JP2003508223A - 弗化オニウム−hf−付加生成物の再生 - Google Patents

弗化オニウム−hf−付加生成物の再生

Info

Publication number
JP2003508223A
JP2003508223A JP2001521678A JP2001521678A JP2003508223A JP 2003508223 A JP2003508223 A JP 2003508223A JP 2001521678 A JP2001521678 A JP 2001521678A JP 2001521678 A JP2001521678 A JP 2001521678A JP 2003508223 A JP2003508223 A JP 2003508223A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
fluoride
addition product
regenerated
addition
amine
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001521678A
Other languages
English (en)
Inventor
ブラウン マックス
パルスヘルム シュテファン
Original Assignee
ゾルファイ フルーオル ウント デリヴァーテ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from DE19956365A external-priority patent/DE19956365A1/de
Application filed by ゾルファイ フルーオル ウント デリヴァーテ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング filed Critical ゾルファイ フルーオル ウント デリヴァーテ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング
Publication of JP2003508223A publication Critical patent/JP2003508223A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B17/00Sulfur; Compounds thereof
    • C01B17/45Compounds containing sulfur and halogen, with or without oxygen
    • C01B17/4561Compounds containing sulfur, halogen and oxygen only
    • C01B17/4576Sulfuryl fluoride (SO2F2)
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B7/00Halogens; Halogen acids
    • C01B7/19Fluorine; Hydrogen fluoride
    • C01B7/191Hydrogen fluoride
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07BGENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
    • C07B39/00Halogenation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C17/00Preparation of halogenated hydrocarbons
    • C07C17/093Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens
    • C07C17/20Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of halogen atoms by other halogen atoms
    • C07C17/202Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of halogen atoms by other halogen atoms two or more compounds being involved in the reaction
    • C07C17/206Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of halogen atoms by other halogen atoms two or more compounds being involved in the reaction the other compound being HX
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C211/00Compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
    • C07C211/01Compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton having amino groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C211/02Compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton having amino groups bound to acyclic carbon atoms of an acyclic saturated carbon skeleton
    • C07C211/03Monoamines
    • C07C211/07Monoamines containing one, two or three alkyl groups, each having the same number of carbon atoms in excess of three
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C41/00Preparation of ethers; Preparation of compounds having groups, groups or groups
    • C07C41/01Preparation of ethers
    • C07C41/18Preparation of ethers by reactions not forming ether-oxygen bonds
    • C07C41/22Preparation of ethers by reactions not forming ether-oxygen bonds by introduction of halogens; by substitution of halogen atoms by other halogen atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C51/00Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
    • C07C51/58Preparation of carboxylic acid halides

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Catalysts (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 弗化水素と弗化アンモニウムとの付加生成物は、酸クロリド及びハロゲン炭化水素化合物、例えばクロルアルカン又はクロルエーテルの弗素化のために使用される。使用済み付加生成物は再生させ、次いで改めて弗素化反応時に使用することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 本発明は使用済み弗化アンモニウム−HF−付加生成物の再生法に関する。
【0002】 弗化アンモニウムとHFとの付加生成物は、弗素化試薬として使用することが
できる。EP−A−0901999は、例えば、HF及びアミンを用いる相応す
る弗素化されたエーテルからのセボフルラン(Sevofluran)の製造を開示してい
る。後処理は水添加の下に行われる。これにより、弗化オニウム(Oniumfluorid
)−HF−付加生成物が破壊される。
【0003】 US−A 4372938は、弗化アンモニウム−付加生成物を用いるSF の製造を開示している。使用済み弗化オニウム−HF−付加生成物は、弗化水素
との接触により再生され、改めてSF−製造のために使用される。使用される
アミンは、窒素含有ヘテロ環式芳香族化合物である。
【0004】 本発明の課題は、改善された再生法を提供することである。この課題は、本発
明の方法により解決される。
【0005】 試薬又は触媒としての弗化オニウム−HF−付加生成物の使用下での塩素−弗
素−交換又は臭素−弗素−交換によって塩素又は臭素を含有する化合物から弗素
含有化合物を製造するための本発明の方法は、使用済み弗化オニウム−HF−付
加生成物を、連続的に又は回分的にHFを用いて、液状カルボン酸の存在下に再
生させるか及び/又は使用済みトリアルキルアンモニウムフルオリド−HF−付
加生成物又は環状飽和アミンのHF−付加生成物を再生させることを意図してい
る。
【0006】 「使用済み(verbraucht)」とは、付加生成物中のアミン:HFの比が不所望
に大きくなっていること及び/又はHCl又はHBrの含分が不所望に高くなっ
ていることを意味する。再生時には、殊にHCl(又はHBr)の含分が認容可
能な程度まで、例えばアミン又はNH1モル当たりHClが1モルより少なく
なるまで低下される。この場合に、HF−含分を所望の量にすることができる(
適当な濃度で付加生成物の添加又は蒸発除去又は混合により)。
【0007】 この再生は、有利にオートクレーブ中又は圧力容器中で、例えば80〜120
℃の範囲の高められた温度でのHF−添加の下に実施される。この場合に、HC
l又はHBrが放出され、オートクレーブの解放後にこのガス相から除去されう
る。例えば、不活性ガスをこのオートクレーブに導き、ガス相を除去することが
できる。
【0008】 弗素化反応時に実質的に全てのHFが弗素化のために消費されない場合が有利
であることは明らかである。付加生成物が実質的に完全に塩化アンモニウム又は
塩化オニウムに又は相応する臭化物に変換されている場合にも再生を実施するこ
とができる。しかしながら、この再生は、弗素化反応時にアミン対HFの比が1
より小さく低下しない場合に、より容易に実施することができる。
【0009】 勿論、再生された生成物中のアミン対弗化水素の比を調節することができる。
多くの用途にとって、付加生成物中のアミン対弗化水素の比が1:1.1〜1:
3.5、有利に1:2〜1:3の間の値で存在することが望ましい。このことは
、例えば、再生された生成物中の過剰の弗化水素を加熱又は蒸発により分離除去
することにより達成することができる。
【0010】 US−A 4472938によれば、四弗化硫黄の製造時に、有利に、窒素含
有芳香族化合物、例えば弗化ピリジニウム−HF−付加生成物をベースとする弗
化アンモニウム−HF−付加生成物が使用される。本発明の酸添加なしでの再生
法では、1実施形によれば、使用済み弗化トリアルキルアンモニウム−HF−付
加生成物又は環状飽和アミンのHF−付加生成物を使用する。これは再生法にお
いて利点を有する。即ち、使用済みトリメチルアンモニウムフルオリド−又はト
リエチルアンモニウムフルオリド−HF−付加生成物、しかも短いアルキル鎖を
有するアミンの付加生成物は、再生時にHClを容易に放出することが確認され
た。少なくとも3個のC−原子を有するアルキル基を有する使用済みトリアルキ
ルアンモニウムフルオリド−HF−付加生成物は、固体を形成する傾向が低い。
このことは、酸添加なしでの再生の際には当然有利である。その中で窒素が飽和
5員又は6員の環系中に組み込まれていて、なおヘテロ原子、例えば酸素を含有
するアミンの使用済みHF−付加生成物、例えばピペリジン、ピロリジンの付加
生成物もこのように再生することができる。
【0011】 酸添加なしで、特に有利に、使用済みトリメチルアミン−HF−付加生成物、
トリエチルアミン−HF−付加生成物、トリプロピルアミン−HF−付加生成物
及びトリブチルアミン−HF−付加生成物を再生させる。
【0012】 本発明の方法の1変法によれば、液状カルボン酸(この概念にはジカルボン酸
又はトリカルボン酸も包含される)の添加下に、使用済み付加生成物を再生させ
る。ハロゲン原子、殊に弗素原子で置換された、殊に合計2〜4個の炭素原子を
有するカルボン酸が有利である。添加剤としてはトリフルオロ酢酸が特に有利で
ある。
【0013】 短鎖アルキル基を有する付加生成物は、固体形成の傾向を有し、このことを、
液状カルボン酸、殊にトリフルオロ酢酸を用いて妨げることができる。使用済み
長鎖アルキル基を有するアミンの付加生成物の場合には、カルボン酸の添加下に
操作する場合には、含有HClの駆出が必要となる。屡々、100モル%として
計算される使用済みオニウム−HF−付加生成物に対して10モル%までの酸の
添加で充分である。勿論、例えば20モル%以上までのより多くの酸を加えるこ
ともできる。80モル%が上限と見なされる。80モル%より多くの酸が添加さ
れる場合には、おそらく副反応が起こる。
【0014】 特に有利な1実施形によれば、使用済みトリアルキルアンモニウムフルオリド
−HF−付加生成物を、窒素原子に付いているアルキル基の長さに無関係に、液
状カルボン酸、有利にトリフルオル酢酸の添加下に再生させる。利点は固体を形
成する低い傾向及びHCl−ガスの容易な駆出である。
【0015】 酸添加下での本発明の方法は、一般にアンモニア及びアミンのHF−付加生成
物の再生のために使用できる。このアミンは、1級、2級及び3級のアミンであ
ってよい。置換基は、有利に炭素原子1〜12を有する線状又は分枝したアルキ
ル基である。環状アミン、例えばピロリジン、N−メチルピロリジン又はピペリ
ジンの付加生成物も使用できる。芳香族置換基を有するアミン、例えばアニリン
又は芳香性環系中に窒素を有するアミン、例えばピリジンも再生させることがで
きる。特に、この再生は、記載の環状又は芳香族アミンのHF−付加生成物のた
めに並びに2級及び3級アミンのために、殊に置換基1個当たり炭素原子1〜5
、有利に2〜4個でこれら2級及び3級アミンが置換されている場合に好適であ
る。有利な置換基は、メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−ブチ
ル、i−ブチルである。
【0016】 本発明の方法は、弗素化反応からの使用済みアンモニア及びアミンのHF−付
加生成物の再利用を許可する。
【0017】 本発明による再生法を用いて、例えば酸塩化物からの酸弗化物の製造、例えば
相応する塩化物からのカルボン酸フルオリド又は弗化スルフリルの製造からの使
用済み付加生成物を再生させることができる。クロルアルキル基からのフルオル
アルキル基の製造に由来する使用済み付加生成物も再生させることができる。こ
のような反応の例は、弗素−塩素−交換又は弗素−臭素−交換による相応する塩
素化合物からの弗化炭素、フルオル炭化水素、弗化塩化炭素、フルオルクロル炭
化水素及び相応する臭素誘導体の製造である。このような反応の更なる例は、相
応するクロル−又はブロム−アルキルエーテルからのフルオルアルキルエーテル
の製造である。
【0018】 特別な1実施形は、多段弗素化法の場合の再生に関する。多くの多段弗素化法
では、必要な反応媒体に関する条件が異なっている。このことは、例えば塩化ス
ルフリルからの弗化スルフリルの製造の場合である。第2の弗素化段階、即ち塩
化弗化スルフリルの弗化スルフリルへの変換は、出発化合物である塩化弗化スル
フリルを弗化オニウムとHFとの付加を用いて行う場合にのみ満足に進行するこ
とが確認され、ここで、アミンと弗化水素との間の比は1:3.5を上回らない
。これに反して、塩化スルフリルを弗素化して塩化弗化スルフリルにする第1段
階は、反応媒体中の弗化水素の含分とは無関係である。本発明の特別な1実施形
によれば、反応媒体中の弗化水素含分が重要でない場合には、同時に、使用済み
付加生成物の再生を行なうことが意図されている。弗化スルフリルの製造の場合
には、第1の反応器中で使用済み付加生成物を大過剰のHFを用いて再生させ、
同時に、反応器中に存在する塩化スルフリルを弗素化して塩化弗化スルフリルに
することを意図している。この場合に、全ての塩化スルフリルが変換されること
は必ずしも必要ではない。この再生の後に弗化水素を留去すると、アミン−HF
−比が1:3.5を下回る所望の値にされる。次いで、反応器内容物を更に変換
して弗化スルフリルにするか又はこの反応を実施するための他の反応器中にそれ
を移すことができる。
【0019】 次の例につき、本発明を詳述するが、本発明はこの範囲に限定されるものでは
ない。これらの例は、変動量のHClを含有するHF−付加生成物を再生できる
だけではなく、むしろ純粋な塩化水素も再生できることを証明している。HCl
が完全に除去される意味での完全な再生は必要ではないが、可能である。使用例
は、残留量のHClを有するHF−付加生成物もまったく弗素化触媒又は弗素化
剤として使用可能であることを明らかにしている。
【0020】 再生された式NH×(1.1〜9)HF×(0.001〜1)HCl又は アミン×(1.1〜9)HF×(0.001〜1)HClの生成物も同様に本発明
の目的物である。1.1〜3HF及び0.001〜0.5HClを有する生成物が
有利である。「アミン」は、NR(ここで、R=C〜C−アルキル基)で
ある。
【0021】 例1: 僅かなHFの使用下でのNBu×1.7HClからNBu×YHFへのリ
サイクリング
【0022】
【表1】
【0023】 実験室用オートクレーブ中にトリブチルアミン×1.7HClを予め装入した
。閉鎖の後に、HF50gを加え、100℃の反応温度で約3時間煮沸した。次
いで、オートクレーブを約60℃の反応温度まで冷却し、ガス相をオートクレー
ブ中で大気圧になるまで、水を有する洗浄瓶中に導びいた。
【0024】 洗浄瓶の塩素−及び弗素分析での測定の結果、オートクレーブ中に残っている
触媒は、今やトリブチルアミン×0.62HCl×7.3HFの組成を有した。
【0025】 この例は、完全に塩化水素の形成下に使用済みHF−付加生成物も再生されう
ることを示している。この再生された触媒は再び弗素化反応で使用できた。次の
例は、この生成物のHCl−含分が更に低下されうることを示している。
【0026】 例2: 過剰のHFの使用下でNBu×0.62HCl×7.3HF中のHCl−含分
を更に減少させてNBu×YHFにする
【0027】
【表2】
【0028】 オートクレーブ中に残っているトリブチルアミン×0.62HCl×7.3HF
の混合物に、新たにHF107gを加え、約100℃で、今回は一晩煮沸した。
次いで、オートクレーブを約60℃の反応温度まで冷却させ、ガス相を大気圧に
なるまで、水を有する洗浄瓶中に導いた。この洗浄瓶の塩素−及び弗素分析によ
り計算すると、オートクレーブ中に残っている触媒は、今やトリブチルアミン×
0.005HCl×4.89HFの組成を有した。この組成は、オートクレーブ中
に残っている残分の直接分析により確かめられた。従って、HClはほぼ完全に
駆出された。アミンの分解生成物は見出されなかった。
【0029】 得られた組成物は、弗素化試薬又は弗素化触媒として優れて使用可能であった
【0030】 例3: 過剰のHFの使用下でのNEt×1.0HClからNEt×YHFへのリ
サイクリング
【0031】
【表3】
【0032】 実施: 実験室用オートクレーブ中にトリエチルアミン塩酸塩を予め装入し、閉鎖した
。その後、HFを加え、100℃の反応温度で一晩煮沸した。引き続き100℃
の反応温度で、ガス相を、大気圧になるまで水の充填された洗浄瓶中に排出させ
た。洗浄瓶の塩素−及び弗素分析により計算すると、オートクレーブ中に残って
いる触媒は、今やトリエチルアミン×0.09HCl×5.35HFの組成を有し
た。この組成は、オートクレーブ中に残っているの残分の直接分析により確かめ
られた。従って、HClは殆ど完全に駆出されていた。このアミンの分解生成物
は見出されなかった。
【0033】 例4: 実験3からの触媒混合物におけるアミン対HFの比を2.8に調節 - 除去 実施: 実験3で得られた混合物トリエチルアミン×0.09HCl×5.35HFをフ
リットを有するPFA−瓶中に充填し、乾燥窒素を用いて過剰のHFを駆出させ
た。瓶の重量が30分間一定になった後に、実質的に全ての残留量のHFを除去
するために、なお10分間10- ミリバールの真空にした。こうして得られた
触媒は、クロリド−、フルオリド−及びアミン分析によれば、今やトリエチルア
ミン×2.8HFの組成を有した。HClはもはや見出されなかった。触媒の再
生利用可能性がこれにより立証された。
【0034】 アミン−HF−比の実施された調節によって、付加生成物の親核性が再形成さ
れる。これは、今やSOClからのSOの製造のための試薬として極
めて好適である。
【0035】 例5及び6: 再生の時間の変動 例5
【0036】
【表4】
【0037】 実施: 実験室用オートクレーブ中にトリエチルアミン塩酸塩を予め装入した。その後
、HFを加え、約100℃の反応温度で1時間15分間煮沸した(オートクレー
ブを15分間予備加熱した)。この時間の後にガス相を油浴中で15分かかって
絶えず排出させ、分析した(試料1)。反応器内容物(18.07g)を、PF
A−瓶中に入れ、窒素で5分間フラッシングし(18.02g)、この溶液から
1.54gを取り出し、蒸留水を充填して1リットルとし、湿式化学的に分析し
た(試料2)。
【0038】 この分析データから、今やNEt×5.75HF×0.08HClの触媒組成
が明らかである。
【0039】 例6
【0040】
【表5】
【0041】 実施: 実験室用オートクレーブ中にトリエチルアミン塩酸塩を予め装入し、閉鎖した
。その後、HFを加え、約100℃の反応温度で30分間煮沸した(オートクレ
ーブを15分間予備加熱した)。この時間の後に、オートクレーブを油浴から取
り出し、かつガス相を15分かかって排出させ、分析した(試料1)。反応器内
容物(20.96g)をPFA−瓶中に入れ、窒素で5分間フラッシングし(2
0.64g)、この溶液から1.1gを取り出し、蒸留水を充填して1リットルに
し、イオンクロマトグラフィで分析した(試料2)。
【0042】 この分析データから、トリエチルアミン×8.48HF×0.14HClの触媒
組成が明らかである。
【手続補正書】特許協力条約第34条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成13年10月26日(2001.10.26)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),AE,AG,A L,AM,AT,AU,AZ,BA,BB,BG,BR ,BY,BZ,CA,CH,CN,CR,CU,CZ, DK,DM,DZ,EE,ES,FI,GB,GD,G E,GH,GM,HR,HU,ID,IL,IN,IS ,JP,KE,KG,KP,KR,KZ,LC,LK, LR,LS,LT,LU,LV,MA,MD,MG,M K,MN,MW,MX,MZ,NO,NZ,PL,PT ,RO,RU,SD,SE,SG,SI,SK,SL, TJ,TM,TR,TT,TZ,UA,UG,US,U Z,VN,YU,ZA,ZW (72)発明者 シュテファン パルスヘルム ドイツ連邦共和国 バールジングハウゼン ベーケシュトラーセ 10 Fターム(参考) 4G069 AA10 BA21A BA21B BB01A BB01B BB01C BD01A BD01B BD01C BD15C BE14A BE14B CB25 CB68 CB69 GA16 4H006 AA02 AC30 BA50 BB30 BC10 BC31 BD20 BE01 4H039 CA51 CD20

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 試薬又は触媒としての弗化オニウム−HF−付加生成物の使
    用下での塩素−弗素−交換又は臭素−弗素−交換により、塩素又は臭素含有化合
    物から弗素含有化合物を製造する場合に、使用済み弗化オニウム−HF−付加生
    成物を、連続的に又は回分的にHFを用いて、液状カルボン酸の存在下に再生さ
    せるか及び/又はトリアルキルアンモニウムフルオリド−HF−付加生成物又は
    環状飽和アミンのHF−付加生成物を再生させることを特徴とする、弗素含有化
    合物を製造する方法。
  2. 【請求項2】 使用済み弗化オニウム−HF−付加生成物は、駆出されるH
    Cl又はHBrを含有する、請求項1に記載の方法。
  3. 【請求項3】 放出されたHCl又はHBrを、不活性ガスの導通又は導過
    により吹き払う、請求項2に記載の方法。
  4. 【請求項4】 -20〜200℃の温度で再生させる、請求項1に記載の方
    法。
  5. 【請求項5】 再生時のアミン対HFの比を1:1.1〜1:3.5の間の値
    に調節する、請求項1に記載の方法。
  6. 【請求項6】 使用済み弗化オニウム−HF−付加生成物は、酸塩化物から
    の酸弗化物の製造又はクロルアルカン又はクロルエーテルからのフルオルアルカ
    ン又はフルオルエーテルの製造に由来する、請求項1に記載の方法。
  7. 【請求項7】 再生を、弗素化試薬としてのHFの使用下で弗素化反応と同
    時に実施する、請求項1に記載の方法。
  8. 【請求項8】 ハロゲン化されたカルボン酸の存在下に操作する、請求項1
    に記載の方法。
  9. 【請求項9】 トリフルオル酢酸の存在下に再生させる、請求項8に記載の
    方法。
  10. 【請求項10】 NH又はNR(ここで、R=飽和C〜C−アルキ
    ルである)をベースとする再生された付加生成物。
JP2001521678A 1999-09-04 2000-08-29 弗化オニウム−hf−付加生成物の再生 Pending JP2003508223A (ja)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19942373 1999-09-04
DE19942373.3 1999-09-04
DE19956365A DE19956365A1 (de) 1999-09-04 1999-11-24 Regenerierung von Oniumfluorid-HF-Addukten
DE19956365.9 1999-11-24
PCT/EP2000/008396 WO2001017931A2 (de) 1999-09-04 2000-08-29 Regenerierung von oniumfluorid-hf-addukten

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003508223A true JP2003508223A (ja) 2003-03-04

Family

ID=26054837

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001521678A Pending JP2003508223A (ja) 1999-09-04 2000-08-29 弗化オニウム−hf−付加生成物の再生

Country Status (6)

Country Link
US (1) US6521199B2 (ja)
EP (1) EP1214278B1 (ja)
JP (1) JP2003508223A (ja)
AT (1) ATE267785T1 (ja)
AU (1) AU7511300A (ja)
WO (1) WO2001017931A2 (ja)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1214278B1 (de) 1999-09-04 2004-05-26 Solvay Fluor und Derivate GmbH Regenerierung von oniumfluorid-hf-addukten
DE10104663A1 (de) * 2001-02-02 2002-08-08 Solvay Fluor & Derivate Herstellung von Fluorverbindungen
FR2843743B1 (fr) * 2002-08-23 2006-02-03 Solvay PROCEDE DE FABRICATION DE SO2F2 ET DE SO2ClF
CN101648873B (zh) * 2009-09-01 2012-09-19 太仓中化环保化工有限公司 一种连续制备三乙胺氟化氢络合物的方法及其用反应装置
CN108689857A (zh) * 2018-07-16 2018-10-23 浙江普康化工有限公司 一种二异丙基乙胺三氢氟酸盐的制备方法

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2442883A1 (de) 1974-09-07 1976-03-18 Bayer Ag Verfahren zur herstellung von carbonsaeurefluoriden
DE2460821A1 (de) 1974-12-21 1976-06-24 Bayer Ag Verfahren zur herstellung von carbonsaeurefluoriden
US4003984A (en) 1975-10-02 1977-01-18 Allied Chemical Corporation Production of sulfuryl fluoride
DE2823969A1 (de) 1978-06-01 1979-12-13 Hoechst Ag Verfahren zur herstellung organischer fluorverbindungen
IT1150046B (it) * 1979-10-12 1986-12-10 Asahi Glass Co Ltd Procedimento per la produzione di teatrafluoruro di zolfo
FR2566769B1 (fr) * 1984-06-27 1987-06-12 Univ Angers Agent de fluoration de composes organiques notamment de composes acetyleniques, leur procede de preparation et leur utilisation dans les reactions d'addition ou de substitution nucleophile
US5498807A (en) * 1992-11-18 1996-03-12 Hoechst Aktiengesellschaft Process for the preparation of aromatic fluoro compounds
EP0634383B1 (de) 1993-07-12 1997-11-05 SOLVAY (Société Anonyme) Verfahren zur Addition von HF an halogenierte Alkene
DE4323054A1 (de) * 1993-07-14 1995-01-19 Hoechst Ag Verfahren zur Herstellung von 2-H-Heptafluorpropan
DE4445529C1 (de) * 1994-12-20 1996-03-21 Hoechst Ag Verfahren zur Aufarbeitung von komplexen Amin-Hydrofluoriden
US5969193A (en) 1997-08-18 1999-10-19 Medeva Pharmaceuticals Pa, Inc. Method for the preparation of sevoflurane
DE19942374A1 (de) * 1998-11-30 2000-05-31 Solvay Fluor & Derivate Verfahren zur Herstellung von Säurefluoriden aus Säurechloriden
EP1214278B1 (de) 1999-09-04 2004-05-26 Solvay Fluor und Derivate GmbH Regenerierung von oniumfluorid-hf-addukten

Also Published As

Publication number Publication date
ATE267785T1 (de) 2004-06-15
US20020173681A1 (en) 2002-11-21
US6521199B2 (en) 2003-02-18
EP1214278B1 (de) 2004-05-26
WO2001017931A2 (de) 2001-03-15
WO2001017931A3 (de) 2001-05-10
EP1214278A2 (de) 2002-06-19
AU7511300A (en) 2001-04-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0657408B1 (fr) Fluoration en phase gazeuse au moyen de catalyseurs cristallisés
JP3804289B2 (ja) 1,1,1,3,3−ペンタフルオロプロパン及び/又は1−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンの製造方法
WO1991004955A1 (en) Fluorocarbon purification process
JPH05508635A (ja) ハロオレフィンのフッ素化
JP4363983B2 (ja) 元素状ハロゲンを用いた触媒−再生
JP2003508223A (ja) 弗化オニウム−hf−付加生成物の再生
WO2014016130A1 (fr) Procédé de préparation d'un composé sulfonimide et de ses sels
JP2001524460A (ja) 弗素含有有機化合物の製造
EP0735023A1 (fr) Réactif et procédé pour la synthèse de dérivés organiques oxysulfurés et fluorés
FR2467176A1 (fr) Procede de production de tetrafluorure de soufre par mise en oeuvre d'un complexe d'amine et d'acide fluorhydrique
US5705717A (en) Fluorination process using hydrogen fluoride-containing fluorinating agents
JP3512459B2 (ja) ペルフルオロアルカンの製造方法
JPH0261446B2 (ja)
JP2003502312A (ja) N−メチル−2−ピロリドンからの汚染物の除去
CA2389803A1 (en) Process for the preparation of halogenated ethanes
JP2002544248A (ja) 1,1,1,2,3,3,3−ヘプタフルオロプロパンの製造
JP2007509056A (ja) ヒドロフルオロカーボンの製造方法
JPS6127322B2 (ja)
JP2523936B2 (ja) ジカルボニルフロライドの製造方法
JP3412246B2 (ja) 2−ハロゲノ−1−アルケン誘導体の製法
JPH07242633A (ja) 5−アミノエチルアミノメチル−2−クロロピリジンの製造方法
JP3192975B2 (ja) ハロゲン化ベンゼンの製造方法
JPH11209312A (ja) ハロゲン化剤の製造方法
JPH10101596A (ja) ジフルオロメタンの製造方法
JP2002540089A (ja) フッ化水素と1,1,1,3,3−ペンタフルオロブタンとの混合物からのフッ化水素の分離方法及び1,1,1,3,3−ペンタフルオロブタンの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070706

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100903

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20101201

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20101208

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20101228

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20110309