JP2003516397A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2003516397A5 JP2003516397A5 JP2001543527A JP2001543527A JP2003516397A5 JP 2003516397 A5 JP2003516397 A5 JP 2003516397A5 JP 2001543527 A JP2001543527 A JP 2001543527A JP 2001543527 A JP2001543527 A JP 2001543527A JP 2003516397 A5 JP2003516397 A5 JP 2003516397A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- compound
- embedded image
- reacting
- unsubstituted
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 70
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 29
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 25
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 24
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 22
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 21
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 21
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 18
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 18
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 18
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 17
- -1 alkali metal cation Chemical class 0.000 description 11
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 10
- 125000006700 (C1-C6) alkylthio group Chemical group 0.000 description 9
- 125000005913 (C3-C6) cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 9
- 125000005133 alkynyloxy group Chemical group 0.000 description 9
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 9
- 125000006766 (C2-C6) alkynyloxy group Chemical group 0.000 description 8
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 7
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000003213 activating Effects 0.000 description 6
- 125000004432 carbon atoms Chemical group C* 0.000 description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 6
- 125000005842 heteroatoms Chemical group 0.000 description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 0 *C(c(c(*)c1)ccc1[N+]([O-])=O)=O Chemical compound *C(c(c(*)c1)ccc1[N+]([O-])=O)=O 0.000 description 5
- 125000000882 C2-C6 alkenyl group Chemical group 0.000 description 4
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 4
- 125000004429 atoms Chemical group 0.000 description 4
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 125000004767 (C1-C4) haloalkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003601 C2-C6 alkynyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 125000004433 nitrogen atoms Chemical group N* 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004768 (C1-C4) alkylsulfinyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004769 (C1-C4) alkylsulfonyl group Chemical group 0.000 description 2
- RSQIFPZTRGHWCC-UHFFFAOYSA-N CC(c(c(S(Cl)(=O)=O)c1)ccc1[N+]([O-])=O)=O Chemical compound CC(c(c(S(Cl)(=O)=O)c1)ccc1[N+]([O-])=O)=O RSQIFPZTRGHWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HYMWOHQVVWOCFY-UHFFFAOYSA-N [O-][N+](c(cc1)cc(S(O2)(=O)=O)c1C2=O)=O Chemical compound [O-][N+](c(cc1)cc(S(O2)(=O)=O)c1C2=O)=O HYMWOHQVVWOCFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- KWEDUNSJJZVRKR-UHFFFAOYSA-N carbononitridic azide Chemical compound [N-]=[N+]=NC#N KWEDUNSJJZVRKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- YROXIXLRRCOBKF-UHFFFAOYSA-N sulfonylurea Chemical compound OC(=N)N=S(=O)=O YROXIXLRRCOBKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004765 (C1-C4) haloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 150000001913 cyanates Chemical class 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 125000006501 nitrophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
Description
【特許請求の範囲】
【請求項1】 式(I)
【化1】
(式中、
R1は合計1から10個の炭素原子を有する非置換であるか、または置換されている炭化水素ラジカルであり;
R2は合計1から10個の炭素原子を有する非置換であるか、または置換された炭化水素ラジカルであるか、或いは、
NR1R2基は、非置換であるかまたは置換されており、そして環ヘテロ原子としてNR1R2基の窒素原子を含む、3から8個の環原子を有する複素環であり;そして、
QはHまたはカチオンである)
で表される化合物。
【請求項2】 式中、
R1がC1-C6アルキル、C2-C6アルケニル、C2-C6アルキニルまたはC5-C6シクロアルキルであり(後の4個のラジカルの各々は、非置換であるか、またはハロゲン、C1-C4アルコキシ、C1-C4ハロアルコキシ、C1-C4アルキルチオ、モノ-およびジ-(C1-C4アルキル)-アミノ、シアノ、アジド、ホルミル、(C1-C4アルキル)-カルボニル、(C1-C4アルコキシ)-カルボニル、C1-C4アルキルスルフィニルおよびC1-C4アルキルスルホニルからなる群からの1個またはそれ以上のラジカルによって置換されている)、或いは、非置換であるか、またはハロゲン、C1-C4アルキル、C1-C4アルコキシ、C1-C4ハロアルキル、C1-C4ハロアルコキシおよびニトロからなる群からのラジカルで置換されているフェニルであり;
R2がC1-C6アルキル、C2-C6アルケニル、C2-C6アルキニルまたはC5-C6シクロアルキルであり(後の4個のラジカルの各々は、非置換であるか、またはハロゲン、C1-C4アルコキシ、C1-C4ハロアルコキシ、C1-C4アルキルチオ、モノ−およびジ-(C1-C4アルキル)-アミノ、シアノ、アジド、ホルミル、(C1-C4アルキル)-カルボニル、(C1-C4アルコキシ)-カルボニル、C1-C4アルキルスルフィニルおよびC1-C4アルキルスルホニルからなる群からの1
個またはそれ以上のラジカルによって置換されている);或いは、
NR1R2基が環においてNとOからなる群からのさらに2個までの環ヘテロ原子を含んでもよく、そして、非置換であるか、または1個またはそれ以上のC1-C4アルキルラジカルによって置換されている4個、5個若しくは6個の環原子の複素環であり;そして、
QがH、アルカリ金属カチオン若しくはアルカリ土類金属カチオン、アンモニウムカチオン、またはホスホニウムカチオンである、
式(I)で表される請求項1記載の化合物。
【請求項3】 R1がC1-C4アルキル、特にメチルまたはエチルであり、R2がC1-C4アルキル、特にメチルまたはエチルであり、そして、Qが、H、NaまたはKである、請求項1または2記載の式(I)の化合物。
【請求項4】 式NHR1R2(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義された通りである)で表されるアミンまたはその塩を、式(II)
【化2】
の酸無水物と反応させることを含む、請求項1から3のいずれかに記載の式(I)の化合物を調製する方法。
【請求項5】 式NHR1R2(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義された通りである)で表されるアミンまたはその塩を、式(III)
【化3】
(式中、Q1とQ2は、同一であるか、または異なっており、Hまたはカチオンである)
の二酸またはその塩と反応させることを含む、請求項1から3のいずれかに記載の式(I)の化合物を調製する方法。
【請求項6】 式(III)
【化4】
(式中、Q1とQ2は、同一であるか、または異なっており、Hまたはカチオンである)
の二酸を溶媒中、活性化試薬と反応させることを含む、式(II)
【化5】
の化合物を調製する方法。
【請求項7】 式(IV)
【化6】
の二塩化物を、式(III)
【化7】
(式中、Q1とQ2は、同一であるか、または異なっており、Hまたはカチオンである)
の二酸と反応させることを含む、式(II)
【化8】
の化合物を調製する方法。
【請求項8】 請求項1から3のいずれかに記載の式(I)の化合物を金属触媒存在下、水素または水素供給原と反応させることを含む、式(V)
【化9】
(式中、Q、R1、およびR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りである)
で表される化合物を調製する方法。
【請求項9】 請求項1から3のいずれかに記載の式(I)の化合物を金属触媒存在下、水素または水素供給原と、さらにアシル化試薬と反応させることを含む、式(VI)
【化10】
(式中、Q、R1、およびR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りであり、Aはアシルラジカルである)
の化合物を調製する方法。
【請求項10】 請求項1から3のいずれかに記載の式(I)の化合物をアミド触媒存在下、活性化試薬と反応させることを含む、式(VII)
【化11】
(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りである)
の化合物を調製する方法。
【請求項11】 a)続けて、請求項6、4、および10、または請求項7、4、および10、または請求項4および10、または請求項6、5、および10、または請求項7、5、および10、または請求項5および10、または請求項10で定義した反応ステップを実施し、その後、
b)a)で得られた式(VII)
【化12】
(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りである)
の化合物を、化合物NHR4R5(式中、R4とR5は、水素またはC1-C12炭化水素ラジカルである)と反応させることを含む、式(VIII)
【化13】
(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りであり、R4とR5は、水素またはC1-C12炭化水素ラジカルである)
の化合物を調製する方法。
【請求項12】 請求項6、4、および10、または請求項7、4、および10、または請求項4および10、または請求項6、5および10、または請求項7、5および10、または請求項5および10で定義した反応ステップを続けて実施することを含む、式(VII)
【化14】
(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りである)
の化合物を調製する方法。
【請求項13】 式(VII)
【化15】
(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りである)
の化合物を、シアネート塩と反応させることを含む、式(IX-A)または式(IX-B)
【化16】
(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りであり、式(IX-B)のZは、第3級アンモニウムラジカルである)
の化合物を調製する方法。
【請求項14】 式(VIII)
【化17】
(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りであり、R4とR5は、水素またはC1-C12炭化水素ラジカルである)
の化合物を、ホスゲンと反応させることを含む、式(IX-A)または式(IX-B)
【化18】
(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りであり、式(IX-B)のZは、第3級アンモニウムラジカルである)
の化合物を調製する方法。
【請求項15】 式(VIII)
【化19】
(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りであり、R4とR5は、水素またはC1-C12炭化水素ラジカルである)
の化合物を、金属触媒存在下、水素または水素供給原と、さらにアシル化試薬と反応させることを含む、式(VI*)
【化20】
(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りであり、R4とR5は、水素またはC1-C12炭化水素ラジカルであり、Aはアシルラジカルである)
の化合物を調製する方法。
【請求項16】 式(XIV)
【化21】
(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りであり;R4は、水素またはC1-C12炭化水素ラジカルであり;A*は水素またはアシル基であり;
Mは、H、C1-C4アルキルまたは金属カチオンであり;
XとYは、互いに独立して、ハロゲン、C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ、C1-C6アルキルチオ(後の3個のラジカルの各々は、非置換であるか、またはハロゲン、C1-C4アルコキシおよびC1-C4アルキルチオからなる群からの1個またはそれ以上のラジカルによって置換されている)であるか、または、C3-C6シクロアルキル、C2-C6アルケニル、C2-C6アルキニル、C3-C6-アルケニルオキシ、またはC3-C6アルキニルオキシであり;そして、
Zは、CHまたはNである)
のスルホニルウレア化合物またはその塩を調製する方法であって、以下の工程
a)式NHR1R2(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りである)のアミンまたはその塩を、(α)式(II)
【化22】
で表される酸無水物と反応させるか;或いは(β)式(III)
【化23】
(式中、Q1とQ2は、同一であるか、または異なっており、Hまたはカチオンである)
の二酸またはその塩と反応させて、式(I)
【化24】
(式中、
R1は合計1から10個の炭素原子を有する非置換であるか、または置換されている炭化水素ラジカルであり;
R2は合計1から10個の炭素原子を有する非置換であるか、または置換された炭化水素ラジカルであるか、或いは、
NR1R2基は、非置換であるかまたは置換されており、そして環ヘテロ原子としてNR1R2基の窒素原子を含み、N、OおよびSからなる群からのさらに1個または2個の環ヘテロ原子をも含んでもよい3から8個の環原子を有する複素環であり;そして、
QはHまたはカチオンである)
の化合物を生成させ;
b)工程a)で得られた式(I)の化合物をアミド触媒存在下、活性化試薬と反応させて、式(VII)
【化25】
(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りである)
の化合物を生成させ;
c)工程b)で得られた式(VII)
【化26】
(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りである)
の化合物を、化合物NHR4R5(式中、R4とR5は、水素またはC1-C12炭化水素ラジカルである)と反応させて、式(VIII)
【化27】
(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りであり、R4とR5は、水素またはC1-C12炭化水素ラジカルである)
の化合物を生成させ;
d)工程c)で得られた式(VIII)の化合物を、
α)金属触媒存在下、水素または水素供給原と、そして場合により、アシル化試薬と反応させて、式(A)
【化28】
(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りであり、R4とR5は、水素またはC1-C12炭化水素ラジカルであり、A*は水素またはアシルラジカルである)
の化合物を生成させ、その後得られた式(A)の化合物を、
i)式(X)
【化29】
(式中、
Arは、非置換であるか、または置換されているフェニルであり;
Mは、H、C1-C4アルキルまたは金属カチオンであり;
XとYは、互いに独立して、ハロゲン、C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ、C1-C6アルキルチオ(後の3個のラジカルの各々は、非置換であるか、またはハロゲン、C1-C4アルコキシおよびC1-C4アルキルチオからなる群からの1個またはそれ以上のラジカルによって置換されている)であるか、またはC3-C6シクロアルキル、C2-C6アルケニル、C2-C6アルキニル、C3-C6-アルケニルオキシ、またはC3-C6アルキニルオキシであり;そして、
Zは、CHまたはNである)
の化合物と反応させるか、或いは、
ii)式(XI)
【化30】
(式中、
XとYは、互いに独立して、ハロゲン、C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ、C1-C6アルキルチオ(後の3個のラジカルの各々は、非置換であるか、またはハロゲン、C1-C4アルコキシおよびC1-C4アルキルチオからなる群からの1個またはそれ以上のラジカルによって置換されている)であるか、またはC3-C6シクロアルキル、C2-C6アルケニル、C2-C6アルキニル、C3-C6-アルケニルオキシ、またはC3-C6アルキニルオキシであり、そして、
Zは、CHまたはNである)
の化合物と反応させて、式(XIV)(式中、A*は水素またはアシル基である)の化合物またはその塩を生成させるか;或いは、
β)式(X)
【化31】
(式中、
Arは、非置換であるか、または置換されているフェニルであり;
Mは、H、C1-C4アルキルまたは金属カチオンであり;
XとYは、互いに独立して、ハロゲン、C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ、C1-C6アルキルチオ(後の3個のラジカルの各々は、非置換であるか、またはハロゲン、C1-C4アルコキシおよびC1-C4アルキルチオからなる群からの1個またはそれ以上のラジカルによって置換されている)であるか、またはC3-C6シクロアルキル、C2-C6アルケニル、C2-C6アルキニル、C3-C6-アルケニルオキシ、またはC3-C6アルキニルオキシであり;そして、
Zは、CHまたはNである)
で表される化合物と反応させ、式(XII)
【化32】
(式中、R1、R2およびR4は、式(VIII)で定義した通りであり、そして、M、X、YおよびZは、式(X)で定義した通りである)
のニトロフェニル−スルホニルウレア化合物またはその塩を生成させるか、或いは
γ)式(XI)
【化33】
(式中、XとYは、互いに独立して、ハロゲン、C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ、C1-C6アルキルチオ(後の3個のラジカルの各々は、非置換であるか、またはハロゲン、C1-C4アルコキシおよびC1-C4アルキルチオからなる群からの1個またはそれ以上のラジカルによって置換されている)であるか、またはC3-C6シクロアルキル、C2-C6アルケニル、C2-C6アルキニル、C3-C6-アルケニルオキシ、またはC3-C6アルキニルオキシであり、そして、
Zは、CHまたはNである)
の化合物と反応させて、式(XII)
【化34】
(式中、R1、R2およびR4は、式(VIII)で定義した通りであり、そして、M、X、YおよびZは、式(X)で定義した通りである)
のニトロフェニル−スルホニルウレア化合物またはその塩を生成させるか、或いは、
δ)ホスゲンと反応させて、式(IX-A)または式(IX-B)
【化35】
(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りであり、式(IX-B)のZは、第3級アンモニウムラジカルである)
の化合物を生成させ、その後、得られた式(IX-A)または式(IX-B)の化合物を式(XI*)
【化36】
(式中、
Mは、H、C1-C4アルキルまたは金属カチオンであり;
XとYは、互いに独立して、ハロゲン、C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ、C1-C6アルキルチオ(後の3個のラジカルの各々は、非置換であるか、またはハロゲン、C1-C4アルコキシおよびC1-C4アルキルチオからなる群からの1個またはそれ以上のラジカルによって置換されている)であるか、またはC3-C6シクロアルキル、C2-C6アルケニル、C2-C6アルキニル、C3-C6-アルケニルオキシ、またはC3-C6アルキニルオキシであり;そして、
Zは、CHまたはNである)
の化合物と反応させて、式(XII)
【化37】
(式中、R1、R2およびR4は、式(VIII)で定義した通りであり、そして、M、X、YおよびZは、式(X)で定義した通りである)
のニトロフェニル−スルホニルウレア化合物またはその塩を生成させ、その後、
e)α)工程d)、β、γまたはδで得られた式(XII)の化合物を水素添加して、式(XIV)(式中、A*はHである)の化合物またはその塩を生成させるか、或いは
β)工程d)、β、γまたはδで得られた式(XII)の化合物を水素添加およびアシル化して、式(XIV)(式中、A*はアシル基である)で表される化合物またはその塩を生成させる、
を含む上記調整方法。
【請求項17】 工程a)α)で用いた式(II)の酸無水物が、式(III)
【化38】
(式中、Q1とQ2は、同一であるか、または異なっており、Hまたはカチオンである)
の二酸を、活性化試薬と反応させることによって得られる、請求項4または16記載の方法。
【請求項18】 工程a)α)で用いた式(II)の酸無水物が、式(IV)
【化39】
の二塩化物を、式(III)
【化40】
(式中、Q1とQ2は、同一であるか、または異なっており、Hまたはカチオンである)
の二酸と反応させることによって得られる、請求項4または16記載の方法。
【請求項19】 式(XII)
【化41】
(式中、R1、R2およびR4は、式(VIII)で定義した通りであり、そして、M、X、YおよびZは、式(X)で定義した通りである)
で表されるニトロフェニル−スルホニルウレア化合物またはその塩を調製する方法であって、以下の工程、
a)式NHR1R2(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)に定義した通りである)のアミンまたはその塩を、(α)式(II)
【化42】
の酸無水物と反応させるか;或いは、
(β)式(III)
【化43】
(式中、Q1とQ2は、同一であるか、または異なっており、Hまたはカチオンである)
の二酸またはその塩と反応させて、式(I)
【化44】
(式中、
R1は合計1から10個の炭素原子を有する非置換であるか、または置換されている炭化水素ラジカルであり;
R2は合計1から10個の炭素原子を有する非置換であるか、または置換された炭化水素ラジカルであるか、或いは、
NR1R2基は、非置換であるか、または置換されており、そして環ヘテロ原子としてNR1R2基の窒素原子を含み、N、OおよびSからなる群からのさらに1個または2個の環ヘテロ原子をも含んでもよい、3から8個の環原子を有する複素環であり;そして、
QはHまたはカチオンである)
の化合物を生成させ、
b)工程a)で得られた式(I)の化合物を活性化試薬と反応させて、式(VII)
【化45】
(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りである)
の化合物を生成させ、
c)工程b)で得られた式(VII)
【化46】
(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りである)
の化合物を、化合物NHR4R5(式中、R4とR5は、水素またはC1-C12炭化水素ラジカルである)と反応させて、式(VIII)
【化47】
(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りであり、R4とR5は、水素またはC1-C12炭化水素ラジカルである)
の化合物を生成させ、
d)工程c)で得られた式(VIII)で表される化合物を、
α)式(X)
【化48】
(式中、
Arは、非置換であるか、または置換されているフェニルであり;
Mは、H、C1-C4アルキルまたは金属カチオンであり、
XとYは、互いに独立して、ハロゲン、C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ、C1-C6アルキルチオ(後の3個のラジカルの各々は、非置換であるか、またはハロゲン、C1-C4アルコキシおよびC1-C4アルキルチオからなる群からの1個またはそれ以上のラジカルによって置換されている)であるか、またはC3-C6シクロアルキル、C2-C6アルケニル、C2-C6アルキニル、C3-C6-アルケニルオキシ、またはC3-C6アルキニルオキシであり;そして、
Zは、CHまたはNである)
で表される化合物と反応させて、式(XII)
【化49】
(式中、R1、R2およびR4は、式(VIII)で定義されている通りであり、そして、M、X、YおよびZは、式(X)で定義されている通りである)
のニトロフェニル−スルホニルウレア化合物またはその塩を生成させるか、或いは、
β)式(XI)
【化50】
(式中、
XとYは、互いに独立して、ハロゲン、C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ、C1-C6アルキルチオ(後の3個のラジカルの各々は、非置換であるか、またはハロゲン、C1-C4アルコキシおよびC1-C4アルキルチオからなる群からの1個またはそれ以上のラジカルによって置換されている)であるか、またはC3-C6シクロアルキル、C2-C6アルケニル、C2-C6アルキニル、C3-C6-アルケニルオキシ、またはC3-C6アルキニルオキシであり;そして、
Zは、CHまたはNである)
の化合物と反応させて、式(XII)
【化51】
(式中、R1、R2およびR4は、式(VIII)で定義されている通りであり、そして、M、X、YおよびZは、式(X)で定義されている通りである)
で表されるニトロフェニル−スルホニルウレア化合物またはその塩を生成させ、或いは、
γ)ホスゲンと反応させて、式(IX-A)または式(IX-B)
【化52】
(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)に定義した通りであり、式(IX-B)のZは、第3級アンモニウムラジカルである)
の化合物を生成させ、その後得られた式(IX-A)または式(IX-B)の化合物を式(XI*)
【化53】
(式中、
Mは、H、C1-C4アルキルまたは金属カチオンであり;
XとYは、互いに独立して、ハロゲン、C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ、C1-C6アルキルチオ(後の3個のラジカルの各々は、非置換であるか、またはハロゲン、C1-C4アルコキシおよびC1-C4アルキルチオからなる群からの1個またはそれ以上のラジカルによって置換されている)であるか、またはC3-C6シクロアルキル、C2-C6アルケニル、C2-C6アルキニル、C3-C6-アルケニルオキシ、またはC3-C6アルキニルオキシであり;そして、
Zは、CHまたはNである)
の化合物と反応させて、式(XII)
【化54】
(式中、R1、R2およびR4は、式(VIII)で定義した通りであり、そして、M、X、YおよびZは、式(X)で定義した通りである)
で表されるニトロフェニル−スルホニルウレア化合物またはその塩を生成させることを含む上記調整方法。
【請求項20】 工程a)α)で用いた式(II)の酸無水物が、式(III)
【化55】
(式中、Q1とQ2は、同一であるか、または異なっており、Hまたはカチオンである)
の二酸を、活性化試薬と反応させることによって得られる、請求項19記載の方法。
【請求項21】 工程a)α)で用いた式(II)の酸無水物が、式(IV)
【化56】
の二塩化物を、式(III)
【化57】
(式中、Q1とQ2は、同一であるか、または異なっており、Hまたはカチオンである)
の二酸と反応させることによって得られる、請求項19記載の方法。
【請求項22】 請求項16に定義された式(XIV)のスルホニルウレアまたはその塩、或いは請求項19に定義された式(XII)で表されるスルホニルウレアまたはその塩の調製における請求項1から3のいずれかに記載の式(I)の化合物の使用。
【請求項1】 式(I)
【化1】
(式中、
R1は合計1から10個の炭素原子を有する非置換であるか、または置換されている炭化水素ラジカルであり;
R2は合計1から10個の炭素原子を有する非置換であるか、または置換された炭化水素ラジカルであるか、或いは、
NR1R2基は、非置換であるかまたは置換されており、そして環ヘテロ原子としてNR1R2基の窒素原子を含む、3から8個の環原子を有する複素環であり;そして、
QはHまたはカチオンである)
で表される化合物。
【請求項2】 式中、
R1がC1-C6アルキル、C2-C6アルケニル、C2-C6アルキニルまたはC5-C6シクロアルキルであり(後の4個のラジカルの各々は、非置換であるか、またはハロゲン、C1-C4アルコキシ、C1-C4ハロアルコキシ、C1-C4アルキルチオ、モノ-およびジ-(C1-C4アルキル)-アミノ、シアノ、アジド、ホルミル、(C1-C4アルキル)-カルボニル、(C1-C4アルコキシ)-カルボニル、C1-C4アルキルスルフィニルおよびC1-C4アルキルスルホニルからなる群からの1個またはそれ以上のラジカルによって置換されている)、或いは、非置換であるか、またはハロゲン、C1-C4アルキル、C1-C4アルコキシ、C1-C4ハロアルキル、C1-C4ハロアルコキシおよびニトロからなる群からのラジカルで置換されているフェニルであり;
R2がC1-C6アルキル、C2-C6アルケニル、C2-C6アルキニルまたはC5-C6シクロアルキルであり(後の4個のラジカルの各々は、非置換であるか、またはハロゲン、C1-C4アルコキシ、C1-C4ハロアルコキシ、C1-C4アルキルチオ、モノ−およびジ-(C1-C4アルキル)-アミノ、シアノ、アジド、ホルミル、(C1-C4アルキル)-カルボニル、(C1-C4アルコキシ)-カルボニル、C1-C4アルキルスルフィニルおよびC1-C4アルキルスルホニルからなる群からの1
個またはそれ以上のラジカルによって置換されている);或いは、
NR1R2基が環においてNとOからなる群からのさらに2個までの環ヘテロ原子を含んでもよく、そして、非置換であるか、または1個またはそれ以上のC1-C4アルキルラジカルによって置換されている4個、5個若しくは6個の環原子の複素環であり;そして、
QがH、アルカリ金属カチオン若しくはアルカリ土類金属カチオン、アンモニウムカチオン、またはホスホニウムカチオンである、
式(I)で表される請求項1記載の化合物。
【請求項3】 R1がC1-C4アルキル、特にメチルまたはエチルであり、R2がC1-C4アルキル、特にメチルまたはエチルであり、そして、Qが、H、NaまたはKである、請求項1または2記載の式(I)の化合物。
【請求項4】 式NHR1R2(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義された通りである)で表されるアミンまたはその塩を、式(II)
【化2】
の酸無水物と反応させることを含む、請求項1から3のいずれかに記載の式(I)の化合物を調製する方法。
【請求項5】 式NHR1R2(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義された通りである)で表されるアミンまたはその塩を、式(III)
【化3】
(式中、Q1とQ2は、同一であるか、または異なっており、Hまたはカチオンである)
の二酸またはその塩と反応させることを含む、請求項1から3のいずれかに記載の式(I)の化合物を調製する方法。
【請求項6】 式(III)
【化4】
(式中、Q1とQ2は、同一であるか、または異なっており、Hまたはカチオンである)
の二酸を溶媒中、活性化試薬と反応させることを含む、式(II)
【化5】
の化合物を調製する方法。
【請求項7】 式(IV)
【化6】
の二塩化物を、式(III)
【化7】
(式中、Q1とQ2は、同一であるか、または異なっており、Hまたはカチオンである)
の二酸と反応させることを含む、式(II)
【化8】
の化合物を調製する方法。
【請求項8】 請求項1から3のいずれかに記載の式(I)の化合物を金属触媒存在下、水素または水素供給原と反応させることを含む、式(V)
【化9】
(式中、Q、R1、およびR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りである)
で表される化合物を調製する方法。
【請求項9】 請求項1から3のいずれかに記載の式(I)の化合物を金属触媒存在下、水素または水素供給原と、さらにアシル化試薬と反応させることを含む、式(VI)
【化10】
(式中、Q、R1、およびR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りであり、Aはアシルラジカルである)
の化合物を調製する方法。
【請求項10】 請求項1から3のいずれかに記載の式(I)の化合物をアミド触媒存在下、活性化試薬と反応させることを含む、式(VII)
【化11】
(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りである)
の化合物を調製する方法。
【請求項11】 a)続けて、請求項6、4、および10、または請求項7、4、および10、または請求項4および10、または請求項6、5、および10、または請求項7、5、および10、または請求項5および10、または請求項10で定義した反応ステップを実施し、その後、
b)a)で得られた式(VII)
【化12】
(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りである)
の化合物を、化合物NHR4R5(式中、R4とR5は、水素またはC1-C12炭化水素ラジカルである)と反応させることを含む、式(VIII)
【化13】
(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りであり、R4とR5は、水素またはC1-C12炭化水素ラジカルである)
の化合物を調製する方法。
【請求項12】 請求項6、4、および10、または請求項7、4、および10、または請求項4および10、または請求項6、5および10、または請求項7、5および10、または請求項5および10で定義した反応ステップを続けて実施することを含む、式(VII)
【化14】
(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りである)
の化合物を調製する方法。
【請求項13】 式(VII)
【化15】
(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りである)
の化合物を、シアネート塩と反応させることを含む、式(IX-A)または式(IX-B)
【化16】
(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りであり、式(IX-B)のZは、第3級アンモニウムラジカルである)
の化合物を調製する方法。
【請求項14】 式(VIII)
【化17】
(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りであり、R4とR5は、水素またはC1-C12炭化水素ラジカルである)
の化合物を、ホスゲンと反応させることを含む、式(IX-A)または式(IX-B)
【化18】
(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りであり、式(IX-B)のZは、第3級アンモニウムラジカルである)
の化合物を調製する方法。
【請求項15】 式(VIII)
【化19】
(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りであり、R4とR5は、水素またはC1-C12炭化水素ラジカルである)
の化合物を、金属触媒存在下、水素または水素供給原と、さらにアシル化試薬と反応させることを含む、式(VI*)
【化20】
(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りであり、R4とR5は、水素またはC1-C12炭化水素ラジカルであり、Aはアシルラジカルである)
の化合物を調製する方法。
【請求項16】 式(XIV)
【化21】
(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りであり;R4は、水素またはC1-C12炭化水素ラジカルであり;A*は水素またはアシル基であり;
Mは、H、C1-C4アルキルまたは金属カチオンであり;
XとYは、互いに独立して、ハロゲン、C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ、C1-C6アルキルチオ(後の3個のラジカルの各々は、非置換であるか、またはハロゲン、C1-C4アルコキシおよびC1-C4アルキルチオからなる群からの1個またはそれ以上のラジカルによって置換されている)であるか、または、C3-C6シクロアルキル、C2-C6アルケニル、C2-C6アルキニル、C3-C6-アルケニルオキシ、またはC3-C6アルキニルオキシであり;そして、
Zは、CHまたはNである)
のスルホニルウレア化合物またはその塩を調製する方法であって、以下の工程
a)式NHR1R2(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りである)のアミンまたはその塩を、(α)式(II)
【化22】
で表される酸無水物と反応させるか;或いは(β)式(III)
【化23】
(式中、Q1とQ2は、同一であるか、または異なっており、Hまたはカチオンである)
の二酸またはその塩と反応させて、式(I)
【化24】
(式中、
R1は合計1から10個の炭素原子を有する非置換であるか、または置換されている炭化水素ラジカルであり;
R2は合計1から10個の炭素原子を有する非置換であるか、または置換された炭化水素ラジカルであるか、或いは、
NR1R2基は、非置換であるかまたは置換されており、そして環ヘテロ原子としてNR1R2基の窒素原子を含み、N、OおよびSからなる群からのさらに1個または2個の環ヘテロ原子をも含んでもよい3から8個の環原子を有する複素環であり;そして、
QはHまたはカチオンである)
の化合物を生成させ;
b)工程a)で得られた式(I)の化合物をアミド触媒存在下、活性化試薬と反応させて、式(VII)
【化25】
(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りである)
の化合物を生成させ;
c)工程b)で得られた式(VII)
【化26】
(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りである)
の化合物を、化合物NHR4R5(式中、R4とR5は、水素またはC1-C12炭化水素ラジカルである)と反応させて、式(VIII)
【化27】
(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りであり、R4とR5は、水素またはC1-C12炭化水素ラジカルである)
の化合物を生成させ;
d)工程c)で得られた式(VIII)の化合物を、
α)金属触媒存在下、水素または水素供給原と、そして場合により、アシル化試薬と反応させて、式(A)
【化28】
(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りであり、R4とR5は、水素またはC1-C12炭化水素ラジカルであり、A*は水素またはアシルラジカルである)
の化合物を生成させ、その後得られた式(A)の化合物を、
i)式(X)
【化29】
(式中、
Arは、非置換であるか、または置換されているフェニルであり;
Mは、H、C1-C4アルキルまたは金属カチオンであり;
XとYは、互いに独立して、ハロゲン、C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ、C1-C6アルキルチオ(後の3個のラジカルの各々は、非置換であるか、またはハロゲン、C1-C4アルコキシおよびC1-C4アルキルチオからなる群からの1個またはそれ以上のラジカルによって置換されている)であるか、またはC3-C6シクロアルキル、C2-C6アルケニル、C2-C6アルキニル、C3-C6-アルケニルオキシ、またはC3-C6アルキニルオキシであり;そして、
Zは、CHまたはNである)
の化合物と反応させるか、或いは、
ii)式(XI)
【化30】
(式中、
XとYは、互いに独立して、ハロゲン、C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ、C1-C6アルキルチオ(後の3個のラジカルの各々は、非置換であるか、またはハロゲン、C1-C4アルコキシおよびC1-C4アルキルチオからなる群からの1個またはそれ以上のラジカルによって置換されている)であるか、またはC3-C6シクロアルキル、C2-C6アルケニル、C2-C6アルキニル、C3-C6-アルケニルオキシ、またはC3-C6アルキニルオキシであり、そして、
Zは、CHまたはNである)
の化合物と反応させて、式(XIV)(式中、A*は水素またはアシル基である)の化合物またはその塩を生成させるか;或いは、
β)式(X)
【化31】
(式中、
Arは、非置換であるか、または置換されているフェニルであり;
Mは、H、C1-C4アルキルまたは金属カチオンであり;
XとYは、互いに独立して、ハロゲン、C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ、C1-C6アルキルチオ(後の3個のラジカルの各々は、非置換であるか、またはハロゲン、C1-C4アルコキシおよびC1-C4アルキルチオからなる群からの1個またはそれ以上のラジカルによって置換されている)であるか、またはC3-C6シクロアルキル、C2-C6アルケニル、C2-C6アルキニル、C3-C6-アルケニルオキシ、またはC3-C6アルキニルオキシであり;そして、
Zは、CHまたはNである)
で表される化合物と反応させ、式(XII)
【化32】
(式中、R1、R2およびR4は、式(VIII)で定義した通りであり、そして、M、X、YおよびZは、式(X)で定義した通りである)
のニトロフェニル−スルホニルウレア化合物またはその塩を生成させるか、或いは
γ)式(XI)
【化33】
(式中、XとYは、互いに独立して、ハロゲン、C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ、C1-C6アルキルチオ(後の3個のラジカルの各々は、非置換であるか、またはハロゲン、C1-C4アルコキシおよびC1-C4アルキルチオからなる群からの1個またはそれ以上のラジカルによって置換されている)であるか、またはC3-C6シクロアルキル、C2-C6アルケニル、C2-C6アルキニル、C3-C6-アルケニルオキシ、またはC3-C6アルキニルオキシであり、そして、
Zは、CHまたはNである)
の化合物と反応させて、式(XII)
【化34】
(式中、R1、R2およびR4は、式(VIII)で定義した通りであり、そして、M、X、YおよびZは、式(X)で定義した通りである)
のニトロフェニル−スルホニルウレア化合物またはその塩を生成させるか、或いは、
δ)ホスゲンと反応させて、式(IX-A)または式(IX-B)
【化35】
(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りであり、式(IX-B)のZは、第3級アンモニウムラジカルである)
の化合物を生成させ、その後、得られた式(IX-A)または式(IX-B)の化合物を式(XI*)
【化36】
(式中、
Mは、H、C1-C4アルキルまたは金属カチオンであり;
XとYは、互いに独立して、ハロゲン、C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ、C1-C6アルキルチオ(後の3個のラジカルの各々は、非置換であるか、またはハロゲン、C1-C4アルコキシおよびC1-C4アルキルチオからなる群からの1個またはそれ以上のラジカルによって置換されている)であるか、またはC3-C6シクロアルキル、C2-C6アルケニル、C2-C6アルキニル、C3-C6-アルケニルオキシ、またはC3-C6アルキニルオキシであり;そして、
Zは、CHまたはNである)
の化合物と反応させて、式(XII)
【化37】
(式中、R1、R2およびR4は、式(VIII)で定義した通りであり、そして、M、X、YおよびZは、式(X)で定義した通りである)
のニトロフェニル−スルホニルウレア化合物またはその塩を生成させ、その後、
e)α)工程d)、β、γまたはδで得られた式(XII)の化合物を水素添加して、式(XIV)(式中、A*はHである)の化合物またはその塩を生成させるか、或いは
β)工程d)、β、γまたはδで得られた式(XII)の化合物を水素添加およびアシル化して、式(XIV)(式中、A*はアシル基である)で表される化合物またはその塩を生成させる、
を含む上記調整方法。
【請求項17】 工程a)α)で用いた式(II)の酸無水物が、式(III)
【化38】
(式中、Q1とQ2は、同一であるか、または異なっており、Hまたはカチオンである)
の二酸を、活性化試薬と反応させることによって得られる、請求項4または16記載の方法。
【請求項18】 工程a)α)で用いた式(II)の酸無水物が、式(IV)
【化39】
の二塩化物を、式(III)
【化40】
(式中、Q1とQ2は、同一であるか、または異なっており、Hまたはカチオンである)
の二酸と反応させることによって得られる、請求項4または16記載の方法。
【請求項19】 式(XII)
【化41】
(式中、R1、R2およびR4は、式(VIII)で定義した通りであり、そして、M、X、YおよびZは、式(X)で定義した通りである)
で表されるニトロフェニル−スルホニルウレア化合物またはその塩を調製する方法であって、以下の工程、
a)式NHR1R2(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)に定義した通りである)のアミンまたはその塩を、(α)式(II)
【化42】
の酸無水物と反応させるか;或いは、
(β)式(III)
【化43】
(式中、Q1とQ2は、同一であるか、または異なっており、Hまたはカチオンである)
の二酸またはその塩と反応させて、式(I)
【化44】
(式中、
R1は合計1から10個の炭素原子を有する非置換であるか、または置換されている炭化水素ラジカルであり;
R2は合計1から10個の炭素原子を有する非置換であるか、または置換された炭化水素ラジカルであるか、或いは、
NR1R2基は、非置換であるか、または置換されており、そして環ヘテロ原子としてNR1R2基の窒素原子を含み、N、OおよびSからなる群からのさらに1個または2個の環ヘテロ原子をも含んでもよい、3から8個の環原子を有する複素環であり;そして、
QはHまたはカチオンである)
の化合物を生成させ、
b)工程a)で得られた式(I)の化合物を活性化試薬と反応させて、式(VII)
【化45】
(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りである)
の化合物を生成させ、
c)工程b)で得られた式(VII)
【化46】
(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りである)
の化合物を、化合物NHR4R5(式中、R4とR5は、水素またはC1-C12炭化水素ラジカルである)と反応させて、式(VIII)
【化47】
(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)で定義した通りであり、R4とR5は、水素またはC1-C12炭化水素ラジカルである)
の化合物を生成させ、
d)工程c)で得られた式(VIII)で表される化合物を、
α)式(X)
【化48】
(式中、
Arは、非置換であるか、または置換されているフェニルであり;
Mは、H、C1-C4アルキルまたは金属カチオンであり、
XとYは、互いに独立して、ハロゲン、C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ、C1-C6アルキルチオ(後の3個のラジカルの各々は、非置換であるか、またはハロゲン、C1-C4アルコキシおよびC1-C4アルキルチオからなる群からの1個またはそれ以上のラジカルによって置換されている)であるか、またはC3-C6シクロアルキル、C2-C6アルケニル、C2-C6アルキニル、C3-C6-アルケニルオキシ、またはC3-C6アルキニルオキシであり;そして、
Zは、CHまたはNである)
で表される化合物と反応させて、式(XII)
【化49】
(式中、R1、R2およびR4は、式(VIII)で定義されている通りであり、そして、M、X、YおよびZは、式(X)で定義されている通りである)
のニトロフェニル−スルホニルウレア化合物またはその塩を生成させるか、或いは、
β)式(XI)
【化50】
(式中、
XとYは、互いに独立して、ハロゲン、C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ、C1-C6アルキルチオ(後の3個のラジカルの各々は、非置換であるか、またはハロゲン、C1-C4アルコキシおよびC1-C4アルキルチオからなる群からの1個またはそれ以上のラジカルによって置換されている)であるか、またはC3-C6シクロアルキル、C2-C6アルケニル、C2-C6アルキニル、C3-C6-アルケニルオキシ、またはC3-C6アルキニルオキシであり;そして、
Zは、CHまたはNである)
の化合物と反応させて、式(XII)
【化51】
(式中、R1、R2およびR4は、式(VIII)で定義されている通りであり、そして、M、X、YおよびZは、式(X)で定義されている通りである)
で表されるニトロフェニル−スルホニルウレア化合物またはその塩を生成させ、或いは、
γ)ホスゲンと反応させて、式(IX-A)または式(IX-B)
【化52】
(式中、R1とR2は、請求項1から3の式(I)に定義した通りであり、式(IX-B)のZは、第3級アンモニウムラジカルである)
の化合物を生成させ、その後得られた式(IX-A)または式(IX-B)の化合物を式(XI*)
【化53】
(式中、
Mは、H、C1-C4アルキルまたは金属カチオンであり;
XとYは、互いに独立して、ハロゲン、C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ、C1-C6アルキルチオ(後の3個のラジカルの各々は、非置換であるか、またはハロゲン、C1-C4アルコキシおよびC1-C4アルキルチオからなる群からの1個またはそれ以上のラジカルによって置換されている)であるか、またはC3-C6シクロアルキル、C2-C6アルケニル、C2-C6アルキニル、C3-C6-アルケニルオキシ、またはC3-C6アルキニルオキシであり;そして、
Zは、CHまたはNである)
の化合物と反応させて、式(XII)
【化54】
(式中、R1、R2およびR4は、式(VIII)で定義した通りであり、そして、M、X、YおよびZは、式(X)で定義した通りである)
で表されるニトロフェニル−スルホニルウレア化合物またはその塩を生成させることを含む上記調整方法。
【請求項20】 工程a)α)で用いた式(II)の酸無水物が、式(III)
【化55】
(式中、Q1とQ2は、同一であるか、または異なっており、Hまたはカチオンである)
の二酸を、活性化試薬と反応させることによって得られる、請求項19記載の方法。
【請求項21】 工程a)α)で用いた式(II)の酸無水物が、式(IV)
【化56】
の二塩化物を、式(III)
【化57】
(式中、Q1とQ2は、同一であるか、または異なっており、Hまたはカチオンである)
の二酸と反応させることによって得られる、請求項19記載の方法。
【請求項22】 請求項16に定義された式(XIV)のスルホニルウレアまたはその塩、或いは請求項19に定義された式(XII)で表されるスルホニルウレアまたはその塩の調製における請求項1から3のいずれかに記載の式(I)の化合物の使用。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19959291.8 | 1999-12-09 | ||
DE19959291 | 1999-12-09 | ||
PCT/EP2000/011501 WO2001042226A1 (en) | 1999-12-09 | 2000-11-18 | Nitro-sulfobenzamides |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003516397A JP2003516397A (ja) | 2003-05-13 |
JP2003516397A5 true JP2003516397A5 (ja) | 2007-12-20 |
JP4536987B2 JP4536987B2 (ja) | 2010-09-01 |
Family
ID=7931941
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001543527A Expired - Lifetime JP4536987B2 (ja) | 1999-12-09 | 2000-11-18 | ニトロスルホベンズアミド類 |
Country Status (26)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7781611B2 (ja) |
EP (1) | EP1242386B1 (ja) |
JP (1) | JP4536987B2 (ja) |
KR (1) | KR20020064339A (ja) |
CN (1) | CN1213034C (ja) |
AR (1) | AR035022A1 (ja) |
AT (1) | ATE440824T1 (ja) |
AU (1) | AU780969B2 (ja) |
BR (1) | BR0016739A (ja) |
CA (1) | CA2390669A1 (ja) |
CZ (1) | CZ20022003A3 (ja) |
DE (1) | DE60042839D1 (ja) |
DK (1) | DK1242386T3 (ja) |
ES (1) | ES2332208T3 (ja) |
HR (1) | HRP20020498A2 (ja) |
HU (1) | HUP0203678A3 (ja) |
IL (3) | IL150057A0 (ja) |
MX (1) | MXPA02005803A (ja) |
PL (1) | PL357573A1 (ja) |
RU (1) | RU2359963C2 (ja) |
SK (1) | SK8122002A3 (ja) |
TW (1) | TWI221151B (ja) |
UA (1) | UA81596C2 (ja) |
WO (1) | WO2001042226A1 (ja) |
YU (1) | YU41702A (ja) |
ZA (1) | ZA200204581B (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105399687B (zh) * | 2015-10-29 | 2019-01-15 | 江苏省农用激素工程技术研究中心有限公司 | 甲酰胺磺隆的制备方法 |
CN106349168A (zh) * | 2016-08-12 | 2017-01-25 | 淮安国瑞化工有限公司 | 磺酰脲类除草剂甲酰胺磺隆中间体的制备方法 |
CN110437112B (zh) * | 2019-09-19 | 2021-08-17 | 河北兴柏农业科技有限公司 | 一种甲酰氨基嘧磺隆或其衍生物中间体的制备方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3055928A (en) * | 1960-03-28 | 1962-09-25 | Smith Kline French Lab | Esters of 2-carbamoylbenzenesulfonic acids |
DE4018245A1 (de) * | 1990-06-07 | 1991-12-12 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von sulfonierten anthranilsaeuren |
DE4334949A1 (de) * | 1992-10-14 | 1994-05-19 | Bard Inc C R | Aminosubstituiertes Phenolrot als pH-Indikator und Verfahren zu seiner Herstellung |
DE4411682A1 (de) * | 1994-04-05 | 1995-10-12 | Hoechst Schering Agrevo Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Carboxy-arensulfonsäuren und deren Carbonsäurederivaten |
DE4415049A1 (de) * | 1994-04-29 | 1995-11-02 | Hoechst Schering Agrevo Gmbh | Acylierte Aminophenylsulfonylharnstoffe, Verfahren zu deren Herstellung und Verwendung als Herbizide und Wachstumsregulatoren |
DE19521668A1 (de) | 1995-06-14 | 1996-12-19 | Hoechst Schering Agrevo Gmbh | Substituierte Hydrazinophenylsulfonylharnstoffe, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung als Herbizide und Pflanzenwachstumsregulatoren |
DE19540701A1 (de) * | 1995-11-02 | 1997-05-07 | Hoechst Schering Agrevo Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Aminophenylsulfonylharnstoffen und Zwischenprodukte zu den Verfahren |
DE19735879A1 (de) * | 1997-08-19 | 1999-02-25 | Hoechst Schering Agrevo Gmbh | Verfahren zur Herstellung von 2-Carboxy-5-nitro-benzolsulfonsäure und deren Salzen durch Oxidation |
DE19749723A1 (de) * | 1997-11-11 | 1999-05-12 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von 4-Nitro-2-sulfo-benzoesäure |
-
2000
- 2000-11-18 CZ CZ20022003A patent/CZ20022003A3/cs unknown
- 2000-11-18 HU HU0203678A patent/HUP0203678A3/hu unknown
- 2000-11-18 EP EP00976048A patent/EP1242386B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-11-18 AT AT00976048T patent/ATE440824T1/de not_active IP Right Cessation
- 2000-11-18 RU RU2002118605/04A patent/RU2359963C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2000-11-18 KR KR1020027007389A patent/KR20020064339A/ko not_active Application Discontinuation
- 2000-11-18 ES ES00976048T patent/ES2332208T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2000-11-18 UA UA2002075618A patent/UA81596C2/ru unknown
- 2000-11-18 IL IL15005700A patent/IL150057A0/xx unknown
- 2000-11-18 WO PCT/EP2000/011501 patent/WO2001042226A1/en active Application Filing
- 2000-11-18 CN CNB00817816XA patent/CN1213034C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2000-11-18 DE DE60042839T patent/DE60042839D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-11-18 DK DK00976048T patent/DK1242386T3/da active
- 2000-11-18 SK SK812-2002A patent/SK8122002A3/sk not_active Application Discontinuation
- 2000-11-18 PL PL00357573A patent/PL357573A1/xx not_active Application Discontinuation
- 2000-11-18 CA CA002390669A patent/CA2390669A1/en not_active Abandoned
- 2000-11-18 MX MXPA02005803A patent/MXPA02005803A/es active IP Right Grant
- 2000-11-18 YU YU41702A patent/YU41702A/sh unknown
- 2000-11-18 AU AU13954/01A patent/AU780969B2/en not_active Ceased
- 2000-11-18 BR BR0016739-8A patent/BR0016739A/pt not_active Application Discontinuation
- 2000-11-18 JP JP2001543527A patent/JP4536987B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2000-12-07 TW TW089126114A patent/TWI221151B/zh not_active IP Right Cessation
- 2000-12-07 US US09/732,006 patent/US7781611B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-12-07 AR ARP000106513A patent/AR035022A1/es unknown
-
2002
- 2002-06-05 IL IL150057A patent/IL150057A/en active IP Right Grant
- 2002-06-06 HR HR20020498A patent/HRP20020498A2/hr not_active Application Discontinuation
- 2002-06-07 ZA ZA200204581A patent/ZA200204581B/xx unknown
-
2010
- 2010-08-05 IL IL207454A patent/IL207454A/en active IP Right Grant
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Atwal et al. | Substituted 1, 4-dihydropyrimidines. 3. Synthesis of selectively functionalized 2-hetero-1, 4-dihydropyrimidines | |
JP2005514398A5 (ja) | ||
ATE154016T1 (de) | Verfahren zur herstellung von chlorothiazolderivaten | |
KR930007949A (ko) | 치환된 피리미딘, 이의 제조 방법, 이를 함유하는 약제학적 조성물 및 이의 용도 | |
ATE410412T1 (de) | Oxopyrrolidin verbindungen, verfahren zur herstellung dieser verbindungen und deren verwendung zur herstellung von levetiracetam und analogen | |
JP4115546B2 (ja) | 農薬用1−(ハロアリール)複素環化合物の製造方法 | |
JP4268871B2 (ja) | ピリミジノン化合物及びその薬剤として許容される塩の製造方法 | |
JPH05247045A (ja) | ピロロ[2,3−dピリミジン類の製造方法 | |
HUT47211A (en) | Insecticide, acaricide and nematocide composition containing cyclopropane-carboxylic acid esters as active component, and process for producing the active components | |
JP2003516397A5 (ja) | ||
RU2007106927A (ru) | Синтез амидов 6,7,-дигидро-5н-имидазо [1.2-а] имидазол-3-сульфоновой кислоты | |
JPH05509335A (ja) | ベンゾオキサイオール誘導体 | |
KR940018363A (ko) | 2-시아노-3-히드록시-프로펜아미드, 그의 제조방법, 그를 함유한 제약 조성물 및 의약으로서의 그의 용도 | |
ATE208378T1 (de) | Verfahren zur herstellung von nicotinsäuren | |
HUP0203315A2 (hu) | Eljárás pikonavírus ellenes hatású izoxazolkarboxamid-származékok előállítására és intermedier vegyületeik | |
IE48763B1 (en) | N,n'-bis((n-cyano-n'-alkynyl)methanimidamididyl)cystamines | |
ATE202350T1 (de) | Verfahren zur herstellung von sulfonylharnstoffderivaten | |
ATE363460T1 (de) | Verfahren zur herstellung von fluorhalogenalkanen | |
JPH1192453A (ja) | ピリジルメチルイソチオシアネートの製造法 | |
RU2002118605A (ru) | Нитросульфобензамиды | |
Kim et al. | A convenient approach to the synthesis of 6-substituted 1, 5-dialkyluracils and-2-thiouracils | |
JP4838146B2 (ja) | トリアゾロピリミジンの調製方法 | |
JP3252484B2 (ja) | 4,5−ジヒドロ[1,2,4]トリアゾロ[4,3−a]キノキサリン誘導体の製造方法 | |
JP2002520385A5 (ja) | ||
ATE139767T1 (de) | Verfahren zur herstellung 5-pyrazolomerkaptan- derivate und dessen zwischenprodukte |