JP2003507386A - ホスホノメチルグリシンの製造方法 - Google Patents

ホスホノメチルグリシンの製造方法

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JP2003507386A
JP2003507386A JP2001517538A JP2001517538A JP2003507386A JP 2003507386 A JP2003507386 A JP 2003507386A JP 2001517538 A JP2001517538 A JP 2001517538A JP 2001517538 A JP2001517538 A JP 2001517538A JP 2003507386 A JP2003507386 A JP 2003507386A
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oxide
acid
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phosphonomethyliminodiacetic acid
phosphonomethylglycine
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オウスト，ニコラ，クリスチャン
バッツ，トーマス
フィシャー，マーティン
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BASF SE
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic System
    • C07F9/02—Phosphorus compounds
    • C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/38—Phosphonic acids RP(=O)(OH)2; Thiophosphonic acids, i.e. RP(=X)(XH)2 (X = S, Se)
    • C07F9/3804—Phosphonic acids RP(=O)(OH)2; Thiophosphonic acids, i.e. RP(=X)(XH)2 (X = S, Se) not used, see subgroups
    • C07F9/3808—Acyclic saturated acids which can have further substituents on alkyl
    • C07F9/3813—N-Phosphonomethylglycine; Salts or complexes thereof

Abstract

(57)【要約】 本発明は、N-ホスホノメチルイミノ二酢酸N-オキシドを触媒量のチオシアン酸またはその塩の１種に添加することによってホスホノメチルグリシンを製造する方法に関する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】 本発明は、N-ホスホノメチルイミノ二酢酸N-オキシドからホスホノメチルグリ
シンを製造する方法に関する。
【０００２】 ホスホノメチルグリシンは、グリホサートという一般名で知られており、除草
剤として使用される強力な植物毒性化合物である。
【０００３】 EP-A-439445には、N-ホスホノメチルイミノ二酢酸から出発してホスホノメチ
ルグリシンを製造する方法が記載されている。N-ホスホノメチルイミノ二酢酸を
、水溶液中、然るべき場合には触媒として有効な量の水溶性のモリブデン化合物
の存在下で、過酸化物を用いて酸化することにより、中間体であるN-ホスホノメ
チルイミノ二酢酸N-オキシドを生成させている。続いて、N-オキシドを触媒量の
メタ重亜硫酸化合物および水溶性のモリブデン化合物の存在下でホスホノメチル
グリシンに転化している。
【０００４】 EP-A-464017にも、同じ製造工程を用いてホスホノメチルイミノ二酢酸から出
発してホスホノメチルグリシンを製造する方法が記載されている。酸化による上
記のN-オキシドの生成を、水溶性のモリブデン化合物またはタングステン化合物
の存在下で過酸化物を用いて実施している。次いで、ホスホノメチルグリシンへ
の転化を、触媒として金属の形態の鉄、亜鉛、アルミニウム、バナジウムもしく
は銅を用いて、またはバナジウム塩、鉄(II)塩もしくは銅(I)塩を用いて実施し
ている。
【０００５】 最後に、EP-A-464018にも、ホスホノメチルグリシンの製造方法が記載されて
おり、ホスホノメチルイミノ二酢酸の酸化を、触媒として水溶性のタングステン
化合物の存在下、または水溶性のタングステン化合物とモリブデン化合物との混
合物の存在下で過酸化物を用いて実施している。次いで、N-オキシドを、金属鉄
、水溶性のバナジウム化合物、鉄(II)塩、または水溶性のスルフィド化合物、亜
硫酸化合物もしくは亜硫酸水素化合物と水溶性のモリブデン化合物との混合物に
接触させ、ホスホノメチルグリシンに転化している。
【０００６】 したがって、N-ホスホノメチルイミノ二酢酸N-オキシドをホスホノメチルグリ
シンに転化する場合には容易に還元可能な触媒が用いられる。N-ホスホノメチル
イミノ二酢酸を酸化するには一般に過酸化物が過剰に用いられるので、その結果
、過剰の過酸化物と、容易に酸化可能な触媒との間に反応が生じ、触媒が少なく
ともある程度まで不活性化されることになる。
【０００７】 本発明の目的は、残留酸化剤の存在下でさえホスホノメチルグリシンが迅速に
高収率かつ高選択性で得られる、ホスホノメチルグリシンの製造方法を提供する
ことである。
【０００８】 本発明者らは、驚いたことに、N-ホスホノメチルイミノ二酢酸N-オキシドの酸
化を触媒としてチオシアン酸またはその塩を用いて実施する場合に上記目的が達
成されることを見出した。
【０００９】 したがって、本発明は、N-ホスホノメチルイミノ二酢酸N-オキシドを、然るべ
き場合には共触媒の存在下で、触媒として有効な量のチオシアン酸またはその塩
と接触させることを特徴とする、ホスホノメチルグリシンの製造方法に関する。
【００１０】 N-ホスホノメチルイミノ二酢酸N-オキシドは既知であり、複数の方法によって
製造可能である。N-ホスホノメチルイミノ二酢酸N-オキシドは、米国特許第3,95
0,402号もしくは米国特許第3,954,848号にしたがって、またはHU187,347にした
がって、例えば、銀、鉄、スズ、鉛、マンガンまたはモリブデンの化合物の存在
下で過酸化物を用いて合成できる。しかし、N-オキシド(以下、N-ホスホノメチ
ルイミノ二酢酸N-オキシドをN-オキシドと省略する)は、欧州特許出願EP439445A
、EP464017AまたはEP464018Aに記載された方法の一つによって製造するのが好ま
しい。ここでは、N-ホスホノメチルイミノ二酢酸を、過酸化物、例えば過酸化水
素、過ギ酸、過酢酸、過安息香酸、ペルオキシトリフルオロ酢酸、過酸化ベンゾ
イル、ベンゼンペルスルホン酸などと接触させる。過酸化水素を、特に、N-ホス
ホノメチルイミノ二酢酸を基準として少なくとも化学量論的量で使用するのが好
ましい。過酸化水素は、一般に、10〜70重量％、特に30〜70重量％の濃度で使用
される。反応温度は、一般に、約０℃〜80℃であり、特に約20℃〜約70℃である
。
【００１１】 N-ホスホノメチルイミノ二酢酸の酸化は、触媒量の水溶性のモリブデン化合物
もしくは水溶性のタングステン化合物またはこれらの混合物の存在下で実施する
のが特に好ましい。好適なモリブデン化合物は当業者に公知であり、要求される
のは反応媒体に可溶であるということだけである。
【００１２】 有用なモリブデン化合物は、例えば、モリブデン酸のアルカリ金属塩（モリブ
デン酸ナトリウムなど）、モリブデン酸アンモニウム、またはポリモリブデン酸
のアルカリ金属塩もしくはポリモリブデン酸アンモニウム（ジモリブデン酸アン
モニウム、ジモリブデン酸ナトリウムなど）である。
【００１３】 好適なタングステン化合物は当業者には公知であり、要求されるのは反応媒体
に可溶であるということだけである。有用なタングステン化合物は、例えば、タ
ングステン酸、1,2-タングストリン酸およびタングステン酸バリウムである。タ
ングステン酸アンモニウムおよびタングステン酸のアルカリ金属塩（タングステ
ン酸ナトリウムおよびタングステン酸カリウムなど）が好ましい。
【００１４】 触媒の量は広範囲で変動可能である。一般に、N-ホスホノメチルイミノ二酢酸
の重量を基準として、約0.01〜約5.0重量％、好ましくは約0.01〜約3.0重量％の
触媒が使用される。
【００１５】 過酸化物は、一般に、少なくとも化学量論的量で使用される。ホスホノメチル
イミノ二酢酸の量を基準として、好ましくはわずかに過剰量で、特に約1.02〜1.
20モル当量で、特に好ましくは1.05〜1.15モル当量で使用される。
【００１６】 N-ホスホノメチルイミノ二酢酸の酸化は水性媒体中で実施され、N-ホスホノメ
チルイミノ二酢酸は、最初、懸濁液の形態であり、酸化の進行中に多少溶解する
。N-ホスホノメチルイミノ二酢酸は、高濃度、例えば最大60重量％、特に最大50
重量％の濃度の水性懸濁液の形態で使用するのが好都合である。N-ホスホノメチ
ルイミノ二酢酸は、酸化が終了した場合に溶液が存在するような量で使用するの
が好ましい。懸濁液から溶液への変化は、酸化反応が本質的に終了していること
を示すものである。なぜなら、N-オキシドはN-ホスホノメチルイミノ二酢酸より
もかなり容易に水に溶解するからである。
【００１７】 N-オキシドは、好ましくは、N-オキシドの水溶液から出発して所望のホスホノ
メチルグリシンに転化される。使用される触媒は、チオシアン酸またはその塩で
あり、好ましくは水溶性の塩である。チオシアン酸は、反応温度にて気体であり
、水溶液の形態で使用してもよく、または然るべき場合には窒素などの不活性ガ
スで希釈された気体として使用してもよい。しかし、チオシアン酸の塩、特にア
ルカリ金属塩（チオシアン酸ナトリウムまたはチオシアン酸カリウム）を触媒と
して使用するのが好ましい。
【００１８】 N-オキシドは、転化率を高めるような共触媒の存在下でホスホノメチルグリシ
ンに転化するのが好ましい。適当な共触媒の例は、水溶性の共触媒、例えばバナ
ジウム塩（硫酸バナジルなど）、または水溶性の鉄(II)塩（硫酸鉄(II)もしくは
塩化鉄(II)など）である。しかし、水溶性モリブデン化合物、例えばモリブデン
酸アンモニウムもしくはモリブデン酸のアルカリ金属（モリブデン酸ナトリウム
など）、またはポリモリブデン酸アンモニウムもしくはポリモリブデン酸のアル
カリ金属塩（ジモリブデン酸アンモニウムもしくはジモリブデン酸ナトリウムな
ど）を共触媒として使用するのが好ましい。特に好ましくは、N-ホスホノメチル
イミノ二酢酸の酸化と、それに続くN-オキシドの転化のために同じ触媒、特に上
記のモリブデン化合物のうちの１種が使用される。
【００１９】 チオシアン酸またはその塩の量は、N-ホスホノメチルイミノ二酢酸の酸化に使
用した過酸化物の量とは無関係である。なぜなら、チオシアン酸またはその塩の
作用は、その反応条件下では、存在する可能性のある過剰の過酸化物によって有
害な影響を受けないからである。しかし、一般に、N-オキシドの量を基準として
少なくとも0.01重量％の量で使用される。基本的には、N-オキシドを基準として
10重量％以下、好ましくは８重量％以下の触媒が使用される。その触媒量は、N-
オキシドを基準として0.01〜約6.0重量％、特に0.1〜５重量％の範囲である。
【００２０】 共触媒の量は、N-オキシドを基準として、一般に、約0.01〜約30モル％、好ま
しくは約0.05〜約10モル％の範囲である。N-オキシドの製造およびホスホノメチ
ルグリシンへのその転化のために同じ触媒、特に水溶性モリブデン化合物を使用
する場合、酸化が行われた後、反応混合物から触媒を取り除かずに、転化反応用
の共触媒の添加を省略できるようにする。
【００２１】 一般に、N-オキシドをホスホノメチルグリシンに転化するための反応温度は、
10℃〜100℃、特に30℃〜80℃、好ましくは35℃〜70℃である。転化反応のため
に、N-オキシドは反応チャンバー内で通常の様式で触媒と接触させることができ
る。しかし、反応は、触媒の少なくとも一部と、然るべき場合にはN-オキシドの
一部、例えば最大20％または最大10％とを含む水溶液を導入し、N-オキシドの水
溶液を計量供給するような様式で実施されるのが好ましい。
【００２２】 本明細書において「計量供給する」とは、用いられるN-オキシドを反応チャン
バーに徐々に、すなわちその過程において制御しながら導入し、触媒と特に水溶
液の形態で接触させるという意味であると理解されるべきである。例えば、これ
は、N-オキシド溶液を徐々に加えることによって、またはN-オキシドを段階的に
少しずつ導入することによって行うことができる。
【００２３】 触媒の一部または全部は、最初に反応チャンバーに導入することができる。触
媒の一部のみを導入する場合、残りは、N-オキシドと同時にまたはN-オキシドと
交互に反応チャンバー内に計量供給することができる。あるいは、触媒の全てを
N-オキシドと同時にまたはN-オキシドと交互に反応チャンバー内に計量供給して
もよい。
【００２４】 しかし、反応を実施する場合、反応チャンバーに計量供給したN-オキシドの少
なくとも50％、好ましくは少なくとも70％、特に好ましくは少なくとも90％を確
実に転化させることが常に必要である。転化率は反応中に遊離する二酸化炭素の
量に基づいて容易に測定できる。したがって、N-オキシドの計量供給は、転化反
応中に発生し、かつ既に添加されたN-オキシドの量に対応する二酸化炭素の予測
量の少なくとも50％、好ましくは70％、特に好ましくは90％が、ほんのわずかな
遅れで、一般にせいぜい15分遅れで遊離した後に、さらなるN-オキシド溶液を加
えるというように行う。基本的に、これは、既に計量供給されたN-オキシドを基
準として少なくとも0.01モル％の触媒を確実に反応混合物中に存在させることに
よって達成される。転化反応中、二酸化炭素の放出速度が低下するか、または放
出が途絶えた場合、さらなる触媒を反応混合物に加えることができ、あるいは、
触媒の一部を計量供給する場合、より迅速に計量供給することができる。
【００２５】 共触媒は、触媒と同じ様式でN-オキシドと接触させることができる。
【００２６】 転化反応中、ホスホノメチルグリシンは、反応混合物中の濃度が約1.0重量％
を超えると固体として沈殿する。したがって、反応は、ホスホノメチルグリシン
の大部分が固体として得られるように実施するのが好都合である。基本的に、こ
れは、N-オキシドを反応混合物の総重量に対して少なくとも20重量％の濃度で用
いる場合である。
【００２７】 ホスホノメチルグリシンは、得られた懸濁液から、通常の固体単離技術によっ
て分離することができる。分離前に、混合物を30℃未満に、特に10〜20℃に冷却
するか、および／または１〜20時間撹拌するのが好都合である。ホスホノメチル
グリシンを分取した後に残る、依然としてホスホノメチルグリシンが溶解してい
る母液の少なくとも１部と触媒とを、さらなるN-オキシドの転化に用いてもよい
。
【００２８】 N-オキシドの製造と、それに続くN-オキシドのホスホノメチルグリシンへの転
化の両方は、回分式で、半回分式で（過酸化水素と、N-オキシド溶液と、所望に
より触媒の一部とを計量供給する）、または連続的に（全成分、すなわちN-ホス
ホノメチルイミノ二酢酸、酸化剤、場合によっては触媒、もしくはN-オキシド、
触媒および場合によっては共触媒を同時に計量供給する）実施することができる
。
【００２９】 下記の実施例は本発明を説明するものであり、本発明をなんら限定するもので
はない。
【００３０】実施例１ 38gのN-ホスホノメチルイミノ二酢酸および0.92gのモリブデン酸アンモニウム
四水和物を100mlの水に懸濁し、懸濁液を65℃まで加温する。続いて、20.6gの過
酸化水素溶液(濃度30％)を30分間かけて滴加し、65℃で１時間撹拌を継続すると
、その過程で透明な溶液が形成される。1.6gのチオシアン酸カリウムを10mlの水
に溶解し、生じたN-オキシド溶液に40℃で滴加する。ガスの激しい発生が観察さ
れる。40℃で１時間撹拌を継続し、分離した沈殿物を濾取し、室温で乾燥する。
このような手順により、純度98％の20.9gのN-ホスホノメチルグリシンを単離す
ることができる。これは、使用したN-ホスホノメチルイミノ二酢酸の量を基準と
して収率72％に相当する。
【００３１】実施例２ 60gのN-ホスホノメチルイミノ二酢酸および1.23gのモリブデン酸アンモニウム
四水和物を75mlの水に懸濁し、懸濁液を55℃まで加温する。続いて、19.8gの過
酸化水素溶液(濃度50％)を15分間かけて滴加し、65℃で1.5時間撹拌を継続する
と、その過程で透明な溶液が形成される。次の工程で、0.5mlのチオシアン酸カ
リウム溶液(濃度20％)と、得られたN-オキシド溶液の15％を反応容器に40℃で導
入する。次いで、N-オキシドの滴加を、発生するCO2のモル量が、滴加したN-オ
キシドのモル量の約70％に相当するように行う。例えば、N-オキシド溶液の合計
30％を注入した後に２LのCO2が発生した。この操作により溶液中へのN-オキシド
の蓄積が防止される。CO2発生の速度が低下したら、チオシアン酸カリウム溶液
を、再び生じるCO2の量が滴加したN-オキシドの約70％に相当するように加える
。このようにしてCO2を連続的に発生させる。N-オキシド溶液全部と4.5mlのチオ
シアン酸カリウム溶液を1.5時間かけて滴加した後、さらに15分経過した後には
ガスの発生はもはや観察されない。合計で4.6LのCO2が発生した。溶液を室温ま
で冷却し、分離した沈殿物を吸引濾取し、乾燥させる。35.5gの純粋なN-ホスホ
ノメチルグリシンが単離される。これは使用したN-ホスホノメチルイミノ二酢酸
の量を基準として収率80％に相当する。
【００３２】実施例３ 37gのN-ホスホノメチルイミノ二酢酸および0.72gのモリブデン酸アンモニウム
四水和物を40mlの水に懸濁し、懸濁液を55℃まで加温する。続いて、11.6gの過
酸化水素溶液(濃度50％)を滴加し、65℃で1.5時間撹拌を継続すると、その過程
で透明なN-オキシド溶液が形成される。次の工程で、実施例２で得られた母液0.
5mlと、得られたN-オキシド溶液15mlを反応容器に導入し、次いでN-オキシド溶
液を滴加する。CO2が発生しなくなったら、さらに母液を1mlずつ加える。N-オキ
シド溶液全部と22mlの母液を滴加し、もはやガスの発生が観察されなくなったら
、溶液を冷却する。分離した沈殿物を吸引濾取し、乾燥させる。23.5gの純粋なN
-ホスホノメチルグリシンが単離される。これは使用したN-ホスホノメチルイミ
ノ二酢酸の量を基準として収率85％に相当する。
【００３３】実施例４ 190gのN-ホスホノメチルイミノ二酢酸および4.2gのモリブデン酸アンモニウム
四水和物を300mlの水に懸濁する。66gの過酸化水素溶液(濃度50％)を65℃で１時
間かけて滴加し、65℃で45分間撹拌を継続すると、その過程で透明な溶液が形成
される。このN-オキシド溶液を、100mlの水中の0.64gのチオシアン酸アンモニウ
ムに40℃にて２時間かけて滴加すると、その過程でガスが継続的に発生する。N-
オキシドを依然として計量供給している間でさえ無色の沈殿物が分離する。その
間、合計で17.1Lのガスが発生する。その後、反応混合物を10℃まで冷却し、生
じた沈殿物を吸引濾取し、乾燥させる。110.6gのN-ホスホノメチルグリシン(純
度99％)が単離された。母液の第２の沈殿により、さらに11.1gの純粋なN-ホスホ
ノメチルグリシンが得られる。したがって、合計収率は、使用したN-ホスホノメ
チルイミノ二酢酸の量を基準として85％である。
【００３４】 下記の実施例５および６において、半工業的規模および工業的規模での本発明
の方法を図１および２を参照しながら説明する。図は、本発明の方法を実施する
ための装置を概略的に示すものであり、本発明の方法にとって必須でない部分は
省略されている。
【００３５】実施例５ 加熱および冷却可能な２つの撹拌容器(反応容積は1.0dm3(R1)および2.0dm3(R2
))が直列に接続された撹拌反応器カスケード(図１参照)と、サーモスタット自動
温度調節型流出液容器Ａに、下記のように仕込んだ。
【００３６】
【００３７】 流れ(1)、(2)および(3)を、第１の反応器R1内に65.0±1.0℃にて連続的にポン
プで送り込んだ。得られた、ホスホノメチルイミノ二酢酸N-オキシドの実質的に
透明な溶液を、オーバーフロー５を介して反応器R2内に移送し、R2内に流れ4を3
2.0±2.0℃にて同様に連続的にポンプで送り込んだ。そこから、得られた懸濁液
（目的の生成物であるグリホサートを含む）を、オーバーフロー６を介して流出
液容器Ａに移送した。流出液容器Ａは５℃に維持されており、１時間毎に空にし
た。流出液中に含まれる固体を濾取し、少量の水で洗浄し、40℃で乾燥した。平
均で、90％を超える純度(HPLCにより確認)のグリホサートが91.1g/hで生成した
。
【００３８】実施例６ 加熱および冷却可能な撹拌反応器R1、R2、R3およびR4(反応容積はそれぞれ700
L)が直列に接続された撹拌容器カスケード (図２参照)と、流出液容器Ａに、下
記のように仕込んだ。
【００３９】
【００４０】 流れ(1)、(2)および(3)を、65.0±1.0℃にて第１の反応器R1内に連続的にポン
プで送り込んだ。得られた反応混合物を、オーバーフロー５を介して前記と同じ
温度に保持された第２の反応器R2に移送した。第３の反応器R3に、反応器R2から
オーバーフロー６を介してN-ホスホノメチルイミノ二酢酸N-オキシドの実質的に
透明な溶液を移送し、その反応器R3内に流れ4を連続的にポンプで送り込んだ。
得られた懸濁液（目的の生成物であるグリホサートを含む）を、この第３の反応
器R3から、オーバーフロー７および８を介して、さらなる第２の反応器R4を経て
流出液容器Ａに移送した。容器Ａは5℃に保持され、1時間毎に空にした。流出液
に含まれる固体を濾取し、少量の水で洗浄し、40℃で乾燥させた。平均で、90％
を超える純度(HPLCにより確認)のグリホサートが64.2kg/hで生成した(転化率：9
9％より大、収率：76％)。
【図面の簡単な説明】
【図１】 実施例５において本発明の方法を実施するために使用した装置を概略的に示す
図である。
【図２】 実施例６において本発明の方法を実施するために使用した装置を概略的に示す
図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＭＺ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ，ＵＧ ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ， ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＧ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ， ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，Ｃ Ｈ，ＣＮ，ＣＲ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＤＭ，ＤＺ ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ， ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，Ｋ Ｇ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＡ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ， ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，Ｓ Ｅ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ ，ＴＺ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＡ， ＺＷ (72)発明者 フィシャー，マーティン ドイツ連邦共和国 67071 ルードビヒシ ャーフェン エルビンガー ウェグ １ Ｆターム(参考） 4H039 CA71 CC60 CG90 4H050 AA02 AC50 BA02 BA14 BA30 BA36 BC10 BE32

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 N-ホスホノメチルイミノ二酢酸N-オキシドを、触媒として有
    効な量のチオシアン酸またはその塩と接触させることを特徴とする、N-ホスホノ
    メチルグリシンの製造方法。
  2. 【請求項２】 N-ホスホノメチルイミノ二酢酸N-オキシドを、チオシアン酸
    アンモニウムまたはチオシアン酸のアルカリ金属塩と接触させる、請求項１に記
    載の方法。
  3. 【請求項３】 共触媒をさらに使用する、請求項１または２に記載の方法。
  4. 【請求項４】 使用される共触媒が水溶性のモリブデン化合物、特にモリブ
    デン酸アンモニウムまたはモリブデン酸のアルカリ金属塩である、請求項３に記
    載の方法。
  5. 【請求項５】 反応を10℃〜100℃の温度で行う、請求項１〜４のいずれか
    １項に記載の方法。
  6. 【請求項６】 N-ホスホノメチルイミノ二酢酸N-オキシドの製造を、N-ホス
    ホノメチルイミノ二酢酸を酸化することによって行う、請求項１〜５のいずれか
    １項に記載の方法。
  7. 【請求項７】 酸化を過酸化物を用いて行う、請求項６に記載の方法。
  8. 【請求項８】 酸化を、触媒、特に水溶性のモリブデン化合物の存在下で行
    う、請求項７に記載の方法。
  9. 【請求項９】 N-ホスホノメチルイミノ二酢酸を酸化するための触媒として
    、N-オキシドを転化するための共触媒と同じ触媒を使用する、請求項８に記載の
    方法。
  10. 【請求項１０】 N-ホスホノメチルイミノ二酢酸を、触媒として有効な量の
    水溶性のモリブデン化合物の存在下で過酸化物を用いて酸化することによってN-
    ホスホノメチルイミノ二酢酸N-オキシドを生成させ、次にその反応混合物をチオ
    シアン酸またはその塩と接触させる、請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法
    。
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