転させつつ、３Ｔという幅の書込領域と同じ幅
の非書込領域とを連続して形成した場合に対応している。活性層の厚さは、２５
ｎｍとされた。半反射性層は、様々な厚さのアルミニウム層とされた。アルミニ
ウム層の厚さは、６ｎｍ、７ｎｍ、８ｎｍ、および、９ｎｍとされ、それぞれ、
曲線（５１，５２，５３，５４）に対応している。非書込領域における積層体の
反射係数は、それぞれ、４６，４８，５０，５１％であった（一方、半反射性層
がない場合には、反射率は、４０％でしかなかった）。
【００４４】 本発明による２層積層体は、情報データの書込および読取に際して十分なもの
である。それでもなお、変形例（オプション）として、材料の物理的化学的変化
（例えば、酸化）からディスクを保護するために、また、引っ掻きや衝撃による
損傷を防止するために、また、存在すれば読取や書込を阻害してしまうとともに
除去時にはディスクの損傷を招きかねないような汚れや様々なトレースを防止す
るために、積層体に対してさらなる層を追加することができる。したがって、１
つまたは２つの層を、追加することができる。あるいは、追加する層数が多くな
ればなるほどコスト的に不利になることを勘案しつつ、それ以上の数の層を、追
加することもできる。一般に、成膜される最後の層は、機械的保護を確保するた
めのものとされる。多くの場合、ターンテーブルを使用してワニスが成膜され、
紫外線照射によって固化され、数ミクロン厚さの層とされる。ディスクシール技
術を使用することもできる。
【００４５】 様々な理由のために、中間介在誘電体層（４４）を、図４に示すように活性層
（３０）と保護層（４６）との間に追加することができる。これは、特に、活性
層の変形を機械的にかつ熱的に助長するためであり、また、抵抗力を強化するた
めである。中間介在層は、また、活性層を保護層から化学的に絶縁させることが
できる。
【００４６】 好ましくは、活性層と半反射性層とは、霧化によって成膜される。これら２つ
の層の成膜条件は、市場から購入可能なたいていの彫刻装置に適合した書込パワ
ーしきい値をなおも維持しつつ十分な反射特性が得られるように、選択される。
中間介在層および保護層は、材料の性質に応じてまた層厚さに応じて、霧化によ
ってもターンテーブル成膜によっても、形成することができる。
【００４７】 以下、いくつかの実験例について説明する。それら実験例が本発明の範囲を何
ら限定するものではないことは、明瞭に理解されるであろう。
【００４８】 ［実験例１］ 基板は、ポリカーボネートとされた。半反射性層は、６〜９ｎｍという厚さの
アルミニウム層とされた。半反射性層は、３×１０-3ｍｂａｒというアルゴン圧
力下において５００ｍＡというターゲット電流でもって霧化によって成膜された
。活性層は、２５ｎｍ（成膜時間に基づき計算された）という厚さのＳｂ2Ｔｅ3 から構成された。活性層は、１０-3ｍｂａｒというアルゴン圧力下において１０
０ｍＡというターゲット電流でもって霧化によって成膜された。市場で利用可能
なＣＤ−Ｒテスターを使用して測定された焦点合わせビームの反射率は、以下の
ようである。
【表１】
【００４９】 アルミニウム層を有した試料について、４．８ｍ／ｓという速度の場合の、書
込パワーの関数としての信号雑音比の変化が、図６に示されている。１．２ｍ／
ｓという速度においては、信号雑音比は、試料２，３に関しては５．５ｍＷより
も大きなパワーにおいて、試料４に関しては７ｍＷよりも大きなパワーにおいて
、４５ｄＢよりも大きくなる。信号雑音比は、試料５に関しては８ｍＷよりも大
きなパワーにおいて、４３ｄＢよりも大きくなる。２倍の速度（２．４ｍ／ｓ）
においては、信号雑音比は、試料２，３に関しては７．５ｍＷよりも大きなパワ
ーにおいて、試料４に関しては１０ｍＷよりも大きなパワーにおいて、４７ｄＢ
よりも大きくなる。
【００５０】 ［実験例２］ 基板は、ポリカーボネートとされた。半反射性層は、６〜９ｎｍという厚さの
アルミニウム層とされた。半反射性層は、３×１０-3ｍｂａｒというアルゴン圧
力下において５００ｍＡというターゲット電流でもって霧化によって成膜された
。活性層は、３０ｎｍ（成膜時間に基づき計算された）という厚さのＳｂ2Ｔｅ3 から構成された。活性層は、１０-3ｍｂａｒというアルゴン圧力下において２５
０ｍＡというターゲット電流でもって霧化によって成膜された。市場で利用可能
なＣＤ−Ｒテスターを使用して測定された焦点合わせビームの反射率は、以下の
ようである。
【表２】
【００５１】 試料２は、１．２ｍ／ｓという速度においては、４ｍＷ以上において４２ｄＢ
よりも大きな信号雑音比を有しており、２．４ｍ／ｓという速度においては、６
ｍＷ以上において４６ｄＢよりも大きな信号雑音比を有しており、さらに、４．
８ｍ／ｓという速度においては、１０ｍＷ以上において４８ｄＢよりも大きな信
号雑音比を有している。試料３は、１．２ｍ／ｓという速度においては６．５ｍ
Ｗ以上において、２倍速度においては８．５ｍＷ以上において、４倍速度におい
ては１２ｍＷ以上において、４５ｄＢよりも大きな信号雑音比を有している。す
べての試験は、互いに同じ長さを有した両領域の交互的連続からなる信号に関し
て行われた。
【００５２】 ［実験例３］ 基板は、ポリカーボネートとされた。半反射性層は、７ｎｍという厚さのアル
ミニウム層とされた。活性層は、４０ｎｍという厚さとされ、Ｓｂ2Ｔｅ3から構
成された。４０ｎｍ厚さのシリカからなる保護層が、設けられた。非書込領域に
おけるディスクの反射率は、６０％であった。この積層体を、７７００〜７９０
０オングストロームという波長の光ビームによって照射し、その結果を、ＡＦＭ
（Automatic Force Microscope）によって観測した。ディスク表面（シリコン層
側）を、低パワーおよび高パワーにおいて観測した様子が、それぞれ図６Ａおよ
び図６Ｂに示されている。
【００５３】 ［実験例４］ 基板は、ポリカーボネートとされた。活性層は、２０ｎｍという厚さとされ、
Ｓｂ2Ｔｅ3から構成された。活性層は、霧化によって形成された。半透明層は、
７ｎｍという厚さのアルミニウム−クロム合金から形成された。保護ワニスが、
ターンテーブルによって成膜され、ＵＶランプによって固化された。図７は、デ
ィスク上において彫刻された複数のポイントを示している。
【００５４】 ［実験例５］ 基板は、ポリカーボネートとされた。活性層は、２８ｎｍという厚さとされ、
Ｓｂ2Ｔｅ3から構成された。活性層は、霧化によって形成された。半透明層は、
６ｎｍという厚さのアルミニウムから形成された。保護層の形成前に、信号雑音
比を測定した。しきい値パワーは、２．４ｍ／ｓという速度において４ｍＷ、４
．８ｍ／ｓという速度において５ｍＷ、９．６ｍ／ｓという速度において８ｍＷ
、というＣＤ−Ｒ基準に適合していた。
【００５５】 エラストマー層を追加した状態においては、しきい値パワーは、２．４ｍ／ｓ
という速度において４ｍＷ、４．８ｍ／ｓという速度において５ｍＷ、９．６ｍ
／ｓという速度において９ｍＷ、というＣＤ−Ｒ基準に適合したままであった。
【００５６】 １４５．４ｍ／ｓという速度においては、しきい値パワーは、エラストマー層
付きの状態において、４７ｄＢという信号雑音比に対して１３ｍＷであった。
【００５７】 データの書込および読取に使用した光の波長に関しては、いくらかの情報を提
示することができる。ＣＤ系統（ＣＤ−Ｒ）においては、８０００オングストロ
ーム（赤外に近い）付近において動作する。波長範囲は、規格において決められ
ている。波長は、読取と書込とでは相違している。ＤＶＤ系統（例えば、ＤＶＤ
−Ｒ）においては、６３００〜６５００オングストローム付近という赤色領域に
おいて動作する。緑色や青色といったような他の波長範囲を使用することもでき
る。
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第０７４７８９５号
【図面の簡単な説明】
【図１】 有機色素を有したディスクにおける原理を示す図である。
【図２】 Ｓｂ2Ｔｅ3からなる無機単一層の反射係数と、書込に必要な光パ
ワーと、の関係を示す図である。
【図３】 本発明による２層積層体を概略的に示す図であって、図３Ａは、
書込前の様子を示しており、図３Ｂは、書込後の様子を示している。
【図４】 保護層付きの基板内に彫刻された複数のグルーブを備えているデ
ィスクの場合における、本発明による媒体製造の特別の実施形態を示す図である
。
【図５】 半反射性層の様々な厚さに関して、書込パワーと信号雑音比との
間の関係を示す図である。
【図６】 図６Ａは、低パワーレーザーによる照射後における媒体の像を示
す図であり、図６Ｂは、高パワーレーザーによる照射後における媒体の像を示す
図である。
【図７】 上塗りされたディスク上に彫刻された複数のポイントを示す図で
ある。
【符号の説明】 ３０ 無機活性層 ３２ 半反射性層 ３３ ホール（変形） ３４ 書込ビーム（書込用光放射、光ビーム） ３６ 読取ビーム（光ビーム） ３８ 反射ビーム ４０ 透明基板 ４４ 中間介在誘電体層 ４６ 保護層 Ｚｅ 書込領域（領域） Ｚｎｅ 非書込領域（外部領域）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ１１Ｂ 7/24 Ｇ１１Ｂ 7/24 ５３８Ｆ (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ，ＴＲ)，ＯＡ(ＢＦ ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ， ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，Ｇ Ｍ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＭＺ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ ，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ， ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＧ，ＡＬ，ＡＭ， ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，Ｂ Ｚ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＯ，ＣＲ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ ，ＤＫ，ＤＭ，ＤＺ，ＥＣ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ， ＧＤ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，Ｉ Ｎ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＡ，ＭＤ， ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＭＺ，ＮＯ，ＮＺ，Ｐ Ｌ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＴＺ，ＵＡ，ＵＧ， ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ (72)発明者 ベルナール・ベシュベ フランス・Ｆ−38640・クレイク・セデッ クス・334・ロティスマン・“ラ・カスカ ード”・（番地なし) (72)発明者 マリー−フランソワーズ・アルマンド フランス・Ｆ−38410・ヴォウルナヴェイ −ル−オート・シュマン・デ・シャルトル ー・354 (72)発明者 ロバン・ペリエール フランス・Ｆ−73200・アルベルトヴィ ル・アヴニュ・ジャン・ジョーレ・25 (72)発明者 オリヴィエ・ファルー フランス・Ｆ−75014・パリ・リュ・デ・ プランテ・13・ビス Ｆターム(参考） 5D029 JA01 JB22 JB31 JB35 JC02 LA03 MA13 MA15 MA16 MA17

Claims (19)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 情報データを書き込むための記録媒体であって、 半反射性層（３２）と無機活性層（３０）とから構成された２層積層体を具備
    し、 前記無機活性層（３０）は、前記半反射性層（３２）を通して導かれた書込用
    光放射（３４）の作用によって変形を起こすのに適したものとされ、 前記変形が、前記積層体の反射係数を低減するものであることを特徴とする記
    録媒体。
  2. 【請求項２】 情報データを読み取るための記録媒体であって、 半反射性層（３２）と無機活性層（３０）とから構成された２層積層体を具備
    し、 前記無機活性層（３０）は、領域（Ｚｅ）のところにおいて変形を有しており
    、 前記積層体の反射係数は、前記領域（Ｚｅ）の内部においては、前記領域（Ｚ
    ｅ）の外部領域（Ｚｎｅ）よりも、小さいものとされていることを特徴とする記
    録媒体。
  3. 【請求項３】 請求項１または２記載の記録媒体において、 前記２層積層体が、透明基板（４０）上に成膜され、 前記半反射性層（３２）が、前記基板（４０）と前記無機活性層（３０）との
    間に配置されていることを特徴とする記録媒体。
  4. 【請求項４】 請求項１または２記載の記録媒体において、 前記２層積層体が、基板上に成膜され、 前記無機活性層（３０）が、前記基板と前記半反射性層（３２）との間に配置
    されていることを特徴とする記録媒体。
  5. 【請求項５】 請求項１または２記載の記録媒体において、 前記半反射性層（３２）が、金属から形成されていることを特徴とする記録媒
    体。
  6. 【請求項６】 請求項５記載の記録媒体において、 前記半反射性層（３２）をなす前記金属が、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｕ、Ｚｎ、
    Ｔｉ、および、これらのいずれかを含有した合金からなるグループの中から選択
    されていることを特徴とする記録媒体。
  7. 【請求項７】 請求項５記載の記録媒体において、 前記半反射性層が、２つの金属層を有していることを特徴とする記録媒体。
  8. 【請求項８】 請求項１または２記載の記録媒体において、 前記無機活性層（３０）が、Ｔｅ、Ｓｂ、Ｓｅ、および、これらのいずれかを
    含有した合金からなるグループの中から選択された材料から形成されていること
    を特徴とする記録媒体。
  9. 【請求項９】 請求項１または２記載の記録媒体において、 前記無機活性層（３０）が、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｓｉ、Ａｓからなるグループ
    の中から選択された元素を含有したＳｂＴｅ合金から形成されていることを特徴
    とする記録媒体。
  10. 【請求項１０】 請求項１または２記載の記録媒体において、 前記無機活性層（３０）が、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｓｉ、Ａｓからなるグループ
    の中から選択された元素を含有したＳｂＳｅ合金から形成されていることを特徴
    とする記録媒体。
  11. 【請求項１１】 請求項１または２記載の記録媒体において、 前記無機活性層（３０）が、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｓｉ、Ａｓからなるグループ
    の中から選択された元素を含有したＳｅＴｅ合金から形成されていることを特徴
    とする記録媒体。
  12. 【請求項１２】 請求項８〜１０のいずれか１項に記載の記録媒体において
    、 前記無機活性層（３０）をなす無機材料が、比例量の窒素を含有していること
    を特徴とする記録媒体。
  13. 【請求項１３】 請求項１または２記載の記録媒体において、 保護層（４６）が、前記２層積層体上に成膜されていることを特徴とする記録
    媒体。
  14. 【請求項１４】 請求項１３記載の記録媒体において、 さらに、中間介在誘電体層（４４）を、前記２層積層体と前記保護層（４６）
    との間に具備していることを特徴とする記録媒体。
  15. 【請求項１５】 請求項１３または１４記載の記録媒体において、 前記保護層（４６）が、エラストマー−シリコンから形成されていることを特
    徴とする記録媒体。
  16. 【請求項１６】 請求項１または２記載の記録媒体において、 前記半反射性層（３２）の厚さが、４〜１０ｎｍとされていることを特徴とす
    る記録媒体。
  17. 【請求項１７】 請求項１または２記載の記録媒体において、 前記無機活性層（３０）の厚さが、１０〜１００ｎｍとされていることを特徴
    とする記録媒体。
  18. 【請求項１８】 請求項１に記載された記録媒体に対して書込を行うための
    方法であって、 光ビームを、前記半反射性層（３２）を通して前記活性層（３０）上に導き、
    その際、前記光ビームのパワーを、前記活性層（３０）の変形を引き起こし得る
    ようなものとすることを特徴とする方法。
  19. 【請求項１９】 請求項２に記載された記録媒体から読取を行うための方法
    であって、 光ビームを、前記半反射性層（３２）を通して前記活性層（３０）上に導き、
    その際、前記光ビームのパワーを、前記活性層（３０）の前記変形に応じた強度
    を有した反射ビームを生成し得るようなものとすることを特徴とする方法。
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