JP2003519118A - Ｎ−置換された２，４−ジアミノ−５−フルオロベンゾニトリル類の製造方法及び新規な中間体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明は、除草剤の製造における中間体として既知であるＮ−置換された２，４−ジアミノ−５−フルオロ−ベンゾニトリルを製造する新規な方法に関する。本発明はさらに、対応する中間体としての新規なＮ−置換された４−ブロモ−６−フルオロ−１，３−フェニレンジアミン、新規なＮ−置換された２−ブロモ−４−フルオロ−５−ニトロ−アニリン及び新規なＮ−置換された２−ブロモ−４−フルオロ−アニリン、並びにそれらを製造する方法に関する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】 本発明は、除草剤の製造における中間体として既知であるＮ−置換された２，
４−ジアミノ−５−フルオロ−ベンゾニトリルを製造するための新規な方法、こ
の方法の中間体としての新規なＮ−置換された４−ブロモ−６−フルオロ−１，
３−フェニレンジアミン、新規なＮ−置換された２−ブロモ−４−フルオロ−５
−ニトロ−アニリン及び新規なＮ−置換された２−ブロモ−４−フルオロ−アニ
リン、並びにそれらの製造方法に関する。

【０００２】 例えばＮ−（５−アミノ−２−シアノ−４−フルオロ−フェニル）メタンスル
ホンアミドのようなある種のＮ−（５−アミノ−２−シアノ−４−フルオロ−フ
ェニル）アルカンスルホンアミドは、例えば１−アミノ−４−シアノ−２，５−
ジフルオロ−ベンゼンのような適切なハロゲン化ベンゼン誘導体を、例えば炭酸
カリウムのような酸結合剤の存在下で、そして例えばＮ−メチルピロリドンのよ
うな希釈剤の存在下で、例えばメタンスルホンアミドのようなアルカンスルホン
アミドと加熱すると得られることは既知である（ＥＰ−Ａ−６４８ ７７２を参
照 ）。しかしながら、この方法を用いると、所望の生成物は、しばしば不十分
な収率で得られる。

【０００３】 さらに、例えばＮ−（５−アミノ−２−シアノ−４−フルオロ−フェニル）メ
タンスルホンアミドのようなある種のＮ−（５−アミノ−２−シアノ−４−フル
オロ−フェニル）スルホンアミドは、第一の工程において、２−アミノ−４，５
−ジフルオロ−ベンゾニトリルを、例えばトリエチルアミンのような酸結合剤の
存在下で、そして例えばアセトニトリルのような希釈剤の存在下で、例えば塩化
メタンスルホニルのようなハロゲン化スルホニルと反応させ、そして生成するス
ルホニル化産物を、第二の工程において、例えばテトラヒドロフランのような希
釈剤の存在下でアンモニアと反応させると得られることは既知である（ＷＯ−Ａ
−９９／０５０９８を参照）。この方法においてもまた、所望の生成物は、しば
しば不十分な収率で得られる。

【０００４】 さらに、いくつかのＮ−置換された４−クロロ−６−フルオロ−１，３−フェ
ニレンジアミンは、（特許）文献からすでに既知である（ＷＯ−Ａ−９８／３７
０６５を参照）。しかしながら、対応するＮ−置換された４−ブロモ−６−フル
オロ−１，３−フェニレンジアミンは、これまで開示されていない。

【０００５】 今回、一般式（Ｉ）

【０００６】

【化１５】

【０００７】 式中、 Ｒ¹は各場合において場合により置換されていてもよいアルキルスルホニルも
しくはアリールスルホニルを表し、そして Ｒ²は水素または各場合において場合により置換されていてもよいアルコキシ
カルボニルもしくはアリールオキシカルボニルを表す、 のＮ−置換された２，４−ジアミノ−５−フルオロ−ベンゾニトリルは、第一の
反応工程において、式（ＩＩ）

【０００８】

【化１６】

【０００９】 の２−ブロモ−４−フルオロ−アニリンを、適宜１種もしくはそれ以上の反応助
剤の存在下で、そして適宜１種もしくはそれ以上の希釈剤の存在下で、−２０℃
〜＋１００℃の間の温度において、一般式（ＩＩＩ） Ｘ¹−Ｒ¹ （ＩＩＩ） 式中、 Ｒ¹は上記定義のとおりであり、そして Ｘ¹はハロゲンを表す、のアシル化もしくはスルホニル化剤と反応させ、 生成する一般式（ＩＶ）

【００１０】

【化１７】

【００１１】 式中 Ｒ¹は上記定義のとおりである、のＮ−置換された２−ブロモ−４−フルオロ
−アニリンを、第二の反応工程において、適宜１種もしくはそれ以上の反応助剤
の存在下で、そして適宜１種もしくはそれ以上の希釈剤の存在下で、−２０℃〜
１００℃の間の温度において、一般式（Ｖ） Ｘ²−Ｒ³ （Ｖ） 式中、 Ｒ³は各場合において場合により置換されていてもよいアルキルスルホニル、
アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アリールスルホニル、アリールカ
ルボニルもしくはアリールオキシカルボニルを表し、そして Ｘ²はハロゲンを表す、 のアシル化もしくはスルホニル化剤と反応させ、 生成する一般式（ＶＩ）

【００１２】

【化１８】

【００１３】 式中 Ｒ¹及びＲ³は上記定義のとおりである、のＮ−置換された２−ブロモ−４−フ
ルオロ−アニリンを、第三の反応工程において、適宜１種もしくはそれ以上のニ
トロ化助剤の存在下で、そして／または適宜１種もしくはそれ以上の希釈剤の存
在下で、−３０℃〜＋５０℃の間の温度において、ニトロ化剤と反応させ、 生成する一般式（ＶＩＩ）

【００１４】

【化１９】

【００１５】 式中 Ｒ¹及びＲ³は上記定義のとおりである、 のＮ−置換された２−ブロモ−４−フルオロ−５−ニトロ−アニリンを、第四の
反応工程において、適宜１種もしくはそれ以上の還元助剤の存在下で、そして適
宜１種もしくはそれ以上の希釈剤の存在下で、０℃〜１５０℃の間の温度におい
て、還元剤と反応させ、 生成する一般式（ＶＩＩＩ）

【００１６】

【化２０】

【００１７】 式中 Ｒ¹及びＲ³は上記定義のとおりである、のＮ−置換された４−ブロモ−６−フ
ルオロ−１，３−フェニレンジアミンを、適宜、第五の反応工程において、適宜
１種もしくはそれ以上の反応助剤の存在下で、そして適宜１種もしくはそれ以上
の希釈剤の存在下で、−２０℃〜＋１００℃の間の温度において、一般式（ＩＸ
） Ｘ³−Ｒ^3-1 （ＩＸ） 式中、 Ｒ^3-1は水素を除いてＲ³に対して上記に示す意味を有し、そして Ｘ³はハロゲンを表す、 のアシル化剤と反応させ 第四もしくは第五の工程において得られる、一般式（Ｘ）

【００１８】

【化２１】

【００１９】 式中、 Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は上記定義のとおりである、のＮ−置換された４−ブロモ−
６−フルオロ−１，３−フェニレンジアミンを、第六の工程において、１種もし
くはそれ以上の加水分解助剤の存在下で、そして適宜１種もしくはそれ以上の希
釈剤の存在下で、０℃〜１２０℃の間の温度において、水と反応させ、 そして生成する一般式（ＸＩ）

【００２０】

【化２２】

【００２１】 式中、 Ｒ¹及びＲ²は上記定義のとおりである、のＮ−置換された４−ブロモ−６−フ
ルオロ−１，３−フェニレンジアミンを、第七の反応工程において、適宜１種も
しくはそれ以上の希釈剤の存在下で、５０℃〜２００℃の間の温度において、金
属シアン化物と反応させると高収率で且つ非常に優れた品質で得られることが見
出された。

【００２２】 意外にも、本発明の方法により製造される一般式（Ｉ）のＮ−置換された２，
４−ジアミノ−５−フルオロ−ベンゾニトリルは、比較的簡単に高収率で且つ非
常に優れた品質で得ることができる。

【００２３】 一般に、アレーン上の臭素置換基の除去は、対応するアミノ化合物へのニトロ
化合物の還元において頻繁に認められる（望ましくない）副反応であるが、今回
、一般式（ＶＩＩＩ）の４−ブロモ−６−フルオロ−１，３−フェニレンジアミ
ンへの一般式（ＶＩＩ）の２−ブロモ−４−フルオロ−５−ニトロ−アニリンの
還元は、非常にうまく成功することを特に挙げることができる。塩素原子の置換
と異なり、最終工程におけるシアノ基との臭素置換基の交換は特に滑らかに進む
ので、本発明による反応の実施は先行技術への非常に有用な付加である。

【００２４】 本発明による方法の第一の反応工程における出発原料として使用する式（ＩＩ
）の化合物２−ブロモ−４−フルオロ−アニリンは、すでに既知である（Ｊ．Ｏ
ｒｇ．Ｃｈｅｍ．２８（１９６３），１７５９−１７６２を参照）。

【００２５】 第一の反応工程において使用する一般式（ＩＩＩ）のアシル化もしくはスルホ
ニル化剤は、合成用の既知の化学製品である。

【００２６】 上記及び下記に示す式に存在する基の好ましい置換基もしくは好ましい範囲を
以下に定義する。

【００２７】 Ｒ¹は、好ましくは、１〜６個の炭素原子を有する場合によりフッ素、塩素も
しくは臭素で置換されていてもよいアルキルスルホニルを表すか、または場合に
よりフッ素、塩素、臭素、Ｃ₁−Ｃ₄−アルキルもしくはＣ₁−Ｃ₄−アルコキシで
置換されていてもよいフェニルスルホニルを表す。

【００２８】 Ｒ²は、好ましくは、水素を表すか、アルキル基において１〜６個の炭素原子
を有する場合によりフッ素、塩素もしくは臭素で置換されていてもよいアルコキ
シカルボニルを表すか、または場合によりフッ素、塩素、臭素、Ｃ₁−Ｃ₄−アル
キルもしくはＣ₁−Ｃ₄−アルコキシで置換されていてもよいフェノキシカルボニ
ルを表す。

【００２９】 Ｒ³は、好ましくは、アルキル基において各場合に１〜６個の炭素原子を有す
る各場合において場合によりフッ素、塩素もしくは臭素で置換されていてもよい
アルキルスルホニル、アルキルカルボニルもしくはアルコキシカルボニルを表す
か、または各場合において場合によりフッ素、塩素、臭素、Ｃ₁−Ｃ₄−アルキル
もしくはＣ₁−Ｃ₄−アルコキシで置換されていてもよいフェニルスルホニル、フ
ェニルカルボニルもしくはフェノキシカルボニルを表す。

【００３０】 Ｘ¹は好ましくはフッ素、塩素、臭素もしくはヨウ素を表す。

【００３１】 Ｘ²は好ましくはフッ素、塩素、臭素もしくはヨウ素を表す。

【００３２】 Ｘ³は好ましくはフッ素、塩素、臭素もしくはヨウ素を表す。

【００３３】 Ｒ¹は、特に好ましくは、各場合において場合によりフッ素もしくは塩素で置
換されていてもよいメチルスルホニル、エチルスルホニル、ｎ−もしくはｉ−プ
ロピルスルホニル、ｎ−、ｉ−、ｓ−もしくはｔ−ブチルスルホニルを表すか、
または各場合において場合によりフッ素、塩素、臭素、メチル、エチル、ｎ−も
しくはｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−、ｓ−もしくはｔ−ブチル、メトキシ、エトキ
シ、ｎ−もしくはｉ−プロポキシで置換されていてもよいフェニルスルホニルを
表す。

【００３４】 Ｒ²は、特に好ましくは、水素を表すか、または各場合において場合によりフ
ッ素もしくは塩素で置換されていてもよいメトキシカルボニル、エトキシカルボ
ニ ル、ｎ−もしくはｉ−プロポキシカルボニル、ｎ−、ｉ−、ｓ−もしくはｔ
−ブトキシカルボニルを表すか、または場合によりフッ素、塩素、臭素、メチル
、エチル、ｎ−もしくはｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−、ｓ−もしくはｔ−ブチル、
メトキシ、エトキシ、ｎ−もしくはｉ−プロポキシで置換されていてもよいフェ
ノキシカルボニルを表す。

【００３５】 Ｒ³は、特に好ましくは、各場合において場合によりフッ素もしくは塩素で置
換されていてもよいメチルスルホニル、エチルスルホニル、ｎ−もしくはｉ−プ
ロピルスルホニル、ｎ−、ｉ−、ｓ−もしくはｔ−ブチルスルホニル、メチルカ
ルボニル、エチルカルボニル、ｎ−もしくはｉ−プロピルカルボニル、ｎ−、ｉ
−、ｓ−もしくはｔ−ブチルカルボニル、メトキシカルボニル、エトキシカルボ
ニル、ｎ−もしくはｉ−プロポキシカルボニルを表すか、または各場合において
場合によりフッ素、塩素、臭素、メチル、エチル、ｎ−もしくはｉ−プロピル、
ｎ−、ｉ−、ｓ−もしくはｔ−ブチル、メトキシ、エトキシ、ｎ−もしくはｉ−
プロポキシで置換されていてもよいフェニルスルホニル、フェニルカルボニルも
しくはフェノキシカルボニルを表す。

【００３６】 Ｘ¹は特に好ましくはフッ素、塩素もしくは臭素を表す。

【００３７】 Ｘ²は特に好ましくはフッ素、塩素もしくは臭素を表す。

【００３８】 Ｘ³は特に好ましくはフッ素、塩素もしくは臭素を表す。

【００３９】 Ｒ¹は、非常に特に好ましくは、各場合において場合によりフッ素もしくは塩
素で置換されていてもよいメチルスルホニル、エチルスルホニル、ｎ−もしくは
ｉ−プロピルスルホニル、ｎ−もしくはｉ−ブチルスルホニルを表す。

【００４０】 Ｒ²は、非常に特に好ましくは、水素を表すか、またはメトキシカルボニル、
エトキシカルボニル、ｎ−もしくはｉ−プロポキシカルボニルを表す。

【００４１】 Ｒ³は、非常に特に好ましくは、各場合において場合によりフッ素もしくは塩
素で置換されていてもよいメチルスルホニル、エチルスルホニル、ｎ−もしくは
ｉ−プロピルスルホニル、ｎ−もしくはｉ−ブチルスルホニル、メチルカルボニ
ル、エチルカルボニル、ｎ−もしくはｉ−プロピルカルボニル、ｎ−、ｉ−、ｓ
−もしくはｔ−ブチルカルボニルを表すか、またはメトキシカルボニル、エトキ
シカルボニル、ｎ−もしくはｉ−プロポキシカルボニルを表す。

【００４２】 Ｘ¹は非常に特に好ましくは塩素を表す。

【００４３】 Ｘ²は非常に特に好ましくは塩素を表す。

【００４４】 Ｘ³は非常に特に好ましくは塩素を表す。

【００４５】 一般式（ＩＩＩ）、（Ｖ）及び（ＩＸ）の出発原料は、合成用の既知の化学製
品である。

【００４６】 本発明による方法の第一及び第二の反応工程は、好ましくは、１種もしくはそ
れ以上の反応助剤の存在下で実施する。ここで、適当な反応助剤は、一般に、通
例の無機もしくは有機の塩基もしくは酸受容体である。これらには、好ましくは
、例えば酢酸ナトリウム、酢酸カリウムもしくは酢酸カルシウム、リチウムアミ
ド、ナトリウムアミド、カリウムアミドもしくはカルシウムアミド、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウムもしくは炭酸カルシウム、重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウ
ムもしくは重炭酸カルシウム、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリ
ウムもしくは水素化カルシウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウムもしくは水酸化カルシウム、ナトリウムメトキシド、エトキシド、ｎ−も
しくはｉ−プロポキシド、ｎ−、ｉ−、ｓ−もしくはｔ−ブトキシドまたはカリ
ウムメトキシド、エトキシド、ｎ−もしくはｉ−プロポキシド、ｎ−、ｉ−、ｓ
−もしくはｔ−ブトキシドのようなアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の酢
酸塩、アミド、炭酸塩、重炭酸塩、水素化物、水酸化物もしくはアルコキシド；
さらにまた例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、
トリブチルアミン、エチル−ジイソプロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−シクロ
ヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミン、エチル−ジシクロヘキシルアミン、
Ｎ，Ｎ−ジメチル−アニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ベンジルアミン、ピリジン、
２−メチル−、３−メチル−、４−メチル−、２，４−ジメチル−、２，６−ジ
メチル−、３，４−ジメチル−及び３，５−ジメチル−ピリジン、５−エチル−
２−メチル−ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ−メチル−ピペリジン
、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］−オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，５−
ジアザビシクロ［４．３．０］−ノン−５−エン（ＤＢＮ）もしくは１，８−ジ
アザビシクロ［５．４．０］−ウンデク−７−エン（ＤＢＵ）のような塩基性有
機窒素化合物も包含される。

【００４７】 使用する反応助剤は、好ましくは塩基性有機窒素化合物、特にピリジンもしく
はトリエチルアミンである。

【００４８】 本発明による方法の第一及び第二の反応工程は、好ましくは、１種もしくはそ
れ以上の希釈剤の存在下で実施する。ここで、適当な希釈剤は、特に不活性の有
機溶媒である。これらには、特に、例えばベンジン、ベンゼン、トルエン、キシ
レ ン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、石油エーテル、ヘキサン、シクロ
ヘキサン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素のような脂肪族、脂環式
もしくは芳香族の、場合によりハロゲン化されていてもよい炭化水素；ジエチル
エーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランまたはエ
チレングリコールジメチルもしくはエチレングリコールジエチルエーテルのよう
なエーテル；アセトン、ブタノンもしくはメチルイソブチルケトンのようなケト
ン；アセトニトリル、プロピオニトリルもしくはブチロニトリルのようなニトリ
ル；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチ
ル−ホルムアニリド、Ｎ−メチル−ピロリドンもしくはヘキサメチルリン酸トリ
アミドのようなアミド；酢酸メチルもしくは酢酸エチルのようなエステル；ジメ
チルスルホキシドのようなスルホキシドが包含される。

【００４９】 使用する希釈剤は、好ましくはハロゲン化炭化水素、特に塩化メチレン、もし
くはニトリル、特にアセトニトリルである。

【００５０】 本発明による方法の第一及び第二の反応工程を実施する場合、反応温度を比較
的広い範囲内で変えることができる。一般に、これらの反応工程は、−２０℃〜
＋１００℃の間、好ましくは−１０℃〜＋８０℃の間、特に０℃〜＋６０℃の間
の温度で実施する。

【００５１】 本発明による方法の第一及び第二の反応工程は、一般に大気圧下で実施する。
しかしながら、これらの反応を高圧もしくは減圧下、一般に０．１ｂａｒ〜１０
ｂａｒの間で実施することもまた可能である。

【００５２】 本発明による方法の第一の反応工程を実施するためには、一般に、式（ＩＩ）
の２−ブロモ−４−フルオロ−アニリンの１モルにつき１ｍｏｌ〜５ｍｏｌ、好
ましくは１．０ｍｏｌ〜２．５ｍｏｌの一般式（ＩＩＩ）のアシル化もしくはス
ルホニル化剤及び１〜５ｍｏｌ、好ましくは１．０ｍｏｌ〜２．５ｍｏｌの反応
助剤を用いる。

【００５３】 第一の反応工程の好ましい態様として、最初に式（ＩＩ）の２−ブロモ−４−
フルオロ−アニリンを希釈剤に反応助剤と一緒に添加し、そして次にこの混合物
に一般式（ＩＩＩ）のアシル化もしくはスルホニル化剤を（適宜わずかに冷却し
ながら）攪拌しながらゆっくりと計量して供給する。次に完全な反応混合物を反
応が終了するまで（適宜わずかに高温で）攪拌する。

【００５４】 本発明による方法の第二の反応工程を実施するためには、一般に、一般式（Ｉ
Ｖ）のＮ−置換された２−ブロモ−４−フルオロ−アニリンの１モルにつき１ｍ
ｏｌ〜３ｍｏｌ、好ましくは１．０ｍｏｌ〜１．５ｍｏｌの一般式（Ｖ）のアシ
ル化もしくはスルホニル化剤及び１〜３ｍｏｌ、好ましくは１．０ｍｏｌ〜１．
５ｍｏｌの反応助剤を用いる。

【００５５】 第二の反応工程の好ましい態様として、最初に式（ＩＶ）のＮ−置換された２
−ブロモ−４−フルオロ−アニリンを希釈剤に反応助剤と一緒に添加し、そして
次にこの混合物に一般式（Ｖ）のアシル化もしくはスルホニル化剤を（適宜わず
かに冷却しながら）攪拌しながらゆっくりと計量して供給する。次に完全な反応
混合物を反応が終了するまで（適宜わずかに高温で）攪拌する。

【００５６】 個々の場合において、第一及び第二の反応工程のアシル化もしくはスルホニル
化剤が同一であるならば、これら二つの工程を一つの反応工程に合わせることが
でき、すなわち、それらを一つの工程で実施する。

【００５７】 第一及び第二の反応工程の生成物の処理は、通例のように実施することができ
る。使用する希釈剤が実質的に水と混和しない場合、水で直接洗浄することが可
能である。そうでなければ（適宜濃縮後に）、混合物を水及び例えば塩化メチレ
ンのような実質的に水と混和しない有機溶媒と振盪する。次に有機相から、適宜
乾燥及び濾過後に、減圧下での溶媒の注意深い蒸留除去により式（ＩＶ）もしく
は式（ＶＩ）の中間体を残留物として得ることが可能である。ある場合には、式
（ＩＶ）もしくは（ＶＩ）の生成物はまた、反応混合物を水性の酸（適宜氷との
混合物の、例えば塩酸）に注ぐことにより結晶質形態で得ることもできる。次に
それらを吸引での濾過により単離することができる。

【００５８】 化合物Ｎ−（２−ブロモ−４−フルオロ−フェニル）−ベンゼンスルホンアミ
ド（Ｃｈｅｍ．Ａｂｓｔｒａｃｔｓ １０３：１４１３２５に引用されるＩｚｖ
．Ａｋａｄ．Ｎａｕｋ ＳＳＳＲ，Ｓｅｒ．Ｋｈｉｍ．（１９８５），（４），
９００−９０４を参照）及びＮ−（２−ブロモ−４−フルオロ−フェニル）−１
，１，１−トリフルオロ−メタンスルホンアミド（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．（１
９７５），４０（４），４２８−４３１；ＵＳ−Ａ−３９２０４４４を参照）を
除いて、本発明による方法の第一の反応工程により得ることができる一般式（Ｉ
Ｖ）のＮ−置換された２−ブロモ−４−フルオロ−アニリンは、これまで文献に
開示されておらず；Ｎ−（２−ブロモ−４−フルオロ−フェニル）−ベンゼンス
ルホンアミド及びＮ−（２−ブロモ−４−フルオロ−フェニル）−１，１，１−
トリフルオロ−メタンスルホンアミドを除いて、それらもまた、新規な物質とし
て本願の主題の一部を成す。

【００５９】 本発明による方法の第二の反応工程により得ることができる一般式（ＶＩ）の
Ｎ−置換された２−ブロモ−４−フルオロ−アニリンは、これまで文献に開示さ
れ ておらず；新規な物質として、それらもまた本願の主題の一部を成す。 本発明による方法の第三の反応工程は、ニトロ化剤を用いて実施する。使用する
ニトロ化剤は、好ましくは硝酸（これは、適宜、３０％までの水を含有する）で
ある。

【００６０】 本発明による方法の第三の反応工程は、適宜、１種もしくはそれ以上のニトロ
化助剤を用いて実施する。適当なニトロ化助剤は、好ましくは、例えば硫酸、「
発煙硫酸」、酢酸もしくは無水酢酸のような、（実質的に無水の）酸もしくは酸
無水物である。

【００６１】 ニトロ化剤及びニトロ化助剤の混合物として濃硝酸及び濃硫酸の混合物を使用
することが非常に特に好ましい。

【００６２】 本発明による方法の第三の反応工程は、適宜、１種もしくはそれ以上の希釈剤
の存在下で実施する。適当な希釈剤は、特に不活性の有機溶媒、特に例えば塩化
メチレン、クロロホルムもしくは四塩化炭素のようなハロゲン化アルカンである
。

【００６３】 本発明による方法の第三の反応工程を実施する場合、反応温度を比較的広い範
囲内で変えることができる。一般に、反応工程は、−３０℃〜＋５０℃の間、好
ましくは−２０℃〜＋４０℃の間、特に−１０℃〜＋３０℃の間の温度で実施す
る。

【００６４】 本発明による方法の第三の反応工程は、一般に大気圧下で実施する。しかしな
がら、本発明による方法の第三の工程を高圧もしくは減圧下、一般に０．１ｂａ
ｒ〜１０ｂａｒの間で実施することもまた可能である。

【００６５】 本発明による方法の第三の反応工程を実施するためには、一般に、一般式（Ｖ
Ｉ）のＮ−置換された２−ブロモ−４−フルオロ−アニリンの１モルにつき１ｍ
ｏｌ〜２０ｍｏｌ、好ましくは２〜１０ｍｏｌのニトロ化剤及び１〜５０ｍｏｌ
、好ましくは２〜３０ｍｏｌのニトロ化助剤を使用する。

【００６６】 第三の反応工程の好ましい態様として、最初にニトロ化剤を好ましくはニトロ
化助剤と一緒に添加し、そしてＮ−置換された２−ブロモ−４−フルオロ−アニ
リンを好ましくは冷却しながら計量して供給する。反応混合物を反応が終了する
まで攪拌する。

【００６７】 第三の反応工程の生成物の処理は、通例のように実施することができる。好ま
しくは、反応混合物を氷上に注ぎ、結晶質生成物を吸引での濾過により単離し、
そして水及び例えば酢酸エチルのような実質的に水と混和しない有機溶媒と振盪
し、そして有機相を重炭酸ナトリウム飽和水溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾
燥させ、濾過する。減圧下での蒸留による溶媒の注意深い除去により式（ＶＩＩ
） のＮ−置換された２−ブロモ−４−フルオロ−５−ニトロ−アニリンが残留
物として得られる。

【００６８】 本発明による方法の第三の反応工程により得ることができる一般式（ＶＩＩ）
のＮ−置換された２−ブロモ−４−フルオロ−５−ニトロ−アニリンは、これま
で文献に開示されておらず；新規な物質として、それらもまた本願の主題の一部
を成す。

【００６９】 本発明による方法の第四の反応工程は、適宜、１種もしくはそれ以上の還元助
剤の存在下で、そして／または適宜１種もしくはそれ以上の希釈剤の存在下で、
還元剤を用いて実施する。ここで、芳香族ニトロ化合物を対応するアミノ化合物
に転化するために通例の還元剤を（適宜、適当な還元助剤及び希釈剤と一緒に）
使用することが好ましい。これらには、好ましくは、（ａ）例えば白金もしくは
パラジウム（各場合に、適宜、「被毒された（ｐｏｉｓｏｎｅｄ）」及び例えば
活性炭もしくは硫酸バリウムのような担体上の、ラネーニッケルもしくはラネー
コバルト）のような触媒の存在下でそして例えばテトラヒドロフランもしくはジ
オキサンのような希釈剤の存在下の水素、（ｂ）例えば塩酸もしくは酢酸のよう
な酸の存在下の例えばスズ、塩化スズ（ＩＩ）、鉄（粉末）のような、金属もし
くは金属塩が包含される。

【００７０】 本発明による方法の第四の反応工程を実施する場合、反応温度を比較的広い範
囲内で変えることができる。一般に、反応工程は、０℃〜１５０℃の間、好まし
くは１０℃〜１２０℃の間、特に２０℃〜１００℃の間の温度で実施する。

【００７１】 本発明による方法の第四の反応工程を実施するためには、一般に、一般式（Ｖ
ＩＩ）のＮ−置換された２−ブロモ−４−フルオロ−５−ニトロ−アニリンの１
モルにつき１ｍｏｌ〜２０ｍｏｌ、好ましくは２〜１０ｍｏｌの還元剤を用いる
。

【００７２】 第四の反応工程の好ましい態様として、Ｎ−置換された２−ブロモ−４−フル
オロ−５−ニトロ−アニリンを好ましくは還元助剤と一緒に最初に添加し、そし
て還元剤を計量して供給する。次に反応混合物を反応が終了するまで攪拌する。

【００７３】 第四の反応工程の生成物の処理は、通例のように実施することができる。好ま
しくは、反応混合物を濾過し、そして濾液を減圧下で濃縮する。残留物を例えば
酢酸エチルのような水と混和しない有機溶媒に溶解し、重炭酸ナトリウム水溶液
で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、そして濾過する。減圧下での蒸留によ
る濾液からの溶媒の注意深い除去により一般式（ＶＩＩＩ）のＮ−置換された４
− ブロモ−６−フルオロ−１，３−フェニレンジアミンが残留物として得られ
る。

【００７４】 本発明による方法の第四の反応工程により得ることができる一般式（ＶＩＩＩ
）のＮ−置換された２−ブロモ−６−フルオロ−１，３−フェニレンジアミンは
、これまで文献に開示されておらず；新規な物質として、それらもまた本願の主
題の一部を成す。

【００７５】 本発明による方法の第五の反応工程は、好ましくは、１種もしくはそれ以上の
反応助剤の存在下で実施する。ここで、適当な反応助剤は、一般に、通例の無機
もしくは有機の塩基もしくは酸受容体である。これらには、好ましくは、例えば
酢酸ナトリウム、酢酸カリウムもしくは酢酸カルシウム、リチウムアミド、ナト
リウムアミド、カリウムアミドもしくはカルシウムアミド、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウムもしくは炭酸カルシウム、重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムもしく
は重炭酸カルシウム、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムもし
くは水素化カルシウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムも
しくは水酸化カルシウム、ナトリウムメトキシド、エトキシド、ｎ−もしくはｉ
−プロポキシド、ｎ−、ｉ−、ｓ−もしくはｔ−ブトキシドまたはカリウムメト
キシド、エトキシド、ｎ−もしくはｉ−プロポキシド、ｎ−、ｉ−、ｓ−もしく
はｔ−ブトキシドのようなアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の酢酸塩、ア
ミド、炭酸塩、重炭酸塩、水素化物、水酸化物もしくはアルコキシド；さらにま
た例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチ
ルアミン、エチルジイソプロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルシクロヘキシルアミ
ン、ジシクロヘキシルアミン、エチル−ジシクロヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ベンジルアミン、ピリジン、２−メチル−、
３−メチル−、４−メチル−、２，４−ジメチル−、２，６−ジメチル−、３，
４−ジメチル−及び３，５−ジメチル−ピリジン、５−エチル−２−メチル−ピ
リジン、４−ジメチルアミノ−ピリジン、Ｎ−メチル−ピペリジン、１，４−ジ
アザビシクロ［２．２．２］−オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，５−ジアザビシク
ロ［４．３．０］−ノン−５−エン（ＤＢＮ）もしくは１，８−ジアザビシクロ
［５．４．０］−ウンデク−７−エン（ＤＢＵ）のような塩基性有機窒素化合物
も包含される。

【００７６】 使用する反応助剤は、好ましくは塩基性有機窒素化合物、特にピリジンもしく
はトリエチルアミンである。

【００７７】 本発明による方法の第五の反応工程は、好ましくは、１種もしくはそれ以上の
希釈剤の存在下で実施する。ここで、適当な希釈剤は、特に不活性の有機溶媒で
ある。これらには、特に、例えばベンジン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ク
ロロベンゼン、ジクロロベンゼン、石油エーテル、ヘキサン、シクロヘキサン、
ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素のような脂肪族、脂環式もしくは芳
香族の、場合によりハロゲン化されていてもよい炭化水素；ジエチルエーテル、
ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランまたはエチレングリ
コールジメチルエーテルもしくはエチレングリコールジエチルエーテルのような
エーテル；アセトン、ブタノンもしくはメチルイソブチルケトンのようなケトン
；アセトニトリル、プロピオニトリルもしくはブチロニトリルのようなニトリル
；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル
−ホルムアニリド、Ｎ−メチル−ピロリドンもしくはヘキサメチルリン酸トリア
ミドのようなアミド；酢酸メチルもしくは酢酸エチルのようなエステル；ジメチ
ルスルホキシドのようなスルホキシドが包含される。

【００７８】 例えばアセトン、ブタノンもしくはメチルイソブチルケトンのようなケトン、
例えばアセトニトリル、プロピオニトリルもしくはブチロニトリルのようなニト
リル、または例えばＮ，Ｎ−ジメチル−ホルムアミドもしくはＮ，Ｎ−ジメチル
−アセトアミドのようなアミドの群からの非プロトン性極性溶媒を使用すること
が好ましい。

【００７９】 本発明による方法の第五の反応工程を実施する場合、反応温度を比較的広い範
囲内で変えることができる。一般に、反応工程は、−２０℃〜＋１００℃の間、
好ましくは−１０℃〜８０℃の間、特に０℃〜６０℃の間の温度で実施する。

【００８０】 本発明による方法の第五の反応工程は、一般に大気圧下で実施する。しかしな
がら、第五の反応工程を高圧もしくは減圧下、一般に０．１ｂａｒ〜１０ｂａｒ
の間で実施することもまた可能である。

【００８１】 本発明による方法の第五の反応工程を実施するためには、一般に、一般式（Ｖ
ＩＩＩ）のＮ−置換された４−ブロモ−６−フルオロ−１，３−フェニレンジア
ミンの１モルにつき０．９ｍｏｌ〜１．５ｍｏｌ、好ましくは０．９５ｍｏｌ〜
１．２ｍｏｌの一般式（ＩＸ）のアシル化剤及び１．０〜２．０ｍｏｌ、好まし
くは１．１〜１．５ｍｏｌの反応助剤を用いる。

【００８２】 本発明による方法の第五の反応工程の好ましい態様として、最初に一般式（Ｖ
ＩＩＩ）の４−ブロモ−６−フルオロ−１，３−フェニレンジアミンを希釈剤に
反応助剤と一緒に添加し 、そして一般式（ＩＸ）のアシル化剤を適宜わずかに
冷却しながら計量して供給する。反応混合物を反応が終了するまで攪拌する。

【００８３】 第五の反応工程の生成物の処理は、通例のように実施することができる。例え
ば、反応混合物を（氷）水に注ぐことができ、そして生成物が結晶質形態で得ら
れる場合、それを吸引での濾過により単離することができる。しかしながら、反
応混合物を水及び例えば塩化メチレンのような実質的に水と混和しない有機溶媒
と振盪すること、有機相を水で洗浄すること、そして乾燥させ、それを濾過する
こともまた可能である。一般式（Ｘ）のＮ−置換された４−ブロモ−６−フルオ
ロ−１，３−フェニレンジアミンは、減圧下での蒸留による溶媒の注意深い除去
により残留物として得ることができる。

【００８４】 本発明による方法の第五の反応工程により得ることができる一般式（Ｘ）のＮ
−置換された４−ブロモ−６−フルオロ−１，３−フェニレンジアミンは、これ
まで文献に開示されておらず；新規な物質として、それらもまた本願の主題の一
部を成す。

【００８５】 本発明による方法の第六の反応工程は、１種もしくはそれ以上の加水分解助剤
の存在下で実施する。ここで、適当な加水分解助剤は、好ましくは無機塩基であ
る。これらには、好ましくは、例えば酢酸ナトリウム、酢酸カリウムもしくは酢
酸カルシウム、リチウムアミド、ナトリウムアミド、カリウムアミドもしくはカ
ルシウムアミド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムもしくは炭酸カルシウム、重炭
酸ナトリウム、重炭酸カリウムもしくは重炭酸カルシウム、水素化リチウム、水
素化ナトリウム、水素化カリウムもしくは水素化カルシウム、水酸化リチウム、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウムもしくは水酸化カルシウム、ナトリウムメト
キシド、エトキシド、 ｎ−もしくはｉ−プロポキシド、ｎ−、ｉ−、ｓ−も
しくはｔ−ブトキシドまたはカリウムメトキシド、エトキシド、ｎ−もしくはｉ
−プロポキシド、ｎ−、ｉ−、ｓ−もしくはｔ−ブトキシドのようなアルカリ金
属もしくはアルカリ土類金属の酢酸塩、アミド、炭酸塩、重炭酸塩、水素化物、
水酸化物もしくはアルコキシドが包含される。

【００８６】 使用する加水分解助剤は、好ましくはアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属
の水素化物もしくは水酸化物、特に水素化ナトリウム、並びに水酸化ナトリウム
もしくは水酸化カリウムである。

【００８７】 本発明による方法の第六の反応工程は、適宜、１種もしくはそれ以上の希釈剤
を 用いて実施する。ここで、適当な希釈剤は、水に加えて、特に極性有機溶媒
である。これらには、特に、ジオキサン、テトラヒドロフランまたはエチレング
リコールジメチルエーテルもしくはエチレングリコールジエチルエーテルのよう
なエーテル；アセトン、ブタノンもしくはメチルイソブチルケトンのようなケト
ン；アセトニトリル、プロピオニトリルもしくはブチロニトリルのようなニトリ
ル；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチ
ル−ホルムアニリド、Ｎ−メチル−ピロリドンもしくはヘキサメチルリン酸トリ
アミドのようなアミド；ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド；メタノー
ル、エタノール、ｎ−もしくはｉ−プロパノール、エチレングリコールモノメチ
ルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモ
ノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、その水もしくは
純水との混合物のようなアルコールが包含される。

【００８８】 本発明による方法の第六の反応工程を実施する場合、反応温度を比較的広い範
囲内で変えることができる。一般に、反応工程は、−１０℃〜＋１２０℃の間、
好ましくは０℃〜１００℃の間の温度で実施する。

【００８９】 本発明による方法の第六の反応工程の好ましい態様として、一般式（Ｘ）のＮ
−置換された４−ブロモ−６−フルオロ−１，３−フェニレンジアミンを水及び
反応助剤、そして適宜さらなる希釈剤と混合し、そして反応混合物を反応が終了
するまで攪拌する。

【００９０】 第六の反応工程の生成物の処理は、通例のように実施することができる。例え
ば、反応混合物を（氷）水に注ぎ、続いて例えば塩酸のような強酸で酸性化する
ことができ、一般式（ＸＩ）のＮ−置換された４−ブロモ−６−フルオロ−１，
３−フェニレンジアミンを吸引での濾過により結晶質生成物として単離すること
ができる。

【００９１】 本発明による方法の第六の反応工程により得ることができる一般式（ＸＩ）の
Ｎ−置換された４−ブロモ−６−フルオロ−１，３−フェニレンジアミンは、こ
れまで文献に文献に開示されておらず；新規な物質として、それらもまた本願の
主題の一部を成す。

【００９２】 本発明による方法の第七の反応工程は、金属シアン化物を用いて実施する。こ
こで挙げることができる金属シアン化物は、例えばシアン化ナトリウム、シアン
化カリウム、シアン化ルビジウム、シアン化セシウム、シアン化マグネシウム、
シアン化カルシウム及びシアン化バリウムのようなアルカリ金属及びアルカリ土
類 金属のシアン化物であるが、特にシアン化銅（Ｉ）のような遷移金属シアン
化物である。挙げた金属シアン化物の混合物を用いることもまた可能であるが；
しかしながら、これらの混合物のいずれもシアン化銅（Ｉ）を含んでなるべきで
ある。

【００９３】 本発明による方法の第七の反応工程は、適宜、１種もしくはそれ以上の希釈剤
を用いて実施する。ここで、適当な希釈剤は、特に非プロトン性極性有機溶媒で
ある。これらには、特に、ジオキサン、テトラヒドロフランまたはエチレングリ
コールジメチルエーテルもしくはエチレングリコールジエチルエーテルのような
エーテル；アセトン、ブタノンもしくはメチルイソブチルケトンのようなケトン
；アセトニトリル、プロピオニトリルもしくはブチロニトリルのようなニトリル
；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル
−ホルムアニリド、Ｎ−メチル−ピロリドンもしくはヘキサメチルリン酸トリア
ミドのようなアミド；酢酸メチルもしくは酢酸エチルのようなエステル；ジメチ
ルスルホキシドのようなスルホキシドが包含される。

【００９４】 使用する希釈剤は、好ましくは、例えばＮ−メチル−ピロリドンのような高沸
点非プロトン性極性有機溶媒である。

【００９５】 本発明による方法の第七の反応工程を実施する場合、反応温度を比較的広い範
囲内で変えることができる。一般に、反応工程は、５０℃〜２００℃の間、好ま
しくは８０℃〜１８０℃の間、特に１００℃〜１６０℃の間の温度で実施する。

【００９６】 本発明による方法の第七の反応工程は、一般に大気圧下で実施する。しかしな
がら、第七の工程を高圧もしくは減圧下、一般に０．１ｂａｒ〜１０ｂａｒの間
で実施することもまた可能である。

【００９７】 本発明による方法の第七の反応工程を実施するためには、一般に、一般式（Ｘ
Ｉ）のＮ−置換された４−ブロモ−６−フルオロ−１，３−フェニレンジアミン
の１モルにつき１〜１．５ｍｏｌ、好ましくは１．１〜１．３ｍｏｌの金属シア
ン化物を用いる。

【００９８】 本発明による方法の第七の反応工程の好ましい態様として、一般式（ＸＩ）の
Ｎ−置換された４−ブロモ−６−フルオロ−１，３−フェニレンジアミン、金属
シアン化物及び希釈剤を室温で混合し、そして反応が終了するまで高温で攪拌す
る。

【００９９】 第七の反応工程の生成物の処理は、通例のように実施することができる。例え
ば、混合物を減圧下で濃縮し、そして残留物を酢酸エチル及び塩酸含有塩化鉄（
ＩＩＩ）水溶液と攪拌し、そしてシリカゲルを通して濾過する。次に有機相を分
離 して除き、硫酸ナトリウムで乾燥させ、そして濾過する。減圧下での蒸留に
よる溶媒の除去後に、一般式（Ｉ）のＮ−置換された２，４−ジアミノ−５−フ
ルオロ−ベンゾニトリルを残留物として得ることができる。

【０１００】 本発明による方法により製造することができる一般式（Ｉ）の化合物は、除草
剤的に有効な化合物を製造するための中間体として使用することができる（ＥＰ
−Ａ−６４８７４９、ＥＰ−Ａ−６４８７７２、ＷＯ−Ａ−９５／２９１５８を
参照）。

【０１０１】 一般式（ＶＩＩＩ）、（Ｘ）及び（ＸＩ）の中間体は、同様に、除草剤を製造
するための前駆体として使用することができる（ＥＰ−Ａ−５６３３８４を参照
）。

【０１０２】 一般式（ＶＩＩＩ）のＮ−置換された４−ブロモ−６−フルオロ−１，３−フ
ェニレンジアミンから製造することができる、一般式（ＸＩＩ）

【０１０３】

【化２３】

【０１０４】 式中、 Ｒ¹及びＲ³は上記定義のとおりである、のイソシアネートもまた、除草剤の前
駆体として使用することができる（ＥＰ−Ａ−５６３３８４を参照）。

【０１０５】 一般式（ＸＩＩ）のイソシアネートは、これまで文献に開示されていない。新
規な物質として、それらもまた本願の主題の一部を成す。

【０１０６】 一般式（ＸＩＩ）の新規なイソシアネートは、一般式（ＶＩＩＩ）のＮ−置換
された４−ブロモ−６−フルオロ−１，３−フェニレンジアミン（上記）を、２
０℃〜１２０℃の間の温度で、例えば１，４−ジオキサンのような希釈剤の存在
下でホスゲンと反応させると得られる（製造実施例を参照）。製造実施例： 第一の反応工程： 実施例（ＩＶ−１）

【０１０７】

【化２４】

【０１０８】 内部温度計、滴下漏斗及び攪拌器を取り付けた２５０ｍｌの三つ口フラスコに
おいて、１８．５ｇ（０．０９７ｍｏｌ）の２−ブロモ−４−フルオロ−アニリ
ンを１００ｍｌの塩化メチレン及び１０ｇ（０．１２ｍｏｌ）のピリジンに溶解
し、そして５℃で、１２．６ｇ（０．１１ｍｏｌ）のメタンスルホニルクロリド
を加える。混合物を２０℃で６０分間攪拌し、そして次に５０ｍｌの水を加える
。相を分離し、そして水相を５０ｍｌの塩化メチレンで抽出する。合わせた有機
相を５０ｍｌの水で洗浄し、そして硫酸ナトリウム上で乾燥させる。回転エバポ
レーターを用いて溶媒を除くと２１．９ｇの純粋なＮ−（２−ブロモ−４−フル
オロ−フェニル）−メタンスルホンアミド（理論の８４％）が得られる。実施例（ＩＶ−２）

【０１０９】

【化２５】

【０１１０】 内部温度計、滴下漏斗及び攪拌器を取り付けた１ｌの三つ口フラスコにおいて
、９５ｇ（０．５ｍｏｌ）の２−ブロモ−４−フルオロ−アニリンを４００ｍｌ
の塩化メチレン及び４４ｇ（０．５５ｍｏｌ）のピリジンに溶解し、そして０℃
〜５℃で、６５ｇ（０．５ｍｏｌ）のエタンスルホニルクロリドを加える。溶液
を氷浴中で６０分間そして２０℃で３時間攪拌し、次に２５０ｍｌの水を加える
。相を分離し、そして水相を１００ｍｌの塩化メチレンで抽出する。合わせた有
機相を１００ｍｌの水で洗浄し、そして硫酸ナトリウム上で乾燥させる。回転エ
バポレーターを用いて溶媒を除くと１３５ｇのＮ−（２−ブロモ−４−フルオロ
−フェニル）−エタンスルホンアミド（理論の９１％）が得られ、それはガスク
ロマトグラフィーによる分析では９５．８％純粋である（融点：７９−８１℃）
。第一及び第二の反応工程： 実施例（ＶＩ−１）

【０１１１】

【化２６】

【０１１２】 内部温度計、滴下漏斗及び攪拌器を取り付けた２５０ｍｌの三つ口フラスコに
おいて、１９．０ｇ（０．１ｍｏｌ）の２−ブロモ−４−フルオロ−アニリンを
１ ００ｍｌのアセトニトリル及び２２．２ｇ（０．２２ｍｏｌ）のトリエチル
アミンに溶解し、そして１０℃〜２０℃で、２５．２ｇ（０．２２ｍｏｌ）のメ
タンスルホニルクロリドを加える。溶液を２０℃で６０分間攪拌し、そして次に
２００ｍｌの氷水及び２０ｍｌの濃塩酸の混合物中に注ぐ。沈殿した固体を吸引
で濾過して分離し、５０ｍｌの塩化メチレンに溶解し、そして有機相を硫酸ナト
リウム上で乾燥させる。回転エバポレーターを用いて溶媒を除くと３０．０ｇの
Ｎ−（２−ブロモ−４−フルオロ−フェニル）−Ｎ−メチルスルホニル−メタン
スルホンアミド（理論の８７％）が得られ、それはＨＰＬＣでは９７．１％純粋
である。実施例（ＶＩ−２）

【０１１３】

【化２７】

【０１１４】 内部温度計、滴下漏斗及び攪拌器を取り付けた２５０ｍｌの三つ口フラスコに
おいて、２８．２ｇ（０．１ｍｏｌ）のＮ−（２−ブロモ−４−フルオロ−フェ
ニル）−エタンスルホンアミドを１００ｍｌのアセトニトリル及び１１ｇ（０．
１１ｍｏｌ）のトリエチルアミンに溶解し、そして１５℃〜２０℃で、１３ｇ（
０．１ｍｏｌ）のエタンスルホニルクロリドを加える。溶液を２０℃で６０分間
攪拌し、そして次に２００ｍｌの氷水及び２０ｍｌの濃塩酸の混合物中に注ぐ。
沈殿した固体を吸引で濾過して分離し、そして５０ｍｌの塩化メチレンに溶解し
、そして有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥させる。回転エバポレーターを用いて
溶媒を除くと３１．６ｇのＮ−（２−ブロモ−４−フルオロ−フェニル）−Ｎ−
エチルスルホニル−エタンスルホンアミド（理論の８１％）が得られ、それはＨ
ＰＬＣでは９５．５％純粋である（融点：１１４−１１６℃）。第二の反応工程： 実施例（ＶＩ−３）

【０１１５】

【化２８】

【０１１６】 内部温度計、滴下漏斗及び攪拌器を取り付けた５００ｍｌの三つ口フラスコに
おいて、５６．２ｇ（０．１９９ｍｏｌ）のＮ−（２−ブロモ−４−フルオロ−
フ ェニル）−エタンスルホンアミドを２００ｍｌの塩化メチレン及び３２ｇ（
０．４ｍｏｌ）のピリジンに溶解し、そして０℃〜５℃で、２３．９ｇ（０．２
２ｍｏｌ）のクロロギ酸エチルを加える。溶液を２０℃で２時間攪拌し、そして
次に１００ｍｌの水を加える。相を分離し、そして水相を５０ｍｌの塩化メチレ
ンで抽出する。合わせた有機相を１００ｍｌの水で洗浄し、そして硫酸ナトリウ
ム上で乾燥させる。回転エバポレーターを用いて溶媒を除くと６５．８ｇのＮ−
（２−ブロモ−４−フルオロ−フェニル）−Ｎ−エトキシカルボニル−エタンス
ルホンアミド（理論の９０．５％）が得られ、それはＧＣでは９６．９％純粋で
ある。第三の反応工程： 実施例（ＶＩＩ−１）

【０１１７】

【化２９】

【０１１８】 内部温度計及び攪拌器を取り付けた２５０ｍｌの二つ口フラスコにおいて、１
００ｍｌの濃硫酸及び３５ｍｌの濃硝酸を最初に添加し、そして０℃〜５℃に冷
却する。この混合物に２４．３ｇ（０．０７ｍｏｌ）のＮ−（２−ブロモ−４−
フルオロ−フェニル）−Ｎ−メチルスルホニル−メタンスルホンアミドを加える
。混合物を２０℃に温め、そしてもう１時間攪拌し、次に反応溶液を３００ｇの
氷上に置く。沈殿した固体を吸引で濾過して分離し、そして１００ｍｌの酢酸エ
チルに溶解する。有機相を５０ｍｌの水、次いで５０ｍｌの重炭酸ナトリウム飽
和溶液で洗浄し、そして硫酸ナトリウム上で乾燥させる。回転エバポレーターを
用いて溶媒を除くと２６．５ｇの純粋なＮ−（２−ブロモ−４−フルオロ−５−
ニトロ−フェニル）−Ｎ−メチルスルホニル−メタンスルホンアミド（理論の９
７％）が得られる。実施例（ＶＩＩ−２）

【０１１９】

【化３０】

【０１２０】 内部温度計及び攪拌器を取り付けた２５０ｍｌの二つ口フラスコにおいて、１
００ｍｌの濃硫酸及び３５ｍｌの濃硝酸を最初に添加し、そして０℃〜５℃に冷
却 する。次にこの混合物に２９．９ｇ（０．０８ｍｏｌ）のＮ−（２−ブロモ
−４−フルオロ−フェニル）−Ｎ−エチルスルホニル−エタンスルホンアミドを
加える。混合物を２０℃に温め、そしてもう１時間攪拌し、次に反応溶液を３０
０ｇの氷上に注ぐ。沈殿した固体を吸引で濾過して分離し、そして１００ｍｌの
酢酸エチルに溶解する。有機相を５０ｍｌの水、次いで５０ｍｌの重炭酸ナトリ
ウム飽和溶液で洗浄し、そして硫酸ナトリウム上で乾燥させる。回転エバポレー
ターを用いて溶媒を除くと２９．１ｇのＮ−（２−ブロモ−４−フルオロ−５−
ニトロ−フェニル）−Ｎ−エチルスルホニル−エタンスルホンアミド（理論の８
１．５％）が得られ、それはＨＰＬＣでは９３．９％純粋である（融点：１４４
−１４６℃）。実施例（ＶＩＩ−３）

【０１２１】

【化３１】

【０１２２】 内部温度計及び攪拌器を取り付けた５００ｍｌの二つ口フラスコにおいて、２
７０ｍｌの濃硫酸及び１１０ｍｌの濃硝酸を最初に添加し、そして０℃〜５℃に
冷却する。この混合物に９０．０ｇ（０．２５ｍｏｌ）のＮ−（２−ブロモ−４
−フルオロ−フェニル）−Ｎ−エトキシカルボニル−エタンスルホンアミドを加
える。混合物を１５℃に温め、そしてもう２時間攪拌し、次に反応溶液を１ｋｇ
の氷上に注ぐ。沈殿した固体を吸引で濾過して分離し、そして３００ｍｌの酢酸
エチルに溶解する。有機相を１００ｍｌの水、次いで１００ｍｌの重炭酸ナトリ
ウム飽和溶液で洗浄し、そして硫酸ナトリウム上で乾燥させる。回転エバポレー
ターを用いて溶媒を除くと９２．３ｇのＮ−（２−ブロモ−４−フルオロ−５−
ニトロ−フェニル）−Ｎ−エトキシカルボニル−エタンスルホンアミド（理論の
８８％）が得られ、それはＨＰＬＣでは９５．７％純粋である。第四の反応工程： 実施例（ＶＩＩＩ−１）

【０１２３】

【化３２】

【０１２４】 還流冷却器、内部温度計及び攪拌器を取り付けた２５０ｍｌの三つ口フラスコ
に おいて、８．４ｇ（０．０２ｍｏｌ）のＮ−（２−ブロモ−４−フルオロ−
５−ニトロ−フェニル）−Ｎ−エチルスルホニル−エタンスルホンアミドを加熱
しながら１００ｍｌの酢酸に溶解し、そして６．７ｇ（０．１２ｍｏｌ）の鉄粉
を３５℃で加える。次に発熱反応が始まる（約４０℃）まで混合物を注意深く加
熱し、そして次に水浴を用いてわずかに冷却することにより温度を約４０℃で保
つ。反応が終了した後、混合物をもう１時間攪拌し、そして次に濾過する。固体
を分離して除き、そして２０ｍｌの酢酸で洗浄し、濾液を回転エバポレーターを
用いて濃縮する。残留物を１００ｍｌの酢酸エチルに溶解し、５０ｍｌの水、次
いで５０ｍｌの重炭酸ナトリウム飽和溶液で洗浄し、そして硫酸ナトリウム上で
乾燥させる。回転エバポレーターを用いて溶媒を除くと２．９ｇのＮ−（２−ブ
ロモ−４−フルオロ−５−アミノ−フェニル）−Ｎ−エチルスルホニル−エタン
スルホンアミド（理論の３４％）が得られ、それはＨＰＬＣでは９１．０％純粋
である。実施例（ＶＩＩＩ−２）

【０１２５】

【化３３】

【０１２６】 還流冷却器、内部温度計及び攪拌器を取り付けた１ｌの三つ口フラスコにおい
て、４０．０ｇ（０．１ｍｏｌ）のＮ−（２−ブロモ−４−フルオロ−５−ニト
ロ−フェニル）−Ｎ−エトキシカルボニル−エタンスルホンアミドを加熱しなが
ら４００ｍｌの酢酸に溶解し、そして３３．０ｇ（０．６ｍｏｌ）の鉄粉を２０
℃で加える。次に発熱反応が始まる（約５０℃）まで混合物を注意深く加熱し、
そして次に水浴を用いてわずかに冷却することにより温度を約５０℃で保つ。反
応が終了した後、混合物をもう１時間攪拌し、そして次に濾過する。固体を分離
して除き、そして５０ｍｌの酢酸で洗浄し、濾液を回転エバポレーターを用いて
濃縮する。残留物を１００ｍｌの酢酸エチル及び１００ｍｌの水に溶解し、水相
を中和し（ｐＨ＝７−８）、そして相を分離する。有機相を１００ｍｌの水、次
いで１００ｍｌの重炭酸ナトリウム飽和溶液で洗浄し、そして硫酸ナトリウム上
で乾燥させる。回転エバポレーターを用いて溶媒を除くと３４．３ｇの純粋なＮ
−（２−ブロモ−４−フルオロ−５−アミノ−フェニル）−Ｎ−エトキシカルボ
ニル−エタンスルホンアミド（理論の９３％）が得られる。

【０１２７】 第五の反応工程： 実施例（Ｘ−１）

【０１２８】

【化３４】

【０１２９】 内部温度計、滴下漏斗及び攪拌器を取り付けた１００ｍｌの三つ口フラスコに
おいて、２．８ｇ（０．００７２ｍｏｌ）のＮ−（２−ブロモ−４−フルオロ−
５−アミノ−フェニル）−Ｎ−エチルスルホニル−エタンスルホンアミドを５０
ｍｌのアセトニトリル及び０．８ｇ（０．０１ｍｏｌ）のピリジンに溶解し、そ
して５−１０℃で０．９ｇ（０．００８ｍｏｌ）のクロロギ酸エチルを加える。
溶液を２０℃で６０分間攪拌し、そして次に１００ｍｌの氷水中に注ぐ。沈殿し
た固体を吸引で濾過して分離し、水で洗浄し、そして乾燥させる。これにより３
．３ｇのＮ−（２−ブロモ−４−フルオロ−５−エトキシカルボニルアミノ−フ
ェニル）−Ｎ−エチルスルホニル−エタンスルホンアミド（理論の９９％）が薄
褐色の固体として得られ、それはＧＣでは９０．６％純粋である。実施例（Ｘ−２）

【０１３０】

【化３５】

【０１３１】 内部温度計、滴下漏斗及び攪拌器を取り付けた２５０ｍｌの三つ口フラスコに
おいて、１６．６ｇ（０．０４５ｍｏｌ）のＮ−（２−ブロモ−４−フルオロ−
５−アミノ−フェニル）−Ｎ−エトキシカルボニル−エタンスルホンアミドを１
２０ｍｌのクロロホルム及び４．４ｇ（０．０５５ｍｏｌ）のピリジンに溶解し
、そして５℃〜１０℃で、４．９ｇ（０．０４５ｍｏｌ）のクロロギ酸エチルを
加える。溶液を約２０℃で１時間攪拌し、次に１００ｍｌの水を加える。相を分
離し、そして水相を５０ｍｌの塩化メチレンで抽出する。合わせた有機相を１０
０ｍｌの水で洗浄し、そして硫酸ナトリウム上で乾燥させる。回転エバポレータ
ーを用いて溶媒を除くと１７．４ｇのＮ−（２−ブロモ−４−フルオロ−５−エ
トキシカルボニルアミノ−フェニル）−Ｎ−エトキシカルボニル−エタンスルホ
ンアミド（理論の８７％）が得られ、それはＨＰＬＣでは９９．９％純粋である
（融点：１４２−１４３℃）。実施例（Ｘ−３）

【０１３２】

【化３６】

【０１３３】 内部温度計、滴下漏斗及び攪拌器を取り付けた１００ｍｌの三つ口フラスコに
おいて、６．２４ｇ（０．０２１ｍｏｌ）のＮ−（２−ブロモ−４−フルオロ−
５−アミノ−フェニル）−エタンスルホンアミドを５０ｍｌの塩化メチレン及び
２．０ｇ（０．０２５ｍｏｌ）のピリジンに溶解し、そして１５℃〜２０℃で、
２．７ｇ（０．０２５ｍｏｌ）のクロロギ酸エチルを加える。溶液を２０℃で６
０分間攪拌し、そして次に１００ｍｌの水を加える。相を分離し、そして水相を
５０ｍｌの塩化メチレンで抽出する。合わせた有機相を１００ｍｌの水で洗浄し
、そして硫酸ナトリウム上で乾燥させる。回転エバポレーターを用いて溶媒を除
くと７．２５ｇのＮ−（２−ブロモ−４−フルオロ−５−エトキシカルボニルア
ミノ−フェニル）−エタンスルホンアミド（理論の９１％）が得られ、それはＨ
ＰＬＣでは９７．２％純粋である。第六の反応工程： 実施例（ＸＩ−１）

【０１３４】

【化３７】

【０１３５】 内部温度計及び攪拌器を取り付けた５００ｍｌの三つ口フラスコにおいて、１
８．５ｇ（０．０５ｍｏｌ）のＮ−（２−ブロモ−４−フルオロ−５−アミノ−
フェニル）−Ｎ−エトキシカルボニル−エタンスルホンアミドを１００ｍｌの水
及び２０ｍｌの濃水酸化ナトリウム水溶液に溶解し、そして６０〜７０℃で４時
間加熱する。混合物を室温に冷却させ、そして２Ｎ塩酸（ｐＨ １）で注意深く
酸性化し、そして沈殿した固体を吸引で濾過して分離する。固体を水で洗浄し、
そしてデシケーター中で乾燥させ、１３．７ｇの純粋なＮ−（２−ブロモ−４−
フルオロ−５−アミノ−フェニル）−エタンスルホンアミド（理論の９２％）を
得る。実施例（ＸＩ−２）

【０１３６】

【化３８】

【０１３７】 内部温度計及び攪拌器を取り付けた５０ｍｌの三つ口フラスコにおいて、最初
に０．２ｇ（０．００５ｍｏｌ）の水素化ナトリウム（６０％純粋）を２０ｍｌ
のＮ，Ｎ−ジメチル−ホルムアミドに添加し、そして冷却しながら（０℃〜５℃
）、２．１５ｇ（０．００４６ｍｏｌ）のＮ−（２−ブロモ−４−フルオロ−５
−エトキシカルボニルアミノ−フェニル）−Ｎ−エチルスルホニル−エタンスル
ホンアミドを加える。溶液を氷浴中で６０分間攪拌し、そして次に１０ｍｌの濃
塩酸及び５０ｍｌの氷水の混合物に加える。沈殿した固体を吸引で濾過して分離
し、水で洗浄し、そして乾燥させる。これにより１．４ｇのＮ−（２−ブロモ−
４−フルオロ−５−エトキシカルボニルアミノ−フェニル）−エタンスルホンア
ミド（理論の８２％）が得られ、それはＨＰＬＣでは７８．６％純粋である。第七の反応工程： 実施例（Ｉ−１）

【０１３８】

【化３９】

【０１３９】 内部温度計、還流冷却器及び攪拌器を取り付けた２ｌの三つ口フラスコにおい
て、３８３．８ｇ（１．００ｍｏｌ）のＮ−（２−ブロモ−４−フルオロ−５−
エトキシカルボニルアミノ−フェニル）−エタンスルホンアミド及び１０７．５
ｇ（１．２０ｍｏｌ）のシアン化銅（Ｉ）を１リットルの乾式Ｎ−メチル−ピロ
リドンに溶解し、そして１４０℃で６時間加熱する。混合物を室温に冷却させ、
そして８００ｍｌのＮ−メチル−ピロリドンを油ポンプ真空下で蒸留して除く。
残留物に１リットルの酢酸エチル及び塩酸中の塩化鉄（ＩＩＩ）の溶液を加える
。２相系をシリカゲルを通して濾過し、そして相を分離する。有機相を硫酸ナト
リウム上で乾燥させ、そして回転エバポレーターを用いて濃縮する。粘着性の残
留物を石油エーテルと攪拌することにより洗浄し、吸引で濾過して分離し、そし
て乾燥させる。これにより２７５．９ｇのＮ−（２−シアノ−４−フルオロ−５
−エトキシカルボニルアミノ−フェニル）−エタンスルホンアミド（理論の７５
％）が得られ、それはＨＰＬＣでは８６．０％純粋である。実施例（Ｉ−２）

【０１４０】

【化４０】

【０１４１】 内部温度計、還流冷却器及び攪拌器を取り付けた５０ｍｌの二つ口フラスコに
おいて、１．４９ｇ（０．００５ｍｏｌ）のＮ−（２−ブロモ−４−フルオロ−
５−アミノ−フェニル）−エタンスルホンアミド及び０．４９ｇ（０．００５５
ｍｏｌ）のシアン化銅（Ｉ）を１０ｍｌの乾式Ｎ−メチル−ピロリドンに溶解し
、そして１３０℃で６時間加熱する。混合物を室温に冷却させ、そしてＮ−メチ
ル−ピロリドンを油ポンプ真空下で蒸留して除く。ＨＰＬＣでは、粗生成物は７
６％のＮ−（２−シアノ−４−フルオロ−５−アミノ−フェニル）−エタンスル
ホンアミド及び８．５％の出発原料を含んでなる。式（ＸＩＩ）のイソシアネート： 実施例（ＸＩＩ−１）

【０１４２】

【化４１】

【０１４３】 内部温度計、気体注入管及び攪拌器を取り付けた１ｌの三つ口フラスコにおい
て、５０．０ｇ（０．１６５ｍｏｌ）のＮ−（２−ブロモ−４−フルオロ−５−
アミノ−フェニル）−エタンスルホンアミドを４９０ｍｌのアセトニトリルに溶
解し、そして１５℃〜２０℃で、７．３ｇ（０．２ｍｏｌ）の塩化水素気体を加
え、それは沈殿して現れる白色の固体をもたらす。次に、２０℃〜６０℃でそし
て攪拌しながら、懸濁液に６９．３ｇ（０．７０ｍｏｌ）のホスゲンを加え、そ
れを６０℃でもう１５０分間攪拌する。混合物を一晩静置させ、そして過剰のホ
スゲンを蒸留して除く。回転エバポレーターを用いて溶媒を除くと５３．９ｇの
２−フルオロ−４−ブロモ−５−エチルスルホニルアミノ−フェニルイソシアネ
ート（理論の９７％）が得られ、それはＨＰＬＣでは９６．２％純粋である。実施例（ＸＩＩ−２）

【０１４４】

【化４２】

【０１４５】 内部温度計、気体注入管、滴下漏斗及び攪拌器を取り付けた５００ｍｌの四つ
口フラスコにおいて、８ｇ（０．０８０ｍｏｌ）のホスゲンを２２０ｍｌの１，
４−ジオキサンに溶解し、そして１５℃〜２０℃で、７０ｍｌの１，４−ジオキ
サンに溶解した５．０ｇ（０．０１３５ｍｏｌ）のＮ−（２−ブロモ−４−フル
オロ−５−アミノ−フェニル）−Ｎ−エトキシカルボニル−エタンスルホンアミ
ドを加える（１時間）。次に溶液を７０℃〜８０℃で加熱し、そしてさらに３５
． ４ｇ（０．３５ｍｏｌ）のホスゲンを導入する。約３時間後に、混合物を室
温に冷却させ、そして窒素を用いて過剰のホスゲンを一晩フラッシして除く。回
転エバポレーターを用いて溶媒を除くと６．２４ｇの２−フルオロ−４−ブロモ
−５−Ｎ−エチルスルホニル−Ｎ−エトキシカルボニルアミノ−フェニルイソシ
アネート（理論の８６％）が得られ、それはＨＰＬＣでは７４％純粋である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ，ＴＲ)，ＯＡ(ＢＦ ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ， ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，Ｇ Ｍ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＭＺ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ ，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ， ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＧ，ＡＬ，ＡＭ， ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，Ｂ Ｚ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＲ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ ，ＤＭ，ＤＺ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ， ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，Ｊ Ｐ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＡ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ， ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＭＺ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，Ｒ Ｏ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＴＺ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ， ＶＮ，ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式（Ｉ） 【化１】 式中、 Ｒ¹は各場合において場合により置換されていてもよいアルキルスルホニルも
   しくはアリールスルホニルを表し、そして Ｒ²は水素または各場合において場合により置換されていてもよいアルコキシ
   カルボニルもしくはアリールオキシカルボニルを表す、 のＮ−置換された２，４−ジアミノ−５−フルオロ−ベンゾニトリルを製造する
   方法であって、 第一の反応工程において、式（ＩＩ） 【化２】 の２−ブロモ−４−フルオロ−アニリンを、適宜１種もしくはそれ以上の反応助
   剤の存在下で、そして適宜１種もしくはそれ以上の希釈剤の存在下で、−２０℃
   〜＋１００℃の間の温度において、一般式（ＩＩＩ） Ｘ¹−Ｒ¹ （ＩＩＩ） 式中、 Ｒ¹は上記定義のとおりであり、そして Ｘ¹はハロゲンを表す、 のアシル化もしくはスルホニル化剤と反応させ、 生成する一般式（ＩＶ） 【化３】 式中 Ｒ¹は上記定義のとおりである、のＮ−置換された２−ブロモ−４−フルオロ
   −アニリンを、第二の反応工程において、適宜１種もしくはそれ以上の反応助剤
   の存在下で、そして適宜１種もしくはそれ以上の希釈剤の存在下で、−２０℃〜
   １００℃の間の温度において、一般式（Ｖ） Ｘ²−Ｒ³ （Ｖ） 式中、 Ｒ³は各場合において場合により置換されていてもよいアルキルスルホニル、
   アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アリールスルホニル、アリールカ
   ルボニルもしくはアリールオキシカルボニルを表し、そして Ｘ²はハロゲンを表す、のアシル化もしくはスルホニル化剤と反応させ、 生成する一般式（ＶＩ） 【化４】 式中 Ｒ¹及びＲ³は上記定義のとおりである、のＮ−置換された２−ブロモ−４−フ
   ルオロ−アニリンを、第三の反応工程において、適宜１種もしくはそれ以上のニ
   トロ化助剤の存在下で、そして／または適宜１種もしくはそれ以上の希釈剤の存
   在下で、−３０℃〜＋５０℃の間の温度において、ニトロ化剤と反応させ、 生成する一般式（ＶＩＩ） 【化５】 式中 Ｒ¹及びＲ³は上記定義のとおりである、 のＮ−置換された２−ブロモ−４−フルオロ−５−ニトロ−アニリンを、第四の
   反応工程において、適宜１種もしくはそれ以上の還元助剤の存在下で、そして適
   宜１種もしくはそれ以上の希釈剤の存在下で、０℃〜１５０℃の間の温度におい
   て、還元剤と反応させ、 生成する一般式（ＶＩＩＩ） 【化６】 式中 Ｒ¹及びＲ³は上記定義のとおりである、のＮ−置換された４−ブロモ−６−フ
   ルオロ−１，３−フェニレンジアミンを、適宜、第五の反応工程において、適宜
   １種もしくはそれ以上の反応助剤の存在下で、そして適宜１種もしくはそれ以上
   の希釈剤の存在下で、−２０℃〜＋１００℃の間の温度において、一般式（ＩＸ
   ） Ｘ³−Ｒ^3-1 （ＩＸ） 式中、 Ｒ^3-1は水素を除いてＲ³に対して上記に示す意味を有し、そして Ｘ³はハロゲンを表す、 のアシル化剤と反応させ、 第四もしくは第五の工程において得られる、一般式（Ｘ） 【化７】 式中、 Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は上記定義のとおりである、のＮ−置換された４−ブロモ−
   ６−フルオロ−１，３−フェニレンジアミンを、第六の工程において、１種もし
   くはそれ以上の加水分解助剤の存在下で、そして適宜１種もしくはそれ以上の希
   釈剤の存在下で、０℃〜１２０℃の間の温度において、水と反応させ、 そして生成する一般式（ＸＩ） 【化８】 式中、 Ｒ¹及びＲ²は上記定義のとおりである、のＮ−置換された４−ブロモ−６−フ
   ルオロ−１，３−フェニレンジアミンを、第七の反応工程において、適宜１種も
   しくはそれ以上の希釈剤の存在下で、５０℃〜２００℃の間の温度において、金
   属シアン化物と反応させることを特徴とする方法。
2. 【請求項２】 Ｒ¹が１〜６個の炭素原子を有する場合によりフッ素、塩素
   もしくは臭素で置換されていてもよいアルキルスルホニルを表すか、または場合
   によりフッ素、塩素、臭素、Ｃ₁−Ｃ₄−アルキルもしくはＣ₁−Ｃ₄−アルコキシ
   で置換されていてもよいフェニルスルホニルを表し、 Ｒ²が水素を表すか、アルキル基において１〜６個の炭素原子を有する場合に
   よりフッ素、塩素もしくは臭素で置換されていてもよいアルコキシカルボニルを
   表すか、または場合によりフッ素、塩素、臭素、Ｃ₁−Ｃ₄−アルキルもしくはＣ ₁ −Ｃ₄−アルコキシで置換されていてもよいフェノキシカルボニルを表し、 Ｒ³がアルキル基において各場合に１〜６個の炭素原子を有する各場合におい
   て場合によりフッ素、塩素もしくは臭素で置換されていてもよいアルキルスルホ
   ニル、アルキルカルボニルもしくはアルコキシカルボニルを表すか、または各場
   合において場合によりフッ素、塩素、臭素、Ｃ₁−Ｃ₄−アルキルもしくはＣ₁−
   Ｃ₄−アルコキシで置換されていてもよいフェニルスルホニル、フェニルカルボ
   ニルもしくはフェノキシカルボニルを表し、 Ｘ¹がフッ素、塩素、臭素もしくはヨウ素を表し、 Ｘ²がフッ素、塩素、臭素もしくはヨウ素を表し、そして Ｘ³がフッ素、塩素、臭素もしくはヨウ素を表す、 ことを特徴とする請求項１において請求したとおりの方法。
3. 【請求項３】 Ｒ¹が各場合において場合によりフッ素もしくは塩素で置換
   されていてもよいメチルスルホニル、エチルスルホニル、ｎ−もしくはｉ−プロ
   ピルスルホニル、ｎ−、ｉ−、ｓ−もしくはｔ−ブチルスルホニルを表すか、ま
   たは 各場合において場合によりフッ素、塩素、臭素、メチル、エチル、ｎ−
   もしくはｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−、ｓ−もしくはｔ−ブチル、メトキシ、エト
   キシ、ｎ−もしくはｉ−プロポキシで置換されていてもよいフェニルスルホニル
   を表し、 Ｒ²が水素を表すか、各場合において場合によりフッ素もしくは塩素で置換さ
   れていてもよいメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｎ−もしくはｉ−プ
   ロポキシカルボニル、ｎ−、ｉ−、ｓ−もしくはｔ−ブトキシカルボニルを表す
   か、または場合によりフッ素、塩素、臭素、メチル、エチル、ｎ−もしくはｉ−
   プロピル、ｎ−、ｉ−、ｓ−もしくはｔ−ブチル、メトキシ、エトキシ、ｎ−も
   しくはｉ−プロポキシで置換されていてもよいフェノキシカルボニルを表し、 Ｒ³が各場合において場合によりフッ素もしくは塩素で置換されていてもよい
   メチルスルホニル、エチルスルホニル、ｎ−もしくはｉ−プロピルスルホニル、
   ｎ−、ｉ−、ｓ−もしくはｔ−ブチルスルホニル、メチルカルボニル、エチルカ
   ルボニル、ｎ−もしくはｉ−プロピルカルボニル、ｎ−、ｉ−、ｓ−もしくはｔ
   −ブチルカルボニル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｎ−もしくは
   ｉ−プロポキシカルボニルを表すか、または各場合において場合によりフッ素、
   塩素、臭素、メチル、エチル、ｎ−もしくはｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−、ｓ−も
   しくはｔ−ブチル、メトキシ、エトキシ、ｎ−もしくはｉ−プロポキシで置換さ
   れていてもよいフェニルスルホニル、フェニルカルボニルもしくはフェノキシカ
   ルボニルを表し、 Ｘ¹がフッ素、塩素もしくは臭素を表し、 Ｘ²がフッ素、塩素もしくは臭素を表し、そして Ｘ³がフッ素、塩素もしくは臭素を表す、 ことを特徴とする請求項１において請求したとおりの方法。
4. 【請求項４】 Ｒ¹が各場合において場合によりフッ素もしくは塩素で置換
   されていてもよいメチルスルホニル、エチルスルホニル、ｎ−もしくはｉ−プロ
   ピルスルホニル、ｎ−もしくはｉ−ブチルスルホニルを表し、 Ｒ²が水素を表すか、またはメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｎ−
   もしくはｉ−プロポキシカルボニルを表し、 Ｒ³が各場合において場合によりフッ素もしくは塩素で置換されていてもよい
   メチルスルホニル、エチルスルホニル、ｎ−もしくはｉ−プロピルスルホニル、
   ｎ−もしくはｉ−ブチルスルホニル、メチルカルボニル、エチルカルボニル、ｎ
   − もしくはｉ−プロピルカルボニル、ｎ−、ｉ−、ｓ−もしくはｔ−ブチルカ
   ルボニルを表すか、またはメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｎ−もし
   くはｉ−プロポキシカルボニルを表し、 Ｘ¹が塩素を表し、 Ｘ²が塩素を表し、そして Ｘ³が塩素を表す、 ことを特徴とする請求項１において請求したとおりの方法。
5. 【請求項５】 化合物 Ｎ−（２−ブロモ−４−フルオロ−フェニル）−ベ
   ンゼンスルホンアミド及びＮ−（２−ブロモ−４−フルオロ−フェニル）−１，
   １，１−トリフルオロメタンスルホンアミドを除く、一般式（ＩＶ） 【化９】 式中 Ｒ¹は請求項１〜４のいずれかにおいて定義したとおりである、 のＮ−置換された２−ブロモ−４−フルオロ−アニリン。
6. 【請求項６】 一般式 【化１０】 式中 Ｒ¹及びＲ³は請求項１〜４のいずれかにおいて定義したとおりである、 のＮ−置換された２−ブロモ−４−フルオロ−アニリン。
7. 【請求項７】 一般式（ＶＩＩ） 【化１１】 式中 Ｒ¹及びＲ³は請求項１〜４のいずれかにおいて定義したとおりである、 のＮ−置換された２−ブロモ−４−フルオロ−５−ニトロ−アニリン。
8. 【請求項８】 一般式（ＶＩＩＩ） 【化１２】 式中 Ｒ¹及びＲ³は請求項１〜４のいずれかにおいて定義したとおりである、 のＮ−置換された４−ブロモ−６−フルオロ−１，３−フェニレンジアミン。
9. 【請求項９】 一般式（ＸＩ） 【化１３】 式中 Ｒ¹及びＲ²は請求項１〜４のいずれかにおいて定義したとおりである、 のＮ−置換された４−ブロモ−６−フルオロ−１，３−フェニレンジアミン。
10. 【請求項１０】 一般式（ＸＩＩ） 【化１４】 式中 Ｒ¹及びＲ³は請求項１〜４のいずれかにおいて定義したとおりである、 の化合物。