JP2003530433A - 増殖性障害を治療するための置換スチリルベンジルスルホン - Google Patents
増殖性障害を治療するための置換スチリルベンジルスルホンInfo
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Abstract
Description
る。
細胞の増殖の誘発、分化又はアポプトシスと関係した(デイビス他、J.Bio
l.Chem.268:14553(1993))シグナル変換経路により細胞
中に中継される(ペレク他、Science 257:1335(1992))
。ミトゲン活性化蛋白キナーゼ(MAPK)カスケードは、細胞が細胞外信号を
細胞内応答に変換させる大きなシグナル化システムである(西田他、Trend
s Biochem.Sci.18:128(1993);ブルマー他、Tre
nds Biochem.Sci.19:236(1994))。このカスケー
ドの多くの工程が保存され、MAPキナーゼのための同族体が種々の種で発見さ
れてきた。
−1及びERK−2は、MAPKファミリーのうちのマーチ型の最も研究された
膜であって、全てが上流の二特異性のキナーゼによりトレオニン及びチロシン上
でのホスフォリル化によって活性化されるというユニークな特色を有するもので
ある(ポサダ他、Science 255:212(1992);ビッグスIII
他、Proc.Natl.Acad.Sci.USA 89:6295(199
2);ガーナー他、Genes Dev.6:1280(1992))。
−Jun NH2−末端キナーゼ1及び2(JNK−1及びJNK−2)として
知られるMAPKの更なる亜群が同定された(ヒビ他、Genes Dev.7
:2135(1993))。JNKは、応力活性化蛋白キナーゼ(SPK)の中
の一員である。JNKは、細胞を紫外線、プロ炎症性サイトカイン及び環境応力
で処理することによって活性化されることが示された(デリヤード他、Cell
1025(1994))。活性化されたJNKは、c−Jun蛋白のアミノ末
端に結合し、ser63及びser73でホスフォリル化によって蛋白転写活性
を増大させる(アルダー他、Proc.Natl.Acad.Sci.USA
89:5341(1992);コーク他、Nature 370:223(19
94))。
ことを示す(デイビス、Trends Biochem.Sci.19:470
(1994))。ERKとJNKの双方とも、それらの活性化を生じさせる外部
刺激に応じてThy及びThr上でホスフォリル化される(デイビス他、Tre
nds Biochem.Sci.19:470(1994))。ホスフォリル
化(Thr及びTyr)部位は、それらの活性化に重要な役割を果たすものであ
り、ERKとJNKとの間で維持される(デイビス他、Trends Bioc
hem.Sci.19:470(1994))。しかし、これらのホスフォリル
化部位は、明確な二つのホスフォリル化単位:Thr−Pro−Tyr(JNK
)とThr−Glu−Tyr(ERK)の間に位置している。外部シグナルによ
るMAPK及びJNKのホスフォリル化は、いくつかの成長因子受容体及びその
他のシグナル変換分子を包含する大きいファミリーの蛋白を構成する蛋白チロシ
ンキナーゼ(TPK)の活性化を伴う(ギル他、Nature 358:414
(1992))。
ル化を接触させる酵素である(ハンター他、Annu.Rev.Biochem
.54:897(1985))。特に、受容体チロシンキナーゼは、薬品設計の
ための魅力的な標的である。何故ならば、これらのキナーゼの基質領域のための
遮断剤は有効で選択的な抗増殖剤を生じさせる見込みがあるからである。蛋白チ
ロシンキナーゼ遮断剤の抗増殖剤としての可能性ある使用は、1981年の早い
時期に認識されていて、そのときにケルセチンがPTK遮断剤として示唆された
(ガラジアニ他、Eur.J.Biochem.135:583−589(19
83))。
スケードを構成する細胞外シグナル調節キナーゼである(ブデウジン他、Tre
nds Biochem.Sci.20:18(1995))。この経路が種々
の刺激により一度活性化されると、MAPKが、核中に転位して遺伝子の転写を
活性化させるいくつかの転写因子を包含する蛋白の変種をホスフォリル化させる
。この経路の消極的な調節はこれらの事象のカスケードを阻止できよう。
as/Raf/MEK/ERKキナーゼカスケードを阻止する新規な抗癌化学療
法剤である。一般的には腫瘍蛋白、特にシグナル変換蛋白は、化学療法のための
一層選択的な標的である見込みがある。何故ならば、それらはその活性が細胞増
殖のために必須である蛋白の亜種を表わしており、またそれらの活性が増殖性疾
病において大いに増幅されるからである。 また、必要とされているものは、正常な細胞ではなくて、腫瘍細胞のような増
殖性細胞を殺傷するのに非常に選択的である新規な細胞抗増殖剤、特に抗癌療法
剤である。
及び方法を提供することである。生物学的に活性な化合物はスチリルベンジルス
ルホンの形である。 また、本発明の目的は、正常な細胞ではなくて腫瘍細胞を殺傷するのに選択的
である化合物を提供することである。
C1〜C6アルキル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒド
ロキシル、ホスホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(
C2〜C6アルコキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択され
、このR1、R2、R3、R4及びR5のうちの残りは水素、ハロゲン、C1〜C6ア
ルキル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、
ホスホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6ア
ルコキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択され、 (ii)R6、R7、R8、R9及びR10は水素、ハロゲン、C1〜C6アルキル
、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、ホスホ
ナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6アルコキ
シ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択され、又は (b)(i)R6、R7、R8、R9及びR10のうちの少なくとも3個はハロゲン、
C1〜C6アルキル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒド
ロキシル、ホスホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(
C2〜C6アルコキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択され
、このR6、R7、R8、R9及びR10のうちの残りは水素、ハロゲン、C1〜C6ア
ルキル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、
ホスホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6ア
ルコキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択され、 (ii)R1、R2、R3、R4及びR5は水素、ハロゲン、C1〜C6アルキル
、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、ホスホ
ナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6アルコキ
シ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択される] に相当する新規な化合物又はその製薬上許容できる塩類が提供される。
異性を特徴とする。化合物は、「有機化学における命名法」(ジョンウイリー&
ソンズ社、ニューヨーク、第4版、1992、p.127〜138)におけるカ
ーン・インゴルド・プレログシステム、IUPAC 1974年推奨、セクショ
ンE:立体化学に従って命名する。二重結合の周囲の立体的関係は“Z”又は“
E”として示される。両立体配置は本発明の範囲内に包含される。
も三置換されている。しかして、式Iにおいては、 (i)R1、R2、R3、R4及びR5のうちの少なくとも3個がハロゲン、C1〜
C6アルキル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロキ
シル、ホスホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2
〜C6アルコキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択され、
このR1、R2、R3、R4及びR5のうちの残りが水素、ハロゲン、C1〜C6アル
キル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、ホ
スホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6アル
コキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択され、 (ii)R6、R7、R8、R9及びR10が水素、ハロゲン、C1〜C6アルキル、C1 〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、ホスホナト
、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6アルコキシ)
及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択される。
ゲンにより五置換されてイル。即ち、R1、R2、R3、R4及びR5はハロゲンで
あって、同一であっても異なっていてもよく、R6、R7、R8、R9及びR10は水
素、ハロゲン、C1〜C3アルキル及びC1〜C3アルコキシよりなる群から独立し
て選択される。ある具体例では、R8はハロゲン又はC1〜C6アルコキシである
。
アルコキシであり、R1、R2、R4及びR5の残りは水素である。
とも三置換されている。しかして、式Iにおいて、 (i)R6、R7、R8、R9及びR10のうちの少なくとも3個はハロゲン、C1
〜C6アルキル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロ
キシル、ホスホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2 〜C6アルコキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択され、
このR6、R7、R8、R9及びR10のうちの残りは水素、ハロゲン、C1〜C6アル
キル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、ホ
スホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6アル
コキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択され、 (ii)R1、R2、R3、R4及びR5は水素、ハロゲン、C1〜C6アルキル、C1 〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、ホスホナト
、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6アルコキシ)
及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択される。
ル核はハロゲンにより五置換されており、即ち、R6、R7、R8、R9及びR10は
ハロゲンであって、同一であっても異なっていてもよい。R1、R2、R3、R4及
びR5は水素、ハロゲン、C1〜C6アルキル及びC1〜C6アルコキシよりなる群
から独立して選択される。いくつかのこのような具体例では、R3はハロゲン又
はC1〜C6アルコキシである。
一置換されている。R3はハロゲン、C1〜C6アルキル、C1〜C6アルコキシ、
ニトロ、シアノ、ヒドロキシル、ホスホナト、アミノ、スルファミル、アセトキ
シ、ジメチルアミノ(C2〜C6アルコキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群
から選択され、R1、R2、R4及びR5は水素である。R6、R7、R8、R9及びR10 のうちの少なくとも3個はハロゲン、C1〜C6アルキル、C1〜C6アルコキシ
、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、ホスホナト、アミノ、スルフ
ァミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6アルコキシ)及びトリフルオル
メチルよりなる群から独立して選択され、このR6、R7、R8、R9及びR10のう
ちの残りは水素、ハロゲン、C1〜C6アルキル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、
シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、ホスホナト、アミノ、スルファミル、ア
セトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6アルコキシ)及びトリフルオルメチルより
なる群から独立して選択される。いくつかの具体例では、R3はハロゲンであり
、R6、R7、R8、R9及びR10は好ましくは水素、ハロゲン及びC1〜C6アルコ
キシから選択され、ただしR6、R7、R8、R9及びR10のうちの少なくとも3個
はハロゲン、C1〜C6アルコキシ又はこれらの組合せであるものとする。
、ホスホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6 アルコキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択され、 R6及びR10はC1〜C6アルコキシ、ヒドロキシル、ホスホナト、アミノ、ス
ルファミル、アセトキシ及びジメチルアミノ(C2〜C6アルコキシ)よりなる群
から独立して選択される] を有するか又はその製薬上許容できる塩類である。いくつかの具体例では、R3
及びR8はハロゲン及びC1〜C6アルコキシよりなる群から独立して選択される
。R6及びR10は好ましくはC1〜C6アルコキシ、更に好ましくはC1〜C3アル
コキシである。また、ある具体例では、R3、R6、R8及びR10はC1〜C6アル
コキシ、好ましくはC1〜C3アルコキシである。種々のアルコキシ基は同一であ
っても異なっていてもよい。
〜R5を含有する環系は少なくとも三置換されている。しかして、式(I)にお
いて、 (i)R1、R2、R3、R4及びR5のうちの少なくとも3個はハロゲン、C1〜
C6アルキル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロキ
シル、ホスホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2
〜C6アルコキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択され、
このR1、R2、R3、R4及びR5のうちの残りは水素、ハロゲン、C1〜C6アル
キル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、ホ
スホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6アル
コキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択され、 (ii)R6、R7、R8、R9及びR10は水素、ハロゲン、C1〜C6アルキル、C1 〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、ホスホナト
、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6アルコキシ)
及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択される。
シで三置換されている、即ち、R1、R2、R3、R4及びR5のうちの2個は水素
であり、R1、R2、R3、R4及びR5のうちの3個はC1〜C6アルコキシ、好ま
しくはメトキシである。このような化合物では、スチリル核は、非置換であるか
、又は一置換から五置換されており、好ましくはハロゲンで五置換されている。
〜R10を含有する環系は少なくとも三置換されている。しかして、式(I)にお
いて、 (i)R6、R7、R8、R9及びR10のうちの少なくとも3個はハロゲン、C1
〜C6アルキル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロ
キシル、ホスホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2 〜C6アルコキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択され、
このR6、R7、R8、R9及びR10のうちの残りは水素、ハロゲン、C1〜C6アル
キル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、ホ
スホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6アル
コキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択され、 (ii)R1、R2、R3、R4及びR5は水素、ハロゲン、C1〜C6アルキル、C1 〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、ホスホナト
、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6アルコキシ)
及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択される。
より五置換されている。R6、R7、R8、R9及びR10はハロゲンであって、同一
であっても異なっていてもよいが、好ましくは弗素である。スチリル核が五置換
されているこのような具体例では、R1、R2、R3、R4及びR5は水素、ハロゲ
ン、C1〜C6アルキル及びC1〜C6アルコキシよりなる群から独立して選択され
る。また、このような具体例では、ベンジル核は、C1〜C6アルコキシにより三
置換されている、即ち、R1、R2、R3、R4及びR5のうちの2個は水素であり
、R1、R2、R3、R4及びR5のうちの3個はC1〜C6アルコキシ、好ましくは
メトキシである。このような他の具体例では、ベンジル核は4位置で一置換され
ており、即ち、R1、R2、R4及びR5は水素であり、R3は水素以外のものであ
る。このような一置換の具体例では、R3はC1〜C6アルコキシ、好ましくはメ
トキシ、又はハロゲンである。
4位置で一置換されており、スチリル核は少なくとも三置換され、好ましくはハ
ロゲンにより三置換されている。
ゲンであって、同一であっても異なっていてもよく、R6、R7、R8、R9及びR10 は水素、ハロゲン、C1〜C3アルキル及びC1〜C3アルコキシよりなる群から
独立して選択される。
うな具体例では、化合物はE−立体配置を有する。この化合物は、次式III:
C1〜C6アルキル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒド
ロキシル、ホスホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(
C2〜C6アルコキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択され
、このR1、R2、R3、R4及びR5のうちの残りは水素、ハロゲン、C1〜C6ア
ルキル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、
ホスホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6ア
ルコキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択され、 (ii)R6、R7、R8、R9及びR10は水素、ハロゲン、C1〜C6アルキル、
C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、ホスホナ
ト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6アルコキシ
)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択され、又は (b)(i)R6、R7、R8、R9及びR10のうちの少なくとも3個はハロゲン、
C1〜C6アルキル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒド
ロキシル、ホスホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(
C2〜C6アルコキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択され
、このR6、R7、R8、R9及びR10のうちの残りは水素、ハロゲン、C1〜C6ア
ルキル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、
ホスホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6ア
ルコキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択され、 (ii)R1、R2、R3、R4及びR5は水素、ハロゲン、C1〜C6アルキル、
C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、ホスホナ
ト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6アルコキシ
)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択される。
ール酸ナトリウムを次式:
製造することができる。
RはC1〜C6アルキルである)の化合物を上記の塩化ベンジル化合物と反応させ
て次式II:
相当するベンジルチオ酢酸化合物に添加することにより製造される。
ルスルフィドを酸化させてZ−立体配置を有する式Iの化合物を形成させること
からなる。
なければ、指示した炭素原子数(即ち、C1〜C6は1〜6個の炭素原子を意味す
る)を有し、直鎖又は分岐鎖状の基を含む直鎖又は分岐鎖状の炭化水素基(2個
又は多数の基を含めて)を意味する。最も好ましいのはC1〜C6アルキル、特に
エチル及びメチルである。
に述べてなければ、上で定義した炭素原子数を有し、酸素原子により分子の残部
に結合したアルキル基、例えばメトキシ、エトキシ、1−プロポキシ、2−プロ
ポキシ、これよりも高級の同族体及び異性体を意味する。好ましいのは、C1〜
C3アルコキシ、特にエトキシ及びメトキシである。
−(ここで、nは2〜6である)を意味する。好ましくは、nは2又は3である
。最も好ましくは、nは2,即ちこの基はジメチルアミノエトキシ基:(CH3
)2NCH2CH2O−である。
、炭素鎖は分岐鎖又は直鎖状であってよく、直鎖状が好ましい。好ましくは、ア
ルキル及びアルキル基は、C1〜C3アルキル及びC1〜C3アルコキシ、最も好ま
しくはメチル及びメトキシである。
き換えたことを意味する。 “被検体”とは、動物又は人間を意味する。
ような化合物の製薬上許容できる塩を含有する製薬組成物を提供する。
な化合物の製薬上許容できる塩を単独で又は製薬上許容できるキャリアーと共に
投与することからなる、増殖性疾病、特に癌のために該個体を治療する方法が提
供される。
物又はそのような化合物の製薬上許容できる塩を単独で又は製薬上許容できるキ
ャリアーと共に投与することからなる、該個体における腫瘍細胞の増殖を阻止す
るための方法が提供される。
うな化合物の製薬上許容できる塩を単独で又は製薬上許容できるキャリアーと共
に投与することからなる、該個体において癌細胞、特に腫瘍細胞のアポプトシス
を誘発させる方法が提供される。
物が提供される。この中間体は次式II及びIII:
少なくとも3個はハロゲン、C1〜C6アルキル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、
シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、ホスホナト、アミノ、スルファミル、ア
セトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6アルコキシ)及びトリフルオルメチルより
なる群から独立して選択され、このR1、R2、R3、R4及びR5のうちの残りは
水素、ハロゲン、C1〜C6アルキル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カ
ルボキシル、ヒドロキシル、ホスホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、
ジメチルアミノ(C2〜C6アルコキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から
独立して選択される] の化合物よりなる。
式V:
、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、ホスホナト、アミノ、スルファミル、
アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6アルコキシ)及びトリフルオルメチルよ
りなる群から独立して選択される。ただし、Yが水素であるときは、Xは水素、
4−クロル、4−ブロム、4−フルオル又は4−アルコキシであり得ない] の化合物よりなる。
ときは、Xは4−トリフルオルメチル、4−ニトロ又は4−シアノではあり得ず
、またXが4−クロルであるときは、Yは2−クロル又は3−クロルではあり得
ない。 好ましい具体例によれば、Yが水素であり、Xが4−ヒドロキシ、4−アミノ
及び4−スルファミルよりなる群から選択される式Vの中間体が提供される。
らの製薬上許容できる塩類は、正常な細胞を殺傷させることなく、種々の腫瘍細
胞型を選択的に殺傷させる。 ベンジル又はスチリル芳香族核の少なくとも一つが少なくとも三置換されてい
る。この関係で“置換された”とは、原子又は原子の基が芳香族環炭素原子に結
合した置換基として水素を置き換えたことを意味する。
れている、即ち、R1〜R5のうちの2個のみが水素であり、及び(又は)R6〜
R10のうちの2個のみが水素である。置換基の代表的な組合せを表1に記載する
。
れている、即ち、R1〜R5のうちの1個のみが水素であり、及び(又は)R6〜
R10のうちの1個のみが水素である。置換基の代表的な組合せを表2に記載する
。
おり、好ましくはハロゲンで、最も好ましくは同じハロゲンで五置換されており
、例えば弗素で五置換されている。
式であってよい。例えば、三置換は、例えば2,3及び4位置、2,4及び5位
置、又は2,4及び6位置での置換よりなっていてよい。同様に、四置換の形式
は、例えば2,3,4及び5位置又は2,3,5及び6位置での置換であってよ
い。
は、置換されている、即ち、R3及び(又は)R8は水素以外のものである。好ま
しくは、R3及び(又は)R8はハロゲン又はC1〜C6アルコキシである。
ある。R3はハロゲン、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシル、
ホスホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6ア
ルコキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から選択され、R1、R2、R4及
びR5は水素であり、R6、R7、R8、R9及びR10はハロゲン、C1〜C6アルキ
ル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、ホス
ホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6アルコ
キシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択され、R6、R7、R8 、R9及びR10のうちの少なくとも3個は水素以外のものである。特に好ましい
のは、次式IV:
、ホスホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6 アルコキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択され、 R6及びR10はC1〜C6アルコキシ、ヒドロキシル、ホスホナト、アミノ、ス
ルファミル、アセトキシ及びジメチルアミノ(C2〜C6アルコキシ)よりなる群
から独立して選択される] の化合物及びそれらの製薬上許容できる塩類である。ある具体例では、R3及び
R8はハロゲン及びC1〜C6アルコキシよりなる群から独立して選択される。R6 及びR10は好ましくはC1〜C6アルコキシ、更に好ましくはC1〜C3アルコキシ
である。ある具体例では、R6及びR10はC1〜C6アルコキシ、好ましくはC1〜
C3アルコキシである。ある具体例では、R3、R6、R8及びR10はC1〜C6アル
コキシ、好ましくはC1〜C3アルコキシである。
あり、R1、R2、R4及びR5のうちの2個もC1〜C6アルコキシであり、R1、
R2、R4及びR5の残りは水素である。即ち、ベンジル核はC1〜C6アルコキシ
により三置換されている。R6、R7、R8、R9及びR10は水素、ハロゲン、C1
〜C6アルキル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロ
キシル、ホスホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2 〜C6アルコキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択される
。
例のそれぞれにおいて、アルコキシ基は、好ましくはC1〜C6アルコキシ、最も
好ましくはメトキシである。
ル変換経路に影響し、これにより腫瘍細胞の増殖及び生育能力に影響を及ぼすも
のと思われる。この細胞増殖の抑止は、MAPKのERK及びJNKタイプの調
節と関連している。どんな理論とも結び付けようと欲しないが、本発明のスチリ
ルベンジルスルホンは、ERK−2のホスフォリル化能力を遮断させることがで
きる。
せることが示された。この化合物は、乳房、前立腺、卵巣、肺、結腸直腸、脳(
例えば、グリオーマ)及び腎臓(これらに限定されない)を含めて広範囲の腫瘍
タイプに対して有効であると思われる。また、この化合物は、白血病細胞に対し
ても有効であると思われる。本発明の化合物は、腫瘍細胞が殺傷される濃度にお
いては正常細胞を殺傷させない。
進行性骨髄変性症、神経繊維腫、神経節神経腫、ケロイド形成、新生児のパジェ
ット病、乳房の線維嚢腫、ペロニーズ及びジュパットレンの線維症、再狭窄及び
硬変(これらに限定されない)を含めて非癌性の増殖性疾病の治療に有用である
。
細胞増殖の抑止とアポプトシス性の細胞死の誘発をもたらす。 本発明の化合物により処理された腫瘍細胞は、細胞周期のG2/Mの相で蓄積
する。細胞がG2/Mの相を出るときに、それらはアポプトシスを受けるように
思われる。スチリルベンジルスルホンによる正常細胞の処置はアポプトシスをも
たらさない。
ル酢酸とのクネベナゲル縮合により製造することができる。この手順は、レッデ
ィ他によりActa.Chim.Hung.115:269−71(1984)
に、レッディ他によりSulfur Letters 13:83−90(19
91)に、レッディ他によりSynthesis No.4 322−323(
1984)に、及びレッディ他によりSulfur Letters 7:43
−48(1987)に記載されている。詳しくは、これらを参照されたい。
個の置換基を表わす。チオグリコール酸ナトリウムと塩化ベンジルAとの反応に
よってベンジルチオ酢酸Bが形成される。ベンジルチオ酢酸Bは、次いで30%
過酸化水素により酸化されて相当するベンジルスルホニル酢酸Cを与える。ベン
ジルアミン及び氷酢酸の存在下にクネベナゲル縮合によりベンジルスルホニル酢
酸Cと芳香族アルデヒドDとの縮合で所望の(E)−スチリルベンジルスルホン E を生じる。
めの詳細な二つの部分からなる合成手順である。
溶解してなる溶液にチオグリコール酸(0.1モル)をゆっくりと添加し、生じ
た沈殿をフラスコの内容物の撹拌により溶解させる。次いで、適当に置換された
又は置換されていない塩化ベンジル(0.1モル)を滴下し、反応混合物を2〜
3時間還流させる。冷却した内容物を砕氷上に注ぎ、希塩酸(200ml)で中
和する。生じた相当するベンジルチオ酢酸(0.1モル)を氷酢酸(125ml
)中の30%過酸化水素(0.12モル)により1時間還流させて酸化する。内
容物を冷却し、砕氷上に注ぐ。分離した固形物を熱水から結晶化させて相当する
純ベンジルスルホニル酢酸を得た。
換の芳香族アルデヒド(10ミリモル)及びベンジルアミン(200ml)を氷
酢酸(12ml)中に含む混合物を2〜3時間還流させる。内容物を冷却し、冷
エーテル(50ml)で処理する。沈殿したどんな生成物もろ別する。ろ液を多
量のエーテルで希釈し、重炭酸ナトリウム飽和溶液(20ml)、重亜硫酸ナト
リウム溶液(20ml)、希塩酸(20ml)で順次に、最後に水(35ml)
で洗浄する。乾燥したエーテル層の蒸発によりスチリルベンジルスルホンが固形
物質として生じた。
代わりにチオグリコール酸エステル:HSCH2COOR(ここで、Rはアルキ
ル基、典型的にはC1〜C6アルキルである)を使用して生じさせることができる
。これは、次式:
又は酸加水分解により相当するベンジルチオ酢酸Bに添加される。
る適当なチオールの求核付加、次いで生じたスルフィドの過酸化水素による酸化
により(Z)−スチリルベンジルスルホンを生じさせることにより製造される。
この手順は、レッディ他によりSulfur Letters 13:83−9
0(1991)に一般的に記載されている。詳しくはこれを参照されたい。
プタンから製造された置換又は非置換ベンジルチオール酸ナトリウムを適当に置
換されたフェニルアセチレンと反応させて相当する置換(Z)−スチリルベンジ
ルスルフィドの純Z−異性体を良好な収率で形成させる。合成の第二段階で、置
換(Z)−スチリルベンジルスルフィド中間体は過酸化水素のような酸化剤で処
理することにより純Z−異性体形で相当するスルホンに酸化される。
な二つの部分よりなる合成手順である。出発物質のスチレン及びナトリウムベン
ジルメルカプタンの少なくとも1種は式Iに従う化合物を形成させるためには少
なくとも三置換されていることが認められる。
溶解して撹拌した冷溶液(40℃)に、臭素(0.5モル)をクロロホルム(1
00ml)に溶解してなる溶液を滴下する。添加が完了した後、フラスコの内容
物を更に30分間攪拌する。回転蒸発器でクロロホルムを除去すると1,2−ジ
ブロムアリールエタンの結晶質固体が生じた。
なる溶液を室温(25℃)に冷却し、上記の1,2−ジブロムアリールエタン(
0.33モル)を発熱反応を制御するために少しづつ添加する。添加が完了した
後、反応混合物を6時間加熱還流させる。次いで、内容物を冷却し、水(100
0ml)中に注ぐ。分離された置換又は非置換フェニルアセチレンを蒸留(液体
の場合)か又は再結晶(固体の場合)のいずれかにより精製する。
置換ナトリウムベンジルメルカプタン(0.02モル)及び(iii)80mlの
無水メタノールから製造した置換又は非置換ナトリウムベンジルチオラートの撹
拌したメタノール溶液に、新たに蒸留した置換又は非置換フェニルアセチレンを
添加する。この混合物を20時間還流させ、冷却し、次いで砕氷上に注ぐ。粗生
成物をろ過し、乾燥し、メタノール又は含水メタノールから再結晶して純置換(
Z)−スチリルベンジルスルフィドを生じさせた。
に溶解して冷却した溶液を7.5mlの30%過酸化水素により処理する。反応
混合物を1時間還流させ、砕氷上に注ぐ。分離した固体をろ過し、乾燥し、2−
プロパノールから再結晶して純置換(Z)−スチリルベンジルスルホンを生じさ
せた。化合物の純度をTLCにより確認し、幾何学的立体配置をIR及びNMR
スペクトルデータにより定める。
ルFは新規な中間体であって、本発明の別の側面を構成する。従って、置換ベン
ジルスチリルスルホンの合成に有用な中間体化合物は、次式IIの置換ベンジルチ
オ酢酸及びそのエステル並びに次式IIIの置換ベンジルスルホニル酢酸を包含す
る。
ルキル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、
ホスホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6ア
ルコキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択され、このR1
、R2、R3、R4及びR5のうちの残りは水素、ハロゲン、C1〜C6アルキル、C1 〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、ホスホナト
、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6アルコキシ)
及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択される]
よりなる群から独立して選択され、このR1、R2、R3、R4及びR5のうちの残
りは水素、ハロゲン、C1〜C6アルキル及びC1〜C6アルコキシよりなる群から
独立して選択される。C1〜C3アルキル及びC1〜C3アルコキシが好ましいアル
キル及びアルコキシ置換基であり、メチル及びメトキシが最も好ましい。他の好
ましい具体例によれば、R1、R2、R3、R4及びR5の全部がハロゲン、好まし
くは同じハロゲンであり、或いは全部がC1〜C6アルコキシ、更に好ましくはC1 〜C3アルコキシ、最も好ましくはメトキシである。
、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、ホスホナト、アミノ、スルファミル、
アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6アルコキシ)及びトリフルオルメチルよ
りなる群から独立して選択される。ただし、Yが水素であるときは、Xは水素、
4−クロル、4−ブロム、4−フルオル又は4−アルコキシであり得ない] の化合物よりなる。
ときは、Xは4−トリフルオルメチル、4−ニトロ又は4−シアノではあり得ず
、またXが4−クロルであるときは、Yは2−クロル又は3−クロルではあり得
ない。 好ましい具体例によれば、Yが水素であり、Xが4−ヒドロキシ、4−アミノ
及び4−スルファミルよりなる群から選択される式Vに従う中間体が提供される
。
定せず)。 2,4−ジクロルベンジルチオ酢酸、69−71℃ 2,4−ジクロルベンジルスルホニル酢酸、178−180℃ 4−ヨードベンジルチオ酢酸、79−81℃ 4−ヨードベンジルスルホニル酢酸、193−196℃ 2−メトキシベンジルチオ酢酸、液体 2−メトキシベンジルスルホニル酢酸、液体 2,4−ジメトキシベンジルチオ酢酸、ND 2,4−ジメトキシベンジルスルホニル酢酸、ND 4−シアノベンジルチオ酢酸、80−82℃ 4−シアノベンジルスルホニル酢酸、211−213℃ 4−トリフルオルメチルベンジルチオ酢酸、ND 4−トリフルオルメチルベンジルスルホニル酢酸、162−164℃ 2,3,4−トリメトキシベンジルチオ酢酸、液体 2,3,4−トリメトキシベンジルスルホニル酢酸、140−144℃ 3,4,5−トリメトキシベンジルチオ酢酸、ND 3,4,5−トリメトキシベンジルスルホニル酢酸、165−167℃ 2,4,6−トリメトキシベンジルチオ酢酸、ND 2,4,6−トリメトキシベンジルスルホニル酢酸、ND 2−ニトロ−4,5−ジメトキシベンジルチオ酢酸、ND 2−ニトロ−4,5−ジメトキシベンジルスルホニル酢酸、137−140℃ 3,5−ジメトキシベンジルチオ酢酸、液体 3,5−ジメトキシベンジルスルホニル酢酸、液体 2−メトキシ−5−ニトロベンジルチオ酢酸、液体 2−メトキシ−5−ニトロベンジルスルホニル酢酸、158−160℃ 4−ヒドロキシベンジルチオ酢酸、ND 4−ヒドロキシベンジルスルホニル酢酸、ND 1,2,3,4,5−ペンタフルオルベンジルチオ酢酸、68−70℃ 1,2,3,4,5−ペンタフルオルベンジルスルホニル酢酸、108−11
0℃
の化合物は、1個以上のキラル中心を有し得る。“単離された”とは、同じ式の
相当する光学異性体から実質的に精製された化合物を意味する。好ましくは、単
離された異性体は、重量で少なくとも約80%純粋であり、更に好ましくは少な
くとも90%純粋であり、もっと更に好ましくは少なくとも98%純粋であり、
最も好ましくは少なくとも約99%純粋である。本発明は、ジアステレオマー並
びにそれらのラセミ形及び分割されたエナンチオマーとして純粋な形及びそれら
の製薬上許容できる塩類を包含するものとする。単離された光学異性体は、周知
のキラル分離技術によってラセミ混合物から精製することができる。このような
方法の一つによれば、式Iの構造を有する化合物のラセミ混合物又はそのキラル
中間体は、適当なキラルカラム、例えば、DAICEL CHIRALPAK形
カラムのシリーズの一員(ダイセル化学工業、東京)を使用するHPLCによっ
て重量%で99%純粋な光学異性体に分離される。このカラムは生産者の指示に
従って操作する。
を増大させる目的でキャリアー分子への接合を可能にするため化学基によって誘
導体化することができる。好適な誘導体化用化学薬品は、当業者に周知である。
好ましくは、誘導体は好ましくはカルボン酸誘導体よりなる。キャリアーは、適
当な宿主動物に免疫応答を発生できるようにするのに十分に大きい任意の分子よ
りなることができる。このような好ましいキャリアーの一つはカサガイ(key
hole limpet)のヘモシアニン(KLH)である。
許容できる塩”とは、アルカリ金属塩を形成させ及び遊離酸又は遊離塩基の付加
塩を形成させるのに通常使用される塩類を包含する。塩類の種類は、それが製薬
上許容できる限りでは、重要ではない。好適な製薬上許容できる酸付加塩は、無
機酸又は有機酸から製造することができる。この無機酸の例は、塩酸、臭化水素
酸、沃化水素酸、硝酸、炭酸、硫酸及び燐酸である。適当な有機酸は、脂肪族、
シクロ脂肪族、芳香族、芳香族脂肪族、複素環式のカルボン酸及びスルホン酸の
部類の有機酸から選択することができる。それらの例は、ぎ酸、酢酸、プロピオ
ン酸、こはく酸、グリコール酸、グルコン酸、乳酸、りんご酸、酒石酸、くえん
酸、アスコルビン酸、グルクロン酸、マレイン酸、フマル酸、ピルビン酸、アス
パラギン酸、グルタミン酸、安息香酸、アントラニル酸、メシル酸、サリチル酸
、4−ヒドロキシ安息香酸、フェニル酢酸、マンデル酸、エンボン酸(パモ酸)
、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、パントテン酸、
2−ヒドロキシエタンスルホン酸、トルエンスルホン酸、スルファニル酸、シク
ロヘキシルアミノスルホン酸、ステアリン酸、アルゲン酸、β−ヒドロキシ酪酸
、サリチル酸、ガラクタル酸及びガラクツロン酸から選択される。式Iの化合物
の好適な製薬上許容できる塩類には、カルシウム、リチウム、マグネシウム、カ
リウム、ナトリウム及び亜鉛から作られた金属塩又はN,N’−ジベンジルエチ
レンヂアミン、クロルプロカイン、コリン、ジエタノルアミン、エチレンジアミ
ン、メグルミン(N−メチルグルカミン)及びプロカインである。これらの塩の
全ては、式Iの相当する化合物から、例えば、適当な酸又は塩基を式Iの化合物
と反応させることによって製造することができる。
することができる。このような処方物中の活性成分は、0.1〜99.99重量
%であってよい。“製薬上許容できるキャリアー”とは、処方物のその他の成分
と相溶性でありかつ受容者に有害でない任意のキャリアー、希釈剤又は賦形剤を
意味する。
投与することができる。
る増殖性疾病の治療に有用である。このような疾病は、細胞が身体によって不規
則に高められた速度で作られる“細胞増殖性”又は“高増殖性”のものとしても
知られよう。このような障害には、新生児の血管腫症、二次進行性多発性硬化症
、慢性進行性骨髄変性症、神経繊維腫、神経節神経腫、ケロイド形成、新生児の
パジェット病、乳房の線維嚢腫、ペロニーズ及びジュパットレンの線維症、再狭
窄及び硬変があるが、これらに限定されない。
できる。非経口投与には、例えば、静脈内、筋内、動脈内、腹腔内、鼻内、直腸
、膣内、嚢内(例えば、膀胱)、皮内、局所又は皮下投与が包含される。また、
本発明の範囲内で、患者の体内に、薬物を制御された処方物で、薬物の全身的な
又は局部的な放出をその後に起こるようにさせる滴注が意図される。例えば、薬
物は、循環系への制御された放出のため又は腫瘍の増殖局部への放出のための貯
蔵所に局在化することができる。
することができる。このような処方物中の活性成分は、0.1〜99.99重量
%であってよい。“製薬上許容できるキャリアー”とは、処方物のその他の成分
と相溶性でありかつ受容者に有害でない任意のキャリアー、希釈剤又は賦形剤を
意味する。
いて選定された製薬上許容できるキャリアーと共に投与される。活性剤は、製薬
の分野での標準的な実施に従う投薬形態で処方することができる。アルホンソ・
ジェンナロ編「レミントンの製薬科学18版(1990)」(マックパブリッシ
ング、イーストン、PA)を参照されたい。好適な投薬形態は、例えば、錠剤、
カプセル、溶液、非経口用溶液、トローチ、坐薬又は懸濁液よりなる。
溶液、デキストロース(グルコース)及び関連糖類の水溶液、グリセリン、又は
プロピレングリコール若しくはポリエチレングリコールのようなグリコールの如
き好適なキャリアー又は希釈剤と混合することができる。非経口投与用の溶液は
、好ましくは、活性剤の水溶性塩を含有する。安定剤、酸化防止剤及び保存剤も
添加することができる。好適な酸化防止剤には、亜流酸塩、アスコルビン酸、く
えん酸及びその塩類、更にナトリウムEDTAが含まれる。好適な保存剤には、
塩化ベンザルコニウム、メチルパラバン又はプロピルパラバン、クロルブタノー
ルが含まれる。非経口投与用の組成物は、水性又は非水性の溶液、分散液、懸濁
液又はエマルジョンの形態をとることができる。
他の好適な経口用投薬形態の製造のため1種以上の不活性成分と混合することが
できる。例えば、活性剤は、充填剤、バインダー、湿潤剤、崩壊剤、溶解遅延剤
、吸収促進剤、湿潤剤、吸収剤又は滑剤のような少なくとも1種の賦形剤と混合
することができる。錠剤の具体例によれば、活性剤は、カルボキシメチルセルロ
ースカルシウム、ステアリン酸マグネシウム、マンニット及びでんぷんと混合し
、次いで慣用の錠剤化方法により錠剤に賦形することができる。
長、体重及び性別、疾病の種類及び状態、疾病の攻撃性及び投与経路を含めて個
々の患者の特別の環境により決定される。例えば、約0.05〜約50mg/k
g/日の薬量を利用できる。これよりも多く又は少ない量も意図される。
ではない。(E)−立体配置の各化合物のため、置換ベンジルスルホニル酢酸は
、上記の一般的手順1、A部:(E)−スチリルベンジルスルホンの合成に従っ
て製造した。スチリルベンジルスルホン化合物のいくつかは2−プロパノールか
ら再結晶し、純度を薄層クロマトグラフィーにより検査した。(Z)−スチリル
ベンジルスルホンのそれぞれは、上記の一般的手順2:(Z)−スチリルベンジ
ルスルホンの合成に従って製造される。簡潔にするために、それぞれの実施例で
は主要な反応体のみをリストするが、これらの主要な反応体は一般的手順におい
て記載したような先駆物質から製造し、次いで一般的手順において記載したよう
な条件下で結合されたことを理解されたい。
スルホン 4−フルオルベンジルスルホニル酢酸(10ミリモル)とペンタフルオルベン
ズアルデヒド(10ミリモル)との溶液を一般的手順、B部の操作に付した。標
記化合物(融点133〜136℃)を80%の収率で得た。
ルホン 4−クロルベンジルスルホニル酢酸(10ミリモル)とペンタフルオルベンズ
アルデヒド(10ミリモル)との溶液を一般的手順、B部の操作に付した。標記
化合物(融点147〜148℃)を82%の収率で得た。
ルホン 4−ブロムベンジルスルホニル酢酸(10ミリモル)とペンタフルオルベンズ
アルデヒド(10ミリモル)との溶液を一般的手順、B部の操作に付した。標記
化合物(融点163〜164℃)を85%の収率で得た。
スルホン ペンタフルオルベンジルスルホニル酢酸(10ミリモル)と4−フルオルベン
ズアルデヒド(10ミリモル)との溶液を一般的手順、B部の操作に付した。標
記化合物(融点133〜136℃)を78%の収率で得た。
ルホン ペンタフルオルベンジルスルホニル酢酸(10ミリモル)と4−クロルベンズ
アルデヒド(10ミリモル)との溶液を一般的手順、B部の操作に付した。標記
化合物(融点154〜155℃)を80%の収率で得た。
ルホン ペンタフルオルベンジルスルホニル酢酸(10ミリモル)と4−ブロムベンズ
アルデヒド(10ミリモル)との溶液を一般的手順、B部の操作に付した。標記
化合物(融点176〜177℃)を92%の収率で得た。
ジルスルホン 3,4−ジクロルベンジルスルホニル酢酸(10ミリモル)とペンタフルオル
ベンズアルデヒド(10ミリモル)との溶液を一般的手順、B部の操作に付した
。標記化合物(融点171〜173℃)を84%の収率で得た。
ペンタフルオルベンジルスルホン ペンタフルオルベンジルスルホニル酢酸(10ミリモル)とペンタフルオルベ
ンズアルデヒド(10ミリモル)との溶液を一般的手順、B部の操作に付した。
標記化合物(融点137〜139℃)を84%の収率で得た。
ルホン 4−ヨードベンジルスルホニル酢酸(10ミリモル)とペンタフルオルベンズ
アルデヒド(10ミリモル)との溶液を一般的手順、B部の操作に付した。標記
化合物(融点178〜181℃)を51%の収率で得た。
ルホン 4−フルオルベンジルスルホニル酢酸(10ミリモル)と2−ヒドロキシ−3
,5−ジニトロベンズアルデヒド(10ミリモル)との溶液を一般的手順、B部
の操作に付した。標記化合物(融点211〜212℃)を54%の収率で得た。
ホン 4−ブロムベンジルスルホニル酢酸(10ミリモル)と2−ヒドロキシ−3,
5−ジニトロベンズアルデヒド(10ミリモル)との溶液を一般的手順、B部の
操作に付した。標記化合物(融点207〜209℃)を52%の収率で得た。
ホン 4−クロルベンジルスルホニル酢酸(10ミリモル)と2−ヒドロキシ−3,
5−ジニトロベンズアルデヒド(10ミリモル)との溶液を一般的手順、B部の
操作に付した。標記化合物(融点204〜205℃)を51%の収率で得た。
ルスルホン 2,4−クロルベンジルスルホニル酢酸(10ミリモル)と2−ヒドロキシ−
3,5−ジニトロベンズアルデヒド(10ミリモル)との溶液を一般的手順、B
部の操作に付した。標記化合物(融点212〜213℃)を56%の収率で得た
。
トキシベンズアルデヒド(10ミリモル)との溶液を一般的手順、B部の操作に
付した。標記化合物(融点142〜144℃)を52%の収率で得た。
ホン 4−メトキシベンジルスルホニル酢酸(10ミリモル)と3−メチル−2,4
−ジメトキシベンズアルデヒド(10ミリモル)との溶液を一般的手順、B部の
操作に付した。標記化合物(融点160〜161℃)を52%の収率で得た。
トキシベンズアルデヒド(10ミリモル)との溶液を一般的手順、B部の操作に
付した。標記化合物(融点138〜140℃)を54%の収率で得た。
ベンジルスルホン 2−ニトロ−4,5−ジメトキシベンジルスルホニル酢酸(10ミリモル)と
3,4,5−トリメトキシベンズアルデヒド(10ミリモル)との溶液を一般的
手順、B部の操作に付した。標記化合物を得た。
ベンジルスルホン 2−ニトロ−4,5−ジメトキシベンジルスルホニル酢酸(10ミリモル)と
2,4,6−トリメトキシベンズアルデヒド(10ミリモル)との溶液を一般的
手順、B部の操作に付した。標記化合物を得た。
トキシベンジルスルホン 2−ニトロ−4,5−ジメトキシベンジルスルホニル酢酸(10ミリモル)と
3−メチル−2,4−ジメトキシベンズアルデヒド(10ミリモル)との溶液を
一般的手順、B部の操作に付した。標記化合物を得た。
ルオルベンズアルデヒド(10ミリモル)との溶液を一般的手順、B部の操作に
付した。標記化合物(融点128〜129℃)を72%の収率で得た。
オルベンズアルデヒド(10ミリモル)との溶液を一般的手順、B部の操作に付
した。標記化合物(融点141〜142℃)を78%の収率で得た。
スルホン 4−メトキシベンジルスルホニル酢酸(10ミリモル)と2,6−ジメトキシ
−4−ヒドロキシベンズアルデヒド(10ミリモル)との溶液を一般的手順、B
部の操作に付した。標記化合物(融点134〜136℃)を58%の収率で得た
。
ホン 4−メトキシベンジルスルホニル酢酸(10ミリモル)と2,3,5,6−テ
トラフルオルベンズアルデヒド(10ミリモル)との溶液を一般的手順、B部の
操作に付した。標記化合物(融点154〜156℃)を56%の収率で得た。
トキシベンズアルデヒド(10ミリモル)との溶液を一般的手順、B部の操作に
付した。標記化合物(融点146〜148℃)を66%の収率で得た。
トキシベンズアルデヒド(10ミリモル)との溶液を一般的手順、B部の操作に
付した。標記化合物(融点154〜156℃)を52%の収率で得た。
ンジルスルホン 4−メトキシベンジルスルホニル酢酸(10ミリモル)と3−ニトロ−4−ヒ
ドロキシ−5−メトキシベンズアルデヒド(10ミリモル)との溶液を一般的手
順、B部の操作に付した。標記化合物(融点203〜205℃)を56%の収率
で得た。
ホン 4−メトキシベンジルスルホニル酢酸(10ミリモル)と3,4−ジメトキシ
−6−ニトロベンズアルデヒド(10ミリモル)との溶液を一般的手順、B部の
操作に付した。標記化合物(融点139〜141℃)を54%の収率で得た。
ホン 4−メトキシベンジルスルホニル酢酸(10ミリモル)と3,4−ジメトキシ
−5−ヨードベンズアルデヒド(10ミリモル)との溶液を一般的手順、B部の
操作に付した。標記化合物(融点160〜161℃)を58%の収率で得た。
ルホン 4−メトキシベンジルスルホニル酢酸(10ミリモル)と2,6−ジメトキシ
−4−フルオルベンズアルデヒド(10ミリモル)との溶液を一般的手順、B部
の操作に付した。標記化合物(融点146〜148℃)を55%の収率で得た。
スルホン 4−メトキシベンジルスルホニル酢酸(10ミリモル)と2−ヒドロキシ−4
,6−ジメトキシベンズアルデヒド(10ミリモル)との溶液を一般的手順、B
部の操作に付した。標記化合物を得た。
チルベンズアルデヒド(10ミリモル)との溶液を一般的手順、B部の操作に付
した。標記化合物(融点97〜99℃)を51%の収率で得た。
キシベンズアルデヒド(10ミリモル)との溶液を一般的手順、B部の操作に付
した。標記化合物(融点181〜183℃)を54%の収率で得た。
ホン 4−クロルベンジルスルホニル酢酸(10ミリモル)と2,6−ジメトキシ−
4−フルオルベンズアルデヒド(10ミリモル)との溶液を一般的手順、B部の
操作に付した。標記化合物(融点119〜121℃)を55%の収率で得た。
ルホン 4−クロルベンジルスルホニル酢酸(10ミリモル)と2−ヒドロキシ−4,
,6−ジメトキシベンズアルデヒド(10ミリモル)との溶液を一般的手順、B
部の操作に付した。標記化合物を得た。
キシベンズアルデヒド(10ミリモル)との溶液を一般的手順、B部の操作に付
した。標記化合物(融点178〜181℃)を54%の収率で得た。
ホン 4−ブロムベンジルスルホニル酢酸(10ミリモル)と2,6−ジメトキシ−
4−フルオルベンズアルデヒド(10ミリモル)との溶液を一般的手順、B部の
操作に付した。標記化合物(融点116〜118℃)を58%の収率で得た。
ルスルホン 2,3,4−トリメトキシベンジルスルホニル酢酸(10ミリモル)と2,4
,6−トリメトキシベンズアルデヒド(10ミリモル)との溶液を一般的手順、
B部の操作に付した。標記化合物(融点94〜96℃)を52%の収率で得た。
ホン 2,3,4−トリメトキシベンジルスルホニル酢酸(10ミリモル)と2,6
−ジメトキシベンズアルデヒド(10ミリモル)との溶液を一般的手順、B部の
操作に付した。標記化合物(融点110〜112℃)を54%の収率で得た。
ルスルホン 3,4,5−トリメトキシベンジルスルホニル酢酸(10ミリモル)と2,4
,6−トリメトキシベンズアルデヒド(10ミリモル)との溶液を一般的手順、
B部の操作に付した。標記化合物(融点151〜153℃)を54%の収率で得
た。
ホン 3,4,5−トリメトキシベンジルスルホニル酢酸(10ミリモル)と2,6
−ジメトキシベンズアルデヒド(10ミリモル)との溶液を一般的手順、B部の
操作に付した。標記化合物(融点146〜149℃)を53%の収率で得た。
ルオルベンズアルデヒド(10ミリモル)との溶液を一般的手順、B部の操作に
付した。標記化合物(融点96〜99℃)を68%の収率で得た。
ベンジルメルカプタン(0.02モル)及び金属ナトリウム(0.02g原子)
の溶液を一般的手順2の操作に付して(Z)−2,4,6−トリフルオルスチリ
ル−4−メチルベンジルスルフィドを形成させる。このスルフィドを一般的手順
2に従って酸化した後、標記化合物を得た。
ルカプタン(0.02モル)及び金属ナトリウム(0.02g原子)の溶液を一
般的手順2の操作に付して(Z)−ペンタフルオルスチリル−4−クロルベンジ
ルスルフィドを形成させる。このスルフィドを一般的手順2に従って酸化した後
、標記化合物を得た。
メルカプタン(0.02モル)及び金属ナトリウム(0.02g原子)の溶液を
一般的手順2の操作に付して(Z)−ペンタフルオルスチリル−4−メトキシベ
ンジルスルフィドを形成させる。このスルフィドを一般的手順2に従って酸化し
た後、標記化合物を得た。
キシベンジルメルカプタン(0.02モル)及び金属ナトリウム(0.02g原
子)の溶液を一般的手順2の操作に付して(Z)−ペンタフルオルスチリル−2
,3,4−トリメトキシベンジルスルフィドを形成させる。このスルフィドを一
般的手順2に従って酸化した後、標記化合物を得た。
キシベンジルメルカプタン(0.02モル)及び金属ナトリウム(0.02g原
子)の溶液を一般的手順2の操作に付して(Z)−ペンタフルオルスチリル−3
,4,5−トリメトキシベンジルスルフィドを形成させる。このスルフィドを一
般的手順2に従って酸化した後、標記化合物を得た。
キシベンジルメルカプタン(0.02モル)及び金属ナトリウム(0.02g原
子)の溶液を一般的手順2の操作に付して(Z)−ペンタフルオルスチリル−2
,4,6−トリメトキシベンジルスルフィドを形成させる。このスルフィドを一
般的手順2に従って酸化した後、標記化合物を得た。
ンジルスルホン 3−メトキシ−4−アセトキシフェニルアセチレン(0.02モル)、2,4
,5−トリメトキシベンジルメルカプタン(0.02モル)及び金属ナトリウム
(0.02g原子)の溶液を一般的手順2の操作に付して(Z)−3−メトキシ
−4−アセトキシスチリル−2,4,5−トリメトキシベンジルスルフィドを形
成させる。このスルフィドを一般的手順2に従って酸化した後、標記化合物を得
た。
ルホン 3,4−ジヒドロキシフェニルアセチレン(0.02モル)、2,4,6−ト
リメトキシベンジルメルカプタン(0.02モル)及び金属ナトリウム(0.0
2g原子)の溶液を一般的手順2の操作に付して(Z)−3,4−ジヒドロキシ
スチリル−2,4,6−トリメトキシベンジルスルフィドを形成させる。このス
ルフィドを一般的手順2に従って酸化した後、標記化合物を得た。
ベンジルメルカプタン(0.02モル)及び金属ナトリウム(0.02g原子)
の溶液を一般的手順2の操作に付して(Z)−2,4,6−トリフルオルスチリ
ル−4−ニトロベンジルスルフィドを形成させる。このスルフィドを一般的手順
2に従って酸化した後、標記化合物を得た。
キシベンジルメルカプタン(0.02モル)及び金属ナトリウム(0.02g原
子)の溶液を一般的手順2の操作に付して(Z)−2−ヒドロキシスチリル−2
,4,6−トリメトキシベンジルスルフィドを形成させる。このスルフィドを一
般的手順2に従って酸化した後、標記化合物を得た。
キシベンジルメルカプタン(0.02モル)及び金属ナトリウム(0.02g原
子)の溶液を一般的手順2の操作に付して(Z)−2−ホスホナトスチリル−2
,3,4−トリメトキシベンジルスルフィドを形成させる。このスルフィドを一
般的手順2に従って酸化した後、標記化合物を得た。
キシベンジルメルカプタン(0.02モル)及び金属ナトリウム(0.02g原
子)の溶液を一般的手順の操作に付して(Z)−4−ホスホナトスチリル−2,
4,6−トリメトキシベンジルスルフィドを形成させる。このスルフィドを一般
的手順に従って酸化した後、標記化合物を得た。
A.細胞 正常な線維芽細胞並びに前立腺、結腸、肺及び乳房由来の腫瘍細胞に対する(
E)−スチリルベンジルスルホンの効果を、下記の細胞系統:前立腺腫瘍細胞系
統DU−145、結腸直腸癌細胞系統DLD−1、非小細胞肺癌細胞系統H15
7及び乳房腫瘍細胞系統BT−20を利用して検査した。BT−20はエストロ
ゲンに感受性がない細胞系統である。NIH/3T3及びHFLはそれぞれ正常
なネズミ及びヒトの線維芽細胞である。BT−20、DLD−1及びH157を
、ペニシリン及びストレプトマイシンを補給した10%胎生ウシ血清を含有する
ダルベッコの変性イーグル培地(DMEM)中で増殖させた。DU−145は、
ペニシリン及びストレプトマイシンを含有する10%胎生ウシ血清を含有するR
PMI中で培養した。NIH/3T3及びHFL細胞は、ペニシリン及びストレ
プトマイシンを補給した10%子ウシ血清を含有するDMEM中で増殖させた。
全ての細胞培養物を5%のCO2の吸湿雰囲気中で37℃に保持した。
後にトリパンブルー排除法により検査した。それぞれの被検化合物(例1〜16
、20、21、23〜29、31〜33及び35〜40)は処理細胞の少なくと
も5〜10%において、全ての腫瘍細胞系統に対して細胞死を誘発させる活性を
示した。 正常細胞のHFL及びNIH/3T3を同じ化合物により同じ濃度及び時間条
件で処理した。正常細胞は5%の増殖抑止率を示したが、感知されるほどの細胞
死を示さなかった。
チリルベンジルスルホンの効果を、ラザム他、Oncogene 12:827
−837(1996)に記載された検定法により決定することができる。正常な
二倍体肺ヒト線維芽細胞(HFL−1)又は腫瘍細胞(例えば、前立腺、結腸直
腸、乳房、グリア、膵臓、卵巣又は白血病)を6個のウエルの試験皿において、
35mm2のウエル当たり1.0×105個の細胞密度で平板培養する。平板培養
された細胞を、24時間後に、ジメチルスルホキシド(DMSO)に溶解した種
々の濃度のスチリルベンジルスルホンにより処理する。生きている細胞の総数を
、96時間後にウエルをトリプシン処理し、血球計を使用するトリパンブルー排
除法により決定して生育性細胞数を計数することによって決定する。正常なHF
Lを同じ化合物により同じ濃度及び時間条件で処理する。
発明は、その精神又は必須の属性から離れることなくその他の特別の形で具体化
できよう。従って、本発明の範囲を示すものとしては、上記の説明よりはむしろ
請求の範囲を参照するべきである。
Claims (69)
- 【請求項1】 次式I: 【化1】 [ここで、 (a)(i)R1、R2、R3、R4及びR5のうちの少なくとも3個はハロゲン、
C1〜C6アルキル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒド
ロキシル、ホスホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(
C2〜C6アルコキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択され
、このR1、R2、R3、R4及びR5のうちの残りは水素、ハロゲン、C1〜C6ア
ルキル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、
ホスホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6ア
ルコキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択され、 (ii)R6、R7、R8、R9及びR10は水素、ハロゲン、C1〜C6アルキル、
C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、ホスホナ
ト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6アルコキシ
)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択され、又は (b)(i)R6、R7、R8、R9及びR10のうちの少なくとも3個はハロゲン、
C1〜C6アルキル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒド
ロキシル、ホスホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(
C2〜C6アルコキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択され
、このR6、R7、R8、R9及びR10のうちの残りは水素、ハロゲン、C1〜C6ア
ルキル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、
ホスホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6ア
ルコキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択され、 (ii)R1、R2、R3、R4及びR5は水素、ハロゲン、C1〜C6アルキル、
C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、ホスホナ
ト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6アルコキシ
)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択される] の化合物又はその製薬上許容できる塩類。 - 【請求項2】 E−立体配置を有する請求項1に記載の化合物又はその製薬
上許容できる塩類。 - 【請求項3】 (i)R1、R2、R3、R4及びR5のうちの少なくとも3個
がハロゲン、C1〜C6アルキル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボ
キシル、ヒドロキシル、ホスホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメ
チルアミノ(C2〜C6アルコキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立
して選択され、このR1、R2、R3、R4及びR5のうちの残りが水素、ハロゲン
、C1〜C6アルキル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒ
ドロキシル、ホスホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ
(C2〜C6アルコキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択さ
れ、 (ii)R6、R7、R8、R9及びR10が水素、ハロゲン、C1〜C6アルキル、C1 〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、ホスホナト
、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6アルコキシ)
及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択される 請求項2に記載の化合物又はその製薬上許容できる塩類。 - 【請求項4】 R1、R2、R3、R4及びR5がハロゲンであって、同一であ
っても異なっていてもよく、R6、R7、R8、R9及びR10が水素、ハロゲン、C1 〜C3アルキル及びC1〜C3アルコキシよりなる群から独立して選択される請求
項3に記載の化合物。 - 【請求項5】 R8がハロゲン又はC1〜C3アルコキシである請求項4に記
載の化合物。 - 【請求項6】 (E)−4−フルオルスチリル−2,3,4,5,6−ペン
タフルオルベンジルスルホンである請求項5に記載の化合物。 - 【請求項7】 (E)−4−クロルルスチリル−2,3,4,5,6−ペン
タフルオルベンジルスルホンである請求項5に記載の化合物。 - 【請求項8】 (E)−4−ブロムスチリル−2,3,4,5,6−ペンタ
フルオルベンジルスルホンである請求項5に記載の化合物。 - 【請求項9】 (E)−2,3,4,5,6−ペンタフルオルスチリル−2
,3,4,5,6−ペンタフルオルベンジルスルホンである請求項5に記載の化
合物。 - 【請求項10】 R3がC1〜C6アルコキシであり、R1、R2、R4及びR5
のうちの少なくとも2個がC1〜C6アルコキシであり、R1、R2、R4及びR5の
残りが水素である請求項3に記載の化合物。 - 【請求項11】 (i)R6、R7、R8、R9及びR10のうちの少なくとも3
個がハロゲン、C1〜C6アルキル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カル
ボキシル、ヒドロキシル、ホスホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジ
メチルアミノ(C2〜C6アルコキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独
立して選択され、このR6、R7、R8、R9及びR10のうちの残りが水素、ハロゲ
ン、C1〜C6アルキル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、
ヒドロキシル、ホスホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミ
ノ(C2〜C6アルコキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択
され、 (ii)R1、R2、R3、R4及びR5が水素、ハロゲン、C1〜C6アルキル、C1 〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、ホスホナト
、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6アルコキシ)
及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択される 請求項2に記載の化合物又はその製薬上許容できる塩類。 - 【請求項12】 (E)−2,3,4−トリフルオルスチリル−4−フルオ
ルベンジルスルホンである請求項11に記載の化合物。 - 【請求項13】 (E)−2,3,4−トリフルオルスチリル−4−クロル
ベンジルスルホンである請求項11に記載の化合物。 - 【請求項14】 R6、R7、R8、R9及びR10がハロゲンであって、同一で
あっても異なっていてもよく、R1、R2、R3、R4及びR5が水素、ハロゲン、
C1〜C6アルキル及びC1〜C6アルコキシよりなる群から独立して選択される請
求項11に記載の化合物。 - 【請求項15】 R3がハロゲン又はC1〜C3アルコキシである請求項14
に記載の化合物。 - 【請求項16】 (E)−2,3,4,5,6−ペンタフルオルスチリル−
4−フルオルベンジルスルホンである請求項15に記載の化合物。 - 【請求項17】 (E)−2,3,4,5,6−ペンタフルオルスチリル−
4−クロルベンジルスルホンである請求項15に記載の化合物。 - 【請求項18】 (E)−2,3,4,5,6−ペンタフルオルスチリル−
4−ブロムベンジルスルホンである請求項15に記載の化合物。 - 【請求項19】 (E)−2,3,4,5,6−ペンタフルオルスチリル−
3,4−ジクロルベンジルスルホンである請求項15に記載の化合物。 - 【請求項20】 (E)−2,3,4,5,6−ペンタフルオルスチリル−
4−ヨードベンジルスルホンである請求項15に記載の化合物。 - 【請求項21】 R3がハロゲン、ニトロ、シアノ、C1〜C6アルキル、C1 〜C6アルコキシ、カルボキシル、ヒドロキシル、ホスホナト、アミノ、スルフ
ァミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6アルコキシ)及びトリフルオル
メチルよりなる群から選択され、R1、R2、R4及びR5が水素である請求項11
に記載の化合物又はその製薬上許容できる塩類。 - 【請求項22】 (E)−3,4−ジメトキシ−6−ニトロスチリル−4−
メトキシベンジルスルホンである請求項21に記載の化合物。 - 【請求項23】 次式IV: 【化2】 [ここで、 R3及びR8はハロゲン、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、ヒドロキシル
、ホスホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6 アルコキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択され、 R6及びR10はC1〜C6アルコキシ、ヒドロキシル、ホスホナト、アミノ、ス
ルファミル、アセトキシ及びジメチルアミノ(C2〜C6アルコキシ)よりなる群
から独立して選択される] の化合物である請求項21に記載の化合物又はその製薬上許容できる塩類。 - 【請求項24】 (E)−2−ヒドロキシ−4,6−ジメトキシスチリル−
4−メトキシベンジルスルホンである請求項23に記載の化合物又はその製薬上
許容できる塩類。 - 【請求項25】 (E)−2−ヒドロキシ−4,6−ジメトキシスチリル−
4−クロルベンジルスルホンである請求項23に記載の化合物又はその製薬上許
容できる塩類。 - 【請求項26】 R6及びR10がC1〜C6アルコキシである請求項23に記
載の化合物。 - 【請求項27】 (E)−2,6−ジメトキシ−4−ヒドロキシスチリル−
4−メトキシベンジルスルホンである請求項26に記載の化合物又はその製薬上
許容できる塩類。 - 【請求項28】 R3及びR8がハロゲン及びC1〜C6アルコキシよりなる群
から独立して選択される請求項23に記載の化合物。 - 【請求項29】 (E)−2,6−ジメトキシ−4−フルオルスチリル−4
−メトキシベンジルスルホンである請求項28に記載の化合物。 - 【請求項30】 (E)−2,4,6−トリメトキシスチリル−4−クロル
ベンジルスルホンである請求項28に記載の化合物。 - 【請求項31】 (E)−2,6−ジメトキシ−4−フルオルスチリル−4
−クロルベンジルスルホンである請求項28に記載の化合物。 - 【請求項32】 (E)−2,4,6−トリメトキシスチリル−4−ブロム
ベンジルスルホンである請求項28に記載の化合物。 - 【請求項33】 (E)−2,6−ジメトキシ−4−フルオルスチリル−4
−ブロムベンジルスルホンである請求項28に記載の化合物。 - 【請求項34】 R3及びR8がC1〜C6アルコキシであって、同一であって
も異なっていてもよい請求項28に記載の化合物。 - 【請求項35】 2,4,6−トリメトキシスチリル−4−メトキシベンジ
ルスルホンである請求項34に記載の化合物。 - 【請求項36】 R3がハロゲンであり、R1、R2、R4及びR5が水素であ
り、R6、R7、R8、R9及びR10が水素、ハロゲン、C1〜C6アルキル、C1〜
C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル及びトリフルオ
ルメチルよりなる群から独立して選択される請求項11に記載の化合物。 - 【請求項37】 R6、R7、R8、R9及びR10が水素、ハロゲン及びC1〜
C6アルコキシよりなる群から選択される請求項36に記載の化合物又はその製
薬上許容できる塩類。 - 【請求項38】 R6、R7、R8、R9及びR10のうちの少なくとも2個がC1 〜C6アルコキシから選択される請求項37に記載の化合物又はその製薬上許容
できる塩類。 - 【請求項39】 C1〜C6アルコキシ基がメトキシである請求項38に記載
の化合物又はその製薬上許容できる塩類。 - 【請求項40】 Z−立体配置を有する請求項1に記載の化合物又はその製
薬上許容できる塩類。 - 【請求項41】 (i)R1、R2、R3、R4及びR5のうちの少なくとも3
個がハロゲン、C1〜C6アルキル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カル
ボキシル、ヒドロキシル、ホスホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジ
メチルアミノ(C2〜C6アルコキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独
立して選択され、このR1、R2、R3、R4及びR5のうちの残りが水素、ハロゲ
ン、C1〜C6アルキル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、
ヒドロキシル、ホスホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミ
ノ(C2〜C6アルコキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択
され、 (ii)R6、R7、R8、R9及びR10が水素、ハロゲン、C1〜C6アルキル、C1 〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、ホスホナト
、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6アルコキシ)
及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択される 請求項40に記載の化合物又はその製薬上許容できる塩類。 - 【請求項42】 R1、R2、R3、R4及びR5がハロゲンであり、R6、R7
、R8、R9及びR10が水素、ハロゲン、C1〜C3アルキル及びC1〜C3アルコキ
シよりなる群から独立して選択される請求項41に記載の化合物。 - 【請求項43】 R1、R2、R3、R4及びR5のうちの2個が水素であり、
R1、R2、R3、R4及びR5のうちの3個がC1〜C6アルコキシである請求項4
1に記載の化合物。 - 【請求項44】 R6、R7、R8、R9及びR10がハロゲンである請求項43
に記載の化合物。 - 【請求項45】 (i)R6、R7、R8、R9及びR10のうちの少なくとも3
個がハロゲン、C1〜C6アルキル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カル
ボキシル、ヒドロキシル、ホスホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジ
メチルアミノ(C2〜C6アルコキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独
立して選択され、このR6、R7、R8、R9及びR10のうちの残りが水素、ハロゲ
ン、C1〜C6アルキル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、
ヒドロキシル、ホスホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミ
ノ(C2〜C6アルコキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択
され、 (ii)R1、R2、R3、R4及びR5が水素、ハロゲン、C1〜C6アルキル、C1 〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、ホスホナト
、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6アルコキシ)
及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択される 請求項40に記載の化合物又はその製薬上許容できる塩類。 - 【請求項46】 R6、R7、R8、R9及びR10がハロゲンであって、同一で
あっても異なっていてもよい請求項45に記載の化合物又はその製薬上許容でき
る塩類。 - 【請求項47】 R1、R2、R3、R4及びR5が水素、ハロゲン、C1〜C3
アルキル及びC1〜C3アルコキシよりなる群から独立して選択される請求項46
に記載の化合物。 - 【請求項48】 R1、R2、R3、R4及びR5のうちの2個が水素であり、
R1、R2、R3、R4及びR5のうちの3個がC1〜C6アルコキシである請求項4
7に記載の化合物。 - 【請求項49】 R1、R2、R4及びR5が水素であり、R3が水素以外のも
のある請求項47に記載の化合物。 - 【請求項50】 R3がC1〜C6アルコキシ又はハロゲンである請求項49
に記載の化合物。 - 【請求項51】 製薬上許容できるキャリアーと請求項1に記載の化合物又
はその製薬上許容できる塩類を含む製薬組成物。 - 【請求項52】 個体に有効量の請求項1に記載の化合物又はその製薬上許
容できる塩を投与することからなる、増殖性疾病のために該個体を治療する方法
。 - 【請求項53】 増殖性疾病が新生児の血管腫症、二次進行性多発性硬化症
、慢性進行性骨髄変性症、神経繊維腫、神経節神経腫、ケロイド形成、新生児の
パジェット病、乳房の線維嚢腫、ペロニーズ及びジュパットレンの線維症、再狭
窄及び硬変である請求項52に記載の方法。 - 【請求項54】 増殖性疾病が癌である請求項53に記載の方法。
- 【請求項55】 癌が卵巣、乳房、前立腺、肺、腎臓、結腸直腸及び脳の癌
から選択され又は癌が白血病である請求項54に記載の方法。 - 【請求項56】 癌に悩まされた個体に有効量の請求項1に記載の化合物又
はその製薬上許容できる塩を投与することからなる該個体における腫瘍細胞のア
ポプトシスを誘発させる方法。 - 【請求項57】 腫瘍細胞が卵巣、乳房、前立腺、肺、結腸直腸、脳及び腎
臓の腫瘍細胞から選択される請求項56に記載の方法。 - 【請求項58】 次式II: 【化3】 [ここで、 RはH又はC1〜C6アルキルであり、 R1、R2、R3、R4及びR5のうちの少なくとも3個はハロゲン、C1〜C6ア
ルキル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、
ホスホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6ア
ルコキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択され、このR1
、R2、R3、R4及びR5のうちの残りは水素、ハロゲン、C1〜C6アルキル、C1 〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、ホスホナト
、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6アルコキシ)
及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択される] の化合物。 - 【請求項59】 R1、R2、R3、R4及びR5のうちの少なくとも3個がハ
ロゲン、C1〜C6アルキル及びC1〜C6アルコキシよりなる群から独立して選択
され、このR1、R2、R3、R4及びR5のうちの残りが水素、ハロゲン、C1〜C6 アルキル及びC1〜C6アルコキシよりなる群から独立して選択される請求項5
8に記載の化合物。 - 【請求項60】 次式III: 【化4】 [ここで、 R1、R2、R3、R4及びR5のうちの少なくとも3個はハロゲン、C1〜C6ア
ルキル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、
ホスホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6ア
ルコキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択され、このR1
、R2、R3、R4及びR5のうちの残りは水素、ハロゲン、C1〜C6アルキル、C1 〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、ホスホナト
、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6アルコキシ)
及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択される] の化合物。 - 【請求項61】 R1、R2、R3、R4及びR5のうちの少なくとも3個がハ
ロゲン、C1〜C6アルキル及びC1〜C6アルコキシよりなる群から独立して選択
され、このR1、R2、R3、R4及びR5のうちの残りが水素、ハロゲン、C1〜C6 アルキル及びC1〜C6アルコキシよりなる群から独立して選択される請求項6
0に記載の化合物。 - 【請求項62】 次式V: 【化5】 [ここで、 Qは次式 【化6】 (ここで、RはH又はC1〜C6アルキルである) の基であり、 X及びYは水素、ハロゲン、C1〜C6アルキル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ
、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、ホスホナト、アミノ、スルファミル、
アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6アルコキシ)及びトリフルオルメチルよ
りなる群から独立して選択される。ただし、Yが水素であるときは、Xは水素、
4−クロル、4−ブロム、4−フルオル又は4−アルコキシであり得ない] の化合物。 - 【請求項63】 Yが水素であるときは、Yは4−トリフルオルメチル、4
−ニトロ又は4−シアノであり得ず、またXが4−クロルであるときは、Yは2
−クロル又は3−クロルであり得ない請求項62に記載の化合物。 - 【請求項64】 Yが水素であり、Xが4−ヒドロキシ、4−アミノ及び4
−スルファミルよりなる群から選択される請求項63に記載の化合物。 - 【請求項65】 請求項2に記載の化合物を製造するにあたり、次式III: 【化7】 の化合物を次式VI: 【化8】 の化合物と縮合させることからなる請求項2に記載の化合物の製造方法: [上記の式において、 (a)(i)R1、R2、R3、R4及びR5のうちの少なくとも3個はハロゲン、
C1〜C6アルキル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒド
ロキシル、ホスホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(
C2〜C6アルコキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択され
、このR1、R2、R3、R4及びR5のうちの残りは水素、ハロゲン、C1〜C6ア
ルキル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、
ホスホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6ア
ルコキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択され、 (ii)R6、R7、R8、R9及びR10は水素、ハロゲン、C1〜C6アルキル、
C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、ホスホナ
ト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6アルコキシ
)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択され、又は (b)(i)R6、R7、R8、R9及びR10のうちの少なくとも3個はハロゲン、
C1〜C6アルキル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒド
ロキシル、ホスホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(
C2〜C6アルコキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択され
、このR6、R7、R8、R9及びR10のうちの残りは水素、ハロゲン、C1〜C6ア
ルキル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、
ホスホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6ア
ルコキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択され、 (ii)R1、R2、R3、R4及びR5は水素、ハロゲン、C1〜C6アルキル、
C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、ホスホナ
ト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6アルコキシ
)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択される]。 - 【請求項66】 式IIIの化合物が、グリコール酸ナトリウムを次式: 【化9】 の化合物と反応させて次式: 【化10】 のベンジルチオ酢酸化合物を形成し、次いでこの化合物を酸化することにより製
造される請求項65に記載の方法。 - 【請求項67】 ベンジルチオ酢酸化合物が、式:HSCH2COOR(こ
こで、RはC1〜C6アルキルである)の化合物を次式: 【化11】 の化合物と反応させて次式II: 【化12】 (ここで、RはC1〜C6アルキルである) の化合物を形成し、次いで式IIの化合物を加水分解することにより製造される請
求項65に記載の方法。 - 【請求項68】 請求項40に記載の化合物を製造するにあたり、次式: 【化13】 の化合物を次式: 【化14】 の化合物と反応させて次式Ia: 【化15】 の化合物を形成し、次いで式Iaの化合物を酸化することからなる請求項40に
記載の化合物の製造方法: [上記の式において、 (a)(i)R1、R2、R3、R4及びR5のうちの少なくとも3個はハロゲン、
C1〜C6アルキル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒド
ロキシル、ホスホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(
C2〜C6アルコキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択され
、このR1、R2、R3、R4及びR5のうちの残りは水素、ハロゲン、C1〜C6ア
ルキル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、
ホスホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6ア
ルコキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択され、 (ii)R6、R7、R8、R9及びR10は水素、ハロゲン、C1〜C6アルキル、
C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、ホスホナ
ト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6アルコキシ
)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択され、又は (b)(i)R6、R7、R8、R9及びR10のうちの少なくとも3個はハロゲン、
C1〜C6アルキル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒド
ロキシル、ホスホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(
C2〜C6アルコキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択され
、このR6、R7、R8、R9及びR10のうちの残りは水素、ハロゲン、C1〜C6ア
ルキル、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、
ホスホナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6ア
ルコキシ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択され、 (ii)R1、R2、R3、R4及びR5は水素、ハロゲン、C1〜C6アルキル
、C1〜C6アルコキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシル、ヒドロキシル、ホスホ
ナト、アミノ、スルファミル、アセトキシ、ジメチルアミノ(C2〜C6アルコキ
シ)及びトリフルオルメチルよりなる群から独立して選択される]。 - 【請求項69】 請求項1に記載の化合物の単離された光学異性体又はその
製薬上許容できる塩類。
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