JP2003520958A - 表面構成測定方法および装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 例えば表面張力を測定するために液体表面の表面構成を測定する方法。液体サンプルはウェル（例えば多重ウェル型マイクロタイタープレートのウェル）に閉じ込められ、光ビームはウェルの中心からのサンプルオフセットを通る。反射または透過光ビームの強度は液体表面への入射角に依存し、液体の表面張力の変化に伴い変化する。したがって、反射または透過強度の測定は表面張力の測定として用いることができる。本方法はまた、サンプルを撹拌して、撹拌中かその後にサンプル表面の曲率の変化率を測定することによって、粘性を測定するのに使用できる。本方法はまた、液体以外の表面の測定、例えば、膜への光の入射角が膜の変形に伴い変化する場合の圧力下で変形している膜の表面を測定することに適用できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】 本発明は、表面の構成を測定する方法および装置に関しており、特に、液体−
液体または液体−気体界面の表面に関しているが、例えば膜といった他の表面に
も関している。液体−液体または液体−気体界面を測定するアプリケーションに
おいて、本発明は、例えば表面張力といったさまざまな液体特性を測定するのに
有用である。

【０００２】 液体の表面張力を測定する様々な従来の方法があり、 例えばウィルヘルミィ
・プレートデバイス(Wilhelmy Plate device)、デュ・ヌーイ・リング法(De Nou
y Ring method)、毛細管上昇法(capillary rise methods)、イエガーバブル圧力
処理法(Jaeger bubble pressure approach)、および液体が空気中で膜に覆われ
た場合の薄膜に基づいた技術といったものがある。しかしながら、これらの方法
は、正確ではあるけれども、セットアップがかなり難しく、また異なるサンプル
を速やかに繰り返して測定するのに適していない。さらに、これらの方法は、サ
ンプル液体を何ミリリットルも必要とし、１サンプルにつき数分間かかる。

【０００３】 例えばウェルに液体を含む表面の構成は、とりわけ液体の表面張力および液体
とウェル間の接触角に左右される。GB 1 447 262は、これに基づく表面張力を測
定するコンタクトレスの方法を開示している。この方法において、液体のメニス
カスの曲率は、メニスカス上の2つの間隔の空いたポイントで光ビームを離れて
反射させ、光ビームが反射されるそれぞれの角を測定することによって測定され
る。2つのポイントおよび反射角の間隔についての情報を幾何学式で用いること
で、液体の表面張力を計算することができる。しかしながら、機器は、それぞれ
の反射角を測定するのに正確な光学部品ならびに検出器の運動に依存している。
これは、機器をより複雑にし、またも、セットアップを難しくし、そのうえ機器
を多数のサンプルの速やかな繰り返し測定に対して不適当にする。

【０００４】 本発明は、表面との接触に依存していないが、セットアップおよび使用の際に
、信頼性が高く、反復可能でかつ迅速な表面構成測定方法を提供する。該方法が
液体表面の構成を測定するのに用いられた場合、その液体の表面張力を測定する
のに特に簡単な方法が提供される。

【０００５】 本発明によれば、表面を光のビームで照光するステップと、反射または透過ビ
ームの強度を測定するステップとを備える表面構成測定方法が提供される。

【０００６】 透過または反射光ビームの強度は入射角によって変化し、例えば表面張力の変
化を通して曲率が変化することによって、表面構成の変化は、幾つかのポイント
での入射角の変化に影響を及ぼし、したがって、透過光または反射光の強度を測
定することによって、構成の測度が与えられる。表面の構成が例えば液体の濃度
または性質に左右される場合、測定値はその濃度または性質を示す。さらに、本
方法はコンタクトレスであり、破壊的ではない。

【０００７】 表面は、いわゆるプレートのウェルに含まれる液体のメニスカスであってよく
、この場合、測定値は液体の表面張力の測度に左右され、また変換可能である。
実際、3つのペアを成す相互作用（固体-液体、固体-蒸気および液体-蒸気）間に
、ヤングおよびラプラス方程式の関係がある。ここで、固体はプレートの材料で
あり、表面張力および接触角（θ）に関係がある： γ_sv =γ_sl + γ_lv Cosθ

【０００８】 この場合、第１のタームは固体-蒸気であり、液体がなんであろうと任意のプ
レート材料に対して一定であり、第２のタームはプレート材料および液体に左右
される固体-液体ぬれ性であり、一方、第３のタームは真表面張力であり、この
寄与は接触角によって修正される。この相互作用を想定した場合、表面張力（例
えば公表データまたは従来技術を用いた測定値）を、液体の化合物（例えば界面
活性剤濃度）に関係づけたデータを用いた校正に基づいたルックアップ表を使用
することによって、表面張力は強度測定から最も好都合に計算できる。幾つかの
状況において、反射強度または透過強度の値を式に使用することが可能であり、
該式は、該値を入射角に、次いで曲率に、その結果として表面張力に関係づけて
いる。

【０００９】 本方法は、例えば液体が96ウェルアッセイプレートのウェルにある場合、100
マイクロリットルまたは50マイクロリットルと同程度の少なさの少量液体で機能
する。

【００１０】 複数の測定が、オプションとして同時に、表面全域にわたって間隔をあけられ
ているポイントで行われてよい。本方法は、前記複数のポイントのうちの2つで
透過ビームまたは反射ビームの強度の比率を計算するステップを更に含んでよく
、比率のサイズはメニスカスの曲率度を示している。

【００１１】 表面は複数のサンプル（例えば多重ウェル型アッセイプレートの液体サンプル
）のうちの1つの表面であってよく、強度測定ステップは前記サンプルの各々に
対して強度を測定するステップを備える。この場合、光のビームは、ウェルの中
心から外れた液体の表面に入射していることが好ましい。

【００１２】 本方法は、表面張力を測定する従来の方法に比較して速い。1つの実施例にお
いて、96ウェルアッセイプレートの全ウェルの測定は30秒以内で完了でき、シー
ケンシャル読み取りにかかる時間は１サンプルにつき300ミリ秒をほんの少し超
えた程度である。

【００１３】 本方法は、複数の異なる検体濃度の強度測定を行うことによって、液体での検
体の表面活性を測定するのに使用できる。これは、プロダクトが表面活性である
場合にアッセイの読み出しとして得られることが可能である。

【００１４】 本方法はまた、ウェルとプレート読取機の光ビームとの相対位置の変化に起因
するエラーに対して、マイクロタイタープレートのそれぞれのウェルに含まれる
複数のサンプル上のプレート読取機によって行われる測光測定を補正するのに使
われてもよい。この場合、本方法は、周波数の光ビームで各サンプルを照光する
ステップであって、サンプルが周波数に対して均一な応答を有する必要がある前
記ステップと、透過光または反射光の強度を測定するステップと、光ビームの表
面への入射角の変化に起因するウェルからウェルへの強度の変化の補正率をそこ
から導き出すステップと、を備える。次いで、測光測定は補正率を用いて補正可
能である。既知の表面活性化合物の濃度の標準セットがアッセイ中に存在する場
合、補正率はプレートの幾つかのウェルのみに対して導き出されてよく、プレー
トの他のウェルに対しては補間されてよい。

【００１５】 本方法の速度はまた、あらゆる光度測定アッセイの大きな化合物ライブラリの
高スループットスクリーニング中（予想外の表面効果があり得るあらゆる光度測
定中）に、予想外の表面活性化合物に対してアッセイの全ウェルのスクリーニン
グを行うのに適している。

【００１６】 本方法はまた、液体を撹拌して表面を変形させ、表面構成の変化、例えば、撹
拌後に表面がその定常平衡ポジションに戻るレートを測定することによって液体
の粘性を測定するのに使用できる。撹拌は、液体で渦が生成されるよう構成され
てよい。

【００１７】 本発明の別の態様は、基板で支持される液体サンプルに該方法を実行する装置
を提供する。本装置は、液体表面を固定角で照光し、サンプルが予め決められた
サンプルの中心からのオフセットで照光されるよう構成された光ビームを生成す
る光源と、透過光または反射光の強度を測定する手段とを備える。

【００１８】 基板はサンプルを含むウェルを備えてよく、光ビームはウェルの壁に平行であ
り、前記予め決められたウェルの中心からのオフセットにある。

【００１９】 代替方法および技術は、膜を照光し、膜の変形が膜への光の入射角を変化させ
る際の透過光または反射光の変化を測定することによって、例えば膜の表面への
圧力の結果として、膜の変形を測定する方法を提供する。これは、特に浸透圧を
測定するのに有用である。膜はチャンバの近くになるように配置でき、液体が膜
を通過して浸透するか（この場合、膜は半浸透性である必要がある）或いは異な
るルートを通過してチャンバに浸透する。

【００２０】 本発明は、添付の図面によって、限定される例としてではなく更に説明される
。

【００２１】 図1は、液体サンプルがマイクロタイタープレート3のウェル1に含まれている
アレンジを系統的に図示する。ウェルは、プレート3の動きによるか或いは図示
されるようにXおよびY方向での検出ヘッド5の動きによって、検出ヘッド5の下に
連続して置かれてよい。マイクロタイタープレート3は基板15上で支持され、基
板の位置および動きはステージコントローラ17によって制御される。検出ヘッド
5は、光ビーム7をウェルを通して検出器9に透過する。検出器9は透過光ビームの
強度を測定し、強度測定値は記憶装置11に格納され、プロセッサー19で処理され
、ディスプレイ21に表示される。照度は、光コントローラ13によって制御される
。

【００２２】 実際問題として、プレート3は、市販の支持体15に載っている標準的な実験用
タイプの複数のウェル（例えば96ウェル）プレートであり得ることが理解されよ
う。この支持体15およびコントローラ17は、プレート用の温度調節を含んでもよ
い。照光および検出は、適応するマイクロタイタープレート読取機によって好都
合に行われることができる。この実施例において、光源は、直径0.25ミリメート
ルの光ビームを提供するフィルタがけされたキセノン閃光電球である。ポリスチ
レンでできている典型的な96ウェルプレートで、ウェルは直径6ミリメートルで
ある。レーザーダイオードのようなレーザ光源が、光源として使用可能である。

【００２３】 本発明の原理が図2で図示される。液体2のサンプルがウェル1を占めているこ
とが見られるであろう。液体の表面２Ａは、ウェルの一側面から別の側面にわた
っている。液体およびウェルの材料次第で、液体は90度でウェルの側面に合わな
い可能性があるが、ウェルの一側面から別の側面にわたるカーブ（メニスカス）
の形で存在し得る。ポリスチレンアッセイプレートでは、水のサンプルは、完全
に平らな表面（すなわち、水サンプルが90°で側面に合う）を有する。メニスカ
スは、表面活性物質を水に加えた場合に現れるだけである。図2の1で図示される
ように、ウェルの幾何学中心に正確に合わせられる無限に細い光ビームに対して
、入射光ビームI1は液体の表面に直角入射する。大部分の光は光ビームT1として
透過されるが、少量の光が垂直反射光ビームR1として反射される。しかしながら
、光ビームがウェルの中心から2に移された場合、 入射光ビームI2は表面にθ1
角で入射する。これは、反射光ビームR2が反射光ビームR1より強度が高く、透過
光ビームT2は透過光ビームT1より強度が低いという結果になる。このように、透
過光ビーム、反射光ビームどちらもの強度の測定値が液体表面への入射角を示し
、入射光ビームがウェルに対して固定された場合（すなわちウェルの側面に平行
）、今度は液体表面の角度を示す。液体表面の角度は（ヤングおよびラプラス方
程式によって与えられるように）表面張力に左右される。表面張力が減少すると
、曲率はポリスチレンの水溶液に対して増加する。

【００２４】 この影響は、図4で示される結果で参照できる。図4を作成するために、異なる
濃度の非イオン洗剤トリトンX-100の水溶液から成る様々なサンプルが、96ウェ
ルマイクロタイタープレートに入れられた。サンプルの光学濃度がウェルの中心
から2.4ミリメートル外れた位置で測定されるように、従来のマイクロタイター
プレート読取機は修正されている。図4において、450ナノメートルの波長での見
掛け光学濃度(apparent optical density)の対数が縦軸にプロットされ、洗剤の
パーセント濃度の対数が横軸にプロットされる。洗剤濃度が減少し、したがって
液体サンプルの表面張力が増加すると（曲率の減少に結びつく）、（透過ビーム
の強度を測定することによって得られる）見掛け光学濃度もまた減少することが
理解できるであろう。これは、入射角の減少が、透過ビームの強度がより高くな
り反射ビームの強度がより低くなることを意味するからである。図4は、この方
法が1ppm程度の低い濃度の変化を検出可能であることを実証している。これは、
液滴重量に基づいた推定値よりもおよそ2オーダー感度が高い。

【００２５】 図6(A)〜(F)は、図4で示される測定結果と同様の測定結果を示すが、異なるポ
リスチレン96ウェルプレートを用いて成されている。図6(A)は、帯電していない
ラボシステムズ・クリニプレート(Labsystems Cliniplate)を使用している。図6
(B)は中間電荷を有していないグレイナ(Greiner)プレートを使用しており、図6(
C)は吸収アッセイへの蛋白系の付着が可能になるよう高帯電のコスタ(Costar)EI
A.RIAプレートを使用している。参照されるように、カーブの全てがリニア領域
を示しており、リニア領域は、濃度の強度測定、したがって表面張力および接触
角の強度測定への依存度を表す。図6(D)〜(F)はそれぞれ、異なる洗剤SDSに対す
るクリニプレート(CLINIPLATE)、グレイナ・マイクロクリア(Greiner microclea
r)プレートおよびコスタ(Costar)EIA/RIAアッセイプレートでの対応する測定値
を示す。

【００２６】 図4および6はサンプル表面上の1ポイントのみで行なわれた測定結果を示して
いるが、代替実施例では、0.5mm間隔をあけられた6つの異なるオフセットで測定
が行なわれている。ゆえに、これによって表面曲率の正確な読み取りが提供され
る。表面張力は、幾何学式の使用かまたはルックアップ表の使用によって計算で
きる。これは、（従来の方法のうちの1つで測定された）既知の表面張力のサン
プルを用いて装置を校正することによって最も好都合に形成できる。

【００２７】 図7(A)〜(C)は、アッセイプレートの同じ三つの異なるタイプでCH₃ (CH₂)₉ -
(O-CH₂ - CH₂)₈ - OHの式を有する非イオン界面活性剤の6つの異なるC10E8濃度
に対して、（縦にプロットされている）光透過と（横軸にプロットされている）
表面張力間の関係を図示している。濃度は、（従来の方法のうちの1つである気
泡径方法による測定に基づいた）公表データを用いた表面張力値に変換され、光
透過は、三タイプのアッセイプレートの各々の各濃度に対して図1の装置を使っ
て測定される。図7(A)はグレイナプレートに、図7(B)はラボシステムズ・クリニ
プレートに、図7(C)はコスタプレートに関している。データにリニアフィットす
る最小自乗回帰分析もまた、各グラフ上に図示される。各回帰ポイントに対して
、予測表面張力および吸収度が「予測読取値」としてプロットされる。したがっ
て、このリニアフィット（または、適切な他のいかなるフィット）は、一ステッ
プで表面張力値にまたは濃度値に変換される発明によって行なわれる光透過測定
を可能にするルックアップ表として、効果的に使用可能である。

【００２８】 図8(A)、（B）および(C)は、図7(A)-(C)を形成するのに用いられたようなC10E
8の一連の希釈液の表面張力測定に関して、本発明のこの実施例の方法を従来の
方法（デュ・ヌーイ・リング法）と比較している。図は、96ウェルプレートのウ
ェルの中心から2.4mm外れたところでの測定表面張力と波長450ナノメートルの光
吸収間の回帰ラインフィットを示す。2つの方法が非常に良好に一致しているこ
とが理解されよう。たとえば、グレイナプレートの相関係数は0.96である。加え
て、グレイナプレートおよびラボシステムズ・プレートの双方に関しては、唯一
大幅に異なっているポイントは、洗剤が最も低濃度の場合である。ここで、デュ
・ヌーイ・リングアッセイで得られた値はリニアフィットから逸れたものであり
、本発明の方法は予測値の近似値を提供する。

【００２９】 測定速度を改善するために、複数測定がマルチチャネル光学部品を用いて各ウ
ェル内で同時に行われるよう装置を構成できる。言い換えると、光源5は同時に
検出される多重光ビームが生成されるよう構成できる。あるいは、厳密に同時に
するのではなく、光ビームを連続して生成することもでき、そのためには、一つ
の広い検出器9のみが使われる必要がある。

【００３０】 本装置はまた、より大きいスケールのマルチチャネル光学式文字読み取り装置
を用いてプレート3のウェルの全てが同時に測定されるよう構成できる。この場
合、光源7および検出器9は、ウェル3の各々に対して提供される。これらの構成
を用いて、全ての96ウェルプレートは１秒間に幾度か測定でき、或いはウェルの
横または縦列または個々のウェルは１秒間に数百回測定できる。

【００３１】 また、アッセイプレートは従来の装置を用いて遠隔操作でき、プレートは測定
のために読取機にまわされる前に封をすることができることを理解されたい。こ
れは、極めて有毒かまたは感染性の液体の測定を行うのに本システムを使うこと
が可能であることを意味する。さらに、測定は、高揮発性化合物が存在する状態
で測定するか；または、大気圧より上または下の圧力で測定するのに、空気のな
い環境で（例えば酸化損傷を防止するためにアルゴン下で）行われてよい。

【００３２】 ステージコントローラ17はまた、アッセイプレートの温度を制御できるよう構
成されてよい。これは、表面構成が定義された温度レンジで測定でき、例えば温
度ランプが上下する間に繰り返して測定することが可能になることを意味する。
これは、有効に温度の数量化に表面張力ヒステリシスのような関連表面効果を与
えることができる。さらに、測定の速度および繰返精度は、測定が反応中に繰り
返されることを可能にし、例えば、読取機内でオプションとして試薬を加えるこ
とによって反応開始後に起こる表面張力の変化に従うことを可能にする。このよ
うに、測定がコンタクトレスであり、非破壊的であり、また繰り返し可能である
という事実は、装置を非常に用途の広いものにする。

【００３３】 本発明の1つのアプリケーションはプロセス制御分野のものであり、ここでは
、表面活性（例えば表面張力）によって測定できるような一貫した製品の質を維
持することが要求される。この実施例で、装置は製品の標準サンプルをとってそ
れらを測定の対象とするように構成されている。絶対値を見つけるのではなく、
製品の品質が変化したかどうかを判断することにのみ興味がある場合に、一つの
測定、すなわちサンプル表面の１ポジションにおける測定が必要なだけである。
したがって、オフセット（たとえば図2のポジション2）での一測定で十分である
。結果は、生成プロセスにフィードバックされてプロセスパラメータ（たとえば
幾つかの試薬の割合）を制御できる。

【００３４】 複数の測定が表面にわたって行なわれた場合、透過ビームまたは反射ビームの
強度の表面にわたる変化率は重要である可能性があると理解されよう。この変化
率の表れは、2つの異なるポイントで測定された強度の比率を求めることによっ
て得ることができる。曲率の強度への影響は、中心からオフセットの場合が最大
であり、これは（単一または複数の測定のどちらが行なわれた場合にも）測定に
は好適な位置である。しかし、使用する光ビームが無限に細くはないので（しか
し、有限の直径を有する）、ウェルの中心においてさえ、透過または反射ビーム
の強度は表面の曲率によって影響を受ける。したがって、ウェルの中心において
さえ測定を行うことができる。

【００３５】 本発明と同種のアプリケーションが、液体での検体の表面活性を求める際に存
在する。濃度（または反応の際の時間）による表面活性の変化は、先に述べたよ
うに液体の表面曲率を測定することによって求めることができる。

【００３６】 マイクロタイタープレートでのサンプルの表面曲率の影響が標準測光測定中の
有意なエラーの原因でありえることは理解されよう。したがって、マイクロタイ
タープレートでのサンプルの蛍光または測色法測定において、光源および検出器
ヘッドがサンプルウェルで一貫して整列していないか、或いは予想外の界面活性
剤特性を有する化合物が存在する状態で、予想外の変化が起こる可能性がある。
一般的に、光ビームおよびウェル間のアライメントは、測定がプレートにわたっ
て進行するのに伴い次第に変化することがわかっている。このミスアライメント
に起因する透過または反射光ビームの強度の変化を求めることができ、次いでこ
の変化を実際の測光測定から差し引くことができることから、本発明はこのよう
なエラーを補正する方法を提供する。1つの実施例で、これは、第１にサンプル
材料が均一に応答する（例えば、蛍光を発しないか、光を吸収しない）光周波数
でサンプルを測定することによって達成される。すなわちサンプル間の唯一の変
化は、光ビームの不完全な中心化によってのみ引き起こされる。これらの変化は
サンプルに対して測定され、次いで補正率が計算される。これらの補正率は、中
の検体の濃度にしたがってサンプルが応答する（例えば蛍光を発する）周波数で
行なわれる測光測定を補正するのに用いられる。不完全な中心化がプレートにわ
たって進行する場合、補正率はほんの僅かなサンプルウェルに対してのみ測定可
能であり、次いでサンプルウェルの残りに対して補間する。アライメントエラー
が毎回同じ場合、補正率は、1つの読取機または1つのランに対して一度計算する
必要があるだけの可能性がある。複数ウェルプレートの任意の光度測定のスクリ
ーニングアッセイを用いて不完全に特性を与えられた化合物の大きいライブラリ
をスクリーニングした場合に、このような補正は、ビームオフセットによって生
じた間違った結果（特に重要なのは間違った負数の低減）を防ぐことができる。

【００３７】 上述の実施例で、本発明は表面張力を測定するのに用いられている。しかしな
がら、測定値は光ビームの表面への入射角の特性を示しており、したがって、本
発明は表面に影響を及ぼす他の数量の測定にも適用できる。これの1つの例は、
サンプルの粘性を測定する方法で図３に図示されている。図3で図式的に示され
るように、ステージコントローラ17は、サンプルを撹拌し（このケースではサン
プルに渦を巻かせる）各サンプルウェルで渦が生成されるようプログラムされる
。この渦の結果、液体はウェルの外側に向かって移動させられ、したがって、表
面曲率は点線2aで示される静止ポジションから2bで示されるポジションに増大す
る。次いで、撹拌をやめてよく、表面が静止ポジション2aに戻るレートはサンプ
ルの粘性に左右される。この変化率は、上術の実施例とまったく同じ方法、すな
わち図2のポジション2で光ビームを用いて（すなわちウェルの中心から外れて）
測定される。あるいは、緩和時間を測定するのではなく、液体の粘性に左右され
る撹拌によって生じる曲率の変化を単に測定することができる。

【００３８】 別の代替アプリケーションが、図5で図示される。図5で、異なる濃度の２つの
サンプル2cおよび2dは、半透膜50によって分離している。時間の進行にしたがっ
て、溶媒は浸透性によって膜を横切りより低濃度のサンプルからより高濃度のサ
ンプル（図5で示されるサンプル2cから2dのように）に移動する。これによって
半透膜50下での液体の量が増え、時間に伴い半透膜を変形させる。（図2のポジ
ション2のように）中心から外れていてもよい測定光ビームは、膜が変形するの
に連れて時間と共に変化する入射角で半透膜50に入射する。この変化は、（ちょ
うど上述の実施例の場合のように測定可能な）透過または反射ビームの強度で変
化を引き起こす。半透膜が非オペークである必要があることは、もちろん理解さ
れよう。さらに、図5は半透膜50を横切って起こる浸透を図示しているが、浸透
に対して異なる経路が提供される場合フレキシブルではあるが不浸透性になるよ
う膜50をアレンジできる。このように、浸透は、必ずしも変形が測定される膜を
横切って起こる必要があるというわけではない。さらに、膜の下の圧力変化は浸
透によって必ずしも生成される必要があるというわけではなくて、他のどのトラ
ンスポートメカニズムによっても生成可能であり、膜50は膜の下の液体または気
体の圧力変化を測定するのに便利な方法として単に使用される。

【００３９】 上述の実施例において、測定されるのは透過光ビームである。しかしながら、
反射光ビームの強度は入射角の変化にともない変わるので、したがって、測定に
反射光ビームを使うことも等しく可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の第１の実施例の概略図である。

【図２】 本発明の原理を図示するダイヤグラムである。

【図３】 本発明の代替用途を図示する概略図である。

【図４】 本発明の第１の実施例からの実験結果を示すグラフである。

【図５】 本発明の別の用途を示している概略図である。

【図６(Ａ)】 本発明の第１の実施例の更なる実験結果を示すグラフである。

【図６(Ｂ)】 本発明の第１の実施例の更なる実験結果を示すグラフである。

【図６(Ｃ)】 本発明の第１の実施例の更なる実験結果を示すグラフである。

【図６(Ｄ)】 本発明の第１の実施例の更なる実験結果を示すグラフである。

【図６(Ｅ)】 本発明の第１の実施例の更なる実験結果を示すグラフである。

【図６(Ｆ)】 本発明の第１の実施例の更なる実験結果を示すグラフである。

【図７(Ａ)】 本発明の第１の実施例の更なる実験結果を示す。

【図７(Ｂ)】 本発明の第１の実施例の更なる実験結果を示す。

【図７(Ｃ)】 本発明の第１の実施例の更なる実験結果を示す。

【図８(Ａ)】 本発明の方法で測定された表面張力と従来の方法で測定された表面張力の比較
を示す。

【図８(Ｂ)】 本発明の方法で測定された表面張力と従来の方法で測定された表面張力の比較
を示す。

【図８(Ｃ)】 本発明の方法で測定された表面張力と従来の方法で測定された表面張力の比較
を示す。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ，ＴＲ)，ＯＡ(ＢＦ ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ， ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，Ｇ Ｍ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＭＺ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ ，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ， ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＧ，ＡＬ，ＡＭ， ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，Ｂ Ｚ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＲ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ ，ＤＭ，ＤＺ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ， ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，Ｊ Ｐ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＡ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ， ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＭＺ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，Ｒ Ｏ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＴＺ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ， ＶＮ，ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ (72)発明者 マシュー コッティンガム イギリス， アール ジー ８ ８ エス ピー リーディング アッパー バジル ドン キルン コーナー ブリッケン Ｆターム(参考） 2F065 AA46 BB15 DD02 DD06 EE08 GG03 GG04 HH04 HH12 JJ08 QQ03 QQ17 QQ18 QQ29 SS01

Claims (21)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 表面の構成を測定する方法であって、前記方法は、表面を光
   のビームで照光するステップと、反射ビームまたは透過ビームの強度を測定する
   ステップと、を備える方法。
2. 【請求項２】 複数の測定が表面にわたって間隔をあけられたポイントで行
   われる、請求項１記載の方法。
3. 【請求項３】 前記複数の測定が同時に行われる、請求項２記載の方法。
4. 【請求項４】 前記複数のポイントのうちの2つで透過または反射ビームの
   強度の比率を計算するステップを更に備える、請求項２または３記載の方法。
5. 【請求項５】 表面が複数のサンプルのうちの1つの表面であり、強度を測
   定するステップが、前記サンプルの各々に対して強度を測定するステップを備え
   る、前記請求項の何れか一項に記載の方法。
6. 【請求項６】 表面が液体のメニスカスである、前記請求項の何れか一項に
   記載の方法。
7. 【請求項７】 サンプルがウェルに含まれ、表面がウェルの壁の間で広がっ
   ている、請求項６記載の方法。
8. 【請求項８】 光のビームがウェルの中心から外れた液体の表面に入射する
   、請求項７記載の方法。
9. 【請求項９】 ウェルがウェルのアレーのうちの1つである、請求項６また
   は７に記載の方法。
10. 【請求項１０】 ウェルの各々の液体表面を同時に照光するステップと、透
    過または反射強度を測定するステップとを備える、請求項９に記載の方法。
11. 【請求項１１】 透過または反射ビームの強度から、液体の表面張力を求め
    るステップを更に含む、請求項６〜１０の何れか一項に記載の方法。
12. 【請求項１２】 複数の異なる検体濃度に対する前記請求項の何れか一項に
    記載の方法によって液体の表面の構成を測定するステップによって、液体での検
    体の表面活性を測定する方法。
13. 【請求項１３】 ウェルと読取機の光ビームの相対位置の変化に起因するエ
    ラーに対して、マイクロタイタープレートのそれぞれのウェルに含まれる複数の
    サンプル上のプレート読取機によって行われる測光測定を補正する方法であって
    、前記方法は、 各々のサンプルをサンプルが均一な応答を有する周波数の光ビームで照光す
    るステップと、 透過または反射光の強度を測定するステップと、 表面への光ビームの入射角の変化によって生じる強度のウェルからウェルへ
    の変化に対する補正率を測定から導き出すステップと、 前記補正率を用いて前記測光測定を補正するステップと、 を備える方法。
14. 【請求項１４】 補正率はプレートの幾つかのウェルだけに対して導き出さ
    れ、プレートの他のウェルに対しては補間される、請求項１３記載の方法。
15. 【請求項１５】 液体を撹拌して表面を変形させることによって液体の粘性
    を測定し、請求項１〜１０の何れか一項に記載の方法を用いて表面の構成の変化
    を測定する方法。
16. 【請求項１６】 撹拌を中止するステップと、表面の構成の変化率を測定す
    るステップとを備える、請求項１５記載の方法。
17. 【請求項１７】 前記撹拌は液体で渦を生成するよう構成される、請求項１
    ５または１６に記載の方法。
18. 【請求項１８】 サンプルを支持している基板に対する液体サンプルの表面
    の角度を測定する装置であって、前記装置は、 表面を基板に対して固定された角度で照光し、予め決められたサンプルの中
    心からのオフセットでサンプルを照光するように構成された光ビームを生成する
    光源と、 透過または反射光の強度を測定する手段と、 を備える装置。
19. 【請求項１９】 基板がサンプルを閉じ込めるウェルを備え、光ビームがウ
    ェルの壁に平行であり前記予め決められたウェルの中心からのオフセットにある
    、請求項１８記載の装置。
20. 【請求項２０】 液体サンプルの表面張力を透過または反射光の強度から計
    算する手段を更に備える、請求項１７または１８に記載の装置。
21. 【請求項２１】 添付の図によって上術され且つ図示されるように表面の曲
    率を実質的に測定する方法。