JP2003500660A - レーザスキャナーの走査対象である平面の位置把握方法およびそのためのシステム - Google Patents

レーザスキャナーの走査対象である平面の位置把握方法およびそのためのシステム

Info

Publication number
JP2003500660A
JP2003500660A JP2000620409A JP2000620409A JP2003500660A JP 2003500660 A JP2003500660 A JP 2003500660A JP 2000620409 A JP2000620409 A JP 2000620409A JP 2000620409 A JP2000620409 A JP 2000620409A JP 2003500660 A JP2003500660 A JP 2003500660A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plane
points
point
object holder
value
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000620409A
Other languages
English (en)
Inventor
ミュールホッフ ディルク
ルドルフ ギュンター
シュミッツ ステファン
デーリング ゲルハルト
ベルテル ギュンター
ハルトマン トーマス
Original Assignee
カール ツァイス イエナ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by カール ツァイス イエナ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング filed Critical カール ツァイス イエナ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング
Publication of JP2003500660A publication Critical patent/JP2003500660A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B19/00Programme-control systems
    • G05B19/02Programme-control systems electric
    • G05B19/18Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of programme data in numerical form
    • G05B19/402Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of programme data in numerical form characterised by control arrangements for positioning, e.g. centring a tool relative to a hole in the workpiece, additional detection means to correct position
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05DSYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D3/00Control of position or direction
    • G05D3/12Control of position or direction using feedback
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B2219/00Program-control systems
    • G05B2219/30Nc systems
    • G05B2219/37Measurements
    • G05B2219/37558Optical sensor, scanner
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B2219/00Program-control systems
    • G05B2219/30Nc systems
    • G05B2219/37Measurements
    • G05B2219/37563Ccd, tv camera
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B2219/00Program-control systems
    • G05B2219/30Nc systems
    • G05B2219/50Machine tool, machine tool null till machine tool work handling
    • G05B2219/50028Beam detects x, y deviation on surface, compensates beam of position scanner
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B2219/00Program-control systems
    • G05B2219/30Nc systems
    • G05B2219/50Machine tool, machine tool null till machine tool work handling
    • G05B2219/50133With optical beam, tool crosses beam

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microscoopes, Condenser (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 対象物の被走査平面XYの位置を把握し、該平面を特にレーザ走査顕微鏡のレーザスキャナー・フォーカス平面X’Y’において位置設定するための方法およびシステム 【解決手段】 ホルダーへの固定時に対象物ポジションを粗調整した後、対象物の被走査平面XY上にある少なくとも3箇所の点P、P…Pへ時間的に相前後してレーザ光線を当て、点P、P…Pからの反射光線をそれぞれポジション感知検出器に結像させて、そこで反射光線のそれぞれについてポジション実測値を求め、保存されている各ポジション要求値と比較し、ポジション実測値のポジション要求値に対する偏差から得られた対象物ホルダーの傾斜度変更のための調整命令に基づいて、点P、P…Pがレーザスキャナーのフォーカス平面X’Y’に来るまで対象物ホルダーの傾斜度を変更させて位置調整するものとする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、対象物の被走査平面XYの位置を把握し、該平面を、特にレーザ走
査顕微鏡のレーザスキャナー・フォーカス平面X’Y’において位置設定するた
めの方法およびシステムに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
ここ20年の間にスキャナー技術は高度な進展を遂げた。特に医療技術、測定
技術、わけても顕微鏡検査においてはレーザ光線による対象物の走査が益々頻繁
に行なわれている。例えばレーザ走査顕微鏡は、生物学、医学分野では従来型顕
微鏡に比べて明らかに優位に立っている。それは主として、その高い分解能およ
び特定深度層の識別力に帰せられる。
【0003】 このように、フォーカシングされたレーザ光線は点単位の強度が高いので、蛍
光顕微鏡測定において蛍光それ自体が弱い場合でも、画像構成では光増倍器の感
度を十分に利用することが可能である。但し、走査対象物を顕微鏡フォーカシン
グ平面に照準させるには、勿論XYスキャナーが非常に高い位置設定精度を有し
ていることが前提条件となる。
【0004】 深度分解能が高ければ高いほど、強度損失の回避または欠陥画質の防止のため
に、試料の検査対象面をレーザ光線のフォーカスに一致させねばならない。この
観点から、そして加えて益々発展する当分野の技術を考慮すれば、対象物または
被走査平面をフォーカス平面に対して正確に、できる限り自動的に照準させる方
法およびシステムを用意しておく必要がある。現在でもしばしば適用されている
、微小操作の可能な手動式駆動装置による反復修正では通例位置設定における要
求にはもはや対応し切れなくなっている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】 上記の情況から本発明では、被走査平面XYをレーザスキャナーのフォーカス
平面X’Y’において自動的、精確に位置設定できる方法を提供することを課題
としている。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上述したような本発明に基づく方法の場合、ホルダーへの固定時に対象物ポジ
ションを粗調整した後、対象物の被走査平面XY上にある少なくとも3箇所の点
,P…Pへ時間的に相前後してレーザ光線を当て、点P,P…P
らの反射光線をそれぞれポジション感知検出器に結像させて、そこで反射光線の
それぞれについてポジション実測値を求め、保存されている各ポジション要求値
と比較し、ポジション実測値のポジション要求値に対する偏差から得られた対象
物ホルダーの傾斜度変更のための調整命令に基づいて、点P,P…Pがレ
ーザスキャナーのフォーカス平面X’Y’に来るまで対象物ホルダーの傾斜度を
変更させるものとする。
【0007】 この方法の本質的な長所は、ポジションの特定化に際して、例えばレーザ光線
用のポジション指示器とか、試料から反射したレーザ光線を評価ユニットの後続
するオプトエレクトロニック受光装置へ伝送する光学素子など、いずれにしても
レーザスキャナーに組み込んである素子構成群を広範囲に活用できるところにあ
る。しかも、上記の方法によれば従来から知られているどの方法よりも位置設定
が精確に、かつ、よりスピーディに行うことができる。
【0008】 本発明に基づく方法の好ましい実施態様では、y=y=x=0、x
−x≠0およびy≠0の関係にある三点P(x、y),P(x
)およびP(x、y)が走査される。その場合、x=y=0の点
は対象物または被走査平面XYのほぼ中央にあって、点P,P,Pはそ
れぞれ対象物の縁近くにあるのが好ましい。尚、ポジション実測値とポジション
要求値間の偏差は、レーザ三角測量の原理に基づいて求める。
【0009】 このようにして、三点P,P,Pが定義づけされるが、これらの点はポジ
ションの認識に有利であり適している。それは、一つには各点が対象物または被
走査平面XYの縁にあって、互いに遠く離れているため、レーザ三角測量にとっ
ては好ましい条件が生み出されるからであり、また一つには点Pを、例えばフ
ォーカス平面X’Y’の座標原点となるレーザ光線の基本ポジションと定義づけ
することにより、制御が複雑にならないからでもある。
【0010】 三角測量の場合では、レーザ光線が測定対象物の被走査平面へ光点として投射
され、その反射光がポジション感知検出器に到達して結像する。その場合、被走
査平面XYとZ座標で求めた対物レンズ間の距離に依存して、検出器上に現れる
反射光のポジションが異なってくる。したがって、検出器から発せられる信号は
反射面と対物レンズ間の距離の尺度であるし、また反射点が対物レンズの焦点内
にあるかないかの尺度でもある。
【0011】 本発明に基づく場合、レーザ光線がほぼポジションPに向くように、まず対
象物の位置調整を行う。次にレーザ光線が点Pに向くように走査装置を制御し
て、Pの反射光が検出器に明確な信号を発生させるまで、必要であれば対象物
ホルダーをZ方向に平行移動させて、点Pのポジション実測値を求める。今度
はレーザ光線がPに向くように走査装置を制御して点Pのポジション実測値
を求める。ホジション実測値とポジション要求値間の偏差から対象物ホルダーに
対してY軸周囲の傾斜回転移動命令を発し、それを基にしてXY平面のX軸をフ
ォーカス平面X’Y’に平行になるように誘導する。
【0012】 その後レーザ光線が点Pに向くように走査装置を制御して、点Pのポジシ
ョン実測値を求める。最終的には、Pのホジション実測値とポジション要求値
間の偏差から対象物ホルダーに対してX軸周囲の傾斜回転移動命令を発し、それ
を基にしてXY平面のY軸をフォーカス平面X’Y’に平行になるように誘導す
る。
【0013】 本発明の特に好ましい実施態様では、まだ偏差が残っているかどうかのチェッ
クがなされ、偏差がある場合はそれがなくなるまで、またはXY平面とフォーカ
ス平面X’Y’とが平行位置になるまで上記作業過程が繰り返し行われて調整が
図られる。
【0014】 さらに、XY平面の上記位置調整後に、点P,P,Pからの反射光線が最
高強度で検出器上に結像するよう、XY平面をZ方向へ平行移動させるのも本発
明の範囲内にある。そうすることによって、被走査平面XYがフォーカス平面X
’Y’に平行に配置されることだけでなく、両者が一致することも高い確率で保
証される。
【0015】 本発明では、上記の作業過程を実施するためのシステム、つまり対象物の被走
査平面XYをレーザにより把握するためのシステムや、特にレーザ走査顕微鏡で
のレーザスキャナーのフォーカス平面X’Y’においてXY平面を位置設定する
ためのシステムをつくり出すことも課題としている。
【0016】 この課題は、本発明にしたがえば、対象物を固定設置するための対象物ホルダ
ー、レーザ光線により順次、または同時に走査されるXY平面上の3点P,P
,Pからの反射光線の位置を探査するためのポジション感知検出器に現れる
これら反射光線それぞれのポジション実測値とポジション要求値との偏差を測定
するための評価用回路と連結していて、レーザスキャナーのフォーカス平面X’
Y’を基準として対象物ホルダーの傾斜度を切替えるための調整装置をそれぞれ
備えることによって解消される。
【0017】 本発明に基づくシステムを持つものとして主に想定されているのは、レーザ光
線をX’座標方向へ転向させる回転軸設置型ミラーが備えられている上に、対象
物ホルダーがY’座標方向へ直線的に移動できて、しかも動作経過がポジション
表示器と連結する駆動装置を通じて制御および点検できるという、現状技術レベ
ルにあるそれ自体は公知のレーザスキャナーである。
【0018】 本発明の好ましい実施態様では、256画素を持つCCD走査素子としての検
出器が装備されているほか、点P,P,Pの走査用セパレート式光源として
、好ましくは適用レーザ波長が
【式1】 であって、独自の制御装置を持つ少なくとも一つのレーザダイオードとダイオー
ド光線を、例えばレーザスキャナーの無限大(∞)光路へ連結させるための光学
系を有する三角測量用素子群構成体が装備されている。
【0019】 特に有利になるのは、ダイオード光線がガウス形態の強度特性を有していて、
点P,P,Pで反射したダイオード光線のCCD走査素子におけるポジショ
ン実測値がそれぞれガウス関数の主点によって定義づけされる場合である。主点
の測定過程は現技術水準に属することなので、ここではごく簡単に触れるだけに
する:
【0020】 CCD走査素子上にまず最大強度を持つ画素および基本信号レベルを求める。
これらの値からガウス関数の半価レベルを算出し、半価レベルとなるガウス関数
の交点を測定する。その場合、画素間は補間法により直線的に求める。交点間の
平均値が近似的に主点を表している。補間法によって、その分解能が雑音および
測定信号の想定ガウス関数からの偏差にしか制限されない、画素値に優る主点が
得られる。
【0021】 さらに、本発明に基づく方法の特徴として、評価回路には(点P,P,P に対応する)ポジション要求値を収めた保存装置が備えられている。その場合ポ
ジション要求値はそれぞれCCD走査素子の中央に定義づけするのが好ましい。
そのほか、評価ユニットは点P,P,Pの各評価毎にそれぞれポジション実
測値とポジション要求値が並置されている入力側および対象物ホルダーと連結す
る調整装置用の制御信号としての示差信号が計測できる出力側を持つ示差形成装
置を有するものとする。
【0022】 調整装置は、それぞれが制御誘導点A,A,Aを通じて対象物ホルダーと
機構的に連結していて、Z座標方向への調整が別々にできるという三つの駆動素
子を有している構造のものが好ましい。なお、制御誘導点A,A,Aは点P ,P,Pと全く同様に、XY平面上にある。また、制御誘導点A、A
点P,Pとは、座標原点Pを通ってX軸を形成している同一直線上にある
が、他方点A、Pおよび座標原点も同様に同一直線上、つまりY軸上にある
【0023】 上記システムによれば駆動素子が別々に制御できることから、制御誘導点A ,Aを逆向きに制御すれば、制御誘導点Aは比較的静止状態のままで、対象
物ホルダーの位置調整として、例えばY軸の周りを転回させることが可能である
。さらには、制御誘導点Aだけを制御して制御誘導点A,Aは比較的静止
状態のままにすれば、対象物ホルダーの位置調整としてX軸の周りを所定通り転
回させることが可能である。
【0024】 本発明に基づく調整装置の上記実施態様においては、一方ではX軸周囲で、他
方ではY軸周囲で、角度調整操作が互いに独立して行え、Y軸側作動中にX軸側
の追加調整をしたり、その逆の操作を行う必要がなく有利な結果がもたらされる
。 好ましくは、さらに駆動素子として圧電式駆動体、あるいはそれに代わる形態
のものとして回転駆動体に連結する精密機能ネジ棒が備えられているものとする
【0025】 以上のほか、調整機構について言えば、駆動素子と対象物ホルダーの刳り抜き
部を噛み合わせ、刳り抜き内部では駆動素子が対象物ホルダーに対してボール/
半球形頭巾の形状で接合するようにしておいて、それら両者に対しバネにより互
いに弾力性が保持できる程度に予備圧力をかけることによって遊びのない軸受け
を構成するという方法もある。
【0026】 駆動素子は勿論別な構造のものも可能である。例えば、一方では制御誘導点A ,A,Aに接合し、また一方では、所要精度達成のために然るべき伝動装置
を持つステップモーターで駆動する偏心器の偏心面と接触しているというガイド
軸移動式ボルトがある。
【0027】 本発明では点P,P,Pから反射したレーザ光線の把握には確かに三角測
量原理に基づいて説明してきたが、しかしそれは、この反射光線の位置認識を行
うに当たって別な手段の利用を排除してしまうものでないことを念のために付け
加えておく。それに関しては、視準した対称性レーザ光線をXY平面に直角に向
けて、その反射光線をシリンダー型レンズ経由の後に象眼ダイオードに結像させ
るという可能性のあることに触れるだけにしておく。
【0028】 その場合では象眼ダイオードにおけるフォーカスの楕円率が、フォーカス面で
衝突したレーザ光線の位置偏差を表す尺度となる。また、連続走査において、求
めた像から導き出したコントラスト関数が最高値に達するまで点P,P,P の距離を変えるというコントラスト測定法も適用できる。それによると、簡単な
コントラストだけでなく、画像情報の周波数スペクトルも測定できる。
【0029】 上で説明した発明は、特に蛍光試料を収めたマイクロ滴定プレートおよびバイ
オチップの底部走査に適用できる。その場合では、レーザ光線が二回、つまり一
回はプレート底部の裏面で、もう一回は内側で反射するということを勿論考慮に
入れておかねばならない。即ち、スポット分解能に応じて一つまたは二つのレー
ザ反射光線がCCD走査素子上に現れる。底部内側のほうが走査対象試料に近い
位置にあるので、この反射面を照準用として使用するのが好ましい。
【0030】 状況によっては、三角測量用素子群構成体の中に一つだけでなく、(試料の蛍
光顕微鏡測定用レーザ光源に加えて)二つ目のレーザダイオードを備えるのも有
利になる場合がある。その場合でも確かに実際に作動するのは常に一つだけにし
なければならないが、しかし異なった対物レンズの様々な開口率を考慮の対象に
することができるようになる。
【0031】 また別な実施態様として、XY平面の照準のあいだ顕微鏡測定用レーザ光線を
ブロッキングするため機構的遮光具を備えることもできる。それによって、試料
の意図せざる退色が防止できる。 以下では本発明を実施例に基づきより詳しく説明する。
【0032】
【発明の実施の態様】
図1はレーザ走査顕微鏡の原理を描いたもので、レーザ1から出たレーザ光線
2は、光線拡大光学系3、レーザ光線の座標X’における転向用として回転軸に
設置された検流計スキャナー4を持つミラー5および光線分離器6を経由して顕
微鏡光路7に入り込む。
【0033】 顕微鏡光路7は顕微鏡対物レンズ8を通って対象物9に至っている。対象物9
は、例えば蛍光試料収容のためのマイクロ滴定プレートまたはバイオチップであ
る。マイクロ滴定プレートの底部はXY平面として利用される。 顕微鏡対物レンズ8に跳ね返った蛍光光線に基づく試料の読み取りは、通常通
り受光器10によって行う。
【0034】 試料は、Y’座標(図には描かれてない)を移動できる対象物ホルダー11に
設置されているので、検流計スキャナー4と調整移動させる対象物ホルダー11
との相互作用によりXY平面をレーザ光線2によって走査することができる。 当装置により高価値画像を得るための前提条件として、対象物9の被走査平面
XYが、レーザ走査顕微鏡のフォーカス平面X’Y’に位置設定されることが保
証されるように、本発明においては図2に原理図を示したような三角測量用素子
群構成体12が備えられている。
【0035】 図2から分かるように、三角測量用素子群構成体12は波長λ=780nmの
レーザ光線を放射するレーザダイオード13、読み取り光学系14および例えば
256画素を持つCCD走査素子15を有している。
【0036】 レーザによる三角測量およびそれに関連して三角測量用素子群構成体12の作
用機構を図2を基にして簡単に説明しておく:レーザダイオード13から放射さ
れたダイオード光線16は、読み取り光学系14を通って対象物9の被走査平面
XYに到達する。ダイオード光線16がXY平面に衝突するポジションは、レー
ザ走査顕微鏡の走査装置によって変動させることができる。それは、検流計スキ
ャナー4と対象物ホルダー11のテーブルによりY座標において然るべく位置調
整し、図1に描かれているように、ダイオード光線16を光線分離器17に導い
て、そこから走査装置の無限光路へ送り込むことによって行う。
【0037】 説明のため、走査装置は、ダイオード光線16がXY平面の点Pで衝突する
ように制御されているものと想定する(図2参照)。XY平面で反射したダイオ
ード光線16は再び読み取り光学系14を通ってCCD走査素子15のポジショ
ン18に到達する。
【0038】 図2からはさらに、読み取り光学系14およびまた顕微鏡対物レンズ8からX
Y平面または点Pまでの距離の変化と共に、CCD走査素子15に当たる反射
光線のポジションも変化するのが分かる。この原理を利用して、ポジション18
はXY平面の点Pにおける正確な焦点距離に一致すると定義づけされていれば
、例えばポジション18.1または18.2と求めるポジション18との比較から
、即ち、その間にある画素の評価に基づき、点Pの位置がどの程度焦点位置か
らずれているかが測定できる。
【0039】 図1には以上のほか三角測量用素子群構成体12も描かれており、これは上記
のような偏差を求めるために構成されている評価回路19に連結している。評価
回路19にはこの目的のため、ダイオード光線16を走査装置によって照準した
任意の各点P,P…Pについて、前記の方法により位置偏差から偏差信号
を求める偏差指示器が備えられている。
【0040】 本発明に基づけば、評価回路19は他方では信号路を媒介にして、対象物ホル
ダー11をZ座標方向において位置調整するために配置されている、互いに独立
して制御可能な三つの駆動素子20、21、22とも連結している。駆動素子2
0、21、22としては、例えば制御可能な回転駆動体と連結している細目ねじ
スピンドルが配備されている(図では詳細は描かれていない)。
【0041】 図3aおよび3bには、以下に説明する調整装置の機能を生み出す駆動素子2
0、21、22間の機構結合原理が示されている。 図3aおよび3bには、また、顕微鏡対物レンズ8および対象物ホルダー11
がそれぞれ装備されているのが認められる。さらに、被走査試料9の置かれたX
Y平面も示されている。
【0042】 図3aは対象物ホルダー11のXZ切断面を描いたもので、それより、駆動素
子20および21から対象物ホルダー11へ力と動きを伝達する制御誘導点A およびAが、XY平面にだけでなく、XZ平面(図示平面)にもあることが分
かる。つまり、(原点からほぼ等距離にある)両制御誘導点AおよびAはX
軸上に配置されていることになる。
【0043】 図3bは図3aのBB断面図であり、従ってYZ断面ということになる。ここ
では、第三の駆動素子22と対象物ホルダー11とを互いに連結している制御誘
導点Aが、YZ平面にだけでなくXY平面にもあるということが、つまりY軸
上にあるということが分かる。 従って、対象物ホルダー11と駆動素子20、21、22との連結は三点台架
の状態になっていて、支持点の二つ(A,A)はX軸上に、第三の支持点(
)はY軸上にある。
【0044】 図3aに示されているように、、駆動素子20と21の動作方向がそれぞれ+
z、−zと逆向きの位置関係にあって、駆動素子22が固定しているという場合
、対象物ホルダー11の傾斜修正、つまり被走査平面XYの傾斜修正は、Y軸の
周りを回転させることによって行う。
【0045】 それに対して駆動素子22の動作方向が+zで、駆動素子20および21が固
定している場合、図3bから見て取れるように、対象物ホルダーの位置調整はX
軸の周りを回転させることによって行う。
【0046】 図3aおよび図3bにはさらに引張バネ23も図示されている。 それは対象物ホルダー11に駆動素子20、21、22に対しての弾性的予備
緊張をもたらすためのものである。対象物ホルダー11と駆動素子20、21、
22間の接触面は一方はボール形態で、他方は半球形頭巾形態で構成されている
のが好ましい。
【0047】 図4は簡略に描いた対象物ホルダー11の上面図である。 ここでは改めて制御誘導点A、A、Aの位置関係が明瞭に示されている
。それより、AおよびAはX軸上に、AはY軸上にあるのが認められる。
さらに、三つの制御誘導点A,A,AはいずれもXY平面上に、この場合で
は図示平面上にあるのが分かる。
【0048】 対象物ホルダー11のほぼ中央には対象物9が置かれている。その場合対象物
ホルダー11と対象物9の走査装置に対する位置取りは、原点が平面の少なくと
もほぼ中央に来るように調整されている。
【0049】 本発明に基づく方法は、上記配置のもとで以下のようにして実施することがで
きる。但しその場合、当初では対象物ホルダー11に対する対象物9の位置調整
は粗調整であるということ、即ち被走査平面XYは、恐らくレーザ走査顕微鏡の
フォーカス平面にはまだ位置設定されていないということを前提条件として置く
ものとする:
【0050】 当方法の最初のステップでは、制御誘導点AおよびAと同様X軸上にあっ
て、それも好ましくは−x方向で対象物の縁近くにある点Pのほうに、ダイオ
ード光線16(図1および図2も参照)が向くように走査装置が制御される。既
に前のほうで述べたように、点Pからの反射光線について、ポジション実測値
と評価ユニットに保存されているポジション要求値との比較により点Pのフォ
ーカス平面からの位置ズレが求められる。
【0051】 次のステップではレーザ光線が被走査平面XYの点Pに向くように走査装置
が制御される。その場合、点Pは制御誘導点AおよびAと全く同様にX軸
上にあって、それも好ましくは+x方向で対象物の縁近くにあるものとする。点
からの反射光線についても同様にしてフォーカス平面からの偏差が求められ
る。
【0052】 PおよびPについて求められた偏差は、駆動素子20および21に対する
互いに逆方向の調整命令として発せられる。それにより、(既述した通り)Y軸
の周りをそれぞれ要求位置からの偏差として求められた量だけ傾斜移動する。高
精度の場合ではそのときX軸はフォーカス面X’Y’に平行に向いているか、あ
るいは既にフォーカス面X’Y’内にある。
【0053】 以上に続いて、制御誘導点Aと同様Y軸上にあって、それも好ましくは−y
方向で対象物の縁近くにある点Pのほうへダイオード光線16が向くように走
査装置が制御される。その場合、ポジション実測値は上述の方法と全く同様に三
角測量用素子群構成体12によって把握されるが、CCD走査素子15における
からの反射光線についてのそのポジション実測値とポジション要求値間の偏
差から駆動素子22に対する調整命令が求められて、それが当素子に向けて発せ
られる。それを受けて、対象物ホルダー11がX軸の周りを傾斜移動し、Y軸も
フォーカス平面X’Y’に平行になるよう調整される。
【0054】 点P,P,Pからの反射光線についてポジション実測値とポジション要求
値間になお偏差が認められて、上記方法による位置修正の指令が出ている限りは
、上記作業過程を繰り返し行うことができる。その上、駆動素子20、21、2
2を同じ動作方向に同時制御することによって、P,P,PからCCD走査
素子上に結像する反射光線が最高の強度に達するまで、Z座標において対象物9
の位置調整を続けることができる。以上のようにして、走査装置に対する対象物
9の正確な位置設定が達成される。
【0055】
【発明の効果】
上記作業過程のあいだ、試料の蛍光励起用としてのレーザ光線2がブロッキン
グされるように遮光具24を制御することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に基づくシステムによるレーザスキャナーの原理的構造
【図2】 レーザ三角測量原理の図解
【図3】 a、bはセパレート式駆動素子の対象物ホルダーへの連結原理
【図4】 対象物の設置された対象物ホルダーの上面図
【符号の説明】
1 レーザ 2 レーザ光線 3 光線拡大光学系 4 検流計スキャナー 5 ミラー 6 光線分離器 7 顕微鏡光路 8 顕微鏡対物レンズ 9 対象物 10 接眼レンズ 11 対象物ホルダー 12 三角測量用素子群構成体 13 レーザダイオード 14 読み取り光学系 15 CCD走査素子 16 ダイオード光線 17 光線分離器 18、18.1、18.2 ポジション 19 評価回路 20、21、22 駆動素子 23 引張バネ 24 遮光具
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ステファン シュミッツ ドイツ国 D−07745 イエナ ブッカエ ル ストラッセ 6b (72)発明者 ゲルハルト デーリング ドイツ国 07646 シュレーベン ドルフ ストラッセ 16 (72)発明者 ギュンター ベルテル ドイツ国 07743 イエナ フライリグラ スストラッセ 24 (72)発明者 トーマス ハルトマン ドイツ国 D−07749 イエナ ヘーヘン ヴェーク 3 Fターム(参考) 2F065 AA03 AA07 BB01 FF09 GG06 GG12 HH04 HH13 JJ03 JJ26 MM03 2H051 AA11 BB20 BB24 CB23 CC03 CC07 CE16 2H052 AA07 AC15 AC27 AC34 AD09 AD19

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 − まず最初に、対象物(9)を対象物ホルダー(11)において粗調整し、 − 次に、XY平面上にある少なくとも3箇所の点P,P…Pへ時間的
    に相前後してレーザ光線を当て、点P,P…Pからの反射光線をそれぞれ
    ポジション感知検出器に結像させ、 − そこで反射光線のそれぞれについてポジション実測値を求めて保存されて
    いる各ポジション要求値と比較し、 − ポジション実測値のポジション要求値に対する偏差から、対象物ホルダー
    (11)の傾斜度変更のための調整命令を得て、 − 点P,P…Pがフォーカス平面X’Y’に来るまで対象物ホルダー
    (11)の傾斜度を変更させるために指示を発する、 対象物(9)の被光学走査平面XYをレーザスキャナーのフォーカス平面X’
    Y’に照準するための方法
  2. 【請求項2】 x=y=0の点Pが、XY平面のほぼ中央にあって、点P,P,P が好ましくはそれぞれXY平面の縁近くの点であるとし、ポジション実測値とポ
    ジション要求値間の偏差がレーザ三角測量の原理に基づいて求められるという、
    =y=x=0、x=−x≠0およびy≠0の関係にある三点P (x、y),P(x、y)およびP(x、y)が走査されるこ
    とを特徴とする、請求項1に基づく方法
  3. 【請求項3】 − レーザ光線が、ほぼポジションPに向くように、まずレーザスキャナー
    と対象物(9)を互に位置調整し、 − 次にレーザ光線が点Pに向くように走査装置を制御して、 − 点Pのポジション実測値を求め、 − 次にレーザ光線が点Pに向くように走査装置を制御して、 − 点Pのポジション実測値を求め、 − 点Pおよび点Pのポジション実測値とポジション要求値間の偏差から
    対象物ホルダー(11)に対してY軸周囲の傾斜回転移動命令を発し、それを基
    にXY平面のX軸をフォーカス平面X’Y’に平行になるよう誘導し、 − その後レーザ光線が点Pに向くように走査装置を制御して、 − 点Pのポジション実測地を求め、それをポジション要求値と比較し、 − 点Pのホジション実測値とポジション要求値間の偏差から対象物ホルダ
    ー(11)に対してX軸周囲の傾斜回転移動命令を発し、それを基にXY平面の
    Y軸をフォーカス平面X’Y’に平行になるよう誘導する、 ことを特徴とする、特許請求項2に基づく方法
  4. 【請求項4】 点P,P,Pからの反射光線についてポジション実測値とポジション要求
    値間になお偏差が認められて、前記の方法による位置修正の指令が出ている限り
    は、偏差が、もはや認められなくなるか、あるいはXY平面とフォーカス平面X
    ’Y’とが平行位置になるかまたはXY平面がフォーカス平面X’Y’中に含み
    入れられるまでは前記作業過程を繰り返し行うことを特徴とする、請求項3に基
    づく方法
  5. 【請求項5】 レーザ光線を、点Pに照準した後、点Pからの反射光線が検出器上に最高
    の状態で結像するまで、対象物ホルダー(11)をZ方向へ平行移動させるよう
    誘導することを特徴とする、特許請求項3または4に基づく方法
  6. 【請求項6】 XY平面の位置調整後、点P,P,Pからの反射光線が検出器上に最高の
    状態で結像するまで、対象物ホルダー(11)をZ方向へ平行移動させるよう誘
    導することを特徴とする、上記請求項の一つに基づく方法
  7. 【請求項7】 − 対象物(9)を固定設置するための対象物ホルダー(11)、 − レーザ光線により走査される、XY平面上の3点P,P,Pからの反
    射光線の位置を探査するためのポジション感知検出器、 − 検出器に現れるこれら反射光線それぞれのポジション実測値とポジション
    要求値との偏差を測定するための評価用回路(19) および − その評価用回路(19)と連結していて、レーザスキャナーのフォーカス
    平面X’Y’を基準として対象物ホルダー(11)の傾斜度を切替えるための調
    整装置を備える対象物(9)の被走査平面XYの位置把握およびレーザスキャナ
    ーのフォーカス平面X’Y’におけるXY平面の位置設定のためのシステム
  8. 【請求項8】 レーザスキャナーが、レーザ光線をX’座標方向へ転向させる回転軸設置型ミ
    ラー(5)を持ち、対象物ホルダー(11)がY’座標方向へ直線的に移動でき
    て、しかも動作経過がポジション表示器と連結する駆動装置を通じて制御および
    点検できることを特徴とする、請求項7に基づくシステム
  9. 【請求項9】 検出器が、256画素を持つCCD走査素子(15)として構成されていて、
    それが、点P、P、Pの走査用セパレート式光源として波長 【式1】 を持つ少なくとも一つのレーザダイオード(13)とダイオード光線(16)を
    レーザスキャナーの光路へ連結させるための光学系とを有している三角測量用素
    子群構成体(12)の構成要素であることを特徴とする、請求項7または8に基
    づくシステム
  10. 【請求項10】 ダイオード光線(16)が、ガウス形態の強度特性を有していて、点P,P
    ,Pで反射したダイオード光線(16)のCCD走査素子(15)における
    ポジション実測値がそれぞれガウス関数の主点によって定義づけされることを特
    徴とする、請求項9に基づくシステム
  11. 【請求項11】 評価回路(19)には点P,P,Pに対応するポジション要求値を収めた
    保存装置が備えられていて、しかもその評価ユニット(19)が、点P,P,
    の各点毎にそれぞれポジション実測値とポジション要求値の並置されている
    入力側および対象物ホルダー(11)と連結する調整装置用制御信号としての示
    差信号の計測ができる出力側を持つ示差形成装置を有していることを特徴とする
    、請求項7〜10の一つに基づくシステム
  12. 【請求項12】 調整装置が、それぞれ制御誘導点A,A,Aを通じて対象物ホルダーと機
    構的に連結していて、Z座標方向への調整が別々にできるという三つの駆動素子
    を有している構造であって、対象物ホルダー(11)が三点軸受けの原理に基づ
    き、点P,P,Pと全く同様にXY平面上にある制御誘導点A,A,A に接していることを特徴とする、請求項11に基づくシステム
  13. 【請求項13】 制御誘導点A、Aおよび点P、PがXY平面のX軸上に、および/ま
    たは制御誘導点Aおよび点PがXY平面のY軸上にあることを特徴とする、
    請求項12に基づくシステム
  14. 【請求項14】 駆動素子(20、21、22)として圧電式駆動体が、あるいは回転駆動体に
    連結する精密機能ネジ棒が備えられていることを特徴とする、請求項13に基づ
    くシステム
  15. 【請求項15】 駆動素子(20、21、22)と対象物ホルダー(11)の刳り抜き部を噛み
    合わせ、刳り抜き内部では対象物ホルダー(11)が駆動素子(20、21、2
    2)に接合していて、駆動素子(20、21、22)と対象物ホルダー(11)
    にはバネ(23)により互いに弾力性が保持できる程度に予備圧力がかけられて
    いることを特徴とする、請求項14に基づくシステム
JP2000620409A 1999-05-19 2000-05-18 レーザスキャナーの走査対象である平面の位置把握方法およびそのためのシステム Pending JP2003500660A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19923821.9 1999-05-19
DE19923821A DE19923821A1 (de) 1999-05-19 1999-05-19 Verfahren und Anordnung zur Lageerfassung einer mit einem Laser-Scanner abzutastenden Fläche
PCT/EP2000/004493 WO2000072078A1 (de) 1999-05-19 2000-05-18 Verfahren und anordnung zur lageerfassung einer mit einem laser-scanner abzutastenden ebene

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003500660A true JP2003500660A (ja) 2003-01-07

Family

ID=7909064

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000620409A Pending JP2003500660A (ja) 1999-05-19 2000-05-18 レーザスキャナーの走査対象である平面の位置把握方法およびそのためのシステム

Country Status (6)

Country Link
US (1) US6594006B1 (ja)
EP (1) EP1101142B1 (ja)
JP (1) JP2003500660A (ja)
AT (1) ATE263385T1 (ja)
DE (2) DE19923821A1 (ja)
WO (1) WO2000072078A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011038923A (ja) * 2009-08-12 2011-02-24 Eci Inc 観察用器具および観察用器具ホルダ

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7155049B2 (en) 2001-01-11 2006-12-26 Trestle Acquisition Corp. System for creating microscopic digital montage images
US6993169B2 (en) 2001-01-11 2006-01-31 Trestle Corporation System and method for finding regions of interest for microscopic digital montage imaging
US7349130B2 (en) * 2001-05-04 2008-03-25 Geodigm Corporation Automated scanning system and method
DE10126286A1 (de) 2001-05-30 2002-12-19 Leica Microsystems Verfahren und Vorrichtung zum Punktweisen scannen einer Probe
US6992765B2 (en) * 2002-10-11 2006-01-31 Intralase Corp. Method and system for determining the alignment of a surface of a material in relation to a laser beam
US6972989B2 (en) * 2003-10-10 2005-12-06 Infincon Technologies Ag Reference current distribution in MRAM devices
JP2006040949A (ja) * 2004-07-22 2006-02-09 Advanced Lcd Technologies Development Center Co Ltd レーザー結晶化装置及びレーザー結晶化方法
US7327452B2 (en) * 2004-08-09 2008-02-05 Credence Systems Corporation Light beam apparatus and method for orthogonal alignment of specimen
US20060246576A1 (en) * 2005-04-06 2006-11-02 Affymetrix, Inc. Fluidic system and method for processing biological microarrays in personal instrumentation
US9117149B2 (en) 2011-10-07 2015-08-25 Industrial Technology Research Institute Optical registration carrier
JP6245552B2 (ja) * 2013-07-03 2017-12-13 サクラファインテックジャパン株式会社 薄切片作製装置、及び薄切片作製方法
DE102016222186B3 (de) * 2016-11-11 2018-04-12 Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh Verfahren zum Kalibrieren zweier Scannereinrichtungen jeweils zur Positionierung eines Laserstrahls in einem Bearbeitungsfeld und Bearbeitungsmaschine zum Herstellen von dreidimensionalen Bauteilen durch Bestrahlen von Pulverschichten
CN107102653B (zh) * 2017-06-07 2020-11-27 歌尔股份有限公司 一种控制无人机的挂载设备对地角度的装置和方法
CN111148963B (zh) * 2017-10-04 2021-11-30 徕卡生物系统成像股份有限公司 载片卡死确定系统
DE102017219559A1 (de) 2017-11-03 2019-05-09 Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh Verfahren zur Vermessung eines Basiselements einer Bauzylinder-Anordnung, mit Ablenkung eines Messlaserstrahls durch eine Scanner-Optik
DE102018205403A1 (de) * 2018-04-11 2019-10-17 Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh Verfahren zum Kalibrieren einer Bearbeitungsmaschine und Bearbeitungsmaschine
DE102018125995A1 (de) * 2018-10-19 2020-04-23 Leica Microsystems Cms Gmbh Verfahren und Mikroskop zur Bestimmung einer Verkippung eines Deckglases
DE102018131427B4 (de) * 2018-12-07 2021-04-29 Leica Microsystems Cms Gmbh Verfahren zur automatischen Positionsermittlung auf einer Probenanordnung und entsprechendes Mikroskop, Computerprogramm und Computerprogrammprodukt
DE102019113975B4 (de) * 2019-05-24 2023-10-19 Abberior Instruments Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Überwachen des Fokuszustands eines Mikroskops sowie Mikroskop
DE102020202022A1 (de) 2020-02-18 2021-08-19 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Verfahren zur Erfassung einer relativen Ausrichtung einer Oberfläche
CN111398976B (zh) * 2020-04-01 2022-08-23 宁波飞芯电子科技有限公司 探测装置及方法

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0721586B2 (ja) * 1985-09-30 1995-03-08 株式会社ニコン 像形成光学装置
US4978841A (en) * 1989-08-24 1990-12-18 Lasa Industries, Inc. Automatic leveling system and a method of leveling a workpiece based on focus detection
US5334830A (en) * 1991-05-29 1994-08-02 Olympus Optical Co., Ltd. Scanning optical microscope having a compact confocal optical system for adjusting position of aperture
US5790710A (en) 1991-07-12 1998-08-04 Jeffrey H. Price Autofocus system for scanning microscopy
US5448399A (en) * 1992-03-13 1995-09-05 Park Scientific Instruments Optical system for scanning microscope
DE4313094A1 (de) * 1993-04-22 1994-10-27 Gernot K Brueck Lasermikroskopie
US5483055A (en) 1994-01-18 1996-01-09 Thompson; Timothy V. Method and apparatus for performing an automatic focus operation for a microscope
FI94907C (fi) * 1993-12-29 1995-11-10 Rautaruukki Oy Menetelmä optista säteilyä lähettävän ja vastaanottavan mittalaitteen asemoimiseksi säiliön vuorauksen kulumismittauksessa
US5557456A (en) * 1994-03-04 1996-09-17 Oncometrics Imaging Corp. Personal interface device for positioning of a microscope stage
US5532815A (en) * 1994-06-17 1996-07-02 Kdy Associates, Inc. System and method for aligning a first surface with respect to a second surface
JPH08145645A (ja) * 1994-11-28 1996-06-07 Nikon Corp 傾き検出装置
JP3462006B2 (ja) * 1996-05-20 2003-11-05 株式会社ミツトヨ オートフォーカス装置
US5995143A (en) * 1997-02-07 1999-11-30 Q3Dm, Llc Analog circuit for an autofocus microscope system
JPH10239051A (ja) * 1997-02-28 1998-09-11 Nikon Corp 傾斜角測定装置
DE19726696A1 (de) * 1997-06-24 1999-01-07 Jenoptik Jena Gmbh Verfahren zur Fokussierung bei der Abbildung strukturierter Oberflächen von scheibenförmigen Objekten
US6259519B1 (en) * 1999-08-31 2001-07-10 Intelligent Machine Concepts, L.L.C. Method of determining the planar inclination of a surface

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011038923A (ja) * 2009-08-12 2011-02-24 Eci Inc 観察用器具および観察用器具ホルダ

Also Published As

Publication number Publication date
WO2000072078A1 (de) 2000-11-30
DE50005884D1 (de) 2004-05-06
ATE263385T1 (de) 2004-04-15
US6594006B1 (en) 2003-07-15
EP1101142B1 (de) 2004-03-31
DE19923821A1 (de) 2000-11-23
EP1101142A1 (de) 2001-05-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2003500660A (ja) レーザスキャナーの走査対象である平面の位置把握方法およびそのためのシステム
US6548796B1 (en) Confocal macroscope
EP0406413B1 (en) Scanning type tunnel microscope
JP4417958B2 (ja) 高精度試験体の角度依存アライメントの検査または校正装置
US5880465A (en) Scanning confocal microscope with oscillating objective lens
US6822749B1 (en) Method and arrangement for determining the geometry of objects using a coordinate measuring device
JP5207213B2 (ja) オートフォーカス装置
KR100192097B1 (ko) 원자간력현미경
EP0665417A2 (en) Atomic force microscope combined with optical microscope
US4959552A (en) Microscope arranged for measuring microscopic structures
CN107765426B (zh) 基于对称离焦双探测器的自聚焦激光扫描投影装置
US10254307B2 (en) Scanning probe microscope
CN109827976B (zh) 一种在线观测和调节x射线光束和样品的光学系统
JP2002258172A (ja) 走査方法及びその装置,光強度検査方法及びその装置、並びに、調芯方法及びその装置
US6495812B1 (en) Apparatus and method for analyzing an object of interest having a pivotably movable source and detector
CN111288927B (zh) 基于法向跟踪的自由曲面差动共焦测量方法及装置
JP2003098437A (ja) 走査顕微鏡及び目標物を走査するための方法
WO2006090593A1 (ja) 走査型プローブ顕微鏡用変位検出機構およびこれを用いた走査型プローブ顕微鏡
US6486964B2 (en) Measuring apparatus
JPH1123219A (ja) 共焦点光学系による変位計測装置
WO2003060589A1 (en) Auto focussing device and method
JPH11173821A (ja) 光学式検査装置
CN212390966U (zh) 一种基于激光三角法的多功能检测装置
JP3510359B2 (ja) 光学測定装置
CN111288926B (zh) 基于法向跟踪的自由曲面共焦测量方法及装置