JP2003335922A - Sealant resin composition and resin-sealed semiconductor device - Google Patents

Sealant resin composition and resin-sealed semiconductor device

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JP2003335922A
JP2003335922A JP2002144997A JP2002144997A JP2003335922A JP 2003335922 A JP2003335922 A JP 2003335922A JP 2002144997 A JP2002144997 A JP 2002144997A JP 2002144997 A JP2002144997 A JP 2002144997A JP 2003335922 A JP2003335922 A JP 2003335922A
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JP
Japan
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resin composition
resin
metal oxide
black pigment
semiconductor device
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JP2002144997A
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Japanese (ja)
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Yuko Takahashi
優子 高橋
Goji Nishikawa
剛司 西川
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Kyocera Chemical Corp
Original Assignee
Kyocera Chemical Corp
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  • Sealing Material Composition (AREA)
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  • Epoxy Resins (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a sealant resin composition having excellent shading property, high insulating property, low electrostatic property and good fluidity, and to provide a resin-sealed semiconductor device by using the composition. <P>SOLUTION: This sealant resin composition is obtained by incorporating (A) an epoxy resin, (B) a phenol resin-curing agent, (C) an inorganic filler and (D) a black pigment comprising a metal oxide e.g. a pigment comprising a Cu-Cr-based complex metal oxide and/or a Cu-Cr-Mn-based complex metal oxide, and the resin-sealed semiconductor device is obtained by using the sealant resin composition. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置の封止
材料として使用される封止用樹脂組成物、およびこれを
用いた半導体装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a sealing resin composition used as a sealing material for a semiconductor device, and a semiconductor device using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】集積回路(IC)、大規模集積回路(LS
I)、トランジスタ等の半導体装置の封止材料として、
エポキシ樹脂をベースとし、これに硬化剤、硬化促進
剤、シリカ粉末のような無機充填剤、遮光性を付与する
ための着色剤等を配合した組成物が知られている。そし
て着色剤には、従来より、代表的な黒色顔料として知ら
れるカーボンブラックが一般に使用されている。
2. Description of the Related Art Integrated circuits (ICs), large scale integrated circuits (LS
I), as a sealing material for semiconductor devices such as transistors,
A composition based on an epoxy resin, in which a curing agent, a curing accelerator, an inorganic filler such as silica powder, a colorant for imparting a light-shielding property, and the like are mixed, is known. Carbon black, which is known as a typical black pigment, has been generally used as a colorant.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、カーボ
ンブラックは、着色性に優れる反面、導電性を有し、し
かも、その粒径が比較的大きく分散性に乏しいため、半
導体装置における配線間の短絡の原因になりやすいとい
う難点があった。
However, although carbon black is excellent in coloring property, it has conductivity, and its particle size is relatively large and poor in dispersibility, so that short circuit between wirings in a semiconductor device is prevented. There was a difficulty that it was easily caused.

【0004】このため、十分な遮光性を有しつつ、配線
間を短絡させるおそれのない絶縁性の高い封止用樹脂組
成物が要望されている。特に、最近は、半導体装置の高
密度実装化に伴い、配線間隔はますます狭くなってきて
いることから、このような絶縁性の高い封止用樹脂組成
物に対する要望がより高まっている。
Therefore, there is a demand for a resin composition for encapsulation which has a sufficient light-shielding property and has a high insulating property without fear of short-circuiting between wirings. In particular, recently, the wiring interval has become narrower with the high-density mounting of semiconductor devices, and therefore, there is an increasing demand for such a sealing resin composition having high insulation properties.

【0005】また、封止用樹脂組成物には、上記のよう
な遮光性や絶縁性の他にも、帯電性が低いことや流動性
に優れること等が要求されるが、カーボンブラックを配
合した従来の封止用樹脂組成物は、帯電性の点でもやや
不十分であった。
Further, the encapsulating resin composition is required to have low chargeability and excellent fluidity in addition to the above-mentioned light-shielding property and insulating property. The conventional encapsulating resin composition was somewhat insufficient in terms of charging property.

【0006】本発明はこのような従来の事情に対処して
なされたもので、優れた遮光性を有し、しかも、絶縁性
が高く、低帯電性であって、流動性も良好な封止用樹脂
組成物、およびそれを用いた樹脂封止型半導体装置を提
供することを目的とする。
The present invention has been made in consideration of such a conventional situation, and has an excellent light-shielding property, a high insulating property, a low charging property, and a good fluidity. An object of the present invention is to provide a resin composition for use and a resin-encapsulated semiconductor device using the same.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の目
的を達成するため鋭意研究を重ねた結果、着色成分とし
て金属酸化物からなる黒色顔料を使用することによっ
て、優れた遮光性を有しつつ、絶縁性および低帯電性を
向上させることができることを見出し、本発明を完成し
たものである。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted extensive studies to achieve the above object, and as a result, by using a black pigment composed of a metal oxide as a coloring component, excellent light-shielding properties can be obtained. It was found that the insulating property and the low electrification property can be improved while having the above, and the present invention has been completed.

【0008】すなわち、本発明の封止用樹脂組成物は、
(A)エポキシ樹脂、(B)フェノール樹脂硬化剤、
(C)無機充填剤、および(D)金属酸化物からなる黒
色顔料を含有することを特徴としている。
That is, the encapsulating resin composition of the present invention is
(A) Epoxy resin, (B) Phenolic resin curing agent,
It is characterized by containing (C) an inorganic filler and (D) a black pigment composed of a metal oxide.

【0009】ここで、(D)成分の黒色顔料が、銅、ク
ロムおよびマンガンの群より選ばれた2種以上の金属酸
化物からなる黒色顔料であってもよい。また、(D)成
分の黒色顔料が、銅−クロム系複合金属酸化物および/
または銅−クロム−マンガン系複合金属酸化物からなる
黒色顔料であってもよい。
Here, the black pigment as the component (D) may be a black pigment composed of two or more kinds of metal oxides selected from the group of copper, chromium and manganese. Further, the black pigment of the component (D) is a copper-chromium-based composite metal oxide and /
Alternatively, a black pigment made of a copper-chromium-manganese-based mixed metal oxide may be used.

【0010】さらに、上記の金属酸化物あるいは複合金
属酸化物の平均粒径が、0.5〜2μmであってもよい。
Further, the average particle size of the above metal oxide or composite metal oxide may be 0.5 to 2 μm.

【0011】また、(D)成分の無機充填剤の含有量が
25〜95重量%であってもよい。
Further, the content of the inorganic filler of the component (D) is
It may be 25 to 95% by weight.

【0012】本発明の封止用樹脂組成物においては、金
属酸化物からなる黒色顔料を配合したことにより、優れ
た遮光性、流動性を有しつつ、近年の高密度実装化にも
十分対応し得る高い絶縁性と低帯電性を備えることがで
きる。
In the encapsulating resin composition of the present invention, a black pigment made of a metal oxide is blended, so that it has excellent light-shielding properties and fluidity, and is sufficiently compatible with recent high-density mounting. It can have a high insulating property and a low charging property.

【0013】また、本発明の樹脂封止型半導体装置は、
本発明の封止用樹脂組成物の硬化物によって、半導体素
子が封止されてなることを特徴としている。
Further, the resin-sealed semiconductor device of the present invention is
A semiconductor element is sealed with a cured product of the sealing resin composition of the present invention.

【0014】本発明の樹脂封止型半導体装置において
は、遮光性や流動性に優れ、かつ、高い絶縁性と低帯電
性を備えた封止用樹脂組成物の硬化物によって半導体素
子が封止されているので、配線間の絶縁不良のない高い
信頼性を備えたものとなる。
In the resin-encapsulated semiconductor device of the present invention, a semiconductor element is encapsulated by a cured product of an encapsulating resin composition having excellent light-shielding properties and fluidity, and having high insulation properties and low electrostatic properties. Therefore, it has high reliability without insulation failure between wirings.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。本発明の封止用樹脂組成物は、(A)エポ
キシ樹脂、(B)フェノール樹脂硬化剤、(C)無機充
填剤、および(D)金属酸化物からなる黒色顔料を必須
成分とするものである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below. The encapsulating resin composition of the present invention contains (A) an epoxy resin, (B) a phenol resin curing agent, (C) an inorganic filler, and (D) a black pigment composed of a metal oxide as essential components. is there.

【0016】(A)のエポキシ樹脂は、1分子中に2個以
上のエポキシ基を有するものであれば、分子構造、分子
量等に制限されることなく一般に使用されているものを
広く用いることができる。その具体例としては、フェノ
ールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック
型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ジシクロ
ペンタジエン型エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型
エポキシ樹脂、脂環型エポキシ樹脂、複素環型エポキシ
樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノー
ルF型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、多官
能型エポキシ樹脂、縮合環芳香族炭化水素変性エポキシ
樹脂等が挙げられる。これらのエポキシ樹脂は、1種を
単独で使用してもよく、2種以上を混合して使用しても
よい。本発明においては、なかでも各種ノボラック型エ
ポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、多官能型エポ
キシ樹脂の使用が好ましい。
As the epoxy resin (A), as long as it has two or more epoxy groups in one molecule, generally used resins can be widely used without being limited by the molecular structure, the molecular weight and the like. it can. Specific examples thereof include phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, triphenolmethane type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, heterocyclic epoxy resin, bisphenol. Examples thereof include A-type epoxy resins, bisphenol F-type epoxy resins, stilbene-type epoxy resins, polyfunctional epoxy resins, condensed ring aromatic hydrocarbon-modified epoxy resins, and the like. These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more. In the present invention, it is preferable to use various novolac type epoxy resins, biphenyl type epoxy resins and polyfunctional type epoxy resins.

【0017】(B)のフェノール樹脂硬化剤としては、
(A)のエポキシ樹脂のエポキシ基を反応し得るフェノ
ール性水酸基を分子中に2個以上有するものであれば、
特に制限されることなく使用される。その具体例として
は、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック
樹脂、ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂、パラ
キシレン変性フェノール樹脂、フェノール類とベンズア
ルデヒド、ナフチルアルデヒド等との縮合物、トリフェ
ノールメタン化合物、多官能型フェノール樹脂、脂環型
フェノール樹脂等が挙げられる。これらは、1種を単独
で使用してもよく、2種以上を混合して使用してもよ
い。本発明においては、なかでもフェノールノボラック
樹脂、クレゾールノボラック樹脂、多官能型フェノール
樹脂の使用が好ましい。
As the phenol resin curing agent (B),
As long as it has two or more phenolic hydroxyl groups capable of reacting the epoxy groups of the epoxy resin (A) in the molecule,
It is used without particular limitation. Specific examples thereof include phenol novolac resin, cresol novolac resin, dicyclopentadiene modified phenol resin, paraxylene modified phenol resin, condensate of phenols with benzaldehyde and naphthyl aldehyde, triphenol methane compound, polyfunctional phenol resin. And alicyclic phenol resins. These may be used alone or in combination of two or more. In the present invention, it is preferable to use a phenol novolac resin, a cresol novolac resin and a polyfunctional phenol resin.

【0018】(A)のエポキシ樹脂と(B)のフェノー
ル樹脂硬化剤の配合比は、(A)のエポキシ樹脂が有す
るエポキシ基(a)と(B)のフェノール樹脂硬化剤が
有するフェノール性水酸基(b)の当量比(a)/
(b)が0.1〜2.0となる範囲が好ましく、0.5〜1.5とな
る範囲であるとより好ましい。特に好ましくは0.7〜1.3
となる範囲である。当量比(a)/(b)が0.1未満も
しくは2.0を超えると、耐熱性、耐湿性、成形作業性、
硬化物の電気特性等が低下する。
The mixing ratio of the epoxy resin (A) and the phenol resin curing agent (B) is such that the epoxy group (a) of the epoxy resin (A) and the phenolic hydroxyl group of the phenol resin curing agent (B) are Equivalent ratio of (b) (a) /
The range of (b) is preferably 0.1 to 2.0, and more preferably 0.5 to 1.5. Particularly preferably 0.7 to 1.3
Is the range. When the equivalent ratio (a) / (b) is less than 0.1 or exceeds 2.0, heat resistance, moisture resistance, molding workability,
The electrical properties and the like of the cured product deteriorate.

【0019】(C)の無機充填剤は、硬化物の熱膨張係
数、熱伝導率、吸水性、弾性率等の特性を改善、向上さ
せる目的で配合されるものであり、溶融シリカ、結晶シ
リカ、アルミナ、クレー、タルク、マイカ、炭酸カルシ
ウム、酸化チタン、硫酸バリウム、酸化亜鉛、ベンガ
ラ、炭化珪素、窒化ホウ素等の粉末、これらを球形化し
たビーズ、単結晶繊維、ガラス繊維等が挙げられる。こ
れらは単独または2種以上混合して使用することができ
る。この(C)の無機充填剤は、最大粒径が100μm以
下で平均粒径が1〜50μmの粉末状であることが好まし
く、最大粒径が75μm以下で平均粒径が5〜25μmであ
るとさらに好ましい。最大粒径が100μmを越えるか、
あるいは平均粒径が50μmを超えると、狭部への充填が
困難になるだけでなく、分散性が低下して成形品が不均
一になる。また、平均粒径が1μm未満では、粘度が上
昇し、成形性が不良となる。
The inorganic filler (C) is added for the purpose of improving and improving the properties such as the thermal expansion coefficient, thermal conductivity, water absorption and elastic modulus of the cured product. Fused silica and crystalline silica. , Alumina, clay, talc, mica, calcium carbonate, titanium oxide, barium sulfate, zinc oxide, red iron oxide, silicon carbide, boron nitride, and the like, spherical beads, single crystal fibers, glass fibers, and the like. These can be used alone or in combination of two or more. The inorganic filler (C) is preferably in the form of powder having a maximum particle size of 100 μm or less and an average particle size of 1 to 50 μm, and a maximum particle size of 75 μm or less and an average particle size of 5 to 25 μm. More preferable. Whether the maximum particle size exceeds 100 μm,
Alternatively, when the average particle size exceeds 50 μm, not only filling of the narrow portion becomes difficult, but also the dispersibility decreases and the molded product becomes non-uniform. On the other hand, if the average particle size is less than 1 μm, the viscosity increases and the moldability becomes poor.

【0020】この(C)の無機充填剤の配合量は、組成
物全体の25〜95重量%の範囲が好ましい。より好ましく
は50〜93重量%の範囲であり、70〜91重量%の範囲であ
ると特に好ましい。配合量が25重量%未満では、前記の
熱膨張係数等の特性を改善、向上させる効果が小さく、
逆に配合量が95重量%を超えると、組成物の流動性が低
下し、成形性が不良となって実用が困難になる。また、
電気特性も低下する。
The compounding amount of the inorganic filler (C) is preferably in the range of 25 to 95% by weight based on the whole composition. The range is more preferably 50 to 93% by weight, and particularly preferably 70 to 91% by weight. If the blending amount is less than 25% by weight, the effect of improving and improving the properties such as the thermal expansion coefficient is small,
On the other hand, if the blending amount exceeds 95% by weight, the fluidity of the composition decreases, the moldability becomes poor, and practical application becomes difficult. Also,
The electrical characteristics also deteriorate.

【0021】(D)の金属酸化物からなる黒色顔料とし
ては、銅、クロムおよびマンガンの群より選ばれた2種
以上の金属酸化物からなる黒色顔料が挙げられ、なかで
も、着色性や絶縁性、帯電性等の観点から、銅−クロム
系複合金属酸化物、銅−クロム−マンガン系複合金属酸
化物、これらの混合物の使用が好ましい。
Examples of the black pigment composed of the metal oxide (D) include black pigments composed of two or more kinds of metal oxides selected from the group consisting of copper, chromium and manganese. From the viewpoints of properties, chargeability, etc., it is preferable to use a copper-chromium-based composite metal oxide, a copper-chromium-manganese-based composite metal oxide, or a mixture thereof.

【0022】この金属酸化物からなる黒色顔料の平均粒
径は、0.5〜2μmであることが好ましく、1.0〜1.5μm
であるとより好ましい。平均粒径が0.5μm未満では、
分散性が高くなりすぎ、成形品の色が薄くなって、十分
な遮光性が得られなくなるおそれがある。また、逆に平
均粒径が2μmを越えても、分散性の低下によって、遮
光性が十分に得られなくなるおそれがある。
The average particle size of the black pigment composed of this metal oxide is preferably 0.5 to 2 μm, and 1.0 to 1.5 μm.
Is more preferable. If the average particle size is less than 0.5 μm,
There is a possibility that the dispersibility becomes too high, the color of the molded product becomes light, and sufficient light shielding properties cannot be obtained. On the contrary, even if the average particle diameter exceeds 2 μm, the light-shielding property may not be sufficiently obtained due to the decrease in dispersibility.

【0023】また、この金属酸化物からなる黒色顔料
は、粒径が3μm以上の粗粒分の含有量が2重量%以下で
あることが好ましく、0.5重量%以下であるとより好ま
しい。粒径が3μm以上の粗粒分の含有量が2重量%より
多いと、局所的に帯電量が高くなり、配線間の短絡が発
生しやすくなる。
The black pigment composed of the metal oxide preferably has a content of coarse particles having a particle size of 3 μm or more of 2% by weight or less, more preferably 0.5% by weight or less. If the content of coarse particles having a particle size of 3 μm or more is more than 2% by weight, the amount of electrification locally increases, and a short circuit between wirings easily occurs.

【0024】この(D)成分の黒色顔料の配合量は、組
成物全体の0.1〜2重量%の範囲が好ましい。より好まし
くは0.2〜1重量%の範囲であり、0.2〜0.5重量%の範囲
であると特に好ましい。配合量が0.1重量%未満では、
着色力が低下し、遮光性が十分に得られないおそれがあ
り、逆に配合量が2重量%を超えると、帯電量が高くな
り、配線間の短絡が発生するおそれがある。
The amount of the black pigment as the component (D) is preferably 0.1 to 2% by weight based on the total weight of the composition. It is more preferably in the range of 0.2 to 1% by weight, and particularly preferably in the range of 0.2 to 0.5% by weight. If the blending amount is less than 0.1% by weight,
If the blending amount exceeds 2% by weight, on the other hand, there is a possibility that the coloring power is lowered and the light-shielding property is not sufficiently obtained.

【0025】本発明の封止用樹脂組成物には、以上の各
成分の他、本発明の効果を阻害しない範囲で、この種の
組成物に一般に配合される、硬化促進剤、カーボンブラ
ック、コバルトブルー等の着色剤、アミン変性シリコー
ンオイル、エポキシ変性シリコーンオイル、エポキシシ
ラン、アミノシラン、アルキルシラン、ビニルシラン等
のシランカップリング剤、アルキルチタネート等の表面
処理剤、合成ワックス、天然ワックス、エステル類、直
鎖脂肪族等の離型剤、ハロゲントラップ剤、シリコーン
オイルやシリコーンゴム等の低応力化剤等を必要に応じ
て配合することができる。
In the encapsulating resin composition of the present invention, in addition to the above-mentioned respective components, a curing accelerator, carbon black, and Colorants such as cobalt blue, amine-modified silicone oil, epoxy-modified silicone oil, silane coupling agents such as epoxysilane, aminosilane, alkylsilane, vinylsilane, surface treatment agents such as alkyl titanate, synthetic wax, natural wax, esters, A releasing agent such as a straight-chain aliphatic compound, a halogen trapping agent, a low-stressing agent such as silicone oil or silicone rubber, and the like can be added as necessary.

【0026】硬化促進剤としては、1,8-ジアザビシクロ
[5,4,0]ウンデセン-7(DBU)、トリエチレンジアミ
ン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、
ジメチルアミノエタノール、トリス(ジメチルアミノメ
チル)フェノール等の3級アミン類、2-メチルイミダゾ
ール、2-フェニルイミダゾール、2-フェニル-4-メチル
イミダゾール等のイミダゾール類、トリブチルホスフィ
ン、ジフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィン等
の有機ホスフィン類、テトラフェニルホスホニウムテト
ラフェニルボレート、トリフェニルホスフィンテトラフ
ェニルボレート等のテトラフェニルボロン塩等が挙げら
れる。これらは単独または2種以上混合して使用するこ
とができる。本発明においては、なかでもイミダゾール
類の使用が好ましい。
As the curing accelerator, 1,8-diazabicyclo
[5,4,0] Undecene-7 (DBU), triethylenediamine, benzyldimethylamine, triethanolamine,
Tertiary amines such as dimethylaminoethanol, tris (dimethylaminomethyl) phenol, imidazoles such as 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, tributylphosphine, diphenylphosphine, triphenylphosphine Examples thereof include organic phosphines, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, tetraphenylboron salts such as triphenylphosphine tetraphenylborate, and the like. These can be used alone or in combination of two or more. In the present invention, the use of imidazoles is preferred.

【0027】本発明の封止用樹脂組成物を調製するにあ
たっては、上記各成分をミキサーなどによって十分に混
合(ドライブレンド)した後、熱ロールやニーダ等によ
り溶融混練し、冷却後粉砕するようにすればよい。
In preparing the encapsulating resin composition of the present invention, the above components are thoroughly mixed (dry blended) with a mixer or the like, then melt-kneaded with a hot roll or kneader, and cooled and then ground. You can do this.

【0028】本発明の樹脂封止型半導体装置は、上記の
封止用樹脂組成物を用いて半導体素子を封止することに
より製造することができる。適用される半導体装置とし
ては、集積回路、大規模集積回路、トランジスタ、サイ
リスタ、ダイオード等が例示される。また、封止方法と
しては、低圧トランスファー法が一般的であるが、射出
成形、圧縮成形、注型等による封止も可能である。封止
用樹脂組成物で封止後は、加熱して硬化させ、最終的に
その硬化物によって封止された樹脂封止型半導体装置が
得られる。なお、後硬化させる際の加熱温度は、150℃
以上とすることが好ましい。
The resin-encapsulated semiconductor device of the present invention can be manufactured by encapsulating a semiconductor element using the encapsulating resin composition described above. Examples of applicable semiconductor devices include integrated circuits, large-scale integrated circuits, transistors, thyristors, and diodes. Although a low-pressure transfer method is generally used as a sealing method, injection molding, compression molding, casting or the like can also be used for sealing. After encapsulating with the encapsulating resin composition, it is heated and cured, and finally a resin-encapsulated semiconductor device encapsulated by the cured product is obtained. The heating temperature for post-curing is 150 ° C.
The above is preferable.

【0029】[0029]

【実施例】次に、本発明を実施例によりさらに詳細に説
明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。
EXAMPLES Next, the present invention will be described in more detail by way of examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0030】実施例1〜4、比較例1〜5 下記に示すエポキシ樹脂およびフェノール樹脂硬化剤、
並びに、黒色顔料としてクロム−銅−マンガン複合金属
酸化物顔料(日本フリット社製 商品名0-B;酸化クロ
ム65重量%、酸化銅33重量%、酸化マンガン2重量%;
平均粒径1.2μm、粒径2μm以上、3μm以下の粗粒分0
重量%)およびカーボンブラック(三菱化学社製 商品
名MA-600)、無機充填剤として球状溶融シリカ粉末(平
均粒径20μm、比表面積4800cm2/cm3)および破砕溶融
シリカ粉末(平均粒径20μm、比表面積6300cm2/c
m3)、硬化促進剤としてイミダゾール系硬化促進剤(四
国化成社製 商品名C11ZA)、離型剤としてカルナバワ
ックス(日興ファインケミカル社製 商品名カルナバ1
号)、難燃助剤として三酸化アンチモン、シランカップ
リング剤(日本ユニカー社製 商品名 A-187)を用い、
表1に示す配合組成の封止用樹脂組成物を常法により製
造した。すなわち、各成分を常温で混合した後、70〜10
5℃のロールミルで加熱混練し、冷却後、適当な大きさ
に粉砕して封止用樹脂組成物を製造した。 エポキシ樹脂A:多官能型エポキシ樹脂(日本化薬社製
商品名 NC-7000 エポキシ当量210) エポキシ樹脂B:ノボラックエポキシ樹脂(住友化学社
製 商品名 ESCN-195XL エポキシ当量198) フェノール樹脂硬化剤A:多官能型フェノール樹脂(明
和化成社製 商品名 MEH-7500 水酸基当量97) フェノール樹脂硬化剤B:ノボラック型フェノール樹脂
(明和化成社製 商品名 THE-1000 水酸基当量104)
Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 5 epoxy resin and phenol resin curing agents shown below,
As a black pigment, chromium-copper-manganese mixed metal oxide pigment (trade name: 0-B, manufactured by Nippon Frit Co., Ltd .; 65 wt% chromium oxide, 33 wt% copper oxide, 2 wt% manganese oxide;
Coarse particles with an average particle size of 1.2 μm, a particle size of 2 μm or more and 3 μm or less 0
% By weight) and carbon black (trade name MA-600 manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.), spherical fused silica powder (average particle size 20 μm, specific surface area 4800 cm 2 / cm 3 ) and crushed fused silica powder (average particle size 20 μm) as an inorganic filler. , Specific surface area 6300 cm 2 / c
m 3 ), an imidazole type curing accelerator as a curing accelerator (trade name C11ZA manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd.), and a carnauba wax as a release agent (trade name carnauba 1 manufactured by Nikko Fine Chemical Co., Ltd.).
No.), antimony trioxide as a flame retardant aid, a silane coupling agent (product name A-187 manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.),
The encapsulating resin composition having the composition shown in Table 1 was produced by an ordinary method. That is, after mixing each component at room temperature,
The mixture was heated and kneaded with a roll mill at 5 ° C., cooled, and then pulverized into a suitable size to produce a sealing resin composition. Epoxy resin A: Polyfunctional epoxy resin (Nippon Kayaku Co., Ltd. trade name NC-7000 epoxy equivalent 210) Epoxy resin B: Novolac epoxy resin (Sumitomo Chemical Co., Ltd. trade name ESCN-195XL epoxy equivalent 198) Phenolic resin curing agent A : Polyfunctional phenol resin (Meiwa Kasei Co., Ltd., trade name MEH-7500, hydroxyl equivalent 97) Phenolic resin curing agent B: Novolac type phenol resin (Meiwa Kasei Co., Ltd., trade name THE-1000, hydroxyl equivalent 104)

【0031】上記各実施例および各比較例で得られた封
止用樹脂組成物について下記に示す方法で各種特性を評
価した。 [流動性]175℃、荷重10kgの条件で島津社製のフロー
テスターCFT-500型により高化式フロー粘度を測定し
た。 [着色性]封止用樹脂組成物を175℃、120秒間の条件で
トランスファー成形し、次いで175℃、8時間の後硬化を
行って試験体(3cm×3cm×3mm)を作製し、ミノルタ社
製の色彩色差計CR-300により色差L値を測定した。 [電気特性]封止用樹脂組成物を175℃、120秒間の条件
で2.5cm×2.5cm×3mmのシート状にトランスファー成形
し、金型を開放直後にSIMCO社製の帯電量測定装置FMX-0
02により成形品の帯電量を測定した。
Various characteristics of the encapsulating resin compositions obtained in each of the above Examples and Comparative Examples were evaluated by the following methods. [Fluidity] A flow tester CFT-500 manufactured by Shimadzu Co., Ltd. was used to measure the Koka flow viscosity under the conditions of 175 ° C. and a load of 10 kg. [Coloring property] The encapsulating resin composition was transfer-molded at 175 ° C for 120 seconds, and then post-cured at 175 ° C for 8 hours to prepare a test body (3 cm x 3 cm x 3 mm), which was manufactured by Minolta. The color difference L value was measured by a color difference meter CR-300 manufactured by K.K. [Electrical characteristics] Transfer molding of the encapsulating resin composition into a sheet of 2.5 cm × 2.5 cm × 3 mm at 175 ° C for 120 seconds, and immediately after opening the mold, SIMCO's electrostatic charge measuring device FMX- 0
The charge amount of the molded product was measured with 02.

【0032】これらの結果を表1に併せ示す。The results are also shown in Table 1.

【表1】 [Table 1]

【0033】表1からも明らかなように、各実施例の封
止用樹脂組成物は、流動性、着色性および電気特性がい
ずれも良好であった。
As is clear from Table 1, the encapsulating resin compositions of the respective examples had good fluidity, colorability and electrical characteristics.

【0034】[0034]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
金属酸化物からなる黒色顔料を含有させるようにしたの
で、遮光性および流動性に優れ、かつ、絶縁性や帯電性
等の電気特性も良好な封止用樹脂組成物、およびそれを
用いた高信頼性の樹脂封止型半導体装置を得ることがで
きる。
As described above, according to the present invention,
Since a black pigment composed of a metal oxide is contained, a resin composition for sealing which is excellent in light-shielding property and fluidity, and also has good electrical properties such as insulating property and chargeability, and a high resin composition using the same. It is possible to obtain a reliable resin-sealed semiconductor device.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C09K 3/10 C09K 3/10 Z H01L 23/29 H01L 23/30 R 23/31 Fターム(参考) 4H017 AA04 AA24 AA26 AB08 AC03 AD06 AE05 4J002 CC04X CC06X CD02W CD03W CD05W CD06W CD07W CE00X DE097 DE116 DE136 DE146 DE236 DG046 DJ006 DJ016 DJ036 DJ046 DJ056 DK006 DL006 FA046 FA086 FD016 FD090 FD097 FD14X FD150 FD160 FD200 GJ02 GQ01 4J036 AA01 FA01 FA03 FB07 JA07 4M109 AA01 BA01 CA21 EA02 EB03 EB08 EB12 EC07 EC12 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) C09K 3/10 C09K 3/10 Z H01L 23/29 H01L 23/30 R 23/31 F term (reference) 4H017 AA04 AA24 AA26 AB08 AC03 AD06 AE05 4J002 CC04X CC06X CD02W CD03W CD05W CD06W CD07W CE00X DE097 DE116 DE136 DE146 DE236 DG046 DJ006 DJ016 DJ036 DJ046 DJ056 JA01 FA0 A4 FA0A4 FD006 FD0F07FD01 FD0 FA046 FD006 FA046 FA086 FD016 FD090 AFD EA02 EB03 EB08 EB12 EC07 EC12

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)エポキシ樹脂、(B)フェノール
樹脂硬化剤、(C)無機充填剤、および(D)金属酸化
物からなる黒色顔料を含有することを特徴とする封止用
樹脂組成物。
1. A resin composition for encapsulation containing (A) an epoxy resin, (B) a phenol resin curing agent, (C) an inorganic filler, and (D) a black pigment composed of a metal oxide. object.
【請求項2】 (D)成分の黒色顔料が、銅、クロムお
よびマンガンの群より選ばれた2種以上の金属酸化物か
らなる黒色顔料であることを特徴とする請求項1記載の
封止用樹脂組成物。
2. The encapsulation according to claim 1, wherein the component (D) black pigment is a black pigment composed of two or more kinds of metal oxides selected from the group consisting of copper, chromium and manganese. Resin composition.
【請求項3】 (D)成分の黒色顔料が、銅−クロム系
複合金属酸化物および/または銅−クロム−マンガン系
複合金属酸化物からなる黒色顔料であることを特徴とす
る請求項1記載の封止用樹脂組成物。
3. The black pigment of component (D) is a black pigment composed of a copper-chromium-based composite metal oxide and / or a copper-chromium-manganese-based composite metal oxide. The encapsulating resin composition of.
【請求項4】 金属酸化物あるいは複合金属酸化物の平
均粒径が、0.5〜2μmであることを特徴とする請求項1
乃至3のいずれか1項記載の封止用樹脂組成物。
4. The average particle size of the metal oxide or the composite metal oxide is 0.5 to 2 μm.
4. The encapsulating resin composition according to any one of items 1 to 3.
【請求項5】 (C)成分の無機充填剤の含有量が25〜
95重量%であることを特徴とする請求項1乃至4のいず
れか1項記載の封止用樹脂組成物。
5. The content of the inorganic filler as the component (C) is 25 to
The encapsulating resin composition according to claim 1, wherein the encapsulating resin composition is 95% by weight.
【請求項6】 請求項1乃至5のいずれか1項記載の封
止用樹脂組成物の硬化物によって、半導体素子が封止さ
れてなることを特徴とする樹脂封止型半導体装置。
6. A resin-encapsulated semiconductor device, wherein a semiconductor element is encapsulated with the cured product of the encapsulating resin composition according to any one of claims 1 to 5.
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007196525A (en) * 2006-01-26 2007-08-09 Matsushita Electric Works Ltd Laminated sheet
JP2012004377A (en) * 2010-06-17 2012-01-05 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive film for semiconductor, wiring board for mounting semiconductor, semiconductor device, and adhesive composition
JP2012097282A (en) * 2004-04-30 2012-05-24 Kureha Corp Resin composition for sealing and semiconductor device sealed with resin
JPWO2013179766A1 (en) * 2012-05-30 2016-01-18 オリンパス株式会社 Imaging device, semiconductor device, and imaging unit
JPWO2013179765A1 (en) * 2012-05-30 2016-01-18 オリンパス株式会社 Imaging device manufacturing method and semiconductor device manufacturing method
JPWO2013179764A1 (en) * 2012-05-30 2016-01-18 オリンパス株式会社 Imaging device manufacturing method and semiconductor device manufacturing method
JPWO2013179767A1 (en) * 2012-05-30 2016-01-18 オリンパス株式会社 Imaging device manufacturing method and semiconductor device manufacturing method

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8860233B2 (en) 2004-02-16 2014-10-14 Kureha Corporation Resin composition for encapsulation and semiconductor unit encapsulated with resin
JP2012097282A (en) * 2004-04-30 2012-05-24 Kureha Corp Resin composition for sealing and semiconductor device sealed with resin
US8642682B2 (en) 2004-04-30 2014-02-04 Kureha Corporation Resin composition for encapsulation and semiconductor unit encapsulated with resin
JP2007196525A (en) * 2006-01-26 2007-08-09 Matsushita Electric Works Ltd Laminated sheet
JP2012004377A (en) * 2010-06-17 2012-01-05 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive film for semiconductor, wiring board for mounting semiconductor, semiconductor device, and adhesive composition
JPWO2013179766A1 (en) * 2012-05-30 2016-01-18 オリンパス株式会社 Imaging device, semiconductor device, and imaging unit
JPWO2013179765A1 (en) * 2012-05-30 2016-01-18 オリンパス株式会社 Imaging device manufacturing method and semiconductor device manufacturing method
JPWO2013179764A1 (en) * 2012-05-30 2016-01-18 オリンパス株式会社 Imaging device manufacturing method and semiconductor device manufacturing method
JPWO2013179767A1 (en) * 2012-05-30 2016-01-18 オリンパス株式会社 Imaging device manufacturing method and semiconductor device manufacturing method
US9698195B2 (en) 2012-05-30 2017-07-04 Olympus Corporation Method for producing image pickup apparatus and method for producing semiconductor apparatus
US10249672B2 (en) 2012-05-30 2019-04-02 Olympus Corporation Image pickup apparatus, semiconductor apparatus, and image pickup unit

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