JP2003525118A - ゼオライトzsm−48ベースの触媒及びパラフィン仕込物の流動点の改善方法 - Google Patents

ゼオライトzsm−48ベースの触媒及びパラフィン仕込物の流動点の改善方法

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JP2003525118A JP2001563229A JP2001563229A JP2003525118A JP 2003525118 A JP2003525118 A JP 2003525118A JP 2001563229 A JP2001563229 A JP 2001563229A JP 2001563229 A JP2001563229 A JP 2001563229A JP 2003525118 A JP2003525118 A JP 2003525118A
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ジョルジュ ナタリ マルシャル
ヨハン マルタン
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、ゼオライトZSM−48ベースの新規触媒を提供することを目的とする。 【解決手段】 本発明は、少なくとも1つの基質とゼオライトZSM−48、EU−2、EU−11、ZBM−30から成るグループの中から選択された少なくとも1つのゼオライトで形成された支持体を含み、該支持体上にはゼオライトレベルで第VIII群の少なくとも1つの貴金属が被着されている触媒を提供する。好ましくは、貴金属はゼオライト結晶の外部表面上に、さらに好ましくは細孔口の形で局在化されている。本発明は同様に、該触媒の調製方法及び炭化水素仕込原料の流動点の改善方法を提供する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ゼオライトZSM−48、EU−2、EU−11又はZBM−30
ベースの触媒、該触媒の調製方法及び、特に高い流動点をもつ仕込物を低い流動
点と高い粘度指数を呈する少なくとも1つの留分に優れた収率で変換することを
目的として、線状及び/又はほとんど枝分れのない長鎖(一般には10個以上の
炭素原子)のパラフィンを含有する仕込物の流動点を改善するための方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】
高品質の潤滑剤は、現代の機械、自動車及びトラックの優れた作動によってき
わめて重要なものである。しかしながら、石油に直接由来する未処理でかつ優れ
た潤滑剤として適切な物性を有するパラフィンの品質は、この部門において一層
高くなっている要求に比べきわめて低いものである。
【0003】 後にベースオイルとして又は灯油又はジェット燃料(jet fuel)とし
て利用されることになる仕込物から線状の又は枝分れ度の極めて低いパラフィン
を除去することを目的とする1つの作業によって、可能なかぎり優れた収量で良
質のベースオイルを得るために、線状の又は枝分れ度の低いパラフィンを高含有
量で含む重石油留分を処理することが必要である。
【0004】 実際、線状又は枝分れ度が非常に低く、オイル内又は灯油又はジェット燃料内
に存在する高分子量のパラフィンは、高い流動点ひいては低温での利用時に凝固
現象を導く。流動点の値を低下させるためには、これらの線状の又は枝分れ度の
低いパラフィを完全に又は部分的に除去しなくてはならない。
【0005】 この作業は、プロパン又はメチル−エチル−ケトンといった溶剤による抽出に
よって行なうことができ、これがプロパン又はメチル−エチル−ケトン(MEK
)での脱ろうということになる。しかしながら、これらの技術はコストが高く、
時間がかかり、つねに実施が容易であるとは限らない。
【0006】 もう1つの手段は、触媒処理であり、その形状選択性を考慮すると、ゼオライ
トが最も多く利用される触媒である。
【0007】 すでに、ZSM−5、ZSM−11、ZSM−12、ZSM−22、ZSM−
23、ZSM−35及びZSM−38といったようなゼオライトベースの触媒が
、これらのプロセスでの利用に関して記述されてきている。該出願人は、仕込物
の流動点を改善するための触媒の完成にその研究努力を費した。
【0008】
【発明の構成】
本発明は、少なくとも1つのマトリックス、少なくとも1つの第VIII群貴
金属及びZSM−48、EU−2、EU−11及びZBM−30から成るグルー
プの中から選択された少なくとも1つのゼオライトを含む触媒において、少なく
とも1つのマトリックス及び前記ゼオライトのうちの少なくとも1つを含む支持
体上で貴金属の少なくとも一部分がゼオライトレベルで担持されている触媒に関
する。好ましくは、貴金属の少なくとも一部分が本質的にゼオライトの表面上に
担持されている。
【0009】 一般に、貴金属の少なくとも10%、有利には少なくとも20%がゼオライト
レベルで担持される。好ましくは、貴金属の90%以下がゼオライト上に担持さ
れる。
【0010】 ゼオライトのレベルで貴金属(単複)の全てが担持されない場合、貴金属の少
なくとももう一方の部分は、(支持体の調製の前に混合することにより)マトリ
ックス中に内含される形か又は支持体の調製後マトリックス上に担持される形で
、マトリックスのレベルに再び存在する。
【0011】 触媒は、単数又は複数の貴金属を有することができる。唯一の貴金属しか存在
しない場合、それは全部又は一部分が前記ゼオライトのレベルに局在化される。
他の部分は、マトリックスのレベルに局在化される。
【0012】 複数の貴金属が触媒中に存在する場合には、ゼオライト及びマトリックスは、
異なる金属又は同じ金属を含有することができる。
【0013】 本発明は同様に、前記触媒の調製方法において: a)前記ゼオライトのうちの少なくとも1つと少なくとも1つのマトリックス
の混合及びそれに続く押出し加工によって、押出し加工支持体を調製し; b)ゼオライトのレベルで前記貴金属の担持を実現するため、前記金属の少な
くとも1つのカチオン錯体の溶液と前記支持体を触媒させることによって、貴金
属の少なくとも一部分を前記支持体上に担持させ; c)場合によっては、ゼオライトレベルで前記貴金属を含む支持体を熱処理に
付す、 触媒調製方法にも関する。
【0014】 段階a)及び/又はb)で貴金属の全てが利用されない場合には、段階b′)
で、前記金属の少なくとも1つのアニオン錯体の溶液と支持体の接触によりマト
リックス上に貴金属の残りの部分を担持させる。
【0015】 段階b′)を段階b)の前に実施することもでき、その場合、この段階の後に
は、支持体上に担持された金属塩を分解させ金属の酸化物形態を得るような形で
、200℃と600℃の間、又は300℃と600℃の間、好ましくは250℃
と550℃の間、又は350℃と550℃の間の温度で、一般に0.5〜10時
間、好ましくは1〜4時間、例えば空気又は酸素下での熱処理が続く。
【0016】 段階b′)は、段階b)の後、段階c)の前でも実施することができる。
【0017】 段階b)又は段階b′)の終りで、第VIII群の元素を金属に変え、かくし
て活性金属相を得るべく、水素下での処理が行なわれる。水素下でのこの処理の
手順には、例えば、一般に約300〜700℃、好ましくは約300〜700℃
、好ましくは約300〜650℃の間に含まれる最高還元温度まで、純粋の又は
希釈された水素流下で温度をゆっくりと上昇させ(例えば毎分1〜5℃の間)、
次に一般に1〜10時間、好ましくは1〜5時間、この温度を維持することが含
まれる。この水素下での処理は、脱ろう用触媒反応装置内で現場にて実施するこ
ともできるし、或いは又その投入前に現場外で実施することもできる。
【0018】 本発明は同様に、処理すべき仕込物が前述の触媒と接触させられる、一般に1
0個の炭素原子をもつパラフィンを有する仕込物の流動点を改善する方法をも目
的としている。該方法は一般に170〜500℃の間の温度、1〜250バール
の圧力、そして0.05〜100h−1の間の時間体積速度で、仕込物1Lあた
り50〜2000Lの割合の水素の存在下で行なわれる。
【0019】 前記触媒は、高い脱ろう活性及び選択性(流動点の改善)すなわちオイル留分
における高い収率を示す。何らかの理論に関与するつもりはないが、本発明の触
媒を利用して得られた特に高いオイル留分収率は、細孔口に存在するゼオライト
の酸性部位と(細孔口の近く又は部分的に細孔口の中で)そこに担持している金
属粒子の間の近接性の改善に起因するものであると思われる。
【0020】 有利なことに、この方法は、高い流動点を有する仕込物をより低い流動点と高
い粘度指数をもつ混合物(オイル)に変換させることができる。又該方法は、例
えば軽油の流動点低下のためにも応用可能である。
【0021】
【発明の実施の形態】
本発明に従った触媒の組成物に入るゼオライトは、ゼオライトEU−2、ZS
M−48、EU−11及びZBM−30から成るグループの中に含まれる。ゼオ
ライトEU−2は、Journal of Chemical Researc
h、 192、(1985)の記事の中、及び特許GB2077709A(US
−4,741,891; US−4,836,996;US−4,876,41
2;US−5,098,685に対応する)の中で記述されており、ゼオライト
ZSM−48は、Zeolithes, 5,355(1985)の記事内及び
特許EP−A−23089,US−4,397,827,EP−A−15,13
2,EP−A−142317及びUS−5,961,591号の中で記述され、
ゼオライトEU−11は、Journal of Catalysis, 85
,135(1985)の記事中で記述されており、最後に、ゼオライトZBM−
30は特許EP−A−46504の中で記述されている。ゼオライトEU−2、
ZSM−48、EU−11及びZBM−30の構造の類似性は、1987年の「
高シリカアルミノケイ酸ゼオライトの合成」という題のStudies in
Surface Science and Catalysisシリーズの第3
3巻275ページ、第VIII章の中、ならびにこの章の中で引用されている文
書の中で記述され検討されている。構造類似性というのは、X線回折図が匹敵す
るものであることを意味する。
【0022】 本発明に従った触媒の組成物及びサンプルの化学組成に入るゼオライトの包括
的Si/Al比は、X線螢光及び原子吸収によって決定される。
【0023】 上述のゼオライトのSi/Al比は、上述の異なる文書中に記述された作業モ
ードに従って合成の後に得られるものであるか又は、網羅的でない一例としては
、酸腐食が後に続くか又は続かない熱水処理或いは又無機又は有機酸の溶液によ
る直接的酸腐食といったような、当業者にとっては周知の合成後のアルミン酸塩
除去処理後に得られるものである。
【0024】 本発明に従った触媒の組成物中に入るゼオライトは、ひとたび焼成された時点
でゼオライトの水素形態を導くようなゼオライトのアルミニウム形態を得るよう
な形で少なくとも1つのアルミニウム塩の溶液による少なくとも1回の処理によ
って焼成され交換される。
【0025】 本発明に従った触媒の組成物中に入るゼオライトは、少なくとも部分的に、又
好ましくは実際には全体的に酸性形態すなわち水素(H)形態をしている。N
a/Tの原子比は10%未満、好ましくは5%未満、そしてさらに一層好ましく
は1%未満である。Tは、ケイ素(Si)、ホウ素(B)、ガリウム(Ga)及
び鉄(Fe)から成るセットに属する1原子である。
【0026】 本発明の目的である触媒は、ゼオライトZSM−48、EU−2、EU−11
及びZBM−30又はこれらの考えられる全ての組合せから成るグループの中か
ら選ばれた少なくとも1つのゼオライトを、少なくとも1つのマトリックス(こ
れにより支持体が形成される)及び第VIII群の貴金属である少なくとも1つ
の水素化−脱水素化元素と混合した形で含有している。
【0027】 以下では、ゼオライトとマトリックスの混合物を支持体という語で呼称してい
る。好ましくは、ゼオライトレベルで貴金属を導入する前に支持体は整形される
【0028】 マトリックスは、アルミナ、マグネシア、非晶質シリカ−アルミナ、天然粘土
(カオリン、ベントナイト、セピオライト、アタパルジャイト)、シリカ、酸化
チタン、酸化ホウ素、ジルコン、リン酸アルミニウム、リン酸チタン、リン酸ジ
ルコニウム、炭素及びそれらの混合物から成るグループの中から選ばれる。整形
は、例えば押出し加工、加圧塊状化、顆粒状触媒製法などによって行なうことが
でき、又より一般的には当業者にとって既知のあらゆる技術を使用することがで
きる。
【0029】 支持体中のゼオライト含有量は0.5〜99.9%の間、より有利には5〜9
0重量%の間に含まれる。
【0030】 本発明に従った触媒は同様に、第VIII群金属又はその化合物である、水素
化−脱水素化機能をもつ少なくとも1つの触媒元素(金属)を包含する。第VI
II群の元素は、ルテニウム、オスミウム、ロジウム、イリジウム、白金及びパ
ラジウムから成るグループの中から選ばれ、好ましくは、ロジウム、イリジウム
、白金及びパラジウムから成るグループの中から選択され、さらに好ましくは白
金又はパラジウムの中から選ばれる。同様に第VIII群の前記元素のうちの複
数のものの組合せを利用することもできる。
【0031】 触媒中の貴金属の含有量は一般に10%未満、より特定的には5%未満、好ま
しくは3%未満、そして一般的には約0.5〜1重量%である。
【0032】 上述の通りの水素化機能は、ゼオライトレベルで前記金属を担持させるように
支持体上に導入されなくてはならず、より特定的には、ゼオライト結晶の外部表
面上に、好ましくは細孔口で導入されなくてはならない。
【0033】 貴金属は、当業者にとっては既知でゼオライト上への金属担持を可能にするあ
らゆるプロセスにより支持体上に担持され得る。好ましくは硝酸アンモニウムを
競合物質とし競合比が約20以上、有利には約30〜200である、競合を伴う
カチオン交換技術を利用することができる。白金又はパラジウムの場合、通常白
金のテトラミン錯体又はパラジウムのテトラミン錯体を利用する。これらはこの
ときほぼ完全に分子ゼオライト上に担持する。このカチオン交換技術は同様に、
場合によってマトリックスと混合する前に、分子ふるい粉末上に直接金属を担持
させるためにも利用され得る。
【0034】 一般的に、貴金属のカチオン錯体溶液が適切である。
【0035】 ゼオライトレベル、そしてより厳密にはゼオライトZSM−48、EU−2、
EU−11及びZBM−30から成るグループの中から選択されたゼオライト結
晶の外部表面上の金属の局在化は、電子顕微鏡技術及びCastaingマイク
ロプローブ技術によって視覚化可能である。
【0036】 金属の分散は例えば、水素及び酸素を用いた滴定によって測定できる。H
滴定方法においては、第VIII群の元素は予め還元される。すなわち、水
素にアクセス可能な元素のあらゆる原子を金属形態に変える条件の下で高温での
水素フラックス下の処理を受ける。その後、酸素フラックスは、水素にアクセス
できる還元された全ての白金原子が元素の酸化物の形で酸化されるように適切な
作業条件の中に送られる。導入される酸素の量と退出する酸素の量の間の差を計
算することにより、消費された酸素量が得られる。この値から、酸素にアクセス
可能な金属の量を演繹することができる。このとき分散は、触媒中の元素の合計
量に対する酸素にアクセス可能な金属の量の比に等しい。
【0037】 なお、水素化−脱水素化金属の担持を実現するために利用される金属前駆物質
の選択は、同様に、焼成及び還元段階の後に得られる分散に対し影響を及ぼすこ
とを可能にする。
【0038】 本発明に従った好ましい触媒は、マトリックスのレベルで貴金属の少なくとも
一部分を含有する。
【0039】 この留分は、支持体を形成するためゼオライトと混合される前に、(例えばア
ルミナゲルの形で)マトリックス中に内含され得る。
【0040】 好ましくはこの留分は、一般にはアニオン錯体である貴金属の化合物の溶液で
支持体を処理することによって、マトリックス上に担持させられる。
【0041】 貴金属はこのとき、例えば第VIII群の中から選択された金属の前駆体物質
である塩を含有する溶液の少なくとも1回の乾式含浸といったような当業者にと
って既知のあらゆる方法によりマトリックスレベルで支持体上に導入される。
【0042】 好ましくは、例えば白金の場合にはPt(NH 2+ ,2Cl及びP
t(NH3 2+ ,2OHが、又パラジウムの場合には、Pd(NH 2+ ,2Clが乾式含浸により利用される。
【0043】 支持体のマトリックス上のこの担持段階は、好ましくは、ゼオライト上への貴
金属の担持の前に実施できる。有利には、マトリックス上への担持の後に、支持
体上に担持した金属塩を分解させ金属の酸化物形態を得るような形で一般には0
.5〜10時間、好ましくは1〜4時間、200℃〜600℃、又は300℃〜
600℃、好ましくは250℃〜550℃又は350℃〜550℃の間に含まれ
る温度で、例えば空気下又は酸素下の熱処理を行なう。
【0044】 同様に、ゼオライト上への担持の後にマトリックス上に貴金属を担持させるこ
ともできる。
【0045】 同様に、アルミナゲルを形成し貴金属の少なくとも一部分の存在下でゼオライ
トとそれを同時混練りし、その後支持体を押出し加工し、必要とあらば貴金属の
もう一方の部分を好ましくは少なくとも部分的にゼオライト上に担持させること
が可能である。
【0046】 一般的には、本発明は同様に、本発明に従った前記触媒での炭化水素仕込物の
あらゆる処理方法に関する。
【0047】 触媒は、炭化水素仕込物を処理する前に、一般的に、第VIII群の元素を金
属に変えかくして活性金属相を得る目的で、水素下での処理を受けなくてはなら
ない。この水素下での処理の手順には、例えば、一般に約300〜700℃、好
ましくは約300〜700℃、好ましくは約300〜650℃の間に含まれる最
高還元温度まで、純粋の又は希釈された水素流下で温度をゆっくりと上昇させ(
例えば毎分1〜5℃の間)、次に一般に1〜10時間、好ましくは1〜5時間、
この温度を維持することが含まれる。この水素下での処理は、触媒反応装置内で
現場にて実施することもできるし、或いは又その投入前に現場外で実施すること
もできる。
【0048】 より特定的には、本発明は、前記触媒を用いて炭化水素仕込物の流動点を低下
させるための方法にも関する。
【0049】 本発明の方法に従って処理され得る仕込物は、有利には、その値を減少させた
い比較的高い流動点を有する留分である。
【0050】 本発明に従って有利に処理できる典型的な仕込物は、一般に0℃を上回る流動
点を有する。該方法に従った処理から結果としてもたらされる生成物は、0℃未
満、好ましくは約−10℃未満の流動点を有する。
【0051】 処理すべき仕込物はパラフィン系であり、大部分のケースにおいて、10個以
上の炭素原子をもつパラフィンを有し、例えばC10 留分である。その初期沸
点は、一般に約175℃を上回り、好ましくは少なくとも280℃、有利には少
なくとも380℃の沸点をもつ重留分である。
【0052】 仕込物は、中でも、10個以上、好ましくは15〜50個、有利には15〜4
0個の炭素原子を有する線状の及び/又はほとんど枝分れしていないパラフィン
で構成されていることが多い。重い仕込物(オイルを作るためのもの)は、本質
的に30個以上の炭素原子をもつパラフィンを含有し、軽油は一般に10〜30
個の炭素原子をもつパラフィンを含有する。
【0053】 本発明の方法は、軽油、灯油、ジェット燃料、真空下の留出物及びその流動点
及び粘土が仕様書の枠内に入るように適合されなくてはならないその他全ての留
分を包含する中間留分といったようなパラフィン系留分を処理するために特に適
している。
【0054】 本発明の方法に従って処理され得る仕込物は、パラフィン、オレフィン、ナフ
テン、芳香族と同時に複素環、そして高い比率で高分子量n−パラフィン及び同
じく高分子量の枝分れ度がきわめて低いパラフィンを含有することができる。
【0055】 これらの仕込物は、高分子量の10個以上の炭素原子をもつn−パラフィン及
び同じく高分子量で枝分れ度のきわめて低い10個以上の炭素原子をもつパラフ
ィンを、30%以上約90%未満、ひいては場合によって90重量%を上回る含
有量で有する可能性がある。該方法は、この比率が少なくとも60重量%である
場合に特に有利である。
【0056】 本発明に従って処理できるその他の仕込物の制限的意味のない例としては、潤
滑油用のベース、フィッシャー・トロプシュ方法に由来する合成パラフィン、高
い流動点をもつポリアルファオレフィン、合成オイル、中間留分、真空下の残留
物、軽油、FCC(LCO及びHCO)に由来する中間留分及びハイドロクラッ
キング残留物を挙げることができる。該方法は同様に、例えばn−アルキルシク
ロアルカン化合物といった前述のようなn−アルカン鎖を含有するか又は少なく
とも1つの芳香族を有するその他の化合物にも適用可能である。
【0057】 処理すべき仕込物は、好ましくは約200重量ppm、好ましくは100重量
ppm未満の窒素化合物含有量を有する。硫黄含有量は1000重量ppm未満
、好ましくは500ppm未満、さらに好ましくは200重量ppm未満である
。Ni又はVといったような仕込物の金属の含有量は、きわめて低減され、50
重量ppm未満、好ましくは10重量ppm未満、さらに好ましくは2重量pp
m未満である。従って、大部分の場合において、仕込物は本発明に従った方法に
付される前に少なくとも1回の水素化処理を受けていた。
【0058】 かくして、本発明に従った方法は、炭化水素生成物(軽油、オイル…)の流動
点を改善することができるばかりでなく、オイルの場合にはその粘度指数を改善
することをも可能にする。
【0059】 本発明の方法が行なわれる作業条件は、以下の通りである: ・反応温度は、170℃と500℃の間、好ましくは180℃と470℃の間
、有利には190℃と450℃の間に含まれる; ・圧力は、1〜250バールの間、好ましくは10〜200バールの間に含ま
れる。
【0060】 ・時間体積速度(触媒体積単位及び時間あたりの射出された触媒体積で表わし
たvvh)は、約0.05〜約100の間、好ましくは約0.1〜約30h−1 の間に含まれる。
【0061】 仕込物と触媒の間の接触は水素の存在下で実施される。仕込物1リットルあた
りの水素リットル数で表わされた利用水素率は、仕込物1リットルあたり50〜
約2000リットルの水素、好ましくは、仕込物1リットルあたり100〜15
00リットルの水素である。
【0062】 以下の実施例は、本発明を例示するものではあるが、その範囲を制限するもの
ではない。
【0063】 実施例1:本発明に従った触媒C1の調製 この実施例で利用されるゼオライトZSM−48は、Studies in
Surface Science and Catalysis シリーズの第
33巻282〜284ページ内で記述された作業モードに従って、当該特許の実
施例中に含まれる異なる触媒を調製できるよう充分大量に合成される。このゼオ
ライトは次にその合成に利用される有機構造化促進剤を除去するように550℃
で9時間乾燥空気フラックス下での焼成に付される。次にこのゼオライトは、各
々3時間ずつ100℃で硝酸アンモニウム5Nの溶液による3回のカチオン交換
を受ける。かくして得られたアンモニウム形態のゼオライトZSM−48はこの
とき、57というSi/Al比と38重量ppmというナトリウム含有量を呈す
る。
【0064】 ゼオライトを、ゼオライト60%、アルミナゲル40%の割合で、硝酸によっ
て解膠されたアルミナゲルと混練りする。かくして得られたペーストを、1.4
mmの直径の円筒形オリフィスをもつダイスに通す。押出し加工物を次に120
℃で一晩乾燥させ、次に2時間空気下で550℃で焼成する。
【0065】 この支持体上に乾式含浸により、支持体上に担持された白金の含有量が最終的
に0.45重量%となるような形で、Pt(NH 2+ ,2Cl水溶液
を担持させる。その後、押出し加工物を550℃の空気下で焼成する。H−O 滴定によって測定した金属の分散は、43%である。この調製により、Ptが
ゼオライトZSM−48のレベルに極めて高い割合で局在化されている(金属の
90%以上がゼオライトにある)触媒が導かれる。
【0066】 実施例2:発明に従った触媒C2の調製 この実施例においては、利用される支持体は、貴金属の導入以前に実施例1で
調製されたものと同じである。この実施例の違いは、白金がアルミナ上とゼオラ
イトZSM−48上に導入されるという点にある。まず最初に、ヘキサクロロ白
金酸溶液を利用してアニオン交換を実施することによってアルミナ上に極めて高
い割合で白金を導入する。押出し加工物を次に550℃で空気下で焼成する。固
定された金属の含有量は0.15%である。次に白金塩Pt(NH −2 ,2OH水溶液による湿式含浸を実施することによって、支持体との関係にお
いて0.42%の白金をゼオライトZSM−48のレベルに極めて高い割合で導
入する。「極めて高い割合で」というのは金属の少なくとも90%、一般的には
少なくとも90%、最も頻繁には99〜100%近くを意味する。H−O
定で測定されたPtの包括的分散は、52%である。
【0067】 実施例3:発明に従った触媒C3の調製 この実施例においては、利用される支持体は、あらゆる貴金属の導入以前に実
施例1で利用されたものと同じである。この実施例の違いは、白金がアルミナ上
にそしてパラジウムがゼオライトZSM−48上に導入されるという点にある。
【0068】 まず第1に、ヘキサクロロ白金酸水溶液HPlCl6を利用してアニオン交
換を実施することによってアルミナ上に極めて高い割合で白金を導入する。押出
し加工物を次に550℃で空気下で焼成する。固定した金属の含有量は0.18
重量%である。次にPt(NH −2,2OH水溶液による湿式含浸を実
施することによって、支持体との関係において0.36重量%の白金をゼオライ
トZSM−48のレベルに極めて高い割合で導入する。H−O滴定で測定さ
れた金属の包括的分散は、39%である。
【0069】 実施例4:n−C18の水素異性化での触媒C2及びC3の評価 この実施例においては、2モル%のn−オクタデカン(n−C18)及び98
モル%のn−ヘプタンを含む混合物の水素異性化において、触媒を評価し、後者
は反応条件下で変態しない。
【0070】 反応温度は233℃であり、反応装置入口でのH/炭化水素モル比は13モ
ル/モルである。考えられる最大の変換範囲を網羅するような形で空間速度を変
動させた。当業者にとっては既知の通り、触媒を予め還元させた。
【0071】 得られた触媒作用結果を下表1にまとめる:
【表1】
【0072】 これらの結果は、本発明に従った触媒が、18個の炭化水素をもつ多分枝異性
化生成物の有利な収率を達成できるようにするということを示している。
【0073】 実施例5: ハイドロクラッキング残留物についての触媒C1、C2及びC3
の評価 真空下での蒸留物に由来するハイドロクラッキング残留物を処理するため、触
媒C1、C2及びC3を評価した。
【0074】 この仕込物の特性は以下の通りである。
【0075】
【表2】
【0076】 その調製についてそれぞれ実施例1及び実施例2に記述されている触媒C1、
C2及びC3を、上述の仕込物からベースオイルを調製するために利用する。
【0077】 触媒は、反応装置内での現場内触媒試験の前に450℃で水素下で還元される
。この還元は、段階的に行なわれる。これは、2時間150℃の安定期段階、次
に1℃/分の速度で450℃までの温度上昇段階、そして450℃で2時間の安
定期段階から成る。この還元プロトコルの間、水素流量は、触媒1リットルあた
りH 1000リットルである。
【0078】 触媒C1の場合、反応は、12MPaの合計圧力、1h−1の時間体積速度及
び仕込物1リットルあたり1000リットルのHという水素流量の下で行なわ
れる。触媒C2の場合、反応は、325℃で行なわれるが、その他の作業条件は
、触媒C1をテストするために利用されたものと同一である。触媒C3の場合、
反応は330℃で行なわれ、その他の作業条件は、触媒C1をテストするために
利用されるものと同一である。
【0079】 得られたオイル、留分380℃の特性は、下表2に報告されている。
【0080】
【表3】
【0081】 これらの実施例は、高い粘度指数(VI)を保ちながらハイドロクラッキング
残留物の場合において、初期仕込物の流動点を低下させることのできる本発明に
従った触媒を利用することの利点をことごとく示している。
【手続補正書】特許協力条約第34条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成14年5月14日(2002.5.14)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項】 前記貴金属の一部分が本質的にゼオライトの表面上に担持さ
れており、もう一方の部分がマトリックスレベルに局在化されている、請求項1
に記載の触媒。
【請求項】 貴金属の合計の少なくとも10重量%がマトリックスレベル
にある、請求項に記載の触媒。
【請求項】 貴金属がマトリックス上に担持される、請求項2又は3のい
ずれか1項に記載の触媒。
【請求項】 貴金属がマトリックスに混合される、請求項2又は3のいず
れか1項に記載の触媒。
【請求項】 貴金属がパラジウム、白金、イリジウム及びロジウムから成
るグループの中から選択される、請求項1〜のいずれか1項に記載の触媒。
【請求項】 貴金属がゼオライト及びマトリックスの両方について同じで
ある、請求項1〜のいずれか1項に記載の触媒。
【請求項】 ゼオライト及びマトリックスの貴金属が異なるものである、
請求項1〜のいずれか1項に記載の触媒。
【請求項】 少なくとも1つのマトリックスと、少なくとも1つのG−V
IIIの貴金属と、ZSM−48、EU−11、ZBM−30から成るグループ
の中から選択された少なくとも1つのゼオライトとを含む請求項1〜9のいずれ
か1項に記載の触媒の調製方法において: a)前記ゼオライトのうちの少なくとも1つと少なくとも1つのマトリックス
の混合及びそれに続く押出し加工によって、押出し加工支持体を調製し; b)本質的にゼオライトの表面上での前記貴金属の担持を実現するため、前記
金属の少なくとも1つのカチオン錯体の溶液と前記支持体を触媒させることによ
って、貴金属の少なくとも一部分を前記支持体上に担持させ; c)本質的にゼオライトの表面上に前記貴金属を含む支持体を熱処理に付す、
触媒調製方法。
【請求項10】 段階a)で利用されたマトリックスが貴金属の少なくとも
一部分を含有する、請求項に記載の方法。
【請求項11】 段階a)又はb)で貴金属の全てが利用されない場合、段
階b′)で、前記金属の少なくとも1つのアニオン錯体の溶液と支持体の接触に
よりマトリックス上に貴金属の残りの部分を担持させる、請求項9〜10のいず
れか1項に記載の方法。
【請求項12】 段階b′)が段階b)の前に実施される、請求項11に記
載の方法。
【請求項13】 段階b′)の終りで得られた生成物が、段階b)で処理さ
れる前に熱処理を受ける、請求項12に記載の方法。
【請求項14】 段階b′)が段階b)の後で段階c)より前に実施される
、請求項9〜11のいずれか1項に記載の方法。
【請求項15】 貴金属が、マトリックスとの混合の前にゼオライト粉末上
に直接担持されている、請求項1〜8のいずれか1項に記載の触媒、又は、請求 項9〜14 のいずれか1項に記載の方法。
【請求項16】 炭化水素仕込物の流動点を低減させるための、請求項15 に記載の方法。
【請求項17】 パラフィン仕込物が、175℃を超える沸点、200重量
ppm未満の窒素化合物含有量、1000重量ppm未満の硫黄含有量及び50
重量ppm未満の金属含有量を示し、仕込物1リットルあたり50〜2000リ
ットルの水素の存在下で0.05〜100h−1の時間体積速度で、1〜250
バール下で170〜500℃の温度で実施される請求項16に記載の方法。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 マルタン ヨハン ベルギー国 フルデンベルグ ボルヘイデ ストラート 25 (72)発明者 クロード マリオン ベルギー国 ルーヴェン ナームセストラ ート 60 Fターム(参考) 4G069 AA03 AA08 BA01B BA07A BA07B BC72B BC75B CC04 CC05 FB14 FB65 ZA16B 4H029 CA00 DA00

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも1つのマトリックスと、少なくとも1つの第VI
    II群貴金属と、ZSM−48、EU−2、EU−11及びZBM−30から成
    るグループの中から選択された少なくとも1つのゼオライトとを含む触媒におい
    て、少なくとも1つのマトリックス及び前記ゼオライトのうちの少なくとも1つ
    を含む支持体上で貴金属の少なくとも一部分がゼオライトレベルで担持されてい
    る、押出し加工された触媒。
  2. 【請求項2】 貴金属の少なくとも一部分が本質的にゼオライトの表面上に
    担持されている、請求項1に記載の触媒。
  3. 【請求項3】 前記貴金属の一部分がゼオライトのレベルで担持されており
    、もう一方の部分がマトリックスレベルに局在化されている、請求項1〜2のい
    ずれか1項に記載の触媒。
  4. 【請求項4】 貴金属の合計の少なくとも10重量%がマトリックスレベル
    にある、請求項3に記載の触媒。
  5. 【請求項5】 貴金属がマトリックス上に担持される、請求項3又は4のい
    ずれか1項に記載の触媒。
  6. 【請求項6】 貴金属がマトリックスに混合される、請求項3又は4のいず
    れか1項に記載の触媒。
  7. 【請求項7】 貴金属がパラジウム、白金、イリジウム及びロジウムから成
    るグループの中から選択される、請求項1〜6のいずれか1項に記載の触媒。
  8. 【請求項8】 貴金属がゼオライト及びマトリックスの両方について同じで
    ある、請求項1〜7のいずれか1項に記載の触媒。
  9. 【請求項9】 ゼオライト及びマトリックスの貴金属が異なるものである、
    請求項1〜7のいずれか1項に記載の触媒。
  10. 【請求項10】 少なくとも1つのマトリックスと、少なくとも1つのG−
    VIIIの貴金属と、ZSM−48、EU−11、ZBM−30から成るグルー
    プの中から選択された少なくとも1つのゼオライトとを含む請求項1〜9のいず
    れか1項に記載の触媒の調製方法において: a)前記ゼオライトのうちの少なくとも1つと少なくとも1つのマトリックス
    の混合及びそれに続く押出し加工によって、押出し加工支持体を調製し; b)ゼオライトのレベルで前記貴金属の担持を実現するため、前記金属の少な
    くとも1つのカチオン錯体の溶液と前記支持体を触媒させることによって、貴金
    属の少なくとも一部分を前記支持体上に担持させ; c)ゼオライトレベルで前記貴金属を含む支持体を熱処理に付す、 触媒調製方法。
  11. 【請求項11】 段階a)で利用されたマトリックスが貴金属の少なくとも
    一部分を含有する、請求項10に記載の方法。
  12. 【請求項12】 段階a)又はb)で貴金属の全てが利用されない場合、段
    階b′)で、前記金属の少なくとも1つのアニオン錯体の溶液と支持体の接触に
    よりマトリックス上に貴金属の残りの部分を担持させる、請求項10〜11のい
    ずれか1項に記載の方法。
  13. 【請求項13】 段階b′)が段階b)の前に実施される、請求項12に記
    載の方法。
  14. 【請求項14】 段階b′)の終りで得られた生成物が、段階b)で処理さ
    れる前に熱処理を受ける、請求項13に記載の方法。
  15. 【請求項15】 段階b′)が段階b)の後で段階c)より前に実施される
    、請求項10〜12のいずれか1項に記載の方法。
  16. 【請求項16】 貴金属が、マトリックスとの混合の前にゼオライト粉末上
    に直接担持されている、請求項1〜15のいずれか1項に記載の方法。
  17. 【請求項17】 少なくとも1つのマトリックスと、少なくとも1つの第V
    III群貴金属と、ZSM−48、EU−2、EU−11及びZBM−30から
    成るグループの中から選択された少なくとも1つのゼオライトとを含んで成り、
    少なくとも1つのマトリックス及び前記ゼオライトのうちの少なくとも1つを含
    む支持体上で貴金属の少なくとも一部分がゼオライトレベルで担持されている触
    媒を用いる、炭化水素の処理方法。
  18. 【請求項18】 炭化水素仕込物の流動点を低減させるための、請求項17
    に記載の方法。
  19. 【請求項19】 パラフィン仕込物が、175℃を超える沸点、200重量
    ppm未満の窒素化合物含有量、1000重量ppm未満の硫黄含有量及び50
    重量ppm未満の金属含有量を示し、仕込物1リットルあたり50〜2000リ
    ットルの水素の存在下で0.05〜100h−1の時間体積速度で、1〜250
    バール下で170〜500℃の温度で実施される請求項18に記載の方法。
  20. 【請求項20】 請求項1〜9のいずれか1項に記載の触媒又は請求項10
    〜16のいずれか1項に記載の方法によって調製された触媒を用いた、請求項1
    8〜19のいずれか1項に記載の方法。
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