JP2001506247A - 1−フェニル−ウラシル誘導体の製造法 - Google Patents
1−フェニル−ウラシル誘導体の製造法Info
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Abstract
(57)【要約】
本発明は式(I)
[式中、R1、R2、R3、R4、R5及びR6は前述した意味を有する]]1−フェニル−ウラシルの新規な製造法に関し、これでは式(II)
の置換されたフェニルオキサジン−ジオンを式(III)H2N−R6のアミノ化合物と又は式(III)のアミノ化合物の酸付加物と、随時酸受容体の存在下に及び希釈剤の存在下に反応させる。
Description
【発明の詳細な説明】
1−フェニル−ウラシル誘導体の製造法
技術分野
本発明は、公知の1−フェニル−ウラシルの新規な製造法に関する。
更に本発明は、新規な中間体及びその製造法に関する。
背景の技術
ある種のフェニル−ウラシルが、塩基例えばナトリウムヒドリドの存在下に、
適当なアミノアルケン酸エステルを置換されたフェニルイソシアネートと又は置
換されたフェニルウレタンと反応させることによって製造できることは既に知ら
れている(参照、ヨーロッパ特許第0408382号、ヨーロッパ特許第064
8749号及びWO第95−32952号)。しかしながら、これらの方法は、
所望の物質が比較的低収量でしか且つ必ずしも十分な純度では得られないという
欠点を有する。更に、必要とされる出発物質は工業的な規模での合成に非常に適
当ではない。
更にある種のフェニル−ウラシルが、適当なイミノ−オキサジオンの異性化で
得られるということも既に公知である(参照、WO第95−32952号)。し
かしながらこの方法は多くの工程を含むがゆえに好ましくなく、結果として合成
が比較的複雑である。
更に多くのウラシル誘導体は適当なイミノ−オキサジオンの異性化で得られる
ことが記述されている(参照、米国特許第3352662号)。しかしながらこ
の方法は、特別な物質の製造にしか使用できないという事実が欠点である。化合
物が加水分解に対して敏感な置換基を含むならば、妨害となる副反応の危険があ
る。
更に多くのウラシルは1,3−オキサジン−2,4(3H)−ジオンを第1級
アミンと反応させることにより製造できることが文献に言及されている(参照、
J.ケム・ソク(Chem.Soc.)、1954、845〜849、J.ケム
・ソク・パーキン(Chem.Soc.Perkin)I、1976、1969
〜1975及びケム・ファーム・ブル(Chem.Pharm.Bull)、3
7(1989)、2026〜2029)。しかしながらこの反応は、酸素原子の
隣に非電子吸引性置換基を、又は二重結合には水素を含むオキサジンジオンに対
してだけ記述されている。その上、所望の生成物の収量は必ずしも満足されない
。
最後に窒素原子が未置換のある種の1,3−オキサジン−2,4(3H)−ジ
オンをヒドラジンと反応させて、アミノ基を置換基として有するウラシルを製造
する方法も既に知られている。これに対し、窒素原子の置換された1,3−オキ
サジン−2,4(3H)−ジオンの対応する反応では、ピラゾール誘導体だけが
生成し、ウラシルは生成しない(参照、J.ヘテロシクル・ケム(Hetero
cycl.Chem.)、15(1978)、1475〜1478)。
今回、式
[式中、R1は水素、シアノ、ニトロ又はハロゲンを表し、
R2はシアノ、ニトロ、ハロゲンを表し、或いはそれぞれの場合に
随時置換されたアルキル又はアルコキシを表し、
R3水素、ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、ヒドロキシアミノ、ハロゲ
ンを表し、或いは基−R7、−Q−R7、−NH−R7、−NH−O−R7、−NH
−SO2−R7、−N(SO2−R7)2、−CQ1−R7、−CQ1−Q2−R7、CQ1
−NH−R7、Q2−CQ1−R7、−NH−CQ1−R7、−N(SO2−R7)(
CQ1−R7)、Q2−CQ1−Q2−R7、−NH−CQ1−Q2−R7又は−Q2−C
Q1−NH−R7を表し、但し
QはO、S、SO、又はSO2を表し、
Q1及びQ2は互いに独立にそれぞれ酸素又は硫黄を表し、そして
R7はそれぞれの場合に随時置換されたアルキル、アルケニル、アルキニル
、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アリールアルキル、ヘ
テロシクリル又はヘテロシクリルアルキルを表し、
R4は水素、ハロゲン又は随時置換されたアルキルを表し、
R5フッ素及び/又は塩素置換アルキルを表し、そして
R6は水素、ヒドロキシル又はそれぞれの場合に随時置換されたアルキル、
アルコキシ、アルケニル又はアルキニルを表す]
の1−フェニル−ウラシル誘導体が、式
[式中、R1、R2、R3、R4及びR5はそれぞれ上述の通りである]
置換フェニルオキサジン−ジオンを、適当ならば酸受容体の存在下に及び適当な
らば希釈剤の存在下に、式
H2N−R6
[式中、R6は上述の通りである]
のアミノ化合物と又は式(III)のアミノ化合物の酸付加物と−50〜+100
℃の温度で反応させる時に得られるということが発見された。
従来法に基づくと、酸素原子の隣に非電子吸引性の置換基を含む1、3−オキ
サジン−2,4(3H)−ジオンだけが第1級アミンと反応してウラシルを生成
すると予想されるから、本発明の方法により式(I)の1−フェニル−ウラシル
誘導体が製造できるということは非常に驚くべきことである。更に本発明の方法
によれば1−フェニル−ウラシルが従来法の最も似通った方法よりもかなり高い
収率で製造できるということは、予見できないことである。
本発明の方法は、多くの利点を有する。即ち必要とされる出発物質が、簡単な
方法で比較的多量でさえも得ることができる。更に反応の実施及び所望の生成物
の単離は何の問題もない。特に好ましいことは、1−フェニル−ウラシル誘導体
が非常に高収量で且つ優秀な純度で得られることである。その上、本方法は広い
適用性を有する。
3−(4−シアノ−2,5−ジフルオロ−フェニル)−3,4−ジヒドロ−6
−トリフルオロメチル−2H−1,3−オキサジン−2,4−ジオン及びメチル
アミンを出発物質とした場合、本発明の方法の過程は次の方程式で例示すること
ができる。
式(II)は、本発明の方法を行なうための出発物質として必要とされるフェニ
ルオキサジン−ジオンの一般的な定義を与える。好ましくは、R1が水素、シア
ノ、ニトロ、フッ素、塩素又は臭素を表し、
R2がシアノ、ニトロ、フッ素、塩素、臭素或いはそれぞれの場合に随時フッ素
及び/又は塩素置換された、炭素数1〜4のアルキル又はアルコキシを表し、
R3が水素、ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、ヒドロキシアミノ、ハロゲン
を表し、或いは基−R7、−Q−R7、−NH−R7、−NH−O−R7、−NH−
SO2−R7、−N(SO2−R7)2、−CQ1−R7、−CQ1−Q2−R7、CQ1
−NH−R7、Q2−CQ1−R7、−NH−CQ1−R7、−N(SO2−R7)(C
Q1−R7)、Q2−CQ1−Q2−R7、−NH−CQ1−Q2-R7又は−Q2−CQ1
−NH−R7の1つを表し、但し
QはO、S、SO、又はSO2を表し、
Q1及びQ2は互いに独立にそれぞれ酸素又は硫黄を表し、そして
R7は随時シアノ、ハロゲン、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、C1
〜C4アルキルカルボニル、C1〜C4アルコキシカルボニル又はC1〜C4アルキ
ルアミノカルボニル置換の、炭素数1〜6のアルキルを表し、或いは
それぞれの場合に随時シアノ、カルボキシ、ハロゲン、C1〜C4アルキルカルボ
ニル、C1〜C4アルコキシカルボニル又はC1〜C4アルキルアミノカルボニル置
換の、炭素数2〜6のアルケニル又はアルキニルを表し、或いは
それぞれの場合に随時シアノ、カルボキシ、ハロゲン、C1〜C4アルキルカルボ
ニルまたはC1〜C4アルコキシカルボニル置換の、それぞれの場合のシクロアル
キル基の炭素数が3〜6及び随時アルキル残基の炭素数が1〜4のシクロアルキ
ル又はシクロアルキルアルキルを表し、或いは
それぞれの場合にアリール基の炭素数が6又は10及び随時アルキル残基の炭素
数が1〜4であり且つそれぞれの場合に随時ヒドロキシル、メルカプト、アミノ
、シアノ、カルボキシル、カルバモイル、チオカルバモイル、C1〜C4アルキル
、C1〜C4ハロゲノアルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4ハロゲノアルコキ
シ、C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4ハロゲノアルキルチオ、C1〜C4アルキル
スルフィニル、C1〜C4アルキルスルホニル、C1〜C4アルキルアミノ及び/又
はジメチルアミノでモノ〜トリ置換されていてもよいアリール又はアリールアル
キルを表し、或いは
ヘテロシクリル基の炭素数が2〜6、窒素原子数が1〜3及び/又は酸素原子数
が1もしくは2及び/又は硫黄原子数が1及び随時アルキル残基の炭素数が1〜
4であり且つそれぞれの場合に随時ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、シアノ
、カルボキシル、カルバモイル、チオカルバモイル、C1〜C4アルキル、C1〜
C4ハロゲノアルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4ハロゲノアルコキシ、C1
〜C4アルキルチオ、C1〜
C4ハロゲノアルキルチオ、C1〜C4アルキルスルフィニル、C1〜C4アルキル
スルホニル、C1〜C4アルキルアミノ及び/又はジメチルアミノでモノ〜トリ置
換されていてもよいヘテロシクリル又はヘテロシクリルアルキルを表し、
R4が水素、フッ素、塩素、臭素を表し、或いは随時フッ素及び/又は塩素置換
された炭素数1〜6のアルキルを表し、そして
R5がフッ素及び/又は塩素置換された炭素数1〜6のアルキルを表す、式(II
)の化合物が使用される。
特に好ましくは、
R1が水素、フッ素又は塩素を表し、
R2がシアノ、ニトロ、フッ素、塩素、臭素、メチル又はトリフルオロメチルを
表し、
R3がヒドロキシル、メルカプト、アミノ、フッ素、塩素、臭素を表し、或いは
又は基−R7、−Q−R7、−NH−R7、−NH−O−R7、−NH−SO2−R7
、−N(SO2−R7)2、−CQ1−R7、−CQ1−Q2−R7、CQ1−NH−R7
、Q2−CQ1−R7、−NH−CQ1−R7、−N(SO2−R7)(CQ1−R7)
、Q2−CQ1−Q2−R7、−NH−CQ1−Q2−R7又は−Q2−CQ1−NH−
R7の1つをを表し、但し
QはO、S、SO、又はSO2を表し、
Q1及びQ2は互いに独立にそれぞれ酸素又は硫黄を表し、そして
R7はぞれの場合に随時シアノ、フッ素、塩素、メトキシ、エトキシ、メチルチ
オ、エチルチオ、アセチル、プロピオニル、メトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル、メチルアミノカルボニル又はエチルアミノカルボニル置換のメチル、エ
チル、n−又はi−プロピル、n−、i−、
s−又はt−ブチルを表し、或いは
それぞれの場合に随時シアノ、カルボキシ、フッ素、塩素、臭素、アセチル、プ
ロピオニル、n−又はi−ブチロイル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、n−又はi−プロポキシカルボニル、メチルアミノカルボニル、エチルアミ
ノカルボニル、n−又はi−プロピルアミノカルボニル置換のプロペニル、ブテ
ニル、プロピニル又はブチニルを表し、
それぞれの場合に随時シアノ、カルボキシ、フッ素、塩素、臭素、アセチル、プ
ロピオニル、メトキシカルボニル又はエトキシカルボニル置換のシクロプロピル
、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロプロピルメチル、シ
クロブチルメチル、シクロペンチルメチル又はシクロヘキシルメチルを表し、或
いは
それぞれの場合にに随時ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、シアノ、カルボキ
シル、カルバモイル、チオカルバモイル、メチル、エチル、トリフルオロメチル
、メトキシ、エトキシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、メチルチ
オ、エチルチオ、ジフルオロメチルチオ、トリフルオロメチルチオ、メチルスル
フィニル、エチルスルフィニル、メチルスルホニル、メチルアミノ、エチルアミ
ノ及び/又はジメチルアミノでモノ〜トリ置換されていてもよいフェニル、ベン
ジル又はフェニルエチル表し、或いは
それぞれの場合に随時ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、シアノ、カルボキシ
ル、カルバモイル、チオカルバモイル、メチル、エチル、n−又はi−プロピル
、n−、i−、s−又はt−ブチル、ジフルオロメチル、ジクロロメチル、トリ
フルオロメチル、トリクロロメチル、クロロ
ジフルオロメチル、フルオロジクロロメチル、メトキシ、エトキシ、ジフルオロ
メトキシ、トリフルオロメトキシ、メチルチオ、エチルチオ、ジフルオロメチル
チオ、トリフルオロメチルチオ、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、メ
チルスルホニル、エチルスルホニル、メチルアミノ、エチルアミノ及び/又はジ
メチルアミノでモノ又はジ置換されていてもよいオキシラニル、オキセタニル、
フリル、テトラヒドロキシフリル、ジオキソラニル、チエニル、テトラヒドロチ
エニル、ピロリル、ピラゾリル、イミダゾリル、トリアゾリル、オキサゾリル、
イソキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサジアゾリル、チアジアゾ
リル、ピリジニル、ピリミジニル、トリアジニル、ピラゾリルメチル、フリルメ
チル、チエニルメチル、オキサゾリルメチル、イソキサゾリルメチル、チアゾリ
ルメチル、ピリジニルメチル、ピリミジニルメチルの群から選択されるヘテロシ
クリル又はヘテロシクリルアルキルを表し、
R4が水素、フッ素、塩素、臭素、メチル、エチル又はトリフルオロメチルを表
し、そして
R5がトリフルオロメチル、クロロジフルオロメチル、フルオロジクロロメチル
又はペンタフルオロエチルを表す、
式(II)のフェニルオキサジン−ジオンが使用される。
式(II)の置換されたフェニルオキサジン−ジオンのいくつかは既に開示され
ている(参照、ヨーロッパ特許第0371240号及びヨーロッパ特許第063
8563号)。
式
[式中、A1はフッ素又は塩素を表し、
A2はシアノを表し、
A3フッ素又は塩素を表し、
A4水素、フッ素、塩素又はメチルを表し、そして
A5トリフルオロメチル、クロロジフルオロメチル、フルオロジクロロメチ
ル又はペンタフルオロエチルを表す]
の置換されたフェニルオキサジン−ジオンは新規である。
式(IIa)の置換されたフェニルオキサジン−ジオンは、
a)式
[式中、A1、A2、A3、A4及びA5はそれぞれ上述の通りである]
の置換β−ケト−カルボキサニリドを、適当ならば酸結合剤、例えばナトリウム
ヒドリド、ピリジン又は4−ジメチルアミノピリジンの存在下に及び適当ならば
希釈剤、例えばトルエン又はテトラヒドロフランの存在下に、式
[式中、Z1及びZ2は同一でも異なってもよく、それぞれハロゲン、アルコキ
シ、アリーロキシ、イミダゾリル又はトリアゾリルを表す]
の炭酸誘導体と−20〜+150℃の温度で反応させることにより製造すること
ができる(参照、製造実施例)。
式(II)の他の置換されたフェニルオキサジン−ジオンは、同一の方法で、式
[式中、R1、R2、R3、R4及びR5は上述の通りである]
の置換されたβ−ケト−カルボキサニリドを、方法(a)にしたがって、式(V
)の炭酸誘導体と反応させることによって製造できる。
式(V)は方法(a)に対する反応成分として必要とされる炭酸誘導体の一般
的な定義を与える。この式において、Z1及びZ2は同一でも異なってもよく、そ
れぞれ好ましくは塩素、メトキシ、エトキシ、フェノキシ、イミダゾル−1−イ
ル又は1,2,4−トリアゾル−1−イルを表す。
式(V)の炭酸誘導体は公知である。
式(IV)は置換されたβ−ケト−カルボキサニリドの一般的な定義を与える。
この式において、R1、R2、R3、R4及びR5は、それぞれ好
ましくは式(II)のフェニルオキサジン−ジオンの記述と関連して、これらの基
に好適なものとして既に言及した意味を有する。
式(IV)は置換されたβ−ケト−カルボキサニリドのいくつかは既に公知であ
る(参照、J.ヘテロシクル・ケム、2、113(1965)、シンセシス(S
ynthesis)、1992、1213〜1214及び独国特許第42181
59号)。
式 [式中、A1はフッ素又は塩素を表し、
A2はシアノを表し、
A6はフッ素、塩素、メチルスルホニルアミノ又はエチルスルホニルアミノ
を表し、
A4水素、フッ素、塩素又はメチルを表し、そして
A5トリフルオロメチル、クロロジフルオロメチル、フルオロジクロロメチ
ル又はペンタフルオロエチルを表す]
の置換されたβ−ケト−カルボキサニリドは新規である。
式(IVb)置換されたβ−ケト−カルボキサニリドは、
(b)式
[式中、A4及びA5はそれぞれ上述の通りであり、そして
Rは炭素数1〜4のアルキルを表す]
のβ−ケト−エステルを、適当ならば希釈剤、例えばN、N−ジメチルホルムア
ミド又はN−メチルピロリドンの存在下に、式
[式中、A1、A2及びA6はそれぞれ上述の通りである]
の置換アニリンと50〜150℃の温度で反応させ、或いは
(c)式
[式中、A1、A2、A3、A4及びA6はそれぞれ上述の通りである]
の置換アミノアルケン酸を、適当ならば酸性触媒、例えば塩酸、硫酸又はメタン
スルホン酸の存在下に及び適当ならば有機溶媒、例えばメタノール、エタノール
、n−又はi−プロパノール、n−、i−、s−又はt−ブタノールの存在下に
、水と0〜100℃の温度で反応させる、ことにより製造できる(参照、製造実
施例)。
式(IV)の他のβ−ケト−カルボキサニリドは同一の方法で製造することがで
きる。
式(VI)は、方法(b)を行なうための反応出発物質として必要とされるβ−
ケト−エステルの一般的な定義を与える。この式において、A4及びA5はそれぞ
れ上述の通りである。Rは好ましくはメチル又はエチルを表す。
式(III)は本発明の方法を行なうための反応成分として必要とされるアミノ
化合物の一般的な定義を与える。好ましくは、
R6が水素、ヒドロキシルを表し、或いはそれぞれの場合に随時ヒドロキシル、
シアノ、ハロゲン又はC1〜C4アルコキシで置換された、それぞれの場合に炭素
数1〜6のアルキル又はアルコキシを表し、或いはそれぞれの場合に随時シアノ
又はハロゲンで置換された、それぞれの場合に炭素数2〜6のアルケニル又はア
ルキニルを表す、
式(III)の化合物が使用される。
特に好ましくは、
R6が水素、ヒドロキシルを表し、或いはそれぞれの場合に随時ヒドロキシル、
シアノ、フッ素、塩素、メトキシ又はエトキシで置換されたメチル、エチル、n
−又はi−プロピル、n−、i−、s−又はt−ブチル、メトキシ、エトキシ、
n−又はi−プロポキシ、n−、i−、s−又はt−ブトキシを表し、或いはそ
れぞれの場合に随時シアノ、フッ素、塩素又は臭素で置換されたプロペニル、ブ
テニル、プロピニル又はブチニルを表す、
式(III)のアミノ化合物が使用される。
式(III)のアミノ化合物は、その酸付加物の形でも使用できる。好ま
しくは塩酸の付加塩である。
式(III)のアミノ化合物及びその酸付加塩も公知であり、或いはそれらは公
知の方法で製造することができる。
本発明の方法を行なうための適当な酸受容体は、全ての通常の無機又は有機塩
基である。好ましくはアルカリ金属又はアルカリ土類金属の酢酸塩、アミド、炭
酸塩、炭酸水素塩、ヒドリド、水酸化物又はアルコキシド、例えば酢酸ナトリウ
ム、酢酸カリウム又は酢酸カルシウム、リチウムアミド、ナトリウムアミド、カ
リウムアミド又はカルシウムアミド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム又は炭酸カ
ルシウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム又は炭酸水素カルシウム、リ
チウムヒドリド、ナトリウムヒドリド、カリウムヒドリド又はカルシウムヒドリ
ド、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム又は水酸化カルシウム
、ナトリウムメトキシド、エトキシド、n−又はi−プロポキシド、n−、i−
、s−又はt−ブトキシド或いはカリウムメトキシド、エトキシド、n−又はi
−プロポキシド、n−、i−、s−又はt−ブトキシド;更に塩基性窒素化合物
、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチ
ルアミン、エチル−ジシクロヘキシルアミン、N,N−ジメチル−シクロヘキシ
ルアミン、ジシクロヘキシルアミン、エチル−ジシクロヘキシルアミン、N,N
−ジメチル−アニリン、N、N−ジメチル−ベンジルアミン、ピリジン、2−メ
チル−、3−メチル−、4−メチル−、2,4−ジメチル−、2,6−ジメチル
−、3,4−ジメチル−及び3、5−ジメチル−ピリジン、5−エチル−2−メ
チル−ピリジン、4−ジメチルアミノ−ピリジン、N−メチル−ピペリジン、1
,4−ジアザビシクロ[2,2,2]−オクタン(DABCO)
、1,5−ジアザビシクロ[4,3,0]−ノン−2−エン(DBN)、又は1
,8−ジアザビシクロ[5,4,0]−ウンデク−2−エン(DBU)が使用さ
れる。
本発明の方法を行なうための適当な希釈剤は、全ての通常の不活性な有機溶媒
及び更に水である。好ましくは、脂肪族、脂環族又は芳香族の、随時ハロゲン化
された炭化水素、例えばベンジン、ベンゼン、キシレン、クロロベンゼン、ジク
ロロベンゼン、石油エーテル、ヘキサン、シクロヘキサン、ジクロロメタン、ク
ロロホルム、四塩化炭素、;エーテル、例えばジエチルエーテル、ジイソプロピ
ルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン又はエチレングリコールジメチル
エーテル又はエチレングリコールジエチルエーテル;ケトン、例えばアセトン、
ブタノン又はメチルイソブチルケトン;ニトリル、例えばアセトニトリル、プロ
ピオニトリル又はブチロニトリル;アミド、例えばN、N−ジメチルホルムアミ
ド、N、N−ジメチルアセトアミド、N−メチルホルムアミド、N−メチルピロ
リドン又はヘキサメチルリン酸トリアミド;エステル、例えば酢酸メチル又は酢
酸エチル;スルホキシド、例えばジメチルスルホキシド;アルコール、例えばメ
タノール、エタノール、n−又はi−プロパノール、エチレングリコールモノメ
チルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコール
モノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、これらと水の
混合物、或いは純水が使用される。
本発明の方法を行なう場合、反応温度は比較的広範囲に変えることができる。
一般に反応は、−50〜+100、好ましくは−30〜+80℃の温度で行なわ
れる。
本発明の方法は、一般に大気圧下に行なわれる。しかしながら、昇圧下に或い
は容易に揮発性しない成分を使用する限りにおいては減圧下に行なうこともでき
る。
本発明の方法を行なう場合には、置換されたフェニル−オキサジンジオンのモ
ル当たり、一般に1〜5、好ましくは1.0〜2.5モルの式(III)のアミノ
化合物が使用される。
本発明の方法の好適な具体例においては、式(II)の置換されたフェニル−オ
キサジンジオンを、最初に適当な希釈剤の中に入れ、(III)のアミノ化合物を
ゆっくりと秤入れる。ついで反応混合物を、反応が終わるまで、適当ならば昇温
下に撹拌する。処理は常法に従って行なわれる(参照、製造実施例)。
式(I)の1−フェニル−ウラシル誘導体及びその除草剤としての使用法は既
に公知である(参照、ヨーロッパ特許第0408382号、ヨーロッパ特許第0
648749号及びWO第95−32952号)。
次の実施例は本発明の方法を例示する。
製造実施例
実施例1
室温(約20℃)において、25%アンモニア水溶液7ml(0.01モルN
H3)を、3−(4−シアノ−2,5−ジフルオロ−フェニル)
−3,4−ジヒドロ−6−トリフルオロメチル−2H−1,3−オキサジン−2
,4−ジオン15.9g(0.05モル)及びエタノール100mlの混合物に
、撹拌しながら滴々に添加した。この反応混合物を室温で20時間撹拌した。つ
いで混合物を水流ポンプの真空下に濃縮し、残渣を酢酸エチルに入れた。得られ
た溶液を水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。濾液を減圧下に濃縮し、
残渣を少量のイソプロパノールで咀嚼し、得られた結晶生成物を吸引濾過で単離
した。
この結果融点234℃の1−(4−シアノ−2,5−ジフルオロ−フェニル)
−3,6−ジヒドロ−2,6−ジオキソ−4−トリフルオロメチル−1(2H)
−ピリミジン11.8g(理論量の74%)を得た。出発物質の製造
実施例2 40℃において、トルエン中ホスゲンの20%溶液120gを、N−(4−シ
アノ−2,5−ジフルオロ−フェニル)−3−オキソ−4,4,4−トリフルオ
ロ−1−ブタン酸アミド60g(0.20モル)、ピリジン40ml、4−ジメ
チルアミノピリジン4g及びトルエン1.5リットルの混合物に、撹拌しながら
滴々に添加した。ついで反応混合物を更に4時間40℃で撹拌した。続いて過剰
のホスゲンを、窒素で追い出した。残った混合物を、水で3回洗浄し、硫酸ナト
リウムで乾燥し、濾過
した。溶媒を水流ポンプの真空下に濾液から注意深く留去した。
この結果、3−(4−シアノ−2,5−ジフルオロ−フェニル)−3,4−ジ
ヒドロ−6−トリフルオロメチル−2H−1,3−オキサジン−2,4−ジオン
63.7g(理論量の77.5%)を、ゆっくりと結晶化する粘稠な物質として
得た。
融点(イソプロパノールからの再結晶後):127℃。
実施例3
方法(b)
4,4,4−トリフルオロアセト酢酸エチル(約95%)9.7g、4−シア
ノ−2,5−ジフルオロ−アニリン7.8g及びN−メチル−ピロリドン25m
lの混合物を、110℃で23時間撹拌した。更に4,4,4−トリフルオロア
セト酢酸エチル4.8gを添加した後、混合物を110℃で更に7時間撹拌した
。冷却後、得られた結晶生成物を吸引濾過により単離した。
この結果、融点189℃のN−(4−シアノ−2,5−ジフルオロ−フェニル
)−3−オキソ−4,4,4−トリフルオロ−1−ブタン酸アミド4.0g(理
論量の22%)を得た。
方法(c)
N−(4−シアノ−2,5−ジフルオロ−フェニル)−3−アミノ−
4,4,4−トリフルオロ−2−ブタン酸アミド29.1g(0.10モル)、
水150ml、メタンスルホン酸19.2g及びn−ブタノール450mlの混
合物を室温(約20℃)で20時間撹拌した。ついで有機相を分離し、それぞれ
水150mlで2回洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を水流ポ
ンプの真空下に濾液から注意深く留去した。この残渣をシクロヘキサン200m
lと共に撹拌し、結晶生成物を吸引濾過により単離した。
この結果、融点189℃のN−(4−シアノ−2,5−ジフルオロ−フェニル
)−3−オキソ−4,4,4−トリフルオロ−1−ブタン酸アミド27.2g(
理論量の92%)を得た。
N−(4−シアノ−2,5−ジフルオロ−フェニル)−3−アミノ−4,4,
4−トリフルオロ−2−ブタン酸アミド1.58g(5ミリモル)、水5ml、
1N塩酸5ml及びn−ブタノール15mlの混合物を室温(約20℃)で20
時間撹拌した。ついで水10mlを添加した。有機相を分離し、水で2回洗浄し
、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を水流ポンプの真空下に濾液から注
意深く留去した。この残渣をシクロヘキサン5mlと共に撹拌し、結晶生成物を
吸引濾過により単離した。
この結果、融点189℃のN−(4−シアノ−2,5−ジフルオロ−フェニル
)−3−オキソ−4,4,4−トリフルオロ−1−ブタン酸アミド1.4g(理
論量の90%)を得た。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE,
DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,IT,L
U,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF
,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE,
SN,TD,TG),AP(GH,KE,LS,MW,S
D,SZ,UG,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG
,KZ,MD,RU,TJ,TM),AL,AM,AT
,AU,AZ,BA,BB,BG,BR,BY,CA,
CH,CN,CU,CZ,DE,DK,EE,ES,F
I,GB,GE,GH,HU,ID,IL,IS,JP
,KE,KG,KP,KR,KZ,LC,LK,LR,
LS,LT,LU,LV,MD,MG,MK,MN,M
W,MX,NO,NZ,PL,PT,RO,RU,SD
,SE,SG,SI,SK,SL,TJ,TM,TR,
TT,UA,UG,US,UZ,VN,YU,ZW
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.式 [式中、R1は水素、シアノ、ニトロ又はハロゲンを表し、 R2はシアノ、ニトロ、ハロゲンを表し、或いはそれぞれの場合に随時置換 されたアルキル又はアルコキシを表し、 R3水素、ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、ヒドロキシアミノ、ハロゲ ンを表し、或いは基−R7、−Q−R7、−NH−R7、−NH−O−R7、−NH −SO2−R7、−N(SO2−R7)2、−CQ1−R7、−CQ1−Q2−R7、CQ1 −NH−R7、Q2−CQ1−R7、−NH−CQ1−R7、−N(SO2−R7)(C Q1−R7)、Q2−CQ1−Q2−R7、−NH−CQ1−Q2−R7又は−Q2-CQ1 −NH−R7を表し、但し QはO、S、SO、又はSO2を表し、 Q1及びQ2は互いに独立にそれぞれ酸素又は硫黄を表しそして R7はそれぞれの場合に随時置換されたアルキル、アルケニル、アルキニル 、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アリールアルキル、ヘ テロシクリル又はヘテロシクリルアルキルを表し、 R4は水素、ハロゲン又は随時置換されたアルキルを表し、 R5フッ素及び/又は塩素置換アルキルを表し、そして R6は水素、ヒドロキシル又はそれぞれの場合に随時置換されたアルキル、 アルコキシ、アルケニル又はアルキニルを表す] の1−フェニル−ウラシル誘導体の製造に際して、式 [式中、R1、R2、R3、R4及びR5はそれぞれ上述の通りである] 置換フェニルオキサジン−ジオンを、適当ならば酸受容体の存在下に及び適当な らば希釈剤の存在下に、式 H2N−R6 (III) [式中、R6は上述の通りである] のアミノ化合物と又は式(III)のアミノ化合物の酸付加物と−50〜+100 ℃の温度で反応させる、該1−フェニル−ウラシル誘導体の製造法。 2.用いる出発物質が、 R1が水素、シアノ、ニトロ、フッ素、塩素又は臭素を表し、 R2がシアノ、ニトロ、フッ素、塩素、臭素或いはそれぞれの場合に随時フッ素 及び/又は塩素置換された、炭素数1〜4のアルキル又はアルコキシを表し、 R3が水素、ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、ヒドロキシアミノ、ハロゲン を表し、或いは又は基−R7、−Q−R7、−NH−R7、−N H−O−R7、−NH−SO2−R7、−N(SO2−R7)2、−CQ1−R7、−C Q1−Q2−R7、CQ1−NH−R7、Q2−CQ1−R7、−NH−CQ1−R7、− N(SO2−R7)(CQ1−R7)、Q2−CQ1−Q2−R7、−NH−CQ1−Q2 −R7又は−Q2−CQ1−NH−R7を表し、但し QはO、S、SO、又はSO2を表し、 Q1及びQ2は互いに独立にそれぞれ酸素又は硫黄を表し、そして R7は随時シアノ、ハロゲン、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、C1 〜C4アルキルカルボニル、C1〜C4アルコキシカルボニル又はC1〜C4アルキ ルアミノカルボニル置換の、炭素数1〜6のアルキルを表し、或いは それぞれの場合に随時シアノ、カルボキシ、ハロゲン、C1〜C4アルキルカルボ ニル、C1〜C4アルコキシカルボニル又はC1〜C4アルキルアミノカルボニル置 換の、炭素数2〜6のアルケニル又はアルキニルを表し、或いは それぞれの場合に随時シアノ、カルボキシ、ハロゲン、C1〜C4アルキルカルボ ニルまたはC1〜C4アルコキシカルボニル置換の、それぞれの場合のシクロアル キル基の炭素数が3〜6及び随時アルキル残基の炭素数が1〜4のシクロアルキ ル又はシクロアルキルアルキルを表し、或いは それぞれの場合にアリール基の炭素数が6又は10及び随時アルキル残基の炭素 数が1〜4であり且つそれぞれの場合に随時ヒドロキシル、メルカプト、アミノ 、シアノ、カルボキシル、カルバモイル、チオカルバモイル、C1〜C4アルキル 、C1〜C4ハロゲノアルキル、C1〜C4アル コキシ、C1〜C4ハロゲノアルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4ハロゲ ノアルキルチオ、C1〜C4アルキルスルフィニル、C1〜C4アルキルスルホニル 、C1〜C4アルキルアミノ及び/又はジメチルアミノでモノ〜トリ置換されてい てもよいアリール又はアリールアルキルを表し、或いは ヘテロシクリル基の炭素数が2〜6、窒素原子数が1〜3及び/又は酸素原子数 が1もしくは2及び/又は硫黄原子数が1及び随時アルキル残基の炭素数が1〜 4であり且つそれぞれの場合に随時ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、シアノ 、カルボキシル、カルバモイル、チオカルバモイル、C1〜C4アルキル、C1〜 C4ハロゲノアルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4ハロゲノアルコキシ、C1 〜C4アルキルチオ、C1〜C4ハロゲノアルキルチオ、C1〜C4アルキルスルフ ィニル、C1〜C4アルキルスルホニル、C1〜C4アルキルアミノ及び/又はジメ チルアミノでモノ〜トリ置換されていてもよいヘテロシクリル又はヘテロシクリ ルアルキルを表し、 R4が水素、フッ素、塩素、臭素を表し、或いは随時フッ素及び/又は塩素置換 された炭素数1〜6のアルキルを表し、そして R5がフッ素及び/又は塩素置換された炭素数1〜6のアルキルを表す、式(II )の置換フェニルオキサジン−ジオンである、請求の範囲1の方法。 3.用いる出発物質が、 R1が水素、フッ素又は塩素を表し、 R2がシアノ、フッ素、塩素、臭素、メチル又はトリフルオロメチルを表し、 R3がヒドロキシル、メルカプト、アミノ、フッ素、塩素、臭素を表し、或いは 又は基−R7、−Q−R7、−NH−R7、−NH−O−R7、−NH−SO2−R7 、−N(SO2−R7)2、−CQ1−R7、−CQ1−Q2−R7、CQ1−NH−R7 、Q2−CQ1−R7、−NH−CQ1−R7、−N(SO2−R7)(CQ1−R7) 、Q2−CQ1−Q2−R7、−NH−CQ1−Q2−R7又は−Q2−CQ1−NH− R7の1つを表し、但し QはO、S、SO、又はSO2を表し、 Q1及びQ2は互いに独立にそれぞれ酸素又は硫黄を表し、そして R7はぞれの場合に随時シアノ、フッ素、塩素、メトキシ、エトキシ、メチルチ オ、エチルチオ、アセチル、プロピオニル、メトキシカルボニル、エトキシカル ボニル、メチルアミノカルボニル又はエチルアミノカルボニル置換のメチル、エ チル、n−又はi−プロピル、n−、i−、s−又はt−ブチルを表し、或いは それぞれの場合に随時シアノ、カルボキシ、フッ素、塩素、臭素、アセチル、プ ロピオニル、n−又はi−ブチロイル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニ ル、n−又はi−プロポキシカルボニル、メチルアミノカルボニル、エチルアミ ノカルボニル、n−又はi−プロピルアミノカルボニル置換のプロペニル、ブテ ニル、プロピニル又はブチニルを表し、 それぞれの場合に随時シアノ、カルボキシ、フッ素、塩素、臭素、アセチル、プ ロピオニル、メトキシカルボニル又はエトキシカルボニル置換のシクロプロピル 、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロプロピルメチル、シ クロブチルメチル、シクロペンチルメチル又はシクロヘキシルメチルを表し、或 いは それぞれの場合にに随時ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、シアノ、カルボキ シル、カルバモイル、チオカルバモイル、メチル、エチル、トリフルオロメチル 、メトキシ、エトキシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、メチルチ オ、エチルチオ、ジフルオロメチルチオ、トリフルオロメチルチオ、メチルスル フィニル、エチルスルフィニル、メチルスルホニル、メチルアミノ、エチルアミ ノ及び/又はジメチルアミノでモノ〜トリ置換されていてもよいフェニル、ベン ジル又はフェニルエチル表し、或いは それぞれの場合に随時ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、シアノ、カルボキシ ル、カルバモイル、チオカルバモイル、メチル、エチル、n−又はi−プロピル 、n−、i−、s−又はt−ブチル、ジフルオロメチル、ジクロロメチル、トリ フルオロメチル、トリクロロメチル、クロロジフルオロメチル、フルオロジクロ ロメチル、メトキシ、エトキシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、 メチルチオ、エチルチオ、ジフルオロメチルチオ、トリフルオロメチルチオ、メ チルスルフィニル、エチルスルフィニル、メチルスルホニル、エチルスルホニル 、メチルアミノ、エチルアミノ及び/又はジメチルアミノでモノ又はジ置換され ていてもよいオキシラニル、オキセタニル、フリル、テトラヒドロキシフリル、 ジオキソラニル、チエニル、テトラヒドロチエニル、ピロリル、ピラゾリル、イ ミダゾリル、トリアゾリル、オキサゾリル、イソキサゾリル、チアゾリル、イソ チアゾリル、オキサジアゾリル、チアジアゾリル、ピリジニル、ピリミジニル、 トリアジニル、ピラゾリルメチル、フリルメチル、チエニルメチル、オキサゾリ ルメチル、イソキサゾリルメチル、チアゾリルメチル、ピリジニルメチル、ピリ ミジニルメチルの群 から選択されるヘテロシクリル又はヘテロシクリルアルキルを表し、 R4が水素、フッ素、塩素、臭素、メチル、エチル又はトリフルオロメチルを表 し、そして R5がトリフルオロメチル、クロロジフルオロメチル、フルオロジクロロメチル 又はペンタフルオロエチルを表す、 式(II)の置換フェニルオキサジン−ジオンである、請求の範囲1の方法。 4.用いる反応成分が、 R6が水素、ヒドロキシルを表し、或いはそれぞれの場合に随時ヒドロキシル、 シアノ、ハロゲン又はC1〜C4アルコキシで置換された、それぞれの場合に炭素 数1〜6のアルキル又はアルコキシを表し、或いはそれぞれの場合に随時シアノ 又はハロゲンで置換された、それぞれの場合に炭素数2〜6のアルケニル又はア ルキニルを表す、 式(III)のアミノ化合物である、請求の範囲1の方法。 5.用いる反応成分が、 R6が水素、ヒドロキシルを表し、或いはそれぞれの場合に随時ヒドロキシル、 シアノ、フッ素、塩素、メトキシ又はエトキシで置換されたメチル、エチル、n −又はi−プロピル、n−、i−、s−又はt−ブチル、メトキシ、エトキシ、 n−又はi−プロポキシ、n−、i−、s−又はt−ブトキシを表し、或いはそ れぞれの場合に随時シアノ、フッ素、塩素又は臭素で置換されたプロペニル、ブ テニル、プロピニル又はブチニルを表す、 式(III)のアミノ化合物である、請求の範囲1の方法。 6.式 [式中、A1はフッ素又は塩素を表し、 A2はシアノを表し、 A3フッ素又は塩素を表し、 A4水素、フッ素、塩素又はメチルを表し、そして A5トリフルオロメチル、クロロジフルオロメチル、フルオロジクロロメチ ル又はペンタフルオロエチルを表す] のフェニロキサジン−ジオン。 7.a)式 [式中、A1、A2、A3、A4及びA5はそれぞれ上述の通りである] の置換β−ケト−カルボキサニリドを、適当ならば酸結合剤の存在下に及び適当 ならば希釈剤の存在下に式 [式中、Z1及びZ2は同一でも異なってもよく、それぞれハロゲン、 アルコキシ、アリーロキシ、イミダゾリル又はトリアゾリルを表す] の炭酸誘導体と反応させる、請求の範囲6の式(IIa)のフェニロキサジン−ジ オンの製造法。 8.式 [式中、A1はフッ素又は塩素を表し、 A2はシアノを表し、 A6フッ素、塩素、メチルスルホニルアミノ又はエチルスルホニルアミノを 表し、 A4水素、フッ素、塩素又はメチルを表し、そして A5トリフルオロメチル、クロロジフルオロメチル、フルオロジクロロメチ ル又はペンタフルオロエチルを表す] のβ−ケト−カルボキサニリド。 9.(b)式 [式中、A4及びA5はそれぞれ上述の通りであり、そして Rは炭素数1〜4のアルキルを表す] のβ−ケト−エステルを、適当ならば希釈剤の存在下に、式 [式中、A1、A2及びA6はそれぞれ上述の通りである] の置換アニリンと反応させ、或いは (c)式 [式中、A1、A2、A3、A4及びA6はそれぞれ上述の通りである] の置換アミノアルケン酸を、適当ならば酸性触媒の存在下に及び適当ならば有機 溶媒の存在下に、水と反応させる、 請求の範囲8の式(IVb)のβ−ケト−カルボキサニリドの製造法。
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