JP2001506248A - ３，４−ジヒドロ−２ｈ−１，３−オキサジン−ジオン誘導体とヒドラジン（付加物）を反応させることによる３−アミノ−１−フェニル−ウラシル誘導体の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明の方法によれば、式 ［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴及びＲ⁵は前述の通りである］の３−アミノ−１−フェニル−ウラシルは、式 の置換フェニルオキサジン−ジオンを、適当ならば酸受容体の存在下に及び適当ならば希釈剤の存在下に、式

Description

【発明の詳細な説明】 ３,４−ジヒドロ−２Ｈ−１,３−オキサジン−ジオン誘導体とヒドラジン（付加 物）を反応させることによる３−アミノ−１−フェニル−ウラシル誘導体の製造 法 技術分野 本発明は、公知の３−アミノ−１−フェニル−ウラシルの新規な製造法に関す る。 背景の技術 ある種の３−アミノ−１−フェニル−ウラシルが、塩基の存在下にアミノアル ケン酸エステルを、置換されたフェニルイソシアネートと又は置換されたフェニ ルウレタンと反応させ、そして得られる１−フェニルウラシルを１−アミノオキ シ−２、４−ジニトロ−ベンゼンンと反応させることによって製造できることは 既に知られている（参照、ヨーロッパ特許第０４０８３８２号、ヨーロッパ特許 第０６４８７４９号及びＷＯ第９５−３２９５２号）。しかしながら、この方法 は、所望の物質が比較的低収量でしか且つ必ずしも十分な純度では得られないと いう欠点を有する。更に、必要とされる出発物質は工業的な規模での合成に対し て特に非常に適当ではない。 更にある種のフェニル−ウラシルが、アミノアルケン酸フェニルアミドをカル ボン酸誘導体と反応させることにより製造できるということも公知である（参照 、ＷＯ第９５−３２９５２号）。これらの物質も、アミノ化によって対応する３ −アミオ−１−フェニル−ウラシルに転化することができる。しかしながらこの 方法は多くの工程を行なわねばならず且つこのために合成が比較的複雑となると いう欠点を有する。 最後に窒素原子が未置換のある種の１、３−オキサジン−２、４（３Ｈ）−ジ オンをヒドラジンと反応させて、アミノ基を置換基として有するウラシルを製造 する方法も既に知られている。しかしながら、窒素原子の置換された１、３−オ キサジン−２、４（３Ｈ）−ジオンの対応する反応では、いずれのウラシルも与 えず、ピラゾール誘導体だけを生成する（参照、Ｊ．ヘテロシクル・ケム（Ｈｅ ｔｅｒｏｃｙｃｌ．Ｃｈｅｍ．）、１５（１９７８）、１４７５〜１４７８）。 今回、式 ［式中、Ｒ¹は水素、シアノ、ニトロ又はハロゲンを表し、 Ｒ²はシアノ、ニトロ、ハロゲンを表し、或いはそれぞれの場合に随時置換 されたアルキル又はアルコキシを表し、 Ｒ³水素、ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、ヒドロキシアミノ、ハロゲ ンを表し、或いは基−Ｒ⁷、−Ｑ−Ｒ⁷、−ＮＨ−Ｒ⁷、−ＮＨ−Ｏ−Ｒ⁷、−ＮＨ −ＳＯ₂−Ｒ⁷、−Ｎ(ＳＯ₂−Ｒ⁷)₂、−ＣＱ¹−Ｒ⁷、−ＣＱ¹−Ｑ²−Ｒ⁷、ＣＱ¹ −ＮＨ−Ｒ⁷、Ｑ²−ＣＱ¹−Ｒ⁷、−ＮＨ−ＣＱ¹−Ｒ⁷、−Ｎ（ＳＯ₂−Ｒ⁷）（Ｃ Ｑ¹−Ｒ⁷）、Ｑ²−ＣＱ¹−Ｑ²−Ｒ⁷、−ＮＨ−ＣＱ¹−Ｑ²−Ｒ⁷又は−Ｑ²−ＣＱ¹ −ＮＨ−Ｒ⁷を表し、但し ＱはＯ、Ｓ、ＳＯ、又はＳＯ₂を表し、 Ｑ¹及びＱ²は互いに独立にそれぞれ酸素又は硫黄を表し、そして Ｒ⁷はそれぞれの場合に随時置換されたアルキル、アルケニル、アルキニル 、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アリールアルキル、ヘ テロシクリル又はヘテロシクリルアルキルを表し、 Ｒ⁴は水素、ハロゲン又は随時置換されたアルキルを表し、そして Ｒ⁵フッ素及び／又は塩素置換アルキルを表す］ の３−アミノ−１−フェニル−ウラシル誘導体は、式 ［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴及びＲ⁵はそれぞれ上述の通りである］ 置換フェニルオキサジン−ジオンを、適当ならば酸受容体の存在下に及び適当な らば希釈剤の存在下に、式 Ｈ₂Ｎ−ＮＨ₂・Ｈ₂Ｏ （III） のヒドラジンハイドレートと−５０〜＋１００℃の温度で反応させる時に得られ るということが発見された。 従来法に基づけば、ピラゾール誘導体が反応中に生成すると予想されるから、 本発明の方法により式（Ｉ）の３−アミノ−１−フェニル−ウラシル誘導体が製 造できるということは非常に驚くべきことである。予想に反して、本発明は従来 法と異なる。むしろ３−アミノ−１−フェニル−ウラシルは平滑な反応で得るこ とができる。 本発明の方法は、多くの利点を有する。即ち必要とされる出発物質が、簡単な 方法で比較的多量でさえも得ることができる。更に反応の実施及び所望の生成物 の単離は何の問題もない。特に好ましいことは、３−アミノ−１−フェニル−ウ ラシル誘導体が式（II）の置換フェニルオキサジン−ジオンから１段反応で得ら れるということである。その上、本方法は広い適用性を有する。 ３−（４−シアノ−２、５−ジフルオロ−フェニル）−３、４−ジヒドロ−６ −トリフルオロメチル−２Ｈ−１、３−オキサジン−２、４−ジオン及びヒドラ ジンハイドレートを出発物質とした場合、本発明の方法の過程は次の方程式で例 示することができる。 式（II）は、本発明の方法を行なうための出発物質として必要とされるフェニ ルオキサジン−ジオンの一般的な定義を与える。好ましくは、Ｒ¹が水素、シア ノ、ニトロ、フッ素、塩素又は臭素を表し、 Ｒ²がシアノ、ニトロ、フッ素、塩素、臭素或いはそれぞれの場合に随時フッ素 及び／又は塩素置換された、炭素数１〜４のアルキル又はアルコキシを表し、 Ｒ³が水素、ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、ヒドロキシアミノ、ハロゲン を表し、或いは基−Ｒ⁷、−Ｑ−Ｒ⁷、−ＮＨ−Ｒ⁷、−ＮＨ−Ｏ−Ｒ⁷、−ＮＨ− ＳＯ₂−Ｒ⁷、−Ｎ（ＳＯ₂−Ｒ⁷）₂、−ＣＱ¹−Ｑ²− Ｒ⁷、ＣＱ¹−ＮＨ−Ｒ⁷、Ｑ²−ＣＱ¹−Ｒ⁷、−ＮＨ−ＣＱ¹−Ｒ⁷、−Ｎ（ＳＯ₂ −Ｒ⁷）(ＣＱ¹−Ｒ⁷)、Ｑ²−ＣＱ¹−Ｑ²−Ｒ⁷、−ＮＨ−ＣＱ¹−Ｑ²−Ｒ⁷又は− Ｑ²−ＣＱ¹−ＮＨ−Ｒ⁷の１つを表し、但し ＱはＯ、Ｓ、ＳＯ、又はＳＯ₂を表し、 Ｑ¹及びＱ²は互いに独立にそれぞれ酸素又は硫黄を表し、そして Ｒ⁷は随時シアノ、ハロゲン、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄アルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル又はＣ₁〜Ｃ₄アルキ ルアミノカルボニル置換の、炭素数１〜６のアルキルを表し、或いは それぞれの場合に随時シアノ、カルボキシ、ハロゲン、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボ ニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル又はＣ₁〜Ｃ₄アルキルアミノカルボニル置 換の、炭素数２〜６のアルケニル又はアルキニルを表し、或いは それぞれの場合に随時シアノ、カルボキシ、ハロゲン、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボ ニルまたはＣ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル置換の、それぞれの場合のシクロアル キル基の炭素数が３〜６及び随時アルキル残基の炭素数が１〜４のシクロアルキ ル又はシクロアルキルアルキルを表し、或いは それぞれの場合にアリール基の炭素数が６又は１０及び随時アルキル残基の炭素 数が１〜４であり且つそれぞれの場合に随時ヒドロキシル、メルカプト、アミノ 、シアノ、カルボキシル、カルバモイル、チオカルバモイル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル 、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロゲノアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロゲノアルコキ シ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロゲノアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル スルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄ アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ及び／又はジメチルアミノでモノ 〜トリ置換されていてもよいアリール又はアリールアルキルを表し、或いは ヘテロシクリル基の炭素数が２〜６、窒素原子数が１〜３及び／又は酸素原子数 が１もしくは２及び／又は硫黄原子数が１及び随時アルキル残基の炭素数が１〜 ４であり且つそれぞれの場合に随時ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、シアノ 、カルボキシル、カルバモイル、チオカルバモイル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜 Ｃ₄ハロゲノアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロゲノアルコキシ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロゲノアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフ ィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ及び／又はジメ チルアミノでモノ〜トリ置換されていてもよいヘテロシクリル又はヘテロシクリ ルアルキルを表し、 Ｒ⁴が水素、フッ素、塩素、臭素を表し、或いは随時フッ素及び／又は塩素置換 された炭素数１〜６のアルキルを表し、そして Ｒ⁵がフッ素及び／又は塩素置換された炭素数１〜６のアルキルを表す、 式（II）の化合物が使用される。 特に好ましくは、 Ｒ¹が水素、フッ素又は塩素を表し、 Ｒ²がシアノ、ニトロ、フッ素、塩素、臭素、メチル又はトリフルオロメチルを 表し、 Ｒ³がヒドロキシル、メルカプト、アミノ、フッ素、塩素、臭素を表し、或いは 又は基−Ｒ⁷、−Ｑ−Ｒ⁷、−ＮＨ−Ｒ⁷、−ＮＨ−Ｏ−Ｒ⁷、−ＮＨ−ＳＯ₂−Ｒ⁷ 、−Ｎ（ＳＯ₂−Ｒ⁷）₂、−ＣＱ¹−Ｒ⁷、−ＣＱ¹−Ｑ² −Ｒ⁷、ＣＱ¹−ＮＨ−Ｒ⁷、Ｑ²−ＣＱ¹−Ｒ⁷、−ＮＨ−ＣＱ¹−Ｒ⁷、−Ｎ（ＳＯ₂ −Ｒ⁷）（ＣＱ¹−Ｒ⁷）、Ｑ²−ＣＱ¹−Ｑ²−Ｒ⁷、−ＮＨ−ＣＱ¹−Ｑ²−Ｒ⁷又 は−Ｑ²−ＣＱ¹−ＮＨ−Ｒ⁷の１つをを表し、但し ＱはＯ、Ｓ、ＳＯ、又はＳＯ₂を表し、 Ｑ¹及びＱ²は互いに独立にそれぞれ酸素又は硫黄を表し、そして Ｒ⁷はぞれの場合に随時シアノ、フッ素、塩素、メトキシ、エトキシ、メチルチ オ、エチルチオ、アセチル、プロピオニル、メトキシカルボニル、エトキシカル ボニル、メチルアミノカルボニル又はエチルアミノカルボニル置換のメチル、エ チル、ｎ−又はｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−、ｓ−又はｔ−ブチルを表し、或いは それぞれの場合に随時シアノ、カルボキシル、フッ素、塩素、臭素、アセチル、 プロピオニル、ｎ−又はｉ−ブチロイル、メトキシカルボニル、エトキシカルボ ニル、ｎ−又はｉ−プロポキシカルボニル、メチルアミノカルボニル、エチルア ミノカルボニル、ｎ−又はｉ−プロピルアミノカルボニル置換のプロペニル、ブ テニル、プロピニル又はブチニルを表し、 それぞれの場合に随時シアノ、カルボキシ、フッ素、塩素、臭素、アセチル、プ ロピオニル、メトキシカルボニル又はエトキシカルボニル置換のシクロプロピル 、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロプロピルメチル、シ クロブチルメチル、シクロペンチルメチル又はシクロヘキシルメチルを表し、或 いは それぞれの場合にに随時ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、シアノ、カルボキ シル、カルバモイル、チオカルバモイル、メチル、エチル、トリフルオロメチル 、メトキシ、エトキシ、ジフルオロメトキシ、トリフ ルオロメトキシ、メチルチオ、エチルチオ、ジフルオロメチルチオ、トリフルオ ロメチルチオ、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、メチルスルホニル、 メチルアミノ、エチルアミノ及び／又はジメチルアミノでモノ〜トリ置換されて いてもよいフェニル、ベンジル又はフェニルエチル表し、或いは それぞれの場合に随時ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、シアノ、カルボキシ ル、カルバモイル、チオカルバモイル、メチル、エチル、ｎ−又はｉ−プロピル 、ｎ−、ｉ−、ｓ−又はｔ−ブチル、ジフルオロメチル、ジクロロメチル、トリ フルオロメチル、トリクロロメチル、クロロジフルオロメチル、フルオロジクロ ロメチル、メトキシ、エトキシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、 メチルチオ、エチルチオ、ジフルオロメチルチオ、トリフルオロメチルチオ、メ チルスルフィニル、エチルスルフィニル、メチルスルホニル、エチルスルホニル 、メチルアミノ、エチルアミノ及び／又はジメチルアミノでモノ又はジ置換され ていてもよいオキシラニル、オキセタニル、フリル、テトラヒドロキシフリル、 ジオキソラニル、チエニル、テトラヒドロチエニル、ピロリル、ピラゾリル、イ ミダゾリル、トリアゾリル、オキサゾリル、イソキサゾリル、チアゾリル、イソ チアゾリル、オキサジアゾリル、チアジアゾリル、ピリジニル、ピリミジニル、 トリアジニル、ピラゾリルメチル、フリルメチル、チエニルメチル、オキサゾリ ルメチル、イソキサゾリルメチル、チアゾリルメチル、ピリジニルメチル、ピリ ミジニルメチルの群から選択されるヘテロシクリル又はヘテロシクリルアルキル を表し、 Ｒ⁴が水素、フッ素、塩素、臭素、メチル、エチル又はトリフルオロメチルを表 し、そして Ｒ⁵がトリフルオロメチル、クロロジフルオロメチル、フルオロジクロロメチル 又はペンタフルオロエチルを表す、 式（II）のフェニルオキサジン−ジオンが使用される。 式（II）の置換されたフェニルオキサジン−ジオンのいくつかは既に公知であ る（参照、ヨーロッパ特許第０３７１２４０号及びヨーロッパ特許第０６３８５ ６３号）。 式 ［式中、Ａ¹はフッ素又は塩素を表し、 Ａ²はシアノを表し、 Ａ³フッ素又は塩素を表し、 Ａ⁴水素、フッ素、塩素又はメチルを表し、そして Ａ⁵トリフルオロメチル、クロロジフルオロメチル、フルオロジクロロメチ ル又はペンタフルオロエチルを表す］ の置換されたフェニルオキサジン−ジオンは新規である。 式（IIａ）の置換されたフェニルオキサジン−ジオンは、 ａ）式 ［式中、Ａ¹、Ａ²、Ａ³、Ａ⁴及びＡ⁵はそれぞれ上述の通りである］ の置換β−ケト−カルボキサニリドを、適当ならば酸結合剤、例えばナトリウム ヒドリド、ピリジン又は４−ジメチルアミノピリジンの存在下に及び適当ならば 希釈剤、例えばトルエン又はテトラヒドロフランの存在下に、式 ［式中、Ｚ¹及びＺ²は同一でも異なってもよく、それぞれハロゲン、アルコキ シ、アリーロキシ、イミダゾリル又はトリアゾリルを表す］ の炭酸誘導体と−２０〜＋１５０℃の温度で反応させることにより製造すること ができる（参照、製造実施例）。 式（II）の他の置換されたフェニルオキサジン−ジオンは、同一の方法で、式 ［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴及びＲ⁵は上述の通りである］ の置換されたβ−ケト−カルボキサニリドを、方法（ａ）にしたがって、 式（Ｖ）の炭酸誘導体と反応させることによって製造することができる。 式（Ｖ）は方法（ａ）における反応成分として必要とされる炭酸誘導体の一般 的な定義を与える。この式において、Ｚ¹及びＺ²は同一でも異なってもよく、そ れぞれ好ましくは塩素、メトキシ、エトキシ、フェノキシ、イミダゾル−１−イ ル又は１、２、４−トリアゾル−１−イルを表す。 式（Ｖ）の炭酸誘導体は公知である。 式（IV）は置換されたβ−ケト−カルボキサニリドの一般的な定義を与える。 この式において、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴及びＲ⁵は、それぞれ好ましくは式（II） のフェニルオキサジン−ジオンの記述と関連して、これらの基に好適なものとし て既に言及した意味を有する。 式（IV）は置換されたβ−ケト−カルボキサニリドのいくつかは既に公知であ る（参照、Ｊ．ヘテロシクル・ケム、２、１１３（１９６５）、シンセシス（Ｓ ｙｎｔｈｅｓｉｓ）、１９９２、１２１３〜１２１４及び独国特許第４２１８１ ５９号）。 式 ［式中、Ａ¹はフッ素又は塩素を表し、 Ａ²はシアノを表し、 Ａ⁶はフッ素、塩素、メチルスルホニルアミノ又はエチルスルホニ ルアミノを表し、 Ａ⁴水素、フッ素、塩素又はメチルを表し、そして Ａ⁵トリフルオロメチル、クロロジフルオロメチル、フルオロジクロロメチ ル又はペンタフルオロエチルを表す］ の置換されたβ−ケト−カルボキサニリドは新規である。 式（IVｂ）の置換されたβ−ケト−カルボキサニリドは、 （ｂ）式 ［式中、Ａ⁴及びＡ⁵はそれぞれ上述の通りであり、そして Ｒは炭素数１〜４のアルキルを表す］ のβ−ケト−エステルを、適当ならば希釈剤、例えばＮ、Ｎ−ジメチルホルムア ミド又はＮ−メチルピロリドンの存在下に、式 ［式中、Ａ¹、Ａ²及びＡ⁶はそれぞれ上述の通りである］ の置換アニリンと５０〜１５０℃の温度で反応させ、或いは （ｃ）式 ［式中、Ａ¹、Ａ²、Ａ³、Ａ⁴及びＡ⁶はそれぞれ上述の通りである］ の置換アルケン酸アニリド（ａｌｋｅｎｏｉｃ ａｃｉｄ ａｎｉｌｉｄｅｓ） を、適当ならば酸性触媒、例えば塩酸、硫酸又はメタンスルホン酸の存在下に及 び適当ならば有機溶媒、例えばメタノール、エタノール、ｎ−又はｉ−プロパノ ール、ｎ−、ｉ−、ｓ−又はｔ−ブタノールの存在下に、水と０〜１００℃の温 度で反応させる、 ことにより製造することができる（参照、製造実施例）。 式（IV）の他のβ−ケト−カルボキサニリドは同一の方法で製造することがで きる。 式（VI）は、方法（ｂ）を行なうための反応出発物質として必要とされるβ− ケト−エステルの一般的な定義を与える。この式において、Ａ⁴及びＡ⁵はそれぞ れ上述の通りである。Ｒは好ましくはメチル又はエチルを表す。 本発明の方法を行なうための反応成分として必要とされる式（III）のヒドラ ジンハイドレートまたはその酸付加物は公知である。好ましくはヒドラジンハイ ドレート又はその塩酸付加塩が使用される。 本発明を行なうための適当な酸受容体は、すべての通常の無機又は有機塩基で ある。好ましくは、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の酢酸塩、アミド、炭酸 塩、炭酸水素塩、ヒドリド、水酸化物又はアルコキシ ド、例えば酢酸ナトリウム、酢酸カリウム又は酢酸カルシウム、リチウムアミド 、ナトリウムアミド、カリウムアミド又はカルシウムアミド、炭酸ナトリウム、 炭酸カリウム又は炭酸カルシウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム又は 炭酸水素カルシウム、リチウムヒドリド、ナトリウムヒドリド、カリウムヒドリ ド又はカルシウムヒドリド、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ ム又は水酸化カルシウム、ナトリウムメトキシド、エトキシド、ｎ−又はｉ−プ ロポキシド、ｎ−、ｉ−、ｓ−又はｔ−ブトキシド或いはカリウムメトキシド、 エトキシド、ｎ−又はｉ−プロポキシド、ｎ−、ｉ−、ｓ−又はｔ−ブトキシド ；更に塩基性有機窒素化合物、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、ト リプロピルアミン、エチルジイソプロピルアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルシクロヘキ シルアミン、ジシクロヘキシルアミン、エチルジシクロヘキシルアミン、Ｎ、Ｎ −ジメチルアニリン、Ｎ、Ｎ−ジメチルベンジルアミン、ピリジン、２−メチル −、３−メチル−、４−メチル−、２、４−ジメチル−、２、６−ジメチル−、 ３、４−ジメチル−及び３、５−ジメチル−ピリジン、５−エチル−３−メチル −ピリジン、４−ジメチルアミノ−ピリジン、Ｎ−メチルピリジン、１、４−ジ アザビシクロ［２、２、２］−オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１、５−ジアザビシク ロ［４、３、０］−ノン−５−エン（ＤＢＮ）又は１、８−ジアザビシクロ［５ 、４、０］−ウンデク−７−エン（ＤＢＵ）が使用される。 本発明を行なうのに好適な希釈剤は、すべての通常の不活性な有機溶媒、及び 更に水である。好ましくは、脂肪族、脂環族又は芳香族の、随時ハロゲン化され た炭化水素、例えばベンジン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン 、ジクロロベンゼン、石油エーテル、シクロ ヘキサン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素；エーテル、例えばジエ チルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン或い はエチレングリコールジメチルエーテル又はエチレングリコールジエチルエーテ ル；ケトン、例えばアセトン、ブタノン又はメチルイソブチルケトン；ニトリル 、例えばアセトニトリル、プロピオニトリル又はブチロニトリル；アミド、例え ばＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル −ホルムアニリド、Ｎ−メチル−ピロリドン又はヘキサメチルリン酸トリアミド ；エステル、例えば酢酸メチル又は酢酸エチル；スルホキシド、例えばジメチル スルホキシド；アルコール、例えばメタノール、エタノール、ｎ−又はｉ−プロ パノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエ チルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコー ルモノエチルエーテル、これらと水の混合物、或いは純水が使用される。 本発明の方法を行なう場合、反応温度は比較的広範囲に変えることができる。 一般に反応は、−５０〜＋１００、好ましくは−３０〜＋８０℃の温度で行なわ れる。 本発明の方法は、一般に大気圧下に行なわれる。しかしながら、昇圧下に或い は容易に揮発性でない成分を使用するならば減圧下に操作することもできる。 本発明の方法を行なう場合、式（II）の置換フェニル−オキサジンジオン１モ ル当たり、一般に１〜５モル、好ましくは１．０〜２．５モルの、式（III）の ヒドラジンハイドレート又はその酸付加物が使用される。 本発明の好適な具体例においては、式（II）の置換フェニル−オキサ ジンジオンを最初に適当な希釈剤中に仕込み、式（III）のヒドラジンハイドレ ートをゆっくりと秤入れる。ついでこの反応混合物を、適当ならば昇温下に、反 応が終わるまで撹拌する。処理は常法に従って行なわれる（参照、製造実施例） 。 式（Ｉ）の３−アミノ−１フェニル−ウラシル及びその除草剤としての使用法 は既に公知である（参照、ヨーロッパ特許第０４０８３８２号、ヨーロッパ特許 第０６４８７４９号及びＷＯ第９５−３２９５２号）。 以下の実施例は本発明の方法を例示する。 製造実施例 実施例１ ３−（４−シアノ−２、５−ジフルオロ−フェニル）−３、４−ジヒドロ−６ −トリフルオロメチル−２Ｈ−１、３−オキサジン−２、４−ジオン１５．９ｇ （０．０５モル）、ヒドラジンハイドレート２．５ｇ（０．０５モル）及びエタ ノール１００ｍｌの混合物を、室温で２０時間及び還流下に更に１時間撹拌した 。冷却後に結晶形で得られる生成物を吸引濾過により単離した。 この結果、融点２２７℃の３−アミノ−１−（４−シアノ−２、５−ジフルオ ロ−フェニル）−３、６−ジヒドロ−２、６−ジオキソ−４−トリフルオロメチ ル−１（２Ｈ）−ピリミジン４．８ｇ（理論量の２７ ％）を得た。 出発物質の製造例 実施例２ ４０℃において、ホスゲンの２０％トルエン溶液１２０ｇを、Ｎ−（４−シア ノ−２、５−ジフルオロ−フェニル）−３−オキソ−４、４、４−トリフルオロ −１−ブタン酸アミド６０ｇ（０．２０モル）、ピリジン４０ｍｌ、４−ジメチ ルアミノ−ピリジン４ｇ及びトルエン１．５リットルの混合物に撹拌しながら滴 々に添加した。この反応混合物を４０℃で更に４時間撹拌した。続いて過剰のホ スゲンを窒素で追い出した。残った混合物を３回水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥 し、濾過した。溶媒を水流ポンプの真空下に注意深く濾液から留去した。 この結果、３−（４−シアノ−２、５−ジフルオロ−フェニル）−３、４−ジ ヒドロ−６−トリフルオロメチル−２Ｈ−１、３−オキサジン−２、４−ジオン ６３．７ｇ（理論量の７７．５％）を、徐々に結晶化する粘稠な物質として得た 。 融点（イソプロパノールから再結晶後）：１２７℃。 実施例３ 方法（ｂ） ４、４、４−トリフルオロアセト酢酸エチル（純度約９５％）９．７ｇ、４− シアノ−２、５−ジフルオロ−アニリン７．８ｇ及びＮ−メチルピロリドン２５ ｍｌの混合物を１１０℃で２３時間撹拌した。更に４、４、４−トリフルオロア セト酢酸エチル４．８ｇを添加した後、混合物を１１０℃で更に７時間撹拌した 。冷却後、得られる結晶生成物を吸引濾過により単離した。 この結果、融点１８９℃のＮ−（４−シアノ−２、５−ジフルオロ−フェニル ）−３−オキソ−４、４、４−トリフルオロ−１−ブタン酸アミド４．０ｇ（理 論量の２２％）を得た。 方法（ｃ） Ｎ−（４−シアノ−２、５−ジフルオロ−フェニル）−３−アミノ−４、４、 ４−トリフルオロ−２−ブタン酸アミド２９．１ｇ（０．１０モル）、水１５０ ｍｌ、メタンスルホン酸１９．２ｇ及びｎ−ブタノール４５０ｍｌの混合物を、 室温（約２０℃）で２０時間撹拌した。ついで有機相を分離し、それぞれ水１５ ０ｍｌで２回洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を水流ポンプの 真空下に注意深く濾液から留去した。この残渣をシクロヘキサン２００ｍｌと共 に撹拌することにより混合し、結晶生成物を吸引濾過により単離した。 この結果、融点１８９℃のＮ−（４−シアノ−２、５−ジフルオロ− フェニル）−３−オキソ−４、４、４−トリフルオロ−１−ブタン酸アミド２７ ．２ｇ（理論量の９２％）を得た。 Ｎ−（４−シアノ−２、５−ジフルオロ−フェニル）−３−アミノ−４、４、 ４−トリフルオロ−２−ブタン酸アミド１．５８ｇ（５ミリモル）、水５ｍｌ、 １Ｎ塩酸５ｍｌ及びｎ−ブタノール１５ｍｌの混合物を、室温（約２０℃）で２ ０時間撹拌した。次に１０ｍｌの水を加えた。ついで有機相を分離し、２回水洗 し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を水流ポンプの真空下に注意深く 濾液から留去した。この残渣をシクロヘキサン５ｍｌと共に撹拌することにより 混合し、結晶生成物を吸引濾過により単離した。 この結果、融点１８９℃のＮ−（４−シアノ−２、５−ジフルオロ−フェニル ）−３−オキソ−４、４、４−トリフルオロ−１−ブタン酸アミド１．４ｇ（理 論量の９０％）を得た。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，Ｌ Ｕ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ， ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，Ｓ Ｄ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ， ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，Ｆ Ｉ，ＧＢ，ＧＥ，ＧＨ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＳ，ＪＰ ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ， ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，Ｍ Ｗ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ， ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＷ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、式 ［式中、Ｒ¹は水素、シアノ、ニトロ又はハロゲンを表し、 Ｒ²はシアノ、ニトロ、ハロゲンを表し、或いはそれぞれの場合に随時置換され たアルキル又はアルコキシを表し、 Ｒ³は水素、ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、ヒドロキシアミノ、ハロゲン を表し、或いは基−Ｒ⁷、−Ｑ−Ｒ⁷、−ＮＨ−Ｒ⁷、−ＮＨ−Ｏ−Ｒ⁷、−ＮＨ− ＳＯ₂−Ｒ⁷、−Ｎ(ＳＯ₂−Ｒ⁷)₂、−ＣＱ¹−Ｒ⁷、−ＣＱ¹−Ｑ²−Ｒ⁷、ＣＱ¹− ＮＨ−Ｒ⁷、Ｑ²−ＣＱ¹−Ｒ⁷、−ＮＨ−ＣＱ¹−Ｒ⁷、−Ｎ（ＳＯ₂−Ｒ⁷）(ＣＱ¹ −Ｒ⁷)、Ｑ²−ＣＱ¹−Ｑ²−Ｒ⁷、−ＮＨ−ＣＱ¹−Ｑ²−Ｒ⁷又は−Ｑ²−ＣＱ¹− ＮＨ−Ｒ⁷を表し、但し ＱはＯ、Ｓ、ＳＯ、又はＳＯ₂を表し、 Ｑ¹及びＱ²は互いに独立にそれぞれ酸素又は硫黄を表し、そして Ｒ⁷はそれぞれの場合に随時置換されたアルキル、アルケニル、アルキニル、シ クロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アリールアルキル、ヘテロ シクリル又はヘテロシクリルアルキルを表し、 Ｒ⁴は水素、ハロゲン又は随時置換されたアルキルを表し、そして Ｒ⁵フッ素及び／又は塩素置換アルキルを表す］ の３−アミノ−１−フェニル−ウラシル誘導体を製造する方法であって、式 ［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴及びＲ⁵はそれぞれ上述の通りである］ の置換フェニルオキサジン−ジオンを、適当ならば酸受容体の存在下に及び適当 ならば希釈剤の存在下に、式 Ｈ₂Ｎ−ＮＨ₂・Ｈ₂Ｏ （III） のヒドラジンハイドレートと−５０〜＋１００℃の温度で反応させる、該３−ア ミノ−１−フェニル−ウラシル誘導体の製造法 ２、使用する出発物質が Ｒ¹が水素、シアノ、ニトロ、フッ素、塩素又は臭素を表し、 Ｒ²がシアノ、ニトロ、フッ素、塩素、臭素或いはそれぞれの場合に随時フッ素 及び／又は塩素置換された、炭素数１〜４のアルキル又はアルコキシを表し、 Ｒ³が水素、ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、ヒドロキシアミノ、ハロゲン を表し、或いは基−Ｒ⁷、−Ｑ−Ｒ⁷、−ＮＨ−Ｒ⁷、−ＮＨ−Ｏ−Ｒ⁷、−ＮＨ− ＳＯ₂−Ｒ⁷、−Ｎ（ＳＯ₂−Ｒ⁷）₂、−ＣＱ¹−Ｒ⁷、−ＣＱ¹−Ｑ²−Ｒ⁷、ＣＱ¹ −ＮＨ−Ｒ⁷、Ｑ²−ＣＱ¹−Ｒ⁷、−ＮＨ−ＣＱ¹−Ｒ⁷、−Ｎ（ＳＯ₂−Ｒ⁷）（Ｃ Ｑ¹−Ｒ⁷）、Ｑ²−ＣＱ¹−Ｑ²−Ｒ⁷、 −ＮＨ−ＣＱ¹−Ｑ²−Ｒ⁷又は−Ｑ²−ＣＱ¹−ＮＨ−Ｒ⁷の１つを表し、 但し ＱはＯ、Ｓ、ＳＯ、又はＳＯ₂を表し、 Ｑ¹及びＱ²は互いに独立にそれぞれ酸素又は硫黄を表し、そして Ｒ⁷は随時シアノ、ハロゲン、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄アルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル又はＣ₁〜Ｃ₄アルキ ルアミノカルボニル置換の、炭素数１〜６のアルキルを表し、或いは それぞれの場合に随時シアノ、カルボキシ、ハロゲン、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボ ニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル又はＣ₁〜Ｃ₄アルキルアミノカルボニル置 換の、炭素数２〜６のアルケニル又はアルキニルを表し、或いは それぞれの場合に随時シアノ、カルボキシ、ハロゲン、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボ ニルまたはＣ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル置換の、それぞれの場合のシクロアル キル基の炭素数が３〜６及び随時アルキル部分の炭素数が１〜４のシクロアルキ ル又はシクロアルキルアルキルを表し、或いは それぞれの場合にアリール基の炭素数が６又は１０及び随時アルキル部分の炭素 数が１〜４であり且つそれぞれの場合に随時ヒドロキシル、メルカプト、アミノ 、シアノ、カルボキシル、カルバモイル、チオカルバモイル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル 、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロゲノアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロゲノアルコキ シ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロゲノアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル スルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ及び／又 はジメチルアミ ノでモノ〜トリ置換されていてもよいアリール又はアリールアルキルを表し、或 いは ヘテロシクリル基の炭素数が２〜６、窒素原子数が１〜３及び／又は酸素原子数 が１もしくは２及び／又は硫黄原子数が１及び随時アルキル部分の炭素数が１〜 ４であり且つそれぞれの場合に随時ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、シアノ 、カルボキシル、カルバモイル、チオカルバモイル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜 Ｃ₄ハロゲノアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロゲノアルコキシ、Ｃ₁ 〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロゲノアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルフ ィニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ及び／又はジメ チルアミノでモノ〜トリ置換されていてもよいヘテロシクリル又はヘテロシクリ ルアルキルを表し、 Ｒ⁴が水素、フッ素、塩素、臭素を表し、或いは随時フッ素及び／又は塩素置換 された炭素数１〜６のアルキルを表し、そして Ｒ⁵がフッ素及び／又は塩素置換された炭素数１〜６のアルキルを表す、 式（II）の置換フェニルオキサジン−ジオンである、請求の範囲１の方法。 ３、使用する出発物質が、 Ｒ¹が水素、フッ素又は塩素を表し、 Ｒ²がシアノ、フッ素、塩素、臭素、メチル又はトリフルオロメチルを表し、 Ｒ³がヒドロキシル、メルカプト、アミノ、フッ素、塩素、臭素を表し、或いは 又は基−Ｒ⁷、−Ｑ−Ｒ⁷、−ＮＨ−Ｒ⁷、−ＮＨ−Ｏ−Ｒ⁷、−ＮＨ−ＳＯ₂−Ｒ⁷ 、−Ｎ(ＳＯ₂−Ｒ⁷)₂、−ＣＱ¹−Ｒ⁷、−ＣＱ¹−Ｑ²− Ｒ⁷、ＣＱ¹−ＮＨ−Ｒ⁷、Ｑ²−ＣＱ¹−Ｒ⁷、−ＮＨ−ＣＱ¹−Ｒ⁷、−Ｎ（ＳＯ₂ −Ｒ⁷）(ＣＱ¹−Ｒ⁷)、Ｑ²−ＣＱ¹−Ｑ²−Ｒ⁷、−ＮＨ−ＣＱ¹−Ｑ²−Ｒ⁷又は− Ｑ²−ＣＱ¹−ＮＨ−Ｒ⁷の１つをを表し、但し ＱはＯ、Ｓ、ＳＯ、又はＳＯ₂を表し、 Ｑ¹及びＱ²は互いに独立にそれぞれ酸素又は硫黄を表し、そして Ｒ⁷はぞれの場合に随時シアノ、フッ素、塩素、メトキシ、エトキシ、メチルチ オ、エチルチオ、アセチル、プロピオニル、メトキシカルボニル、エトキシカル ボニル、メチルアミノカルボニル又はエチルアミノカルボニル置換のメチル、エ チル、ｎ−又はｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−、ｓ−又はｔ−ブチルを表し、或いは それぞれの場合に随時シアノ、カルボキシル、フッ素、塩素、臭素、アセチル、 プロピオニル、ｎ−又はｉ−ブチロイル、メトキシカルボニル、エトキシカルボ ニル、ｎ−又はｉ−プロポキシカルボニル、メチルアミノカルボニル、エチルア ミノカルボニル、ｎ−又はｉ−プロピルアミノカルボニル置換のプロペニル、ブ テニル、プロピニル又はブチニルを表し、 それぞれの場合に随時シアノ、カルボキシ、フッ素、塩素、臭素、アセチル、プ ロピオニル、メトキシカルボニル又はエトキシカルボニル置換のシクロプロピル 、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロプロピルメチル、シ クロブチルメチル、シクロペンチルメチル又はシクロヘキシルメチルを表し、或 いは それぞれの場合にに随時ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、シアノ、カルボキ シル、カルバモイル、チオカルバモイル、メチル、エチル、トリフルオロメチル 、メトキシ、エトキシ、ジフルオロメトキシ、トリフ ルオロメトキシ、メチルチオ、エチルチオ、ジフルオロメチルチオ、トリフルオ ロメチルチオ、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、メチルスルホニル、 メチルアミノ、エチルアミノ及び／又はジメチルアミノでモノ〜トリ置換されて いてもよいフェニル、ベンジル又はフェニルエチル表し、或いは それぞれの場合に随時ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、シアノ、カルボキシ ル、カルバモイル、チオカルバモイル、メチル、エチル、ｎ−又はｉ−プロピル 、ｎ−、ｉ−、ｓ−又はｔ−ブチル、ジフルオロメチル、ジクロロメチル、トリ フルオロメチル、トリクロロメチル、クロロジフルオロメチル、フルオロジクロ ロメチル、メトキシ、エトキシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、 メチルチオ、エチルチオ、ジフルオロメチルチオ、トリフルオロメチルチオ、メ チルスルフィニル、エチルスルフィニル、メチルスルホニル、エチルスルホニル 、メチルアミノ、エチルアミノ及び／又はジメチルアミノでモノ又はジ置換され ていてもよいオキシラニル、オキセタニル、フリル、テトラヒドロフリル、ジオ キソラニル、チエニル、テトラヒドロチエニル、ピロリル、ピラゾリル、イミダ ゾリル、トリアゾリル、オキサゾリル、イソキサゾリル、チアゾリル、イソチア ゾリル、オキサジアゾリル、チアジアゾリル、ピリジニル、ピリミジニル、トリ アジニル、ピラゾリルメチル、フリルメチル、チエニルメチル、オキサゾリルメ チル、イソキサゾリルメチル、チアゾリルメチル、ピリジニルメチル、ピリミジ ニルメチルの群から選択されるヘテロシクリル又はヘテロシクリルアルキルを表 し、 Ｒ⁴が水素、フッ素、塩素、臭素、メチル、エチル又はトリフルオロメチルを表 し、そして Ｒ⁵がトリフルオロメチル、クロロジフルオロメチル、フルオロジクロロメチル 又はペンタフルオロエチルを表す、 式（II）の置換フェニルオキサジン−ジオンである、請求の範囲１の方法。