JP2003527211A - ガス殺菌の制御方法 - Google Patents

ガス殺菌の制御方法

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JP2003527211A JP2001568476A JP2001568476A JP2003527211A JP 2003527211 A JP2003527211 A JP 2003527211A JP 2001568476 A JP2001568476 A JP 2001568476A JP 2001568476 A JP2001568476 A JP 2001568476A JP 2003527211 A JP2003527211 A JP 2003527211A
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Abstract

(57)【要約】 本開示は、密閉可能な容器を殺菌する方法であって、最初に容器内の相対湿度を雰囲気よりも実質的に低いレベルに調整するステップと、キャリアガスを雰囲気より高温で容器に循環させるステップと、ガスを実質的に飽和させるのに十分な殺菌剤蒸気を循環しているキャリアガスに供給するステップを備える方法に関する。容器内が冷めると、殺菌剤蒸気の凝縮液が容器内の表面上に形成されて、それが測定される一方で、必要な量の凝縮液が前記表面上に形成されるまでガス/蒸気を循環させつづける。ガスに殺菌剤蒸気を供給するのを終了する一方で、飽和したガス/蒸気を循環させつづけることにより容器表面上の凝縮液を所定の時間のあいだ維持する。最後に殺菌剤蒸気をチャンバから抜き取る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 (技術分野) 本発明は、ガスによる表面殺菌を制御する方法に関する。その殺菌効果は、ガ
スが表面上に凝縮することに起因する。
【0002】 (背景技術) 医薬品およびヘルスケアの業界において、チャンバの壁面およびそのチャンバ
の中身の両方に対して表面殺菌を施すことが求められる状況が非常に多い。その
ような状況は、最終的に殺菌することができない医薬製品をガラス瓶またはその
他の入れ物に無菌状態で詰めたり、予め殺菌した製品を入れている袋の外装から
汚染を除去したり、医療機器または器具を表面殺菌したりすることが求められる
ような場合であろう。
【0003】 そのような表面殺菌は、ガスによる技術を用いて行われることが最も一般的で
ある。そのようにすれば、確実にガスが表面のすべての部分に行き渡るようにす
ることが出来るからである。そのようなガスによる表面殺菌プロセスのうちのす
べてではないにしても、そのほとんどが、存在する水蒸気レベルだけでなく活性
ガスの濃度にも左右される。ポートナーら(Dorothy M Portner et al)(参考
文献I)によれば、過酢酸蒸気は、相対湿度(RH)80%では効果があり、相
対湿度(RH)20%では効果がない。また、ホルマリン蒸気は相対湿度が高い
ほどより効果的であるということがラック(Lack)(参考文献II)によって報
告されており、オゾンおよび酸化エチレンについても同様の主張がなされている
【0004】 水溶液から発生する過酸化水素ガスは、一般に30重量%(w/w)であり、
医薬品業界において好ましいガス殺菌剤とされている。このように選ばれる理由
は、殺胞子性であり、時間がかからず、残留物を残さないことに加えて、持続性
がないからである。欧州特許第0486623号(EP0486623B1)において示さ
れたような一般的な理解としては、それは乾式のガスプロセスであるとともに蒸
気の凝縮は避けるべきであるということである。
【0005】 ウォトリングら(Watling et al)(参考文献III)によれば、急速な表面
殺菌は、殺菌される表面上に細かい層が微細に凝縮するのを促進することによっ
て最適に達成される。マルコス(M. A. Marcos)(参考文献IV)は、欧州特許
第0486923号(EP0486923B1)において示されたように操作される場合に
ガス状の過酸化水素による殺菌において凝縮を避けることは不可能であると述べ
ている。
【0006】 表面殺菌を確実にするために従来から行われている測定は、ガス濃度、温度、
湿度、および時間である。混合ガスの水蒸気含有量およびガス濃度を測定しよう
とする試みは為されてきているが、その結果は概して疑わしい。これは、主に、
水分を含むガスが約100℃の高温で発生して、続いて殺菌が行われることにな
っているチャンバを通過するのにつれて冷めるのを妨げられないからであると考
えられる。この冷却プロセスの間を通じて、蒸気は飽和状態になり、液滴が形成
されるのは必至である。従って、器具類は湿ったガスにさらされており、特別な
装備が施されない限り、気相濃度を測定することはおそらく不可能であろう。過
酸化水素と水の混合物の飽和蒸気圧は、スキャチャードら(Scatchard et al)
(参考文献V)により示された活量係数に基づいて算出することが可能である。
室温における水と過酸化水素について算出された飽和濃度は、殺菌されることに
なっているチャンバに通常供給されるガス濃度と比べるとかなり低く、このため
表面凝縮は不可避となる。
【0007】 また、過酸化水素水溶液が殺胞子性であり、その最低評価('D' value)は濃
度と温度に左右されるということが、スワートリングら(Swartling et al)(
参考文献VI)によって繰り返し言われている。もし凝縮が殺菌作用の主な要因
であれば、そのプロセスは、スワートリングが水溶液について明らかにしたのと
同様の結果を伴う湿式のプロセスとして扱われるべきである。
【0008】 我々は、時間を凝縮の開始から計るという条件で、殺菌されるチャンバの温度
を上げると最低評価は減少して、温度を下げるとその反対の効果があるというこ
とを自らの実験研究から明らかにした。温度に伴う最低評価の変化は、スワート
リングによる報告と極めて類似している。
【0009】 上述から、ほとんどのガスによる殺菌プロセスの間を通じて制御されるべきで
あるのはガス濃度ではないということが理解されるであろう。すべての議論は過
酸化水素ガスを用いた実験研究に基づいているが、水蒸気がプロセスの最も重要
な部分であるその他のガスについても同様の議論が当てはまるということは当然
であると考えられる。
【0010】 (発明の開示) 本発明は、密閉可能な容器を殺菌する方法であって、最初に容器内の相対湿度
を雰囲気よりも実質的に低いレベルに調整するステップと、キャリアガスを雰囲
気より高温で容器に循環させるステップと、ガスを実質的に飽和させるのに十分
な殺菌剤蒸気を循環しているキャリアガスに供給するステップを備える方法によ
って、容器内が冷めると、殺菌剤蒸気の凝縮液が容器内の表面上に形成されて、
ガス/蒸気を容器にくまなく行き渡らせて、確実に殺菌剤蒸気の凝縮液が容器の
すべての表面上に形成されるようにして、容器の表面上に形成された凝縮液の量
を測定して、必要な量の凝縮液が前記表面上に形成されるまでガス/蒸気を循環
させつづけて、ガスに殺菌剤蒸気を供給するのを終了する一方で、飽和したガス
/蒸気を循環させつづけることにより容器表面上の凝縮液を所定の時間のあいだ
維持して、最後に殺菌剤蒸気をチャンバから抜き取ることを特徴とする方法を提
供する。
【0011】 このように、ガスによる表面殺菌は3段階プロセスである。第1の段階におい
ては、チャンバを、ひいてはチャンバ内の表面を所定の湿度になるように調整す
る。これにより、確実に、表面上のどんな生物体であっても乾燥するようにして
凝縮のための核が形成されるようにする。
【0012】 第2の段階においては、活性ガスおよび水蒸気をチャンバに流し込むことによ
り表面上に凝縮層を形成する。この凝縮層を十分な時間のあいだ維持することに
より必要なレベルまで微生物を失活させるはずである。
【0013】 最終段階においては、チャンバから活性ガスを安全なレベルまで除去する。
【0014】 殺菌サイクルの各段階の制御は、適切な器具類およびタイマを適正に使用する
ことにより行うことが可能である。
【0015】 第1の段階においては減湿が行われるが、チャンバ内の空気を適正な相対湿度
に保ち、殺菌されるチャンバ内のすべての表面を確実に安定した状態にすること
が求められる。実験研究から、最速の殺菌サイクルは、相対湿度が減湿段階の間
を通じて40%に達する場合に実現されるということが明らかになっている。相
対湿度が高いほど、微生物が乾燥しないだけでなく、凝縮があってもすでに対象
物を取り囲んでいる水分によって希釈されるということを意味する。相対湿度が
低いほど、より大量の殺菌剤が凝縮に至るためには必要となるので、このガス処
理段階は延長される。また、チャンバによっては、表面が平衡状態になることを
妨げないように相対湿度を40%レベルに保つことが必要な場合もあるというこ
とが明らかになっている。
【0016】 殺菌プロセスのうちガス処理段階は3つの部分に分かれており、第1の部分に
おいては、ガス濃度を凝縮が起きるレベルまで引き上げる。これが達成されると
、ガス処理は適正なレベルの凝縮が施されるまで継続すべきである。微生物を失
活させるプロセスは時間に左右されるものであり、従って、必要とされるレベル
の凝縮を一定の時間のあいだ維持しなければならない。時間の長さは、殺される
べき微生物の種類および温度に左右される。
【0017】 失活時間は、通常、所定のやり方で示されたどんな特定の微生物についてであ
っても確定される。この時間が一定の温度について明らかになると、スワートリ
ング(参考文献VI)の研究に基づいて関数が生成されて、他のどんな温度であ
っても有効な失活時間を設定することが可能となる。ガス処理段階のうち、この
失活時間の間を通じて、凝縮のレベルが維持されることが不可欠である。温度上
昇のため、または漏れを補うために新鮮できれいな空気がシステムに取り込まれ
るため、表面から蒸発が生じることがある。従って、凝縮モニタからの出力をガ
ス発生器と結びつけて必要なレベルの凝縮を維持するようにすることが不可欠で
ある。
【0018】 失活のための時間を含むガス処理段階の終了時に、活性ガスをチャンバから取
り除くことが必要である。これは、ガスを失活システムに循環させて活性ガスを
取り除くことにより、または、チャンバ内のガスを含む空気を外部の供給源から
の新鮮できれいな空気と置き換えることにより行われることが可能である。当然
のことながら、これらの方法を組み合わせて用いることも可能である。重要な要
素は、活性ガス濃度を安全なレベルまで低下させることであり、過酸化水素につ
いて、これは一般に1ppmまで許容される。可能なかぎり早くにチャンバを利
用することが可能となるように、低濃度の活性ガスを正確に測定するガスセンサ
が求められる。
【0019】 主たる関心事は、常に、ガス処理殺菌サイクルが有効であることを確実にする
ことであるが、可能なかぎり短時間でこれを達成することも重要である。
【0020】 ガスが表面から脱着するのに時間がかかるので、一般に、最も長時間の段階は
、どんなガスによる殺菌サイクルであっても、空気混和(aeration)段階である
。従って、活性ガスの吸着は時間とともに増加して、より大量のガスを吸着すれ
ばそれだけ完全な空気混和を施すためにかかる時間はより長くなるので、可能な
かぎり短時間で殺菌を完了することを確実にすることが重要である。
【0021】 凝縮についての限界パラメータ(critical parameter)を用いて殺菌を正確に
制御することによる二次的な利点は時間である。
【0022】 凝縮についての限界パラメータは、関連づけられた時間と温度の作用に応じて
制御されているので、殺菌状態はパラメータにより確保されており、パラメータ
による制御が用いられているので、結果として、ガス処理段階を最適化して活性
ガスを表面にさらす時間を最短にすることが可能となっている。このように短時
間さらすことにより、吸着を最低限にするとともに、これにより空気混和を短縮
して可能なかぎり短時間かつ信頼できるサイクルとすることにつながる。従って
、このようなタイプの制御を用いることにより、可能なかぎり短時間で殺菌が達
成される。
【0023】 (発明を実施するための最良の形態) 以下に、容器(enclosure)を殺菌するための装置を示す添付の説明図を参照
して、本発明の具体的な実施の形態を説明する。
【0024】 殺菌ガスを発生するための装置は、制御装置にとって極めて重要というわけで
はないが、発生装置は、チャンバへのガスの質量流量を正確に制御することが可
能でなければならない。また、減湿段階の間を通じてチャンバに供給される空気
の湿度を制御することが可能でなければならないばかりでなく、空気流中の活性
ガスの濃度が制御システムの要求に応じて調節可能でなければならない。
【0025】 さらに、チャンバから流出する際にガスを失活する方法を備えることも必要で
ある。好適なガス発生器が、英国特許出願公告第2354443号において説明
されている。発生器により供給されているガス濃度を制御するための好適な方法
は、我々の英国特許出願第0006825.4号において説明されている。
【0026】 密閉されたチャンバ10は、パイプ11およびパイプ12によりガス発生器に
流体を介して接続されている。発生器は、再循環タイプであってもよいし、フロ
ースルー(Flow Through)システムであってもよいし、またはその両方のタイプ
の組み合わせであってもよい。発生器は、いくつかの制御機能を有する制御シス
テム13を含む。これには、通常、+200パスカル(Pa)から−200パス
カル(Pa)の範囲内に、密閉されたチャンバ内の圧力を制御するための圧力制
御システム14が含まれる。また、制御システム13は、チャンバに供給される
ガス流量の制御部15とともに、相対湿度の制御部16、および活性ガス濃度の
制御部17を含む。これらの機能はすべて、制御システム13によって調整され
ている。
【0027】 殺菌サイクルの開始に際して、発生器が空気をチャンバ10に通過させるとと
もに、温度・RHモニタ18が相対湿度を測定する。制御システム13が温度・
RHモニタからの出力信号を用いて減湿装置16を作動させることにより、セン
サにおいて必要とされるレベルの湿度に達するようにする。
【0028】 上述した装置は、特に、我々の英国特許出願第9922364.6号において
説明および図示した容器殺菌装置での使用に適している。
【0029】 適正なレベルの湿度に達すると、コントローラは、このレベルを必要とされる
所定の時間間隔のあいだ減湿器(16)の働きにより維持する。
【0030】 減湿持続時間が終了すると、コントローラは、そのサイクルのガス処理段階を
開始させる。この段階の間を通じて高濃度ガスセンサ20の出力を記録すること
により、確実に、適正な飽和蒸気レベルに達するようにする。高濃度ガスセンサ
は、低濃度ガスセンサ21に対して直列に設けられている。密閉されたチャンバ
10内で飽和に達すると、凝縮が生じ始めるとともに凝縮モニタ22によって測
定される。凝縮モニタは、我々の英国特許出願第0006822.1号に開示し
たような光学装置であってもよいし、表面における電気固有抵抗を割り出すこと
により表面上の凝縮を検知するという装置であってもよい。必要とされるレベル
の凝縮が達成されると、制御システム13は、ガス蒸発器への液体の流入を減少
または停止させることにより、必要とされる時間のあいだ凝縮を維持するように
する。凝縮を持続させる一時停止時間は温度に左右される。すなわち、温度が低
くなると殺菌プロセスの有効性が低減されるため、より長い一時停止時間が必要
となる。時間と温度の関係は、スワートリング(参考文献VI)によって明確に
されており、制御システムにプログラムとして書き込まれる。
【0031】 凝縮一時停止時間の終わりに達すると、コントローラは、蒸発器に液体を流入
させるのを止めて、新鮮できれいな空気を供給する。これを減湿して密閉路に流
すようにしてもよい。この新鮮できれいな空気は、密閉されたチャンバ10内の
ガス濃度を低減させるとともに表面凝縮を取り除く。残留濃縮ガスがチャンバか
ら流出する様子は、高濃度ガスセンサ20および低濃度ガスセンサ21によって
モニタされている。許容レベルに達すると、制御システムはサイクルの完了を表
示する。
【0032】参考文献 I. Dorothy M. Portner et al. Sporicidal effect of peracetic acid vapo
ur. Applied Micro. Nov 1968 Vol 16 No 11 p1728-1785 II. Lack. A study of conventional formaldehyde fumigation methods. J
. App. Bact 1990, 68, 000-000 III. Watling et al. The implications of the physical properties of
mixtures of hydrogen peroxide and water on the sterilisation process. IS
PE conference Zurich Sept 1998. IV. M-A Marcos et al. Pharmaceutical Technology Europe Vol8 No2 Feb
99 (24-332) V. Scratchard et al. J. Am. Chem. Soc., 74, 3715, 1952 VI. Swartling et al. The sterlising effect against bacillus subtilis
of hydrogen peroxide at different temperatures and concentrations. J Da
iry Res. (1968), 35, 423.
【手続補正書】特許協力条約第34条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成14年3月26日(2002.3.26)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0002
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0002】 (背景技術) 欧州特許第0774263号は、過酸化水素蒸気による殺菌のための方法およ び装置を開示する。チャンバを殺菌するために、ガスをチャンバに循環させて、 さらに、チャンバに接続された減湿器に循環させる。ガスの湿度はモニタされて おり、湿度が十分に低い場合には過酸化水素が循環しているガスにガス中の過酸 化水素の循環が適当になるまで投入される。過酸化水素は、そのレベル以上を適 当な時間のあいだ維持する。追加の過酸化水素をガスに加えることによりそのレ ベルを維持するようにしてもよい。その後で、例えば、過酸化水素を水と酸素に 分離する金属触媒の上を通過させることにより、過酸化水素をガスから取り除く 。ガス中の過酸化水素レベルを測定するために、センサを通過させる前に、過酸 化水素を含むガスを既知の比率で希釈するようにしてもよい。 米国特許第4898713号は、容器を殺菌するプロセスおよび換気・濾過循 環路を備えた容器でそのプロセスを行う装置を開示する。容器は隔離されており 、内部の相対湿度レベルは、乾燥カートリッジを内蔵する組立部品により低減さ れる。続いて、殺菌剤が閉ざされた循環路に露点に近い相対湿度レベルに達する まで投入される。殺菌剤は、所定の接触時間のあいだ容器内に保持されて、その 後、換気・濾過循環路によって取り除かれる。 医薬品およびヘルスケアの業界において、チャンバの壁面およびそのチャンバ
の中身の両方に対して表面殺菌を施すことが求められる状況が非常に多い。その
ような状況は、最終的に殺菌することができない医薬製品をガラス瓶またはその
他の入れ物に無菌状態で詰めたり、予め殺菌した製品を入れている袋の外装から
汚染を除去したり、医療機器または器具を表面殺菌したりすることが求められる
ような場合であろう。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0003
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0003】 そのような表面殺菌は、ガスによる技術を用いて行われることが最も一般的で
ある。そのようにすれば、確実にガスが表面のすべての部分に行き渡るようにす
ることが出来るからである。そのようなガスによる表面殺菌プロセスのうちのす
べてではないにしても、そのほとんどが、存在する水蒸気レベルだけでなく活性
ガスの濃度にも左右される。ポートナーら(Dorothy M Portner et al)(後述
する参考文献I)によれば、過酢酸蒸気は、相対湿度(RH)80%では効果が
あり、相対湿度(RH)20%では効果がない。また、ホルマリン蒸気は相対湿
度が高いほどより効果的であるということがラック(Lack)(後述する参考文献 II )によって報告されており、オゾンおよび酸化エチレンについても同様の主
張がなされている。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0005
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0005】 ワットリングら(Watling et al)(後述する参考文献III)によれば、急
速な表面殺菌は、殺菌される表面上に細かい層が微細に凝縮するのを促進するこ
とによって最適に達成される。マルコス(M. A. Marcos)(後述する参考文献I )は、欧州特許第0486923号(EP0486923B1)において示されたように
操作される場合にガス状の過酸化水素による殺菌において凝縮を避けることは不
可能であると述べている。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE,TR),OA(BF ,BJ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW, ML,MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,G M,KE,LS,MW,MZ,SD,SL,SZ,TZ ,UG,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ, MD,RU,TJ,TM),AE,AG,AL,AM, AT,AU,AZ,BA,BB,BG,BR,BY,B Z,CA,CH,CN,CO,CR,CU,CZ,DE ,DK,DM,DZ,EE,ES,FI,GB,GD, GE,GH,GM,HR,HU,ID,IL,IN,I S,JP,KE,KG,KP,KR,KZ,LC,LK ,LR,LS,LT,LU,LV,MA,MD,MG, MK,MN,MW,MX,MZ,NO,NZ,PL,P T,RO,RU,SD,SE,SG,SI,SK,SL ,TJ,TM,TR,TT,TZ,UA,UG,US, UZ,VN,YU,ZA,ZW Fターム(参考) 4C058 AA12 BB04 CC02 CC04 DD03 DD05

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 密閉可能な容器を殺菌する方法であって、 最初に容器内の相対湿度を雰囲気よりも実質的に低いレベルに調整するステッ
    プと、 キャリアガスを雰囲気より高温で容器に循環させるステップと、 ガスを実質的に飽和させるのに十分な殺菌剤蒸気を循環しているキャリアガス
    に供給するステップと、 を備える方法によって、 容器内が冷めると、殺菌剤蒸気の凝縮液が容器内の表面上に形成されて、 ガス/蒸気を容器にくまなく行き渡らせて、確実に殺菌剤蒸気の凝縮液が容器
    のすべての表面上に形成されるようにして、 容器の表面上に形成された凝縮液の量を測定して、 必要な量の凝縮液が前記表面上に形成されるまでガス/蒸気を循環させつづけ
    て、 ガスに殺菌剤蒸気を供給するのを終了する一方で、飽和したガス/蒸気を循環
    させつづけることにより容器表面上の凝縮液を所定の時間のあいだ維持して、 最後に殺菌剤蒸気をチャンバから抜き取ることを特徴とする方法。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の方法であって、容器の相対湿度がおよそ3
    0%から40%に調整されることを特徴とする方法。
  3. 【請求項3】 請求項1または請求項2に記載の方法であって、殺菌剤蒸気
    が過酸化水素蒸気および水蒸気を含むことを特徴とする方法。
  4. 【請求項4】 先行する請求項のいずれかに記載の方法であって、飽和した
    ガス/蒸気を循環させる前記所定の時間の後で、ガス/蒸気は殺菌剤蒸気をその
    成分に分解する触媒の上を循環させられるとともに、水蒸気は循環しているガス
    から取り除かれて、乾燥したガスはすべての殺菌剤が容器から抜き取られるまで
    容器を循環させられることを特徴とする方法。
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Cited By (12)

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