JP2003533037A - サンプル格子分布型ブラッグ反射レーザー用のミラー及び空洞設計の改良 - Google Patents
サンプル格子分布型ブラッグ反射レーザー用のミラー及び空洞設計の改良Info
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Abstract
Description
フィッシュ及びラリーAコルドレン氏の「IMPROVED MIRROR AND CAVITY DESIGNS
FOR SGDBR LASERS」と題する共通に譲渡された出願中の米国プロビジョナル特
許出願第60/203,052号の35USCセクション119(e)の下で利
益を請求するものである。
、サンプル格子分布型ブラッグ反射(SGDBR)レーザーに係る。
ザーが使用されている。このような用途では、広い波長範囲にわたり出力周波数
に対して容易に調整できるレーザーを使用するのが非常に有用である。広い波長
範囲をカバーする選択的に可変な周波数において動作できるダイオードレーザー
は、非常に貴重なツールである。所与の波長範囲を使用できる個別チャンネルの
数は、このようなレーザーがないと著しく制限される。従って、このような範囲
限定されたレーザーを使用するシステムに同時に存在し得る個々の通信経路の数
も同様に著しく制限される。従って、ダイオードレーザーは、通信、センサ及び
コンピュータシステム設計における多数の問題の解決策を与えるが、光ベースシ
ステムにより与えられる使用可能な帯域巾に基づく潜在性を満足するものではな
い。多数の将来の用途に対する光学システムを実現するためには、チャンネルの
数を増加することが重要である。
ダイオードレーザーをもつことが必要である。このような用途は、コヒレントな
光波通信システムにおけるソース及びローカル発振器、他のマルチチャンネル光
波通信システムのためのソース、及び周波数変調センサシステムに使用するため
のソースを含む。通常、ある波長範囲にわたり連続的な同調性が必要とされる。
この連続同調は、他の何らかの基準に対する波長ロック又は安定化に対して重要
であり、ある周波数シフトキーイング変調スキムにおいて望まれる。
び位相区分を境界定めする2つのサンプル格子を使用することにより多数のこれ
ら所望の特徴を得る。SGDBRレーザーの基本的な機能及び構造は、参考とし
てここに援用する1990年1月23日付のラリーAコルドレン氏の「MULTI-SE
CTION TUNABLE LASER WITH DIFFERING MULTI-ELEMENT MIRRORS」と題する米国特
許第4,896,325号に開示されている。しかしながら、所与の用途に対し
て最適なSGDBRレーザーを設計することは、複雑で時間浪費な反復プロセス
である。この分野では、アプリケーション指向の性能基準をベースとするSGD
BRレーザーの簡単且つ製造容易な設計を可能にする方法及び装置が要望されて
いる。
放射により光ビームを形成するための利得区分と、上記帯域巾の中心周波数付近
で光ビームを制御するための位相区分と、光ビームを誘導しそして反射するため
の空洞と、その空洞の端を境界定めする前部ミラーと、空洞の反対端を境界定め
する後部ミラーとで構成された同調可能なレーザーを開示する。後部ミラーは、
κeffBがαTuneにほぼ等しく、但し、κeffBは、有効結合定数であり、そしてαTune は、必要なピーク同調量に対して予想される伝播ロスの量であり、そして後
部ミラーの長さは、約70%(最小)以上の反射率(ないし最大約80%の反射
率)を生じるようにされると共に、前部ミラーは、約25%以下の反射率を生じ
るように意図される。
から逸脱せずに、他の実施形態も使用できそして構造上の変更もなし得ることを
理解されたい。 本発明は、広範囲に同調可能なサンプル型格子半導体レーザーの設計に係る。
より詳細には、より広い同調範囲、より高い出力電力、より容易な制御を達成し
、最良のチャンネルと最悪のチャンネルとの間の出力電力変動が公知の設計より
も小さい空洞及び格子ミラーを設計することに向けられる。例えば、V.ヤナラ
マン氏等の「Theory, Design, and Performance of Extended Tuning Range in
Sampled Grating DBR Lasers」、IEEE J.Quantum Elec.第
29巻(第6号)、第1824−1834ページ(1993年6月);H.イシ
イ氏等の「Quasicontinuous Wavelength Tuning in Super-Structure-Grating (
SSG) DBR Lasers」、IEEE J.Quantum Elec.第32巻(第
3号)、第433−441ページ(1996年3月);及びI.アブルトスキー
氏等の「Design of Widely Tunable Semiconductor Lasers and the Concept of
Binary Superimposed Gratings (BSG's)」、IEEE J.Quantum
Elec.第34巻(第4号)、第729−741ページ(1998年4月)を
参照されたい。これらは、全て、参考としてここに援用する。
を許す4つの区分を示している。このレーザー100は、利得区分102と、位
相区分104と、前部ミラー108と、後部ミラー110とで構成され、これら
区分は、長さLA、Lψ、LgF及びLgBを各々有する。これら区分の下には、光
ビームを誘導しそして反射するための空洞106があり、一方、全デバイスは、
基体112上に形成される。使用中に、一般的なバイアス電圧が利得区分102
の上部に接続され、そして接地電位が下部の基体112に接続される。利得区分
102のバイアス電圧がレーザースレッシュホールドより高いときには、活性領
域118からレーザー出力が発生される。
るサンプリング周期114、116を各々含む。格子は、波長選択性反射器とし
て振舞い、空洞106に搬送される光信号の周期的波長間隔で部分反射が発生さ
れる。前部及び後部のサンプル型格子ミラーは、それらの有効長さLeffF及びLeffB と格子差とにより最小空洞ロスの波長を決定するが、レーザー波長は、光学
空洞106の長手方向モードでしか発生できない。それ故、ミラー108、11
0及び空洞106のモードを一致するように調整し、所望の波長に対し空洞10
6のロスを最小限にすることが重要である。図1に示すデバイスの位相区分10
4は、空洞106の光学長さLcavを調整して、空洞106のモードを位置設定
するように使用される。或いは又、前部及び後部ミラーは、当業者に知られた超
構造格子又は他の変調格子のような別の変調格子から形成されてもよい。
プル型格子ミラーの反射率ピーク間のバーニヤ(Vernier)関係は、SGDBRレ
ーザーが従来のDBRレーザーより改善された同調性を与えることを示す。同調
範囲内のいかなる波長も、適当な前部及び後部ミラーピークを選択しそしてそれ
らを位相区分に沿って同調することにより到達でき、所望波長でのレーザー作用
を得ることができる。
)の一例を示す。複合反射率、即ち前部及び後部ミラー反射率の積が、レーザー
の空洞モードに重ねられている。レーザー波長は、最も高い反射率を有する空洞
モードにより決定される。空洞モード及びミラーが完全に整列したときに最適な
安定性が達成される。
を最適化するための複雑な設計空間を形成する。本発明は、サンプル型格子ミラ
ー設計の制約を伴い所与の性能目標を達成するための設計解決策及び仕様に係る
。公知技術で示されたものよりも簡単で且つ製造し易いやり方でサンプル型格子
ミラーの制約の幾つかを解消するための方法も提供される。
同調範囲が40ないし100nmであり、ファイバ接続された出力電力が数ミリ
ワットないし数十ミリワットであり、そしてサイドモード抑制比(SMSR)が
30dB以上である。所与のSGDBR設計の同調範囲は、使用可能な利得−帯
域と、「反復モード間隔」(λR)とによって制限され、この間隔は、前部及び
後部バーニアサンプル型格子ミラーの反射率ピーク間に完全な整列が生じるポイ
ント間の波長のスパンである(即ち、2つの周期関数がそれらの周期の最小共通
整数倍に等しい周期に一致する)。非常に簡単な近似式は、次のように表わされ
る。
そしてδλは、Δλf−Δλbである。
ばならない次の式で一般に示される同調エンハンスメントの量である(即ち、ピ
ークが少ないと、それらの間の同調が大きく、又はピークが多いと、必要とされ
るピーク同調が小さい)。
デバイスを形成する設計空間と、これを達成するためにどんな同調エンハンスメ
ントを使用すべきかを識別することが意図される。
の制限を適用しなければならない。SGDBRレーザーの公知の設計は、比較的
等しい反射率をもつ前部及び後部ミラーを使用した。空洞パラメータの範囲が自
由である場合には、当業者は、高い出力電力を発生するように非常に非対称的な
空洞を形成する最適化ルーチンを容易に適用することができる。
示す。輪郭プロットは、最小電流及び特定の出力電力に対する前部ミラー反射率
及び利得区分の長さ(Lg)の選択を示す。パラメータは、最悪のケースのロス
及び推定ミラー浸透深さ(120−150μm)を使用して選択される。後部ミ
ラーは、0.85の固定反射率を有する。所与の出力電力は、前部ミラーの反射
率及び利得領域の長さを後部ミラーの固定反射率及び量子ウェルの数に対して調
整することにより最小の電流で達成することができる。実際に、実験では、最大
出力電力のDBRレーザーは、後部ミラーDBR反射率が(ロスのない状態で)
85%より高い状態で、非反射(AR)被覆ファセット(R〜1%)を前部ミラ
ーとして使用する。DBRにSMSRを維持するためには、隣接空洞モードを充
分に抑制するように空洞の長さ及び後部DBRのみを処理すればよい。この処理
は、約40ないし50cm-1の非常に高い格子結合定数、短い空洞長さ、及び多
数の量子ウェル(10)を使用することを含む。当業者に明らかなように、DB
Rの反射率が、同調中にミラーに生じる光学的ロスの大きな変化に対してあまり
敏感でない(即ち低い浸透深さ)ようにするために、高いカッパ(κ)が選択さ
れている。
同調のもとでDBRに生じるモード伝播ロスを示している。この高いκの1つの
結果は、大きなDBR反射帯域巾(>1nm)であり、これは、次いで、隣接空
洞モードにわたって30dBのSMSR(1mWの出力電力において)を維持す
るために短い利得区分長さ(<400μm)を必要とする。短い空洞長さで同調
ロスの存在中に高い出力電力を与えるには、活性領域において単位長さ当たり大
きな利得(多数の量子ウェル)を必要とする。
ラーが隣接スーパーモードのモード抑制において重要な役割を演じることにより
複雑化され、これは、図2において明らかである。前部ミラーの反射率が減少す
るにつれて、反射帯域巾が明らかに広くなり、従って、最大のモードインデック
ス変化Δnmaxが得られる。必要なサイドモード抑制を維持するために、前部ミ
ラーの有効κ(即ち格子κとサンプリングデューティ比の積)を減少しなければ
ならず、そして小さな同調エンハンスメントFが必要とされる(即ち、δλは、
同調エンハンスメントに逆比例する)。
ミラー反射率(即ちκL)に対して30dBのSMSR(1mWの出力電力にお
ける)について許された最大のκを示す。大きなκの前部ミラー(ひいては、短
い長さ)は、前部ミラー反射率が高く、同調エンハンスメントが低くそして同調
範囲が狭い(即ちピーク同調が小さい)設計に対して許される。
して全反射率(Rf、Rb)の低下を示すミラー反射率に対する同調の影響を示し
ている。大きなδλ及び対応的に高いκのミラーは、空洞内において小さなミラ
ー反射率変化を招く。小さな同調エンハンスメントは、短くてκの大きな前部ミ
ラーを使用できるので、所与のロスに対して小さな反射率変化を与える。更に、
大きなκ(κL=0.2及びκL=0.3の場合に45cm-1であるのに対して
κL=0.4及びκL=0.5の場合に35cm-1)の後部ミラーは、それら後
部ミラーの浸透深さが小さいのでロスの増加が小さくなる。
与えることを示しているが、同じ全同調範囲を達成するためにより大きな同調も
必要とする。従って、所与の同調範囲をカバーするために、低いインデックス同
調を伴う多数のピークを使用するのが良いか、又は大きな同調を伴う少数の広く
離間されたピークを使用するのが良いかの問題が残される。ミラーのκが、所与
の同調エンハンスメントに対しSMSR基準により許された最大値であるように
選択される場合には、低い同調エンハンスメントを選択するのが良い。
ために大きなピーク同調(ひいては、ミラーにおける伝播ロス)が必要とされる
にも関わらず、低い同調エンハンスメント設計に使用されるミラーが短くそして
浸透深さが小さいので、反射率の全低下が実際に小さくなる。これは、直感的に
逆であると思われるが、先に述べたDBRレーザーは、制限ケースの一例を与え
る。10ないし15nmのみの同調範囲が必要とされるときに最大の出力電力を
得るためには、前部ミラーが非常に低い反射率(1%)を有しそして後部ミラー
が40ないし45cm-1のκを有するようなDBRレーザー(1の同調エンハン
スメント)を使用する見込みが最も高くなる。従って、所与の同調範囲を得るの
に低い同調誘起伝播ロスが必要とされるにも関わらず、高い同調エンハンスメン
トを伴う設計は、SMSR基準を満足するのに長くてκの低いミラーが必要とさ
れるために同調中に大きな反射率ロスを被る。
BRレーザーの著しく非対称的な設計は、最小限のSMSR基準が与えられると
、κの高いミラー(後部ミラーに対して40ないし45cm-1)及び低い同調エ
ンハンスメントの状態で最も良く達成できる。 特定の同調範囲及び出力電力に対する設計戦略を要約するためには、次の基準
を満足しなければならない。後部ミラーは、必要なピーク同調量(5ないし10
nm又は30ないし50cm-1)に対して予想される伝播ロスの量に接近した有
効κをもつように選択されねばならない。前部ミラーの最大κは、同じ予想ロス
及びSMSR基準を使用してある範囲の前部ミラーκL(即ち反射率)に対して
選択することができる。次いで、利得区分の最大長さを、各前部ミラーκLに対
し、ミラー反射帯域巾内の隣接空洞モードを抑制するのに必要な空洞モード間隔
に基づいて決定することができる。(図3を参照されたい。)後部ミラーのパラ
メータが固定されそして利得区分の長さが制限された状態では、設計内の量子ウ
ェルの数が与えられると、どれが最小の電流で所望の出力電力を発生するか調べ
るために種々の前部ミラー選択を評価することができる。高い出力電力は、もち
ろん、低い反射率の前部ミラーに好都合であるガ、動作電流を最小にするために
高い利得を必要とする。当業者であれば、この基本的なスタートポイントから反
復を行って、同調のもとで経験される最大空洞ロスを伴い、最小電流で所望の出
力電力を達成し、そして同調範囲内で全てのチャンネルに対して最小限のSMS
R基準を満足する設計に迅速に到達することができる。
るためには、性能を限定する妥協をうまく処理することが必要となる。公知技術
により一貫して見逃されていたことは、サイドモードが空洞のモードにしか存在
し得ないことである。それ故、上述したSMSR基準により許されたものより小
さなδλの値でも、空洞モードとミラー反射の組み合わせが適切に設計されれば
使用することが可能となる。適切な設計とは、空洞モードがピーク反射率に位置
設定されたとき、空洞モードが隣接ピークの最大反射率点に一致せず、従って、
サイドモードにより経験される反射率を低下するように、ミラーピーク及び空洞
モード間隔を選択することである。図3は、その一例を示す。明らかに、この設
計は、空洞モードの間隔を広げることにより達成が容易である。この目標に向か
って、位相区分は、ラウンドトリップ位相を依然2πだけ調整しそして最大許容
電流密度以下に留まるようにしながら、できるだけ短く形成されねばならない。
利得区分の長さは、活性領域の単位長さ当たりの利得を増加する(例えば、より
多くの量子ウェル)ことにより減少できる。更に、上述した方法は、SGDBR
ミラーに対して最短の浸透深さ(即ち、ミラー長さ)を生じ、又、より広い空洞
モードを生じる。
る。変更される主たるパラメータは、同調エンハンスメントファクタFに逆比例
するδλである。設計目標は次の通りである。同調範囲が50nm、出力電力が
6mW、そして1mWにおけるSMSRが33dB。 図9は、多数の前部ミラーピーク間隔に対する反復モード制限同調範囲を示す
。試験されるδλは、0.4nm、0.5nm、0.6nm及び0.7nmであ
る。これらは、所望の同調範囲を達成するために4.8nmないし6.2nmの
ピーク同調要求を与える。
とが所望され、これは、約80ないし85%の反射率を与える。有効κは、設計
に必要とされる同調範囲に基づいて選択されねばならない。同調のもとでの反射
率の過剰ロスを回避するには、κがαにほぼ等しくなければならない。 上述したケースでは、ロスが約30ないし35cm-1となり、従って、33c
m-1のκが最適なスタート点となる。図5は、同調のもとでの受動的モード導波
管ロスの増加を示している。 前部ミラーは、κ及びLの両方を選択する必要があるので、選択がより困難で
ある。レーザーは、前部ミラーの反射率及び利得領域の長さを自由に選択するフ
ァブリ−ペローのレーザーとして処理される。所望の出力電力に対して要求され
る電流を最小にすることにより、前部ミラーに対する反射率を見出すことができ
る。
る波長チャンネルに対し導波管ロスを使用するのが重要である。これは、前部ミ
ラーの浸透深さが未知であり、即ち所望の前部ミラー反射率の推定を得るのに推
測値が使用されることにより複雑化される。前部ミラーの反射率は、後部ミラー
より小さく、従って、その浸透深さは、おおよそ後部ミラーの浸透深さの1倍と
0.5倍との間のどこかである。所望反射率のおおよその値が決定されると、よ
り正確な浸透深さで計算し直される。
5)であるのが望ましい(図4のように)と決定されると、前部ミラーの有効κ
が選択される。これは、SMSR基準と、設計に対して選択されたδλとに基づ
いて選択される。親指の法則では、(ロスを含む)前部ミラーの最大値の半分に
おける半分の幅(HWHM)がほぼδλ/2に等しくなければならない(即ち、
ピークサイドモード反射率と所望のピーク反射率との比が、1mWにおける30
dBのSMSRと約80%/20%ミラーに対して0.75ないし0.8でなけ
ればならない)。
及び後部ミラーの反射率曲線との間の関係を概略的に示す。又、図10は、前部
及び後部ミラーをSMSRの特性に関連付けするより厳密な方程式を使用してい
る。この関係式は、次の通りである。
するように適用できる。
、最悪チャンネルの性能が最短の前部ミラーに対して最良であることを示す。こ
れは、設計空間を支配するロスの結果である。浸透深さが短い前部ミラーは、同
調のもとで経験される大きなロスによってあまり影響を受けない。前部ミラーを
短縮すると、その反射帯域巾が増加され、従って、SMSR及び同調範囲要件を
維持するのに大きなδλ(ひいては、大きな同調)を必要とする。余計な同調が
必要とされるのも関わらず、最悪ケースチャンネルの空洞ロスは、短いミラーを
伴う設計では低いことに注目されたい。このことは、ミラーに対しκ〜αを設定
することによりロスの増加に主として向けられた公知技術では認識されなかった
。これは、公知技術で使用された高い反射率のミラー(>0.5)では有効であ
るが、浸透深さは、大きな出力電力に対して必要とされる低い反射率(<0.3
)の場合にミラーの長さによって支配される。
される(0.1ないし0.05)。これらミラーの帯域巾が大きいと、ミラーの
長さが125μmより小さい状態で大きなδλ(1ないし1.2nm)を必要と
する。この点において、SMSRは、隣接スーパーモードにおける空洞モードに
よって決定されるだけでなく、主たる反射率ピークの反射帯域巾内の空洞モード
によっても決定される。これは、ミラー浸透深さの和が、所望のフィルタ作用を
達成するために必要とされる全空洞長さの20ないし30%より小さくなること
によるものである。従って、利得区分の長さが短縮すると、過剰なスレッシュホ
ールド電流密度(>4kA/cm2)を招く。この問題に対する新規な解決策は
、前部ピークの2倍の数の後部ピークを使用して、所与の同調範囲をカバーする
ことである。図12は、各前部ミラーに対して2つの後部ミラーピークを使用し
て、隣接空洞モードによるSMSRの問題を伴わずに大きな利得区分長さをもた
せることを示している。例えば、12個の3.8nm離間の後部ミラーピークと
、6個の8.2nm離間の前部ミラーピークとを使用し、反復モード間隔がおお
よそ[(Δλb・Δλf)/(Δλf−2・Δλb)]であって、50nmの範囲をカバ
ーする。この構成の利点は、後部ミラーの浸透深さが2倍の長さであり(従って
、大きな利得区分長さ500ないし600μmに対し停止帯域内に1つの空洞し
か許さない)、しかも、同調のもとで過剰なロスを受けないκ〜αを依然有する
(αは、必要とされるピーク同調が小さいので小さい)ことである。狭い後部ミ
ラーは、同じ前部ミラーが与えられた場合に小さなδλを使用することを考慮し
、反復モード間隔が1/2になることを補うものである。
ーチャートである。Δnmax、Pout、Δλmax、MSRが設計パラメータとして
与えられると、高い効率の出力に対してHR/AR設計を仮定し、そしてΔnma x 、κ=αbmaxからαbmaxを使用すると、設計プロセスの詳細は、次のようにな
る。 ・ 後部ミラー:後部ミラーは、同調のもとに存在する高いロスで動作できる
ような仕様で設計されねばならない(ブロック1302)。これを達成するため
に、κeffB〜αTuneである。ピーク曲率が平坦になり始めるまで長さを増加する
ことにより反射率Rbを増加する。平坦化は、小さな隣接モード抑制、即ち2<
κeffBLgB<2.8及びRb=tanhκeffBLgBを与える。長さは、過剰に長
くならずに約70%ないし80%以上の充分に高い反射率を与え、従って、好ま
しくはκeffBLgB〜2.0ないし3.0を与えるように構成されねばならない。
(ブロック1304)。最小<αi>、Jth及びRsp’に対して最大全有効空洞
長さLtotを使用する。この最大Ltotは、後部ミラーピークの曲率及び反射レベ
ルそして前部ミラーの反射レベルRfが与えられると、所望のSMSRに対する
最小モード間隔により決定され、好ましくは〜0.2と仮定する。Δλmode=λ2 /(2nLtot);Ltot≦KLeffbであり、Kは約6であり、LeffB及びLeffb
は、後部ミラーの浸透深さである。
ら、SMSR基準を維持できる最小反射率及び最短長さを有することが所望され
る(ブロック1306)。所望の同調範囲をカバーするために、図9に示すよう
に、達成できるピーク同調が与えられると、ミラーピーク反射率間隔の差を表わ
すΔλTotal;δλが選択されねばならない。δλが選択されると、前部ミラー
の帯域巾、即ち最大値の半分における全巾(FWHM)は、所望のSMSRを与
えるように選択されねばならない。維持すべき基準は、FWHMがδλの2倍で
あることである。30dBのSMSRを達成するために(図10)、前部ミラー
は、隣接スーパーモードにおける最大後部ミラー反射率の点においてそのピーク
値の約70ないし80%に丸めねばならない。明らかに、高い出力電力は、低い
反射率(それ故、広い帯域巾)の全部ミラーを必要とし、従って、δλをミラー
の帯域巾に応じて増加しなければならないので、ΔλTotalを得るには広いピー
ク同調が必要とされる。
力Poに対し利得電流Iを最小化することにより計算される。長さは、Rf=κ
Lgfにより与えられる。一般に、|Rf|は、実質的に合理的な電力出力に対し
約25%以下である。 上記のように与えられると、差のスーパーモード間隔δλ及びエンハンスメン
トファクタFは、全希望同調範囲Δλtotal及び使用可能なインデックスシフト
Δnmaxから計算される。F=Δλsuper/δλ;Δλsuper=λΔnmax/n;Δ
λtotal=FλΔnmax/nと仮定する。それ故、δλ〜(Δnmaxλ/n)2/Δ
λtotalとなる。前部ミラーの長さは、小さなRfに対して浸透深さの2倍である
ので、Lgf〜λ2/(2δλn)=Δλtotal/2(Δnmax)2となる。 ・ 位相区分:位相区分は、ミラーの下で2つのモード間隔だけ空洞モードを
シフトすることが要求される(ブロック1308)。又、長さは、電流密度が約
5kA/cm2より低くなるようなものでなければならない。
同調可能なレーザーを形成する方法であって、同調のもとで高いロスで動作する
ように後部ミラーを設計し、この後部ミラーは、光ビームを誘導しそして反射す
る空洞の端を境界定めし、単一モード動作に対して制限された長さを有する利得
区分を設計し、この利得区分は、ある帯域巾にわたり自発的放射により光ビーム
を形成し、レーザーに対するSMSR基準を維持できる最小反射率及び最短長さ
を有する前部ミラーを設計し、この前部ミラーは、上記空洞の反対端を境界定め
し、そして2つのモード間隔だけ空洞モードをシフトできる位相区分を設計し、
この位相区分は、上記帯域巾の中心周波数付近で光ビームを制御するという段階
を含む方法を開示する。
ない。本発明は、ここに開示した正確な形態に限定されるものではない。上記の
教示に鑑み多数の変更や修正が考えられる。本発明の範囲は、上述した詳細な説
明により限定されるものではなく、特許請求の範囲のみによって限定される。
DBRレーザーを示す図である。
DBRレーザーを示す図である。
る。
(Lg)の選択を示す輪郭グラフである。
を示すグラフである。
すグラフである。
すグラフである。
すグラフである。
すグラフである。
Rb)の低下を示すグラフである。
とを示すグラフである。
関係を概略的に示すグラフである。
利得区分長さをもつために各前部ミラーに対して2つの後部ミラーピークを使用
する場合を示すグラフである。
Claims (31)
- 【請求項1】 ある帯域巾にわたり自発的及び刺激式放射により光ビームを
形成するための利得区分と、 上記帯域巾の中心周波数付近で光ビームを制御するための位相区分と、 光ビームを誘導しそして反射するための空洞と、 その空洞の端を境界定めする前部ミラーと、 空洞の反対端を境界定めする後部ミラーとで構成され、 上記後部ミラーは、κeffBがαTuneにほぼ等しく、但し、κeffBは、有効結合定
数であり、そしてαTuneは、必要なピーク同調量に対して予想される伝播ロスの
量であり、そして上記後部ミラーの長さは、約70%以上の反射率を生じるよう
に構成された同調可能なレーザー。 - 【請求項2】 上記利得区分の長さは、全ての不所望な空洞モードに対する
複合反射率を最小にするよう選択される請求項1に記載の同調可能なレーザー。 - 【請求項3】 上記前部ミラーは、サイドモード抑制比基準を維持できる最
小反射率及び最短長さを有する請求項1に記載の同調可能なレーザー。 - 【請求項4】 上記位相区分は、レーザーの空洞モードを少なくとも2つの
モード間隔だけシフトすることができる請求項1に記載の同調可能なレーザー。 - 【請求項5】 κeffBxLgBは、約2.0ないし3.0である請求項1に記
載の同調可能なレーザー。 - 【請求項6】 上記利得区分の長さは、後部ミラーの浸透深さの約5倍以下
である請求項1に記載の同調可能なレーザー。 - 【請求項7】 上記位相区分の長さは、2つのモード間隔の空洞モードシフ
トを発生するのに必要な電流密度が5kA/cm2未満となるようなものである
請求項1に記載の同調可能なレーザー。 - 【請求項8】 上記前部ミラーは、レーザーの同調範囲に基づく前部−後部
ピーク間隔と、サイドモード抑制比基準に基づく帯域巾とを有する請求項1に記
載の同調可能なレーザー。 - 【請求項9】 上記前部ミラーは、前部−後部ピーク間隔の約2倍の帯域巾
を有する請求項1に記載の同調可能なレーザー。 - 【請求項10】 上記後部ミラーの長さは、約80%以上の反射率を生じる
ようにされる請求項1に記載の同調可能なレーザー。 - 【請求項11】 上記前部ミラーは、約25%未満の反射率を生じるように
意図される請求項1に記載の同調可能なレーザー。 - 【請求項12】 上記前部ミラーは、その長さが後部ミラーの長さより短い
か又は実質的にそれに等しい請求項1に記載の同調可能なレーザー。 - 【請求項13】 同調可能なレーザーを設計する方法において、 同調のもとで高いロスで動作するように後部ミラーを設計し、この後部ミラー
は、光ビームを誘導しそして反射する空洞の端を境界定めし、 単一モード動作に対して制限された長さを有する利得区分を設計し、この利得
区分は、ある帯域巾にわたり自発的及び刺激式放射により光ビームを形成し、 レーザーに対するサイドモード抑制比(SMSR)基準を維持できる最小反射
率及び最短長さを有する前部ミラーを設計し、この前部ミラーは、光ビームを誘
導しそして反射する空洞の反対端を境界定めし、そして 2つのモード間隔だけ空洞モードをシフトできる位相区分を設計し、この位相
区分は、上記帯域巾の中心周波数付近で光ビームを制御する、 という段階を含む方法。 - 【請求項14】 上記後部ミラーは、κeffBがαTuneにほぼ等しく、但し、
κeffBは、有効結合定数であり、そしてαTuneは、必要なピーク同調量に対して
予想される伝播ロスの量である請求項13に記載の方法。 - 【請求項15】 上記後部ミラーの長さは、約80%以上の反射率を生じる
ように構成された請求項13に記載の方法。 - 【請求項16】 κeffBxLgBは、約2.0ないし3.0である請求項13
に記載の方法。 - 【請求項17】 上記利得区分の長さは、後部ミラーの停止帯域内における
空洞モードの数を制限するように選択される請求項13に記載の方法。 - 【請求項18】 上記利得区分の長さは、上記後部ミラーの浸透深さの約5
倍以下である請求項13に記載の方法。 - 【請求項19】 上記位相区分は、5kA/cm2以下の電流密度が2つの
モード間隔だけ空洞モードをシフトするような長さをもつよう設計される請求項
13に記載の方法。 - 【請求項20】 上記前部ミラーは、レーザーの同調範囲に基づく前部−後
部反射ピーク間隔と、サイドモード抑制比基準に基づく帯域巾とを有する請求項
13に記載の方法。 - 【請求項21】 上記前部ミラーは、前部−後部ピーク間隔の約2倍の帯域
巾を有する請求項13に記載の方法。 - 【請求項22】 上記前部ミラーは、25%以下の反射率をもつように形成
される請求項13に記載の方法。 - 【請求項23】 同調のもとで高いロスで動作できる後部ミラーを備え、こ
の後部ミラーは、光ビームを誘導しそして反射する空洞の端を境界定めし、 単一モード動作に対して制限された長さを有する利得区分を更に備え、この利
得区分は、ある帯域巾にわたり自発的刺激式放射により光ビームを形成し、 レーザーに対するサイドモード抑制比(SMSR)基準を維持できる最小反射
率及び最短長さを有する前部ミラーを更に備え、この前部ミラーは、上記空洞の
反対端を境界定めし、そして 2つのモード間隔だけ空洞モードをシフトできる位相区分を更に備え、この位
相区分は、上記帯域巾の中心周波数付近で光ビームを制御するように構成された
同調可能なレーザー。 - 【請求項24】 上記後部ミラーは、κeffBがαTuneにほぼ等しく、但し、
κeffBは、有効結合定数であり、そしてαTuneは、必要なピーク同調量に対して
予想される伝播ロスの量の最大値である請求項23に記載の同調可能なレーザー
。 - 【請求項25】 上記後部ミラーの長さは、約80%以上の反射率を生じる
ように構成された請求項23に記載の同調可能なレーザー。 - 【請求項26】 κeffBxLgBは、約2.0ないし3.0である請求項23
に記載の同調可能なレーザー。 - 【請求項27】 上記利得区分の長さは、後部ミラーの停止帯域内における
空洞モードを制限するよう選択される請求項23に記載の同調可能なレーザー。 - 【請求項28】 上記利得区分の空洞長さは、上記後部ミラーの浸透深さの
約5倍以下である請求項23に記載の同調可能なレーザー。 - 【請求項29】 上記位相区分は、空洞モード波長の必要な調整に対してそ
の電流密度が5kA/cm2より小さくなるような長さをもつ請求項23に記載
の同調可能なレーザー。 - 【請求項30】 上記前部ミラーは、レーザーの同調範囲に基づく前部−後
部反射ピーク間隔と、サイドモード抑制比基準に基づく帯域巾とを有する請求項
23に記載の同調可能なレーザー。 - 【請求項31】 上記前部ミラーは、前部−後部ミラー反射率ピーク間隔の
約2倍の帯域巾を有する請求項23に記載の同調可能なレーザー。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013219192A (ja) * | 2012-04-09 | 2013-10-24 | Fujitsu Ltd | 半導体レーザ |
JP2017103498A (ja) * | 2011-07-22 | 2017-06-08 | インサイト フォトニック ソリューションズ,インコーポレイテッド | 波長連続及び規定された時間に対する波長掃引をレーザーから動的及び適応的に生成するシステム及び方法 |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6728279B1 (en) * | 1999-05-17 | 2004-04-27 | Interuniversitair Microelektronica Centrum | Widely wavelength tunable integrated semiconductor device and method for widely tuning semiconductor devices |
ES2168045B2 (es) | 1999-11-05 | 2004-01-01 | Ind Aux Es Faus Sl | Nuevo suelo laminado directo. |
US6691480B2 (en) | 2002-05-03 | 2004-02-17 | Faus Group | Embossed-in-register panel system |
US8209928B2 (en) | 1999-12-13 | 2012-07-03 | Faus Group | Embossed-in-registration flooring system |
GB2377549A (en) * | 2001-07-14 | 2003-01-15 | Marconi Caswell Ltd | Tuneable laser |
US6822995B2 (en) | 2002-02-21 | 2004-11-23 | Finisar Corporation | GaAs/AI(Ga)As distributed bragg reflector on InP |
US8181407B2 (en) | 2002-05-03 | 2012-05-22 | Faus Group | Flooring system having sub-panels |
US7836649B2 (en) | 2002-05-03 | 2010-11-23 | Faus Group, Inc. | Flooring system having microbevels |
US8112958B2 (en) | 2002-05-03 | 2012-02-14 | Faus Group | Flooring system having complementary sub-panels |
US7860137B2 (en) | 2004-10-01 | 2010-12-28 | Finisar Corporation | Vertical cavity surface emitting laser with undoped top mirror |
WO2006039341A2 (en) | 2004-10-01 | 2006-04-13 | Finisar Corporation | Vertical cavity surface emitting laser having multiple top-side contacts |
US8201377B2 (en) | 2004-11-05 | 2012-06-19 | Faus Group, Inc. | Flooring system having multiple alignment points |
US20060104321A1 (en) * | 2004-11-15 | 2006-05-18 | Lightip Technologies Inc. | Q-modulated semiconductor laser with electro-absorptive grating structures |
JP4657853B2 (ja) * | 2005-08-11 | 2011-03-23 | 住友電工デバイス・イノベーション株式会社 | 半導体レーザ、レーザモジュール、光学部品、レーザ装置、半導体レーザの製造方法および半導体レーザの制御方法 |
EP1978612B1 (en) * | 2007-04-05 | 2017-08-16 | Sumitomo Electric Device Innovations, Inc. | Optical semiconductor device and method of controlling the same |
US8571084B2 (en) * | 2007-08-02 | 2013-10-29 | Technische Universiteit Eindhoven | Semiconductor laser device |
JP6241919B2 (ja) * | 2013-09-30 | 2017-12-06 | 住友電工デバイス・イノベーション株式会社 | 光学半導体デバイス |
JP2016051807A (ja) | 2014-08-29 | 2016-04-11 | 富士通オプティカルコンポーネンツ株式会社 | 半導体レーザ |
US9312662B1 (en) | 2014-09-30 | 2016-04-12 | Lumentum Operations Llc | Tunable laser source |
JP6684094B2 (ja) | 2015-03-20 | 2020-04-22 | 古河電気工業株式会社 | 波長可変レーザ素子およびレーザモジュール |
WO2016199903A1 (ja) | 2015-06-10 | 2016-12-15 | 古河電気工業株式会社 | パルスレーザ装置 |
CN105356292B (zh) * | 2015-11-30 | 2018-11-02 | 武汉电信器件有限公司 | 一种可调谐波长半导体激光器 |
CN106981819B (zh) | 2016-01-15 | 2019-05-28 | 华为技术有限公司 | 一种可调激光器及其控制方法 |
CN106941241B (zh) * | 2016-10-21 | 2019-06-04 | 武汉光迅科技股份有限公司 | 一种基于ebl的激光器加工方法及其应用方法 |
CN111162454B (zh) * | 2020-01-02 | 2021-03-12 | 中国科学院半导体研究所 | 一种宽波段调谐系统及调谐方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0653591A (ja) * | 1992-08-03 | 1994-02-25 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光周波数変換素子 |
JPH07263817A (ja) * | 1994-01-31 | 1995-10-13 | Telefon Ab L M Ericsson | 半導体レーザとその調整方法 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4622672A (en) | 1984-01-20 | 1986-11-11 | At&T Bell Laboratories | Self-stabilized semiconductor lasers |
US4896325A (en) * | 1988-08-23 | 1990-01-23 | The Regents Of The University Of California | Multi-section tunable laser with differing multi-element mirrors |
EP0391334B1 (en) * | 1989-04-04 | 1994-08-31 | Canon Kabushiki Kaisha | Semiconductor laser element capable of changing emission wavelength, and wavelength selective fitter, and methods of driving the same |
US5088097A (en) | 1990-04-04 | 1992-02-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Semiconductor laser element capable of changing emission wavelength, and method of driving the same |
US5325392A (en) * | 1992-03-06 | 1994-06-28 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Distributed reflector and wavelength-tunable semiconductor laser |
JP3086767B2 (ja) * | 1993-05-31 | 2000-09-11 | 株式会社東芝 | レ−ザ素子 |
JP3226073B2 (ja) | 1994-02-18 | 2001-11-05 | キヤノン株式会社 | 偏波変調可能な半導体レーザおよびその使用法 |
US5841799A (en) | 1994-12-17 | 1998-11-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Semiconductor laser, modulation method therefor and optical communication system using the same |
US5579328A (en) | 1995-08-10 | 1996-11-26 | Northern Telecom Limited | Digital control of laser diode power levels |
US6100975A (en) * | 1996-05-13 | 2000-08-08 | Process Instruments, Inc. | Raman spectroscopy apparatus and method using external cavity laser for continuous chemical analysis of sample streams |
US5715271A (en) | 1996-08-01 | 1998-02-03 | Northern Telecom Limited | Polarization independent grating resonator filter |
SE519081C3 (sv) | 1998-01-21 | 2003-02-19 | Altitun Ab | Förfarande och anordning för optimering av lasrars operationspunkt, jämte anordning |
GB9809583D0 (en) * | 1998-05-06 | 1998-07-01 | Marconi Gec Ltd | Optical devices |
TW393813B (en) * | 1998-12-03 | 2000-06-11 | Nat Science Council | Adjustable monolithic multi-wavelength laser arrays |
US6421365B1 (en) * | 1999-11-18 | 2002-07-16 | Lambda Physik Ag | Narrow band excimer or molecular fluorine laser having an output coupling interferometer |
US6349106B1 (en) * | 1999-09-02 | 2002-02-19 | Agility Communications, Inc. | Method for converting an optical wavelength using a monolithic wavelength converter assembly |
-
2001
- 2001-05-04 CN CNB01808964XA patent/CN1240167C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2001-05-04 DE DE60135106T patent/DE60135106D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-05-04 WO PCT/US2001/014505 patent/WO2001084682A2/en active Application Filing
- 2001-05-04 US US09/848,791 patent/US6590924B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-05-04 EP EP01933039A patent/EP1281221B8/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-05-04 AU AU2001259503A patent/AU2001259503A1/en not_active Abandoned
- 2001-05-04 AT AT01933039T patent/ATE403248T1/de not_active IP Right Cessation
- 2001-05-04 JP JP2001581391A patent/JP4989834B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2001-05-04 CA CA002405852A patent/CA2405852A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0653591A (ja) * | 1992-08-03 | 1994-02-25 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光周波数変換素子 |
JPH07263817A (ja) * | 1994-01-31 | 1995-10-13 | Telefon Ab L M Ericsson | 半導体レーザとその調整方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017103498A (ja) * | 2011-07-22 | 2017-06-08 | インサイト フォトニック ソリューションズ,インコーポレイテッド | 波長連続及び規定された時間に対する波長掃引をレーザーから動的及び適応的に生成するシステム及び方法 |
JP2013219192A (ja) * | 2012-04-09 | 2013-10-24 | Fujitsu Ltd | 半導体レーザ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA2405852A1 (en) | 2001-11-08 |
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