JP2003504709A - 多変数プロセスマトリクス表示およびそれに関する方法 - Google Patents

多変数プロセスマトリクス表示およびそれに関する方法

Info

Publication number
JP2003504709A
JP2003504709A JP2001508654A JP2001508654A JP2003504709A JP 2003504709 A JP2003504709 A JP 2003504709A JP 2001508654 A JP2001508654 A JP 2001508654A JP 2001508654 A JP2001508654 A JP 2001508654A JP 2003504709 A JP2003504709 A JP 2003504709A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
variables
graphical
variable
control
displaying
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2001508654A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2003504709A5 (ja
Inventor
ガーライン,ステファニー・エイ・イー
ジャミーソン,グレゴリー・エイ
ブレマー,ピーター・ティー
Original Assignee
ハネウェル・インコーポレーテッド
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ハネウェル・インコーポレーテッド filed Critical ハネウェル・インコーポレーテッド
Publication of JP2003504709A publication Critical patent/JP2003504709A/ja
Publication of JP2003504709A5 publication Critical patent/JP2003504709A5/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B23/00Testing or monitoring of control systems or parts thereof
    • G05B23/02Electric testing or monitoring
    • G05B23/0205Electric testing or monitoring by means of a monitoring system capable of detecting and responding to faults
    • G05B23/0259Electric testing or monitoring by means of a monitoring system capable of detecting and responding to faults characterized by the response to fault detection
    • G05B23/0267Fault communication, e.g. human machine interface [HMI]
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S715/00Data processing: presentation processing of document, operator interface processing, and screen saver display processing
    • Y10S715/961Operator interface with visual structure or function dictated by intended use
    • Y10S715/965Operator interface with visual structure or function dictated by intended use for process control and configuration
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S715/00Data processing: presentation processing of document, operator interface processing, and screen saver display processing
    • Y10S715/961Operator interface with visual structure or function dictated by intended use
    • Y10S715/965Operator interface with visual structure or function dictated by intended use for process control and configuration
    • Y10S715/97Instrumentation and component modelling, e.g. interactive control panel
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S715/00Data processing: presentation processing of document, operator interface processing, and screen saver display processing
    • Y10S715/971Cooperative decision support systems for group of users

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Testing And Monitoring For Control Systems (AREA)
  • Feedback Control In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】 少なくとも操作変数および制御変数を含む複数のプロセス変数の制御下で動作可能な連続多変数プロセスについての、リアルタイムプロセス情報をユーザに提供するためのグラフィカルユーザ表示であって、情報の行列アレイを含み、これは、アレイの第1の軸に沿って表示された1つまたは複数の制御変数と、アレイの第2の軸に沿って表示された1つまたは複数の操作変数の間の少なくとも1つの関係を記述する。さらに、この表示は1つまたは複数のグラフィカルデバイスを含む。各グラフィカルデバイスは、制御変数および操作変数のうち対応するプロセス変数に近接して位置する。さらに、各グラフィカルデバイスは、対応するプロセス変数の少なくとも1つの状態(たとえば、現在値状態、過去値状態または予測値状態)を表す。このグラフィカルユーザ表示を提供するためのコンピュータ実施方法も提供される。

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 (発明の分野) 本発明は一般に、プロセス制御に関する。より詳細には、本発明は、プロセス
制御用のグラフィカルユーザインターフェイスおよび表示に関する。 【0002】 (発明の背景) 様々なアプリケーションについての重要性を有する表示技術が出現しつつある
。たとえば、様々なグラフィカルユーザインターフェイスおよび表示が、パーソ
ナルコンピューティング、金融サービスアプリケーションなどのために開発され
てきた。ハードウェアおよびソフトウェア技術における最近の発展により、強力
なグラフィカルユーザインターフェイスの開発が可能となっている。 【0003】 様々なタイプのプロセス制御システムが現在、単一の変数の制御下で動作可能
なプロセスから、多数の変数を制御することができるコントローラを使用して制
御されたプロセスまでの制御などに使用されている。プロセスの制御はしばしば
、マイクロプロセッサベースのコントローラ、コンピュータまたはワークステー
ションを使用して実施され、これらがプロセスを監視し、これはコマンドおよび
データをハードウェアデバイスに対して送受信して、特定の態様のプロセスまた
はプロセス全体を総括して制御することによる。たとえば、多数のプロセス制御
システムが計器、制御デバイスおよび通信システムを使用して、バルブおよびス
イッチなどの制御要素を監視かつ操作して、1つまたは複数のプロセス変数値(
たとえば、温度、圧力、流れなど)を、選択された目標値に維持する。プロセス
変数が選択かつ制御されて、プロセスにおいて利用されたマシンおよび装置の安
全かつ効率的なオペレーションを達成することなど、所望のプロセス目的が達成
される。プロセス制御システムには、産業用プロセスのオートメーションにおい
て広く行き渡った応用例があり、たとえば、化学工業、石油工業および製造業に
おいて使用されたプロセスなどがある。 【0004】 近年、多変数プロセスを制御するための高度なプロセス制御システムが開発さ
れてきた。たとえば、あるタイプのプロセス制御は、高度な制御を、エンジニア
の知識に基づいて構成あるいはプログラミングして(たとえば、フィードフォワ
ード、信号選択および計算ブロックを組み込む)、継続的にプロセスプラントを
ある既知の動作状態にすることに基づいている。もう1つのタイプの高度なプロ
セス制御は、モデルベースの予測制御である。モデルベースの予測制御技術は、
プロセス業界において受け入れられており、これは、不動作時間、プロセス上の
制約およびモデリングの不確実性の存在において多変数制御の目的を達成するそ
の能力のためである。 【0005】 一般には、モデルベースの予測制御技術は、制御動作を、ユーザにより課せら
れるかあるいはシステムにより課せられる制約を受けるエラーを最小化するため
の最適化問題の解として計算するアルゴリズムを含む。モデルベースの予測制御
アルゴリズムは一般に、多変数プロセスを参照して記載することができる。一般
に、モデルベースの予測制御は2つの主な部分を含む。第1に、最適化プログラ
ムが使用されて、プロセスを定常状態で動作するための最適な場所が定義される
こと、および第2に、動的制御アルゴリズムが、いかなる制約を破ることもなく
プロセスを円滑な方法で定常状態の最適さに移行させる方法を定義することであ
る。たとえば、指定された頻度で、たとえば毎分、オプティマイザがプロセスの
現在の状態を調べ、新しい最適さを計算する。オプティマイザから、コントロー
ラが、どこでプロセス変数を最終的な定常状態にするべきかを知る。次いで、制
御アルゴリズムが、プロセス変数についての変化の動的なセットを計算して、動
的に制約を破ることなくプロセスを円滑な方法で定常状態へ移行させる。たとえ
ば、60〜120もの制御動作を、将来に向けて、プロセス変数について算出す
ることができる。一般に、計算された制御動作の1つが実施され、残りは廃棄さ
れる。次いで、これらのステップが繰り返される。モデルベースの予測制御のた
めの制御目的は一般に、経済的価値に基づいたモデルを使用した計算を通じて最
適に制御された変数を与えることである。 【0006】 モデルベースの予測制御は、いくつかの会社から入手可能な製品を使用して実
行される。たとえば、モデルベースの予測制御は、Aspen Tech(マサ
チューセッツ州ケンブリッジ)から入手可能なDMC(Dynamic Matrix Control
)製品によって、かつ、Honeywell Inc.(ミネソタ州ミネアポリ
ス)から入手可能なRMPCT(Robust Multivariable Predictive Control Te
chnology)製品によって実行され、これは多入力、多出力の制御アプリケーショ
ン製品であり、高度にインタラクティブな産業用プロセスを、適切な自動制御シ
ステムにおいて使用されたときなどに、制御かつ最適化するものである。 【0007】 一般に、モデルベースの予測コントローラは3タイプの変数を含む。すなわち
、制御変数(CV)、操作変数(MV)および外乱変数(DV)(時として、フ
ィードフォワード変数(FF)とも呼ばれる)である。制御変数は、コントロー
ラが制約内に保つように試みている変数である。さらに、制御変数のいくつかを
最小化あるいは最大化する(たとえば、フィードスループットプロセス変数を最
大化する)ことも望ましい可能性がある。操作変数は、すべての制御変数をそれ
らの制約内に維持しながら、バルブなど、コントローラが開閉してコントローラ
の目的(たとえば、フィードスループットを最大化すること)を達成しようと試
みることができる変数である。外乱変数は、測定できるが制御できない変数であ
る。外乱変数はコントローラを、たとえば外部気温などのある要素に関する情報
など、必要とされた情報を提供することによって支援する。次いで、コントロー
ラは、そのような要素がコントローラにおける他のプロセス変数にどのような影
響を与えるかを認識して、測定された外乱に対してプラントがどのように反応す
るかをよりよく予測することができる。 【0008】 モデルベースの予測コントローラのユーザ(たとえば、エンジニア、オペレー
タなど)には従来、様々なプロセス変数に関する様々なタイプの情報が提供され
ており、これには制御変数、操作変数および外乱変数に関する情報が含まれる。
たとえば、予測値、現在値、および、他の変数に相対的な変数の他の関連情報な
どの情報がユーザへ、以前は様々なインターフェイスおよび表示を介して提供さ
れていた。ユーザはそのような情報を監視し、様々な方法でコントローラと対話
することができる。たとえば、ユーザはコントローラの電源をオンおよびオフに
し、個々のプロセス変数を制御から出し入れし、コントローラに含まれたプロセ
ス変数に課せられた様々なタイプの限界を変更し(たとえば、個々のプロセス変
数の下限または上限を変更する)、コントローラのモデルを変更することなどが
できる。 【0009】 しかし、ユーザがコントローラの全体の健康状態を効果的に監視し、必要とさ
れた方法でコントローラと対話する(たとえば、プロセス変数の限界を変更する
)ために、ユーザには適切なコントローラ情報が提示されなければならない。た
とえば、コントローラを監視するオペレータには、操作変数と制御変数の間の関
係、プロセス変数が制約される限界、様々なプロセス変数の現在値などに関する
情報が提示されるべきである。そのような情報は、ユーザが効果的にプロセスの
パフォーマンスを理解でき、たとえば、プロセスにおける問題を検出かつ解決で
きるような方法で提示されるべきである。様々なタイプの画面表示が使用されて
、コントローラに関する情報がユーザに提示され(たとえば、「Robust Multiva
riable Predictive Control Technology-RMPCT Users Guide for TPS(6/97)」と
いう名称のHoneywell製品の出版物において記載されたものであり、こ
れは全体として参照により本明細書に組み込まれ、以下で「Honeywell
Users Guide」と称する)、ユーザが、それにより制御中であるプ
ロセスにおける1つまたは複数のプロセス変数に関係付けられたパラメータを監
視かつ操作できるようにされてきたが、そのようなインターフェイスの効果は不
足しており、ユーザが、必要とされた監視および制御機能を実行することが困難
である可能性があった。 【0010】 たとえば、多数の動的プロセス変数を並行して監視することにおける1つの難
点は、一般に大量の画面の表面積を、そのようなプロセス変数に関するテキスト
データの提示に当てる必要があることである。たとえば、これは特に、動的プロ
セス変数の数が多い、核、化学および石油化学プラントのオペレータが直面する
問題である。一般に、この多変数監視の問題に対する従来の解決策は、トレンド
履歴プロットの使用であり、これは1つまたは複数の変数の履歴的な動きを表示
するものである。しかし、この手法はなお、少数のプロセス変数のみについても
多数のトレンド履歴プロットを並行して表示するために大量の空間を必要とする
ことにおいて、非常に表面積集中的である。それとして、ユーザは通常、強制的
に、プロセス変数についての少なくともいくつかのトレンド履歴プロットに直列
的な方法でアクセスさせられる。 【0011】 さらに、たとえば、モデルベースの予測制御プロセスにおけるユーザは、観察
された制御変数の変化の潜在的な原因を導き出すことができなければならず、た
とえば、操作変数の制約または限界の変更など、いかなる予定された操作変数の
操作の効果をもユーザが予測する際に支援することができなければならない。そ
のような解析用に現在使用されている1つの特に有益な画面表示は行列(マトリ
クス)テーブルであり、これは制御変数と操作変数の間の利得関係を表示するも
のである。たとえば、利得値を表示する利得行列画面が現在、Honeywel
l Users Guideにおいて示されているように入手可能である。しか
し、そのような表示は、問題解決作業においてユーザをサポートするために十分
な情報、および行列画面を使用するためのツールを提供しない。実際に一般には
、プロセスエンジニアのみがこのテーブルを頻繁に使用し、コントローラのオペ
レータはそうではない。 【0012】 さらに、たとえば、モデルベースの予測コントローラは一般に、様々な他のコ
ントローラがそうであるように制約ベースのツールであり、たとえば、コントロ
ーラは、制御中のプロセス変数について定義されたある制約または限界内でプロ
セスを制御しようと試みる。プロセスを制御するためのそのような制約ベースの
技術の使用では、1つのプロセス変数または多数のプロセス変数についての種々
の制約限界と現在値の間の関係を監視あるいは追跡することができる、問題のあ
る作業が提示される。たとえば、モデルベースの予測コントローラでは、エンジ
ニアリング上のハードの限界、オペレータが設定した限界、エンジニアリング上
の物理的限界および/または様々な他の限界を、いくつかの異なるプロセス変数
について指定することができる。ユーザは一般に、多数のプロセス変数の関係を
監視することを必要とされる。従来、そのような監視を実行するための情報は、
そのような情報をテキスト形式で提示することによる。たとえば、ユーザには、
エンジニアリング上のハードの上限および下限を表すテーブル値が、プロセス変
数のための現在値に加えて提示される。次いで、ユーザはテキストを読み、関連
する限界と現在値の間の関係を公式化することを必要とされる。多数のそのよう
なプロセス変数を監視するとき、そのような関係を公式化する作業は困難である
。 【0013】 加えて、たとえば、ユーザが、たとえばオペレータによるプロセス変数のため
の上限および下限の設定など、プロセス変数のためのパラメータを効果的に監視
かつ操作することを必要とされる可能性がある。現在、情報をユーザに提示し、
ユーザにプロセス変数のうち1つまたは複数のパラメータを変更する方法を提供
するために使用されているインターフェイス技術は、非効果的である。たとえば
、通常、ユーザは主として、特定のプロセス変数に関するデータのテーブル表現
に依拠し、これはたとえば、テキスト資料の、カラーコーディングされたテーブ
ル表現などである。しかし、ある特定の場合には、いくつかのグラフィカル要素
が使用されて、限界および現在値などの情報の1つまたは複数のサブセットが、
サポートするテキストと共に、プロセス変数の監視および操作における使用のた
めに示されてきた。しかし、そのような手法には少なくとも3つの問題がある。
第1に、これらは使用が困難であり、これは、これらが定量的データの拡張的な
認知操作を必要とするからであり、あるいはこれらがその統合において不完全で
あるからである。たとえば、いくつかのグラフィックスがテキスト資料と共に使
用されているとき、グラフィックスはそのような情報をユーザに効果的に提示し
ていなかった。たとえば、プロセス変数のための限界を示す分離した1対の線、
プロセス変数のためのオペレータ設定による上限および下限を表す分離したバー
、プロセス変数の現在値を表す分離した線、および他の限界内のクランプ限界を
含むグラフが、特定のプロセス変数の特性を表示するために使用されてきた。し
かし、要素のそのような分離した表示には、プロセス変数の容易な監視のための
統合が欠けている。第2に、異なる限界の関係を独立して表示させることによっ
て、貴重な画面の表面積が使用され尽くして、少数よりも多いプロセスパラメー
タを一度に示すことが不可能となる。これにより再度、ユーザが、いくつかの変
数に渡る直列的な比較を強制的にさせられる。第3に、既存のグラフィカルな手
法のいずれによっても、変数の限界の直接的な操作が可能ではない。すなわち、
ユーザは示された限界を、分離した画面または分離したテキスト情報を使用する
ことによって変更しなければならない。 【0014】 上に示したように、情報をユーザに、たとえば、連続した多変数生産プロセス
の制御を提供するコントローラのプロセス変数など、プロセス変数の監視および
操作のために伝達するために使用された表示は、効果的ではない。たとえば、1
つの特定の問題には、大量のテキスト情報の使用が含まれ、これによりユーザが
コントローラの異なるプロセス変数の間の関係を公式化することが必要となる(
たとえば、現在値とプロセス限界の間の関係の公式化、多数のプロセス変数のト
レンドの間のテキストのものからの関係の公式化など)。さらに、そのような従
来の表示は、たとえば、トレンドプロット、テキスト情報など、十分な情報をユ
ーザに提供するように試みるものであり、望ましくない量の画面の表面積を必要
とする。 【0015】 (発明の概要) 本発明は、ユーザがプロセス異常の検出および解決において自分の知覚力を活
用することができるようにするグラフィカルユーザ表示を提供する。さらに、こ
の表示は、たとえば、エンジニアやオペレータなどのユーザが、多変数コントロ
ーラをより良く理解するため、およびコントローラを支援するため取ることがで
きる処置を決定するための助けとなる。 【0016】 連続多変数プロセスについてのリアルタイムのプロセスの情報をユーザに提供
するためのグラフィカルユーザ表示を記載する。連続多変数プロセスは、複数の
プロセス変数の制御下で実施可能であり、プロセス変数は少なくとも操作変数(
操作される変数)および制御変数(制御される変数)を含む。本発明によるグラ
フィカルユーザ表示は情報の行列(マトリクス)アレイを含み、これは、アレイ
の第1の軸に沿って表示された制御変数のセットのうちの1つまたは複数の制御
変数と、アレイの第2の軸に沿って表示された操作変数のセットのうちの1つま
たは複数の操作変数との間の少なくとも1つの関係を記述する。さらに、この表
示は1つまたは複数のグラフィカルデバイスを含み、各グラフィカルデバイスは
、制御変数のセットおよび操作変数のセットのうちの対応するプロセス変数に近
接して位置する。さらに、各グラフィカルデバイスは、対応するプロセス変数の
少なくとも1つの状態(たとえば、現在値の状態、過去値の状態または予測値の
状態)を表す。 【0017】 このグラフィカルユーザ表示の様々な実施形態では、行列アレイが、制御変数
のセットの各々と操作変数のセットの各々と間の関係(たとえば、ゲイン値)を
記述する情報を含み、行列アレイは外乱値を含むことができ、1つまたは複数の
グラフィカルデバイスが、少なくとも1つのセットのユーザ定義のプロセス上限
値およびプロセス下限値に対する対応するプロセス変数の現在値を表すことがで
き、かつ/または1つまたは複数のグラフィカルデバイスが、対応するプロセス
変数の最適化特性を表すグラフィカル記号を含むことができる。 【0018】 別の実施形態では、行列表示が、操作変数のセットおよび制御変数のセットに
関連付けられた情報の行およびカラムを含むことができる。1つまたは複数の行
およびカラムを特定の色にして、色付けされた行およびカラムに対応するプロセ
ス変数の特性を表すことができる。 【0019】 この表示の別の実施形態では、表示された制御変数および操作変数のセットの
各プロセス変数が、選択されたプロセス変数に関するより詳細な情報へのナビゲ
ーションのために選択可能である。詳細な情報が、行列アレイと同じ画面上に表
示されることが好ましい。 【0020】 プロセスプラントで実行中である連続多変数プロセスに関する、リアルタイム
のプロセスの情報をユーザに提供するグラフィカルユーザ表示を提供するための
コンピュータ実施方法も記載する。連続多変数プロセスは複数のプロセス変数を
介して制御され、プロセス変数は少なくとも操作変数および制御変数を含む。こ
の方法は情報の行列アレイを表示することを含み、これは、アレイの第1の軸に
沿って表示された制御変数のセットのうちの1つまたは複数の制御変数と、アレ
イの第2の軸に沿って表示された操作変数のセットのうちの1つまたは複数の操
作変数との間の少なくとも1つの関係を記述する。さらに、1つまたは複数のグ
ラフィカルデバイスが表示され、各グラフィカルデバイスは、制御変数のセット
および操作変数のセットのうちの対応するプロセス変数に近接して表示される。
各グラフィカルデバイスは、対応するプロセス変数の少なくとも1つの状態を表
す。1つまたは複数のグラフィカルデバイスが連続的に更新される。 【0021】 この方法の様々な実施形態では、この方法は、ゲイン値を行列アレイにおいて
表示することを含み、外乱値のセットを他の変数と共に表示することができ、グ
ラフィカルデバイスを表示することが、ゲージ軸に沿って配置される、対応する
プロセス変数の現在値を表すグラフィカル形状を表示することを含むことができ
、かつ/または、グラフィカルデバイスを表示することが、対応するプロセス変
数の最適化特性を表すグラフィカル記号をゲージ軸に沿って表示することを含む
ことができる。 【0022】 さらに、この方法の一つの実施形態は、マトリクス(行列)の1つまたは複数
の行およびカラムを、その行またはカラムに対応するプロセス変数の特性を表す
特定の色で表示することを含むことができる。さらに別の実施形態では、この方
法は、表示された制御変数および操作変数のうち1つを選択するためのユーザ入
力を受信して、選択されたプロセス変数についてのより詳細な情報を行列アレイ
と同じ画面上に表示することを含むことができる。 【0023】 プロセスプラントで実行中である連続多変数プロセスに関する、リアルタイム
のプロセスの情報をユーザに提供するグラフィカルユーザ表示を提供するための
別のコンピュータ実施方法を記載する。この方法は、制御変数の制御に使用可能
である操作変数の数を決定すること、および、設定点に制約されるか又はユーザ
定義の制限丁度にある又は制限の外である制御変数の数を決定することを含む。
次いで、インジケータが表示され、これは、決定された操作変数の数と決定され
た制御変数の数の間の関係を表す。 【0024】 上記の本発明の概要は、本発明の各実施形態またはあらゆる実施を記載するこ
とを意図するものではない。本発明の利点、およびより完全な理解は、添付の図
面と共に以下の詳細な説明および特許請求の範囲を参照することによって明らか
になり、理解されるであろう。 【0025】 (実施形態の詳細な説明) 図1はプロセスシステム10を示すブロック図であり、これには、プロセスプ
ラント12が実行するプロセスを制御することができる、コントローラ14に含
まれる1つまたは複数のプロセス変数の監視および操作においてユーザを支援す
るグラフィカルユーザインタフェース50が含まれる。プロセスシステム10は
、プロセスプラント12を含み、これは、コントローラ14および1つまたは複
数の任意選択のサブコントローラ16の制御下でプロセスを実行する。 【0026】 プロセスプラント12は、コントローラ14の1つまたは複数のプロセス変数
の制御下で実施可能なプラントプロセス、またはプラントプロセスの一部分を実
行する1つまたは複数のプラント構成要素を表している。プロセスプラント12
は、例えば、石油化学プロセスを行うための石油化学精製装置、原子炉設備、化
学プラントなどでよい。本発明は、特定のプロセスプラント12には限定しない
が、連続的な多変数の生産プロセスの制御において特に有益である。 【0027】 コントローラ14および任意選択のサブコントローラ16は、プロセスプラン
ト12が実行するプロセスの制御に使用される1つまたは複数のプロセス変数を
含んだ任意の制御装置を含むことができる。例えば、本明細書に説明するグラフ
ィカルユーザインタフェース50の様々な部分は、単一のプロセス変数によって
プロセスの制御を提供するコントローラに適用することができる。ただし、コン
トローラ14は制約に基づくコントローラであることが好ましい。この場合、コ
ントローラの1つまたは複数のプロセス変数に制限値が提供され、コントローラ
は、プラント12が実行するプロセスを制御する際に、1つまたは複数のプロセ
ス変数をその制限値内に維持するように動作する。本発明は、任意の多変数プロ
セスの場合に、コントローラのプロセス変数を効果的に監視および操作するのに
有益であるが、本明細書に説明するグラフィカルユーザインタフェース50は、
モデルに基づく予測コントローラと関連付けられたプロセス変数の監視および操
作に特に有益である。説明を平易にするために、本明細書にさらに説明する本発
明は、モデルに基づく予測コントローラ14に関してすべきである。ただし、当
業者は、本明細書に説明するユーザインタフェース技術は決して多変数プロセス
またはモデルに基づく予測コントローラに限定されるものではなく、単一プロセ
ス変数のコントローラおよびプロセスを含む、各種のコントローラおよび各種の
プロセスに広く適用できることを認識されよう。 【0028】 一般に、本明細書の上記の「発明の背景」の節で説明したように、モデルに基
づく予測コントローラ14は、最適化の問題に対する解決法として制御動作を計
算することにより、ユーザまたはシステムによって課される制約を受けるエラー
を最小限にするアルゴリズムを含んでいる。モデルに基づく予測コントローラは
通例、複数入力、複数出力の制御アプリケーションであり、プロセスの制御に使
用される複数の変数を含んでいる。一般に、モデルに基づく予測コントロールは
2つの主要部分からなる。第1に、最適化プログラムを使用して、プロセスを定
常状態で実行するのに最良の部分を定義する。第2に、動的な制御アルゴリズム
により、いかにしてどの制約も超えることなく、プロセスを最適の定常状態に円
滑に移行していくかを定義する。例えば、毎分ごとなどの指定の頻度で、オプテ
ィマイザがプロセスの現在の状態を見て、新しい最適条件を計算する。コントロ
ーラは、オプティマイザから最終的な定常状態においてプロセス変数がどこにあ
るべきかを知る。制御アルゴリズムは次いで、プロセス変数について動的な変更
のセットを計算し、制約を動的に超えることなくプロセスを滑らかに定常状態に
移行する。例えば、あるプロセス変数について、60〜120の将来の制御動作
を計算することができる。一般には、計算された制御動作の1つを実施して、残
りは破棄する。このステップをその後繰り返す。モデルに基づく予測制御の制御
の目的は、一般には、経済的な値に基づくモデルを使用した計算により、最適な
制御変数(下記で定義する)を提供することである。 【0029】 モデルに基づく予測制御は、例えば、数社から入手可能な製品を使用して実行
することができる。例えば、「発明の背景」の節ですでに触れたように、モデル
に基づく予測制御は、Aspen Tech(マサチユーセット州ケンブリッジ
)から入手可能なDMC(Dynamic Matrix Control)という製品により、および
Honeywell社(ミネソタ州ミネアポリス)から入手可能なRMPCT(
Robust Multivariable Predictive Control Technology)という製品により実行
される。後者は、高度対話式の工業プロセスを制御および最適化する、複数入力
、複数出力の制御アプリケーション製品である。本明細書にはいくつかのコント
ローラを挙げるが、本発明はそのコントローラのみを用いた使用には限定されな
い。これらのコントローラは説明のためだけに挙げるものであり、本明細書に説
明するグラフィカルユーザインタフェース技術は、1つまたは複数のプロセス変
数を監視および/または操作することが望ましいすべての制御に適用することが
できる。さらに、当業者はこれらのコントローラおよびそこからの入力および出
力には精通しているので、モデルに基づく予測コントローラ14に関する本明細
書の説明では非常に一般的な用語を用いている。 【0030】 一般に、モデルに基づく予測コントローラ14は3種の変数を含む。すなわち
、制御変数(CV)、操作変数(MV)、および外乱変数(DV)(フィードフ
ォワード変数(FF)と呼ぶこともある)である。ただし他のコントローラは他
種の変数を含むこともある。本発明で使用する場合、制御変数とは、コントロー
ラが制約内に維持しようとする変数である。さらに、制御変数の一部を最小にす
る、最大にする、あるいは目標値に維持する(例えば、フィードスループットプ
ロセス変数を最大にする)ことも望ましい。操作変数とは、バルブや「ハンドル
」など、コントローラが、他の変数はすべてその制約内に維持しながら、開閉し
てコントローラの目的(例えばフィードスループットを最大にするなど)を達成
しようとする変数である。外乱変数とは、測定はできるものの制御されない変数
である。外乱変数は、例えば外気温度といった特定の要素に関する情報など、必
要な情報を提供することによりコントローラを支援する。するとコントローラ1
4は、そのような要素がコントローラ中の他のプロセス変数にどのように影響す
るかを認識することができ、それらの要素の変化に対してプラントがどのように
反応するかをより正確に予測することができる。サブコントローラ16は、操作
変数および制御変数のサブセットからなることが可能である。ただし、通例は、
そのようなサブコントローラ16はフィードバックを介して操作変数を一定の制
限内に制御しようとする。 【0031】 本発明によると、モデルに基づく予測コントローラ14のユーザ(例えばエン
ジニア、オペレータなど)には、コントローラ14の制御変数、操作変数、およ
び外乱変数に関する情報を含む種々のプロセス変数に関する各種の情報が、下記
でさらに説明するグラフィカルユーザインタフェース50によって提供される。
ユーザは上記のような情報を監視し、様々な方式でコントローラ14と対話する
ことができる。この方式についても下記でさらに説明する。例えば、ユーザは、
コントローラ中に含まれるプロセス変数に課される種々の制約を変更することが
できる(例えば、個々のプロセス変数の下限値および上限値を変更するなど)。 【0032】 グラフィカルユーザインタフェース50は、ユーザ(例えばエンジニア、オペ
レータなど)に、コントローラ14を監視し、理解し、調節する能力を提供し、
ユーザはコントローラと効果的に対話することにより、例えばコントローラがプ
ロセス中の外乱を処理できるかどうかを知ることができる。さらに、グラフィカ
ルユーザインタフェース50はユーザに、複数のプロセス変数(例えば、フィー
ド率、製造率、ユーザ定義のタグなど)を監視する能力を提供し、ユーザはこれ
により、単一のディスプレイ画面上でプロセス変数を最適化する際の発振変数を
監視し、およびコントローラの状態にとって重要な主要プロセス変数を監視する
。グラフィカルユーザインタフェース50は、ユーザに、操作変数と制御変数と
の関係、どのプロセス変数が制限値に制約されているかの表示、およびコントロ
ーラ14で特定の問題の診断を助けるためのプロセス変数間の関係の表示、とい
ったツールを提供する。 【0033】 例えば、様々な状況により、ユーザがコントローラ14と対話することが必要
となる場合がある。例えば、プロセスプラントのメンテナンス中に、機器または
他のメンテナンス作業を調整するために、種々のプロセス変数を制御から外さな
ければならないことがある。あるいは、オペレータのシフト交換の間に物事がど
のように行われてきたかを特定する必要がある場合がある。あるいは、事業部ま
たはエンジニアリングから、モデル、制約、目標値などの変更指示が出されるこ
とがある。あるいは、オペレータが、コントローラを補助すること、コントロー
ラに外乱を処理させること、またはコントローラをオフにすることにより、不調
に対処する必要があることがある。あるいは、コントローラが良好に調整されて
いない、コントローラが外乱を補償するために一時的なアクションをとるなど、
他にも様々な診断状況がありうる。 【0034】 一般には、図1に示すように、グラフィカルユーザインタフェース50は、1
つまたは複数のプロセス変数に関するデータをコントローラ14から受け取る。
本明細書の上記で触れたように、グラフィカルユーザインタフェース50は、制
御される単一のプロセス変数に関して使用することが可能であるが、複数のプロ
セス変数に関連付けられたデータをコントローラ14から受けとることがより好
ましい。 【0035】 グラフィカルユーザインタフェース50は、図1に示すように、ディスプレイ
コントローラ56およびコンピュータ処理装置52の制御下で動作が可能なディ
スプレイ58を含む。コンピュータ処理装置52への情報の通信には、各種のユ
ーザ入力周辺装置60を使用することができる。ユーザ入力周辺装置60には、
例えば、ライトペン、マウス、キーボード、タッチセンシティブなディスプレイ
画面、あるいはグラフィカルユーザインタフェースに一般に使用される任意の他
のユーザ入力周辺装置が含まれる。コンピュータ処理装置52はメモリ54と対
話して、メモリ54に記憶されている1つまたは複数のプログラムを実行する。
メモリ54は、コンピュータ処理装置52の制御下で、例えば画面情報、フォー
マット情報、表示するデータ、または、ディスプレイ58に表示される各種の画
面に関する、本明細書中の説明から明らかになる任意の他の情報などの各種情報
をその中に記憶する。 【0036】 コンピュータ処理装置52は、それが受け取った情報を適合させるように機能
する。例えば、モデル予測コントローラ14から受け取った情報は、画面ディス
プレイ58に表示するためのディスプレイ情報をディスプレイ制御装置56に伝
搬するように適合される。さらに、例えばユーザ入力周辺装置60から受け取る
情報は、例えばナビゲーションなどで使用するために、あるいは例えばコントロ
ーラ14の制限値の変更など、コントローラ14への伝搬のために適合される。
ユーザ入力周辺装置60を介したディスプレイ操作およびユーザ入力制御機能は
、一般に当技術分野で知られている。例えば、テキスト情報を編集する、プロセ
ス変数を選択する、クリックによってハイライト表示を実施する、要素をドラッ
グして情報の変更を入力する、などが可能である。 【0037】 図1に示すように、メモリ54はグラフィカルユーザインタフェース(GUI
)モジュール70を含んでおり、これが含むプログラミングは、本明細書でさら
に説明する多様なディスプレイ画面を提供し、かつコントローラ14からコンピ
ュータ処理装置52でデータを受け取ると、必要に応じて実時間ベースでそのよ
うな表示画面を編集するのに使用される。GUIモジュール70は、例えば、コ
ントローラから受け取った現在の値のデータを、ディスプレイ画面上の適切なオ
ブジェクトに直接転送することを提供する。メモリ54はその中にさらにデータ
分析モジュール72を記憶しており、これは、コントローラ14から受け取った
データで、その一般的な性質からディスプレイ画面の更新用のデータを提供する
前に修正すべきデータに関する処理を支援するプログラミングを含む。データ分
析モジュール72は、例えば、履歴データを処理して、そのようなデータを表示
するための特定のトレンド形状要素に変えるのに使用される。これについては下
記でさらに説明する。 【0038】 表示機能は標準的なモニタ(下記で説明するように、表示領域すべてを表示す
るのに十分な大きさであることが好ましい)を使用して実行し、かつ表示される
グラフィック要素はVisual Basicコードを使用して実施することが
好ましい。また、NTシステムを使用して、必要な処理を実行することが好まし
い。ただし、当業者には、グラフィカルユーザインタフェース表示画面に実施さ
れる技術を実行することができ、コントローラ14との対話を可能にするもので
あれば、任意の適切な構成要素およびコードを、本発明によって企図されるよう
に使用してよいことが認識されよう。 【0039】 図2は、本発明によるグラフィカルユーザインタフェース50を備えた、モデ
ルに基づく予測コントローラ14の説明用のデータ流れ図100である。モデル
に基づく予測コントローラのデータ102は、当技術分野で従来知られる方式で
プロセスプラント12を制御するためのプロセス制御コマンド105を含む。モ
デルに基づく予測コントローラ14は例えば、指定の頻度で、あるプロセス変数
の値がどこにあるべきかを指図する、最適の定常状態を計算する。コントローラ
は次いで操作変数に対する動的な変更セットを計算し、操作変数の所望の変更を
、例えばサブコントローラ16、バルブ、他の「ハンドル」など、そのような変
更を実施する装置に提供することにより、プロセッサを滑らかに定常状態に移行
する。つまり、プロセス制御コマンド105は操作変数を制御するために提供さ
れる。 【0040】 モデルに基づく予測コントローラ14は種々の値を生成し、これらの値は、コ
ントローラ14に含まれる種々のプロセス変数と関連付けて、グラフィカルユー
ザインタフェース50にデータとして提供される。グラフィカルユーザインタフ
ェース50に提供される、モデルに基づく予測コントローラデータ102は、少
なくとも予測値データ、現行値データ、およびモデルデータ103を含む。予測
値データは、例えば、上記の各種プロセス変数について計算される将来の制御動
作に基づくデータを含む。上記で触れたように、モデルに基づく予測コントロー
ラ14は、例えば、プロセス変数、特に操作変数および制御変数について生成さ
れる関連する予測値を用いて、60〜120の将来の制御動作を計算することが
できる。 【0041】 グラフィカルユーザインタフェース50に提供される現行値データは、任意数
のソースからの現在の測定値を含む。現行値は、例えば、センサ、バルブ位置な
どを含むサブコントローラのどれによっても測定することができる。さらに、こ
れらのデータは、プロセスプラント12の構成要素から直接提供されるものでも
、あるいはコントローラ14が、例えば制御変数などのプロセス変数について生
成する値でもよい。 【0042】 モデルデータは、例えば、制御変数対操作変数の利得関係、遅延値、種々のモ
デル方程式の係数など、コントローラ14自体に関連する情報のような静的な情
報を含む。一般に、そのようなデータは固定データであり、連続的に変化する他
種のデータとは対照的に、多くの場合はグラフィカルユーザインタフェースに1
回提供される。 【0043】 予測値データ、現行値データ、およびモデルデータはコンピュータ処理装置5
2に提供され、必要に応じて、下記で説明するように、画面を表示するためにグ
ラフィカルユーザインタフェースモジュール70およびデータ分析モジュール7
2によって使用される。例えば、グラフィカルユーザインタフェースモジュール
70は、現行値データをコントローラ14から受け取り、そのような現行値デー
タを使用して表示用の表示オブジェクト108を更新する。さらに、例えば、ユ
ーザ入力データ110は、モデルに基づく予測コントローラ14に通信を返すた
めに、コンピュータ処理装置52を介してグラフィカルユーザインタフェースモ
ジュール70に提供される。ユーザ入力データには、例えば、特定のプロセス変
数の変更された制限値が含まれる可能性があり、これはコントローラ14に提供
されて、後の制御および最適化の計算に使用される。 【0044】 データ分析モジュール72は、コントローラ14から提供されたデータに作用
して、オブジェクト108を表示するためのデータを提供する。データ分析モジ
ュール72は例えば、一定期間にわたって現在のデータを受け取り、それを記憶
することにより、1つまたは複数のプロセス変数について記憶されたこの履歴デ
ータのトレンドを特徴化する。このトレンドは、本明細書でさらに説明するよう
に、そのようなデータの汎化プロットに似た、グラフィックなトレンド形状要素
を使用して表示することができる。データ分析モジュール72はさらに、現行値
データと設定された制限値の比較を行い、グラフィカルユーザインタフェース5
0の表示で特定の情報をユーザに警告する手段として、適切な色の情報を表示す
ることができる。データ分析モジュールは、それが受け取ったデータの処理を完
了すると、表示オブジェクト108を直接操作するためのデータを提供するか、
またはグラフィカルユーザインタフェースモジュール70に情報を提供すること
ができ、後者の場合はグラフィカルユーザインタフェース70が、表示オブジェ
クト108の望ましい操作を提供する。 【0045】 図3は、グラフィカルユーザインタフェース50の表示画面を説明する全体図
である。一般に、表示画面の目に見える領域(field)は3つの機能範囲に分割
され、これには、多変数プロセスオーバービュー表示領域150、多変数プロセ
ス行列(マトリクス)表示領域200、プロセス変数詳細および変更ビュー表示
インタフェース領域250が含まれる。 【0046】 図4は、図3に示す表示画面のオブジェクトモデルの全体図300である。一
般に、基本となるデータオブジェクトは、複数のポイント304の1つのポイン
ト306であり、これは操作変数タイプのポイントでも、制御変数タイプのポイ
ントでも、外乱変数タイプのポイントでもよい。このポイントは、それと関連づ
けられた多数の属性およびメソッドを有する。各ポイントは、それ自体を適切な
表示オブジェクトに表示する責任を有する。各ポイントは、データが変更され、
必要に応じて表示オブジェクトを更新すると、適宜更新される。 【0047】 シェルオブジェクト302はグラフィカルユーザインタフェースアプリケーシ
ョンのコンテナであり、例えば反復時間クロック157、一般的なコントローラ
情報151、タブ領域211などにある視覚オブジェクトのコンテナとしてのタ
ブ、日付146など、このオブジェクトモデルの全体図には個別に示していない
すべての項目/オブジェクトを含む。シェルオブジェクト302は、図3に示す
表示シェル140に対応する。 【0048】 オブジェクトの接続性と、オブジェクトモデル全体図に個別に示す他の項目/
オブジェクトの制御は、オブジェクトのいくつかを説明することにより要約して
説明する。例えば、トレンドオーバービュー表示152に対応するプロセス変数
オーバービュー表示オブジェクト308は、グラフィックを収容するフレームコ
ンテナでよい。このコンテナは、ポイントオブジェクトの状態情報を表す画像の
セット用のものでよい。画像リストコントロールはこのオブジェクト308の一
部であり、下記でさらに詳細に説明するアイコン用のすべての可能な画像を含む
。システムを構成する際に、可能なアイコン画像の位置がポイントオブジェクト
に割り当てられる。データの更新時に、ポイントオブジェクトは表示オブジェク
ト308に、ポイントの状態にふさわしいアイコンを表示するように要求する。
ポイントの状態は、例えばトレンドの動きの低減アルゴリズムの履歴データなど
、状態エスティメータアルゴリズムの評価によって決定される。これについては
下記でさらに説明する。 【0049】 さらに、例えば、プロセス変数ゲージインタフェース256に対応するプロセ
ス変数ゲージオブジェクト308は、表示を変更するポイントオブジェクトによ
って所有される。ユーザは、このインタフェースを介して、例えば制限値など、
ポイントオブジェクトの属性を変更することができる。この変更は、テキストテ
ーブルを使用することにより、または、例えばマウスを使用して制限値フラグを
ドラッグするなど、グラフィック要素をドラッグすることにより行うことができ
る。同様に、各ポイントは、適切なプロセス変数ゲージオブジェクト308とし
てそれ自体を表示する責任も有する。 【0050】 図4の各オブジェクトが、図3に表示したオブジェクトに対応していることが
認識されよう。例えば、バブルゲージオブジェクト310は要約グラフィカルデ
バイス212に対応し、変更ビュー表示オブジェクト311は表示インタフェー
ス領域250に対応し、変更ログオブジェクト316はログ260に対応し、行
列表示オブジェクト312は行列表示201に対応し、クリティカルパラメータ
リストオブジェクト314はクリティカルパラメータのリスト154に対応し、
関数値プロットオブジェクト320は関数プロット159に対応し、プロセス変
数詳細表示オブジェクト324はタブ領域211の「PV Detail」のタ
ブを使用して選択できるPV詳細表示に対応している。 【0051】 多変数プロセスオーバービュー表示領域150は一般に4つの機能エリアに分
割され、新しい変更および潜在的な問題にユーザを導く。このオーバービュー表
示領域150は、例えばシフト間のオペレータの交替など、特にシフト変更に対
するサポート、およびコントローラ14の周期的な監視を提供する。一般に、オ
ーバービュー表示領域150の4つの機能エリアは、コントローラ情報151、
多変数プロセストレンド表示152、クリティカルパラメータリスト154、お
よびトレンドプロット領域156を含む。この4つの機能領域のそれぞれについ
て下記で説明するが、多変数プロセストレンド表示152については図5A〜5
Bを参照して特に詳細に説明する。 【0052】 コントローラ情報151は、いくつかのテキストフィールドおよびプルダウン
メニューの形で、オーバービュー表示領域150の上部に表示される。まず、こ
の領域の左上の隅には、アクティブなコントローラモデルの名前を示すテキスト
フィールド142がある。アクティブなコントローラモデルの名前を示すテキス
トフィールド142の隣には、表示される特定コントローラ名を示すテキスト表
示144がある。複数のコントローラが使用可能な場合は、プルダウンメニュー
ボタンを使用して、ユーザに他の名前のリストから選択させることができる。こ
れらの項目の下には、コントローラモード153および状態表示155がある。
状態表示は例えば、最適化、扱っている制約などの表示を含むことができる。ユ
ーザはプルダウンメニューを使用するなどして、オン、オフ、ウォームなどのコ
ントローラモード153を選択することができる。モードは、コントローラ状態
に応じて変化することができる。最後に、クロック157は、最後のコントロー
ラ実行の開始からの秒数を記録する。 【0053】 クリティカルパラメータリスト154は、その現場固有のパラメータセットに
ついてのユーザ指定の情報を提供する。これらのパラメータは、その制限値に近
いプロセス変数、あるいはその制限値の外にあるプロセス変数や、他の基準を満
たすプロセス変数など、クリティカルなプロセス変数の所定のセット、または動
的なリストにすることができる。クリティカルパラメータ情報は、重要度につい
ての何らかの基準を満たす変数の小セットについての詳細な情報を提供する。例
えば、使用可能な特定の特性を定期的に更新することができるなど、そのような
クリティカルパラメータリスト154はユーザが定義することができる。 【0054】 トレンド領域156は、システムの全体機能の一部を表す、任意数のトレンド
プロットを含むことができる。例えば、トレンド領域156に示すように、目的
関数値プロット159は、ユーザに、コントローラがプロセスをどの程度最適化
しているかについての洞察を与える。さらに、例えば、コントローラがどの程度
操作変数を調節するために作用しているかの認識をユーザに提供するように設計
されたエネルギープロットを示してもよい。目的関数値プロット159で示すよ
うに、色の種々の陰影を使用して境界線を表示し、コントローラが有効に機能し
ていないことをいつプロット値がユーザに警告するかなどの他の情報をユーザに
提供することができる。 【0055】 図5Aおよび5Bに、多変数プロセスオーバービュートレンド表示152をよ
り詳細に示す。トレンド表示152は、プロセス変数の履歴トレンドを、トレン
ド形状要素に符号化する。各トレンド形状要素は、トレンドの動きを表す。トレ
ンド形状要素はそれぞれ、プロセストレンドの動きの所定セットのうち1つを表
すことが好ましい。ただし、そのようなトレンド形状要素は、例えば選択または
サンプリングされるデータポイントといった実際のデータポイントのプロットよ
うな動的なトレンドを示してもよい。本明細書で使用する場合、「履歴」とは、
現在の基準時間より前の任意の期間を指す。 【0056】 プロセストレンドの動きは、下記の説明用のトレンドセットで説明するように
、プロセス変数の変化の割合(すなわち速度(1次導関数))、および速度の変
化の割合(すなわち加速度(2次導関数))を示す動きを含むことが好ましい。
多変数プロセストレンド表示152の目的は、ユーザに、プロセスおよびコント
ローラの状態の高レベルなオーバービューを提供することである。トレンド表示
152は、人間のユーザが視覚パターンで異常を感知する能力に基づくものであ
る。 【0057】 トレンド表示152は、コントローラ14から得たデータに実行される、デー
タ分析モジュール72の信号トレンド分析アルゴリズムの結果を表示するグラフ
ィック表示である。この種のマスデータ表示は、そのアルゴリズムを実行する多
数のプロセス変数の状態を、容易に感知できる表示を提供する。このアルゴリズ
ムは、他タイプの情報(例えば、予測値からの偏差、変数の選択、予期しない状
態変化)を視覚的に符号化することができ、グラフィカルユーザインタフェース
50のナビゲーションを支援する。 【0058】 多変数プロセスオーバービュートレンド表示152は、トレンド形状要素17
6が埋め込まれたオーバービュープラント構成要素アイコンの領域を含む。トレ
ンド形状要素176は、例えば16x16画素のビットマップなどのビットマッ
プ領域の一部でよい。本明細書では、このビットマップ領域をプロセス変数トレ
ンドアイコン172と呼ぶ。プラント構成要素アイコン161〜164は、プロ
セスプラント12のプラント構成要素に対応した形状にすることが好ましい。ま
た、これらのプラント構成要素アイコン161〜164は、制御する連続的多変
数プロセスにおけるそれらの機能位置に従って、トレンド表示152上に配置す
ることが好ましい。 【0059】 プラント構成要素アイコン161〜164によって画定されるフレーム中には
、プロセス変数トレンドアイコン172が埋め込まれ、それぞれがトレンド形状
要素176を含む。プラント構成要素アイコン161〜164には、プロセスプ
ラントのその特定のプラント構成要素と関連付けられた各プロセス変数について
のプロセス変数トレンドアイコン172が埋め込まれている。例えば、図5Aに
示すように、プラント構成要素アイコン161には、特定のプラント構成要素1
61と関連付けられた、2つの操作変数166、2つの外乱変数168、および
4つの制御変数170が含まれている。プラント構成要素アイコン162は2つ
のプロセス変数トレンドアイコン172を含み、プラント構成要素アイコン16
3は13のプロセス変数トレンドアイコン172を含み、プラント構成要素アイ
コン164は8つのプロセス変数トレンドアイコン172を含む。トレンド形状
要素は互いの近くに配置して、配置されたトレンド形状要素176間の変化のパ
ターンをユーザが認識できるようにすることが好ましい。 【0060】 プロセス変数トレンドアイコン172は、数種の情報を伝える。第1に、グラ
フィカルユーザインタフェース50のデータ分析モジュール72の一部である信
号トレンド分析アルゴリズムは、プロセス変数のトレンドの動きを、動きのタイ
プを表すプリミティブのトレンド要素にすることを提供する。例えば、図5Bに
、1セットのトレンド形状要素176を示している。トレンド形状要素のセット
176は、7つのグラフィック要素180〜186を含み、それぞれが異なるト
レンドの動きを表している。説明のために、7つのグラフィック要素180〜1
86は、プロセス変数値の変化の割合(すなわち速度)、およびプロセス変数値
の速度変化の割合(すなわち加速度)を示す以下のトレンドの動きを表している
。トレンド形状要素180は定常状態での動きを表し、トレンド形状要素181
はランプアップの動きを表し、トレンド形状要素182はランプダウンの動きを
表し、トレンド形状要素183は増加率が低下する動きを表し、トレンド形状要
素184は、増加率が増加する動きを表し、トレンド形状要素185は低下率が
低下する動きを表し、トレンド形状要素186は、低下率が増加する動きを表し
ている。 【0061】 信号トレンド分析アルゴリズムは、モデルに基づく予測コントローラ14から
受け取った履歴データを、トレンド形状要素のセット176のトレンド形状要素
180〜186の1つに変える。アルゴリズムは、どのトレンドの動きが、分析
するプロセス変数の履歴データをより正確に表すかを比較し、それを決定すると
、決定したトレンドの動きに対応する適切なトレンド形状要素180〜186を
表示する。このようにして各プロセス変数をトレンドの動きに変え、そのプロセ
ス変数に対応するトレンド形状要素を表示することが好ましい。 【0062】 一般には、トレンド形状要素176はそれぞれ1次元の形状であることが好ま
しい。この1次元の形状は、例えば定常状態の動きには水平の直線など、それが
対応する特定のトレンドの動きの包括的なプロットに似ることが好ましい。 【0063】 当業者は本明細書の説明から、プロセス変数についての履歴データをトレンド
の動きのセットの1つに変えられるものであれば、どのアルゴリズムでも本発明
に従って使用できることを認識されよう。また、様々なトレンドの動きを表すの
に、様々なタイプのトレンド要素形状を使用してよい。各種の参考文献がトレン
ド分析に適するアルゴリズムについて記述している。そのような参考文献には、
Xia,Betty Bin著「Similarity Search in Time Series Data Sets」、M.S.Thesi
s、サイモンフレーサー大学(1997年)、Bakshi,B.R.およびStephanopoulos
,G.著「Representation of Process Trends-III.Multiscale Extraction of Tre
nds from Process Data」、Computers & Chemical Engineering,Volume 18,pp.2
67〜302,(1994年)、Janusz M.およびVenkatasubramanian,V.著「Automatic Ge
neration of qualitative description of process trends for fault detectio
n and diagnosis」Engng.Applic.Artif.Intell,4,329〜339,(1991年)、Rengas
wamy R.およびVenkatasubramanian,V.著「A syntactic pattern-recognition ap
proach for process monitoring and fault diagnosis」Engng.Applic.Artif.In
tell,8,35〜51,(1995年)、およびCheung,J.T-YおよびStephanopoulos,G著「Re
presentation of process trends.I.A formal representation framework」、Co
mputer & Chemical Engineering,Vol.14,No.4-5,pp.495〜510(1990年5月)、が
含まれる。履歴データ、好ましくは新しい履歴データを、例えば単純な線の要素
によって表される汎化プロットなど、トレンドのプリミティブ要素によって表示
可能なトレンドの動きに変えるアルゴリズムであれば、任意のものを本発明に従
って使用することができる。 【0064】 プロセス変数の他の特性を定義するのに、色分け(カラーコーディング)を使
用することもできる。例えば、プロセス変数オーバービューアイコン172に表
示されるトレンド形状要素176を色分けして、プロセス変数の現行値と、その
プロセス変数のユーザ定義の制限値との関係を反映させることができる。例えば
、プラントオーバービューアイコン162中のトレンド形状要素176の色を黒
にして、そのプロセス変数の現行値がユーザ定義の制限値内にあることを示すこ
とができる。あるいは、色を黄色にして、プロセス変数の現行値が、ユーザ定義
の制限値の一定のパーセンテージ内にあることを示すことができる。あるいは、
色を赤にして、プロセス変数の現行値が、ユーザ定義の制限値から少なくとも一
定のパーセンテージだけ外にあることを示すことができる。この制限値について
は、下記でグラフィカルユーザインタフェース50の他の部分との関連でさらに
説明する。 【0065】 色分けは、さらに、プラント構成要素アイコン162に示すように、プロセス
変数トレンドアイコン172の背景177に使用することができる。例えば、色
セットのうち何色かを、特定のアプリケーションに合った、任意のアルゴリズム
、警報、あるいはセンサに対応させるすることができる。例えば、プロセス変数
について警報を出すべき状況が明白である場合には、トレンドアイコンの背景1
77を緑色にすることができる。 【0066】 プロセス変数トレンドアイコン172はそれぞれ、トレンド分析アルゴリズム
が実行される、対応するプロセス変数にリンクされている。プロセス変数トレン
ドアイコン172は、そのプロセス変数を適用するプラント構成要素(例えばプ
ラント構成要素162には2つのプロセス変数を適用する)を反映した、関連付
けられた静的プラント構成要素アイコン161〜164すなわちビットマップに
埋め込まれる。プラント構成要素アイコン161〜164は、プロセス変数トレ
ンドアイコン172を視覚的かつ概念的にグループ化し、ユーザが、コントロー
ラ14の問題がどこに見られるか把握するのを助ける。そのようなトレンドアイ
コン172のグループ化は、トレンドアイコン172をプロセス変数タイプ(例
えば操作変数、制御変数、および外乱変数)のグループにまとめることによって
さらに強化される。例えば、図5Aに示すように、プラント構成要素アイコン1
61を参照すると、操作変数166はプラント構成要素アイコン161の上部の
領域にグループ化され、外乱変数168は操作変数166の下にグループ化され
、制御変数170はプラント構成要素アイコン161の下部領域にグループ化さ
れている。変数のタイプ別のグループは、グループを区別する細線で区切られて
いる。 【0067】 プロセス変数トレンドアイコン172は、効果的にするのに、プラント構成要
素アイコン161〜164に埋め込まなくともよい。これらのトレンドアイコン
172は、例えば、行および列の形式で配置しても、そのプロセス変数の名前を
示すテキストとともに配置してもよく、あるいはユーザがそこから適切な情報を
得るのを助けるのに有益でありうる任意の他の方式で構成してもよい。 【0068】 さらに、プロセス変数の動きを表すトレンド形状要素176は、単独で表示し
ても、または、トレンド形状要素の背景を提供するトレンドアイコン172のビ
ットマップのようにビットマップの一部として表示してもよい。当業者は、トレ
ンドアイコン172において複数のトレンド形状要素を使用して動きトレンドを
表せることを認識するであろう。例えば、トレンドアイコン172中で45度の
角度で上に延びるトレンド形状要素を、低下レートを表す例えば「D」の記号と
ともに使用して、プロセス変数がランプアップする特定のレートを表すことが可
能である。同様に、プリミティブトレンド形状の任意の数の組合せを使用して、
プロセス変数の動きトレンドを表してもよい。本発明は、トレンド形状要素の特
定のどのようなセットにも、また、そまれによって表される動きトレンドのセッ
トにも制限されるものではない。同様に、例えばアイコン172の上部に上限を
表す線を示すなどのような、プロセス変数の制限を表す要素をトレンドアイコン
中に表示してもよい。例えば、制限線の表示を使用して、プロセス変数の現在値
がユーザ定義の上限値に近づきつつあることを示すことができる。 【0069】 さらに、多変数プロセスオーバービュートレンド表示152は、ユーザがトレ
ンドアイコン172に関する追加情報を集める際の助けとなるステータスバー1
60を含む。例えば、マウスがオーバービュートレンドアイコン172の上を通
過すると、関連するフラグや、制限値に近づいていることを示すテキストによる
警報、あるいは望まれる任意の他のテキスト事項といった追加情報の短い説明と
ともに、そのトレンドアイコンに対応するプロセス変数の説明が表示される。ス
テータスバー160は、ユーザが低下率を表すトレンド形状要素185の低下な
どのような、異常な状況に気付いたときに、別の画面に移ることなく何らかの情
報を得る方法を提供する。ステータスバー160は、ユーザが予想した異常信号
を確認するか、あるいは後に取るべき問題解決行動を指図する役目を果たすこと
ができる。 【0070】 多変数プロセスオーバービュートレンド表示152はさらに、より詳細な情報
へのナビゲーションを提供する。例えば、トレンドアイコン172はそれぞれ、
多変数プロセス行列表示201の特定の行または列にリンクされている。これに
ついては、下記で図9および図10を参照してさらに詳しく説明する。さらに、
各トレンドアイコン172または単にトレンド形状要素だけを、プロセス変数詳
細および変更ビュー表示インタフェース領域250にリンクさせることができる
。ユーザがトレンドアイコン172の1つを選択すると、行列(マトリクス)表
示201中のそれに対応する行/列がハイライト表示され、さらに、選択された
トレンドアイコン172に対応するプロセス変数についてのより詳細な情報が、
プロセス変数詳細および変更ビュー表示インタフェース領域250に示される。 【0071】 本明細書の説明から、当業者には、多変数プロセスオーバービュートレンド表
示152が、ユーザが多変数プロセスのパフォーマンスを監視する助けとなるこ
とが認識されよう。安定したプロセスの場合には、トレンドアイコン172は平
坦で非特徴的な表示になる。プロセスにおいてプロセス変数が定常状態から外れ
て他の状態に移行し始めると、トレンドアイコン172は、図5Bの好ましいト
レンド形状要素176で表すように、傾斜した線や曲がった線に変形される。こ
の変形は容易に認められ、ユーザの注意を移行中のプロセス変数に引きつけてそ
のような変化を通知する。完全なプロセスのインタフェースの場合には、個々の
トレンドアイコン172を、マウスのクリックによる選択、またはキーボードを
使用した選択などのような上記のような移行中のプロセス変数に関するより詳細
な情報にリンクすることができる。 【0072】 さらに当業者には、選択したオーバービュートレンドアイコン172について
の、プロセス変数詳細および変更ビュー表示インタフェース領域250に示され
るより詳細な情報は、表示領域150および表示インタフェース領域250の両
方が単一の画面上に表示される点で、特に有益であることが認識されよう。従っ
て、ユーザはナビゲーションを極めて容易に行うことができ、ユーザは、複数の
種の情報を同一画面上に表示して評価することができる。 【0073】 図6に、プロセス変数詳細および変更ビュー表示インタフェース領域250を
より詳細に示す。プロセス変数詳細および変更ビュー表示インタフェース領域2
50により、ユーザは、プロセス変数の制御制限値を操作し、プロセス変数の制
限値範囲および現在値の視覚的な履歴および文字による履歴の両方を見ることが
できる。表示インタフェース領域250は、ユーザが、有意な様式で、十分な情
報を得た正確な制限値変更を行うことを補助する。 【0074】 プロセス変数詳細および変更ビュー表示インタフェース領域250は、トレン
ド履歴/予測プロット252、プロセス変数ゲージインタフェース256、およ
びボタンインタフェース258を含む。当業者は、図6が、図3に示した表示領
域250をわずかに変更したものであることを認識するであろう。しかし、全体
的には、表示画面の一部分だけを変え、ボタンインタフェース258については
異なるボタンに異なる名前を提供している。 【0075】 下記でさらに説明するように、ユーザは、一般に、表示インタフェース領域2
50のプロセス変数ゲージインタフェース256により、プロセス変数の現在値
についての現在の制限値を見ること及びそれを操作することができる。ボタンイ
ンタフェース258により、ユーザは、予測、および制限値のわずかな変更によ
って生じる影響を見て、コントローラにその変更を実行するように命令し、また
、制限値を以前の制御インターバルで使用していた値に戻すことができる。例え
ば、「What If」ボタン601は、コントローラに、ユーザが行った制限
値の変更に対して予測を生成してそれを表示領域260で見られることができる
ように、反復の実行を開始させる。これについては下記でさらに説明する。「E
nter」ボタン602は、ユーザが変更を希望する場合、その制限の変更を実
行するようにコントローラに命令する。さらに、ユーザが制限の変更の実行を望
まない場合には、「Restore」ボタン603を選択すると、制限値が以前
の制御インターバルで使用されていた値に戻される。 【0076】 トレンド履歴/予測プロット252は、拡張されたトレンド分析能力、および
柔軟性のある時間スケール操作を提供する。図8に、トレンド履歴/予測プロッ
ト252のより詳細な図を示す。特定のプロセス変数の履歴値のトレース350
に加え、このプロット252には、プロセス変数の予想される動きを示す予測ト
レンドトレース352も表示される。さらに、トレンド履歴プロット350およ
び予測プロット352に反映される時間スケール(例えば、短い又は長い期間)
および/または時間枠(例えば以前または後の期間)を調節することができる。 【0077】 トレンド履歴/予測プロット252の垂直の目盛り357は、プロセス変数ゲ
ージインタフェース256が指定する目盛りに一致している。これについては下
記でさらに説明する。すなわち、技術上のハードの上限および下限は、プロット
252とプロセス変数ゲージインタフェース256に関して等しい。このように
等しいことにより、トレンドをプロセス変数ゲージインタフェース256と比較
することが容易になる。上部のバー354および下部のバー355の2つのバー
は、プロセス変数に対して設定された制限の履歴を表す。例えば、下部のバー3
55は、オペレータが設定した下限と、技術上のハードの下限設定との間のΔを
反映し、上部のバー354は、オペレータ設定の上限値と、技術上のハードの上
限値設定との間のΔを反映している。図8で分かるように、下部のバー355は
、Δが時間ウィンドウにわたって同じ状態であることを反映し、上部のバー35
4は太くなりΔが増加していることを示している。制約履歴バーの色は、ユーザ
定義の制限値に対しての、プロセス変数の現在値の制限値に近づいた状態の関数
として変化し得る。例えば、プロセス変数の現在値が、オペレータ設定の上限値
と下限値の間にある場合には、制約履歴バーが例えばグレーなどの特定の色にな
る。現在値がオペレータ設定のハードの上限値または下限値に近くなると、バー
は、例えば黄色など別の色に変わる。さらに、例えば、プロセス変数の現在値が
、オペレータ設定の上限または下限を1%以上超えると、バーは赤などのさらに
別の色に変わる。 【0078】 図6に示すように、プロセス変数詳細および変更ビュー表示インタフェース領
域250にはさらに変更ログ260が含まれる。変更ログ260は、制限の変更
に関する重要な情報を自動的に記録し、ユーザにその理由を解明させる。ユーザ
がボタンインタフェース258を介して制限変更を「Enter(入力)」する
と、プロセス変数と、古い値および新しい値、日付およびタイムスタンプ270
、272、およびアクター(actor)などの各種パラメータとを指定するフィー
ルドを備えたログ・エントリが提供される。 【0079】 プロセス変数ゲージインタフェース256は図7A〜7Bにより詳細に示して
おり、これらの図に示すその各種の実施形態を参照して説明する。本明細書に説
明するグラフィカルユーザインタフェース50を使用して実施することが可能な
様々なプロセス制限には任意数の制限セットが含まれ、本発明は、どの特定タイ
プのセットにも、セットの数にも制限されない。ただし、図7A〜7Gを参照し
て説明するように、プロセス変数ゲージインタフェース256では4タイプの制
限を使用することが好ましい。ここでは、プロセス変数ゲージインタフェース2
56の理解につながるように、まず4つの制限のそれぞれについての定義を提供
する。 【0080】 ここで用いる場合、技術上の物理的制限値とは、機器または計測装置の物理的
な制限を定義する制限値を指す。この値は、プロセス変数の有意の定量化の可能
な最も広い範囲を表す。例えば、センサが提供可能な測定値に対する技術上の物
理的制限があってよい。 【0081】 ここで用いる場合、技術上のハードの制限値とは、ユーザ、特に制御エンジニ
アによって設定される制限値であり、これにより、オペレータまたは別のユーザ
が、オペレータ設定の制限値を安全に設定できる範囲が確立される。 【0082】 ここで用いる場合、オペレータ設定の制限値とは、オペレータがコントローラ
14に作用を加えるための制限値である。この制限値により、制御の解法が、十
分な程度の自由性が与えられる場合に、自由に行える範囲が確立される。 【0083】 最後に、ここで用いる場合、本明細書ではデルタ柔軟(ソフト)帯とも呼ぶ、
最適化の柔軟な制限は、最適化計算が守ろうとする、オペレータ設定制限内のオ
フセットを記述する擬似制限である。 【0084】 プロセス変数ゲージインタフェース256はプロセス変数ゲージ280を含み
、これにはゲージ軸285(画面に表示されていない)と、ゲージ軸285に平
行に延びる目盛り282を含む。1つまたは複数のバー284が、ゲージ軸28
5に沿って延びる。各バーは、特定のプロセス変数に対する高いプロセス制限値
および低いプロセス制限値のセットを表している。さらに、ポインタ297のよ
うなグラフィック形状が、プロセス変数の現在値を表すゲージ軸285に沿って
表示される。ゲージ軸285に沿って延びるグラフィカルバー要素284は、特
定のプロセス変数に関して任意数の異なるタイプの制限を表すことができるが、
好ましくは、1つまたは複数のグラフィカルバー要素284は、技術上のハード
の制限とオペレータ設定の制限の1つを表すことが好ましい。オプションで、例
えばポインタ298などのような、1つまたは複数の追加のグラフィック形状を
目盛り282に沿って配置して、プロセス変数の1つまたは複数の予測値を示し
てもよい。予測値は、例えば、将来の値でも、定常状態で予測される値でもよい
。さらに、追加のグラフィック形状を使用して、例えば、中間値、極値などの履
歴値を示すこともできる。 【0085】 図7Aに示すように、1つまたは複数のグラフィックバー284は、ゲージ軸
285に沿って延びる第1のバー281を含む。第1のバー281の第1の上部
端286は技術上のハードの上限を表し、第2の端288は技術上のハードの下
限を表す。さらに、1つまたは複数のグラフィックバー要素284は第2のバー
283を含むことが好ましく、これは第1のバー281の中に表示されることが
好ましい。第2のバー283は、オペレータ設定の制限を表す。第2のバー28
3の第1の端290はオペレータ設定の上限を表し、第2のバー283の第2の
端291はオペレータ設定の下限を表す。制限値はゲージの横にテキスト形態で
も示されていることに気付かれよう。例えば、技術上のハードの上限値がテキス
トフィールド301に示され、オペレータ設定の上限値がテキストフィールド3
02に示され、オペレータ設定の下限値がテキストフィールド304に示され、
技術上のハードの下限値がテキストフィールド305に示される。プロセス変数
の現在値はテキストフィールド303に示される。 【0086】 オペレータ設定の上限値および下限値をそれぞれ表す第2のバー283の第1
の端290および第2の端291に隣接した、ハッシュ領域は最適化柔軟制限で
ある。これらの制限は、デルタ柔軟(ソフト)上限帯295およびデルタ柔軟(
ソフト)下限帯296を定義する。このハッシュマーク(hashed mark)は、デ
ルタ柔軟上限とデルタ柔軟下限が重なると(例えば、デルタ柔軟上限および下限
が、オペレータ設定の上限および下限によって定義される領域と比較して大きい
場合など)、斜方向のハッシュマークが、デルタ柔軟上限および下限のそれぞれ
の比率に対して、例えばグラフ上の或る点、例えば線など(図7C参照)、に集
まる。グラフィカルディスプレイのこの新しい機能は、擬似目標点、すなわちデ
ルタ柔軟帯が重なるときに最適化アルゴリズムによって使用される目標最適化値
を正確に表す。コントローラ14は、可能であれば、擬似設定値に対してプロセ
ス変数を制御しようとする。 【0087】 プロセス変数ゲージ280はさらに、上限操作フラグ292および下限操作フ
ラグ293を含む。これらの操作フラグ292、293は、ユーザが設定された
制限値を変更するのに使用することができる。例えば、ユーザの権限レベルに応
じて、操作フラグを制限値バーに固定し、ユーザは許可された場合にフラグを操
作することができるようにする。例えば、(図7Aに示すように)図では上限操
作フラグ292および下限操作フラグ293だけがオペレータ設定の制限値から
延びており、許可されたユーザによって制限値を変更することができるが、同様
にして追加の操作フラグを第1のバー281の端から延ばし、例えば、適切な権
限を有するエンジニアなどのユーザが、技術上のハードの制限値を修正できるよ
うにしてもよい。また、そのような操作フラグをデルタ柔軟帯の端295、29
6の端から延ばして、ユーザが最適化柔軟制限を修正できるようにしてもよい。 【0088】 プロセス変数の表示される制限および現在値は、単一のゲージ軸285に沿っ
た単一の目盛りに示され、画一的な基準フレームを作成している。ユーザは、テ
キストフィールド301〜302および304〜305で従来様式のテキスト入
力による変更を行うか、または操作フラグ292、293をゲージ軸285に沿
ってドラッグすることにより、制限の変更を行うことができる。このように機能
を組合せると、ユーザは画一的な基準フレーム中で関連する情報と対話すること
ができるので、制限値に有意な変更を行うことが促進される。 【0089】 プロセス変数ゲージ280の目盛り282は自動的に調節され、ゲージのデー
タが意味をなすコンテクストで表示されることを保証する。例えば、図7Cに示
すように、矢印297によって表されるプロセス変数の現在値が技術上のハード
の制限範囲の外にある場合、目盛り282が動的に再校正されて、オペレータ設
定の制限値に20%の余裕分を足した範囲を目盛り282に示す。つまり、目盛
りは2,000までだったのが、2,200までに変わる。偏位が起きる目盛り
282の一端のみが再設定され、他のグラフィック要素は新しい目盛りに適合す
るように調節される。目盛り282は、プロセス変数の現在値が技術上のハード
の制限範囲から逸脱し続けると、漸増的に調節を行う。例えば、矢印が目盛り2
82の端から5%内に来ると、目盛りの範囲は、技術上のハードの制限範囲の2
0%を追加した分だけ調節される。例えば、そような追加的な目盛りの再設定を
図7Dに示し、そこでは、ポインタ297で示すように現在値が2,160に近
づいている。次に、目盛りの範囲は2,640まで増加され、これは、図7Cに
示す以前の目盛り範囲にその20%を加えたものである。 【0090】 ポインタ297またはプロセス変数ゲージ280の他の要素の色分けを使用す
ることにより、プロセス変数の現在値と、プロセス変数に対してのユーザが定義
した制限との間の関係を反映することができる。例えば、グラフィック形状また
はポインタ297を、対応するプロセス変数の現在値が、技術上のハードの上限
値と下限値の間にある場合には、特定の色、例えば、グレーにすることができる
(図7B参照)。また、対応するプロセス変数の現在値が、技術上の上限値と下
限値の対のうちどちらかの近く、例えば1%以内、にある場合には、ポインタ2
97を別の色、例えば黄色にすることができる(図7C参照)。さらに、現在値
ポインタ297によって表される対応するプロセス変数の現在値が技術上のハー
ドの上限値および下限値から少なくとも一定の割合だけ外にある場合に、ポイン
タ297をさらに別の色、例えば赤にすることができる(図7D参照)。 【0091】 図7Dに示すように、プロセス変数の現在値は、バー281で表す技術上のハ
ードの制限の外にある。そのような場合は、点線のバー299で示すように、そ
のプロセス変数の技術上の物理的な制限を、ゲージ軸285に沿って表すことが
できる。さらに、そのようなバー299を特定の色にして、現在値がこのように
外れていることをユーザに警告するか、または、グラフィック要素299を目盛
り282上の単純な線またはポインタにして、そのプロセス変数の技術上の物理
的な制限を表すことができる。ただし、いくつかの方式では、技術上の物理的な
制限はゲージ軸285に沿って表示される。 【0092】 プロセス変数ゲージ280が異なる外観を有しうるケースの2つの他の例とし
ての実施形態は、プロセス変数が外乱変数である場合と、技術上のハードの制限
値を定義しない場合とである。例えば、図7Eに示すように、外乱変数の場合、
プロセス変数ゲージ280はかなり単純なものになり、目盛り282、および外
乱変数の現在値を表すポインタ297だけが含まれる。外乱変数のゲージが単純
になるのは、外乱変数は制御が不可能であり、単にコントローラ情報を提供する
ものである、という事実によることに留意されたい。 【0093】 図7Fは、技術上のハードの制限値を定義していない場合の、例示的なプロセ
ス変数ゲージ280を表している。この図に示すように、プロセス変数ゲージ2
80からは単にそのような制限が除かれている。技術上のハードの制限値を定義
しない場合の目盛り282は、オペレータ設定の制限に基づく。例えば、目盛り
はオペレータ設定の制限の範囲の120%にすることができる。 【0094】 プロセス変数ゲージ280の他の例示的な表示も可能である。例えば、報告さ
れたプロセス変数の値が技術上の上限または下限の範囲内にない場合、または非
合理的なデータを受け取った場合には、背景色を薄い黄色に変え、かつ/または
矢印をシャドー(影)モードで示して、知られる最後の良好な値の位置に置くこ
とができる。このシャドー表示の矢印を使用することにより、プロセス変数の値
が不確定であることを示す。シャドー表示の矢印は、現在のコントローラの反復
で更新されなかったアナライザ値を表すか、または信号を損失した変数に対する
知られる最後の良好な値を表すことができる。 【0095】 図7Gに示すように、デルタ柔軟上限帯295とデルタ柔軟下限帯296のハ
ッシュ領域は、デルタ柔軟上限帯とデルタ柔軟下限帯の合計が、オペレータ設定
の上限値と下限値の間の範囲よりも大きくなると、重なる。これが生じると、2
つのハッシュ帯は、(オペレータ設定の下限値)+[(デルタ柔軟下限帯)/(
デルタ柔軟上限帯+デルタ柔軟下限帯)]に位置する線で接することになる。そ
のようなデルタ柔軟帯の重なり合いが生じると、ポインタ297で表される現在
値は、ハッシュ領域の交差点、すなわち擬似設定値で最適化すべきである。した
がって、図7Gに示すように、デルタ柔軟上限帯および下限帯は、静止(restin
g)値、すなわち擬似設定値に最適化されたプロセス変数を提供するように設定
される。デルタ柔軟上限帯対デルタ柔軟下限帯の範囲により、デルタ柔軟制限帯
の重なり合いのどこで現在値を最適化するかが決まることが、認識されよう。例
えば、デルタ柔軟上限帯がデルタ柔軟下限帯の2倍の大きさである場合は、上記
の計算、すなわち(オペレータ設定の下限値)+[(デルタ柔軟下限帯)/(デ
ルタ柔軟上限帯+デルタ柔軟下限帯)]で示される、デルタ柔軟帯の重なり合い
を表すハッシュ領域中のオペレータ設定の下限値から3分の2の上がった位置で
、最適化する。 【0096】 ユーザは、アクセスすることができる制限値を様々な方式で操作することがで
きる。ユーザは、プロセス変数ゲージ280の右側に表示されるテキストフィー
ルド301〜302および303〜304を用いるなどして、従来様式のテキス
ト入力を使用することができる。あるいは、制限フラグ292、293を使用し
て、当該の制限を直接に操作することもできる。これは、例えば、制限フラグを
クリックして、それを新しい値までドラッグすることによって達成することがで
きる。ユーザが2つのオペレータ制限フラグを同じ値にドラッグすると、1本の
黒い線が表示され、2つの制限フラグを視覚可能にする。これは、設定値制御の
ためのインディケータとなる。ユーザがオペレータ設定の下限フラグ293をオ
ペレータ設定の上限フラグ292よりも大きな値へはドラッグできないようにす
ることが好ましく、またこの逆も同様であることが好ましい。変更に使用する技
術に関係なく、プロセス変数ゲージ280の右側のテキストフィールドは、制限
の変更を実施するか又は以前に表示されていた制限に戻すためにボタンインタフ
ェース258の「Enter(入力)」または「Restore(レストア)」
のボタンが作動されるまで、青になっている。 【0097】 プロセス変数ゲージ280は、好ましくは連続的な多変数プロセスにおける、
特定のプロセス変数と関連付けられたパラメータを監視および操作するために使
用する。関連する情報の表現、例えばバーゲージと、制御可能なパラメータを変
更する機能を統合することにより、ユーザは困難な制御の変更を行うことができ
る。 【0098】 多変数プロセス行列(マトリクス)表示領域200は、多変数プロセス行列表
示201、およびプロセス変数詳細など他の表示を含む。これについては図11
に示しており、この図を参照してさらに説明する。例えば、領域200のタブセ
クション211の行列タブをクリックすると行列表示201が表示され、タブ領
域211のプロセス変数詳細タブをクリックまたは選択すると、プロセス変数詳
細表示230が図11に示すように表示される。 【0099】 多変数プロセス行列表示201は一般に情報のマトリクスアレイ(行列配列)
218を含み、これには、1つまたは複数の制御された変数と1つまたは複数の
操作された変数、または1つまたは複数のプロセス変数の1つまたは複数の特性
を記述する情報の間の少なくとも1つの関係を記述する情報が含まれる。1つま
たは複数の制御された変数204を行列配列218の第1の軸に沿って表示し、
1つまたは複数の操作された変数206を行列配列218の第2の軸に沿って表
示することが好ましい。さらに、図9に示すように、操作された変数206と同
じ軸に沿って外乱(disturbance)変数208も表示することができる。 【0100】 制御される変数204、操作される変数206、および外乱変数208は、行
列(マトリクス)218の軸に沿って表示されるテキストラベルのセットである
。情報の行列配列218は、利得値、利得遅延プロット、遅延値、影響の方向な
どのような、制御される変数と操作される変数206との間の関係を記述する任
意の情報を含むことが好ましい。そのような情報は利得値408を含むことが更
に好ましい。制御変数204と操作変数206との間の関係を示す利得値行列は
、コントローラで使用するために少なくとも部分的に以前の表示で使用されてい
る。例えば、本明細書にその全体を参照として援用するハネウェル(R)ユーザ
ーズガイド(Honeywell Users Guide)の93ページに記
載されるように、操作変数、制御変数、および外乱変数の表の利得値を含む行列
配列が、表示画面に示される。 【0101】 図9に示す行列表示201は、知られている利得行列を用いている。例えば、
そのような利得行列配列218は、行によって配列された各制御変数に対しての
、カラムによって配列した操作変数と外乱変数の間の定常状態の利得値408の
表である。利得値408は大きさと符号の両方を有する。行列情報の複雑性を軽
減するために、利得値408を−/0/+の記号で置き換えて、操作変数または
外乱変数が、利得の大きさを指定せずに制御変数に及ぼす方向的影響を示すこと
ができる。多数のプロセス変数のカラムまたは行の数が、使用可能な表示スペー
スを超える場合は、スクロールバー216および214を使用して、すべてのプ
ロセス変数へのアクセスを提供することができる。 【0102】 しかし、利得行列が知られているものの、本発明では、知られる利得行列と組
合せて追加または補助的な要素および/または技術を提供することにより、ユー
ザが利得行列を効果的に使用するためのツールを提供する。例えば、図9に示す
ように、選択されたプロセス変数は、選択されたカラムまたは行の全体の周りに
描かれる色付きの長方形によって、行列表示201においてハイライト表示する
ことができる。例えば、そのような選択されたプロセス変数は、「C3 yie
ld」およびそれに関連する行の周囲に構成された長方形406によって示され
る。このようにハイライト表示された行は、ユーザを特定のプロセス変数に集中
させ、また、下記でさらに説明するように、そのプロセス変数に関するより詳細
な情報を領域250に表示する。 【0103】 さらに、例えば、従来の利得行列で使用される別の補助的なグラフィカルツー
ルは、視覚的なキューとして作用する色の使用である。例えば、通常の状況では
、利得値は白い背景に黒のテキストで表示される。しかし、テキストの色および
背景の色は、視覚的なキューとして作用するように変えることができる。例えば
、行403、405で示すようなカラムまたは行におけるグレーアウトされた(
grayed−out、灰色にされた)テキストは、そのプロセス変数が制御か
ら外されたことを示す。さらに、グレーアウトされた行またはカラムは、そのプ
ロセス変数が、コントローラに或る度合いの自由度を犠牲にさせる状態にあるこ
とを示すことができ、例えば、制御変数は、行402、404、およびカラム4
00に示すように設定値にまたは制限値までに制約される。またさらには、例え
ば、カラムのハイライト表示または行のハイライト表示の画面は、ツールバーの
プルダウンメニューから選択することができる。例えば、オプションの1つは、
グレーアウトした行またはカラムを表示して、或る変数が最終的解法式の一部で
はない状態、例えば、制御変数が制約されていない状態または操作変数が制約さ
れている状態などにあることを示すことである。さらに、別のオプションは、ユ
ーザが、コントローラの状態を改善するために変更することができる変数と関連
付けられた行またはカラムをハイライト表示することである(例えば、技術上の
ハードの制限内にあるオペレータ設定の制限における操作変数や、設定値に制約
された制御変数)。更に、他の注釈用の技術を追加することも、現在の技術を修
正してユーザアプリケーションに対応するようにすることもできる。 【0104】 さらに、多変数行列表示201の一部をなす補助的グラフィカルツールは、サ
マリーゲージ表示210であることが好ましい。サマリーゲージ表示210は、
複数のグラフィカルデバイス212を含む。グラフィカルデバイス212はそれ
ぞれ、それに対応するプロセス変数の状態を少なくとも表す。例えば、グラフィ
カルデバイス212は、それが表すプロセス変数の現在値の状態のどのようなグ
ラフィック表現でもよい。さらに、例えば、グラフィカルデバイス212は、特
定のプロセス変数の現在値と、プロセス変数に関連付けられた制限値の1つまた
は複数のセットとを組み合せたものに関するテキスト情報であってもよい。 【0105】 サマリーゲージ表示210は、行列表示201に表示される各プロセス変数に
ついてのグラフィカルデバイス212を含むことが好ましい。グラフィカルデバ
イスは、それが対応しているプロセス変数の近くに配置することが好ましい。こ
れは、例えば、ユーザが、グラフィカルデバイス212によって示されるプロセ
ス変数の状態と、行列配列218中の利得値の両方を視覚的に評価することがで
きるような位置である。グラフィカルデバイス212は、例えば、行列配列21
8とプロセス変数の一覧との間などのような、プロセス変数のテキストによる一
覧のすぐ隣りにあることがさらに好ましい。グラフィカルデバイス212はそれ
ぞれ、サマリー用のグラフィカルデバイスまたは一般化したグラフィカルデバイ
スであることがさらに好ましい。これについては、下記で図10との関連してさ
らに説明する。 【0106】 行列表示201はさらに、自由度インディケータ213を含む。自由度インデ
ィケータ213は、行列表示インタフェース201の上部左の隅に位置し、コン
トローラの状態(health、健康状態)の表示を提供する。自由度インディケータ
213は、利得行列218から延びる斜線、その線の端にある小さなボックス、
およびその線の両側にある1ディジットを含む。線の上部のディジット(常に正
の値として表される)は、制約または制限値にないコントローラ中の操作される
変数、すなわち制御される変数の制御に使用できる操作される変数の数のカウン
トである。線の下のディジット(負の数として表される)は、設定値に制約され
ている制御変数、または制約にある又は制約の外にある制御変数、すなわちコン
トローラ14が対処すべき制御変数の数のカウントである。ボックス中の値は、
この正の値および負の値の合計を表し、自由度インディケータ値と呼ばれる。合
計が0より大きいか又は0に等しい限り、コントローラは制御変数をその設定値
に、またはその範囲内に保つことができる。合計が負の値になると、ボックスの
背景の色が特定の色、例えば紫に変わり、重要な移行が起きていることを示すよ
うにすることが好ましい。 【0107】 自由度を正確に計算する能力は、コントローラ中のすべての操作変数と外乱変
数とすべての制御変数との間の定常状態における利得係数の識別によって決まる
。これは「フル行列(full matrix)」と呼ばれる。フル行列は、プロセスの効
率的な制御には必要とされず、コストや計算的な複雑さの理由で得られないこと
がある。したがって、自由度の表示要素を生成するのに必要なデータは、すべて
のコントローラの具体例では入手することはできない。 【0108】 行列表示201の更なる機能は、行列表示201を、他の情報にアクセスする
ためのブラックボードとして使用できる機能である。例えば、コントローラ14
中のすべてのプロセス変数が行列表示201に表されるので、行列表示201は
、より大きなインタフェースではナビゲーションツールとして使用することがで
きる。行およびカラム(列)は、プロセス変数の更に詳細な情報(例えば他の表
示領域における)にリンクすることができ、この情報には、マウスのダブルクリ
ックといったような選択機構によってアクセスすることができる。例えば、プロ
セス変数204、206、208のうち1つを選択すると、プロセス変数詳細お
よび変更ビュー表示インタフェース領域250に詳細な情報が表示され、これは
行列表示201と同一の画面上に示される。 【0109】 さらに、表示されるプロセス変数は、1つまたは複数の特性に応じてフィルタ
リングまたは分類することができる。この特性は、例えば、制限値への近接度、
最適化特性といったプロセス変数の特性、あるいは操作変数と制御変数との間で
の最も強い利得関係や正の利得関係などのようなプロセス変数間の関係の特性で
ある。1つまたは複数の特性に応じて分類する場合、行列表示に表示されるプロ
セス変数の順序が変えられ、例えば、或る変数が、変数の一覧表示の一番上に表
示される。フィルタリングを行った場合、フィルタリング基準を満たす特定のプ
ロセス変数だけが行列表示に表示される。 【0110】 さらに、行列表示201は、個々に実行される計算アルゴリズムに関する情報
を呈示するように機能することができる。例えば、感度分析により、変数プロセ
ス制限を、他のプロセス変数値の変更が行われる前に、どの程度緩和できるかを
決定することができる。この種の情報は、行列表示201にマップすることがで
きる。これは、すべてのプロセス変数が表され、利得がアルゴリズム自体にとっ
て重要な一要因であるためである。まとめると、行列表示201は、ユーザに有
用な情報を提供するための適切な背景を提供する。 【0111】 さらに、行列表示201は、スクロールバー421、または任意の他の操作可
能要素を含み、これらは、行列表示201およびサマリーグラフィカル表示21
0に適用可能な時間枠を変更するのに使用することができる。例えば、それぞれ
のグラフィカルデバイス212で現在値を表す代わりに、過去の日付または将来
の日付に対しての値を表すことができる。 【0112】 行列表示201を使用すると、操作変数206または外乱変数208の変化が
制御変数204に及ぼす、定常状態での影響を予測することができる。そのよう
な情報は、ユーザが、制御変数における観察される動きの変化を起こしているの
が何であるかを理解するため、また、計画する操作が制御変数に及ぼすインパク
トを予測するための助けとなる。そのような有用性を提供するために、グラフィ
カルデバイス212は、それに対応するプロセス変数の近くに呈示することが好
ましい。 【0113】 一実施形態ではバブルゲージと呼ばれる、これらのサマリーグラフィカルデバ
イス212は、プロセス変数の状態をその制御パラメータおよび、オプションで
、その最適化パラメータメータの面から記述する簡単なグラフィカルデバイスで
ある。そのような簡単なグラフィカルデバイス212は、主に、プロセス変数の
現在値と、例えば、そのようなプロセス変数のオペレータ設定の制限および技術
上のハードの制限などのような1つまたは複数のユーザ定義の制限値との間の関
係の一般的な認識をユーザに与えるものである。そのような情報を簡単に呈示す
ることにより、ユーザには、制約に基づくコントローラ14を支援するために制
限値を操作する余地がどこにあるのかが即座に示され、ユーザは、設定した制限
値との関係してプロセス変数の現在の状態を評価することができる。さらに、そ
のような簡単なグラフィカルデバイス212は、プロセス変数の現在値をその最
適化の目的の観点から示すために使用することができる。これにより、ユーザは
、特定のプロセス変数によってその目的がどれだけ満たされているかを評価する
ことができる。 【0114】 図10に、サマリーグラフィカルデバイス452の説明用のセットを示す。こ
のサマリーグラフィカルデバイス452のセット、例えば、バブルゲージは、プ
ロセス変数の様々な状態を示すものである。一般に、サマリーグラフィカルデバ
イス452はそれぞれ、軸501と、ゲージ軸に表示される、対応するプロセス
変数のユーザ定義のプロセス制限値を表す少なくとも1対の上限要素及び下限要
素(例えば500、502)とを含む。グラフィック形状504(例えば、バブ
ルゲージタイプのサマリーグラフィカルデバイスの場合は小さな中空の円)は、
そのプロセス変数のユーザ定義のプロセス制限値に対しての、例えば現在値など
のような、プロセス変数の状態をゲージ軸501上に表すのに使用される。すな
わち、グラフィック形状504は、軸501上の、そのプロセス変数の現在値を
示す位置に示される。プロセス変数の現在値を表すことが好ましい。しかし、現
在値に加えて、あるいは現在値の代わりに、予測される将来の値および/または
履歴の値を示してもよい。 【0115】 このように非常に簡潔な形態で、1つまたは複数の制限のセットに対してのプ
ロセス変数の状態、例えば、現在値、を表すことにより、ユーザは、特定のプロ
セス変数を迅速に評価することができる。さらに、プロセス変数の現在値を表す
グラフィック形状に加えて、説明用のサマリーグラフィカルデバイス452h、
452i、および452jに示すようなグラフィック記号を使用して、そのグラ
フィカルデバイスに対応するプロセス変数と関連付けられた最適化情報を表して
もよい。 【0116】 そのような例示的実施形態によって表される状態を説明するために、例示的な
サマリーグラフィカルデバイス452a〜jについてさらに詳細に説明する。サ
マリーグラフィカルデバイス452aは、オペレータ設定の制限502および技
術上のハードの制限500を示す通常の状態を表している。例えば、そのような
技術上のハードの制限値およびオペレータ設定の制限502は、ゲージ軸501
に対して直角に延びる平行線によって表すことができる。しかし、当業者は、そ
のようなオペレータ設定の制限502および技術上のハードの制限500は、本
来簡単でユーザによる効果的な評価を可能にする任意のグラフィック要素で表せ
ることは認識されよう。例えば、平行線の代わりに、三角形、曲線、ポインタな
どの他のグラフィック要素を使用して、上記のような制限を表すことができる。
グラフィック形状504は、軸501上の位置に示され、そのグラフィックデバ
イスが対応するプロセス変数の現在値を表す。 【0117】 サマリーグラフィカルデバイス452bは、オペレータ設定の制限が技術上の
ハードの制限500に設定された通常の状態を表す。この場合は、平行線が、ゲ
ージ軸501に沿ったサマリーグラフィックデバイスの外側の領域に、一般には
倍の太さで表示される。グラフィック形状504は軸501上の位置に示され、
このグラフィックデバイスが対応するプロセス変数の現在値を表す。例えば、こ
の例では、現在値は、技術上のハードの制限500とオペレータ設定の制限50
2の中央にある。 【0118】 サマリーグラフィックデバイス452cは、技術上のハードの制限が定義され
ていない現在値の通常の状態を表す。したがって、サマリーグラフィックデバイ
ス452cには、オペレータ設定の制限を表す1セットの平行線502だけが示
される。グラフィック形状504は、軸501上の位置に示され、このグラフィ
ックデバイスが対応するプロセス変数の現在値を表す。例えば、この例では、現
在値は、技術上のハードの制限500とオペレータ設定の制限502の中央にあ
る。 【0119】 サマリーグラフィックデバイス452dは、1対のオペレータ設定の制限50
2のどちらかの0.1%以内にある現在値を表す。そのような構成では、グラフ
ィック形状504は、オペレータ設定の制限を表す平行線の1つのすぐ隣りにあ
る。 【0120】 サマリーグラフィックデバイス452eは、オペレータ設定の制限502をそ
の1%以上超えるが技術上のハードの制限500内にあるプロセス変数の現在値
を表す。したがって、グラフィック形状504は、オペレータ設定の制限502
と技術上のハードの制限500との間にある。 【0121】 サマリーグラフィックデバイス452fは、設定値に制約されたプロセス変数
の通常の現在値を表す。そのような構成では、グラフィック形状504は、技術
上のハードの制限500の間に設定され、そこに設定値の位置を示すために描か
れるウィングチップ506のついた1本の接線がある。グラフィック形状504
とともに任意の追加のグラフィック記号を使用して、設定値の位置を示してもよ
いことは認識されよう。例えば、ウィングチップ506のついた1本の接線では
なく、ゲージ軸501を指すポインタを使用してもよい。 【0122】 サマリーグラフィックデバイス452gは、ワインドアップ状態(終わりの状
態、wound up state)にあるプロセス変数を表す。すなわち、この特定のプロセ
ス変数に影響する制限を有する他のプロセス変数は、制限に直面し、したがって
、この特定の変数がワインドアップされる。コントローラ14を使用して、その
ようなワインドアップされたプロセス変数の状態を認識し、その発生をグラフィ
カルインタフェースに示すことができる。図10に示すように、ワインドアップ
状態は、グラフィック形状504に近接する点線508で表している。グラフィ
ック形状504は、軸501上の位置に示され、このグラフィックデバイスが対
応するプロセス変数の現在値を表す。例えば、この例では、現在値は技術上のハ
ードの制限500とオペレータ設定の制限502との間にある。ワインドアップ
状態が示されると、グラフィック形状の隣りに、変数が移動できない方向に、点
線が引かれる。この状態は、このプロセス変数には動かす余地があるように見え
るが、それがワインドアップされているの動かせないことを示す(例えば、ダウ
ンストリームの制御装置が、制御変数が許容できる制限内にあるものの、物理的
な制限に達している場合)。 【0123】 サマリーグラフィックデバイス452h、452i、および452jはそれぞ
れ、ユーザ定義の制限の1つまたは複数のセットに対してのプロセス変数の現在
値を表す状態を含むだけでなく、特定のプロセス変数についての最適化情報を表
すグラフィック記号も含む。サマリーグラフィックデバイス452hは、技術上
のハードの制限500、オペレータ設定の制限502、および最大にされるプロ
セス変数、または、すなわち、負の線形係数を有するプロセス変数を示す上限に
向けてのポインタまたは矢印510を含む。 【0124】 サマリーグラフィックデバイス452iは、サマリーグラフィックデバイス4
52hと非常によく似ているが、技術上のハードの下限を指す、または、すなわ
ち、正の線形係数を有するプロセス変数を表す矢印またはポインティングデバイ
ス512のグラフィック記号によって示すように、プロセス変数が最小にされる
点が異なる。 【0125】 サマリーグラフィックデバイス452jは、グラフィック形状504を含み、
さらにグラフィック記号514を有する。この場合のグラフィック記号は、例え
ば、十字であり、この特定のプロセス変数が非ゼロの2次係数を有することを示
し、オプティマイザがこのプロセス変数の静止値(resting value)を探してい
ることを示す。グラフィック形状504は軸501上の位置に示され、このグラ
フィックデバイスが対応するプロセス変数の現在値を表す。例えば、この例では
、現在値は、技術上のハードの制限500とオペレータ設定の制限502との中
心にある。 【0126】 それぞれのグラフィックデバイス452についての軸501の端の点は固定さ
れ、それらは2つの目盛り範囲のうち1つを反映する。技術上のハードの制限値
を指定した場合は、目盛り範囲がその値の範囲に正規化される。技術上のハード
の制限値を使用できない場合、目盛り範囲は、オペレータ設定の上限値および下
限値のそれぞれの+/−20%を反映するように設定される。いずれの場合も、
軸に対して直角に引かれる制限の線がオペレータ設定の制限値を示すことが好ま
しい。一般に、技術上のハードの制限は、ダークグレーの直交線として描かれ、
線540および541で示すように複数のグラフィックデバイスを横切って伸び
る端の線の上に重ねられる。オペレータ設定の制限を表す線は、技術上のハード
の制限を表す線よりも短いことが好ましい。 【0127】 当業者は、この例で呈示する小さな中空の円504以外にも任意のグラフィッ
ク形状を使用して、ユーザ定義の制限のコンテクストで定義される正規化された
範囲のコンテクストにおけるプロセス変数の現在値を示してよいことを認識され
よう。さらに、本明細書中の前の例示的実施形態で使用したように、グラフィッ
ク形状と合わせて色分けを使用してもよい。例えば、色のセットのうちの一色(
例えばグレー)を使用して、プロセス変数の現在値が、オペレータ設定の制限(
サマリーグラフィックデバイス452a参照)の間にあることを示すことができ
る。また、プロセス変数の現在値がオペレータ設定の制限に近いときには(サマ
リーグラフィックデバイス452d参照)、別の色(例えば黄色)をグラフィッ
ク形状に使用することができる。また、プロセス変数の現在値がオペレータ設定
の制限を超えた場合には(サマリーグラフィックデバイス452e参照)、別の
色(例えば赤)を使用することができる。 【0128】 サマリーグラフィックデバイス452を使用することにより、プロセス変数の
挙動を、その制御の制限やその最適化の目的値の観点から監視することができる
。ユーザは、例えば、技術上のハードの制限またはオペレータ設定の制限などの
ような制限に関して、例えば、バブルなどのようなグラフィック形状の位置を認
識することによって、これを行うことができる。さらに、ユーザは、2セットの
制限値の間の関係を、それぞれの高い値と低い値の間のスペースを見ることによ
り、認識することができる。さらに、ユーザは、最適化キューおよび現在値の表
示を使用して、例えば、変数がその最適化の目標値を与えられて予想通りに作用
しているか否かを判定するなどのような、変数の最適化性能を評価することがで
きる。ここでも、予測される動きと観察される動きとの不一致があると、ユーザ
はさらに調査をすることができる。 【0129】 複数のプロセス変数に関する情報の他の種々の行列アレイを、図11の説明図
で示すように表示してもよい。例えば、図11では、ユーザがタブ「PV De
tail(PV詳細)」を図9に示すタブ領域211から選択すると、各種の操
作変数、制御変数、および外乱変数についてのプロセス変数ゲージ280の行列
アレイ表示230が示される。同様に、図9に示すタブ領域211の「Tren
d(トレンド、傾向)」タブを選択すると、図6の例えばプロット252に示す
ような、いくつかのトレンド履歴/予測プロットを含むトレンドビューを、表示
ビューに並列に配置することができる。同様に、図9に示すタブ領域211の「
Parameter(パラメータ)」タブを選択すると、詳細およびチューニン
グ用画面の表示が提供される。 【0130】 本明細書で引用するすべての特許および参考文献は、それぞれを個別に組み込
むようにその全体を援用する。本発明について、その好ましい実施形態を特定的
に参照して説明したが、当業者には容易に分かるように、本発明に対する変形形
態および改造形態を、特許請求の範囲内で作成することができる。 【図面の簡単な説明】 【図1】 図1は、本発明による、グラフィカルユーザインタフェースを含むプロセスシ
ステムのブロック図である。 【図2】 図2は、図1に示すグラフィカルユーザインタフェースのデータ流れ図である
。 【図3】 図3は、図1のグラフィカルユーザインタフェースの構成要素を全体的に示す
画面表示である。 【図4】 図4は、図1のグラフィカルユーザインタフェースのオブジェクトモデルの概
観図である。 【図5】 図5Aおよび図5Bは、図3に全体的に示すようなプロセス変数オーバービュ
ー表示領域のより詳細な図である。 【図6】 図6は、図3に示すようなプロセス変数の詳細および変更ビュー表示領域を示
すより詳細な図である。 【図7】 図7A〜7Gは、図6に示すプロセス変数詳細および変更ビュー表示領域のプ
ロセス変数ゲージインタフェースをより詳細に示す図である。 【図8】 図8は、図3のプロセス変数詳細および変更ビュー表示領域において全体的に
示されるインタフェースのようなトレンドインタフェースを表す図である。 【図9】 図9は、図3に全体的に示すような多変数プロセス行列表示領域をより詳細に
示す図である。 【図10】 図10は、図9に示す行列表示で使用されるような、例えばバブルゲージなど
のサマリーグラフィカルデバイスのセットをより詳細に表す図である。 【図11】 図11は、図3に示す表示画面に示される利用可能な複数の画面からユーザが
選択できるプロセス変数詳細画面の図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,MZ,SD,SL,SZ,TZ,UG ,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD, RU,TJ,TM),AL,AM,AT,AU,AZ, BA,BB,BG,BR,BY,CA,CH,CN,C U,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,GB,GE ,GH,GM,HU,ID,IL,IN,IS,JP, KE,KG,KP,KR,KZ,LC,LK,LR,L S,LT,LU,LV,MD,MG,MK,MN,MW ,MX,NO,NZ,PL,PT,RO,RU,SD, SE,SG,SI,SK,SL,TJ,TM,TR,T T,UA,UG,UZ,VN,YU,ZW (72)発明者 ブレマー,ピーター・ティー アメリカ合衆国ミネソタ州55427,ゴール デン・ヴァリー,ユコン・コート 1298 Fターム(参考) 5E501 AC02 BA03 CA03 CB20 EA01 EA34 FA14 FA23 FA46 5H223 BB01 CC01 CC08 DD09 EE08 FF05

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】 少なくとも操作変数および制御変数を含む複数のプロセス変
    数の制御下で実施可能である連続多変数プロセスについてのリアルタイムのプロ
    セスの情報をユーザに提供するグラフィカルユーザ表示であって、 情報の行列アレイであって、前記アレイの第1の軸に沿って表示された制御変
    数のセットのうちの1つまたは複数の制御変数と、前記アレイの第2の軸に沿っ
    て表示された操作変数のセットのうちの1つまたは複数の操作変数との間の少な
    くとも1つの関係を記述する行列アレイと、 1つまたは複数のグラフィカルデバイスであって、各グラフィカルデバイスが
    前記制御変数のセットおよび前記操作変数のセットのうちの対応するプロセス変
    数に近接して位置し、さらに、各グラフィカルデバイスが前記対応するプロセス
    変数の少なくとも1つの状態を表す、グラフィカルデバイスと を備えるグラフィカルユーザ表示。 【請求項2】 前記行列アレイが、前記制御変数のセットの各々と前記各操
    作変数のセットの各々との間の関係を記述する情報を含む、請求項1に記載のグ
    ラフィカルユーザ表示。 【請求項3】 前記制御変数のセットの各々と前記操作変数のセットの各々
    との間の前記関係を記述する前記情報が、各操作変数に対する各制御変数のゲイ
    ン値を含む、請求項2に記載のグラフィカルユーザ表示。 【請求項4】 前記多変数プロセスがさらに、前記第2の軸に沿って表示さ
    れる外乱変数のセットによって定義され、さらに、前記行列アレイが、前記制御
    変数のセットの前記制御変数の各々と前記外乱変数のセットの前記外乱変数の各
    々との間の関係を記述する情報を含む、請求項2に記載のグラフィカルユーザ表
    示。 【請求項5】 前記制御変数のセットの各制御変数と前記外乱変数のセット
    の各外乱変数との間の前記関係を記述する前記情報が、各外乱変数に対する各制
    御変数のゲイン値を含む、請求項4に記載のグラフィカルユーザ表示。 【請求項6】 前記グラフィカルデバイスの各々が、前記制御プロセス変数
    のセットおよび前記操作変数のセットのうちの対応するプロセス変数に隣接して
    位置する、請求項1に記載のグラフィカルユーザ表示。 【請求項7】 1つまたは複数の前記グラフィカルデバイスが、ユーザ定義
    のプロセス上限値およびプロセス下限値の少なくとも1つのセットに対する対応
    するプロセス変数の現在値を表す、請求項6に記載のグラフィカルユーザ表示。 【請求項8】 少なくとも1つの前記グラフィカルデバイスが、 ゲージ軸と、 前記ゲージ軸に沿って配置され、対応する前記プロセス変数の前記現在値を表
    すグラフィカル形状と を含む、請求項7に記載のグラフィカルユーザ表示。 【請求項9】 前記少なくとも1つのグラフィカルデバイスが、対応する前
    記プロセス変数のための前記ユーザ定義のプロセス上限値およびプロセス下限値
    のセットを表す上限要素および下限要素の少なくとも1組をさらに含み、さらに
    、前記ゲージ軸に沿った前記グラフィカル形状が、制限値に対する対応する前記
    プロセス変数の現在値を表す、請求項8に記載のグラフィカルユーザ表示。 【請求項10】 少なくとも1つの前記グラフィカルデバイスが、前記ゲー
    ジ軸に沿って表示される、対応する前記プロセス変数のための技術上のハードの
    上限および下限を表す上限要素および下限要素の第1の組と、前記ゲージ軸に沿
    って表示される、対応する前記プロセス変数のためのオペレータ設定のソフトの
    の限界を表す上限要素および下限要素の第2の組を含む、請求項9に記載のグラ
    フィカルユーザ表示。 【請求項11】 対応する前記プロセス変数の現在値が、前記ユーザ定義の
    プロセス上限およびプロセス下限のセットの1つの或る割合内であるとき、前記
    グラフィカル形状が前記上限要素および下限要素の組の1つの制限要素に隣接し
    て位置する、請求項9に記載のグラフィカルユーザ表示。 【請求項12】 対応する前記プロセス変数の現在値が、少なくとも所定の
    割合だけ、前記ユーザ定義の上限値および下限値のセットの外側であるとき、前
    記グラフィカル形状が前記上限要素および下限要素の組の外側に位置する、請求
    項9に記載のグラフィカルユーザ表示。 【請求項13】 前記グラフィカルデバイスが、対応する前記プロセス変数
    の最適化特性を表すグラフィカル記号をさらに含む、請求項8に記載のグラフィ
    カルユーザ表示。 【請求項14】 前記グラフィカルシンボルが、対応する前記プロセス変数
    が最大化されたことを表す、請求項13に記載のグラフィカルユーザ表示。 【請求項15】 前記グラフィカルシンボルが、対応する前記プロセス変数
    が最小化されたことを表す、請求項13に記載のグラフィカルユーザ表示。 【請求項16】 前記グラフィカルデバイスが、目標静止値にされている対
    応する前記プロセス変数を表すグラフィカル記号をさらに含む、請求項13に記
    載のグラフィカルユーザ表示。 【請求項17】 前記グラフィカルデバイスが、対応する前記プロセス変数
    が設定値に制約されることを表すグラフィカル記号をさらに含む、請求項8に記
    載のグラフィカルユーザ表示。 【請求項18】 前記グラフィカルデバイスが、対応する前記プロセス変数
    がワインドアップされたことを表すグラフィカル記号をさらに含む、請求項8に
    記載のグラフィカルユーザ表示。 【請求項19】 前記グラフィカル形状が、前記ゲージ軸に沿って位置する
    円である、請求項8に記載のグラフィカルユーザ表示。 【請求項20】 前記グラフィカル形状が、色のセットのうちの、前記ユー
    ザ定義のプロセス上限値およびプロセス下限値のセットに対する対応する前記プ
    ロセス変数の現在値を反映する色を有する、請求項8に記載のグラフィカルユー
    ザ表示。 【請求項21】 前記グラフィカル形状のための前記色のセットのうち1つ
    の色が、対応する前記プロセス変数の現在値が前記ユーザ定義のプロセス上限値
    およびプロセス下限値のセット内であること、対応する前記プロセス変数の前記
    現在値が前記ユーザ定義のプロセス上限値およびプロセス下限値のセットの制限
    の或る割合内であること、および、対応する前記プロセス変数の前記現在値が前
    記ユーザ定義のプロセス上限値およびプロセス下限値のセット或る割合だけ外で
    あることを表す、請求項20に記載のグラフィカルユーザ表示。 【請求項22】 前記行列表示が情報の行およびカラムを含み、前記行が、
    前記操作変数のセットおよび前記制御変数のセットのうちの一方に対応し、前記
    カラムが、前記操作変数のセットおよび前記制御変数のセットのうちの他方に対
    応し、さらに、前記行およびカラムの1つまたは複数が、1つまたは複数の行お
    よびカラムに対応する前記プロセス変数の特性を表す特定の色である、請求項1
    に記載のグラフィカルユーザ表示。 【請求項23】 表示された前記制御変数および操作変数のセットの各プロ
    セス変数が、選択された前記プロセス変数に関するより詳細な情報へのナビゲー
    ションのために選択可能であり、前記詳細な情報は前記行列アレイと同じ画面上
    に表示される、請求項1に記載のグラフィカルユーザ表示。 【請求項24】 前記表示が、制御変数の制御に使用可能である操作変数の
    数と、設定値に制約されるか、又はユーザ定義の制限丁度又は制限外であり、コ
    ントローラによって対処される必要がある制御変数の数とを表すインジケータを
    さらに含む、請求項1に記載のグラフィカルユーザ表示。 【請求項25】 対応する前記プロセス変数の状態が、前記対応するプロセ
    ス変数の現在状態、過去状態または予測状態のうちの1つを含む、請求項1に記
    載のグラフィカルユーザ表示。 【請求項26】 少なくとも操作変数および制御変数を含む複数のプロセス
    変数の制御下で実施可能であり、プロセスプラントで実行される連続多変数プロ
    セスに関するリアルタイムのプロセスの情報をユーザに提供するためのグラフィ
    カルユーザ表示を提供するためのコンピュータで実施する方法であって、 情報の行列アレイを表示するステップであって、前記情報の行列アレイは、前
    記アレイの第1の軸に沿って表示される制御変数のセットのうちの1つまたは複
    数の制御変数と、前記アレイの第2の軸に沿って表示される操作変数のセットの
    うちの1つまたは複数の操作変数との間の少なくとも1つの関係を記述する、ス
    テップと、 1つまたは複数のグラフィカルデバイスを表示するステップであって、各グラ
    フィカルデバイスは、前記制御変数のセットおよび前記操作変数のセットのうち
    対応するプロセス変数に近接して表示され、各グラフィカルデバイスは、前記対
    応するプロセス変数の少なくとも1つの状態を表す、ステップと、 前記1つまたは複数のグラフィカルデバイスを連続的に更新するステップと を備える方法。 【請求項27】 前記行列アレイが、前記操作変数のセットの各操作変数に
    対しての前記制御変数のセットの各制御変数との間の関係を記述する情報を含む
    、請求項26に記載の方法。 【請求項28】 各操作変数に対する各制御変数の情報ゲイン値を提供する
    ステップをさらに含み、さらに、前記行列アレイを表示する前記ステップが、こ
    のゲイン値を前記行列アレイにおいて表示するステップを含む、請求項27に記
    載の方法。 【請求項29】 前記多変数プロセスがさらに、前記アレイの前記第2の軸
    に沿って表示される外乱変数のセットによって定義され、さらに、前記方法が、
    前記外乱変数のセットの各外乱変数に対しての前記制御変数のセットの各制御変
    数との間の関係を記述する情報を提供するステップと、そのような情報を前記行
    列アレイにおいて表示するステップとを含む、請求項26に記載の方法。 【請求項30】 前記外乱変数のセットの各外乱変数に対しての前記制御変
    数のセットの各制御変数との間の前記関係を記述する前記情報が、各外乱変数に
    対する各制御変数のゲイン値を含む、請求項29に記載の方法。 【請求項31】 1つまたは複数のグラフィカルデバイスを表示する前記ス
    テップが、前記グラフィカルデバイスの各々を、対応するプロセス変数に近接し
    て表示することを含む、請求項26に記載の方法。 【請求項32】 1つまたは複数のグラフィカルデバイスを表示する前記ス
    テップが、対応するプロセス変数の少なくとも現在状態を表す少なくとも1つの
    グラフィカルデバイスを表示するステップを含み、前記少なくとも1つのグラフ
    ィカルデバイスを表示する前記ステップが、 ゲージ軸を表示するステップと、 前記ゲージ軸に沿って配置され、対応する前記プロセス変数の現在値を表すグ
    ラフィカル形状を表示するステップと を含む、請求項26に記載の方法。 【請求項33】 前記少なくとも1つのグラフィカルデバイスを表示する前
    記ステップが、対応する前記プロセス変数のユーザ定義のプロセス上限値および
    プロセス下限値のセットを表す上限要素および下限要素の少なくとも1組を前記
    ゲージ軸に沿って表示するステップをさらに含む、請求項32に記載の方法。 【請求項34】 前記少なくとも1つのグラフィカルデバイスを表示する前
    記ステップが、対応する前記プロセス変数の技術上のハードの上限および下限を
    表す上限要素および下限要素の第1の組を表示するステップと、対応する前記プ
    ロセス変数のオペレータにより設定されたソフトの制限を表す上限要素および下
    限要素の第2の組を表示するステップとをさらに含む、請求項33に記載の方法
    。 【請求項35】 前記ゲージ軸に沿って配置される、対応する前記プロセス
    変数の現在値を表す前記グラフィカル形状を表示する前記ステップが、 対応する前記プロセス変数の前記現在値が、前記ユーザ定義のプロセス上限値
    およびプロセス下限値のセットの或る割合内にあるかどうかを判定するステップ
    と、 前記現在値がそのような或る割合内にあるとき、前記グラフィカル形状を前記
    上限要素および下限要素の組の1つに近接して表示するステップと を含む、請求項33に記載の方法。 【請求項36】 前記ゲージ軸に沿って配置される、対応する前記プロセス
    変数の現在値を表すグラフィカル形状を表示する前記ステップが、 対応する前記プロセス変数の前記現在値が、少なくとも所定の割合だけ、前記
    ユーザ定義のプロセス上限値およびプロセス下限値のセットの外側であるかどう
    かを判定するステップと、 前記現在値が前記ユーザ定義のプロセス上限値およびプロセス下限値のセット
    の外側であるとき、前記グラフィカル形状を前記上限要素および下限要素の組の
    外側に表示するステップと を含む、請求項33に記載の方法。 【請求項37】 対応する前記プロセス変数の最適化特性を表すグラフィカ
    ル記号を前記ゲージ軸に沿って表示するステップをさらに含む、請求項32に記
    載の方法。 【請求項38】 前記グラフィカル記号が、最大化される対応するプロセス
    変数を表す、請求項37に記載の方法。 【請求項39】 前記グラフィカル記号が、最小化される対応するプロセス
    変数を表す、請求項37に記載の方法。 【請求項40】 前記グラフィカル記号が、目標静止値にされる対応するプ
    ロセス変数を表す、請求項37に記載の方法。 【請求項41】 前記グラフィカルデバイスを表示する前記ステップが、設
    定値に制約される前記プロセス変数を表す追加のグラフィカル形状を表示するス
    テップをさらに含む、請求項32に記載の方法。 【請求項42】 前記グラフィカルデバイスを表示する前記ステップが、ワ
    インドアップされる前記プロセス変数を表す追加のグラフィカル形状を表示する
    ステップをさらに含む、請求項32に記載の方法。 【請求項43】 前記グラフィカル形状を表示する前記ステップが、前記グ
    ラフィカル形状を、対応する前記プロセス変数の前記現在値の前記状態を反映す
    る色で表示するステップを含む、請求項32に記載の方法。 【請求項44】 前記グラフィカル形状のための色のセットのうち1つが、
    前記ユーザ定義のプロセス上限値およびプロセス下限値のセット内にある対応す
    る前記プロセス変数の現在値、前記ユーザ定義のプロセス上限値およびプロセス
    下限値のセットの制限の或る割合内にある対応する前記プロセス変数の現在値、
    および、前記ユーザ定義のプロセス上限値およびプロセス下限値のセット或る割
    合だけ外にある対応する前記プロセス変数の現在値のうち1つを表す、請求項4
    3に記載の方法。 【請求項45】 前記行列アレイを表示する前記ステップが、情報の行およ
    びカラムを含む行列アレイを表示するステップを含み、前記行が、前記操作変数
    のセットおよび前記制御変数のセットのうちの一方に対応し、前記カラムが、前
    記操作変数のセットおよび前記制御変数のセットのうちの他方に対応し、さらに
    、前記方法が、前記行およびカラムの1つまたは複数を特定の色で表示するステ
    ップを含み、前記特定の色は、このような行またはカラムに対応する前記プロセ
    ス変数の特性を前記特定の色で表す、請求項26に記載の方法。 【請求項46】 表示された前記制御変数および操作変数のうちの1つを選
    択するためのユーザ入力を受信すステップと、 前記プロセス変数のうちの選択されたものについてのより詳細な情報を、前記
    行列アレイと同じ画面上に表示するステップと を含む請求項26に記載の方法。 【請求項48】 制御変数の制御に使用可能である操作変数の数を判定する
    ステップと、 設定値に制約される、又はユーザ定義の制限丁度または制限外でありコントロ
    ーラによって対処される必要がある制御変数の数を判定するステップと、 判定された前記操作変数の数と判定された前記制御変数の数との間の関係を表
    すインジケータを表示するステップと を含む請求項26に記載の方法。 【請求項49】 対応する前記プロセス変数の前記状態が、対応する前記プ
    ロセス変数の現在状態、過去状態または予測状態のうちの1つを含む、請求項2
    6に記載の方法。 【請求項50】 複数のプロセス変数を、それに関連付けられた1つまたは
    複数の特性に応じてソートするステップと、 表示された前記プロセス変数の順序を、前記プロセス変数のソートに応じて変
    更するステップと をさらに含む請求項26に記載の方法。 【請求項51】 複数のプロセス変数を、それに関連付けられた1つまたは
    複数の特性に応じてフィルタリングするステップと、 前記複数のプロセス変数のうちの或るものを、その前記フィルタリングに基づ
    いて表示するステップと をさらに含む請求項26に記載の方法。 【請求項52】 少なくとも操作変数および制御変数を含む複数のプロセス
    変数の制御を介して制御される、プロセスプラントで実行される連続多変数プロ
    セスに関する、リアルタイムのプロセスの情報をユーザに提供するためのグラフ
    ィカルユーザ表示を提供するコンピュータ実施の方法であって、 制御変数の制御に使用可能である操作変数の数を判定するステップと、 設定値に制約される、あるいはユーザ定義の制限丁度または制限の外にある制
    御変数の数を判定するステップと、 判定された前記操作変数の数と判定された前記制御変数の数との間の関係を表
    すインジケータを表示するステップと を備える方法。 【請求項53】 情報の行列アレイを表示するステップであって、前記情報
    の行列アレイは、前記アレイの第1の軸に沿って表示される1つまたは複数の制
    御変数および前記アレイの第2の軸に沿って表示される1つまたは複数の操作変
    数の少なくとも1つの特性を記述する、ステップと、 1つまたは複数のグラフィカルデバイスを表示するステップであって、各グラ
    フィカルデバイスは、前記制御変数のセットおよび前記操作変数のセットのうち
    対応するプロセス変数に近接して表示され、各グラフィカルデバイスは、対応す
    る前記プロセス変数の少なくとも1つの状態を表す、ステップと を更に含む請求項52に記載の方法。
JP2001508654A 1999-07-01 2000-06-30 多変数プロセスマトリクス表示およびそれに関する方法 Withdrawn JP2003504709A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US09/346,059 1999-07-01
US09/346,059 US6587108B1 (en) 1999-07-01 1999-07-01 Multivariable process matrix display and methods regarding same
PCT/US2000/018140 WO2001002915A1 (en) 1999-07-01 2000-06-30 Multivariable process matrix display and methods regarding same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003504709A true JP2003504709A (ja) 2003-02-04
JP2003504709A5 JP2003504709A5 (ja) 2007-08-02

Family

ID=23357760

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001508654A Withdrawn JP2003504709A (ja) 1999-07-01 2000-06-30 多変数プロセスマトリクス表示およびそれに関する方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US6587108B1 (ja)
EP (1) EP1194819A1 (ja)
JP (1) JP2003504709A (ja)
AU (1) AU5905600A (ja)
CA (1) CA2377558C (ja)
WO (1) WO2001002915A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007519893A (ja) * 2003-11-12 2007-07-19 プロト マニュファクチャリング リミテッド 材料特性情報を表示するシステムおよび方法

Families Citing this family (293)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5958012A (en) * 1996-07-18 1999-09-28 Computer Associates International, Inc. Network management system using virtual reality techniques to display and simulate navigation to network components
US7342581B2 (en) * 1996-07-18 2008-03-11 Computer Associates Think, Inc. Method and apparatus for displaying 3-D state indicators
US7680879B2 (en) * 1996-07-18 2010-03-16 Computer Associates Think, Inc. Method and apparatus for maintaining data integrity across distributed computer systems
US20030018771A1 (en) * 1997-07-15 2003-01-23 Computer Associates Think, Inc. Method and apparatus for generating and recognizing speech as a user interface element in systems and network management
US20030023721A1 (en) * 1997-07-15 2003-01-30 Computer Associates Think, Inc. Method and apparatus for generating context-descriptive messages
US7315893B2 (en) * 1997-07-15 2008-01-01 Computer Associates Think, Inc. Method and apparatus for filtering messages based on context
DE19810045C1 (de) * 1998-03-09 1999-09-02 Siemens Ag Verfahren und Vorrichtung zur Verarbeitung von anwenderspezifisch in verschiedenen Datenspeichern hinterlegten Daten einer technischen Anlage
US6901560B1 (en) 1999-07-01 2005-05-31 Honeywell Inc. Process variable generalized graphical device display and methods regarding same
US6952808B1 (en) 1999-07-01 2005-10-04 Honeywell Inc. Process variable gauge interface and methods regarding same
DE60043666D1 (de) * 1999-11-26 2010-02-25 Curvaceous Software Ltd Multivariabeles verfahren
MXPA02012834A (es) * 2000-06-30 2003-05-15 Dow Chemical Co Control del proceso de matriz multi-variable.
US20020147809A1 (en) * 2000-10-17 2002-10-10 Anders Vinberg Method and apparatus for selectively displaying layered network diagrams
US6745140B2 (en) * 2001-10-23 2004-06-01 Agilent Technologies, Inc. Electronic test system with test results view filter
US6975921B2 (en) * 2001-11-09 2005-12-13 Asm International Nv Graphical representation of a wafer processing process
US6999081B1 (en) * 2001-11-14 2006-02-14 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Method and apparatus for displaying production data for improved manufacturing decision making
US7165226B2 (en) * 2002-08-23 2007-01-16 Siemens Aktiengesellschaft Multiple coupled browsers for an industrial workbench
GB2394154A (en) * 2002-09-07 2004-04-14 Anthony Robert Wicks Presenting information by displaying a list of items and attributes
US7146231B2 (en) * 2002-10-22 2006-12-05 Fisher-Rosemount Systems, Inc.. Smart process modules and objects in process plants
DE10348563B4 (de) * 2002-10-22 2014-01-09 Fisher-Rosemount Systems, Inc. Integration von Grafikdisplayelementen, Prozeßmodulen und Steuermodulen in Prozeßanlagen
US9983559B2 (en) * 2002-10-22 2018-05-29 Fisher-Rosemount Systems, Inc. Updating and utilizing dynamic process simulation in an operating process environment
US7237109B2 (en) * 2003-01-28 2007-06-26 Fisher- Rosemount Systems, Inc. Integrated security in a process plant having a process control system and a safety system
US7865251B2 (en) * 2003-01-28 2011-01-04 Fisher-Rosemount Systems, Inc. Method for intercontroller communications in a safety instrumented system or a process control system
US7729789B2 (en) 2004-05-04 2010-06-01 Fisher-Rosemount Systems, Inc. Process plant monitoring based on multivariate statistical analysis and on-line process simulation
JP2007536634A (ja) 2004-05-04 2007-12-13 フィッシャー−ローズマウント・システムズ・インコーポレーテッド プロセス制御システムのためのサービス指向型アーキテクチャ
US7799273B2 (en) 2004-05-06 2010-09-21 Smp Logic Systems Llc Manufacturing execution system for validation, quality and risk assessment and monitoring of pharmaceutical manufacturing processes
US20060010946A1 (en) * 2004-07-15 2006-01-19 Midwestern Bio-Ag Products & Services, Inc. Pelleted organic calcium phosphate compositions
US7173539B2 (en) * 2004-09-30 2007-02-06 Florida Power And Light Company Condition assessment system and method
WO2006039760A1 (en) * 2004-10-15 2006-04-20 Ipom Pty Ltd Method of analysing data
US7954062B2 (en) * 2005-01-03 2011-05-31 International Business Machines Corporation Application status board mitigation system and method
GB2446343B (en) 2005-12-05 2011-06-08 Fisher Rosemount Systems Inc Multi-objective predictive process optimization with concurrent process simulation
US8487930B2 (en) * 2006-03-10 2013-07-16 Honeywell International Inc. Process monitoring using multivariate data
US9405564B2 (en) * 2006-05-10 2016-08-02 The Mathworks, Inc. System and method for targeting commands to concurrent computing units executing a concurrent computing process
US7631168B1 (en) 2006-05-10 2009-12-08 The Math Works, Inc. Graphical interface for grouping concurrent computing units executing a concurrent computing process
EP1884846A1 (de) * 2006-08-01 2008-02-06 Siemens Aktiengesellschaft System und Verfahren zur Anzeige eines Variablenstatus
US7797063B2 (en) * 2006-08-24 2010-09-14 Exxonmobil Research And Engineering Company Method for model gain matrix modification
US7949417B2 (en) * 2006-09-22 2011-05-24 Exxonmobil Research And Engineering Company Model predictive controller solution analysis process
US7606681B2 (en) * 2006-11-03 2009-10-20 Air Products And Chemicals, Inc. System and method for process monitoring
US20080163085A1 (en) * 2006-12-28 2008-07-03 Rajesh Venkat Subbu Multi-criteria decision support tool interface, methods and apparatus
US8407716B2 (en) * 2007-05-31 2013-03-26 Fisher-Rosemount Systems, Inc. Apparatus and methods to access information associated with a process control system
GB0717991D0 (en) * 2007-09-15 2007-10-24 Curvaceous Software Ltd Multi-variable operations
US9367166B1 (en) * 2007-12-21 2016-06-14 Cypress Semiconductor Corporation System and method of visualizing capacitance sensing system operation
EP2104073A3 (en) 2008-03-11 2010-11-10 Enphase Energy, Inc. Method and apparatus for electrical power visualization
US8155932B2 (en) * 2009-01-08 2012-04-10 Jonas Berggren Method and apparatus for creating a generalized response model for a sheet forming machine
US8209048B2 (en) * 2009-01-12 2012-06-26 Abb Automation Gmbh Method and apparatus for creating a comprehensive response model for a sheet forming machine
US20100198364A1 (en) * 2009-02-05 2010-08-05 Shih-Chin Chen Configurable Multivariable Control System
US8881039B2 (en) 2009-03-13 2014-11-04 Fisher-Rosemount Systems, Inc. Scaling composite shapes for a graphical human-machine interface
US9394608B2 (en) 2009-04-06 2016-07-19 Asm America, Inc. Semiconductor processing reactor and components thereof
WO2010121668A1 (en) * 2009-04-20 2010-10-28 Abb Research Ltd Operator terminal in a process control system
US9323234B2 (en) * 2009-06-10 2016-04-26 Fisher-Rosemount Systems, Inc. Predicted fault analysis
US8571696B2 (en) * 2009-06-10 2013-10-29 Fisher-Rosemount Systems, Inc. Methods and apparatus to predict process quality in a process control system
US8825183B2 (en) 2010-03-22 2014-09-02 Fisher-Rosemount Systems, Inc. Methods for a data driven interface based on relationships between process control tags
JP5790658B2 (ja) * 2010-09-09 2015-10-07 日本電気株式会社 表示処理システム、表示処理方法、およびプログラム
US20130023129A1 (en) 2011-07-20 2013-01-24 Asm America, Inc. Pressure transmitter for a semiconductor processing environment
US10714315B2 (en) 2012-10-12 2020-07-14 Asm Ip Holdings B.V. Semiconductor reaction chamber showerhead
US20160376700A1 (en) 2013-02-01 2016-12-29 Asm Ip Holding B.V. System for treatment of deposition reactor
US10514668B2 (en) 2013-03-15 2019-12-24 Fisher-Rosemount Systems, Inc. Graphical process variable trend monitoring in a process control system using a navigation pane
US10180681B2 (en) 2013-03-15 2019-01-15 Fisher-Rosemount Systems, Inc. Graphical process variable trend monitoring with zoom features for use in a process control system
US9983575B2 (en) * 2013-04-09 2018-05-29 Fisher-Rosemount Systems, Inc. Systems and methods to graphically display process control system information
US10013149B2 (en) 2013-03-15 2018-07-03 Fisher-Rosemount Systems, Inc. Graphical process variable trend monitoring for a process control system
US10803636B2 (en) 2013-03-15 2020-10-13 Fisher-Rosemount Systems, Inc. Graphical process variable trend monitoring, predictive analytics and fault detection in a process control system
IN2014CH00257A (ja) * 2014-01-21 2015-07-31 Yokogawa Electric Corp
US11015245B2 (en) 2014-03-19 2021-05-25 Asm Ip Holding B.V. Gas-phase reactor and system having exhaust plenum and components thereof
EP2942678B1 (de) * 2014-05-08 2019-07-17 dSPACE digital signal processing and control engineering GmbH Zuweisungsrevolver
US10858737B2 (en) 2014-07-28 2020-12-08 Asm Ip Holding B.V. Showerhead assembly and components thereof
US10941490B2 (en) 2014-10-07 2021-03-09 Asm Ip Holding B.V. Multiple temperature range susceptor, assembly, reactor and system including the susceptor, and methods of using the same
US10276355B2 (en) 2015-03-12 2019-04-30 Asm Ip Holding B.V. Multi-zone reactor, system including the reactor, and method of using the same
US10458018B2 (en) 2015-06-26 2019-10-29 Asm Ip Holding B.V. Structures including metal carbide material, devices including the structures, and methods of forming same
WO2017035377A1 (en) 2015-08-26 2017-03-02 Lin And Associates History compare software
US10211308B2 (en) 2015-10-21 2019-02-19 Asm Ip Holding B.V. NbMC layers
US11139308B2 (en) 2015-12-29 2021-10-05 Asm Ip Holding B.V. Atomic layer deposition of III-V compounds to form V-NAND devices
US10529554B2 (en) 2016-02-19 2020-01-07 Asm Ip Holding B.V. Method for forming silicon nitride film selectively on sidewalls or flat surfaces of trenches
US10190213B2 (en) 2016-04-21 2019-01-29 Asm Ip Holding B.V. Deposition of metal borides
US10367080B2 (en) 2016-05-02 2019-07-30 Asm Ip Holding B.V. Method of forming a germanium oxynitride film
US11069102B2 (en) 2016-05-23 2021-07-20 Lin and Associates, Inc. Dynamic progressive awareness
WO2017205238A1 (en) 2016-05-23 2017-11-30 Lin And Associates, Inc Dynamic progressive awareness
US11453943B2 (en) 2016-05-25 2022-09-27 Asm Ip Holding B.V. Method for forming carbon-containing silicon/metal oxide or nitride film by ALD using silicon precursor and hydrocarbon precursor
US10612137B2 (en) 2016-07-08 2020-04-07 Asm Ip Holdings B.V. Organic reactants for atomic layer deposition
US9859151B1 (en) 2016-07-08 2018-01-02 Asm Ip Holding B.V. Selective film deposition method to form air gaps
US10878140B2 (en) 2016-07-27 2020-12-29 Emerson Process Management Power & Water Solutions, Inc. Plant builder system with integrated simulation and control system configuration
US9812320B1 (en) 2016-07-28 2017-11-07 Asm Ip Holding B.V. Method and apparatus for filling a gap
KR102532607B1 (ko) 2016-07-28 2023-05-15 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 가공 장치 및 그 동작 방법
US9887082B1 (en) 2016-07-28 2018-02-06 Asm Ip Holding B.V. Method and apparatus for filling a gap
US10643826B2 (en) 2016-10-26 2020-05-05 Asm Ip Holdings B.V. Methods for thermally calibrating reaction chambers
US11532757B2 (en) 2016-10-27 2022-12-20 Asm Ip Holding B.V. Deposition of charge trapping layers
US10714350B2 (en) 2016-11-01 2020-07-14 ASM IP Holdings, B.V. Methods for forming a transition metal niobium nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related semiconductor device structures
KR102546317B1 (ko) 2016-11-15 2023-06-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기체 공급 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치
KR20180068582A (ko) 2016-12-14 2018-06-22 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
US11581186B2 (en) 2016-12-15 2023-02-14 Asm Ip Holding B.V. Sequential infiltration synthesis apparatus
US11447861B2 (en) 2016-12-15 2022-09-20 Asm Ip Holding B.V. Sequential infiltration synthesis apparatus and a method of forming a patterned structure
KR20180070971A (ko) 2016-12-19 2018-06-27 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
US10269558B2 (en) 2016-12-22 2019-04-23 Asm Ip Holding B.V. Method of forming a structure on a substrate
US10867788B2 (en) 2016-12-28 2020-12-15 Asm Ip Holding B.V. Method of forming a structure on a substrate
US11390950B2 (en) 2017-01-10 2022-07-19 Asm Ip Holding B.V. Reactor system and method to reduce residue buildup during a film deposition process
US10468261B2 (en) 2017-02-15 2019-11-05 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a metallic film on a substrate by cyclical deposition and related semiconductor device structures
US10515109B2 (en) 2017-02-15 2019-12-24 Palantir Technologies Inc. Real-time auditing of industrial equipment condition
US10529563B2 (en) 2017-03-29 2020-01-07 Asm Ip Holdings B.V. Method for forming doped metal oxide films on a substrate by cyclical deposition and related semiconductor device structures
KR102457289B1 (ko) 2017-04-25 2022-10-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 박막 증착 방법 및 반도체 장치의 제조 방법
US10892156B2 (en) 2017-05-08 2021-01-12 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a silicon nitride film on a substrate and related semiconductor device structures
US10770286B2 (en) 2017-05-08 2020-09-08 Asm Ip Holdings B.V. Methods for selectively forming a silicon nitride film on a substrate and related semiconductor device structures
US10886123B2 (en) 2017-06-02 2021-01-05 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming low temperature semiconductor layers and related semiconductor device structures
US11306395B2 (en) 2017-06-28 2022-04-19 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a transition metal nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related deposition apparatus
KR20190009245A (ko) 2017-07-18 2019-01-28 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 반도체 소자 구조물 형성 방법 및 관련된 반도체 소자 구조물
US11018002B2 (en) 2017-07-19 2021-05-25 Asm Ip Holding B.V. Method for selectively depositing a Group IV semiconductor and related semiconductor device structures
US10541333B2 (en) 2017-07-19 2020-01-21 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a group IV semiconductor and related semiconductor device structures
US11374112B2 (en) 2017-07-19 2022-06-28 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a group IV semiconductor and related semiconductor device structures
US10590535B2 (en) 2017-07-26 2020-03-17 Asm Ip Holdings B.V. Chemical treatment, deposition and/or infiltration apparatus and method for using the same
US10770336B2 (en) 2017-08-08 2020-09-08 Asm Ip Holding B.V. Substrate lift mechanism and reactor including same
US10692741B2 (en) 2017-08-08 2020-06-23 Asm Ip Holdings B.V. Radiation shield
US11139191B2 (en) 2017-08-09 2021-10-05 Asm Ip Holding B.V. Storage apparatus for storing cassettes for substrates and processing apparatus equipped therewith
US11769682B2 (en) 2017-08-09 2023-09-26 Asm Ip Holding B.V. Storage apparatus for storing cassettes for substrates and processing apparatus equipped therewith
US11830730B2 (en) 2017-08-29 2023-11-28 Asm Ip Holding B.V. Layer forming method and apparatus
KR102491945B1 (ko) 2017-08-30 2023-01-26 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
US11056344B2 (en) 2017-08-30 2021-07-06 Asm Ip Holding B.V. Layer forming method
US11295980B2 (en) 2017-08-30 2022-04-05 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a molybdenum metal film over a dielectric surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures
KR102630301B1 (ko) 2017-09-21 2024-01-29 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 침투성 재료의 순차 침투 합성 방법 처리 및 이를 이용하여 형성된 구조물 및 장치
US10844484B2 (en) 2017-09-22 2020-11-24 Asm Ip Holding B.V. Apparatus for dispensing a vapor phase reactant to a reaction chamber and related methods
US10658205B2 (en) 2017-09-28 2020-05-19 Asm Ip Holdings B.V. Chemical dispensing apparatus and methods for dispensing a chemical to a reaction chamber
US10403504B2 (en) 2017-10-05 2019-09-03 Asm Ip Holding B.V. Method for selectively depositing a metallic film on a substrate
US10923344B2 (en) 2017-10-30 2021-02-16 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a semiconductor structure and related semiconductor structures
US10910262B2 (en) 2017-11-16 2021-02-02 Asm Ip Holding B.V. Method of selectively depositing a capping layer structure on a semiconductor device structure
US11022879B2 (en) 2017-11-24 2021-06-01 Asm Ip Holding B.V. Method of forming an enhanced unexposed photoresist layer
KR102597978B1 (ko) 2017-11-27 2023-11-06 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 배치 퍼니스와 함께 사용하기 위한 웨이퍼 카세트를 보관하기 위한 보관 장치
CN111344522B (zh) 2017-11-27 2022-04-12 阿斯莫Ip控股公司 包括洁净迷你环境的装置
US10872771B2 (en) 2018-01-16 2020-12-22 Asm Ip Holding B. V. Method for depositing a material film on a substrate within a reaction chamber by a cyclical deposition process and related device structures
TW202325889A (zh) 2018-01-19 2023-07-01 荷蘭商Asm 智慧財產控股公司 沈積方法
CN111630203A (zh) 2018-01-19 2020-09-04 Asm Ip私人控股有限公司 通过等离子体辅助沉积来沉积间隙填充层的方法
US11018047B2 (en) 2018-01-25 2021-05-25 Asm Ip Holding B.V. Hybrid lift pin
USD880437S1 (en) 2018-02-01 2020-04-07 Asm Ip Holding B.V. Gas supply plate for semiconductor manufacturing apparatus
US11081345B2 (en) 2018-02-06 2021-08-03 Asm Ip Holding B.V. Method of post-deposition treatment for silicon oxide film
US10896820B2 (en) 2018-02-14 2021-01-19 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a ruthenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process
EP3737779A1 (en) 2018-02-14 2020-11-18 ASM IP Holding B.V. A method for depositing a ruthenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process
KR102636427B1 (ko) 2018-02-20 2024-02-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 방법 및 장치
US10975470B2 (en) 2018-02-23 2021-04-13 Asm Ip Holding B.V. Apparatus for detecting or monitoring for a chemical precursor in a high temperature environment
US11473195B2 (en) 2018-03-01 2022-10-18 Asm Ip Holding B.V. Semiconductor processing apparatus and a method for processing a substrate
US11629406B2 (en) 2018-03-09 2023-04-18 Asm Ip Holding B.V. Semiconductor processing apparatus comprising one or more pyrometers for measuring a temperature of a substrate during transfer of the substrate
US11114283B2 (en) 2018-03-16 2021-09-07 Asm Ip Holding B.V. Reactor, system including the reactor, and methods of manufacturing and using same
KR102646467B1 (ko) 2018-03-27 2024-03-11 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 상에 전극을 형성하는 방법 및 전극을 포함하는 반도체 소자 구조
US11230766B2 (en) 2018-03-29 2022-01-25 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing apparatus and method
US11088002B2 (en) 2018-03-29 2021-08-10 Asm Ip Holding B.V. Substrate rack and a substrate processing system and method
KR102501472B1 (ko) 2018-03-30 2023-02-20 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 방법
TW202344708A (zh) 2018-05-08 2023-11-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 藉由循環沉積製程於基板上沉積氧化物膜之方法及相關裝置結構
TWI816783B (zh) 2018-05-11 2023-10-01 荷蘭商Asm 智慧財產控股公司 用於基板上形成摻雜金屬碳化物薄膜之方法及相關半導體元件結構
KR102596988B1 (ko) 2018-05-28 2023-10-31 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 방법 및 그에 의해 제조된 장치
US11718913B2 (en) 2018-06-04 2023-08-08 Asm Ip Holding B.V. Gas distribution system and reactor system including same
US11270899B2 (en) 2018-06-04 2022-03-08 Asm Ip Holding B.V. Wafer handling chamber with moisture reduction
US11286562B2 (en) 2018-06-08 2022-03-29 Asm Ip Holding B.V. Gas-phase chemical reactor and method of using same
US10797133B2 (en) 2018-06-21 2020-10-06 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a phosphorus doped silicon arsenide film and related semiconductor device structures
KR102568797B1 (ko) 2018-06-21 2023-08-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 시스템
US11492703B2 (en) 2018-06-27 2022-11-08 Asm Ip Holding B.V. Cyclic deposition methods for forming metal-containing material and films and structures including the metal-containing material
WO2020003000A1 (en) 2018-06-27 2020-01-02 Asm Ip Holding B.V. Cyclic deposition methods for forming metal-containing material and films and structures including the metal-containing material
KR20200002519A (ko) 2018-06-29 2020-01-08 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 박막 증착 방법 및 반도체 장치의 제조 방법
US10612136B2 (en) 2018-06-29 2020-04-07 ASM IP Holding, B.V. Temperature-controlled flange and reactor system including same
US10755922B2 (en) 2018-07-03 2020-08-25 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition
US10388513B1 (en) 2018-07-03 2019-08-20 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition
US11053591B2 (en) 2018-08-06 2021-07-06 Asm Ip Holding B.V. Multi-port gas injection system and reactor system including same
US10883175B2 (en) 2018-08-09 2021-01-05 Asm Ip Holding B.V. Vertical furnace for processing substrates and a liner for use therein
US11430674B2 (en) 2018-08-22 2022-08-30 Asm Ip Holding B.V. Sensor array, apparatus for dispensing a vapor phase reactant to a reaction chamber and related methods
US11024523B2 (en) 2018-09-11 2021-06-01 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing apparatus and method
KR20200030162A (ko) 2018-09-11 2020-03-20 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 박막 증착 방법
CN109300172A (zh) * 2018-09-12 2019-02-01 山东国研自动化有限公司 一种模拟量数据图形显示方法
US11049751B2 (en) 2018-09-14 2021-06-29 Asm Ip Holding B.V. Cassette supply system to store and handle cassettes and processing apparatus equipped therewith
CN110970344A (zh) 2018-10-01 2020-04-07 Asm Ip控股有限公司 衬底保持设备、包含所述设备的系统及其使用方法
US11232963B2 (en) 2018-10-03 2022-01-25 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing apparatus and method
KR102592699B1 (ko) 2018-10-08 2023-10-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 지지 유닛 및 이를 포함하는 박막 증착 장치와 기판 처리 장치
KR102605121B1 (ko) 2018-10-19 2023-11-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
KR102546322B1 (ko) 2018-10-19 2023-06-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
USD948463S1 (en) 2018-10-24 2022-04-12 Asm Ip Holding B.V. Susceptor for semiconductor substrate supporting apparatus
US11087997B2 (en) 2018-10-31 2021-08-10 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing apparatus for processing substrates
KR20200051105A (ko) 2018-11-02 2020-05-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 지지 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치
US11572620B2 (en) 2018-11-06 2023-02-07 Asm Ip Holding B.V. Methods for selectively depositing an amorphous silicon film on a substrate
US11031242B2 (en) 2018-11-07 2021-06-08 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a boron doped silicon germanium film
US10847366B2 (en) 2018-11-16 2020-11-24 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a transition metal chalcogenide film on a substrate by a cyclical deposition process
US10818758B2 (en) 2018-11-16 2020-10-27 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a metal silicate film on a substrate in a reaction chamber and related semiconductor device structures
US11217444B2 (en) 2018-11-30 2022-01-04 Asm Ip Holding B.V. Method for forming an ultraviolet radiation responsive metal oxide-containing film
KR102636428B1 (ko) 2018-12-04 2024-02-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치를 세정하는 방법
US11158513B2 (en) 2018-12-13 2021-10-26 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a rhenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures
JP2020096183A (ja) 2018-12-14 2020-06-18 エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー 窒化ガリウムの選択的堆積を用いてデバイス構造体を形成する方法及びそのためのシステム
TWI819180B (zh) 2019-01-17 2023-10-21 荷蘭商Asm 智慧財產控股公司 藉由循環沈積製程於基板上形成含過渡金屬膜之方法
KR20200091543A (ko) 2019-01-22 2020-07-31 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
CN111524788B (zh) 2019-02-01 2023-11-24 Asm Ip私人控股有限公司 氧化硅的拓扑选择性膜形成的方法
TW202104632A (zh) 2019-02-20 2021-02-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 用來填充形成於基材表面內之凹部的循環沉積方法及設備
TW202044325A (zh) 2019-02-20 2020-12-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 填充一基板之一表面內所形成的一凹槽的方法、根據其所形成之半導體結構、及半導體處理設備
KR102626263B1 (ko) 2019-02-20 2024-01-16 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 처리 단계를 포함하는 주기적 증착 방법 및 이를 위한 장치
KR20200102357A (ko) 2019-02-20 2020-08-31 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 3-d nand 응용의 플러그 충진체 증착용 장치 및 방법
TW202100794A (zh) 2019-02-22 2021-01-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 基材處理設備及處理基材之方法
KR20200108248A (ko) 2019-03-08 2020-09-17 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. SiOCN 층을 포함한 구조체 및 이의 형성 방법
KR20200108242A (ko) 2019-03-08 2020-09-17 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 실리콘 질화물 층을 선택적으로 증착하는 방법, 및 선택적으로 증착된 실리콘 질화물 층을 포함하는 구조체
KR20200108243A (ko) 2019-03-08 2020-09-17 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. SiOC 층을 포함한 구조체 및 이의 형성 방법
JP2020167398A (ja) 2019-03-28 2020-10-08 エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー ドアオープナーおよびドアオープナーが提供される基材処理装置
KR20200116855A (ko) 2019-04-01 2020-10-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 반도체 소자를 제조하는 방법
KR20200123380A (ko) 2019-04-19 2020-10-29 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 층 형성 방법 및 장치
KR20200125453A (ko) 2019-04-24 2020-11-04 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기상 반응기 시스템 및 이를 사용하는 방법
KR20200130121A (ko) 2019-05-07 2020-11-18 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 딥 튜브가 있는 화학물질 공급원 용기
KR20200130118A (ko) 2019-05-07 2020-11-18 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 비정질 탄소 중합체 막을 개질하는 방법
KR20200130652A (ko) 2019-05-10 2020-11-19 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 표면 상에 재료를 증착하는 방법 및 본 방법에 따라 형성된 구조
JP2020188255A (ja) 2019-05-16 2020-11-19 エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. ウェハボートハンドリング装置、縦型バッチ炉および方法
USD947913S1 (en) 2019-05-17 2022-04-05 Asm Ip Holding B.V. Susceptor shaft
USD975665S1 (en) 2019-05-17 2023-01-17 Asm Ip Holding B.V. Susceptor shaft
USD935572S1 (en) 2019-05-24 2021-11-09 Asm Ip Holding B.V. Gas channel plate
USD922229S1 (en) 2019-06-05 2021-06-15 Asm Ip Holding B.V. Device for controlling a temperature of a gas supply unit
KR20200141003A (ko) 2019-06-06 2020-12-17 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 가스 감지기를 포함하는 기상 반응기 시스템
KR20200143254A (ko) 2019-06-11 2020-12-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 개질 가스를 사용하여 전자 구조를 형성하는 방법, 상기 방법을 수행하기 위한 시스템, 및 상기 방법을 사용하여 형성되는 구조
USD944946S1 (en) 2019-06-14 2022-03-01 Asm Ip Holding B.V. Shower plate
USD931978S1 (en) 2019-06-27 2021-09-28 Asm Ip Holding B.V. Showerhead vacuum transport
KR20210005515A (ko) 2019-07-03 2021-01-14 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치용 온도 제어 조립체 및 이를 사용하는 방법
JP2021015791A (ja) 2019-07-09 2021-02-12 エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. 同軸導波管を用いたプラズマ装置、基板処理方法
CN112216646A (zh) 2019-07-10 2021-01-12 Asm Ip私人控股有限公司 基板支撑组件及包括其的基板处理装置
KR20210010307A (ko) 2019-07-16 2021-01-27 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
KR20210010820A (ko) 2019-07-17 2021-01-28 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 실리콘 게르마늄 구조를 형성하는 방법
KR20210010816A (ko) 2019-07-17 2021-01-28 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 라디칼 보조 점화 플라즈마 시스템 및 방법
US11643724B2 (en) 2019-07-18 2023-05-09 Asm Ip Holding B.V. Method of forming structures using a neutral beam
CN112242296A (zh) 2019-07-19 2021-01-19 Asm Ip私人控股有限公司 形成拓扑受控的无定形碳聚合物膜的方法
CN112309843A (zh) 2019-07-29 2021-02-02 Asm Ip私人控股有限公司 实现高掺杂剂掺入的选择性沉积方法
CN112309899A (zh) 2019-07-30 2021-02-02 Asm Ip私人控股有限公司 基板处理设备
CN112309900A (zh) 2019-07-30 2021-02-02 Asm Ip私人控股有限公司 基板处理设备
US11587815B2 (en) 2019-07-31 2023-02-21 Asm Ip Holding B.V. Vertical batch furnace assembly
US11227782B2 (en) 2019-07-31 2022-01-18 Asm Ip Holding B.V. Vertical batch furnace assembly
US11587814B2 (en) 2019-07-31 2023-02-21 Asm Ip Holding B.V. Vertical batch furnace assembly
KR20210018759A (ko) 2019-08-05 2021-02-18 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 화학물질 공급원 용기를 위한 액체 레벨 센서
USD965524S1 (en) 2019-08-19 2022-10-04 Asm Ip Holding B.V. Susceptor support
USD965044S1 (en) 2019-08-19 2022-09-27 Asm Ip Holding B.V. Susceptor shaft
JP2021031769A (ja) 2019-08-21 2021-03-01 エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. 成膜原料混合ガス生成装置及び成膜装置
USD979506S1 (en) 2019-08-22 2023-02-28 Asm Ip Holding B.V. Insulator
KR20210024423A (ko) 2019-08-22 2021-03-05 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 홀을 구비한 구조체를 형성하기 위한 방법
USD940837S1 (en) 2019-08-22 2022-01-11 Asm Ip Holding B.V. Electrode
USD930782S1 (en) 2019-08-22 2021-09-14 Asm Ip Holding B.V. Gas distributor
USD949319S1 (en) 2019-08-22 2022-04-19 Asm Ip Holding B.V. Exhaust duct
KR20210024420A (ko) 2019-08-23 2021-03-05 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 비스(디에틸아미노)실란을 사용하여 peald에 의해 개선된 품질을 갖는 실리콘 산화물 막을 증착하기 위한 방법
US11286558B2 (en) 2019-08-23 2022-03-29 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a molybdenum nitride film on a surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures including a molybdenum nitride film
KR20210029090A (ko) 2019-09-04 2021-03-15 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 희생 캡핑 층을 이용한 선택적 증착 방법
KR20210029663A (ko) 2019-09-05 2021-03-16 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
US11562901B2 (en) 2019-09-25 2023-01-24 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing method
US11243860B2 (en) 2019-10-01 2022-02-08 Computational Systems, Inc. Trend plot with multiple acquisitions
CN112593212B (zh) 2019-10-02 2023-12-22 Asm Ip私人控股有限公司 通过循环等离子体增强沉积工艺形成拓扑选择性氧化硅膜的方法
TW202129060A (zh) 2019-10-08 2021-08-01 荷蘭商Asm Ip控股公司 基板處理裝置、及基板處理方法
KR20210043460A (ko) 2019-10-10 2021-04-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 포토레지스트 하부층을 형성하기 위한 방법 및 이를 포함한 구조체
KR20210045930A (ko) 2019-10-16 2021-04-27 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 실리콘 산화물의 토폴로지-선택적 막의 형성 방법
US11637014B2 (en) 2019-10-17 2023-04-25 Asm Ip Holding B.V. Methods for selective deposition of doped semiconductor material
KR20210047808A (ko) 2019-10-21 2021-04-30 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 막을 선택적으로 에칭하기 위한 장치 및 방법
US11646205B2 (en) 2019-10-29 2023-05-09 Asm Ip Holding B.V. Methods of selectively forming n-type doped material on a surface, systems for selectively forming n-type doped material, and structures formed using same
KR20210054983A (ko) 2019-11-05 2021-05-14 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 도핑된 반도체 층을 갖는 구조체 및 이를 형성하기 위한 방법 및 시스템
US11501968B2 (en) 2019-11-15 2022-11-15 Asm Ip Holding B.V. Method for providing a semiconductor device with silicon filled gaps
KR20210062561A (ko) 2019-11-20 2021-05-31 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판의 표면 상에 탄소 함유 물질을 증착하는 방법, 상기 방법을 사용하여 형성된 구조물, 및 상기 구조물을 형성하기 위한 시스템
KR20210065848A (ko) 2019-11-26 2021-06-04 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 제1 유전체 표면과 제2 금속성 표면을 포함한 기판 상에 타겟 막을 선택적으로 형성하기 위한 방법
CN112951697A (zh) 2019-11-26 2021-06-11 Asm Ip私人控股有限公司 基板处理设备
CN112885693A (zh) 2019-11-29 2021-06-01 Asm Ip私人控股有限公司 基板处理设备
CN112885692A (zh) 2019-11-29 2021-06-01 Asm Ip私人控股有限公司 基板处理设备
JP2021090042A (ja) 2019-12-02 2021-06-10 エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. 基板処理装置、基板処理方法
KR20210070898A (ko) 2019-12-04 2021-06-15 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
TW202125596A (zh) 2019-12-17 2021-07-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 形成氮化釩層之方法以及包括該氮化釩層之結構
KR20210080214A (ko) 2019-12-19 2021-06-30 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 상의 갭 피처를 충진하는 방법 및 이와 관련된 반도체 소자 구조
JP2021109175A (ja) 2020-01-06 2021-08-02 エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー ガス供給アセンブリ、その構成要素、およびこれを含む反応器システム
KR20210095050A (ko) 2020-01-20 2021-07-30 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 박막 형성 방법 및 박막 표면 개질 방법
TW202130846A (zh) 2020-02-03 2021-08-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 形成包括釩或銦層的結構之方法
TW202146882A (zh) 2020-02-04 2021-12-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 驗證一物品之方法、用於驗證一物品之設備、及用於驗證一反應室之系統
US11776846B2 (en) 2020-02-07 2023-10-03 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing gap filling fluids and related systems and devices
US11781243B2 (en) 2020-02-17 2023-10-10 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing low temperature phosphorous-doped silicon
US11876356B2 (en) 2020-03-11 2024-01-16 Asm Ip Holding B.V. Lockout tagout assembly and system and method of using same
KR20210116240A (ko) 2020-03-11 2021-09-27 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 조절성 접합부를 갖는 기판 핸들링 장치
KR20210117157A (ko) 2020-03-12 2021-09-28 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 타겟 토폴로지 프로파일을 갖는 층 구조를 제조하기 위한 방법
KR20210124042A (ko) 2020-04-02 2021-10-14 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 박막 형성 방법
TW202146689A (zh) 2020-04-03 2021-12-16 荷蘭商Asm Ip控股公司 阻障層形成方法及半導體裝置的製造方法
TW202145344A (zh) 2020-04-08 2021-12-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 用於選擇性蝕刻氧化矽膜之設備及方法
US11821078B2 (en) 2020-04-15 2023-11-21 Asm Ip Holding B.V. Method for forming precoat film and method for forming silicon-containing film
KR20210132605A (ko) 2020-04-24 2021-11-04 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 냉각 가스 공급부를 포함한 수직형 배치 퍼니스 어셈블리
KR20210132600A (ko) 2020-04-24 2021-11-04 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 바나듐, 질소 및 추가 원소를 포함한 층을 증착하기 위한 방법 및 시스템
US11898243B2 (en) 2020-04-24 2024-02-13 Asm Ip Holding B.V. Method of forming vanadium nitride-containing layer
KR20210134226A (ko) 2020-04-29 2021-11-09 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 고체 소스 전구체 용기
KR20210134869A (ko) 2020-05-01 2021-11-11 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Foup 핸들러를 이용한 foup의 빠른 교환
KR20210141379A (ko) 2020-05-13 2021-11-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 반응기 시스템용 레이저 정렬 고정구
KR20210143653A (ko) 2020-05-19 2021-11-29 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
KR20210145078A (ko) 2020-05-21 2021-12-01 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 다수의 탄소 층을 포함한 구조체 및 이를 형성하고 사용하는 방법
TW202201602A (zh) 2020-05-29 2022-01-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 基板處理方法
TW202218133A (zh) 2020-06-24 2022-05-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 形成含矽層之方法
TW202217953A (zh) 2020-06-30 2022-05-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 基板處理方法
TW202219628A (zh) 2020-07-17 2022-05-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 用於光微影之結構與方法
TW202204662A (zh) 2020-07-20 2022-02-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 用於沉積鉬層之方法及系統
KR20220027026A (ko) 2020-08-26 2022-03-07 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 금속 실리콘 산화물 및 금속 실리콘 산질화물 층을 형성하기 위한 방법 및 시스템
USD990534S1 (en) 2020-09-11 2023-06-27 Asm Ip Holding B.V. Weighted lift pin
USD1012873S1 (en) 2020-09-24 2024-01-30 Asm Ip Holding B.V. Electrode for semiconductor processing apparatus
TW202229613A (zh) 2020-10-14 2022-08-01 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 於階梯式結構上沉積材料的方法
KR20220053482A (ko) 2020-10-22 2022-04-29 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 바나듐 금속을 증착하는 방법, 구조체, 소자 및 증착 어셈블리
TW202223136A (zh) 2020-10-28 2022-06-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 用於在基板上形成層之方法、及半導體處理系統
TW202235675A (zh) 2020-11-30 2022-09-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 注入器、及基板處理設備
US11424865B2 (en) 2020-12-10 2022-08-23 Fisher-Rosemount Systems, Inc. Variable-level integrity checks for communications in process control environments
US11946137B2 (en) 2020-12-16 2024-04-02 Asm Ip Holding B.V. Runout and wobble measurement fixtures
TW202231903A (zh) 2020-12-22 2022-08-16 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 過渡金屬沉積方法、過渡金屬層、用於沉積過渡金屬於基板上的沉積總成
US11418969B2 (en) 2021-01-15 2022-08-16 Fisher-Rosemount Systems, Inc. Suggestive device connectivity planning
USD1023959S1 (en) 2021-05-11 2024-04-23 Asm Ip Holding B.V. Electrode for substrate processing apparatus
USD981973S1 (en) 2021-05-11 2023-03-28 Asm Ip Holding B.V. Reactor wall for substrate processing apparatus
USD980813S1 (en) 2021-05-11 2023-03-14 Asm Ip Holding B.V. Gas flow control plate for substrate processing apparatus
USD980814S1 (en) 2021-05-11 2023-03-14 Asm Ip Holding B.V. Gas distributor for substrate processing apparatus
USD990441S1 (en) 2021-09-07 2023-06-27 Asm Ip Holding B.V. Gas flow control plate

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4344145A (en) * 1979-10-12 1982-08-10 Chasek Norman E Display method and apparatus for efficiently communicating the status of an ongoing process or system by the simultaneous display of many normalized parameter deviations
US4745543A (en) * 1981-08-20 1988-05-17 Fischer & Porter Co. Front panel for a process controller
US4675147A (en) * 1983-04-06 1987-06-23 Westinghouse Electic Corp. Generating an integrated graphic display of the safety status of a complex process plant
US4517637A (en) * 1983-04-21 1985-05-14 Inconix Corporation Distributed measurement and control system for industrial processes
US5226118A (en) 1991-01-29 1993-07-06 Prometrix Corporation Data analysis system and method for industrial process control systems
US5347446A (en) 1991-02-08 1994-09-13 Kabushiki Kaisha Toshiba Model predictive control apparatus
US5630164A (en) * 1992-02-27 1997-05-13 Associative Measurements Pty. Ltd. Scientific instrument emulator having a computer and an analog signal interface for real-time signal processing
US5351184A (en) 1993-01-26 1994-09-27 Honeywell Inc. Method of multivariable predictive control utilizing range control
US5428555A (en) * 1993-04-20 1995-06-27 Praxair, Inc. Facility and gas management system
US5631825A (en) * 1993-09-29 1997-05-20 Dow Benelux N.V. Operator station for manufacturing process control system
US5408406A (en) 1993-10-07 1995-04-18 Honeywell Inc. Neural net based disturbance predictor for model predictive control
US5572420A (en) 1995-04-03 1996-11-05 Honeywell Inc. Method of optimal controller design for multivariable predictive control utilizing range control
US5742500A (en) 1995-08-23 1998-04-21 Irvin; William A. Pump station control system and method
US6519574B1 (en) 1995-12-12 2003-02-11 Reuters Limited Electronic trading system featuring arbitrage and third-party credit opportunities
US5768119A (en) 1996-04-12 1998-06-16 Fisher-Rosemount Systems, Inc. Process control system including alarm priority adjustment
US5838588A (en) 1996-12-13 1998-11-17 Siemens Corporate Research, Inc. Graphical user interface system for steam turbine operating conditions
US6032122A (en) * 1997-03-14 2000-02-29 Bell & Howell Mail And Messaging Technologies Company Systems, methods and computer program products for monitoring and controlling mail processing devices
US6122603A (en) * 1998-05-29 2000-09-19 Powerweb, Inc. Multi-utility energy control system with dashboard

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007519893A (ja) * 2003-11-12 2007-07-19 プロト マニュファクチャリング リミテッド 材料特性情報を表示するシステムおよび方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP1194819A1 (en) 2002-04-10
CA2377558C (en) 2008-05-27
CA2377558A1 (en) 2001-01-11
US6587108B1 (en) 2003-07-01
AU5905600A (en) 2001-01-22
WO2001002915A1 (en) 2001-01-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2003504709A (ja) 多変数プロセスマトリクス表示およびそれに関する方法
US6952808B1 (en) Process variable gauge interface and methods regarding same
EP1194821B1 (en) Multivariable process trend display and methods regarding same
US6901560B1 (en) Process variable generalized graphical device display and methods regarding same
US8108790B2 (en) Apparatus and method for visualization of control techniques in a process control system
EP0721611B1 (en) Operator station for manufacturing process control system and method for monitoring and controlling a manufacturing process
EP2558912B1 (en) System and method for visual presentation of information in a process control system
EP2208126B1 (en) Apparatus and method for displaying changes in statistical parameters in a process control system
CN104903799B (zh) 过程控制系统中的可配置用户显示
JP2020129403A (ja) プロセス制御システムのための図形傾向記号を生成及び表示する方法、及びコンピュータ可読記憶媒体
JP6397476B2 (ja) ナビゲーションペインを提供する方法及びコンピュータ可読記憶媒体
GB2378527A (en) Control of multi variable processes
CN110998464B (zh) 用于在工业过程控制和自动化系统中生成用于有效监测和控制的智能可视化的装置和方法
JPH01296293A (ja) 画面制御装置

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070611

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070611

A761 Written withdrawal of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761

Effective date: 20081029