JPS5950659B2 - キシレンの側鎖アセトキシ化合物の製造法 - Google Patents
キシレンの側鎖アセトキシ化合物の製造法Info
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- JPS5950659B2 JPS5950659B2 JP55179528A JP17952880A JPS5950659B2 JP S5950659 B2 JPS5950659 B2 JP S5950659B2 JP 55179528 A JP55179528 A JP 55179528A JP 17952880 A JP17952880 A JP 17952880A JP S5950659 B2 JPS5950659 B2 JP S5950659B2
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- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はキシレンを酢酸の存在下、分子状酸素で液相酸
化して側鎖アセトキシ化合物を製造する方法に関する。
化して側鎖アセトキシ化合物を製造する方法に関する。
本発明で得られるキシレンの側鎖アセトキシ化合物は、
例えばＰ−キシレンモノアセテート、ｐ−キシレンジア
セテートなどであり、香料、溶剤などの用途を有し、ま
た工業薬品の中間体として工業的に有用な物質である。
例えばＰ−キシレンモノアセテート、ｐ−キシレンジア
セテートなどであり、香料、溶剤などの用途を有し、ま
た工業薬品の中間体として工業的に有用な物質である。
酢酸の存在下にメチルベンゼン類の側鎖を酸化してアセ
トキシメチルベンゼンを合成する反応において、触媒と
してパラジウムが有効であることは知られている。
トキシメチルベンゼンを合成する反応において、触媒と
してパラジウムが有効であることは知られている。
例えば、均一系触媒を用いた例としては、ＴｈｅＪｏｕ
ｍａｌｏｆＯｒｇａｎｉｃＣｈｅｍｉｓｔｒｙＮＶｏｌ
） ３４、Ｎｏ、４、１１０６〜１１０８（１９６９）
に触媒として酢酸パラジウムを使用し、酢酸中、酢酸カ
リウム、酢酸スズおよび活性炭の存在下にキシレンを空
気酸化してキシリレンジアセテートを合成する方法が報
吉されている。
ｍａｌｏｆＯｒｇａｎｉｃＣｈｅｍｉｓｔｒｙＮＶｏｌ
） ３４、Ｎｏ、４、１１０６〜１１０８（１９６９）
に触媒として酢酸パラジウムを使用し、酢酸中、酢酸カ
リウム、酢酸スズおよび活性炭の存在下にキシレンを空
気酸化してキシリレンジアセテートを合成する方法が報
吉されている。
しかし、この方法は触媒として使用する酢酸パラジウム
の活性の持続性、あるいは均一系触媒であるため、高価
なパラジウムの反応液からの分離、回収等に問題があり
、工業的製造方法とは言い難い。
の活性の持続性、あるいは均一系触媒であるため、高価
なパラジウムの反応液からの分離、回収等に問題があり
、工業的製造方法とは言い難い。
また、メチルベンゼンのアセトキシル化反応において、
パラジウムの回収、再使用が容易であると言うことで各
種担持触媒を用いた方法も報告されている。
パラジウムの回収、再使用が容易であると言うことで各
種担持触媒を用いた方法も報告されている。
例えば、特公昭５０−２８９４５には、活性炭に担持し
たパラジウムを用いる方法、特開昭５０−１０８２３２
には、パラジウム、アンチモン及びアルカリ金属、アル
カリ土類金属、亜鉛、カドミウム及び鉛から選ばれる少
くとも１種の金属のカルボン酸塩を担体に付けた触媒の
存在下反応を行なう方法、又特開昭５３−１４７０３９
にはパラジウム、ヒ素、アルカリ金属またはアルカリ土
類金属からなる触媒の存在下に反応を行なう方法などが
開示されており、それぞれ触媒の活性及び寿命が改善さ
″れている。しかしながら、これらの方法においてはト
ルエンのアセトキシル化については良い結果を与えてい
るもの・トルエンの場合と比較してキシレンの場合は反
応が困難であり、必ずしも満足すべき結−果は得られて
いない。
たパラジウムを用いる方法、特開昭５０−１０８２３２
には、パラジウム、アンチモン及びアルカリ金属、アル
カリ土類金属、亜鉛、カドミウム及び鉛から選ばれる少
くとも１種の金属のカルボン酸塩を担体に付けた触媒の
存在下反応を行なう方法、又特開昭５３−１４７０３９
にはパラジウム、ヒ素、アルカリ金属またはアルカリ土
類金属からなる触媒の存在下に反応を行なう方法などが
開示されており、それぞれ触媒の活性及び寿命が改善さ
″れている。しかしながら、これらの方法においてはト
ルエンのアセトキシル化については良い結果を与えてい
るもの・トルエンの場合と比較してキシレンの場合は反
応が困難であり、必ずしも満足すべき結−果は得られて
いない。
本発明者は、キシレンと酢酸を分子状酸素により直接反
応させ、キシレンの側鎖アセトキシ化合物を製造する方
法において、主触媒であるパラジウムを回収し、かつパ
ラジウム１ｇ原子当りの目的生成物の収率を高めること
を目的として鋭意研究を行なつた結果、本発明を完成し
た。
応させ、キシレンの側鎖アセトキシ化合物を製造する方
法において、主触媒であるパラジウムを回収し、かつパ
ラジウム１ｇ原子当りの目的生成物の収率を高めること
を目的として鋭意研究を行なつた結果、本発明を完成し
た。
即ち本発明はキシレンと酢酸を分子状酸素で液相酸化し
、キシレンの側鎖アセトキシ化合物を製造する方法にお
いて、（１）活性炭に担持したパラジウム、（２）アル
カリ金属又はその酢酸塩、及び（３）、（ａ）コバルト
又はその酢酸塩、（ｂ）ニッケルー又はその酢酸塩、（
ｃ）錫又はその酢酸塩よりなる群から選ばれた二種以上
、からなる触媒を使用する方法である。
、キシレンの側鎖アセトキシ化合物を製造する方法にお
いて、（１）活性炭に担持したパラジウム、（２）アル
カリ金属又はその酢酸塩、及び（３）、（ａ）コバルト
又はその酢酸塩、（ｂ）ニッケルー又はその酢酸塩、（
ｃ）錫又はその酢酸塩よりなる群から選ばれた二種以上
、からなる触媒を使用する方法である。
本発明においてパラジウムは活性炭に担持する事が必要
であり、活性炭以外の担体、たとえば活性アルミナ、ア
ランダム、シリカゲル等に担持しても活性が低い。
であり、活性炭以外の担体、たとえば活性アルミナ、ア
ランダム、シリカゲル等に担持しても活性が低い。
パラジウムを活性炭に担持する方法は酢酸パラジウム、
硝酸パラジウム、塩化パラジウム、パラジウムアセチル
アセトナート等のパラジウム化合物を水あるいは酸に溶
解し、含浸法、噴霧法等により担体上に０．５〜１０重
量％の範囲で均一に分散させた後還元処理することによ
り行なうことが出来る。パラジウム以外の触媒成分はパ
ラジウムと共に活性炭に担持してもよく、又担持せず反
応液に分散して使用してもよい。
硝酸パラジウム、塩化パラジウム、パラジウムアセチル
アセトナート等のパラジウム化合物を水あるいは酸に溶
解し、含浸法、噴霧法等により担体上に０．５〜１０重
量％の範囲で均一に分散させた後還元処理することによ
り行なうことが出来る。パラジウム以外の触媒成分はパ
ラジウムと共に活性炭に担持してもよく、又担持せず反
応液に分散して使用してもよい。
これらの触媒成分を活性炭に担持させる方法はパラジウ
ムの場合と同様である。たとえばカリウム、ナトリウム
、リチウム等のアルカリ金属の場合はこれらの水酸化物
、酢酸塩、炭酸塩、硝酸塩等をパラジウムを同時に又は
別々にパラジウム１ｇ原子に対し０．５ｇ原子以上、好
ましくは２〜１０ｇ原子の範囲で担持させ還元する。こ
れらをパラジウム１ｇ原子当り０．５ｇ原子以上、好ま
しくは１〜８ｇ原子の範囲で活性炭上に担持し還元すれ
ばよい。担体として用いる活性炭は一般に市販されてい
る活性炭をそのま・又はあらかじめ酸処理して使うこと
が出来る。触媒成分の還元方法は水素又は還元力のある
有機化合物の気流中での還元、あるいはヒドラジンまた
はホルマリンによる還元など周知の方法が利用できる。
還元温度は２００〜４００℃の範囲が、また還元時間は
１時間以上が適当である。触媒の使用量は活性炭担持パ
ラジウム触媒の５〜３０重量％が好ましい。
ムの場合と同様である。たとえばカリウム、ナトリウム
、リチウム等のアルカリ金属の場合はこれらの水酸化物
、酢酸塩、炭酸塩、硝酸塩等をパラジウムを同時に又は
別々にパラジウム１ｇ原子に対し０．５ｇ原子以上、好
ましくは２〜１０ｇ原子の範囲で担持させ還元する。こ
れらをパラジウム１ｇ原子当り０．５ｇ原子以上、好ま
しくは１〜８ｇ原子の範囲で活性炭上に担持し還元すれ
ばよい。担体として用いる活性炭は一般に市販されてい
る活性炭をそのま・又はあらかじめ酸処理して使うこと
が出来る。触媒成分の還元方法は水素又は還元力のある
有機化合物の気流中での還元、あるいはヒドラジンまた
はホルマリンによる還元など周知の方法が利用できる。
還元温度は２００〜４００℃の範囲が、また還元時間は
１時間以上が適当である。触媒の使用量は活性炭担持パ
ラジウム触媒の５〜３０重量％が好ましい。
本発明によるキシレンと酢酸の分子状酸素による液相酸
化反応は以上の様にして調製された触媒の存在下、連続
法、半連続法、回分法のいずれでも実施できる。
化反応は以上の様にして調製された触媒の存在下、連続
法、半連続法、回分法のいずれでも実施できる。
反応圧力は常圧〜２０ｋｇ／ＣＩｎ２の範囲が一般であ
るが、触媒の過剰酸素による劣化あるいは反応速度の低
下を考慮し５〜１０ｋｇ／―の範囲が特に好ましい反応
温度は８０〜１８０℃で実施されるが、反応速度及び副
反応などを考慮すれば１２０〜１５０℃の範囲が好まし
い。
るが、触媒の過剰酸素による劣化あるいは反応速度の低
下を考慮し５〜１０ｋｇ／―の範囲が特に好ましい反応
温度は８０〜１８０℃で実施されるが、反応速度及び副
反応などを考慮すれば１２０〜１５０℃の範囲が好まし
い。
反応時間は反応温度、反応圧力などによつて異なるが、
４〜１０時間が好適である。
４〜１０時間が好適である。
また、分子状酸素は純粋な酸素である必要はなく、不活
性ガスで希釈された酸素、例えば空気でも良い。
性ガスで希釈された酸素、例えば空気でも良い。
空気を使用する場合、反応系中に導入する量は使用する
キシレン１モルに対して毎分０．０１〜０．１モルの流
速で導入することが好ましい。活性炭担持触媒の使用量
はパラジウムとして使用するキシレン１モルに対して０
．００５〜０．０５ｇ原子使用するのが好ましい。酢酸
の使用量は限定的でないが、キシレンに対して２〜２０
倍モルの範囲が好適である。
キシレン１モルに対して毎分０．０１〜０．１モルの流
速で導入することが好ましい。活性炭担持触媒の使用量
はパラジウムとして使用するキシレン１モルに対して０
．００５〜０．０５ｇ原子使用するのが好ましい。酢酸
の使用量は限定的でないが、キシレンに対して２〜２０
倍モルの範囲が好適である。
酢酸は溶媒としての機能も果すので特に溶媒を加える必
要はない。反応液から反応生成物を回収するに当つては
、従来公知の方法、例えば反応液を淵過した後、沢液を
蒸留することによつて容易に回収することができる。
要はない。反応液から反応生成物を回収するに当つては
、従来公知の方法、例えば反応液を淵過した後、沢液を
蒸留することによつて容易に回収することができる。
また、反応液から活性炭担持パラジウム触媒を回収する
に当つては、従来公知の方法、例えば反応液を淵過する
ことによつて容易に回収でき、しかもパラジウムの反応
液中への溶出による損失も少なく、そのま・あるいは場
合により再度活性化することにより反応に再利用するこ
とができる。
に当つては、従来公知の方法、例えば反応液を淵過する
ことによつて容易に回収でき、しかもパラジウムの反応
液中への溶出による損失も少なく、そのま・あるいは場
合により再度活性化することにより反応に再利用するこ
とができる。
本発明によればキシレンから収率よくキシレンの側鎖ア
セトキシ化合物を得ることができ、さらに本反応の主触
媒であるパラジウムを容易に回収、再使用ができるので
、キシレンの側鎖アセトキシ化合物の工業的製造方法と
して極めて有利である。次に、実施例を挙げて本発明を
さらに詳細に説明する。
セトキシ化合物を得ることができ、さらに本反応の主触
媒であるパラジウムを容易に回収、再使用ができるので
、キシレンの側鎖アセトキシ化合物の工業的製造方法と
して極めて有利である。次に、実施例を挙げて本発明を
さらに詳細に説明する。
なお、各例で用いた反応器は内容積２７０ｍ１のＳＵＳ
−３２製電磁攪拌式オートクレーブである。
−３２製電磁攪拌式オートクレーブである。
実施例１酢酸５００ｍ１に酢酸パラジウム０．９５ｇ、
酢酸ニッケル（４水塩）３．２ｇ、酢酸スズ１．５ｇ及
び酢酸カリウム１．９ｇをそれぞれ溶解させた後、日本
カーボン製活性炭ＡＣＷ−ＴＨｌ５．Ｏｇを浸漬させ、
約７０℃で１時間で攪拌した。
酢酸ニッケル（４水塩）３．２ｇ、酢酸スズ１．５ｇ及
び酢酸カリウム１．９ｇをそれぞれ溶解させた後、日本
カーボン製活性炭ＡＣＷ−ＴＨｌ５．Ｏｇを浸漬させ、
約７０℃で１時間で攪拌した。
次いで、ロータリー・エバポレーターで減圧下酢酸を除
去した後、還元炉に入れ、先ずチッ素気流下２００℃で
２時間乾燥し、次いで、水素気流下２００℃で２時間さ
らに４００℃で２時間還元した。この様にして調製した
触媒は金属パラジウム３重量％を含み、さらにニッケル
、スズ及び功リウムをそれぞれ５重量％を含み、パラジ
ウムニニツケノレニスズニカリウムの原子比は１：３：
１．５：４．５であつた。この様にして得られた触媒１
５ｇを上記反応器に入れ、さらにＰ−キシレン２１．２
ｇ、酢酸９６．４ｇを入れ、温度を１３０℃に設定し、
空気を１００ｍ１／Ｍｉｎの速度で導入しながら内圧を
５．０ｋｇ／Ｃｍ・に保持し、５時間反応を行なつた。
去した後、還元炉に入れ、先ずチッ素気流下２００℃で
２時間乾燥し、次いで、水素気流下２００℃で２時間さ
らに４００℃で２時間還元した。この様にして調製した
触媒は金属パラジウム３重量％を含み、さらにニッケル
、スズ及び功リウムをそれぞれ５重量％を含み、パラジ
ウムニニツケノレニスズニカリウムの原子比は１：３：
１．５：４．５であつた。この様にして得られた触媒１
５ｇを上記反応器に入れ、さらにＰ−キシレン２１．２
ｇ、酢酸９６．４ｇを入れ、温度を１３０℃に設定し、
空気を１００ｍ１／Ｍｉｎの速度で導入しながら内圧を
５．０ｋｇ／Ｃｍ・に保持し、５時間反応を行なつた。
反応液は触媒を濾過して分離後ガスクロマトグラフィー
で分析した。その結果、Ｐ−キシレンの転化率は８０．
５％、Ｐ−キシレンモノアセテート及びＰーキシリレン
ジアセテートの生成率はそれぞれ４８．８％及び８．７
％であつた。また、パラジウム１ｇ原子当りの収率はそ
れぞれ２３２０モル％及び４１０モル％であつた。なお
、反応液中のパラジウムの量を分析したところ、２ｐｐ
ｎであつた。これは反応に使用した全パラジウムの０．
０７％に相当し、回収した触媒はそのま・再使用で゛き
る。実施例２ 実施例１の触媒調製において、酢酸スズのかわりに酢酸
コバルト （４水塩）を３．１７ｇ使用した以外は実施
例１と同様にして触媒を調製し、パラジウム３重量％、
ニッケル、コバルト及びカリウムをそれぞれ５重量％含
み、パラジウムニニツケルニコバルトニカリウムの原子
比が１：３：３：４．５の触媒を調製した。
で分析した。その結果、Ｐ−キシレンの転化率は８０．
５％、Ｐ−キシレンモノアセテート及びＰーキシリレン
ジアセテートの生成率はそれぞれ４８．８％及び８．７
％であつた。また、パラジウム１ｇ原子当りの収率はそ
れぞれ２３２０モル％及び４１０モル％であつた。なお
、反応液中のパラジウムの量を分析したところ、２ｐｐ
ｎであつた。これは反応に使用した全パラジウムの０．
０７％に相当し、回収した触媒はそのま・再使用で゛き
る。実施例２ 実施例１の触媒調製において、酢酸スズのかわりに酢酸
コバルト （４水塩）を３．１７ｇ使用した以外は実施
例１と同様にして触媒を調製し、パラジウム３重量％、
ニッケル、コバルト及びカリウムをそれぞれ５重量％含
み、パラジウムニニツケルニコバルトニカリウムの原子
比が１：３：３：４．５の触媒を調製した。
この様にして得た触媒１５ｇを使用し、実施例１と同様
な方法で反応を行なつた。
な方法で反応を行なつた。
その結果、ｐキシレンの転化率は７６．５％、Ｐ−キシ
レンモノアセテート及びＰーキシリレンジアセテートの
生成率はそれぞれ４７．７％及び６．１％であつた。ま
た、パラジウム１ｇ原子当りの収率はそれぞれ２２７０
モル％及び２９０モル％であつた。実施例３ 実施例１と同様にして調製した触媒を使用し、反応温度
１５０℃、反応圧力を１０ｋｇ／ＣＩＩｌ２とした以外
は実施例１と同様にして反応を行なつた。
レンモノアセテート及びＰーキシリレンジアセテートの
生成率はそれぞれ４７．７％及び６．１％であつた。ま
た、パラジウム１ｇ原子当りの収率はそれぞれ２２７０
モル％及び２９０モル％であつた。実施例３ 実施例１と同様にして調製した触媒を使用し、反応温度
１５０℃、反応圧力を１０ｋｇ／ＣＩＩｌ２とした以外
は実施例１と同様にして反応を行なつた。
その結果、Ｐ−キシレンの転化率は８２．５％、Ｐ−キ
シレンモノアセテート及びＰーキシリレンジアセテート
の生成率はそれぞれ４０．５％及び４．７％であり、パ
ラジウム１ｇ原子当りの収率はそれぞれ１９３０モル％
及び２２０モル％であつた。実施例４ 実施例１と同様の方法によつて酢酸パラジウム０．９５
ｇを活性炭に担持させ、還元処理し、金属パラジウム３
重量％を含む活性炭担持パラジウム触媒を調製した。
シレンモノアセテート及びＰーキシリレンジアセテート
の生成率はそれぞれ４０．５％及び４．７％であり、パ
ラジウム１ｇ原子当りの収率はそれぞれ１９３０モル％
及び２２０モル％であつた。実施例４ 実施例１と同様の方法によつて酢酸パラジウム０．９５
ｇを活性炭に担持させ、還元処理し、金属パラジウム３
重量％を含む活性炭担持パラジウム触媒を調製した。
この様にして得た触媒１５．０ｇを反応器に入れ、さら
にＰ−キシレン２１．２ｇ、助触媒として酢酸９６．４
ｇに溶解した酢酸ニッケル（４水塩）３．０ｇ、酢酸ス
ズ１．５ｇ及び酢酸カリウム３．０ｇをそれぞれ入れ、
実施例１と同様な反応条件で反応を行なつた。その結果
、Ｐ−キシレンの転化率は８１．７％、Ｐ−キシレンモ
ノアセテート及びｐキシリレンジアセテートの生成率は
それぞれ４７．０％及び７．３％であり、パラジウム１
ｇ原子当りの収率はそれぞれ２２４０モル％及び３５０
モル％であつた。実施例５ 実施例１と同様の方法によつて酢酸パラジウム０．４８
ｇ、酢酸ニッケル（４水塩）３．２ｇ、酢酸コバルト
（４水塩）３．１７ｇ及び酢酸カリウム１．９ｇを活性
炭に担持させ、還元処理し、金属パラジウノムを１．５
重量％、ニッケル、コバルト及びカリウムをそれぞれ５
重量％含み、パラジウムニニツケルニコバルトニカリウ
ムの原子比が１：６：６：９の触媒を調製した。
にＰ−キシレン２１．２ｇ、助触媒として酢酸９６．４
ｇに溶解した酢酸ニッケル（４水塩）３．０ｇ、酢酸ス
ズ１．５ｇ及び酢酸カリウム３．０ｇをそれぞれ入れ、
実施例１と同様な反応条件で反応を行なつた。その結果
、Ｐ−キシレンの転化率は８１．７％、Ｐ−キシレンモ
ノアセテート及びｐキシリレンジアセテートの生成率は
それぞれ４７．０％及び７．３％であり、パラジウム１
ｇ原子当りの収率はそれぞれ２２４０モル％及び３５０
モル％であつた。実施例５ 実施例１と同様の方法によつて酢酸パラジウム０．４８
ｇ、酢酸ニッケル（４水塩）３．２ｇ、酢酸コバルト
（４水塩）３．１７ｇ及び酢酸カリウム１．９ｇを活性
炭に担持させ、還元処理し、金属パラジウノムを１．５
重量％、ニッケル、コバルト及びカリウムをそれぞれ５
重量％含み、パラジウムニニツケルニコバルトニカリウ
ムの原子比が１：６：６：９の触媒を調製した。
この様にして得た触媒１５．０ｇを使用して、実施７例
１と同様の方法で反応を行なつた。
１と同様の方法で反応を行なつた。
その結果、Ｐ−キシレンの転化率は８２．８％、Ｐ−キ
シレンモノアセテート及びＰーキシリレンジアセテート
の生成率はそれぞれ４９．４％及び５．２％であり、パ
ラジウム１ｇ原子当りの収率はそれぞれ４４９０モル％
９及び４７０モル％であつた。実施例６ 実施例４で反応液から分離した触媒をチッ素気流下２０
０℃で２時間乾燥し、回収活性炭担持パラジウム触媒を
得た。
シレンモノアセテート及びＰーキシリレンジアセテート
の生成率はそれぞれ４９．４％及び５．２％であり、パ
ラジウム１ｇ原子当りの収率はそれぞれ４４９０モル％
９及び４７０モル％であつた。実施例６ 実施例４で反応液から分離した触媒をチッ素気流下２０
０℃で２時間乾燥し、回収活性炭担持パラジウム触媒を
得た。
この回収触媒１５．０ｇと他に助触媒として酢酸ニッケ
ル（４水塩）３．０ｇ、酢酸スズ１．５ｇ及び酢酸カリ
ウム３．０ｇを使用し、実施例１と同様の方法で反応を
行なつた。その結果、Ｐ−キシレンの転化率は８０．８
％、ｐ−キシレンモノアセテート及びＰーキシリレンジ
アセテートの生成率はそれぞれ４８．５％及び６．５％
であつた。
ル（４水塩）３．０ｇ、酢酸スズ１．５ｇ及び酢酸カリ
ウム３．０ｇを使用し、実施例１と同様の方法で反応を
行なつた。その結果、Ｐ−キシレンの転化率は８０．８
％、ｐ−キシレンモノアセテート及びＰーキシリレンジ
アセテートの生成率はそれぞれ４８．５％及び６．５％
であつた。
実施例７
実施例１における触媒調製法において、酢酸ニッケル（
４水塩）の代りに酢酸コバルト （４水塩）を３．１７
ｇ使用した以外は実施例１と同様の方法でパラジウム３
重量％、錫、コバルト及びカリウムをそれぞれ５重量％
含み、パラジウムニ錫：コバルトニカリウムの原子比が
１：１．５：３：４．５の触媒を調製した。
４水塩）の代りに酢酸コバルト （４水塩）を３．１７
ｇ使用した以外は実施例１と同様の方法でパラジウム３
重量％、錫、コバルト及びカリウムをそれぞれ５重量％
含み、パラジウムニ錫：コバルトニカリウムの原子比が
１：１．５：３：４．５の触媒を調製した。
このようにして得た触媒１５ｇを使用し、実施例１と同
様な方法で反応を行なつた結果、Ｐ−キシレンの転化率
は７２．４％、Ｐ−キシレンモノアセテート及びＰ−キ
シレシジアセテートの生成率はそれぞれ４２．１％及び
５．５％であつた。
様な方法で反応を行なつた結果、Ｐ−キシレンの転化率
は７２．４％、Ｐ−キシレンモノアセテート及びＰ−キ
シレシジアセテートの生成率はそれぞれ４２．１％及び
５．５％であつた。
又パラジウム１ｇ原子当りの収゛率はそれぞれ２０００
モル％及び２６０モル％であつた。比較例１ 実施例１の方法と同様の方法によつて、酢酸パラジウム
０．９５ｇ及び酢酸カリウム１．９ｇを活性炭・に担持
させた後、還元処理した。
モル％及び２６０モル％であつた。比較例１ 実施例１の方法と同様の方法によつて、酢酸パラジウム
０．９５ｇ及び酢酸カリウム１．９ｇを活性炭・に担持
させた後、還元処理した。
この様にして調製した触媒はパラジウム３重量％及び功
リウム５重量％を含み、パラジウムニカリウムの原子比
は１：４．５の組成を有していた。この触媒１５．０ｇ
を使用して実施例１と同様の方法で反応を行なつ．た。
その結果、Ｐ−キシレンの転化率は１４．５％、Ｐ−キ
シレンモノアセテート及びＰーキシリレンジアセテート
の生成率はそれぞれ５．１％及び２．１％であり、パラ
ジウム１ｇ原子当りの収率はそれぞれ２４０モル％及び
１００モル％であつた。比較例２実施例１の方法と同様
の方法によつて、酢酸パラジウム０．９５ｇ、酢酸ニッ
ケル（４水塩）３．２ｇ、酢酸カリウム１．９ｇを活性
炭に担持させた後還元処理した。
リウム５重量％を含み、パラジウムニカリウムの原子比
は１：４．５の組成を有していた。この触媒１５．０ｇ
を使用して実施例１と同様の方法で反応を行なつ．た。
その結果、Ｐ−キシレンの転化率は１４．５％、Ｐ−キ
シレンモノアセテート及びＰーキシリレンジアセテート
の生成率はそれぞれ５．１％及び２．１％であり、パラ
ジウム１ｇ原子当りの収率はそれぞれ２４０モル％及び
１００モル％であつた。比較例２実施例１の方法と同様
の方法によつて、酢酸パラジウム０．９５ｇ、酢酸ニッ
ケル（４水塩）３．２ｇ、酢酸カリウム１．９ｇを活性
炭に担持させた後還元処理した。
この様にして調製した触媒はパラジウム３重量％、ニッ
ケル及びカリウムをそれぞれ５重量％含み、パラジウム
ニニツケルニカリウムの原子比は１：３：４．５であつ
た。この触媒１５ｇを使用して実施例１と同様の方法で
反応を行なつた。その結果、Ｐ−キシレンの転化率４５
．５％、Ｐ−キシレンモノアセテート及びＰーキシリレ
ンジアセテートの生成率はそれぞれ２３．６％及び３．
８％であり、パラジウム１ｇ原子当りの収率はそれぞれ
１１２０モル％及び１８０モル％であつた。比較例３比
較例２の触媒調製法において、酢酸ニッケルの代りに酢
酸コバルト （４水塩）３．１７ｇを使用した他は比較
例２と同様に触媒を調製し、パラジウム３重量％、コバ
ルト及びカリウムをそれぞれ５重量％含み、パラジウム
ニコバルトニカリウムの原子比が１：３：４．５を有す
る触媒を得た。
ケル及びカリウムをそれぞれ５重量％含み、パラジウム
ニニツケルニカリウムの原子比は１：３：４．５であつ
た。この触媒１５ｇを使用して実施例１と同様の方法で
反応を行なつた。その結果、Ｐ−キシレンの転化率４５
．５％、Ｐ−キシレンモノアセテート及びＰーキシリレ
ンジアセテートの生成率はそれぞれ２３．６％及び３．
８％であり、パラジウム１ｇ原子当りの収率はそれぞれ
１１２０モル％及び１８０モル％であつた。比較例３比
較例２の触媒調製法において、酢酸ニッケルの代りに酢
酸コバルト （４水塩）３．１７ｇを使用した他は比較
例２と同様に触媒を調製し、パラジウム３重量％、コバ
ルト及びカリウムをそれぞれ５重量％含み、パラジウム
ニコバルトニカリウムの原子比が１：３：４．５を有す
る触媒を得た。
この様にして得た触媒１５ｇを使用して実施例１と同様
な方法で反応を行なつた。その結果Ｐ−キシレンの転化
率は４３．８％、Ｐ−キシレンモノアセテート及びＰー
キシリレンジアセテートの生成率はそれぞれ２７．６％
及び３．８％であり、パラジウム１ｇ原子当りの収率は
それぞれ１３１０モル％及び１８０モル％であつた。比
較例４ 実施例１の触媒調製法において、担体として活性炭の代
りに水沢化学製ネオビードＣ−４を使用した以外は実施
例１の場合と同様の方法によつて触媒を調製し、実施例
１と同様な各触媒成分の含量及び組成を有する触媒を得
た。
な方法で反応を行なつた。その結果Ｐ−キシレンの転化
率は４３．８％、Ｐ−キシレンモノアセテート及びＰー
キシリレンジアセテートの生成率はそれぞれ２７．６％
及び３．８％であり、パラジウム１ｇ原子当りの収率は
それぞれ１３１０モル％及び１８０モル％であつた。比
較例４ 実施例１の触媒調製法において、担体として活性炭の代
りに水沢化学製ネオビードＣ−４を使用した以外は実施
例１の場合と同様の方法によつて触媒を調製し、実施例
１と同様な各触媒成分の含量及び組成を有する触媒を得
た。
Claims (1)
- １ キシレンと酢酸を分子状酸素で液相酸化しキシレン
の側鎖アセトキシ化合物を製造する方法において、（１
）活性炭に担持したパラジウム、（２）アルカリ金属又
はその酢酸塩、及び（３）、（ａ）コバルト又はその酢
酸塩、（ｂ）ニッケル又はその酢酸塩、（ｃ）錫又はそ
の酢酸塩、よりなる群から選ばれた二種以上、からなる
触媒を使用することを特徴とするキシレンの側鎖アセト
キシ化合物の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55179528A JPS5950659B2 (ja) | 1980-12-18 | 1980-12-18 | キシレンの側鎖アセトキシ化合物の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55179528A JPS5950659B2 (ja) | 1980-12-18 | 1980-12-18 | キシレンの側鎖アセトキシ化合物の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57102840A JPS57102840A (en) | 1982-06-26 |
| JPS5950659B2 true JPS5950659B2 (ja) | 1984-12-10 |
Family
ID=16067330
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP55179528A Expired JPS5950659B2 (ja) | 1980-12-18 | 1980-12-18 | キシレンの側鎖アセトキシ化合物の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5950659B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0295565A (ja) * | 1988-09-29 | 1990-04-06 | Mazda Motor Corp | 自動水研装置 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6401814B2 (ja) * | 2017-04-10 | 2018-10-10 | 田中貴金属工業株式会社 | 塩酸酸性Ｓｎ含有貴金属触媒回収液からの貴金属の回収方法 |
-
1980
- 1980-12-18 JP JP55179528A patent/JPS5950659B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0295565A (ja) * | 1988-09-29 | 1990-04-06 | Mazda Motor Corp | 自動水研装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57102840A (en) | 1982-06-26 |
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