JPS6339535B2

JPS6339535B2 -

Info

Publication number: JPS6339535B2
Application number: JP53129431A
Authority: JP
Inventors: Jii Goodon Roi
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 1978-10-20
Filing date: 1978-10-20
Publication date: 1988-08-05
Also published as: JPS5556041A

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は薄くて機能的な無機被覆層（例えば赤
外線の反射を促進する手段を形成する酸化錫被覆
層）を有するガラス構造物であつて、過去におい
て上記の薄い被覆層に付随していた光彩を減少さ
せる結果として改良された外観を有するガラス構
造物に関し且つ上記構造物を得る方法に関する。ガラスや他の透明な材料は、赤外線を反射させ
るために、酸化錫、酸化インジウムまたは錫酸カ
ドミウムのような透明な半導体被膜で被覆するこ
とができる。かかる材料はオーブン、建物の窓な
どについて断熱度の高い（伝熱性の低い）窓を与
えるのに有用である。これらの同一の材料の被覆
層は導電性でもあり、それで自動車の窓を加熱し
て曇りや氷を取除くための抵抗ヒーターとして用
いられる。このような被覆窓の好ましくない特徴の１つは
その反射光が干渉色（光彩）を示し、透過光も程
度は低いが干渉色（光彩）を示すということであ
る。この光彩はこれらの被覆窓の広範囲な使用に
とつて重大な障害となつている〔例えば、アメリ
カンインステイテユートオブフイジツクス
コンフアレンスプロシーデイング
（American Institute of Physics Conference
Proceeding）No.25、ニユーヨーク、1975、288頁
参照〕ある種の環境では、すなわちガラスの色調が全
く暗い（例えば光の透過率が25％以下である）場
合には、この光彩は弱まり、許容され得る。しか
し、ほとんどの建築用壁および窓の用途では、
0.75μ以下の被覆層に通常付随する光彩効果は多
くの人にとつては美的に受けいれられ得ない。
（例えば、米国特許第3710074号参照）。透明な青
緑色および淡色ガラスにおける好ましくない明隙
な光彩を実質的に減少させるかあるいはなくする
ことは今まではほとんどまたは全く成功していな
い。光彩色は厚さが0.1〜1μの範囲の、特に厚さが
0.85μの透明な被覆層においては全く一般的な現
象である。残念なことには、ほとんどの商業的用
途で実際的に重要な厚さの範囲は正しくこの範囲
にある。0.1μより薄い半導体被覆層は干渉色を示
さないが、かかる薄い被覆層では赤外線の反射が
著しく悪くなり、導電能力も著しく低下する。 1μより厚い被覆層も昼光照明では目に見える
光彩を示さないが、かかる厚い被覆層は多量の被
覆物者が所要なため作成するのに多額の費用がか
かり、これに対応して被覆層を付着させるのに長
時間を要する。その上、1μより厚い被膜は表面
の不規則性が大きく、このために生じる光の散乱
から起こる曇りを示す傾向がある。また、かかる
被膜は熱応力下では熱膨張差のため亀裂を生じる
傾向も大きい。以上のような技術的および経済的制約の結果と
して、ほとんどすべてのかかる被覆ガラス製品の
商業的生産は0.1〜0.3μの厚さ範囲の被膜を有し
ており、それは顕著な光彩色を示す。このためこ
の被覆ガラスはエネルギー保存にはコスト的に有
効であるにも拘らず、建築用には現在ほとんど用
いられていない。例えば、暖房している建物の被
覆ガラス領域から赤外線放射によつて失われる熱
は未被覆ガラス窓から失われる熱の約半分になり
得る。これらの被覆層を用いることのできない主
な理由は被覆ガラス製品上に光彩色があることで
ある。本発明の１つの目的は、目に見える光彩をガラ
ス上の半導電性薄膜被覆層からなくし、しかも透
かして見ることができる透明性、赤外反射性およ
び導電性という所望の性質を保持するための手段
を提供することである。本発明のもう１つの目的は生産費を通常の光彩
被膜を用いる場合の費用よりあまり上げずに上記
目的を達成することである。本発明のもう１つの目的はガラス工業における
近代的製造方法と十分に共存性で且つ連続的な方
法で上記目的を達成することである。本発明のもう１つの目的は高度に耐久性であり
且つ光、薬品、機械的摩耗に対して安定な製品で
上記のすべての目的を達成することである。本発明のもう１つの目的は広く使用できるよう
に十分豊富で且つ入手容易な物質を用いて上記の
すべての目的を達成することである。本発明のさらにもう１つの目的は超薄型の赤外
反射性物質層を有し、且つ好ましくない光彩の無
い新規な二重ガラス構造物を提供することであ
る。本発明のもう１つの目的は、外側被覆層が0.7μ
以下の赤外反射性表面で構成されており且つ内側
被覆層が(a)被覆ガラス上の曇りを減少させ且つ、
同時に且つ独立に(b)反射光を可干渉的に加えるこ
とによつてガラス構造物の光彩を減少させるため
の手段を形成する複合被覆層を含むガラス構造物
を提供することである。本発明のもう１つの目的は、ガラスと空気との
間で被覆層組成が段階的にすなわち累進的に変化
することを特徴とする、上記無光彩特性を有する
ガラス構造物を提供することである。本発明のその他の目的は本明細書を読むことに
より当業者には明らかになるであろう。本発明の一実施態様においては、ガラスと半導
体被膜との間に１層以上の透明物質層を形成させ
る。これらの層の屈折率はガラスの屈折率と半導
体被膜の屈折率との中間にある。本発明者は、厚
さと屈折率とを適当に選ぶことにより、光彩色を
ほとんどの人間観測者に見いだすことができない
ほど弱くすることができ且つ光彩色が確実に非常
に弱くなるので広い商業的用途に差支えがなく、
建築用にも使用できることを発見した。これら中
間層用に適した物質ならびにこれら中間層の形成
方法をも本明細書中で開示する。本明細書中で開示し且つ特許請求するもう１つ
の新規の方法は、可視波長を0.25だけずらす厚さ
（例えば、酸化錫被覆層を用いる場合に0.07μ）の
被覆層を有する２つのガラス表面を、光彩色を生
じる光を不干渉的に加え、好ましくない光彩効果
を美的に好ましくない閾値以下に有効に低下する
ように互に整合させて組立てる方法である。この
場合の例としては、各ガラスシート上に１つの被
覆層を有する二重ガラス窓あるいはガラスの両面
に被覆層を有する単一ガラスシートがある。これらの種々の実施態様の統一的な面は、薄い
半導体被覆層が第２被覆層と整合して配置されて
おり、該第２の被覆層が、光彩色が見えることを
顕著に妨害するような方法で光を反射、屈折する
手段を上記第２被覆層の本体と共に形成する少な
くとも２つの追加界面を与えることによつて光彩
を実質的に減少させる手段を形成するようにする
ことである。色の認識が主観的であるので、ここに開示する
本発明を評価するため使用する方法および仮定に
ついての議論を述べることは望ましいことだと考
える。以下で論じる理論の多くの適用は、あと知
恵によりすなわちここに開示する本発明の知識を
有するものによつて必然的に情報を与えるので、
回顧的な性格になることは当然である。光彩色をなくす種々の可能な構造の適当な定量
的評価を行うため、かかる色の強さを光学データ
および色知覚データを用いて計算した。この議論
において、被膜層は平面であり、厚さが均一で、
各層内の屈折率は均一であると仮定する。相隣る
被膜層間の平面界面で急激に屈折率が変化するも
のとする。真の屈折率を用いる。従つて各層内の
吸収損失は無視できるものとする。反射率は法線
方向に入射する偏光していない光の平面波につい
て評価する。上記仮定を用いて、各界面からの反射および透
過の振幅をフレネルの式から計算する。次に、こ
れらの振幅を関連する層を通しての伝播によつて
生じる位相差を考慮して加える。これらの結果
は、我々が考えている場合と同じ場合に適用した
ときの、多重反射および干渉のためのアイリーの
式（Airy formule）〔例えば、F.ニツトル
（Nittl）著「オプテイツクスオブシンフイ
ルムズ（Optics of Thin Films）」ウイリーアン
ドサンズ社、ニユーヨーク、1976参照〕と同等で
あることがわかつた。計算された反射光の強さは波長によつて異な
り、従つてある色は他色よりも強くなることがわ
かつた。観察者が見る反射色を計算するため、ま
ず入射光の分光分布を規定することが望ましい。
このため、インターナシヨナルコミツシヨン
オンルミネーシヨン（International
Commission on liiuminatio）の標準光源Ｃ（ほ
ぼ正常な昼光照明である）を用いればよい。反射
光の分光分布は計算した反射率と計算した反射率
と光源Ｃのスペクトルとの積である。次に、人間
観察者が反射で見る色相および彩度をこの反射ス
ペクトルから当業界で公知のもののような一定の
色尺度を用いて計算する。１つの有用な尺度はハ
ンター（Hunter）がフードテクノロジー
（Food Technology）21巻、100〜105頁、1967に
記載している尺度である。この尺度を用いて以下
に開示する関係を導いた。各層の屈折率と厚さとのおのおのの組合わせに
対して計算した結果は１対の数字すなわち“ａ”
および“ｂ”である。“ａ”は赤（正ならば）ま
たは緑（負ならば）の色相を示し、“ｂ”は黄
（正ならば）または青（負ならば）の色相を示す。
これらの色相結果は本発明の試料を含む試料の目
で見た色に対して計算をチエツクするのに有用で
ある。単一数“ｃ”は“彩度”Ｃ＝（a²＋b²）^1/2を
示す。この彩度指数ｃは厄介な光彩色相を目で検
知する可能性に直接関係する。この目で見える彩
度閾値の数値は用いる特別な一定の色尺度および
視察条件ならびに照明の準位に依存する〔例え
ば、数値的色尺度についての最近の総説として
R.S.ハンター（Hunter）著「ザ、メジヤーメン
トオブアピアランス（The measurement
of Appearance）」、ウイリーアンドサンズ社ニユ
ーヨーク、1975参照〕。構造物を比較するための基礎を確立するため、
ガラス上の単一の半導体層をシユミレートするた
めに第１組の計算を行つた。半導体の屈折率とし
ては酸化錫、酸化インジウムまたは錫酸カドミウ
ム被膜のおよその値である2.0を用いた。ガラス
基材の値としては1.52を用いた。この値は市販の
窓ガラスの典型的な値である。SnO₂被覆層を有
するがガラスについて計算した彩度値を半導体被
膜の厚さの関数として第１図中に線としてプロ
ツトする。彩度は0.1〜0.5μの厚さ範囲の被膜か
らの反射の場合に高いことがわかる。0.5μより厚
い被膜では、彩度は厚さの増加と共に減少する。
これらの結果は実際の被膜についての定性的な観
察として符合している。顕著な振動が見られるの
は種々のスペクトル波長に対する眼の感度が異な
ることによるものである。各ピークは曲線上に示
した特別の色（Ｒ＝赤色、Ｙ＝黄色、Ｇ＝緑色、
Ｂ＝青色）に対応している。これらの結果を用いて、次の実験により彩度の
最低可観測値を確立した。厚さが約1.5μまでの連
続的に変化する残化錫被膜をテトラメチル錫蒸気
の酸化によつてガラス板上に付着させた。ガラス
表面にわたる約450℃から500℃までの温度変化に
よつて厚さ輪郭をつくつた。この厚さ輪郭を次に
単色光下で干渉縞を観測することによつて測定し
た。拡散昼光下で観察するとき、被膜は第１図に
示したそれぞれの位置で干渉色を示した。厚さが
0.85μより厚いフイルムの部分は拡散昼光では観
察できる干渉色を示さなかつた。計算では0.88μ
の厚さの所にあるはずの緑色ピークは見られなか
つた。従つて可視閾値（第１図中の線）はこの
色の単位である８より大きい。同様に、計算で得
られた0.03μの青色ピークも見えることができな
かつたので、閾値はこのピークの計算値11色単位
より高い。しかし、良好な視察条件下、例えば、
反射される視野中に黒色ベルベツト背景を用い、
何らの着色物体がないという条件下で0.81μのと
ころにほのかな赤色ピークが見られる。従つて閾
値はこの色の色単位計算値13より低い。これらの
研究結果から、本発明者らは反射色の可視閾値は
このスケールで11色単位と13色単値との間にある
と結論し、従つて、昼光視察条件下での反射色の
可視閾値を示すため12単位の値を利用した。換言
すると、12単位より高い彩度は可視の光彩色とし
て見えるが、12より低い彩度は無色として見え
る。 13以下の彩度値の製品は商品化にはほとんど異
議なないと思われる。しかし、彩度値が12以下で
あることがずつと好ましく、後に詳しく述べるよ
うに、本発明による最も有利な製品例えば完全に
無色の表面すなわち彩度値８以下を特徴とする製
品を経済的につくることができないという実際的
理由はないように思われる。 12以下の値は反射した像の色を観測できる方法
でゆがめない反射を意味する。この12単位の閾値
は種々の多重層構造が光彩色をなくすのに成功か
不成功かを評価するための定量的標準として用い
ることができる。 0.85μ以上の厚さの被覆層は第１図からわかる
ようにこの12の閾値より低い採度を有する。実施
例15で示す実験ではこのような厚い被覆層は昼光
照明で好ましくない光彩色を示さないことを確証
している。本発明の１つの実施態様は反射彩度をなくすた
めに１層のアンダーコート層を用いることから成
る。このためには、屈折率n₁がガラスの屈折率
（n_glすなわち1.52）と半導体の屈折率（n_scすなわ
ち2.0）との中間である単一層を慎重に選んで用
いねばならない。中間屈折率を幾何平均n_i＝（n_sc
n_gl）^1/2すなわち1.774にすると中間層の両面からの
反射光は同じ振幅になる。中間層の厚さを1/4波
長になるように選ぶことにより、これらの２つの
反射波は互いに相互いに相殺して光彩色に寄与し
なくなる。この相殺は唯１つの波長にのみ正確で
あり、波長を慎重に選ばねばならない。従つて、
特に半導体が熱反射のために最も関連があるもの
であり且つ光彩に関して特別な問題となる。0.15
〜0.4μの厚さ範囲の半導体被膜の彩度指数を減少
させるこれらの値を見いだすために研究を行つ
た。アンダーコート層（すなわちガラスと半導体
との間の中間被覆層）として最適の中間被膜厚さ
は500nｍの（真空中）波長の1/4波長に相当する
0.0072（72nｍ）であることを見いだした。この場
合の、即ちSnO₂被覆層と一層のアンダーコート
層とを有するガラスについて計算した彩度値を半
導体被膜の厚さの関数として第１図中に線とし
てプロツトする。第１図から明らかなように、す
べての厚さの半導体被膜に対して彩度は12単位の
閾値以下に保たれる。かくして、例えば厚さ0.3μ
の熱反射性被膜からの通常の強力な光彩色はこの
単一の中間アンダーコート層でもなくすことがで
きる。この単一層消光彩性（anti−iridescent）アン
ダーコート層の屈折率変化および厚さ変化に対す
る感受性を研究した。屈折率の±0.02の変化また
は厚さ±10％の変化は彩度を目で見える値に上げ
るのに十分である。これらのパラメーター正確な
管理は公知のガラス被覆操作で達成することがで
きる。例えば、米国特許第3850679号には被覆層
の厚さを±２％まで均一にすることができる装置
が記載されている。半導体被膜の下のガラス上に中間屈折率を有す
る２層を用いても有効な製品を製造することがで
きる。この場合の、即ちSnO₂被覆層と二層のア
ンダーコート層とを有するガラスについて計算し
た彩度値を半導体被膜の厚さの関数として第１図
中に線としてプロツトする。0.1〜0.4μの厚さ
範囲の半導体製膜に対して、僅か１単位以下の彩
度を与えることができることがわかつたのである
この範囲は可視閾値より遥かに低い。例えば、か
かる構造のための２つの中間屈折率（n₁および
n₂）は n₁＝（n_sc）^0.26（n_gl）^0.74すなわち約1.63 n₂＝（n_sc）^0.74（n_gl）^0.26すなわち約1.86 で与えられる。最適の厚さは（真空中）波長500nｍの1/4波長
すなわち約 d₁＝76.7nｍ d₂＝67.2nｍである。低屈折率（n₁）の層はガラスの近くにあるが、
高屈折率（n₂）の層は半導体被膜の近くにある。この二重アンダーコード層構造はそのパラメー
ターの最適値からのずれの許容度が単一アンダー
コート層構造よりさらに大きい。最適な厚さから
±25％変化しても可視限界以下の光彩値すなわち
10以下の彩度値に抑えられる。かくして極めて有
効な設計が次の範囲の屈折率に基づくことができ
る。 n₁＝（n_sc）^0.26±0.03（n_gl）^0.74±0.03 n₂＝（n_sc）^0.74±0.03（n_gl）^0.26±0.03 上記範囲は1.62〜1.65のn₁の範囲およ1.88〜1.84
のn₂の範囲に対応している。被覆層の厚さを±25
％の許容度に保つために所要な製造精度は現在の
技術操作（state−of−the art procedures）で
容易に得られる。同様に、屈折率の所要精度は所
要値を得るため混合物質が所要な場合でも全く実
施可能である。ガラス基材と半導体層との間の中間被膜を累進
組成で、例えばシリカ被膜から酸化錫被膜まで累
進的に変化させてつくることができることもわか
つた。かかる被膜は極めて多数の中間層から成る
被膜として最もよく表わされる。消光彩（anti−iridescent）、アンダーコート層
を形成させることによつて上記規準に合う生成物
をつくるために選ぶことができる物質には広範囲
の透明物質がある。種々の金属酸化物および窒化
物ならびにそれらの混合物は適当な透明性および
屈折率の光学的性質をもつている。Ａ表はガラス
と酸化錫被膜または酸化インジウム被膜との間の
単一被覆層として適当な屈折率を有する幾つかの
混合物を示す。必要な重量％は実測屈折率〜組成
曲線から求められ、あるいは混合物の屈折率につ
いての通常のローレンツ−ロレンツ（Lorentz−
Lorenz）の法則〔Z.ニツトル（Knittil）著「オ
ブテイツクスオブシンフイルムズ（Optics
of Thin Films）」、ウイリーアンドサイズ社、ニ
ユーヨーク、1976、473頁〕から純物質被膜の実
測屈折率を用いて計算される。この混合法則は光
学的研究のための十分に正確な内挿を一般に与え
るが、計算した屈折率は時に実測値より僅かに低
い。被膜の屈折率は使用する付着方法および条件
によつても幾らか変化する。日常の製造前チエツクは容易に行うことができ
る。また必要により実際に所要ならば、組成を最
適値に調節することができる。例えば、酸化アルミニウム被膜は付着条件によ
つて、屈折率が約1.64から1.75まで幾らか変化す
る。Ａ、Ｂ、Ｃ表において、Al₂O₃−ｈは高屈折
率（ｎ＝1.75）被膜を示し、Al₂O₃−ｌは低屈折
率（ｎ≒1.64）被膜を示す。中間屈折率の被膜は
所望の屈折率を得るため中間組成を要求する。Ｂ表およびＣ表はガラス基材と第１半導体被覆
層との間の２重中間層として適当な屈折率（それ
ぞれ約1.63および1.86の）を有する幾つかの混合
物を示す。これらの光学的性質以外に、適当なアンダーコ
ート層は化学的耐久性ならびに耐空気性、耐湿
性、耐クリーニング液性ならであるように選ばれ
る。このような必要条件のため、容易に加水分解
しやすいタイプの二酸化ゲルマニウム被膜はほと
んどの目的に対して排除される。約半量のGeO₂
と半量のSiO₂とで構成される被膜は水に不溶で
あり、耐水性であるようである。

【表】

【表】すべてこれらの被膜は適当な混合物の適当な物
質の同時真空蒸着によつて形成させることができ
る。窓ガラスのように大きな面積を被覆するため
には、常圧における化学蒸着（chemical vapor
deposition）（CVD）がより便利であり且つより
経済的である。しかし、CDD法では各物質を生
成させるため適当な揮発性化合物が必要である。
最も便利なCVD源は室温の気体である。珪素お
よびゲルマニウムはシランSiH₄、ジメチルシラ
ン（CH₃）₂SiH₂、ゲルマンGeH₄のような気体か
らCVDによつて蒸着させることができる。室温
で十分に揮発性の液体もほぼ気体と同様に便利で
あり、テトラメチル錫は錫化合物のCVD用のか
かる錫源であり、（C₂H₅）SiH₂およびSiCl₄は揮
発性液状珪素源である。同様にトリメチルアルミ
ニウムおよびジメチル亜鉛ならびにこれらの高級
アルキル同族体はこれら金属の揮発性源となる。
以上のものよりも便利さは少ないが、それでも有
用なCVD源は、室温より高いが蒸着した被膜と
反応する温度よりは低い温度で揮発する固体また
は液体である。この後者の範ちゆうの例えばアル
ミニウム、ガリウム、インジウム、亜鉛のアセチ
ルアセトナート（２，４−ペンタンジオナートと
も呼ばれる）、アルミニウムイソプロポキシドお
よびアルミニウムエチラートのようなアルミニウ
ムアルコキシドおよびプロピオン酸亜鉛である。
マグネシウムでは分解温度以下で揮発する便利な
化合物は知られておらず、従つて酸化マグネシウ
ム被膜の製造にはCVD法を適用することができ
ないと思われる。化学蒸着で金属酸化物被膜を成
功裏に形成する典型的な条件をＤ表に示してあ
る。典型的には、有機金属蒸気は空気中約１％
（容量％）の量で存在する。かくして得られた被
膜はガラス基材および次に付着させる酸化錫また
は酸化インジウム層の両方に良好な接着を示す。
CVD技術を用い、これらすべての金属（便利な
揮発性化合物が得られないマグネシウムを除い
て）の対間に混合酸化物相を生成させた。混合被
膜の屈折率は可視反射スペクトルを波長の関数と
して取ることによつて都合よく測定される。次
に、反射強度の極大と極小の位置および高さを付
着被膜の屈折率に関係づけることができる。次
に、試薬の濃度を調節して所望の屈折率を得る。これらの方法を用い、厚さ0.3μのSnO₂半導体
層下に（SiO₂−Si₃N₄）、（SiO₂−SnO₂）、（GeO₂
−SnO₂）、（Al₂O₃−SnO₂）、（Al₂O−Ga₂O₃）ま
たは（Al₂O₃−ZnO）混合層を用い、硼珪酸塩ガ
ラス（パイレツクス）上で多数の試料をつくつ
た。屈折率と厚さとを適当に調節するとき、反射
昼光は中性色であり、無色に見える。被覆層は透
明であり、目に見える曇り（散乱光）はない。

【表】通常の窓ガラス（“ソータ石灰”ガラスすなわ
ち“軟質”ガラス）上でこれらの同じ蒸着を試み
た場合、得られた多くの被覆層がかなりの曇りす
なわち散乱光を示した。軟質ガラス上に最初に蒸
着する層の無定形であつて、SiO₂、Si₃N₄または
GeO₂あるいはそれらの混合物から成る場合には
被覆層は曇りが無く、次の層が何であるかは問題
でない。Al₂O₃も約550℃よりも低い有利な温度
で無定形を蒸着させれば透明な被覆層を与える。
最初の被覆層が大きな比率のGa₂O₃、ZnO、
In₂O₃、またはSnO₂を含む場合には曇りが生じる
ようで窓ガラス表面に付着させる第１消光彩層
（anti−iridescence layer）は結晶構でなく無定
形溝造であることが有利である。オキシ窒化珪素
が好ましい。次に付着させる層は、多結晶形であ
つても何ら曇りを生じない。ナトリウムイオンおよびその他のアルカリイオ
ンは酸化錫および酸化インジウム被膜の赤外反射
性および導電性に有害な作用を与える。上記無定形被膜、特にオキシ窒化珪素被膜はガ
ラスから半導体層中へのナトリウムイオンの拡散
に対する良好なバリヤーとなる。被膜中の酸素／
窒素比を変化させることにより、1.5であるガラ
スの屈折率から２である酸化錫または酸化インジ
ウムの屈折率までの全屈折率範囲をカバーするこ
とができる。かくして同じ基本的反応剤を用い
て、任意の数の屈折率段階をもつ消光彩（anti−
irldescence）構造物をつくることができる。事
実、反応剤の比率が連続的に変化する被膜さえも
得ることができる。オキシ窒化珪素は豊富で安価
な物質だけで生成させることができる。オキシ窒化珪素被膜の製造には数多くの揮発性
反応剤が使用できる。Ｅ表はオキシ窒化珪素の化
学蒸着に都合のよい幾つかの揮発性物質を示す。
SiH₄＋NO＋N₂H₄の反応は、窓ガラスにとつて
関心のある温度範囲すなわち500〜600℃の温度範
囲で高い蒸着速度を与えるので好ましい。しか
し、その他の数多くの反応剤の組合わせも満足す
べきオキシ窒化珪素被膜を与えることができる。Ｅ表オキシ窒化珪素被膜の化学蒸着用の根源物質珪素源 SiH₄ （CH₃）₂SiH₂ （C₂H₅）₂SiH₂ （CH₃）₄Si SiCl₄ SiBr₄ 酸素源 O₂ H₂O N₂O 窒素源 N₂H₄ NH₃ HN₃ CH₃NHNH₂ （CH₃）₂NNH₂ 酸素ならびに窒素源 NO NH₂OH N₂H₄H₂O 干渉色は別々の、但し平行な、ガラス表面上の
機能的無機被膜の２つの薄い被膜からの反射を用
いて減少させることができる。被膜の厚さ、例え
ば酸化錫被膜の厚さが1/4波長（λ＝0.50μｍ、ｎ
≒2.0の場合には0.07）だけ異なるように選ぶと
き、干渉色はほとんど消滅する。確かに、販売者
および顧客にとつて美的問題とならなくなる点ま
で干渉色は減少する。例えば、第１の被膜の赤外
反射と第２の被膜の隣りの干渉次数の緑色反射と
の加成色は混合してほぼ白色（中性色）反射とな
る。同様に、かかる相補的被膜の組合わせから透
過光も中性色となる。この色相殺を二重ガラスに用いると熱反射性半
導体被膜から生じる干渉色の強さが減少する。例
えば、二重ガラス窓の２つの内面にSnO₂被膜を
用いる場合、それらの被膜の厚さが0.07μだけ異
なるように選ぶことができる。拡大光源の場合、
ガラス表面が適度に平行であれば反射色は相殺さ
れる。小光源あるいは明確な境界をもつ光源の場
合には、被膜表面が高度で平行でなければ反射光
の相殺は完全ではない。透過光で見る場合には、
表面が平行でなければならないという条件はそれ
ほど厳密なものではない。中間屈折率または累積屈折率を有するアンダー
コート層で干渉色強度が弱められている被膜も対
として組合わせることによつてさらに色相殺が得
られることは言うまでもない。本明細書ならびに添付図面は本発明の好ましい
実施態様を示し且つ説明し、且つその種々の変化
や変更を示唆するが、これらは徹底的なものでは
なく、他の変化や変更も本発明の範囲内で行うこ
とができることは言うまでもない。本明細書中の
これらの示唆は当業者が本発明ならびにその原理
をより十分に理解し且つおのおのが特別な場合の
条件に最もよく適合する種々の形で本発明を変更
し且つ実施できるようにするため、説明のために
選択し且つ示すものである。第２図は屈折率1.744で厚さ0.072μのSi₃N₄／
SiO₂（またはＡ表中の他のいずれかの物質）の中
間被膜２４を有するガラス基材２２から成る透明
シート２０を示す。被膜２４上には赤外反射性半
導体酸化錫の厚さ0.4μの被膜２６がある。第３図は第２図と同じ半導体被膜２６と同上の
ガラス２２と２枚の中間被膜とから成る窓３６を
示す。中間被膜は厚さが0.077μで屈折率が約1.63
の被膜３０と厚さが0.067μで屈折率が約1.86の被
膜との２枚である。被膜３０は２表記載のいずれ
かの物質で構成されており、被膜３２はＣ表の表
記載のいずれかの物質で構成されている。第４図は内部透明シート４４と外部透明シート
４６との間に断熱用空間４２が封入されている二
重構造物４０を示す。各シート４４および４６は
ガラス４５とガラスの内周上の半導体被膜４８ａ
または４８ｂとから構成されている。半導体被膜４８ａは厚さが0.2μであるが、被膜
４８ｂの厚さは0.27μであり、従つて、２枚の被
膜には1/4波長の差がある。実施例１単一消光彩（anti−iridescent）アンダーコー
ト層を有するガラスを製造するため直径15.24cm
（６インチ）の透明窓ガラス円板を約580℃に加熱
した。このガラス表面上にシラン（SiH₄）約0.4
％、酸化窒素（NO）0.1％、ヒドラジン（N₂H₄）
２％および残り窒素（N₂）を含む混合ガスを１
／分の速度で通じた。この結果ガラス表面はオ
キシ窒化珪素の一様な透墓被膜で被覆された。次
に560℃のオキシ窒化珪素表面上をテトラメチル
錫（CH₃）₄Sn1％、プロモトリフルオロメタン
CF₃Br3％、酸素O₂20％および残りの窒素N₂の混
合ガスを約１分間流して弗素をドープした酸化錫
層で表面をさらに被覆した。次に、この被覆ガラ
スを空気中で約１時間かけて徐々に室温に冷却し
た。この方法で被覆したガラスは反射昼夜または透
過昼光で目に見える干渉色を示さなかつた。この
表面は波長10μの赤外線を約90％反射し、可視光
線の約90％を透過した。このシートの電気抵抗は
約３Ω／cm²であつた。オキシ窒化珪素層の性質を測定するため、亜鉛
末と希塩酸との混合物で被覆表面をこすつて被覆
表面領域から酸化錫被膜を除去した。このエツチ
ング剤ではオキシ窒化珪素アンダーコート層は侵
食されない。オキシ窒化珪素被膜の屈折率は以下
に記載するCH₂l₂液体試験で測定して1.74であつ
た。オキシ窒化珪素被膜の可視反射率を測定した
所、5000Å、厚さ0.072μ（5000Åの光の所望の1/4
波長の厚さに相当する）で最高であつた。これらのオキシ窒化珪素被膜の屈折率は被膜中
の窒素／酸素比によつて異なる。この組成はガス
中のN₂H₄／NOの比率を変えることによつて容
易に調節することができる。Ｎ／Ｏ比を増と屈折
率が増加する。正確な屈折率は出発物質の純度に
も依在し、特にヒドラジン中の不純物として存在
する水の量に依存する。市販のヒドラジンは常に
数％の水を含む。ヒドラジンを水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムまたは水酸化バリウムのよう
な乾燥剤から真空によつて乾燥することにより、
被膜の屈折率を増加することができる。逆に、ヒ
ドラジンに水を添加することによつて屈折率を下
げることができる。被膜の屈折率は蒸着温度、ガ
ス流速などを含む、被膜の正確な成長条件にも依
存する。従つて、他の反応剤または蒸着条件を用
いるときには、上記条件で正確にｎ≒1.74の被膜
を与えると期待することはできない。しかし所望
の屈折率の被膜をつくるには組成を少し調節すれ
ば十分である。半導体被膜は本明細書中に記載した酸化錫で観
察される2.0の値と異なる屈折率を有していても
よい。その場合には、上で与えた関係によつて、
一（または二重）アンダーコート層のための対応
する最適値に調節することができる。この場合、
日常の実験により、CVD技術において通常の熟
錬度を有する製造者または研究者の正確な条件に
適合させるように、消光彩（anti−iridescent）
アンダーコート層として所望な屈折率の被膜を生
成する、対応する気相組成を見いだすことができ
る。測定した屈折率をもつ被膜の厚さは可視光線お
よび赤外線の反射スペクトルを測定することによ
つて容易に決められる。このスペクトルはフレネ
ル（Fresnel）とアイリー（Airy）の標準の光学
式を用いて被膜の厚さの関数として容易に計算さ
れる。上述したほとんどの実際の設計において、
5000Åの波長（空気中）に対して1/4波長の厚さ
の被膜を作ることが望ましい。この場合、ガラス
上の単一のかかる被膜の反射スペクトルは波長
5000Åを中心とする幅広い極大を示す。実施例２アルミニウム２，４−ペンタンジオナート、
Al（C₅H₇O₂）₃（アルミニウムアセチルアセトナー
トとしても知られている）は白色固体で、189℃
で融解して透明液となり、315℃で沸騰する。こ
れを約250℃に加熱したバブラー（bubbler）に入
れ、窒素キヤリヤガスを通じた。この混合ガスを
250℃の乾燥酸素と混合したとき、何らの反応も
認められなかつた。しかしその酸素に水分を加え
たとき、混合ガス中に強力な白煙が生じた。この
ような白煙は加水分解を示す。この早期加水分解
反応を防ぐためには、ガス流をできるだけ乾燥状
態に保たねばならない。アルミニウミ２，４−ペワタジオナート蒸気、
窒素キヤリヤガスおよび20％酸素の混合物を加熱
したガラス表面上へ通した。500℃で厚さ0.1μ以
下の僅かな付着物が生じた。このことは反射率の
増加だけで明らかであつた。525℃で、約３分間
で厚さ0.3μの被膜に成長した。この被膜は白色光
下で僅かな干渉色を示し、単色光照明下では顕著
な干渉帯を示した。550℃で酸化アルミニウム被
膜がさらに急速に成長し、少量の粉末が均一な核
成形で生成し、装置表面上に付着した。次に、500〜540℃の温度範囲で、酸化アルミニ
ウム被膜上に弗素をドープした酸化錫被膜を成長
させた。0.3〜0.5μの範囲の厚さを慎重に検査し
た。というのはこれらの厚さが最も強い干渉色を
示すからである。酸化アルミニウムアンダーコー
ト層のない同じ厚さの酸化錫被膜と比べた場合、
干渉色の強さは実質的に減少した。酸化アルミニウミム被膜の厚さが1/4波長（昼
光照明に対する眼の分光感度ピーク付近の500mm
の波長の）である被膜は光彩色の最大の抑制を示
す。これらの厚さ（1/4波長とした0.072μ）の場
合、ガラス−Al₂O₃界面からの反射とAl₂O₃−
SnO₂界面からの反射とは互いに最も有効に相殺
する。しかし、Al₂O₃の厚さが最適値でなくても
色強度の実質的な減少がある。ガラス基材としては、パイレツクス硼珪酸塩ガ
ラスおよびソーダ石灰（窓）ガラスの両方が用い
られた。両方の基材とも良好な結果が得られた。酸化アルミニウム層はまた、酸化錫を500〜540
℃で蒸着させるときのソーダ石灰ガラス表面の失
透を防止するのにも有効であつた。かくして、酸
化アルミニウムはソーダ石灰ガラス表面が酸化錫
結晶で与えられる核の周りに結晶化することを防
止する作用があり、従つて、被覆工程中ガラスが
曇るのを防止する働きがあると考えられる参考例透明なソーダ石灰型ガラスで二重ガラス窓をつ
くる。このガラスを米国特許第2617745号記載の
通常の方法により曇りを除くためシリカ型被膜で
処理する。この二重ガラス窓の構造は第４図に示した構造
と似ている。内面Ａには0.26μの酸化錫被膜があ
り、内面Ｂには0.33±0.02μの酸化錫組成物被膜
がある。これらの被膜のおのおのは、単独で見た
場合、多くの観察者に主として赤色または緑色の
高度に着色した容易に見える光彩色を示す。これ
ら第４図の構造のように互いにほぼ平行に組立て
ると、二重ガラス構造物の太陽に面する側から見
てもあるいはこの構造物の反対側から見ても光彩
色が非常に弱められる。実施例３ガラス（ｎが1.5）と酸化錫（ｎが2.0）被膜と
の間に累進的な屈折率層を作るための実験を行つ
た。“×”が１から０へ徐々に増加するSi_xSn_1-o
O₂の累進層を層としてガラス表面上に作つた。
SnO₂層の厚さは0.3μであり、下層の累進領域の
厚さは0.3μであつた。得られ構造物は、同じ厚さ
のSnO₂層で、ガラスとSnO₂層の間に累進中間領
域が無い場合比べて、干渉色の顕著な減少を示し
た。揮発性珪素源は、１つの例ではSiH₄（N₂キヤリ
ヤガス中１％混合ガスから）であり、もう１つの
例でば（CH₃）₂SiH₂（純ガスのシリンダーから）
である。蒸着は表面温度480℃で行つた。ガス濃
度は初めシラン（またはアルキル置換シラン）約
0.4％、酸素10％、窒素残分であつた。次に、テ
トラメチル錫（CH₃）₄Snを約３分間にわたつて１
％の濃度になるまで徐々に導入しながら、同じ期
間にわたつてシラン濃度を徐々に０まで減少させ
た。次に、テトラメチル錫用のキヤリヤガスを停
止し、装置を空気で５分間パージしてシランの最
後の痕跡を除去した。次に、（CH₃）₄Sn1％、
CF₃Br3％、O₂20％、窒素残分のガス液を３分間
表面下に通して厚さ0.4μの弗素ドープ酸化錫層を
付着させた。累進屈折率アンダーコート層を有するこれらの
被膜上では干渉色が非常に減少した。実施例４ SiH₄の代わりにGeH₄を用いて同様な処理を行
う。累進層はGe_xSn_1-xO₂で構成され、“ｘ”はガ
ラス上に層が累積するとき１から０へ漸減する。
純GeO₂の屈折率か1.65であり、この累浸層は依
然としてガラスの屈折率（1.5）とは屈折率の不
連続がある。しかし、付着の一様性はSiH₄で得
られるよりも幾らか良好である。実施例３で認め
られたのと同様な可視光彩の減少が認められた。実施例５〜８Ａ表から選んだ次の物質をガラスと酸化錫との
間の中間層として用いて、実施例１の操作を繰返
した。実施例５：In₂O₃82％／SiO₂18％実施例６：GeO₂58％／ZnO42％実施例７：Ga₂O₃70％／Al₂O₃−l30％実施例８：Al₂O₃−l60％／ZnO40％これらの各実施例において、低光彩が実現され
る。実施例９〜13 実施例１および実施例５〜８の単一の中間層の
代わりに、すべてＢ表およびＣ表から選んだ次の
物質を２中間層として用いる。

【表】実施例 14 ガラス基板上に種々の厚さの酸化錫被膜をつく
る。（ガラスを初めに極度に薄いオキシ窒化珪素
被膜で被覆して無定形の曇り防止表面を与える。）酸化鉄の厚さ光彩可視性 0.3 強い 0.6 明瞭だが弱い 0.9 螢光灯以外はやつと検知可能 1.3 螢光灯でも弱い上記後者の２つは建築用途にも美的に問題はな
い。所望の屈折率の被膜の付着条件を見いだすた
め、薄い被膜の屈折率を迅速に調査する簡単な方
法を開発した。例えばアンダーコート層として屈
折率ｎ＝1.74の被膜が所望だとする。この屈折率
の液体を選ぶ。この例としてはジヨードメタンｎ
＝1.74を用いる。厚さが0.2〜2μの被膜でガラス
表面上を被覆する。この被覆ガラスをλ＝5461Å
でフイルターした水銀燈のような単色光源から反
射光で観察する。この被覆ガラスは、ガラス表面
上にわたつて被膜の厚さが異なる場合、明暗帯の
干渉縞を示す。既知の屈折率を有する液滴を被膜
上に置く。もし、被膜の屈折率が液体の屈折率と
正確に合致するならば、滴の下の干渉縞は消失す
る。被膜の屈折率と液滴の屈折率とが正確に合致し
ない場合には、滴の下の干渉縞は未だ見えるが、
強度は弱くなる。この弱い干渉縞が残りの被膜上
の干渉縞の直接連続である場合には、被膜の屈折
率は参考液体の屈折率より大きい。これに反して
液滴下の液滴がないときの干渉縞と逆転（明部と
暗部が逆転する）場合には、被膜の屈折率は参考
液体の屈折率より小さい。この簡単ではあるが正確な被膜の屈折率の測定
によつて、一連の試験で、所望の屈折率値に合う
ように被膜の製造条件を容易に調節することがで
きる。他の参考液体を用いることにより、他の
種々の屈折率値に被膜を調節することができる。
２層アンダーコートに用いるｎ＝1.63は１，１，
２，２−テトラブロモエタンを参考液体として用
いて調節することができる。２層アンダーコート
の場合のもう一方の層のためのｎ＝1.86はアメリ
カンミネラル（American Mineral）第21巻、
245頁（1936）にウエスト（West）が記載してい
るジヨードメタン中の硫黄および燐の溶液で調節
することができる。以上のことから、当業者には
一般的方法を製造における品質管理手段として使
用できることが明らかであろう。既知屈折率の液
体は米国ニユージヤーシー州のカーギルラボラ
トリーズ（Gargille Laboratories）からも供給
されている。本発明の有利な方法が実質的なガラス領域を有
する建物の熱の保存を含み且つ本発明の被膜の抵
抗的特徴を用いて、自動的および飛行機などの窓
の電気的加熱をも含むことは言うまでもない。一
般に、これらの被膜は抵抗性であり、通常半導電
性である。本発明の許動請求の範囲は本文中に記載した本
発明の一般的および特殊な特徴のすべてを包含し
且つそれらの人間に入ると言うことができる本発
明の範囲についてすべての記述をも包含するもの
と解すべきである。

【図面の簡単な説明】

第１図は半導体被膜の厚さによる種々の色の計
算された色強度の変化を示すグラフであり、第２
図は本発明によつて製造した、単一消光彩中間層
を有する無光彩被覆ガラスの概略の断面図であ
り、第３図は本発明によつて製造した、複数の消
光彩中間層を有する無光彩被覆ガラスの概略の断
面図であり、第４図は好ましくない光彩を減少ま
たは除去する被膜を有する結果として実質的に改
良された外観を有する二重ガラス窓構造物の概略
の断面図を示す。図中：２０，４４，４６：透明シート、２２，
４５：ガラス基材、２４，３０，３２：中間被膜
（被覆層）、２６，４８ａ，４８ｂ：赤外反射性半
導体被膜（被覆層）、３６：窓、４０：二重窓構
造物、４２：空間。

Claims

【特許請求の範囲】１少なくとも１枚の透明なガラスシート及び該
シート上に設置される赤外反射性物質の第１の無
機質被覆層を含み、該赤外反射性物質が透明な半
導体であつて昼光照明で光彩色を示す型の物質で
あるところの構造物において、第２の被覆層が前
記ガラスシートと第１の被覆層との間に設置さ
れ、かつ第２の被覆層が昼光照明で第１の被覆層
の光彩色が見えることを実質的に減少させるよう
に光を反射しかつ屈折するための手段を前記第２
の被覆層の本体と共に形成する少なくとも２つの
界面を与えることによつて上記の光彩色を実質的
に減少させる手段となること、第２の被覆層が、
前記ガラスシートの屈折率と前記第１の被覆層の
屈折率との積の平方根として定義される屈折率を
有すること、及び第２の被覆層が500nｍの真空
中の波長を有する光の1/4波長の厚さを有するこ
とを特徴とする構造物。２半導体層の厚みが0.4μ未満である特許請求の
範囲第１項記載の構造物。３ガラスシートが、曇りのないガラス又は淡色
のガラスのみから構成され、かつ構造物の透明度
を25％未満に減少させ、かつ光彩色がみえるのを
抑制する暗い色調を含まない特許請求の範囲第２
項記載の構造物。４第１の被覆層と第２の被覆層とがいつしよに
なつて、0.1〜1μの厚さにある特許請求の範囲第
１項記載の構造物。５ガラスシートが、曇りのないガラス又は淡色
のガラスのみから構成され、かつ構造物の透明度
を25％未満に減少させ、かつ光彩色がみえるのを
抑制する暗い色調を含まない特許請求の範囲第４
項記載の構造物。６彩度値が５以下である特許請求の範囲第１項
記載の構造物。７第１の被覆層と第２の被覆層とがいつしよに
なつて、0.1〜1μの厚さにある特許請求の範囲第
６項記載の構造物。８ガラスシートが、曇りのないガラス又は淡色
のガラスのみから構成され、かつ構造物の透明度
を25％未満に減少させ、かつ光彩色がみえるのを
抑制する暗い色調を含まない特許請求の範囲第６
項記載の構造物。９彩度値が８以下である特許請求の範囲第１項
記載の構造物。１０ガラスシートが、曇りのないガラス又は淡
色のガラスのみから構成され、かつ構造物の透明
度を25％未満に減少させ、かつ光彩色がみえるの
を抑制する暗い色調を含まない特許請求の範囲第
９項記載の構造物。１１第１の被覆層と第２の被覆層とがいつしよ
になつて、0.1〜1μの厚さにある特許請求の範囲
第９項記載の構造物。１２半導体層の厚みが0.4μ未満である特許請求
の範囲第９項記載の構造物。１３第１の被覆層が酸化第２スズである特許請
求の範囲第１項記載の構造物。１４半導体層の厚みが0.4μ未満である特許請求
の範囲第１３項記載の構造物。１５第１の被覆層と第２の被覆層とがいつしよ
になつて、0.1〜1μの厚さにある特許請求の範囲
第１３項記載の構造物。１６ガラスシートが、曇りのないガラス又は淡
色のガラスのみから構成され、かつ構造物の透明
度を25％未満に減少させ、かつ光彩色がみえるの
を抑制する暗い色調を含まない特許請求の範囲第
１３項記載の構造物。１７第２の被覆層が無定形の物質であり、第１
の被覆層形成時に第１の層上にぼやけが形成する
のを防ぐ手段を形成している特許請求の範囲第１
項記載の構造物。１８彩度値が８以下である特許請求の範囲第１
７項記載の構造物。１９彩度値が13以下である特許請求の範囲第１
７項記載の構造物。２０第１の被覆層と第２の被覆層とがいつしよ
になつて、0.1〜1μの厚さにある特許請求の範囲
第１７項記載の構造物。２１ガラスシートが、曇りのないガラス又は淡
色のガラスのみから構成され、かつ構造物の透明
度を25％未満に減少させ、かつ光彩色がみえるの
を抑制する暗い色調を含まない特許請求の範囲第
１７項記載の構造物。２２半導体層の厚みが0.4μ未満である特許請求
の範囲第１７項記載の構造物。２３第２の被覆層が1.7〜1.8の屈折率を有し、
かつ厚さが64〜80nｍであり、第１の被覆層の屈
折率が２、ガラスシートの屈折率が1.5である特
許請求の範囲第１項記載の構造物。２４彩度値が８以下である特許請求の範囲第２
３項記載の構造物。２５半導体層の厚みが0.4μ未満である特許請求
の範囲第２３項記載の構造物。２６構造物が曇りのないガラス又は淡色のガラ
スである透明なシート材料のみを含み、かつ構造
物が光彩色がみえるのを抑制する暗い色調を含ま
ない特許請求の範囲第２５項記載の構造物。２７第１の被覆層と第２の被覆層とがいつしよ
になつて、0.1〜1μの厚さにある特許請求の範囲
第２３項記載の構造物。２８第２の被覆層が主に酸化アルミニウムから
形成される特許請求の範囲第２３項記載の構造
物。２９半導体層の厚みが0.4μ未満である特許請求
の範囲第２８項記載の構造物。３０構造物が曇りのないガラス又は淡色のガラ
スである透明なシート材料のみを含み、かつ構造
物が光彩色がみえるのを抑制する暗い色調を含ま
ない特許請求の範囲第２８項記載の構造物。３１第２の被覆層が金属酸化物、金属窒化物又
はこれらの混合物から形成される特許請求の範囲
第２３項記載の構造物。３２半導体層の厚みが0.4μ未満である特許請求
の範囲第３１項記載の構造物。３３構造物が曇りのないガラス又は淡色のガラ
スである透明なシート材料のみを含み、かつ構造
物が光彩色がみえるのを抑制する暗い色調を含ま
ない特許請求の範囲第３１項記載の構造物。３４金属酸化物及び金属窒化物がAl₂O₃、
SiO₂、ZnO、MgO、SnO₂、In₂O₃、GeO₂、
Ga₂O₃及びSi₃N₄の群から選ばれる特許請求の範
囲第３１項記載の構造物。３５彩度値が13以下である特許請求の範囲第３
４項記載の構造物。３６彩度値が８以下である特許請求の範囲第３
４項記載の構造物。３７第２の被覆層が無定形の物質であり、第１
の被覆層形成時に第１の層上にぼやけが形成する
のを防ぐ手段を形成している特許請求の範囲第２
３項記載の構造物。３８半導体層の厚みが0.4μ未満である特許請求
の範囲第３７項記載の構造物。３９無定形の層がシリコン酸窒化物である特許
請求の範囲第３７項記載の構造物。４０彩度値が13以下である特許請求の範囲第３
９項記載の構造物。４１彩度値が８以下である特許請求の範囲第３
９項記載の構造物。４２構造物が曇りのないガラス又は淡色のガラ
スである透明なシート材料のみを含み、かつ構造
物が光彩色がみえるのを抑制する暗い色調を含ま
ない特許請求の範囲第３７項記載の構造物。４３第１の被覆層と第２の被覆層とがいつしよ
になつて、0.1〜1μの厚さにある特許請求の範囲
第３７項記載の構造物。４４第１の被覆層がフツ素をドープした酸化第
２スズである特許請求の範囲第２３項記載の構造
物。４５第１の被覆層と第２の被覆層とがいつしよ
になつて、0.1〜1μの厚さにある特許請求の範囲
第４４項記載の構造物。４６彩度値が13以下である特許請求の範囲第４
４項記載の構造物。４７半導体層の厚みが0.4μ未満である特許請求
の範囲第４４項記載の構造物。４８構造物が曇りのないガラス又は淡色のガラ
スである透明なシート材料のみを含み、かつ構造
物が光彩色がみえるのを抑制する暗い色調を含ま
ない特許請求の範囲第４４項記載の構造物。４９彩度値が８以下である特許請求の範囲第４
４項記載の構造物。５０彩度値が13以下である特許請求の範囲第２
３項記載の構造物。５１ガラスシートが、曇りのないガラス又は淡
色のガラスのみから構成され、かつ構造物の透明
度を25％未満に減少させ、かつ光彩色がみえるの
を抑制する暗い色調を含まない特許請求の範囲第
１項記載の構造物。５２少なくとも１枚の透明なガラスシート及び
該シート上に設置される赤外反射性物質の第１の
無機質被覆層を含み、該赤外反射性物質が透明な
半導体であつて昼光照明で光彩色を示す型の物質
であるところの構造物において、第２の被覆層が
前記ガラスシートと第１の被覆層との間に設置さ
れ、かつ第２の被覆層が昼光照明で第１の被覆層
の光彩色が見えることを実質的に減少させるよう
に光を反射しかつ屈折するための手段を前記第２
の被覆層の本体と共に形成する少なくとも２つの
追加の界面を与えることによつて上記の光彩色を
実質的に減少させる手段となること、第２の被覆
層が２層からなり、 (a) ガラスシートに近い方の層が次式： n_a＝n_sc ^0.26n_gl ^0.74 で示される屈折率を有し、 (b) 第１の被覆層に近い方の層が次式： n_b＝n_sc ^0.74n_gl ^0.26 で示される屈折率を有し、ここでn_scは第１の被
覆層の屈折率であり、n_glはガラスシートの屈折
率であり、かつ第２の被覆層のそれぞれが500n
ｍの真空中の波長を有する光の1/4波長の厚さを
有することを特徴とする構造物。５３構造物が曇りのないガラス又は淡色のガラ
スである透明なシート材料のみを含み、かつ構造
物が光彩色がみえるのを抑制する暗い色調を含ま
ない特許請求の範囲第５２項記載の構造物。５４ガラスシートに近い方の層がシリコン酸窒
化物である特許請求の範囲第５２項記載の構造
物。５５第１の被覆層が酸化第２スズである特許請
求の範囲第５２項記載の構造物。５６ガラスシート上のすべての無機物層の厚み
の合計が0.1〜1.0μである特許請求の範囲第５２
項記載の構造物。５７構造物がガラスシートを直接被覆する無定
形の層を含む特許請求の範囲第５２項記載の構造
物。５８彩度値が８未満である特許請求の範囲第５
２項記載の構造物。５９第１の被覆層が酸化第２スズである特許請
求の範囲第５２項記載の構造物。６０第２の被覆層が、(a)ガラスシートに近い方
の層が1.6〜1.7の屈折率を有し、(b)第１の被覆層
に近い方の層が1.8〜1.9の屈折率を有する２つの
層を含み、第１の被覆層の屈折率が２であり、ガ
ラスシートの屈折率が1.5である特許請求の範囲
第５２項記載の構造物。６１第１の被覆層が酸化第２スズである特許請
求の範囲第６０項記載の構造物。６２構造物が曇りのないガラス又は淡色のガラ
スである透明なシート材料のみを含み、かつ構造
物が光彩色がみえるのを抑制する暗い色調を含ま
ない特許請求の範囲第６０項記載の構造物。６３構造物がガラスシートを直接被覆する無定
形の層を含む特許請求の範囲第６０項記載の構造
物。６４ガラスシートに近い方の層がシリコン酸窒
化物である特許請求の範囲第６０項記載の構造
物。６５少くとも１枚の透明なガラスシート及び該
シート上に設置される赤外反射性物質の第１の無
機質被覆層を含み、該赤外反射性物質が透明な半
導体であつて昼光照明で光彩色を示す型の物質で
あるところの構造物において、第２の被覆層が前
記ガラスシートと第１の被覆層との間に設置さ
れ、前記ガラスシートの屈折率と第１の被覆層の
屈折率との間の屈折率を有し、かつ第２の被覆層
が昼光照明で第１の被覆層の光彩色が見えること
を実質的に減少させるように光を反射しかつ屈折
するための手段を前記第２の被覆層の本体と共に
形成することによつて上記の光彩色を実質的に減
少させる手段となること、第２の被覆層がガラス
シートと赤外反射性物質との間において、ガラス
シートに近い方から赤外反射性物質に近い方へと
いくにつれて徐々に屈折率が増加するように形成
されていることを特徴とする構造物。６６構造物が曇りのないガラス又は淡色のガラ
スである透明なシート材料のみを含み、かつ構造
物が光彩色がみえるのを抑制する暗い色調を含ま
ない特許請求の範囲第６５項記載の構造物。６７第２の被覆層がXSiO₂（１−Ｘ）Si₃N₄の混
合物であるシリコン酸窒化物を含み、ここでＸが
ガラスシート表面で１に近く、第１の被覆層の境
界で０に近くなるように変化するところの特許請
求の範囲第６５項記載の構造物。６８彩度値が13以下であり、被覆層の厚みが
0.1〜1μであり、第１の被覆層が酸化スズである
特許請求の範囲第６７項記載の構造物。６９彩度値が８以下である特許請求の範囲第６
７項記載の構造物。７０構造物の彩度値が13以下である特許請求の
範囲第６７項記載の構造物。７１構造物が曇りのないガラス又は淡色のガラ
スである透明なシート材料のみを含み、かつ構造
物が光彩色がみえるのを抑制する暗い色調を含ま
ない特許請求の範囲第６７項記載の構造物。７２彩度値が８未満である特許請求の範囲第６
５項記載の構造物。７３彩度値が13以下であり、被覆層の厚みが
0.1〜1μであり、第１の被覆層が酸化スズである
特許請求の範囲第６５項記載の構造物。７４構造物の彩度値が13以下である特許請求の
範囲第６５項記載の構造物。７５前記勾配が、異なつた屈折率をもつた複数
の被覆層が屈折率が増加するようにおかれて段階
的になつている特許請求の範囲第６５項記載の構
造物。７６構造物が曇りのないガラス又は淡色のガラ
スである透明なシート材料のみを含み、かつ構造
物が光彩色がみえるのを抑制する暗い色調を含ま
ない特許請求の範囲第７５項記載の構造物。７７構造物の彩度値が13以下である特許請求の
範囲第７５項記載の構造物。７８第２の被覆層がSi_xSn_1-xO₂又はGe_xSn_1-x
O₂の混合物を含み、ここでｘがガラス表面では
１に近く、第１の被覆層の境界で０に近くなるよ
うに変化するところの特許請求の範囲第６５項記
載の構造物。７９彩度値が８未満である特許請求の範囲第７
８項記載の構造物。８０構造物が曇りのないガラス又は淡色のガラ
スである透明なシート材料のみを含み、かつ構造
物が光彩色がみえるのを抑制する暗い色調を含ま
ない特許請求の範囲第７８項記載の構造物。８１構造物の彩度値が13以下である特許請求の
範囲第７８項記載の構造物。８２彩度値が13以下であり、被覆層の厚みが
0.1〜1μであり、第１の被覆層が酸化スズである
特許請求の範囲第７８項記載の構造物。８３半導体層の厚みが0.4未満である特許請求
の範囲第６５項記載の構造物。８４ガラスシートが、曇りのないガラス又は淡
色のガラスのみから構成され、かつ構造物の透明
度を25％未満に減少させ、かつ光彩色がみえるの
を抑制する暗い色調を含まない特許請求の範囲第
８３項記載の構造物。８５構造物の彩度値が13以下である特許請求の
範囲第８３項記載の構造物。８６彩度値が８未満である特許請求の範囲第８
４項記載の構造物。