JP2002258172A - 走査方法及びその装置，光強度検査方法及びその装置、並びに、調芯方法及びその装置 - Google Patents
走査方法及びその装置，光強度検査方法及びその装置、並びに、調芯方法及びその装置Info
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- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
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- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光強度が最大となる方向を短時間で検出可能
なファイバコリメータの調芯方法及びその装置並びに、
光強度検査方法及びその装置を提供する。 【解決手段】 被調芯コリメータ３２の出射光側にミラ
ー１４を設け、このミラー１４で反射して被調芯コリメ
ータ３２を通過した光を光強度測定器７５で測定しなが
ら、光強度が最大となるｚ軸位置で被調芯コリメータ３
２の調芯を行う。このミラー１４には光軸に対して２方
向にスキャンする回転体１１及び１２を付設している。
そして、これら回転体１１及び１２は一方向を高速でス
キャンし、他方向を低速でスキャンするので、一方向毎
にスキャンする場合に比べてミラー１４の最適な方向を
短時間で検出でき、被調芯コリメータ３２の調芯作業を
大幅に短縮できる。
なファイバコリメータの調芯方法及びその装置並びに、
光強度検査方法及びその装置を提供する。 【解決手段】 被調芯コリメータ３２の出射光側にミラ
ー１４を設け、このミラー１４で反射して被調芯コリメ
ータ３２を通過した光を光強度測定器７５で測定しなが
ら、光強度が最大となるｚ軸位置で被調芯コリメータ３
２の調芯を行う。このミラー１４には光軸に対して２方
向にスキャンする回転体１１及び１２を付設している。
そして、これら回転体１１及び１２は一方向を高速でス
キャンし、他方向を低速でスキャンするので、一方向毎
にスキャンする場合に比べてミラー１４の最適な方向を
短時間で検出でき、被調芯コリメータ３２の調芯作業を
大幅に短縮できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、光強度検査方法
及びその装置、並びに調芯方法及びその装置に関するも
のである。
及びその装置、並びに調芯方法及びその装置に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】図１３は従来のファイバコリメータ調芯
装置を示す簡略図である。この従来の調芯装置は以下の
ようになっている。
装置を示す簡略図である。この従来の調芯装置は以下の
ようになっている。
【０００３】すなわち、光源５１からの光が、第１分岐
用光ファイバ５２、光分岐器５３を経てコリメートレン
ズ３４からミラー１４に至る。ミラー１４で反射された
光５９は、コリメートレンズ３４で集光され、光ファイ
バ３６、光分岐器５３及び第２分岐用光ファイバ５４を
経由して、光強度測定器７５に入射する。この場合、ミ
ラー１４の角度により、被調芯コリメータ３２を通過す
る反射光の光強度が変化する。
用光ファイバ５２、光分岐器５３を経てコリメートレン
ズ３４からミラー１４に至る。ミラー１４で反射された
光５９は、コリメートレンズ３４で集光され、光ファイ
バ３６、光分岐器５３及び第２分岐用光ファイバ５４を
経由して、光強度測定器７５に入射する。この場合、ミ
ラー１４の角度により、被調芯コリメータ３２を通過す
る反射光の光強度が変化する。
【０００４】従来の調芯方法では、ミラー１４の上下首
振り（θｘ）及び左右首振り（θｙ）動作をそれぞれ独
立して行う。つまり、従来の調芯方法では、ミラー１４
の上下及び左右首振りを一方向ずつ行う。この動作によ
って被調芯コリメータ３２に入射できる反射光の光強度
はミラー１４の角度により変わり、この光強度は光強度
測定器７５の出力値から計測できる。反射光の光強度が
最大になるミラー１４の角度を捜し、次いで、光ファイ
バ３６の位置をｚ軸方向に位置を変えて、再度ミラー１
４の角度を変え、光強度が最大になる位置で、図示省略
された接着剤で光ファイバ３６をキャピラリ３５に固定
する。
振り（θｘ）及び左右首振り（θｙ）動作をそれぞれ独
立して行う。つまり、従来の調芯方法では、ミラー１４
の上下及び左右首振りを一方向ずつ行う。この動作によ
って被調芯コリメータ３２に入射できる反射光の光強度
はミラー１４の角度により変わり、この光強度は光強度
測定器７５の出力値から計測できる。反射光の光強度が
最大になるミラー１４の角度を捜し、次いで、光ファイ
バ３６の位置をｚ軸方向に位置を変えて、再度ミラー１
４の角度を変え、光強度が最大になる位置で、図示省略
された接着剤で光ファイバ３６をキャピラリ３５に固定
する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところが、従来の調芯
方法では、前記のように、光強度測定器７５の出力値を
見ながら一方向ずつミラー１４を回転させて光強度の最
大値を求め、さらに、ｚ軸方向の位置を変えて再度最大
値を探すという試行錯誤の作業となり、調芯作業に長時
間を要していた。
方法では、前記のように、光強度測定器７５の出力値を
見ながら一方向ずつミラー１４を回転させて光強度の最
大値を求め、さらに、ｚ軸方向の位置を変えて再度最大
値を探すという試行錯誤の作業となり、調芯作業に長時
間を要していた。
【０００６】本発明は、このような従来の問題点に着目
してなされたものである。その目的とするところは、光
強度が最大となる方向を短時間で検出可能な光強度検査
方法とその装置、並びに調芯方法とその装置を提供する
ことにある。
してなされたものである。その目的とするところは、光
強度が最大となる方向を短時間で検出可能な光強度検査
方法とその装置、並びに調芯方法とその装置を提供する
ことにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、請求項１に記載の発明は、入射光の光軸と交わる
位置に配置した光入射手段を光軸上において２方向に走
査させる走査方法において、２方向への走査を、一方向
は他方向に較べて高速で実行することを特徴とした。
めに、請求項１に記載の発明は、入射光の光軸と交わる
位置に配置した光入射手段を光軸上において２方向に走
査させる走査方法において、２方向への走査を、一方向
は他方向に較べて高速で実行することを特徴とした。
【０００８】請求項２に記載の発明では、請求項１にお
いて、高速側が１００〜１ｋＨｚ，低速側が０．１〜１
０Ｈｚの範囲で走査が行われる。請求項３に記載の発明
では、請求項１において、高速側が２００〜６００Ｈ
ｚ，低速側が０．２〜５Ｈｚの範囲で走査が行われる。
いて、高速側が１００〜１ｋＨｚ，低速側が０．１〜１
０Ｈｚの範囲で走査が行われる。請求項３に記載の発明
では、請求項１において、高速側が２００〜６００Ｈ
ｚ，低速側が０．２〜５Ｈｚの範囲で走査が行われる。
【０００９】請求項４に記載の発明では、請求項１にお
いて、高速側が３００〜５００Ｈｚ，低速側が０．５〜
２Ｈｚの範囲で走査が行われる。請求項５に記載の発明
は、入射光の光軸と交わる位置に配置した光入射手段を
光軸上において２方向に走査させながら、その光入射手
段に入射された光の強度を検出する光強度検査方法にお
いて、２方向への走査を、一方向は他方向に較べて高速
で実行することを特徴とした。
いて、高速側が３００〜５００Ｈｚ，低速側が０．５〜
２Ｈｚの範囲で走査が行われる。請求項５に記載の発明
は、入射光の光軸と交わる位置に配置した光入射手段を
光軸上において２方向に走査させながら、その光入射手
段に入射された光の強度を検出する光強度検査方法にお
いて、２方向への走査を、一方向は他方向に較べて高速
で実行することを特徴とした。
【００１０】請求項６に記載の発明は、光入射手段と被
検査ワークとを入射光の光軸と交わる位置に配置し、こ
れらの少なくとも１つを光軸上において２方向に走査さ
せながら、その光入射手段に入射された光の強度を検出
する光強度検査方法において、方向への走査を、一方向
は他方向に較べて高速で実行することを特徴とした。
検査ワークとを入射光の光軸と交わる位置に配置し、こ
れらの少なくとも１つを光軸上において２方向に走査さ
せながら、その光入射手段に入射された光の強度を検出
する光強度検査方法において、方向への走査を、一方向
は他方向に較べて高速で実行することを特徴とした。
【００１１】請求項７に記載の発明は、請求項５または
６において、前記光入射手段が光強度最大点に正対した
位置を記憶することを特徴とした。請求項８に記載の発
明は、請求項５から７のいずれかにおいて、前記２方向
の走査が、角度についての２方向及び位置についての２
方向の少なくとも１つであることを特徴とする。
６において、前記光入射手段が光強度最大点に正対した
位置を記憶することを特徴とした。請求項８に記載の発
明は、請求項５から７のいずれかにおいて、前記２方向
の走査が、角度についての２方向及び位置についての２
方向の少なくとも１つであることを特徴とする。
【００１２】請求項９に記載の発明は、入射光の光軸と
交わる位置に配置した光入射手段を前記光軸上において
２方向に走査させながら、その光入射手段に入射された
光の強度を検出するとともに、前記光軸上に被調芯ワー
クを設置して調芯を行う調芯方法において、２方向への
走査を、一方向は他方向に較べて高速で実行することを
特徴とした。
交わる位置に配置した光入射手段を前記光軸上において
２方向に走査させながら、その光入射手段に入射された
光の強度を検出するとともに、前記光軸上に被調芯ワー
クを設置して調芯を行う調芯方法において、２方向への
走査を、一方向は他方向に較べて高速で実行することを
特徴とした。
【００１３】請求項１０に記載の発明は、光入射手段と
被調芯ワークとを入射光の光軸と交わる位置に配置し、
これらの少なくとも１つを光軸上において２方向に走査
させながら、その光入射手段に入射された光の強度を検
出するとともに、前記被調芯ワークの調芯を行う調芯方
法において、２方向への走査を、一方向は他方向に較べ
て高速で実行することを特徴とした。
被調芯ワークとを入射光の光軸と交わる位置に配置し、
これらの少なくとも１つを光軸上において２方向に走査
させながら、その光入射手段に入射された光の強度を検
出するとともに、前記被調芯ワークの調芯を行う調芯方
法において、２方向への走査を、一方向は他方向に較べ
て高速で実行することを特徴とした。
【００１４】請求項１１に記載の発明は、請求項９また
は１０において、前記光入射手段が光強度最大点に正対
した位置を記憶することを特徴とした。請求項１２に記
載の発明は、請求項９から１１のいずれかにおいて、前
記光入射手段が光強度最大点に正対した位置を記憶し、
被調芯ワークを光軸に沿って正方向または逆方向へ移動
調節することを特徴とする。
は１０において、前記光入射手段が光強度最大点に正対
した位置を記憶することを特徴とした。請求項１２に記
載の発明は、請求項９から１１のいずれかにおいて、前
記光入射手段が光強度最大点に正対した位置を記憶し、
被調芯ワークを光軸に沿って正方向または逆方向へ移動
調節することを特徴とする。
【００１５】請求項１３に記載の発明は、請求項１２に
おいて、被調芯ワークが、チューブと、そのチューブ内
に挿入されたコリメートレンズ及びキャピラリと、その
キャピラリに挿入または固定された光ファイバとを備
え、光ファイバを正方向または逆方向へ移動させること
を特徴とする。
おいて、被調芯ワークが、チューブと、そのチューブ内
に挿入されたコリメートレンズ及びキャピラリと、その
キャピラリに挿入または固定された光ファイバとを備
え、光ファイバを正方向または逆方向へ移動させること
を特徴とする。
【００１６】請求項１４に記載の発明は、入射光の光軸
と交わる位置に配置された光入射手段と、その光入射手
段を前記光軸上において２方向に走査させる走査手段
と、前記走査手段による２方向への走査が、一方向は他
方向に較べて高速で実行されるように、走査手段の動作
を制御する制御手段とを設けたことを特徴とする。
と交わる位置に配置された光入射手段と、その光入射手
段を前記光軸上において２方向に走査させる走査手段
と、前記走査手段による２方向への走査が、一方向は他
方向に較べて高速で実行されるように、走査手段の動作
を制御する制御手段とを設けたことを特徴とする。
【００１７】請求項１５に記載の発明は、入射光の光軸
と交わる位置に配置された光入射手段と、その光入射手
段を前記光軸上において２方向に走査させる走査手段
と、その光入射手段に入射された光の強度を検出するた
めの光強度検出手段と、前記走査手段による２方向への
走査が、一方向は他方向に較べて高速で実行されるよう
に、走査手段の動作を制御する制御手段とを設けたこと
を特徴とする。
と交わる位置に配置された光入射手段と、その光入射手
段を前記光軸上において２方向に走査させる走査手段
と、その光入射手段に入射された光の強度を検出するた
めの光強度検出手段と、前記走査手段による２方向への
走査が、一方向は他方向に較べて高速で実行されるよう
に、走査手段の動作を制御する制御手段とを設けたこと
を特徴とする。
【００１８】請求項１６に記載の発明は、入射光の光軸
と交わる位置に配置された光入射手段と、被検査ワーク
を前記光入射手段に対して光入射側の光軸上において設
置するためのワーク保持手段と、前記光入射手段及びワ
ーク保持手段の少なくとも１つを２方向に走査させる走
査手段と、その光入射手段に入射された光の強度を検出
するための光強度検出手段と、前記走査手段による２方
向への走査が、一方向は他方向に較べて高速で実行され
るように、走査手段の動作を制御する制御手段とを設け
たことを特徴とする。
と交わる位置に配置された光入射手段と、被検査ワーク
を前記光入射手段に対して光入射側の光軸上において設
置するためのワーク保持手段と、前記光入射手段及びワ
ーク保持手段の少なくとも１つを２方向に走査させる走
査手段と、その光入射手段に入射された光の強度を検出
するための光強度検出手段と、前記走査手段による２方
向への走査が、一方向は他方向に較べて高速で実行され
るように、走査手段の動作を制御する制御手段とを設け
たことを特徴とする。
【００１９】請求項１７に記載の発明は、請求項１６に
おいて、前記走査手段は、前記光入射手段を前記光軸上
において走査させる走査手段及び、被検査ワークを前記
光軸上において走査するためにワーク保持手段に設けら
れた走査手段の少なくとも１つであることを特徴とす
る。
おいて、前記走査手段は、前記光入射手段を前記光軸上
において走査させる走査手段及び、被検査ワークを前記
光軸上において走査するためにワーク保持手段に設けら
れた走査手段の少なくとも１つであることを特徴とす
る。
【００２０】請求項１８に記載の発明は、請求項１５か
ら１７のいずれかにおいて、前記光強度検出手段からの
検出出力に基づき、光入射手段が光強度最大点に正対し
た位置を記憶する記憶手段を備えたことを特徴とする。
ら１７のいずれかにおいて、前記光強度検出手段からの
検出出力に基づき、光入射手段が光強度最大点に正対し
た位置を記憶する記憶手段を備えたことを特徴とする。
【００２１】請求項１９に記載の発明は、請求項１５か
ら１８のいずれかにおいて、前記光入射手段は、ミラー
により構成され、前記光強度検出手段にはミラーからの
反射光が入射されることを特徴とする。
ら１８のいずれかにおいて、前記光入射手段は、ミラー
により構成され、前記光強度検出手段にはミラーからの
反射光が入射されることを特徴とする。
【００２２】請求項２０に記載の発明は、請求項１５か
ら１８のいずれかにおいて、前記光入射手段は、レンズ
により構成され、前記光強度検出手段にはレンズを透過
した光が入射されることを特徴とする。
ら１８のいずれかにおいて、前記光入射手段は、レンズ
により構成され、前記光強度検出手段にはレンズを透過
した光が入射されることを特徴とする。
【００２３】請求項２１に記載の発明は、請求項１５か
ら２０のいずれかに記載の光強度検査装置を備え、被検
査ワークが被調芯ワークであることを特徴とする。請求
項２２に記載の発明は、請求項２１において、前記被調
芯ワークを光軸に沿って正方向または逆方向へ位置調節
するための調節手段を設けたことを特徴とする。
ら２０のいずれかに記載の光強度検査装置を備え、被検
査ワークが被調芯ワークであることを特徴とする。請求
項２２に記載の発明は、請求項２１において、前記被調
芯ワークを光軸に沿って正方向または逆方向へ位置調節
するための調節手段を設けたことを特徴とする。
【００２４】請求項２３に記載の発明は、請求項２２に
おいて、調節手段により移動された被調芯ワークの位置
を記憶するための記憶手段を備えたことを特徴とする。
従って、この発明によれば、一方向にゆっくりスキャン
しながら、その方向における各位置を小刻みに短時間で
分割形成するように他方向にスキャンが行われる。この
ため、光強度の測定が必要な全方位を短時間で、かつほ
とんど余すことなくスキャンでき、調芯等において、光
強度の検出をきわめて短時間で行うことができる。
おいて、調節手段により移動された被調芯ワークの位置
を記憶するための記憶手段を備えたことを特徴とする。
従って、この発明によれば、一方向にゆっくりスキャン
しながら、その方向における各位置を小刻みに短時間で
分割形成するように他方向にスキャンが行われる。この
ため、光強度の測定が必要な全方位を短時間で、かつほ
とんど余すことなくスキャンでき、調芯等において、光
強度の検出をきわめて短時間で行うことができる。
【００２５】
【発明の実施の形態】以下、本発明を具体化した各実施
形態を図面に基づいて説明する。なお、各実施形態の説
明において、同様の部位には同一の符号を付して重複し
た説明を省略する。 ［第１実施形態］第１実施形態に係わるファイバコリメ
ータの調芯方法及びその装置について図１〜図４に基づ
いて説明する。
形態を図面に基づいて説明する。なお、各実施形態の説
明において、同様の部位には同一の符号を付して重複し
た説明を省略する。 ［第１実施形態］第１実施形態に係わるファイバコリメ
ータの調芯方法及びその装置について図１〜図４に基づ
いて説明する。
【００２６】本実施形態のファイバコリメータ調芯装置
を図１〜図３に示す。本実施形態の調芯装置において、
図示のように、光入射部５０は、光源５１と、この光源
５１に光学的に接続された第１分岐用光ファイバ５２
と、光分岐器５３と、光分岐器５３と光学的に接続され
た第２分岐用光ファイバ５４とを備えている。光分岐器
５３は光ファイバ３６と光学的に接続されている。この
とき、第１分岐用光ファイバ５２と光源５１との間に光
源５１への反射戻り光を遮断するためにアイソレータ等
の遮断部品を設けてもよい。さらに、この調芯装置は、
光入射手段としての反射部１０と、この反射部１０から
の反射光が入射する被調芯部３０と、この被調芯部３０
に挿入された光ファイバ３６をその長手方向に移動させ
る調節手段としての移動部４０と、光ファイバ３６に接
続された前記光入射部５０と、信号処理部７０とを備え
ている。
を図１〜図３に示す。本実施形態の調芯装置において、
図示のように、光入射部５０は、光源５１と、この光源
５１に光学的に接続された第１分岐用光ファイバ５２
と、光分岐器５３と、光分岐器５３と光学的に接続され
た第２分岐用光ファイバ５４とを備えている。光分岐器
５３は光ファイバ３６と光学的に接続されている。この
とき、第１分岐用光ファイバ５２と光源５１との間に光
源５１への反射戻り光を遮断するためにアイソレータ等
の遮断部品を設けてもよい。さらに、この調芯装置は、
光入射手段としての反射部１０と、この反射部１０から
の反射光が入射する被調芯部３０と、この被調芯部３０
に挿入された光ファイバ３６をその長手方向に移動させ
る調節手段としての移動部４０と、光ファイバ３６に接
続された前記光入射部５０と、信号処理部７０とを備え
ている。
【００２７】前記反射部１０には、図３に示すモータ１
５により垂直面内においてθｘ方向に低速で往復回転可
能な第１回転体１１と、この上に設けられ、出力軸１３
が水平面内においてθｙ方向に高速で往復回転可能な第
２回転体１２と、この出力軸１３に設置されたミラー１
４とが備えられている。この第１実施形態においては、
走査手段として第１回転体１１及び第２回転体１２が用
いられている。第１回転体１１が高速で回転され、第２
回転体１２が低速で回転される。ここで、第１、第２回
転体のθｘ及びθｙ方向の回転はスキャンとしての回転
であり、第２回転体１２の駆動には、ボイスコイル、ピ
エゾアクチュエータ等が使用されている。
５により垂直面内においてθｘ方向に低速で往復回転可
能な第１回転体１１と、この上に設けられ、出力軸１３
が水平面内においてθｙ方向に高速で往復回転可能な第
２回転体１２と、この出力軸１３に設置されたミラー１
４とが備えられている。この第１実施形態においては、
走査手段として第１回転体１１及び第２回転体１２が用
いられている。第１回転体１１が高速で回転され、第２
回転体１２が低速で回転される。ここで、第１、第２回
転体のθｘ及びθｙ方向の回転はスキャンとしての回転
であり、第２回転体１２の駆動には、ボイスコイル、ピ
エゾアクチュエータ等が使用されている。
【００２８】前記被調芯部３０には、ワーク保持手段と
してのワーク保持体３１が備えられている。このワーク
保持体３１の上に、被調芯ワークとしての被調芯コリメ
ータ３２が設置されている。図２に示すように、この被
調芯コリメータ３２には、チューブ３３の中にキャピラ
リ３５が予め固定または形成されており、このキャピラ
リ３５に光ファイバ３６が挿入されている。または、光
ファイバ３６がキャピラリ３５に固定されており、この
キャピラリ３５をガイドとしてチューブ３３に挿入され
ている。スリーブ３３内にはコリメートレンズ３４が設
けられている。
してのワーク保持体３１が備えられている。このワーク
保持体３１の上に、被調芯ワークとしての被調芯コリメ
ータ３２が設置されている。図２に示すように、この被
調芯コリメータ３２には、チューブ３３の中にキャピラ
リ３５が予め固定または形成されており、このキャピラ
リ３５に光ファイバ３６が挿入されている。または、光
ファイバ３６がキャピラリ３５に固定されており、この
キャピラリ３５をガイドとしてチューブ３３に挿入され
ている。スリーブ３３内にはコリメートレンズ３４が設
けられている。
【００２９】移動部４０には、光ファイバ移動台４１
と、この上に設けられた光ファイバ設置台４２と、この
上に設置された光ファイバ固定板４３と、ｚ軸駆動モー
タ４４とが備えられている。光ファイバ３６は光ファイ
バ固定板４３により光ファイバ設置台４２に固定され
る。この光ファイバ設置台４２はｚ軸駆動モータ４４に
より、キャピラリ３５の長手方向である一方向（ｚ軸方
向）に移動可能である。
と、この上に設けられた光ファイバ設置台４２と、この
上に設置された光ファイバ固定板４３と、ｚ軸駆動モー
タ４４とが備えられている。光ファイバ３６は光ファイ
バ固定板４３により光ファイバ設置台４２に固定され
る。この光ファイバ設置台４２はｚ軸駆動モータ４４に
より、キャピラリ３５の長手方向である一方向（ｚ軸方
向）に移動可能である。
【００３０】図３に本実施形態の装置の光強度検出手段
及び制御手段としての信号処理部７０の簡略図を示す。
この信号処理部７０には、中央演算処理装置（以下、Ｃ
ＰＵと略す）７１と、図４に示すプログラムを動作させ
るためのデータを記憶したＲＯＭ７２と、測定データ等
を一時的に記憶するための記憶手段としてのＲＡＭ７３
と、測定結果表示用のＣＲＴディスプレイ（以下、ＣＲ
Ｔと略す）７４と、光強度測定器７５と、ｚ軸駆動モー
タ４４の制御用のｚ軸駆動回路７６と、上下首振り（θ
ｘ）用の第１回転体１１のモータ１５の駆動回路７７
と、左右首振り（θｙ）用の第２回転体１２のアクチュ
エータ１２ａの駆動回路７８と、角度出力回路７９とが
備えられている。第１回転体１１及び第２回転体１２の
角度のデータは角度出力回路７９に出力される。本実施
形態では、光強度検出手段として、ＣＰＵ７１、ＲＯＭ
７２、ＲＡＭ７３、ＣＲＴ７４、光強度測定器７５が用
いられる。また、制御手段として、ｚ軸駆動信号処理回
路７６、駆動回路７７、駆動回路７８、角度出力回路７
９、ＣＰＵ７１、ＲＯＭ７２が用いられる。
及び制御手段としての信号処理部７０の簡略図を示す。
この信号処理部７０には、中央演算処理装置（以下、Ｃ
ＰＵと略す）７１と、図４に示すプログラムを動作させ
るためのデータを記憶したＲＯＭ７２と、測定データ等
を一時的に記憶するための記憶手段としてのＲＡＭ７３
と、測定結果表示用のＣＲＴディスプレイ（以下、ＣＲ
Ｔと略す）７４と、光強度測定器７５と、ｚ軸駆動モー
タ４４の制御用のｚ軸駆動回路７６と、上下首振り（θ
ｘ）用の第１回転体１１のモータ１５の駆動回路７７
と、左右首振り（θｙ）用の第２回転体１２のアクチュ
エータ１２ａの駆動回路７８と、角度出力回路７９とが
備えられている。第１回転体１１及び第２回転体１２の
角度のデータは角度出力回路７９に出力される。本実施
形態では、光強度検出手段として、ＣＰＵ７１、ＲＯＭ
７２、ＲＡＭ７３、ＣＲＴ７４、光強度測定器７５が用
いられる。また、制御手段として、ｚ軸駆動信号処理回
路７６、駆動回路７７、駆動回路７８、角度出力回路７
９、ＣＰＵ７１、ＲＯＭ７２が用いられる。
【００３１】光源５１から出た光は、第１分岐用光ファ
イバ５２、光分岐器５３及び光ファイバ３６を経由し更
にコリメートレンズ３４で平行な光５９にされる。光５
９はミラー１４で反射され、コリメートレンズ３４で集
光される。さらに、この光は、光ファイバ３６、光分岐
器５３及び第２分岐用光ファイバ５４を経由して、光強
度測定器７５に入射される。光強度測定器７５の出力
は、角度出力回路７９の出力と同期してＣＰＵ７１に送
られ、所定角度ごとの光強度が検出される。このＣＰＵ
７１には光強度が最大となる角度を検出する機能が備え
られている。
イバ５２、光分岐器５３及び光ファイバ３６を経由し更
にコリメートレンズ３４で平行な光５９にされる。光５
９はミラー１４で反射され、コリメートレンズ３４で集
光される。さらに、この光は、光ファイバ３６、光分岐
器５３及び第２分岐用光ファイバ５４を経由して、光強
度測定器７５に入射される。光強度測定器７５の出力
は、角度出力回路７９の出力と同期してＣＰＵ７１に送
られ、所定角度ごとの光強度が検出される。このＣＰＵ
７１には光強度が最大となる角度を検出する機能が備え
られている。
【００３２】ミラー１４は、θｘとθｙの２方向に自動
でスキャン回転できる。ここで、この２方向のスキャン
回転のうち、一方向が高速で他方向が低速で回転される
ので、スキャンする角度範囲内での光強度の最大値が信
号処理部７０により短時間で検出できる。
でスキャン回転できる。ここで、この２方向のスキャン
回転のうち、一方向が高速で他方向が低速で回転される
ので、スキャンする角度範囲内での光強度の最大値が信
号処理部７０により短時間で検出できる。
【００３３】そこで、図４に本実施形態に基づく調芯方
法のフローチャートを示す。このフローチャートは信号
処理部７０の制御のもとに、ＲＯＭ７２に格納されたプ
ログラムが実行されるものである。
法のフローチャートを示す。このフローチャートは信号
処理部７０の制御のもとに、ＲＯＭ７２に格納されたプ
ログラムが実行されるものである。
【００３４】ステップＳ１では、コリメートレンズ３４
からの光軸が少しずれても光５９が見つけられるよう
に、ＣＰＵ７１は第１回転体１１のθｘ角度範囲及び第
２回転体１２のθｙ角度範囲が少し大きめに設定され、
θｘとθｙの２方向のスキャンが行われる。このため、
光５９の検出が実行される。
からの光軸が少しずれても光５９が見つけられるよう
に、ＣＰＵ７１は第１回転体１１のθｘ角度範囲及び第
２回転体１２のθｙ角度範囲が少し大きめに設定され、
θｘとθｙの２方向のスキャンが行われる。このため、
光５９の検出が実行される。
【００３５】ステップＳ２では、先ず、見つけられた光
５９の光強度分布の中心が求められる。次に、この求め
られた結果に基づいて第１回転体１１のθｘ角度範囲及
び第２回転体１２のθｙ角度範囲が小さく絞られ、求め
られた中心を原点にしてθｘとθｙの２方向のスキャン
が実行される。このスキャンにおいては、θｘ方向のス
キャン速度がθｙ方向のスキャン速度の数百倍である。
このため、一方向にゆっくりスキャンしながら、その方
向における各角度位置を小刻みに短時間で分割形成する
ように他方向にスキャンが行われる。従って、測定が必
要な全方位を短時間で、かつほとんど余すことなくスキ
ャンできる。そして、角度ごとの光強度分布がＲＡＭ７
３に記憶される。
５９の光強度分布の中心が求められる。次に、この求め
られた結果に基づいて第１回転体１１のθｘ角度範囲及
び第２回転体１２のθｙ角度範囲が小さく絞られ、求め
られた中心を原点にしてθｘとθｙの２方向のスキャン
が実行される。このスキャンにおいては、θｘ方向のス
キャン速度がθｙ方向のスキャン速度の数百倍である。
このため、一方向にゆっくりスキャンしながら、その方
向における各角度位置を小刻みに短時間で分割形成する
ように他方向にスキャンが行われる。従って、測定が必
要な全方位を短時間で、かつほとんど余すことなくスキ
ャンできる。そして、角度ごとの光強度分布がＲＡＭ７
３に記憶される。
【００３６】ステップＳ３では、ＲＡＭ７３に記憶され
た光強度分布から光強度の最大値の検出が実行される。
ステップＳ４では、ｚ軸駆動モータ４４が駆動されて指
定の距離だけ光ファイバ設置台４２のｚ軸方向への移動
が実行される。これにより、光ファイバ３６とコリメー
トレンズ３４との相対距離がこの指定の距離だけ変化す
る。
た光強度分布から光強度の最大値の検出が実行される。
ステップＳ４では、ｚ軸駆動モータ４４が駆動されて指
定の距離だけ光ファイバ設置台４２のｚ軸方向への移動
が実行される。これにより、光ファイバ３６とコリメー
トレンズ３４との相対距離がこの指定の距離だけ変化す
る。
【００３７】ステップＳ５では、第１回転体１１のθｘ
角度範囲及び第２回転体１２のθｙ角度範囲をステップ
Ｓ２で検出された光５９の強度中心を原点にして前記と
同様なθｘとθｙの２方向のスキャンが実行される。そ
して、角度ごとの光強度分布がＲＡＭ７３に記憶され
る。
角度範囲及び第２回転体１２のθｙ角度範囲をステップ
Ｓ２で検出された光５９の強度中心を原点にして前記と
同様なθｘとθｙの２方向のスキャンが実行される。そ
して、角度ごとの光強度分布がＲＡＭ７３に記憶され
る。
【００３８】ステップＳ６では、 ＲＡＭ７３に記憶さ
せた光強度分布から光強度の最大値の検出が実行され
る。ステップＳ７では、ステップＳ６で検出された光強
度の最大値とステップＳ３で検出された光強度の最大値
とが比較され、ステップＳ６の光強度の最大値が低下し
ていればステップＳ８に進み、低下していなければステ
ップＳ４に戻る。つまり、光強度の最大値が低下してい
ないということは、この最大値よりさらに高い値の最大
値が存在することを意味する。このため、ステップＳ４
から始まるフローが再度実行される。一方、光強度の最
大値が低下したということは、ミラー１４がコリメート
レンズ３４に正対してこの最大値よりさらに高い値の最
大値は存在しないことを意味する。このため、ステップ
Ｓ８以降のフローに進行する。なお、ここで、正対する
とは、光強度の最大値を得る位置をいう。
せた光強度分布から光強度の最大値の検出が実行され
る。ステップＳ７では、ステップＳ６で検出された光強
度の最大値とステップＳ３で検出された光強度の最大値
とが比較され、ステップＳ６の光強度の最大値が低下し
ていればステップＳ８に進み、低下していなければステ
ップＳ４に戻る。つまり、光強度の最大値が低下してい
ないということは、この最大値よりさらに高い値の最大
値が存在することを意味する。このため、ステップＳ４
から始まるフローが再度実行される。一方、光強度の最
大値が低下したということは、ミラー１４がコリメート
レンズ３４に正対してこの最大値よりさらに高い値の最
大値は存在しないことを意味する。このため、ステップ
Ｓ８以降のフローに進行する。なお、ここで、正対する
とは、光強度の最大値を得る位置をいう。
【００３９】ステップＳ８では、ｚ軸駆動モータ４４が
駆動されて指定の距離だけ光ファイバ設置台４２のｚ軸
方向への移動が実行される。これにより、光ファイバ３
６とコリメートレンズ３４との相対距離がこの指定の距
離だけ変化される。
駆動されて指定の距離だけ光ファイバ設置台４２のｚ軸
方向への移動が実行される。これにより、光ファイバ３
６とコリメートレンズ３４との相対距離がこの指定の距
離だけ変化される。
【００４０】ステップＳ９では、第１回転体１１のθｘ
角度範囲及び第２回転体１２のθｙ角度範囲をステップ
Ｓ５で検出された光５９の強度中心を原点にして前記と
同様なθｘとθｙの２方向のスキャンが実行される。角
度ごとの光強度分布がＲＡＭ７３に記憶される。
角度範囲及び第２回転体１２のθｙ角度範囲をステップ
Ｓ５で検出された光５９の強度中心を原点にして前記と
同様なθｘとθｙの２方向のスキャンが実行される。角
度ごとの光強度分布がＲＡＭ７３に記憶される。
【００４１】ステップＳ１０では、光強度分布から光強
度の最大値が求められ、これを調芯での最大値として、
ＲＡＭ７３への書き込みが実行される。以上の操作によ
り、光強度が最大となる光ファイバ３６とコリメートレ
ンズ３４との相対距離を求めることができる。その相対
距離の位置で、図示省略された接着剤で光ファイバ３６
がキャピラリ３５に固定され、被調芯コリメータ３２の
調芯作業が完了する。
度の最大値が求められ、これを調芯での最大値として、
ＲＡＭ７３への書き込みが実行される。以上の操作によ
り、光強度が最大となる光ファイバ３６とコリメートレ
ンズ３４との相対距離を求めることができる。その相対
距離の位置で、図示省略された接着剤で光ファイバ３６
がキャピラリ３５に固定され、被調芯コリメータ３２の
調芯作業が完了する。
【００４２】本実施形態で用いたθｘとθｙのスキャン
速度の採り得る範囲は、高速側が１００〜１ｋＨｚ，低
速側が０．１〜１０Ｈｚで、両者の速度比が１０〜１０
０００である。より望ましい範囲は、高速側が２００〜
６００Ｈｚ，低速側が０．２〜５Ｈｚで、両者の速度比
が４０〜３０００である。最も好適な範囲は、高速側が
３００〜５００Ｈｚ，低速側が０．５〜２Ｈｚで、両者
の速度比が１５０〜１０００である。また、第１回転体
１１としてゴニオステージ、第２回転体１２としてガル
バノスキャナを用いた。
速度の採り得る範囲は、高速側が１００〜１ｋＨｚ，低
速側が０．１〜１０Ｈｚで、両者の速度比が１０〜１０
０００である。より望ましい範囲は、高速側が２００〜
６００Ｈｚ，低速側が０．２〜５Ｈｚで、両者の速度比
が４０〜３０００である。最も好適な範囲は、高速側が
３００〜５００Ｈｚ，低速側が０．５〜２Ｈｚで、両者
の速度比が１５０〜１０００である。また、第１回転体
１１としてゴニオステージ、第２回転体１２としてガル
バノスキャナを用いた。
【００４３】以上のように構成された第１実施形態によ
れば、以下の作用効果を奏する。 （１）ミラー１４が一方向を高速で他方向を低速で回転
されているので、従来行われていた一方向毎に角度を変
えて回転される装置に比べて、光強度が最大となる角度
をきわめて短時間で検出できる。
れば、以下の作用効果を奏する。 （１）ミラー１４が一方向を高速で他方向を低速で回転
されているので、従来行われていた一方向毎に角度を変
えて回転される装置に比べて、光強度が最大となる角度
をきわめて短時間で検出できる。
【００４４】（２）ミラー１４の角度の出力と光強度測
定器７５の出力とが同期してＣＰＵ７１に入力されて自
動で信号処理が行われるので、光強度が最大となる角度
を短時間で検出できる。 ［第２実施形態］第２実施形態に係わるファイバコリメ
ータの調芯方法及びその装置について図５〜図８に基づ
いて説明する。第２実施形態は第１実施形態と同じ構成
の部分があるので、主として相違点を説明する。
定器７５の出力とが同期してＣＰＵ７１に入力されて自
動で信号処理が行われるので、光強度が最大となる角度
を短時間で検出できる。 ［第２実施形態］第２実施形態に係わるファイバコリメ
ータの調芯方法及びその装置について図５〜図８に基づ
いて説明する。第２実施形態は第１実施形態と同じ構成
の部分があるので、主として相違点を説明する。
【００４５】本実施形態のファイバコリメータ調芯装置
を図５〜図７に示す。本実施形態の調芯装置は図示のよ
うに、光入射手段が光透過部２０により構成されてい
る。光透過部２０には、第１実施形態のミラー１４に代
えてレンズとしてのマスタコリメータ２２が備えられて
いると共に、移動台２７が走査手段を構成している。こ
の移動台２７は、光軸に垂直な面内において、Ｘ軸方向
及びＹ軸方向に直線的に移動される。マスタコリメータ
２２は、チューブ２３の中にコリメートレンズ２４を有
すると共に、チューブ２３の内側がキャピラリ２５にな
っており、このキャピラリ２５に光ファイバ２６が挿入
されている。
を図５〜図７に示す。本実施形態の調芯装置は図示のよ
うに、光入射手段が光透過部２０により構成されてい
る。光透過部２０には、第１実施形態のミラー１４に代
えてレンズとしてのマスタコリメータ２２が備えられて
いると共に、移動台２７が走査手段を構成している。こ
の移動台２７は、光軸に垂直な面内において、Ｘ軸方向
及びＹ軸方向に直線的に移動される。マスタコリメータ
２２は、チューブ２３の中にコリメートレンズ２４を有
すると共に、チューブ２３の内側がキャピラリ２５にな
っており、このキャピラリ２５に光ファイバ２６が挿入
されている。
【００４６】ここで、移動台２７には、前記第１の実施
形態と同様に、一方向を高速でスキャンし他方向を低速
でスキャンする機構が備えられている。移動台２７の位
置の出力は位置出力回路８２に出力される。
形態と同様に、一方向を高速でスキャンし他方向を低速
でスキャンする機構が備えられている。移動台２７の位
置の出力は位置出力回路８２に出力される。
【００４７】光入射部５０は光源５１である。この光源
５１は光ファイバ３６と光学的に接続されている。図７
に本実施形態の装置の信号処理部９０の簡略図を示す。
この第２実施形態の信号処理部９０には、第１実施形態
の電気的構成において、移動台２７のｘ軸用モータ２７
ａのｘ軸制御回路８０、移動台２７のｙ軸用モータ２７
ｂのｙ軸制御回路８１、ｘ及びｙの位置出力回路８２と
がさらに備えられている。即ち、第１実施形態の制御手
段において、ｘ軸制御回路８０、ｙ軸制御回路８１、位
置出力回路８２とがさらに備えられている。
５１は光ファイバ３６と光学的に接続されている。図７
に本実施形態の装置の信号処理部９０の簡略図を示す。
この第２実施形態の信号処理部９０には、第１実施形態
の電気的構成において、移動台２７のｘ軸用モータ２７
ａのｘ軸制御回路８０、移動台２７のｙ軸用モータ２７
ｂのｙ軸制御回路８１、ｘ及びｙの位置出力回路８２と
がさらに備えられている。即ち、第１実施形態の制御手
段において、ｘ軸制御回路８０、ｙ軸制御回路８１、位
置出力回路８２とがさらに備えられている。
【００４８】光源５１から出た光は光ファイバ３６を経
由してコリメートレンズ３４で平行な光５９にされる。
この光５９はコリメートレンズ２４で集光され、光ファ
イバ２６を経由して光強度測定器７５に入射する。光強
度測定器７５の出力は角度出力回路７９及び位置出力回
路８２と同期してＣＰＵ７１に送られる。このＣＰＵ７
１には光強度が最大となる角度及び位置を検出する機能
が備えられている。
由してコリメートレンズ３４で平行な光５９にされる。
この光５９はコリメートレンズ２４で集光され、光ファ
イバ２６を経由して光強度測定器７５に入射する。光強
度測定器７５の出力は角度出力回路７９及び位置出力回
路８２と同期してＣＰＵ７１に送られる。このＣＰＵ７
１には光強度が最大となる角度及び位置を検出する機能
が備えられている。
【００４９】マスタコリメータ２２は、移動台２７、第
１回転体１１及び第２回転体１２に支持されているの
で、第１回転体１１及び第２回転体１２によりθｘとθ
ｙの２方向に自動でスキャン回転できると共に、移動台
２７によりｘとｙの２方向に自動で直線的にスキャン移
動できる。つまり、角度と位置の２組について、それぞ
れ、２方向に自動でスキャンできる。ここで、角度につ
いて一方向が高速で他方向が低速で回転されるので、前
記第１の実施形態と同様に、スキャンする角度範囲内で
の光強度の最大値が信号処理部９０により短時間で検出
できる。また、位置について一方向が高速で他方向が低
速で移動されるので、スキャンする位置範囲内での光強
度の最大値が信号処理部９０により短時間で検出でき
る。この場合も、高速と低速との比は、１：数百であ
る。このように、角度及び位置を交互に変えながら、角
度範囲（θｘとθｙ ）及び位置範囲（ｘとｙ）での光
強度の最大値を検出できる。
１回転体１１及び第２回転体１２に支持されているの
で、第１回転体１１及び第２回転体１２によりθｘとθ
ｙの２方向に自動でスキャン回転できると共に、移動台
２７によりｘとｙの２方向に自動で直線的にスキャン移
動できる。つまり、角度と位置の２組について、それぞ
れ、２方向に自動でスキャンできる。ここで、角度につ
いて一方向が高速で他方向が低速で回転されるので、前
記第１の実施形態と同様に、スキャンする角度範囲内で
の光強度の最大値が信号処理部９０により短時間で検出
できる。また、位置について一方向が高速で他方向が低
速で移動されるので、スキャンする位置範囲内での光強
度の最大値が信号処理部９０により短時間で検出でき
る。この場合も、高速と低速との比は、１：数百であ
る。このように、角度及び位置を交互に変えながら、角
度範囲（θｘとθｙ ）及び位置範囲（ｘとｙ）での光
強度の最大値を検出できる。
【００５０】図８に本実施形態に基づく調芯方法のフロ
ーチャートを示す。基本的なフローは第１実施形態で説
明した図４と同じであるので、相違点を説明する。本実
施形態では、角度について第１回転体１１及び第２回転
体１２でθｘとθｙの２方向に角度スキャンし、位置に
ついて移動台２７でｘとｙの２方向に位置スキャンする
ので、ステップＳ１、Ｓ２、Ｓ５、Ｓ９が第１実施形態
と異なる。
ーチャートを示す。基本的なフローは第１実施形態で説
明した図４と同じであるので、相違点を説明する。本実
施形態では、角度について第１回転体１１及び第２回転
体１２でθｘとθｙの２方向に角度スキャンし、位置に
ついて移動台２７でｘとｙの２方向に位置スキャンする
ので、ステップＳ１、Ｓ２、Ｓ５、Ｓ９が第１実施形態
と異なる。
【００５１】ステップＳ１では、光軸が少しずれても光
５９を見つけられるように、第１実施形態で行った角度
範囲でのスキャンに加えて位置範囲でのスキャンも行
う。すなわち、先ず、角度範囲を少し大きめに設定し、
θｘとθｙの２方向の角度スキャンを行う。次に、光強
度が最大となるθｘとθｙの角度に固定して、移動台２
７のｘ位置範囲及びｙ位置範囲を少し大きめに設定し、
ｘとｙの２方向の位置スキャンを行う。更に、光強度が
最大となるｘとｙの位置に移動台２７を固定してθｘと
θｙの２方向の角度スキャンを行い、光強度が最大とな
るθｘとθｙの角度で、ｘとｙの２方向の位置スキャン
を行うという操作を所定の光強度になるまで繰り返して
行い、光５９の検出が実行される。
５９を見つけられるように、第１実施形態で行った角度
範囲でのスキャンに加えて位置範囲でのスキャンも行
う。すなわち、先ず、角度範囲を少し大きめに設定し、
θｘとθｙの２方向の角度スキャンを行う。次に、光強
度が最大となるθｘとθｙの角度に固定して、移動台２
７のｘ位置範囲及びｙ位置範囲を少し大きめに設定し、
ｘとｙの２方向の位置スキャンを行う。更に、光強度が
最大となるｘとｙの位置に移動台２７を固定してθｘと
θｙの２方向の角度スキャンを行い、光強度が最大とな
るθｘとθｙの角度で、ｘとｙの２方向の位置スキャン
を行うという操作を所定の光強度になるまで繰り返して
行い、光５９の検出が実行される。
【００５２】ステップＳ２では、見つかった光５９の光
強度分布の中心を求め、先ず、角度範囲を小さく絞り、
求めた中心を原点にしてθｘとθｙの２方向の角度スキ
ャンが実行される。次に、光強度が最大となるθｘとθ
ｙの角度で、移動台２７のｘ位置範囲及びｙ位置範囲を
小さく絞り、ｘとｙの２方向の位置スキャンを行う。光
強度が最大となるｘとｙの位置でθｘとθｙの２方向の
角度スキャンを行い、再び、光強度が最大となるθｘと
θｙの角度でｘとｙの２方向の位置スキャンを行うとい
う操作を行う。この操作は、角度と位置を変えても光強
度の最大値が殆ど変化しないまで繰り返して実行され
る。角度及び位置による光強度分布はＲＡＭ７３に記憶
される。
強度分布の中心を求め、先ず、角度範囲を小さく絞り、
求めた中心を原点にしてθｘとθｙの２方向の角度スキ
ャンが実行される。次に、光強度が最大となるθｘとθ
ｙの角度で、移動台２７のｘ位置範囲及びｙ位置範囲を
小さく絞り、ｘとｙの２方向の位置スキャンを行う。光
強度が最大となるｘとｙの位置でθｘとθｙの２方向の
角度スキャンを行い、再び、光強度が最大となるθｘと
θｙの角度でｘとｙの２方向の位置スキャンを行うとい
う操作を行う。この操作は、角度と位置を変えても光強
度の最大値が殆ど変化しないまで繰り返して実行され
る。角度及び位置による光強度分布はＲＡＭ７３に記憶
される。
【００５３】ステップＳ５では、先ず、ステップＳ２で
検出された光５９の中心を原点にしてθｘとθｙの２方
向の角度スキャンが実行される。次に、光強度が最大と
なるθｘとθｙの角度で、移動台２７のｘとｙの２方向
の位置スキャンを行う。ステップＳ２と同様に、角度と
位置を変えても光強度の最大値が殆ど変化しないまで繰
り返して実行される。角度及び位置による光強度分布は
ＲＡＭ７３に記憶される。
検出された光５９の中心を原点にしてθｘとθｙの２方
向の角度スキャンが実行される。次に、光強度が最大と
なるθｘとθｙの角度で、移動台２７のｘとｙの２方向
の位置スキャンを行う。ステップＳ２と同様に、角度と
位置を変えても光強度の最大値が殆ど変化しないまで繰
り返して実行される。角度及び位置による光強度分布は
ＲＡＭ７３に記憶される。
【００５４】ステップＳ９では、先ず、ステップＳ５で
検出された光５９の中心を原点にしてθｘとθｙの２方
向の角度スキャンが実行される。次に、光強度が最大と
なるθｘとθｙの角度で、移動台２７のｘとｙの２方向
の位置スキャンが実行される。ステップＳ２と同様に、
角度と位置を変えても光強度の最大値が殆ど変化しない
まで繰り返して実行される。角度及び位置による光強度
分布はＲＡＭ７３に記憶される。
検出された光５９の中心を原点にしてθｘとθｙの２方
向の角度スキャンが実行される。次に、光強度が最大と
なるθｘとθｙの角度で、移動台２７のｘとｙの２方向
の位置スキャンが実行される。ステップＳ２と同様に、
角度と位置を変えても光強度の最大値が殆ど変化しない
まで繰り返して実行される。角度及び位置による光強度
分布はＲＡＭ７３に記憶される。
【００５５】図８に示す操作により、光強度が最大とな
る光ファイバ３６とコリメートレンズ３４との相対距離
を求めることができる。その相対距離の位置で、図示省
略した接着剤で光ファイバ３６をキャピラリ３５に固定
し、被調芯コリメータ３２の調芯作業を完了する。
る光ファイバ３６とコリメートレンズ３４との相対距離
を求めることができる。その相対距離の位置で、図示省
略した接着剤で光ファイバ３６をキャピラリ３５に固定
し、被調芯コリメータ３２の調芯作業を完了する。
【００５６】本実施形態で用いたθｘとθｙのスキャン
速度の採り得る範囲は、前記第１の実施形態と同様に、
高速側が１００〜１ｋＨｚ，低速側が０．１〜１０Ｈｚ
で、両者の速度比が１０〜１００００である。より望ま
しい範囲は、高速側が２００〜６００Ｈｚ，低速側が
０．２〜５Ｈｚで、両者の速度比が１５０〜１０００で
ある。最も好適な範囲は、高速側が３００〜５００Ｈ
ｚ，低速側が０．５〜２Ｈｚで、両者の速度比が４０〜
３０００である。また、ｘとｙのスキャン速度の採り得
る範囲は、同じく、高速側が１００〜１ｋＨｚ，低速側
が０．１〜１０Ｈｚで、両者の速度比が１０〜１０００
０である。より望ましい範囲は、高速側が２００〜６０
０Ｈｚ，低速側が０．２〜５Ｈｚで、両者の速度比が１
５０〜１０００である。最も好適な範囲は、高速側が３
００〜５００Ｈｚ，低速側が０．５〜２Ｈｚで、両者の
速度比が４０〜３０００である。
速度の採り得る範囲は、前記第１の実施形態と同様に、
高速側が１００〜１ｋＨｚ，低速側が０．１〜１０Ｈｚ
で、両者の速度比が１０〜１００００である。より望ま
しい範囲は、高速側が２００〜６００Ｈｚ，低速側が
０．２〜５Ｈｚで、両者の速度比が１５０〜１０００で
ある。最も好適な範囲は、高速側が３００〜５００Ｈ
ｚ，低速側が０．５〜２Ｈｚで、両者の速度比が４０〜
３０００である。また、ｘとｙのスキャン速度の採り得
る範囲は、同じく、高速側が１００〜１ｋＨｚ，低速側
が０．１〜１０Ｈｚで、両者の速度比が１０〜１０００
０である。より望ましい範囲は、高速側が２００〜６０
０Ｈｚ，低速側が０．２〜５Ｈｚで、両者の速度比が１
５０〜１０００である。最も好適な範囲は、高速側が３
００〜５００Ｈｚ，低速側が０．５〜２Ｈｚで、両者の
速度比が４０〜３０００である。
【００５７】以上のように構成された第２実施形態によ
れば、以下の作用効果を奏する。 （３）レンズとしてのマスタコリメータ２２が回転及び
移動される際に、一方向を高速で他方向を低速で回転さ
れ、さらに一方向を高速で他方向を低速で移動されてい
るので、一方向毎に角度を変えて回転されて一方向毎に
位置を変えて移動される装置に比べて、光強度が最大と
なる角度及び位置を短時間で検出できる。
れば、以下の作用効果を奏する。 （３）レンズとしてのマスタコリメータ２２が回転及び
移動される際に、一方向を高速で他方向を低速で回転さ
れ、さらに一方向を高速で他方向を低速で移動されてい
るので、一方向毎に角度を変えて回転されて一方向毎に
位置を変えて移動される装置に比べて、光強度が最大と
なる角度及び位置を短時間で検出できる。
【００５８】（４）レンズとしてのマスタコリメータ２
２の角度及び位置の出力と光強度測定器７５の出力とが
同期してＣＰＵ７１に入力されて自動で信号処理が行わ
れているので、光強度が最大となる角度及び位置を短時
間で検出できる。 ［第３実施形態］第３実施形態に係わるファイバコリメ
ータの光強度検査方法及びその装置について図９〜図１
２に基づいて説明する。第３実施形態は第２実施形態と
同じ構成の部分があるので、相違点を説明する。
２の角度及び位置の出力と光強度測定器７５の出力とが
同期してＣＰＵ７１に入力されて自動で信号処理が行わ
れているので、光強度が最大となる角度及び位置を短時
間で検出できる。 ［第３実施形態］第３実施形態に係わるファイバコリメ
ータの光強度検査方法及びその装置について図９〜図１
２に基づいて説明する。第３実施形態は第２実施形態と
同じ構成の部分があるので、相違点を説明する。
【００５９】本実施形態のファイバコリメータ検査で使
用する装置を図９〜図１１に示す。本実施形態の検査装
置は図示のように、第２実施形態における移動部４０が
省略されている。また、第２実施形態の被調芯部３０に
代えて被検査部６０が備えられている。即ち、被調芯コ
リメータ３２の代わりに被検査ワークとしての被検査コ
リメータ６２が備えられている。この被検査コリメータ
６２の構成は図１０に示すように、被調芯コリメータ３
２と同じである。
用する装置を図９〜図１１に示す。本実施形態の検査装
置は図示のように、第２実施形態における移動部４０が
省略されている。また、第２実施形態の被調芯部３０に
代えて被検査部６０が備えられている。即ち、被調芯コ
リメータ３２の代わりに被検査ワークとしての被検査コ
リメータ６２が備えられている。この被検査コリメータ
６２の構成は図１０に示すように、被調芯コリメータ３
２と同じである。
【００６０】図１１に本実施形態の装置の信号処理部９
１の簡略図を示す。第２実施形態におけるｚ軸駆動信号
処理回路７６が省略されている。第２実施形態と同様
に、マスタコリメータ２２の角度及び位置を交互に変え
ながら、角度範囲（θｘとθｙ ）及び位置範囲（ｘと
ｙ）での光強度の最大値を検出できる。
１の簡略図を示す。第２実施形態におけるｚ軸駆動信号
処理回路７６が省略されている。第２実施形態と同様
に、マスタコリメータ２２の角度及び位置を交互に変え
ながら、角度範囲（θｘとθｙ ）及び位置範囲（ｘと
ｙ）での光強度の最大値を検出できる。
【００６１】図１２に本実施形態に基づく検査方法のフ
ローチャートを示す。基本的なフローは第２実施形態で
説明した図８の一部と同じであるので、相違点を説明す
る。本実施形態では、図８のステップＳ１とＳ２と同様
の操作を行った後、ステップＳ３を次のように行う。
ローチャートを示す。基本的なフローは第２実施形態で
説明した図８の一部と同じであるので、相違点を説明す
る。本実施形態では、図８のステップＳ１とＳ２と同様
の操作を行った後、ステップＳ３を次のように行う。
【００６２】ステップＳ３では、ＲＡＭ７３に記憶され
た光強度分布から光強度の最大値を検出し、これを検査
での最大値として、ＲＡＭ７３への書き込みが実行され
る。このように、図１２に示す操作により、光強度の最
大値を基に被検査コリメータ６２の検査を行えた。
た光強度分布から光強度の最大値を検出し、これを検査
での最大値として、ＲＡＭ７３への書き込みが実行され
る。このように、図１２に示す操作により、光強度の最
大値を基に被検査コリメータ６２の検査を行えた。
【００６３】本実施形態で用いたθｘとθｙのスキャン
速度の採り得る範囲は、前記と同様に、高速側が１００
〜１ｋＨｚ，低速側が０．１〜１０Ｈｚで、両者の速度
比が１０〜１００００である。より望ましい範囲は、高
速側が２００〜６００Ｈｚ，低速側が０．２〜５Ｈｚ
で、両者の速度比が１５０〜１０００である。最も好適
な範囲は、高速側が３００〜５００Ｈｚ，低速側が０．
５〜２Ｈｚで、両者の速度比が４０〜３０００である。
また、ｘとｙのスキャン速度の採り得る範囲は、同じ
く、高速側が１００〜１ｋＨｚ，低速側が０．１〜１０
Ｈｚで、両者の速度比が１０〜１００００である。より
望ましい範囲は、高速側が２００〜６００Ｈｚ，低速側
が０．２〜５Ｈｚで、両者の速度比が１５０〜１０００
である。最も好適な範囲は、高速側が３００〜５００Ｈ
ｚ，低速側が０．５〜２Ｈｚで、両者の速度比が４０〜
３０００である。
速度の採り得る範囲は、前記と同様に、高速側が１００
〜１ｋＨｚ，低速側が０．１〜１０Ｈｚで、両者の速度
比が１０〜１００００である。より望ましい範囲は、高
速側が２００〜６００Ｈｚ，低速側が０．２〜５Ｈｚ
で、両者の速度比が１５０〜１０００である。最も好適
な範囲は、高速側が３００〜５００Ｈｚ，低速側が０．
５〜２Ｈｚで、両者の速度比が４０〜３０００である。
また、ｘとｙのスキャン速度の採り得る範囲は、同じ
く、高速側が１００〜１ｋＨｚ，低速側が０．１〜１０
Ｈｚで、両者の速度比が１０〜１００００である。より
望ましい範囲は、高速側が２００〜６００Ｈｚ，低速側
が０．２〜５Ｈｚで、両者の速度比が１５０〜１０００
である。最も好適な範囲は、高速側が３００〜５００Ｈ
ｚ，低速側が０．５〜２Ｈｚで、両者の速度比が４０〜
３０００である。
【００６４】以上のように構成された第３実施形態によ
れば、以下の作用効果を奏する。 （５）所定の角度範囲及び位置範囲での最大光強度の検
出時間が短縮されるので、この最大光強度の出力値から
被検査コリメータの検査を短時間で行うことができる。
れば、以下の作用効果を奏する。 （５）所定の角度範囲及び位置範囲での最大光強度の検
出時間が短縮されるので、この最大光強度の出力値から
被検査コリメータの検査を短時間で行うことができる。
【００６５】（変形例）なお、本発明は以下のように変
更して具体化することもできる。 ・前記第１実施形態において、光入射手段として設けら
れたミラー１４を第１回転体１１及び第２回転体１２で
スキャンした。これに対し、第１回転体１１及び第２回
転体１２を被調芯ワーク側に設けて被調芯コリメータ３
２を第１回転体１１及び第２回転体１２でスキャンして
もよい。第１回転体１１及び第２回転体１２は、被調芯
コリメータ３２とミラー１４との相対的な角度を変える
ために設けられたのであるので、被調芯コリメータ３２
をスキャンさせても前記第１実施形態と同様の作用効果
を有する。
更して具体化することもできる。 ・前記第１実施形態において、光入射手段として設けら
れたミラー１４を第１回転体１１及び第２回転体１２で
スキャンした。これに対し、第１回転体１１及び第２回
転体１２を被調芯ワーク側に設けて被調芯コリメータ３
２を第１回転体１１及び第２回転体１２でスキャンして
もよい。第１回転体１１及び第２回転体１２は、被調芯
コリメータ３２とミラー１４との相対的な角度を変える
ために設けられたのであるので、被調芯コリメータ３２
をスキャンさせても前記第１実施形態と同様の作用効果
を有する。
【００６６】・前記第２実施形態において、マスタコリ
メータ２２を第１回転体１１、第２回転体１２及び移動
台２７でスキャンした。これに対し、被調芯コリメータ
３２側に第１回転体１１、第２回転体１２及び移動台２
７を設けて被調芯コリメータ３２スキャンしてもよい。
第１回転体１１、第２回転体１２及び移動台２７はマス
タコリメータ２２と被調芯コリメータ３２との相対的な
角度及び位置を変えるためであるので、被調芯コリメー
タ３２を回転及び移動させても前記第２実施形態と同様
の作用効果を有する。
メータ２２を第１回転体１１、第２回転体１２及び移動
台２７でスキャンした。これに対し、被調芯コリメータ
３２側に第１回転体１１、第２回転体１２及び移動台２
７を設けて被調芯コリメータ３２スキャンしてもよい。
第１回転体１１、第２回転体１２及び移動台２７はマス
タコリメータ２２と被調芯コリメータ３２との相対的な
角度及び位置を変えるためであるので、被調芯コリメー
タ３２を回転及び移動させても前記第２実施形態と同様
の作用効果を有する。
【００６７】・前記第２実施形態において、マスタコリ
メータ２２を第１回転体１１、第２回転体１２及び移動
台２７でスキャンしたが、被調芯コリメータ３２を第１
回転体１１及び第２回転体１２で回転させ、マスタコリ
メータ２２を移動台２７で移動する、あるいは、被調芯
コリメータ３２を移動台２７で移動してマスタコリメー
タ２２を第１回転体１１及び第２回転体１２で回転させ
てもよい。第１回転体１１、第２回転体１２及び移動台
２７は被調芯コリメータ３２とマスタコリメータ２２と
の相対的な角度及び位置を変えるためであるので、被調
芯コリメータ３２及びマスタコリメータ２２の一方を回
転させ他方を移動させても前記第２実施形態と同様の作
用効果を有する。
メータ２２を第１回転体１１、第２回転体１２及び移動
台２７でスキャンしたが、被調芯コリメータ３２を第１
回転体１１及び第２回転体１２で回転させ、マスタコリ
メータ２２を移動台２７で移動する、あるいは、被調芯
コリメータ３２を移動台２７で移動してマスタコリメー
タ２２を第１回転体１１及び第２回転体１２で回転させ
てもよい。第１回転体１１、第２回転体１２及び移動台
２７は被調芯コリメータ３２とマスタコリメータ２２と
の相対的な角度及び位置を変えるためであるので、被調
芯コリメータ３２及びマスタコリメータ２２の一方を回
転させ他方を移動させても前記第２実施形態と同様の作
用効果を有する。
【００６８】・前記第２実施形態において、光源５１の
光を被調芯コリメータ３２から入射させ、光強度測定器
７５をマスタコリメータ２２の後に設けたが、光源５１
の光をマスタコリメータ２２から入射させ、光強度測定
器７５を被調芯コリメータ３２の後に設けてもよい。光
源５１の光は光ファイバ２６を通してマスタコリメータ
２２に入射させ、さらに被調芯コリメータ３２を介して
光ファイバ３６に出射させることができる。このため、
光源５１をマスタコリメータ２２の光ファイバ２６に接
続し、光強度測定器７５を被調芯コリメータ３２の光フ
ァイバ３６に接続しても前記第２実施形態と同様の作用
効果を有する。
光を被調芯コリメータ３２から入射させ、光強度測定器
７５をマスタコリメータ２２の後に設けたが、光源５１
の光をマスタコリメータ２２から入射させ、光強度測定
器７５を被調芯コリメータ３２の後に設けてもよい。光
源５１の光は光ファイバ２６を通してマスタコリメータ
２２に入射させ、さらに被調芯コリメータ３２を介して
光ファイバ３６に出射させることができる。このため、
光源５１をマスタコリメータ２２の光ファイバ２６に接
続し、光強度測定器７５を被調芯コリメータ３２の光フ
ァイバ３６に接続しても前記第２実施形態と同様の作用
効果を有する。
【００６９】・前記第３実施形態において、マスタコリ
メータ２２を第１回転体１１、第２回転体１２及び移動
台２７でスキャンしたが、被検査コリメータ６２を第１
回転体１１、第２回転体１２及び移動台２７でスキャン
してもよい。第１回転体１１、第２回転体１２及び移動
台２７はマスタコリメータ２２と被検査コリメータ６２
との相対的な角度及び位置を変えるためであるので、被
検査コリメータ６２を回転及び移動させても前記第３実
施形態と同様の作用効果を有する。
メータ２２を第１回転体１１、第２回転体１２及び移動
台２７でスキャンしたが、被検査コリメータ６２を第１
回転体１１、第２回転体１２及び移動台２７でスキャン
してもよい。第１回転体１１、第２回転体１２及び移動
台２７はマスタコリメータ２２と被検査コリメータ６２
との相対的な角度及び位置を変えるためであるので、被
検査コリメータ６２を回転及び移動させても前記第３実
施形態と同様の作用効果を有する。
【００７０】・前記第３実施形態において、マスタコリ
メータ２２を第１回転体１１、第２回転体１２及び移動
台２７でスキャンした。これに対し、被検査コリメータ
６２を第１回転体１１及び第２回転体１２で回転させ、
マスタコリメータ２２を移動台２７で移動する、あるい
は、被検査コリメータ６２を移動台２７で移動してマス
タコリメータ２２を第１回転体１１及び第２回転体１２
で回転させてもよい。第１回転体１１、第２回転体１２
及び移動台２７は被検査コリメータ６２とマスタコリメ
ータ２２との相対的な角度及び位置を変えるためである
ので、被検査コリメータ６２及びマスタコリメータ２２
の一方を回転させ他方を移動させても前記第３実施形態
と同様の作用効果を有する。
メータ２２を第１回転体１１、第２回転体１２及び移動
台２７でスキャンした。これに対し、被検査コリメータ
６２を第１回転体１１及び第２回転体１２で回転させ、
マスタコリメータ２２を移動台２７で移動する、あるい
は、被検査コリメータ６２を移動台２７で移動してマス
タコリメータ２２を第１回転体１１及び第２回転体１２
で回転させてもよい。第１回転体１１、第２回転体１２
及び移動台２７は被検査コリメータ６２とマスタコリメ
ータ２２との相対的な角度及び位置を変えるためである
ので、被検査コリメータ６２及びマスタコリメータ２２
の一方を回転させ他方を移動させても前記第３実施形態
と同様の作用効果を有する。
【００７１】・前記第３実施形態において、光源５１の
光を被検査コリメータ６２から入射させ、光強度測定器
７５をマスタコリメータ２２の後に設けたが、光源５１
の光をマスタコリメータ２２から入射させ、光強度測定
器７５を被検査コリメータ６２の後に設けてもよい。光
源５１の光は光ファイバ２６を通してマスタコリメータ
２２に入射させ、さらに被検査コリメータ６２を介して
光ファイバ３６に出射させることができる。このため、
光源５１をマスタコリメータ２２の光ファイバ２６に接
続し、光強度測定器７５を被検査コリメータ６２の光フ
ァイバ３６に接続しても前記第３実施形態と同様の作用
効果を有する。
光を被検査コリメータ６２から入射させ、光強度測定器
７５をマスタコリメータ２２の後に設けたが、光源５１
の光をマスタコリメータ２２から入射させ、光強度測定
器７５を被検査コリメータ６２の後に設けてもよい。光
源５１の光は光ファイバ２６を通してマスタコリメータ
２２に入射させ、さらに被検査コリメータ６２を介して
光ファイバ３６に出射させることができる。このため、
光源５１をマスタコリメータ２２の光ファイバ２６に接
続し、光強度測定器７５を被検査コリメータ６２の光フ
ァイバ３６に接続しても前記第３実施形態と同様の作用
効果を有する。
【００７２】・前記第３実施形態において、第２実施形
態の移動部４０とｚ軸駆動信号処理回路７６とを省略し
たが、これらを省略せずに第２実施形態と同じ装置構成
を用いてもよい。即ち、第２実施形態と第３実施形態と
で同じ装置構成を用いることができるので、ファイバコ
リメータの調芯と検査とに同じ装置を使用できる。
態の移動部４０とｚ軸駆動信号処理回路７６とを省略し
たが、これらを省略せずに第２実施形態と同じ装置構成
を用いてもよい。即ち、第２実施形態と第３実施形態と
で同じ装置構成を用いることができるので、ファイバコ
リメータの調芯と検査とに同じ装置を使用できる。
【００７３】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、光強度が最大となる方向を短時間で検出することが
できるので、ファイバコリメータを調芯できる方法及び
その装置、並びにファイバコリメータを検査できる光強
度検査方法及びその装置として優れた発明である。
ば、光強度が最大となる方向を短時間で検出することが
できるので、ファイバコリメータを調芯できる方法及び
その装置、並びにファイバコリメータを検査できる光強
度検査方法及びその装置として優れた発明である。
【図１】 第１実施形態に係わる調芯装置の斜視図。
【図２】 第１実施形態に係わる調芯装置の簡略図。
【図３】 第１実施形態に係わる調芯装置の電気的構成
を示すブロック図。
を示すブロック図。
【図４】 第１実施形態に係わる調芯方法のフローチャ
ート図。
ート図。
【図５】 第２実施形態に係わる調芯装置の斜視図。
【図６】 第２実施形態に係わる調芯装置の簡略図。
【図７】 第２実施形態に係わる調芯装置の電気的構成
を示すブロック図。
を示すブロック図。
【図８】 第２実施形態に係わる調芯方法のフローチャ
ート図。
ート図。
【図９】 第３実施形態に係わる調芯装置の斜視図。
【図１０】 第３実施形態に係わる調芯装置の簡略図。
【図１１】 第３実施形態に係わる調芯装置の電気的構
成を示すブロック図。
成を示すブロック図。
【図１２】 第３実施形態に係わる調芯方法のフローチ
ャート図。
ャート図。
【図１３】 従来のファイバコリメータ調芯装置の斜視
図。
図。
１０…反射部、１１、１２…回転体、１４…ミラー、２
０…光透過部、２２・・・マスタコリメータ、２４、３４
…コリメートレンズ、２６、３６…光ファイバ、３０…
被調芯部、３１・・・ワーク保持体、３２・・・被調芯コリメ
ータ、４０…移動部、５０…光入射部、５１…光源、５
３…光分岐器、６０…被検査部、６２…被検査コリメー
タ、７０、９０、９１…信号処理部、７５…光強度測定
器、７９…角度出力回路、８２…位置出力回路。
０…光透過部、２２・・・マスタコリメータ、２４、３４
…コリメートレンズ、２６、３６…光ファイバ、３０…
被調芯部、３１・・・ワーク保持体、３２・・・被調芯コリメ
ータ、４０…移動部、５０…光入射部、５１…光源、５
３…光分岐器、６０…被検査部、６２…被検査コリメー
タ、７０、９０、９１…信号処理部、７５…光強度測定
器、７９…角度出力回路、８２…位置出力回路。
フロントページの続き (72)発明者 福澤 隆 大阪市中央区北浜４丁目７番28号 日本板 硝子 株式会社内 Ｆターム(参考） 2H037 AA04 BA03 BA12 BA32 DA04 DA05 DA22 2H041 AA12 AB14 AC04 AZ05 2H043 CD02 CD04 CE00
Claims (23)
- 【請求項１】 入射光の光軸と交わる位置に配置した光
入射手段を光軸上において２方向に走査させる走査方法
において、 ２方向への走査を、一方向は他方向に較べて高速で実行
することを特徴とした走査方法。 - 【請求項２】 高速側が１００〜１ｋＨｚ，低速側が
０．１〜１０Ｈｚの範囲で走査が行われる請求項１に記
載の走査方法。 - 【請求項３】 高速側が２００〜６００Ｈｚ，低速側が
０．２〜５Ｈｚの範囲で走査が行われる請求項１に記載
の走査方法。 - 【請求項４】 高速側が３００〜５００Ｈｚ，低速側が
０．５〜２Ｈｚの範囲で走査が行われる請求項１に記載
の走査方法。 - 【請求項５】 入射光の光軸と交わる位置に配置した光
入射手段を光軸上において２方向に走査させながら、そ
の光入射手段に入射された光の強度を検出する光強度検
査方法において、 ２方向への走査を、一方向は他方向に較べて高速で実行
することを特徴とした光強度検査方法。 - 【請求項６】 光入射手段と被検査ワークとを入射光の
光軸と交わる位置に配置し、これらの少なくとも１つを
光軸上において２方向に走査させながら、その光入射手
段に入射された光の強度を検出する光強度検査方法にお
いて、 ２方向への走査を、一方向は他方向に較べて高速で実行
することを特徴とした光強度検査方法。 - 【請求項７】 前記光入射手段が光強度最大点に正対し
た位置を記憶することを特徴とした請求項５または６に
記載の光強度検査方法。 - 【請求項８】 前記２方向の走査が、角度についての２
方向及び位置についての２方向の少なくとも１つである
ことを特徴とする請求項５から７のいずれかに記載の光
強度検査方法。 - 【請求項９】 入射光の光軸と交わる位置に配置した光
入射手段を前記光軸上において２方向に走査させなが
ら、その光入射手段に入射された光の強度を検出すると
ともに、前記光軸上に被調芯ワークを設置して調芯を行
う調芯方法において、 ２方向への走査を、一方向は他方向に較べて高速で実行
することを特徴とした調芯方法。 - 【請求項１０】 光入射手段と被調芯ワークとを入射光
の光軸と交わる位置に配置し、これらの少なくとも１つ
を光軸上において２方向に走査させながら、その光入射
手段に入射された光の強度を検出するとともに、前記被
調芯ワークの調芯を行う調芯方法において、 ２方向への走査を、一方向は他方向に較べて高速で実行
することを特徴とした調芯方法。 - 【請求項１１】 前記光入射手段が光強度最大点に正対
した位置を記憶することを特徴とした請求項９または１
０に記載の調芯方法。 - 【請求項１２】 前記光入射手段が光強度最大点に正対
した位置を記憶し、被調芯ワークを光軸に沿って正方向
または逆方向へ移動調節することを特徴とする請求項９
から１１のいずれかに記載の調芯方法。 - 【請求項１３】 被調芯ワークが、チューブと、 そのチューブ内に挿入されたコリメートレンズ及びキャ
ピラリと、 そのキャピラリに挿入または固定された光ファイバとを
備え、 光ファイバを正方向または逆方向へ移動させることを特
徴とする請求項１２に記載の調芯方法。 - 【請求項１４】 入射光の光軸と交わる位置に配置され
た光入射手段と、その光入射手段を前記光軸上において
２方向に走査させる走査手段と、前記走査手段による２
方向への走査が、一方向は他方向に較べて高速で実行さ
れるように、走査手段の動作を制御する制御手段とを設
けたことを特徴とする走査装置。 - 【請求項１５】 入射光の光軸と交わる位置に配置され
た光入射手段と、その光入射手段を前記光軸上において
２方向に走査させる走査手段と、その光入射手段に入射
された光の強度を検出するための光強度検出手段と、前
記走査手段による２方向への走査が、一方向は他方向に
較べて高速で実行されるように、走査手段の動作を制御
する制御手段とを設けたことを特徴とする光強度検査装
置。 - 【請求項１６】 入射光の光軸と交わる位置に配置され
た光入射手段と、 被検査ワークを前記光入射手段に対して光入射側の光軸
上において設置するためのワーク保持手段と、 前記光入射手段及びワーク保持手段の少なくとも１つを
２方向に走査させる走査手段と、 その光入射手段に入射された光の強度を検出するための
光強度検出手段と、 前記走査手段による２方向への走査が、一方向は他方向
に較べて高速で実行されるように、走査手段の動作を制
御する制御手段とを設けたことを特徴とする光強度検査
装置。 - 【請求項１７】 前記走査手段は、前記光入射手段を前
記光軸上において走査させる走査手段及び、被検査ワー
クを前記光軸上において走査するためにワーク保持手段
に設けられた走査手段の少なくとも１つであることを特
徴とする請求項１６に記載の光強度検査装置。 - 【請求項１８】 前記光強度検出手段からの検出出力に
基づき、光入射手段が光強度最大点に正対した位置を記
憶する記憶手段を備えたことを特徴とする請求項１５か
ら１７のいずれかに記載の光強度検査装置。 - 【請求項１９】 前記光入射手段は、ミラーにより構成
され、前記光強度検出手段にはミラーからの反射光が入
射されることを特徴とする請求項１５から１８のいずれ
かに記載の光強度検査装置。 - 【請求項２０】 前記光入射手段は、レンズにより構成
され、前記光強度検出手段にはレンズを透過した光が入
射されることを特徴とする請求項１５から１８のいずれ
かに記載の光強度検査装置。 - 【請求項２１】 請求項１５から２０のいずれかに記載
の光強度検査装置を備え、被検査ワークが被調芯ワーク
であることを特徴とする調芯装置。 - 【請求項２２】 前記被調芯ワークを光軸に沿って正方
向または逆方向へ位置調節するための調節手段を設けた
ことを特徴とする請求項２１に記載の調芯装置。 - 【請求項２３】 調節手段により移動された被調芯ワー
クの位置を記憶するための記憶手段を備えたことを特徴
とする請求項２２に記載の調芯装置。
Priority Applications (3)
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|---|---|---|---|
| JP2001053401A JP2002258172A (ja) | 2001-02-28 | 2001-02-28 | 走査方法及びその装置，光強度検査方法及びその装置、並びに、調芯方法及びその装置 |
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Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP2001053401A JP2002258172A (ja) | 2001-02-28 | 2001-02-28 | 走査方法及びその装置，光強度検査方法及びその装置、並びに、調芯方法及びその装置 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002258172A true JP2002258172A (ja) | 2002-09-11 |
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| JP2001053401A Pending JP2002258172A (ja) | 2001-02-28 | 2001-02-28 | 走査方法及びその装置，光強度検査方法及びその装置、並びに、調芯方法及びその装置 |
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| JP (1) | JP2002258172A (ja) |
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- 2002-02-26 CA CA002373310A patent/CA2373310A1/en not_active Abandoned
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