JP2003508326A

JP2003508326A - リンスズ酸塩またはホウスズ酸塩熱分解層、及びこの層を含む窓ガラス

Info

Publication number: JP2003508326A
Application number: JP2001519614A
Authority: JP
Inventors: エリックティクソン，; アランシュツ，
Original assignee: Glaverbel Belgium SA
Current assignee: AGC Glass Europe SA
Priority date: 1999-09-01
Filing date: 2000-08-31
Publication date: 2003-03-04
Also published as: EP1218305A1; PL354407A1; AU1270801A; WO2001016043A1; CZ2002781A3; LU90432B1

Abstract

(57)【要約】この発明は薄層の干渉集成体を含むガラス板に関する。この発明のガラス板はリンスズ酸塩またはホウスズ酸塩層により被覆されたガラス基板を含み、リンまたはホウ素含有量は６％より小さくなく、この層は熱分解により付着される。リンスズ酸塩またはホウスズ酸塩層は特に低輻射率、太陽保護またはまぶしさ防止性を持つ窓ガラスを提供する層により反射された色を減衰するための、下層として有用である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】この発明は透明な基板、特にガラス基板上に付着された層に関し、それは薄層
の干渉集成体（interferential assembly）の一部を形成する。一般に、この発
明は層、及び層の集成体に関し、その層の集成体中には層がそれらの特性、特に
屈折率、さらにまた透明度、抵抗性等の長所のために一体化されそれらの特性を
改良する。

【０００２】以下においてかかる層の下層（sub-layers）に特に言及され、前記下層は特に
これらの集成体の存在により窓ガラス（glazing）ユニット上に作られる反射色
を修正する機能を持つ。特に関連するのは低輻射率、太陽保護性またはまぶしさ
防止性を持つ透明な基板を提供する薄層の集成体である。事実、これらの下層が
最も研究され開発されたのはこれらの性質のためである。これは他の用途を除外
しない。

【０００３】これらの層の集成体の存在と関連する既知の困難性は干渉因子の出現であり、
これは通常の厚さの場合、特に寄生着色の形で表れる。これらの着色は関連ガラ
スが非常に透明であるのでかえって望ましくない。これらの寄生着色を除去する
ために、または少なくともそれらを容認できるレベルに減少するために、良く規
定された屈折率と厚さを持つ透明な下層を、ガラスと低輻射率または太陽保護層
またはまぶしさ防止層の集成体との間に挿入することは知られている。理論はこ
れらのパラメーターのための適正値を正確に決定することを可能とする。しかし
、実際にはかかる層の工業的製造が直面せねばならない多くの技術的制約のため
に幾つかの困難が実施において発生する。

【０００４】最も顕著な制約のなかで、層の組成と関連するものもあれば、用いられる前駆
体と関連するものもあり、更なる問題はそれらの製造のために用いられる手段と
関連する。

【０００５】この最後の範疇では、効率的かつ経済的な態様で操作する必要性が述べられね
ばならない。熱分解は好ましい方法である。それは容認できる厚さの層を迅速に
もたらす利点を持ち、これらの層は更に、好都合な均質性と良好な抵抗性、特に
機械的のみならず化学的抵抗性を示す。用いられる熱分解技術の中で、化学蒸着
（ＣＶＤ）がガラスのリボンの製造ラインで直接実施されるときに最も適してい
ると立証されるものであることが多い。

【０００６】前駆体の選択は複雑である。それらは安価で、要求される層を明らかにもたら
すものでなければならないが、適切な反応性、非毒性等も持たねばならない。

【０００７】下層の選択はまずその性能機能である。この点で、下層はガラス基板の屈折率
と低輻射率、太陽保護またはまぶしさ防止層の屈折率との間の屈折率を持たねば
ならない。情報として、最も普通のタイプのソーダ石灰ガラス板と機能的低輻射
率酸化スズ層の場合、下層は約１．５と１．９の間の屈折率を持たねばならない
。

【０００８】これらの中間屈折率に到達するために、酸化スズに基づく低輻射率層の場合、
文献に最も多く提案されている解決策は酸化ケイ素ＳｉＯ_２と酸化スズＳｎＯ_２の混合層を形成することである。特にガラスの屈折率から低輻射率または太陽保
護層の屈折率まで次第に変わる屈折率を持つ層を形成することが提案されている
。酸化スズ層の例では、例えば、ガラスと接触する実際的に純粋なシリカの付着
、及び上部層と接触する酸化スズのみになるまでの酸化スズ含有量の増加が参考
として考えられる。

【０００９】混合酸化物の層の形成は種々の問題を持つ。これらの一つは特に勾配を得なけ
ればならないときに、付着を容易に形成するのに用いられる手段にある。例えば
シリカと組み合わされた酸化物の前駆体の反応性の差を使用することが提案され
ている。特許ＵＳ５３５６７１８はこれを指向している。他の解決策は基板が
前駆体の割合が変わる組成物に連続的に露出されるというような態様で熱分解プ
ラントを構成することを含む。

【００１０】しかし、これらの層を製造する実行手段は幾つかの問題を発生する。特に混合
層の形成は完全に克服されていない再現性に関し疑問を提起する。この理由のた
め次第に変化する屈折率を持つ多重層の使用を屈折率勾配を持つ層と置き換える
ことが提案された。これは例えば特許ＵＳ５３９５６９８の主題である。この
特許によれば、異なる屈折率を持つ少なくとも二つの層が連続して付着される。
第一層はガラスの屈折率に最も近い中間屈折率を持ち、第二層はそれと接触する
低輻射率または太陽保護層の屈折率に近い屈折率を持つ。

【００１１】混合酸化物のこれらの層の形成に関して、文献に強調される一つの困難性は特
にＣＶＤ技術で使用可能なＳｉＯ_２の前駆体の低反応性である。熱分解を改良す
るために、種々の解決策が、特に“促進剤”と呼ばれる製品の使用が提案された
。これらの製品はシリカの前駆体に添加され被覆される表面と接触させられる。

【００１２】上記は実行の工業的条件下でこの形式の層の製造を制御する際のある困難性を
示す。この発明は容易に実現されすぐに再現される条件を満足のいくようにもた
らすことを保証する層及びその形成手段を提供することを提案する。

【００１３】本発明者らはこれらの目的に合致する層がシリカの混合酸化物にたよることな
く、言いかえればその組成のためにガラスとその上に重ねられる機能層との間の
遷移層を構成する層を形成することなく得られることができることを示した。

【００１４】この発明によれば、層はスズのリン酸塩またはホウ酸塩から構成される。

【００１５】この発明による下層の組成は特にそれが如何なるシリカも含まないという点で
顕著である。

【００１６】リンを封入する層を持つ窓ガラスユニットを文献中に見出すことはできる。こ
の元素はこれらの層のベースを形成する酸化物のためのドーピング剤として用い
られている。これらのドープされた層に比べて、機能の差にかかわりなく、この
発明による層はそれらのリン含有量により区別される。ドープ層のためには、リ
ンは他の構成成分に比べて非常に低い割合である。実際に、この元素は４％の原
子割合を越えない含有量で、最も多くは１から１．５％のオーダーで層中に存在
するだけである。

【００１７】この発明によれば、リンとホウ素は層の構造の構成元素であり、従ってかなり
顕著な割合で存在する。この発明によれば、リンまたはホウ素の原子割合は６％
より小さくなく、１０％より大きいことが最も多い。

【００１８】この発明による層は本質的に無定形構造を持つ。

【００１９】本発明者らはリンまたはホウ素の含有量を変えることにより形成された層の屈
折率を調整することができることを示した。この発明による層に対しては、屈折
率はＳｎ／Ｐ（またはＳｎ／Ｂ）比の関数である。より適当な屈折率、すなわち
約１．６〜１．８の範囲の屈折率を得るには、特に低輻射率、太陽保護またはま
ぶしさ防止層から発生する寄生着色を減衰するにはＳｎ／Ｐ（またはＳｎ／Ｂ）
比は有利には１と４の間、好ましくは１．５と２．５の間の範囲にある。更に、
酸化スズ（恐らくドープされた）に基づく典型的な低輻射率層により起こる寄生
着色を減少するための本発明による層の使用の場合には、その屈折率は約１．９
であり、特に適当な屈折率値は１．７付近、１．６５から１．７５の範囲内にあ
り、例えばＳｎ／Ｐ（またはＳｎ／Ｂ）比はそのとき有利には１．８５から２．
２５である。

【００２０】一般に、この発明による層は有利には１．６と１．９の間の範囲の屈折率を持
つ。

【００２１】ソーダ石灰ガラスから構成された基板上に付着された、この発明による層はＳ
ｎ_ｘＰ_ｙＯ_ｚＮａ_ｗ及びＳｎ_ｘＢ_ｙＯ_ｚＮａ_ｗタイプのものである。これらの式
において、ｗ，ｘ，ｙ及びｚは構成成分のそれぞれの原子割合を表す。

【００２２】達成される好適屈折率を可能とする条件はまたこの発明による層を形成する元
素の原子割合によって直接に表されることができる。これらの割合は有利には：Ｓｎ１５から３５％Ｐ（Ｂ）６から２０％であり、他の成分はこの場合通常：Ｏ４２から５８％Ｎａ６から２３％の割合にある。

【００２３】特に好ましくは、構成元素は次の割合：Ｓｎ１８から２６％Ｐ（Ｂ）９から１３％であり、他の元素の割合は：Ｏ４８から５２％Ｎａ１４から２０％である。

【００２４】屈折率及び層またはその効果を補正する層の集成体の厚さを考慮に入れると、
この発明による層は有利には５０と１１０ナノメートルの間、好ましくは６０と
１００ナノメートルの間の範囲の厚さをもつ。

【００２５】熱分解技術、特に化学蒸着によりこれらの層を製造するのに使用されるリンま
たはホウ素の前駆体は、有利には以下のそれぞれの一般式に合致する：（ＲＯ）_３Ｐ及び（ＲＯ）_３ＢここでＲは１から６の炭素原子を含むアルキルまたはアルケニル基である。

【００２６】好適前駆体はそれぞれ亜リン酸トリエチル（ＴＥＰ）及びホウ酸トリエチル（
ＴＥＢ）である。

【００２７】この発明による層の形成のために、有利に使用されるスズの前駆体はモノブチ
ルスズトリクロライド（ＭＢＴＣ）、テトラメチルスズ（ＴＭＥ）、スズテトラ
クロライド、スズエチルヘキサノエートである。ＭＢＴＣが好ましい。なぜなら
それはガラス“フロート”製造ラインでの熱分解のために、特にＣＶＤに適した
温度で容易に反応するからである。この反応は付着の形成に困難を導くであろう
程遅すぎもせず、逆に装置の詰まり及び層のダスト汚染を導くガラスとの接触前
にそれを分解させるであろう程早すぎもしない。

【００２８】熱分解反応は有利には少量の水の存在で実施される。水の影響は低い割合でさ
え明らかである。これは水が酸素の主要源として層の形成に役を果たさないこと
を示す。反応機構は分析されていないが、水はまずこの反応で触媒としての役割
を果たすと考えるのが妥当である。水の不存在では、この反応は工業的条件下で
実行できる製造を可能としない程に極めて遅い。

【００２９】水はヒドロキシル基を含む化合物、または熱分解の条件でかかる基にたぶん導
かれる化合物により置き換えられることができる。情報として、酢酸、エタノー
ルまたは酢酸エチルのような対応するエステルのように、低分子量の酸及び有機
アルコールが用いられることができる。

【００３０】水含有量の変化は反応速度に影響する。この含有量は熱分解層の形成に有害な
効果を持つガス相での分解反応を防ぐように故意に制限される。有利には、ガス
形態では水は用いられるスズの前駆体に関して１０容量％以上を構成しない。好
ましくは、ガス形態では常に水はスズの前駆体の容積に関して３から７容量％で
ある。

【００３１】前駆体と一緒に、特にガス熱分解技術の場合に、ある割合の空気を導入するこ
ともまた可能である。反応は例に示されるように、空気の完全不存在下で実施さ
れることができる。この方法は層の形成が非酸化性環境で必然的に起こらねばな
らない場合に選ばれることができる。もしこの条件が要求されなければ、ある量
の空気を前駆体と一緒に存在させて反応性を改善するのが有利である。

【００３２】ＣＶＤ技術において、水で見出されたのと対照的に、空気の含有量は他の前駆
体の含有量の大きさのオーダーであるか、またはリンスズ酸塩またはホウスズ酸
塩の形成に導く化学量論的割合までのずっと高い割合でさえも有利である。

【００３３】酸素源として供給される空気は部分的にまたは完全に、熱分解技術でのこの要
求に合致することが知られている他の化合物により置き換えられることができる
。空気と置き換えられる適当な化合物は例えばＣＯ_２またはＮ_２Ｏである。

【００３４】熱分解の温度は有利には反応が板ガラス製造ライン上で直接実施されるような
態様で選ばれる。最も好都合な条件では、すなわち前駆体と一緒に用いられる空
気からのありうる汚染に対して大気を保護するために、必要な予防措置が取られ
るという条件で、ガラスがアニーリングレア（徐冷窯）に入る前の“フロート”
内部の出口で、またはその内部でさえ、好適温度は５５０と６７０℃の間にある
。

【００３５】この発明が工業的製造ラインで実施された以下の試験例で詳細に述べられる。
下層の付着は“フロート”浴から出るガラスのリボン上へのフロート浴とアニー
リングレアとの間での化学蒸着により実施される。この位置ではガラスは６１０
℃の温度を持つ。

【００３６】この層はスズの前駆体としてモノブチルスズトリクロライド（ＭＢＴＣ）と、
亜リン酸トリエチル（ＴＥＰ）から形成される。前駆体はキャリヤーガスとして
の窒素により運ばれる。ＭＢＴＣと一緒に少量の水蒸気が導入される（ＭＢＴＣ
の量の３容量％）。

【００３７】プラントの構造のおかげと通過するガラスの流速を考慮すると、ガラスが前駆
体と接触する時間量は全ての試験に対し５秒に達する。

【００３８】これらの試験では、空気もまた前駆体と一緒に可変量で導入される。

【００３９】付着速度における及び形成された層の屈折率における、言い換えればその組成
における前駆体の含有量の影響が立証される。層の品質は更に“曇り度”の測定
により明白にされる。これは層を通過する拡散光の測定を含む（規格ＡＳＴＭ
１００３−６１）。

【００４０】前駆体の流速はリットル／分で、窒素及び空気の流速はＮｍ^３／時間で表され
、厚さはナノメートルで、付着速度はナノメートル／秒で表される。

【表１】

【００４１】この表は特に他の条件を維持して、ガス状フラックスＴＥＰの量の増加（例５
から８）が付着速度の増加を導くことを示す。速度は９ｎｍ／ｓからＴＥＰの流
速を２倍とすると１４．６ｎｍ／ｓに達する。同じ条件下で、形成された層の屈
折率は１．７７から１．６８に減少することが見出される。

【００４２】これらの発見は低輻射率層により作られる寄生着色を減らすのに適した屈折率
を持つ下層は工業的条件下で適当な厚さにより得られることができることを示す
。更に形成された層は好都合な透明度を持つ。それらの吸収は入射光に対し３％
より少ない。更に層の存在は妨害曇りの形成に寄与しない。この曇り度に対する
測定値は非常に低いまま残り、全ての場合で層で被覆されたガラス板に対して課
された０．６％の限度のかなり下である。層のみではこの値の形成に０．４％以
上寄与しないに相違ない。

【００４３】修正された唯一のパラメーターが空気の含有量である例１から４は付着速度が
この含有量と共に増加するが、これは屈折率の値に顕著に影響を表さないことを
示す。ある域値を越えると、空気の流れの増加は付着速度に更なる影響を持たな
い。

【００４４】付着速度はまた前駆体の濃度に敏感であることを示す（例１から４を例５から
８に比較すると）。この理由のため、窒素の流れは工業プラントでの試験の第二
シリーズでは減らされる。これらの試験の条件と結果が以下の表に与えられる。
上記のように、処理時間は５秒である。

【表２】

【００４５】付着速度はキャリヤーガスの流速の減少のためにかなり増える。

【００４６】屈折率はＭＢＴＣ／ＴＥＰ比と共に減少する。これは明らかに層中のリン含有
量が付着速度から独立してある範囲で屈折率が制御されることができることを示
す。

【００４７】上記のように、付着物のこのシリーズは適当な層の工業的実行可能性を示す。
屈折率、付着速度及び層の光学的品質は要求される条件に合致する。

【００４８】上記の結果を確認するためにかつ種々のパラメーター、特に前駆体中の水含有
量の効果並びに酸素の含有量の効果を研究するために、実験室で補足試験が実施
された。

【００４９】これらの試験の結果は以下の表に与えられる。

【００５０】窒素の流速は１５リットル／分で一定である。ＭＢＴＣとＴＥＰの流速はミリ
メートル／分で空気と置き換えるＯ_２のそれはリットル／分で与えられる。付着
時間は秒である。水含有量はＭＢＴＣに関して容量％で表されている。

【表３】

【００５１】亜リン酸エステルが前駆体に導入されていない例１９と２２は１．９の屈折率
を持つ酸化スズ層をもたらす。

【００５２】例２３，２４，２５及び２６は導入されたＴＥＰ濃度に関して互いに異なるだ
けである。それらは一方では層の形成速度がＴＥＰの濃度と共に増加すること、
及び他方では形成された層の屈折率が同時に最も目に見えて減少することを非常
に明確に示す。この最後の記述に基づきかつ最も通常の太陽保護または低輻射率
層のにじ色を減少するためには中間屈折率が約１．７に位置するという事実を考
慮すると、ＴＥＰの適切濃度、従って付着速度は他を考慮することなく増やされ
ることはできない。ある域値を越えるＴＥＰの増加はもしそれが付着速度の更な
る増加を可能とするとしても、事実いっそう低い屈折率をもたらすであろう。し
かし、この屈折率減少の傾向はもしＴＥＰとＭＢＴＣの含有量が同時に増やされ
るなら克服されることができる。試験１８は従って同時に特に高い付着速度と最
適範囲の屈折率を示す。しかし、この例で得られた付着速度の増加は用いられた
前駆体の量の増加に比例しないことは注目されねばならない。従って反応性と操
作効率間の最良の妥協は全ての場合に決定されねばならない。

【００５３】水の濃度の影響は例１７，２１及び２４から観察されることができる。付着速
度は前駆体と共に導入された水の量の変化に対し最も敏感な要素であるように見
える。水含有量の増加はより強力な反応性に置き換えられる。

【００５４】ソーダ石灰ガラス上に形成された多数の層は構成元素の定量分析の主題であっ
た。結果は以下の表に示されている。示された値は種々の構成成分の原子割合で
ある。念のために、層の屈折率もまたこの表に与えられている。

【表４】

【００５５】定量分析で、先ず炭素の不存在（１％より小）が注目され、これは順調に完了
した熱分解の指標である。当然のことに層はシリカを含有しない。

【００５６】層の形成は顕著な割合のナトリウムの包含を系統的に同伴する。この元は必然
的にガラスの表面からの拡散である。同様の条件で付着された他の層と反対に、
ナトリウムの存在はこれらの層が低輻射率またはまぶしさ防止層により覆われる
ときこれらの層に特別なもろさも作り出すようには見えない。

【００５７】この表からまた層の屈折率が明確にＳｎ／Ｐ比に依存すること及び同じ方向に
発現することが明らかである。層がより多くのリンを含むなら屈折率はより低く
、逆もまた同様である。

【００５８】この発明による層は有利には窓ガラスユニットの下層として用いられ、そこで
は低輻射率または太陽保護層は酸化スズ、酸化インジウム等の酸化物層である。
この分野の慣行によれば、これらの酸化物はまた有利にはドープされる。酸化ス
ズは従ってフッ素でドープされることができ、酸化インジウムはスズでドープさ
れることができる。アンチモン含有スズの層がまた公開ＢＥ−Ａ１０１０３２
１及び１０１０３２２の指針により用いられることができる。

【００５９】アンチモン含有スズの層を含む窓ガラスユニットのためには、原子割合Ｓｂ／
Ｓｎは有利には０．０２と０．１５％の間、好ましくは０．０５と０．１２％の
間の範囲にある。

【００６０】機能層の付着は有利にはガス熱分解技術により実施される。この場合、下層の
付着後直ちに機能層の付着が行われることが好ましい。下層がフロートの内部で
作られるとき、層の付着はフロートの内部内でまたはそこからの出口でのいずれ
かで、直ちに行われることができる。温度及び環境条件がこれらの二つの方法を
可能とする。

【００６１】集成体の製造試験が行われた。そこではリンスズ酸塩の下層がアンチモン含有
酸化スズの層で覆われる。下層と層はガス熱分解により付着される。系統的にア
ンチモン含有酸化スズ層は１０％のアンチモンを含み、３２０ナノメートルの厚
さを持つ。

【００６２】下層は一連の厚さのためにかつそれぞれ屈折率１．７と１．６７に対応する二
つのタイプの組成のために生成される。これら下層のリンの原子割合はそれぞれ
１１．２と１２．１％である。

【００６３】測色反射特性が調製された試料について決定された。測定はR.S. Hunter(Food
Technolgy, vol. 21, pages 100-105,1967, and The Measurement of Appearan
ce, Wiley and Sons, New York, 1975)により実施される。測色値は二つの指数
ａとｂにより表される。これらの指数が０に近い程、反射光はより無彩色であり
、言い換えれば、より“着色”が少ないように見える。更に、もしわずかな着色
が避けられないなら、使用者はむしろ負のａ値及び好ましくはまた負のｂ値に対
応する青または緑色相を好む。着色はまた時には第三の値ｃにより文献中に表示
されており、この値は式ｃ＝（ａ^２＋ｂ^２）^１／２により規定される。

【００６４】反射光で無彩色と考えられるガラスのためにｃの値が１２以下好ましくは８以
下であるものが特許ＵＳ４２０６２５２に提案された。

【００６５】反射にじ色の不存在を確実とするために、指数ａとｂの測定がガラス板の表面
で垂直に対して種々の入射角度で実施される。実際、入射に依存する着色の変化
は望ましくないにじ色の源である。

【００６６】測定の結果は以下の表に集められている。厚さはこの表でナノメートルで表さ
れている。

【００６７】試験３０は参照試料に相当する。この試料はソーダ石灰ガラス板から形成され
、その上にアンチモンを含む酸化スズが下層なしに付着される。全角度からの観
察は比較的高いｃ指数値を示す。４０及び５０°でも、指数は限界値１２よりな
お高い。この参照試料は最も厳格でない基準によってさえ反射光で無彩色ではな
い。

【００６８】他の試験の全ては同じソーダ石灰透明ガラス上に、この発明による下層と、参
照として用いた層とを重ねて実施される。

【００６９】下層はガラス板の屈折率とアンチモン含有酸化スズ層の屈折率との間の中間の
屈折率を持つように選ばれた。

【００７０】試験３４は色の減衰を達成するための下層の厚さの重要性を示す。１１０ナノ
メートルの厚さは典型的な選ばれた構造に対し反射光の望ましくない着色の修正
のために示された好ましいより高い値に相当する。表面で垂直に近い入射角度で
の観察で、この厚さにより最高のｃ値が達成される（０°で９．１８、１０°で
７．６０）。

【００７１】上記と逆に比較的低い厚さで実施された試験３５は厚さが最良に適合している
それらの例よりかなり高いｃ値を示す。考慮される集成体のためには、これらの
値は７５と８５ナノメートルの間にあるべきであろう。対応する試料は上に示し
た限界よりかなり下のｃ値を持ち、実情はそれを越えると減衰はもはや容易に保
証されないであろう。

【００７２】上の結果はこの発明による下層は好都合に探求目的に合致することを十分に示
す。更に、下層と層を含む集成体は機械的、化学的及び耐熱試験で安定であり、
光学的欠点を示さない。特に、この層は都合良く透明である。

【００７３】同様な結果がこの発明によるリンスズ酸塩またはホウスズ酸塩の層がまぶしさ
防止層の集成体に使用されるとき観察された。

【表５】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＲ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＤＭ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＡ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＴＺ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】リンまたはホウ素を少なくとも６％の原子割合で含む、リン
スズ酸塩またはホウスズ酸塩熱分解層で被覆したガラス基板を含むことを特徴と
する窓ガラス。
【請求項２】元素ＳｎとＰ（Ｂ）が１から４の原子比Ｓｎ／Ｐ（Ｓｎ／Ｂ
）であることを特徴とする請求項１に記載の窓ガラス。
【請求項３】元素ＳｎとＰ（Ｂ）が１．８５から２．２５の原子比Ｓｎ／
Ｐ（Ｓｎ／Ｂ）であることを特徴とする請求項２に記載の窓ガラス。
【請求項４】リンスズ酸塩またはホウスズ酸塩層の屈折率が１．６から１
．９の範囲にあることを特徴とする請求項１から３のいずれか一つに記載の窓ガ
ラス。
【請求項５】リンスズ酸塩またはホウスズ酸塩層の構成元素がそれぞれ次
の原子割合：Ｓｎ１５から３５％Ｐ（Ｂ）６から２０％Ｏ４２から５８％Ｎａ６から２３％であることを特徴とする請求項１から４のいずれか一つに記載の窓ガラス。
【請求項６】リンスズ酸塩またはホウスズ酸塩層の構成元素がそれぞれ次
の原子割合：Ｓｎ１８から２６％Ｐ（Ｂ）９から１３％Ｏ４８から５２％Ｎａ１４から２０％であることを特徴とする請求項１から５のいずれか一つに記載の窓ガラス。
【請求項７】リンスズ酸塩またはホウスズ酸塩層の厚さが５０と１１０ナ
ノメートルの間の範囲の厚さを持つことを特徴とする請求項１から６のいずれか
一つに記載の窓ガラス。
【請求項８】リンスズ酸塩またはホウスズ酸塩層が低輻射率及び／または
太陽保護性を持つ窓ガラスを提供する酸化物層の下層として付着されることを特
徴とする請求項１から７のいずれか一つに記載の窓ガラス。
【請求項９】低輻射率及び／または太陽保護性を提供する酸化物層がフッ
素をドープされた酸化スズに基づく層であることを特徴とする請求項８に記載の
窓ガラス。
【請求項１０】低輻射率及び／または太陽保護性を提供する酸化物層が原
子比Ｓｂ／Ｓｎが０．０２と０．１５の間の範囲である酸化アンチモンを含む酸
化スズ層であることを特徴とする請求項８に記載の窓ガラス。
【請求項１１】リンスズ酸塩またはホウスズ酸塩層がまぶしさ防止層の集
成体の下層として付着されることを特徴とする請求項１から７のいずれか一つに
記載の窓ガラス。
【請求項１２】リンスズ酸塩層が亜リン酸トリエチル（ＴＥＰ）及びモノ
ブチルスズトリクロライド（ＭＢＴＣ）を含むガス状前駆体を用いる熱分解によ
り形成されることを特徴とする請求項１から１１の一つに記載の窓ガラスの製造
方法。
【請求項１３】ガス状前駆体がさらに水／ＭＢＴＣの容積比が１０％より
小さい水蒸気を含むことを特徴とする請求項１２に記載の窓ガラスの製造方法。
【請求項１４】前駆体がさらに付着反応を促進する空気を含むことを特徴
とする請求項１２または１３に記載の窓ガラスの製造方法。
【請求項１５】熱分解が５５０と６７０℃の間の範囲の温度で実施される
ことを特徴とする請求項１２から１４のいずれか一つに記載の窓ガラスの製造方
法。