JP2003335880A - 有機層の形成方法及びガスバリア性プラスチックフィルム - Google Patents
有機層の形成方法及びガスバリア性プラスチックフィルムInfo
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- JP2003335880A JP2003335880A JP2002371281A JP2002371281A JP2003335880A JP 2003335880 A JP2003335880 A JP 2003335880A JP 2002371281 A JP2002371281 A JP 2002371281A JP 2002371281 A JP2002371281 A JP 2002371281A JP 2003335880 A JP2003335880 A JP 2003335880A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】安価な設備で無色透明な有機層を形成する方法
を提供するとともに、従来よりも高いガスバリア性能を
持ちかつ曲げてもそのバリア性能が劣化しない透明フィ
ルムを提供する。 【解決手段】熱重量分析による５％重量減少温度の差が
３０℃以内である光重合性モノマーと光重合開始剤を含
む混合物を基材上に蒸着させ、ＵＶ架橋させる有機層の
形成方法、及び、高分子材料からなる基材の少なくとも
片面に、前記方法で形成された有機層と無機層とが交互
に少なくとも一層以上積層されたガスバリア性プラスチ
ックフィルム。
を提供するとともに、従来よりも高いガスバリア性能を
持ちかつ曲げてもそのバリア性能が劣化しない透明フィ
ルムを提供する。 【解決手段】熱重量分析による５％重量減少温度の差が
３０℃以内である光重合性モノマーと光重合開始剤を含
む混合物を基材上に蒸着させ、ＵＶ架橋させる有機層の
形成方法、及び、高分子材料からなる基材の少なくとも
片面に、前記方法で形成された有機層と無機層とが交互
に少なくとも一層以上積層されたガスバリア性プラスチ
ックフィルム。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学部材、エレク
トロニクス部材、一般包装部材、薬品包装部材などの幅
広い用途に応用が可能な透明でガスバリア性の高いプラ
スチックフィルムに関する。
トロニクス部材、一般包装部材、薬品包装部材などの幅
広い用途に応用が可能な透明でガスバリア性の高いプラ
スチックフィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、プラスチック基板やフィルムの表
面に酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化珪素等
の金属酸化物の薄膜を形成したガスバリア性フィルム
は、水蒸気や酸素等の各種ガスの遮断を必要とする物品
の包装、食品や工業用品及び医薬品等の変質を防止する
ための包装用途に広く用いられている。また、包装用途
以外にも液晶表示素子、太陽電池、エレクトロルミネッ
センス（ＥＬ）基板等で使用されている。特に液晶表示
素子やＥＬ素子などへの応用が進んでいる透明基材に
は、近年、軽量化、大型化という要求に加え、長期信頼
性や形状の自由度が高いこと、曲面表示が可能であるこ
と等の高度な要求が加わり、重くて割れやすく大面積化
が困難なガラス基板に代わって透明プラスチック等のフ
ィルム基材が採用され始めている。また、プラスチック
フィルムは上記要求に応えるだけでなく、ロールトゥロ
ール方式が可能であることからガラスよりも生産性が良
くコストダウンの点でも有利である。
面に酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化珪素等
の金属酸化物の薄膜を形成したガスバリア性フィルム
は、水蒸気や酸素等の各種ガスの遮断を必要とする物品
の包装、食品や工業用品及び医薬品等の変質を防止する
ための包装用途に広く用いられている。また、包装用途
以外にも液晶表示素子、太陽電池、エレクトロルミネッ
センス（ＥＬ）基板等で使用されている。特に液晶表示
素子やＥＬ素子などへの応用が進んでいる透明基材に
は、近年、軽量化、大型化という要求に加え、長期信頼
性や形状の自由度が高いこと、曲面表示が可能であるこ
と等の高度な要求が加わり、重くて割れやすく大面積化
が困難なガラス基板に代わって透明プラスチック等のフ
ィルム基材が採用され始めている。また、プラスチック
フィルムは上記要求に応えるだけでなく、ロールトゥロ
ール方式が可能であることからガラスよりも生産性が良
くコストダウンの点でも有利である。
【０００３】しかしながら、透明プラスチック等のフィ
ルム基材はガラスに対しガスバリア性が劣るという問題
がある。ガスバリア性が劣る基材を用いると、水蒸気や
空気が浸透し、例えば液晶セル内の液晶を劣化させ、表
示欠陥となって表示品位を劣化させてしまう。この様な
問題を解決するためにフィルム基板上に金属酸化物薄膜
を形成してガスバリア性フィルム基材とすることが知ら
れている。包装材や液晶表示素子に使用されるガスバリ
ア性フィルムとしてはプラスチックフィルム上に酸化珪
素を蒸着したもの（特公昭53-12953号公報）や酸化アル
ミニウムを蒸着したもの（特開昭58-217344号公報）が
知られており、いずれも１g/m2/day程度の水蒸気バリア
性を有する。近年では、液晶ディスプレイの大型化、高
精細ディスプレイ等の開発によりフィルム基板へのガス
バリア性能について水蒸気バリアで0.1g/m2/day程度ま
で要求が上がってきている。これに応えるためにより高
いバリア性能が期待できる手段としてスパッタリング法
やＣＶＤ法による成膜検討が行われている。
ルム基材はガラスに対しガスバリア性が劣るという問題
がある。ガスバリア性が劣る基材を用いると、水蒸気や
空気が浸透し、例えば液晶セル内の液晶を劣化させ、表
示欠陥となって表示品位を劣化させてしまう。この様な
問題を解決するためにフィルム基板上に金属酸化物薄膜
を形成してガスバリア性フィルム基材とすることが知ら
れている。包装材や液晶表示素子に使用されるガスバリ
ア性フィルムとしてはプラスチックフィルム上に酸化珪
素を蒸着したもの（特公昭53-12953号公報）や酸化アル
ミニウムを蒸着したもの（特開昭58-217344号公報）が
知られており、いずれも１g/m2/day程度の水蒸気バリア
性を有する。近年では、液晶ディスプレイの大型化、高
精細ディスプレイ等の開発によりフィルム基板へのガス
バリア性能について水蒸気バリアで0.1g/m2/day程度ま
で要求が上がってきている。これに応えるためにより高
いバリア性能が期待できる手段としてスパッタリング法
やＣＶＤ法による成膜検討が行われている。
【０００４】ところが、ごく近年においてさらなるバリ
ア性を要求される有機ＥＬディスプレイや高精彩カラー
液晶ディスプレイなどの開発が進み、これに使用可能な
透明性を維持しつつもさらなる高バリア性、特に水蒸気
バリアで0.1g/m2/day未満の性能をもつ基材が要求され
るようになってきた。これらの要求に対し、有機層／無
機層の交互多層積層構造を有するバリア膜を真空蒸着法
により作製する技術がWO 00/26973に提案されている。
ドライプロセスである有機層の真空蒸着は、溶媒を使
用しないため高純度の有機物薄膜が得られる、薄膜が
容易に得られ膜厚制御性が良い、異物などのコンタミ
が入りにくいなどの特徴を有している。また、有機層を
真空下で形成できれば有機層／無機層を交互に積層する
際に必要な常圧−真空を繰り返す工程を省くことがで
き、生産性も向上する。しかしながら、フレキシブル表
示デバイスとしては曲面表示の要望もあり、有機層／無
機層の交互多層積層構造を有するバリア膜の曲げに対す
るバリア性能は、従来技術では不十分であった。また、
真空蒸着での有機層の形成方法としては、プラズマ重合
法や蒸着重合法などがあり、蒸着重合には、電子線で架
橋する方法やＵＶで架橋する方法などがある。しかしな
がら、プラズマ重合では着色する傾向がある。一方、蒸
着重合では、無色透明な有機層を形成することが可能で
あるが、電子線架橋では一般的に装置が大がかりにな
る。ＵＶ架橋では安価な設備で無色透明な有機層を形成
することができるが、光重合性モノマーと光開始剤を均
一に蒸着することが困難であった。
ア性を要求される有機ＥＬディスプレイや高精彩カラー
液晶ディスプレイなどの開発が進み、これに使用可能な
透明性を維持しつつもさらなる高バリア性、特に水蒸気
バリアで0.1g/m2/day未満の性能をもつ基材が要求され
るようになってきた。これらの要求に対し、有機層／無
機層の交互多層積層構造を有するバリア膜を真空蒸着法
により作製する技術がWO 00/26973に提案されている。
ドライプロセスである有機層の真空蒸着は、溶媒を使
用しないため高純度の有機物薄膜が得られる、薄膜が
容易に得られ膜厚制御性が良い、異物などのコンタミ
が入りにくいなどの特徴を有している。また、有機層を
真空下で形成できれば有機層／無機層を交互に積層する
際に必要な常圧−真空を繰り返す工程を省くことがで
き、生産性も向上する。しかしながら、フレキシブル表
示デバイスとしては曲面表示の要望もあり、有機層／無
機層の交互多層積層構造を有するバリア膜の曲げに対す
るバリア性能は、従来技術では不十分であった。また、
真空蒸着での有機層の形成方法としては、プラズマ重合
法や蒸着重合法などがあり、蒸着重合には、電子線で架
橋する方法やＵＶで架橋する方法などがある。しかしな
がら、プラズマ重合では着色する傾向がある。一方、蒸
着重合では、無色透明な有機層を形成することが可能で
あるが、電子線架橋では一般的に装置が大がかりにな
る。ＵＶ架橋では安価な設備で無色透明な有機層を形成
することができるが、光重合性モノマーと光開始剤を均
一に蒸着することが困難であった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、安価
な設備で無色透明な有機層を形成する方法を提供すると
ともに、従来よりも高いガスバリア性能を持ちかつ曲げ
てもそのバリア性能が劣化しない透明フィルムを提供す
ることにある。
な設備で無色透明な有機層を形成する方法を提供すると
ともに、従来よりも高いガスバリア性能を持ちかつ曲げ
てもそのバリア性能が劣化しない透明フィルムを提供す
ることにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、かかる課
題を解決すべく鋭意検討した。その結果、熱重量分析に
よる５％重量減少温度の差が３０℃以内である光重合性
モノマーと光重合開始剤を含む混合物を基材上に蒸着さ
せ、ＵＶ架橋させる有機層の形成方法が安価な設備で無
色透明な有機層を形成する方法であり、この形成方法に
より形成された有機層と無機層とが交互に少なくとも一
層以上積層されたガスバリア性プラスチックフィルム
が、従来よりも高いガスバリア性能を持ちかつ曲げても
そのバリア性能が劣化しない透明フィルムであるとの知
見を得て本発明を完成するに至った。すなわち本発明
は、 （１）熱重量分析による５％重量減少温度の差が３０℃
以内である光重合性モノマーと光重合開始剤を含む混合
物を基材上に蒸着させ、ＵＶ架橋させる有機層の形成方
法。 （２）前記光重合性モノマーが、熱重量分析による５％
重量減少温度が１５５℃〜３００℃であることを特徴と
する（１）の有機層の形成方法。 （３）前記光重合性モノマーが、アクリロイル基または
メタクリロイル基を有する１種以上のモノマーであるこ
とを特徴とする（１）〜（２）の有機層の形成方法。 （４）前記光重合性モノマーが、２官能以上のアクリロ
イル基を有する１種類以上のモノマーであることを特徴
とする（１）〜（２）の有機層の形成方法。 （５）前記光重合性モノマーが、脂環式ジアクリレート
または環状エーテル構造を有するジアクリレートである
ことを特徴とする（１）〜（２）の有機層の形成方法。 （６）脂環式ジアクリレートがジシクロペンタジエニル
ジアクリレートであることを特徴とする（５）の有機層
の形成方法。 （７）環状エーテル構造を有するジアクリレートがネオ
ペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジアク
リレートであることを特徴とする（５）の有機層の形成
方法。 （８）前記光重合開始剤がラジカル重合開始剤であるこ
とを特徴とする（１）〜（７）の有機層の形成方法。 （９）高分子材料からなる基材の少なくとも片面に、
（１）〜（８）の方法で形成された有機層と無機層とが
交互に少なくとも一層以上積層されたガスバリア性プラ
スチックフィルム。 （１０）前記有機層の厚みが１０ｎｍ〜５０００ｎｍで
ある（９）のガスバリア性プラスチックフィルム。 （１１）前記無機層が珪素酸化物または珪素窒化物また
は珪素窒化酸化物を主成分とする（９）又は（１０）の
ガスバリア性プラスチックフィルム。 （１２）前記高分子材料からなる基材がノルボルネン系
樹脂またはポリエーテルスルホンを主成分とする（９）
〜（１１）のガスバリア性プラスチックフィルム。 である。
題を解決すべく鋭意検討した。その結果、熱重量分析に
よる５％重量減少温度の差が３０℃以内である光重合性
モノマーと光重合開始剤を含む混合物を基材上に蒸着さ
せ、ＵＶ架橋させる有機層の形成方法が安価な設備で無
色透明な有機層を形成する方法であり、この形成方法に
より形成された有機層と無機層とが交互に少なくとも一
層以上積層されたガスバリア性プラスチックフィルム
が、従来よりも高いガスバリア性能を持ちかつ曲げても
そのバリア性能が劣化しない透明フィルムであるとの知
見を得て本発明を完成するに至った。すなわち本発明
は、 （１）熱重量分析による５％重量減少温度の差が３０℃
以内である光重合性モノマーと光重合開始剤を含む混合
物を基材上に蒸着させ、ＵＶ架橋させる有機層の形成方
法。 （２）前記光重合性モノマーが、熱重量分析による５％
重量減少温度が１５５℃〜３００℃であることを特徴と
する（１）の有機層の形成方法。 （３）前記光重合性モノマーが、アクリロイル基または
メタクリロイル基を有する１種以上のモノマーであるこ
とを特徴とする（１）〜（２）の有機層の形成方法。 （４）前記光重合性モノマーが、２官能以上のアクリロ
イル基を有する１種類以上のモノマーであることを特徴
とする（１）〜（２）の有機層の形成方法。 （５）前記光重合性モノマーが、脂環式ジアクリレート
または環状エーテル構造を有するジアクリレートである
ことを特徴とする（１）〜（２）の有機層の形成方法。 （６）脂環式ジアクリレートがジシクロペンタジエニル
ジアクリレートであることを特徴とする（５）の有機層
の形成方法。 （７）環状エーテル構造を有するジアクリレートがネオ
ペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジアク
リレートであることを特徴とする（５）の有機層の形成
方法。 （８）前記光重合開始剤がラジカル重合開始剤であるこ
とを特徴とする（１）〜（７）の有機層の形成方法。 （９）高分子材料からなる基材の少なくとも片面に、
（１）〜（８）の方法で形成された有機層と無機層とが
交互に少なくとも一層以上積層されたガスバリア性プラ
スチックフィルム。 （１０）前記有機層の厚みが１０ｎｍ〜５０００ｎｍで
ある（９）のガスバリア性プラスチックフィルム。 （１１）前記無機層が珪素酸化物または珪素窒化物また
は珪素窒化酸化物を主成分とする（９）又は（１０）の
ガスバリア性プラスチックフィルム。 （１２）前記高分子材料からなる基材がノルボルネン系
樹脂またはポリエーテルスルホンを主成分とする（９）
〜（１１）のガスバリア性プラスチックフィルム。 である。
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明における熱重量分析による
５％重量減少温度とは、セイコー電子工業（株）製示差
熱熱重量同時測定装置ＴＧ−ＤＴＡ３２０を用いて、窒
素ガス流量３００ｍＬ/ｍｉｎの下、１分間に１０℃の
割合で温度を室温から上昇させた時に試料の重量が全体
の５％減少した時点の温度を示している。本発明におい
ては、光重合性モノマーと光重合開始剤の熱重量分析に
よる５％重量減少温度の差が３０℃以下である必要があ
る。好ましくは２０℃以下であり、さらに好ましくは１
５℃以下である。光重合性モノマーと光重合開始剤の熱
重量分析による５％重量減少温度の差が３０℃を超える
と、揮発性に差があるため光重合性モノマーと光重合開
始剤を均一に蒸着させることが困難となる。すなわち、
光重合開始剤の熱重量分析による５％重量減少温度が光
重合性モノマーよりも３０℃以上高いと蒸着物中の光重
合開始剤の割合が少なくなり、ＵＶでの硬化が不十分に
なるおそれがある。一方、光重合性モノマーの熱重量分
析による５％重量減少温度が光重合開始剤よりも３０℃
以上高いと蒸着物中の光重合開始剤の割合は、初期は多
く次第に少なくなるなど不均一となり、硬化が不均一な
有機層となるおそれがある。
５％重量減少温度とは、セイコー電子工業（株）製示差
熱熱重量同時測定装置ＴＧ−ＤＴＡ３２０を用いて、窒
素ガス流量３００ｍＬ/ｍｉｎの下、１分間に１０℃の
割合で温度を室温から上昇させた時に試料の重量が全体
の５％減少した時点の温度を示している。本発明におい
ては、光重合性モノマーと光重合開始剤の熱重量分析に
よる５％重量減少温度の差が３０℃以下である必要があ
る。好ましくは２０℃以下であり、さらに好ましくは１
５℃以下である。光重合性モノマーと光重合開始剤の熱
重量分析による５％重量減少温度の差が３０℃を超える
と、揮発性に差があるため光重合性モノマーと光重合開
始剤を均一に蒸着させることが困難となる。すなわち、
光重合開始剤の熱重量分析による５％重量減少温度が光
重合性モノマーよりも３０℃以上高いと蒸着物中の光重
合開始剤の割合が少なくなり、ＵＶでの硬化が不十分に
なるおそれがある。一方、光重合性モノマーの熱重量分
析による５％重量減少温度が光重合開始剤よりも３０℃
以上高いと蒸着物中の光重合開始剤の割合は、初期は多
く次第に少なくなるなど不均一となり、硬化が不均一な
有機層となるおそれがある。
【０００８】本発明の光重合性モノマーは、特に限定さ
れるものではなく、ＵＶなどの光によって重合できるモ
ノマーであればよい。具体的にはアクリロイル基または
メタクリロイル基を有するモノマーやエポキシ基を有す
るモノマーなどがあげられ、アクリロイル基またはメタ
クリロイル基を有するモノマーが好ましく、２官能以上
のアクリロイル基を有するモノマーが特に好ましい。２
官能以上のアクリロイル基を有するモノマーとしては、
トリプロピレングリコールジアクリレート、トリエチレ
ングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオー
ルジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレ
ート、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペ
ンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコ
ール変性トリメチロールプロパンジアクリレート、ジシ
クロペンタジエニルジアクリレート、ノルボルナンジメ
チロールジアクリレート、エポキシアクリレート、ウレ
タンアクリレート、イソシアヌル酸アクリレート、ペン
タエリスリトールアクリレート、トリメチロールプロパ
ンアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレー
ト、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ポリエ
ステルアクリレートなどが挙げられる。これらの中で熱
重量分析による５％重量減少温度が１５５℃〜３００℃
であるものがより好ましく、例えば、ジシクロペンタジ
エニルジアクリレートやノルボルナンジメチロールジア
クリレートなどの脂環式ジアクリレート、ネオペンチル
グリコール変性トリメチロールプロパンジアクリレート
などの環状エーテル構造を有するジアクリレート、カプ
ロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリ
コールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアク
リレート、ポリプロピレングリコールジアクリレートな
どが挙げられる。透明性や耐熱性の面から脂環式ジアク
リレートの中でも下記式(1)に示されるジシクロペンタ
ジエニルジアクリレートが特に好ましく、環状エーテル
構造を有するジアクリレートの中でも下記式(2)に示さ
れるネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパ
ンジアクリレートが特に好ましい。光重合性モノマーは
単独で用いても、２種類以上を混合しても良く、また１
官能の光重合性モノマーを併用して用いてもかまわな
い。
れるものではなく、ＵＶなどの光によって重合できるモ
ノマーであればよい。具体的にはアクリロイル基または
メタクリロイル基を有するモノマーやエポキシ基を有す
るモノマーなどがあげられ、アクリロイル基またはメタ
クリロイル基を有するモノマーが好ましく、２官能以上
のアクリロイル基を有するモノマーが特に好ましい。２
官能以上のアクリロイル基を有するモノマーとしては、
トリプロピレングリコールジアクリレート、トリエチレ
ングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオー
ルジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレ
ート、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペ
ンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコ
ール変性トリメチロールプロパンジアクリレート、ジシ
クロペンタジエニルジアクリレート、ノルボルナンジメ
チロールジアクリレート、エポキシアクリレート、ウレ
タンアクリレート、イソシアヌル酸アクリレート、ペン
タエリスリトールアクリレート、トリメチロールプロパ
ンアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレー
ト、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ポリエ
ステルアクリレートなどが挙げられる。これらの中で熱
重量分析による５％重量減少温度が１５５℃〜３００℃
であるものがより好ましく、例えば、ジシクロペンタジ
エニルジアクリレートやノルボルナンジメチロールジア
クリレートなどの脂環式ジアクリレート、ネオペンチル
グリコール変性トリメチロールプロパンジアクリレート
などの環状エーテル構造を有するジアクリレート、カプ
ロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリ
コールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアク
リレート、ポリプロピレングリコールジアクリレートな
どが挙げられる。透明性や耐熱性の面から脂環式ジアク
リレートの中でも下記式(1)に示されるジシクロペンタ
ジエニルジアクリレートが特に好ましく、環状エーテル
構造を有するジアクリレートの中でも下記式(2)に示さ
れるネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパ
ンジアクリレートが特に好ましい。光重合性モノマーは
単独で用いても、２種類以上を混合しても良く、また１
官能の光重合性モノマーを併用して用いてもかまわな
い。
【化３】
【化４】
【０００９】本発明で用いられる光重合開始剤は特に限
定されるものではなく、熱重量分析における５％重量減
少温度差が光重合性モノマーと３０℃以下であれば良
い。光重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤やカチ
オン性重合開始剤等を用いることができるが、ラジカル
重合開始剤がより好ましい。例えば、１−ヒドロキシシ
クロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−
１，２−ジフェニルエタン−１−オン、２−メチル−１
[４−（メチルチオ）フェニル]−２−モリフォリノプロ
パン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フ
ェニルプロパン−１−オン、１−[４−（２−ヒドロキ
シエトキシ）−フェニル]−２−ヒドロキシ−２−メチ
ル−１−プロパン−１−オン、ビス（２，４，６−トリ
メチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド
等が挙げられる。
定されるものではなく、熱重量分析における５％重量減
少温度差が光重合性モノマーと３０℃以下であれば良
い。光重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤やカチ
オン性重合開始剤等を用いることができるが、ラジカル
重合開始剤がより好ましい。例えば、１−ヒドロキシシ
クロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−
１，２−ジフェニルエタン−１−オン、２−メチル−１
[４−（メチルチオ）フェニル]−２−モリフォリノプロ
パン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フ
ェニルプロパン−１−オン、１−[４−（２−ヒドロキ
シエトキシ）−フェニル]−２−ヒドロキシ−２−メチ
ル−１−プロパン−１−オン、ビス（２，４，６−トリ
メチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド
等が挙げられる。
【００１０】本発明において、光重合開始剤の含有量は
光重合性モノマー１００重量部に対し０．１〜１０重量
部が好ましい。より好ましくは０．５〜７重量部であ
り、最も好ましくは０．８〜５重量部である。光重合開
始剤の含有量が０．１重量部より少なくなると硬化が不
十分となるおそれがある。一方、光重合開始剤の含有量
が１０重量部を超えると硬化は起こるものの脆い有機層
となるおそれがある。
光重合性モノマー１００重量部に対し０．１〜１０重量
部が好ましい。より好ましくは０．５〜７重量部であ
り、最も好ましくは０．８〜５重量部である。光重合開
始剤の含有量が０．１重量部より少なくなると硬化が不
十分となるおそれがある。一方、光重合開始剤の含有量
が１０重量部を超えると硬化は起こるものの脆い有機層
となるおそれがある。
【００１１】本発明によれば、高分子材料からなる基材
上に熱重量分析による５％重量減少温度差が３０℃以下
の光重合性モノマーと光重合開始剤からなる混合物を蒸
着により成膜し、直ちにＵＶ等を照射することによって
高分子の有機層を形成させ、次に有機層の表面に無機層
を真空製膜法により形成させる工程を繰り返すことで大
気下にフィルム表面を曝すことなく有機と無機の交互積
層バリア膜を形成させることができる。この方法により
無機層だけでは無くしきれない層構造の欠陥部分を有機
層で埋める事が可能であるため、ガスバリア性を高めた
透明フィルムを得ることができる。
上に熱重量分析による５％重量減少温度差が３０℃以下
の光重合性モノマーと光重合開始剤からなる混合物を蒸
着により成膜し、直ちにＵＶ等を照射することによって
高分子の有機層を形成させ、次に有機層の表面に無機層
を真空製膜法により形成させる工程を繰り返すことで大
気下にフィルム表面を曝すことなく有機と無機の交互積
層バリア膜を形成させることができる。この方法により
無機層だけでは無くしきれない層構造の欠陥部分を有機
層で埋める事が可能であるため、ガスバリア性を高めた
透明フィルムを得ることができる。
【００１２】本発明の有機層の厚みは、１０ｎｍ〜５０
００ｎｍが好ましい。有機層の厚みが１０ｎｍより小さ
い場合は、有機層の厚みの均一性を得ることが困難とな
るため、無機層の構造欠陥を効率よく有機層で埋めるこ
とができない場合がある。また、５０００ｎｍを越える
厚みの場合は、曲げ等の外力により有機層がクラックを
発生し易くなるためバリア性が低下するおそれがある。
００ｎｍが好ましい。有機層の厚みが１０ｎｍより小さ
い場合は、有機層の厚みの均一性を得ることが困難とな
るため、無機層の構造欠陥を効率よく有機層で埋めるこ
とができない場合がある。また、５０００ｎｍを越える
厚みの場合は、曲げ等の外力により有機層がクラックを
発生し易くなるためバリア性が低下するおそれがある。
【００１３】本発明の無機層に関して特に制限はない
が、例えばSi、Al、In、Sn、Zn、Ti、Cu、Ce等の１種以
上を含む酸化物もしくは窒化物もしくは酸化窒化物など
を用いることができる。無機層は厚すぎると曲げ応力に
よるクラックの恐れがあり、薄すぎると膜が島状に分布
するため、いずれもガスバリア性が悪くなる。上記のこ
とより、それぞれの無機層の厚みは５ｎｍ〜５００ｎｍ
の範囲が好ましいが、特に限定はしない。また、それぞ
れの無機層は同じ組成でも別の組成でも良く制限はな
い。ガスバリア性と高透明性を両立させるには無機層と
して珪素酸化物、珪素窒化物や珪素酸化窒化物を使うの
が好ましい。また、無機層の形成方法としては抵抗加熱
蒸着法、電子線蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶ
Ｄ法、スパッタリング法が適用でき、目的の無機酸化
物、無機窒化物、無機窒化酸化物が得られる方法であれ
ば制限はない。
が、例えばSi、Al、In、Sn、Zn、Ti、Cu、Ce等の１種以
上を含む酸化物もしくは窒化物もしくは酸化窒化物など
を用いることができる。無機層は厚すぎると曲げ応力に
よるクラックの恐れがあり、薄すぎると膜が島状に分布
するため、いずれもガスバリア性が悪くなる。上記のこ
とより、それぞれの無機層の厚みは５ｎｍ〜５００ｎｍ
の範囲が好ましいが、特に限定はしない。また、それぞ
れの無機層は同じ組成でも別の組成でも良く制限はな
い。ガスバリア性と高透明性を両立させるには無機層と
して珪素酸化物、珪素窒化物や珪素酸化窒化物を使うの
が好ましい。また、無機層の形成方法としては抵抗加熱
蒸着法、電子線蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶ
Ｄ法、スパッタリング法が適用でき、目的の無機酸化
物、無機窒化物、無機窒化酸化物が得られる方法であれ
ば制限はない。
【００１４】本発明の高分子材料からなる基材として特
に制限はないが、ポリスルホン、ポリエーテルスルホ
ン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリアクリレ
ート、ポリエステル、ポリアミド、エポキシ樹脂、ポリ
イミド、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニリデン等を使用
することができる。特に、ガラス転移温度が２００℃以
上のノルボルネン系樹脂やポリエーテルスルホンは光学
特性が良好で耐熱性が高く、有機層無機層形成プロセス
において高温処理による変形や劣化が無いので好まし
い。
に制限はないが、ポリスルホン、ポリエーテルスルホ
ン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリアクリレ
ート、ポリエステル、ポリアミド、エポキシ樹脂、ポリ
イミド、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニリデン等を使用
することができる。特に、ガラス転移温度が２００℃以
上のノルボルネン系樹脂やポリエーテルスルホンは光学
特性が良好で耐熱性が高く、有機層無機層形成プロセス
において高温処理による変形や劣化が無いので好まし
い。
【００１５】
【実施例】以下本発明の実施例について詳細に説明する
が、本発明は、何ら下記実施例に限定されるものではな
い。 （実施例１）光重合開始剤（イルカ゛キュアー907：チバ・スペ
シャルティ・ケミカルズ製、5%重量減少温度：207.7
℃）を3wt%（3.1重量部）含有する２官能のジシクロペ
ンタジエニルジアクリレート（アロニックスM-203：東亞合成
（株）製、5%重量減少温度： 196.5℃）を蒸着源に入
れ、基材としてポリエーテルスルホンを真空槽内にセッ
トした。真空槽内を10-4Pa台まで真空引きした後に、有
機蒸着源の抵抗加熱を開始し、不純物の蒸発が完了した
ところで蒸着シャッターを開き2000nmの有機層を蒸着し
た。その後、500mJ/cm2の積算光量のＵＶを照射し、有
機層を形成した。有機層は、外観評価にて硬化状態を観
察した。
が、本発明は、何ら下記実施例に限定されるものではな
い。 （実施例１）光重合開始剤（イルカ゛キュアー907：チバ・スペ
シャルティ・ケミカルズ製、5%重量減少温度：207.7
℃）を3wt%（3.1重量部）含有する２官能のジシクロペ
ンタジエニルジアクリレート（アロニックスM-203：東亞合成
（株）製、5%重量減少温度： 196.5℃）を蒸着源に入
れ、基材としてポリエーテルスルホンを真空槽内にセッ
トした。真空槽内を10-4Pa台まで真空引きした後に、有
機蒸着源の抵抗加熱を開始し、不純物の蒸発が完了した
ところで蒸着シャッターを開き2000nmの有機層を蒸着し
た。その後、500mJ/cm2の積算光量のＵＶを照射し、有
機層を形成した。有機層は、外観評価にて硬化状態を観
察した。
【００１６】（実施例２）実施例１で使用した２官能の
ジシクロペンタジエニルジアクリレートの代わりに、２
官能のネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロ
パンジアクリレート(KAYARAD R-604：日本化薬（株）
製、5%重量減少温度：174.3℃)を、光重合開始剤をイル
ガキュア−９０７の代わりにイルガキュア−６５１（チ
バ・スペシャルティ・ケミカルズ製、5%重量減少温度：
167.8℃）を用いた他は実施例１と同様に、蒸着膜作製
及び評価を行った。
ジシクロペンタジエニルジアクリレートの代わりに、２
官能のネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロ
パンジアクリレート(KAYARAD R-604：日本化薬（株）
製、5%重量減少温度：174.3℃)を、光重合開始剤をイル
ガキュア−９０７の代わりにイルガキュア−６５１（チ
バ・スペシャルティ・ケミカルズ製、5%重量減少温度：
167.8℃）を用いた他は実施例１と同様に、蒸着膜作製
及び評価を行った。
【００１７】（実施例３）実施例１で使用した２官能の
ジシクロペンタジエニルジアクリレートの代わりに、２
官能のカプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペ
ンチルグリコールジアクリレート(KAYARAD HX-220：日
本化薬（株）製、5%重量減少温度：198.8℃)を用いた他
は実施例１と同様に、蒸着膜作製及び評価を行った。
ジシクロペンタジエニルジアクリレートの代わりに、２
官能のカプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペ
ンチルグリコールジアクリレート(KAYARAD HX-220：日
本化薬（株）製、5%重量減少温度：198.8℃)を用いた他
は実施例１と同様に、蒸着膜作製及び評価を行った。
【００１８】（実施例４）実施例１で使用した２官能の
ジシクロペンタジエニルジアクリレートの代わりに、２
官能のノルボルナンジメチロールジアクリレート(東亞
合成（株）製、5%重量減少温度： 161.4℃)を、光重合
開始剤をイルガキュア−９０７の代わりにイルガキュア
−６５１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）を用
いた他は実施例１と同様に、蒸着膜作製及び評価を行っ
た。
ジシクロペンタジエニルジアクリレートの代わりに、２
官能のノルボルナンジメチロールジアクリレート(東亞
合成（株）製、5%重量減少温度： 161.4℃)を、光重合
開始剤をイルガキュア−９０７の代わりにイルガキュア
−６５１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）を用
いた他は実施例１と同様に、蒸着膜作製及び評価を行っ
た。
【００１９】（実施例５）抵抗加熱端子及び電子銃を備
えた真空蒸着機内に高圧水銀ＵＶランプを取り付け成膜
装置とした。無機層として珪素窒化酸化物を用い、有機
層として２官能のジシクロペンタジエニルジアクリレー
トに光重合開始剤（イルガキュア−９０７：チバ・スペ
シャルティ・ケミカルズ製）を1wt%（1.0重量部）添加
した未硬化樹脂を用いた。樹脂基板として0.1mm厚のポ
リエーテルスルホンを真空槽内にセットし10-4Pa台まで
真空引きした後に、電子線蒸着法により30nmの珪素窒化
酸化物膜を形成した。その後、真空槽内の真空度が10-4
Pa台で安定した状態で、有機蒸着源の抵抗加熱を開始
し、不純物の蒸発が完了したところで蒸着シャッターを
開き500nmの有機層を蒸着した。蒸着シャッターを戻し
た後にＵＶランプのシャッターを開き、500mJ/cm2の積
算光量でモノマーを硬化した。その後さらに電子線蒸着
法による30nmの珪素窒化酸化物膜形成を繰り返し、樹脂
基板／無機層／有機層／無機層のガスバリア性プラスチ
ックフィルムを成膜した。水蒸気透過度をJIS K 7129 B
法にて測定した。
えた真空蒸着機内に高圧水銀ＵＶランプを取り付け成膜
装置とした。無機層として珪素窒化酸化物を用い、有機
層として２官能のジシクロペンタジエニルジアクリレー
トに光重合開始剤（イルガキュア−９０７：チバ・スペ
シャルティ・ケミカルズ製）を1wt%（1.0重量部）添加
した未硬化樹脂を用いた。樹脂基板として0.1mm厚のポ
リエーテルスルホンを真空槽内にセットし10-4Pa台まで
真空引きした後に、電子線蒸着法により30nmの珪素窒化
酸化物膜を形成した。その後、真空槽内の真空度が10-4
Pa台で安定した状態で、有機蒸着源の抵抗加熱を開始
し、不純物の蒸発が完了したところで蒸着シャッターを
開き500nmの有機層を蒸着した。蒸着シャッターを戻し
た後にＵＶランプのシャッターを開き、500mJ/cm2の積
算光量でモノマーを硬化した。その後さらに電子線蒸着
法による30nmの珪素窒化酸化物膜形成を繰り返し、樹脂
基板／無機層／有機層／無機層のガスバリア性プラスチ
ックフィルムを成膜した。水蒸気透過度をJIS K 7129 B
法にて測定した。
【００２０】（実施例６）実施例５で樹脂基板として使
用したポリエーテルスルホンの代わりにノルボルネン樹
脂（Promerus社製、Appear）を用いた他は実施例５と同
様に樹脂基板／無機層／有機層／無機層のガスバリア性
プラスチックフィルムを成膜した。水蒸気透過度の測定
についても実施例５と同様に行った。
用したポリエーテルスルホンの代わりにノルボルネン樹
脂（Promerus社製、Appear）を用いた他は実施例５と同
様に樹脂基板／無機層／有機層／無機層のガスバリア性
プラスチックフィルムを成膜した。水蒸気透過度の測定
についても実施例５と同様に行った。
【００２１】（実施例７）実施例５で使用したジシクロ
ペンタジエニルジアクリレートの代わりに、ネオペンチ
ルグリコール変性トリメチロールプロパンジアクリレー
ト（ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ−６０４：日本化薬（株）製）
を、光重合開始剤をイルガキュア−９０７の代わりにイ
ルガキュア−６５１（チバ・スペシャルティ・ケミカル
ズ製）を用いた他は実施例５と同様に樹脂基板／無機層
／有機層／無機層のガスバリア性プラスチックフィルム
を成膜した。水蒸気透過度の測定についても実施例５と
同様に行った。
ペンタジエニルジアクリレートの代わりに、ネオペンチ
ルグリコール変性トリメチロールプロパンジアクリレー
ト（ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ−６０４：日本化薬（株）製）
を、光重合開始剤をイルガキュア−９０７の代わりにイ
ルガキュア−６５１（チバ・スペシャルティ・ケミカル
ズ製）を用いた他は実施例５と同様に樹脂基板／無機層
／有機層／無機層のガスバリア性プラスチックフィルム
を成膜した。水蒸気透過度の測定についても実施例５と
同様に行った。
【００２２】（実施例８）実施例５で使用したジシクロ
ペンタジエニルジアクリレートの代わりに、ネオペンチ
ルグリコール変性トリメチロールプロパンジアクリレー
ト（ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ−６０４：日本化薬（株）製）
を、光重合開始剤をイルガキュア−９０７の代わりにイ
ルガキュア−６５１（チバ・スペシャルティ・ケミカル
ズ製）を、樹脂基板としてポリエーテルスルホンの代わ
りにノルボルネン樹脂（Promerus社製、Appear）を用い
た他は実施例５と同様に樹脂基板／無機層／有機層／無
機層のガスバリア性プラスチックフィルムを成膜した。
水蒸気透過度の測定についても実施例５と同様に行っ
た。
ペンタジエニルジアクリレートの代わりに、ネオペンチ
ルグリコール変性トリメチロールプロパンジアクリレー
ト（ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ−６０４：日本化薬（株）製）
を、光重合開始剤をイルガキュア−９０７の代わりにイ
ルガキュア−６５１（チバ・スペシャルティ・ケミカル
ズ製）を、樹脂基板としてポリエーテルスルホンの代わ
りにノルボルネン樹脂（Promerus社製、Appear）を用い
た他は実施例５と同様に樹脂基板／無機層／有機層／無
機層のガスバリア性プラスチックフィルムを成膜した。
水蒸気透過度の測定についても実施例５と同様に行っ
た。
【００２３】（比較例１）実施例１で使用した２官能の
ジシクロペンタジエニルジアクリレート（アロニックスM-20
3：東亞合成（株）製）に、ダロキュア−１１７３（チ
バ・スペシャルティ・ケミカルズ製、5%重量減少温度：
102.4℃）を用いた他は実施例１と同様に、蒸着膜作製
及び評価を行った。
ジシクロペンタジエニルジアクリレート（アロニックスM-20
3：東亞合成（株）製）に、ダロキュア−１１７３（チ
バ・スペシャルティ・ケミカルズ製、5%重量減少温度：
102.4℃）を用いた他は実施例１と同様に、蒸着膜作製
及び評価を行った。
【００２４】（比較例２）実施例２で使用した２官能の
ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジ
アクリレート(KAYARAD R-604：日本化薬（株）製)に、
イルガキュア−８１９（チバ・スペシャルティ・ケミカ
ルズ製、5%重量減少温度：257.9℃）を用いた他は実施
例１と同様に、蒸着膜作製及び評価を行った。
ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジ
アクリレート(KAYARAD R-604：日本化薬（株）製)に、
イルガキュア−８１９（チバ・スペシャルティ・ケミカ
ルズ製、5%重量減少温度：257.9℃）を用いた他は実施
例１と同様に、蒸着膜作製及び評価を行った。
【００２５】（比較例３）実施例１で使用した２官能の
ジシクロペンタジエニルジアクリレートの代わりに、２
官能のヘキサンジオールジアクリレート(東亞合成
（株）製、5%重量減少温度：142.6℃)を用いた他は実施
例１と同様に、蒸着膜作製及び評価を行った。
ジシクロペンタジエニルジアクリレートの代わりに、２
官能のヘキサンジオールジアクリレート(東亞合成
（株）製、5%重量減少温度：142.6℃)を用いた他は実施
例１と同様に、蒸着膜作製及び評価を行った。
【００２６】（比較例４）実施例１で使用した２官能の
ジシクロペンタジエニルジアクリレートの代わりに、ジ
ペンタエリスリトールペンタ及びヘキサアクリレート(ア
ロニックスM-400：東亞合成（株）製、5%重量減少温度：382.
3℃)を用いた他は実施例１と同様に、蒸着膜作製及び評
価を行った。
ジシクロペンタジエニルジアクリレートの代わりに、ジ
ペンタエリスリトールペンタ及びヘキサアクリレート(ア
ロニックスM-400：東亞合成（株）製、5%重量減少温度：382.
3℃)を用いた他は実施例１と同様に、蒸着膜作製及び評
価を行った。
【００２７】（比較例５）抵抗加熱端子及び電子銃を備
えた真空蒸着機内に高圧水銀ＵＶランプを取り付け成膜
装置とした。無機層として珪素窒化酸化物を用いた。樹
脂基板として0.1mm厚のポリエーテルスルホンを真空槽
内にセットし10-4Pa台まで真空引きした後に、電子線蒸
着法により30nmの珪素窒化酸化物膜を形成し、樹脂基板
／無機層のガスバリア性プラスチックフィルムを成膜し
た。水蒸気透過度の測定については実施例５と同様に行
った。
えた真空蒸着機内に高圧水銀ＵＶランプを取り付け成膜
装置とした。無機層として珪素窒化酸化物を用いた。樹
脂基板として0.1mm厚のポリエーテルスルホンを真空槽
内にセットし10-4Pa台まで真空引きした後に、電子線蒸
着法により30nmの珪素窒化酸化物膜を形成し、樹脂基板
／無機層のガスバリア性プラスチックフィルムを成膜し
た。水蒸気透過度の測定については実施例５と同様に行
った。
【００２８】（比較例６）比較例５で樹脂基板として使
用したポリエーテルスルホンの代わりにノルボルネン樹
脂（Promerus社製、Appear）を用いた他は比較例５と同
様に樹脂基板／無機層のガスバリア性プラスチックフィ
ルムを成膜した。水蒸気透過度の測定については実施例
５と同様に行った。
用したポリエーテルスルホンの代わりにノルボルネン樹
脂（Promerus社製、Appear）を用いた他は比較例５と同
様に樹脂基板／無機層のガスバリア性プラスチックフィ
ルムを成膜した。水蒸気透過度の測定については実施例
５と同様に行った。
【００２９】（評価方法）
ａ) ５％重量減少温度
セイコー電子工業（株）製示差熱熱重量同時測定装置Ｔ
Ｇ−ＤＴＡ３２０で測定し、窒素ガス流量３００ｍＬ/
ｍｉｎの下、１分間に１０℃の割合で温度を室温から上
昇させた時に試料の重量が全体の５％減少した時点の温
度を５％重量減少温度とした。
Ｇ−ＤＴＡ３２０で測定し、窒素ガス流量３００ｍＬ/
ｍｉｎの下、１分間に１０℃の割合で温度を室温から上
昇させた時に試料の重量が全体の５％減少した時点の温
度を５％重量減少温度とした。
【００３０】ｂ)外観評価 実施例１〜４及び比較例１
〜４にて作製した蒸着膜（有機層）の硬化状態を目視に
て観察した。２０００ｎｍの膜厚で蒸着でき、かつ正常
に硬化しているもののみ○とした。
〜４にて作製した蒸着膜（有機層）の硬化状態を目視に
て観察した。２０００ｎｍの膜厚で蒸着でき、かつ正常
に硬化しているもののみ○とした。
【００３１】ｃ)水蒸気透過度 実施例５〜８及び比較
例５〜６にて作製したガスバリア性プラスチックフィル
ムの水蒸気透過度を、Modern Controls社製PERMATRAN-W
3/31を用いて、JIS K 7129 B法にて測定した。
例５〜６にて作製したガスバリア性プラスチックフィル
ムの水蒸気透過度を、Modern Controls社製PERMATRAN-W
3/31を用いて、JIS K 7129 B法にて測定した。
【００３２】（結果）外観および水蒸気透過度の評価結
果を表１及び表２に示す。熱重量分析による５％重量減
少温度差については、光重合性モノマーの熱重量分析に
よる５％重量減少温度から光重合開始剤の熱重量分析に
よる５％重量減少温度を引いた値を示している。本発明
の実施例では、何れも有機層が蒸着可能でかつ硬化し、
水蒸気透過度も良好であった。これに対し、光重合性モ
ノマーの熱重量分析による５％重量減少温度が光重合開
始剤の５％重量減少温度よりも９４．１℃高い比較例１
では、硬化はするものの非常に脆く、使用することはで
きなかった。一方、光重合性モノマーの熱重量分析によ
る５％重量減少温度が光重合開始剤の５％重量減少温度
よりも８３．６℃低い比較例２では、硬化が不十分であ
った。また、光重合性モノマーの熱重量分析による５％
重量減少温度が１４２．６℃である比較例３では、揮発
した有機物が基材にほとんど付着せず、光重合性モノマ
ーの熱重量分析による５％重量減少温度が３８２．３℃
である比較例４では、逆にほとんど揮発せず蒸着源で硬
化してしまった。また、樹脂基板に直接無機層を積層さ
せた比較例５及び６では、本発明の請求項９に対応する
実施例５〜８に比し、水蒸気透過度が高く、ガスバリア
性が悪かった。
果を表１及び表２に示す。熱重量分析による５％重量減
少温度差については、光重合性モノマーの熱重量分析に
よる５％重量減少温度から光重合開始剤の熱重量分析に
よる５％重量減少温度を引いた値を示している。本発明
の実施例では、何れも有機層が蒸着可能でかつ硬化し、
水蒸気透過度も良好であった。これに対し、光重合性モ
ノマーの熱重量分析による５％重量減少温度が光重合開
始剤の５％重量減少温度よりも９４．１℃高い比較例１
では、硬化はするものの非常に脆く、使用することはで
きなかった。一方、光重合性モノマーの熱重量分析によ
る５％重量減少温度が光重合開始剤の５％重量減少温度
よりも８３．６℃低い比較例２では、硬化が不十分であ
った。また、光重合性モノマーの熱重量分析による５％
重量減少温度が１４２．６℃である比較例３では、揮発
した有機物が基材にほとんど付着せず、光重合性モノマ
ーの熱重量分析による５％重量減少温度が３８２．３℃
である比較例４では、逆にほとんど揮発せず蒸着源で硬
化してしまった。また、樹脂基板に直接無機層を積層さ
せた比較例５及び６では、本発明の請求項９に対応する
実施例５〜８に比し、水蒸気透過度が高く、ガスバリア
性が悪かった。
【００３３】
【表１】
【００３４】
【表２】
【００３５】
【発明の効果】本発明は、無色透明で均一に架橋した有
機層を形成できる。また、本発明の方法で形成した有機
層を用いることにより、従来よりも高いガスバリア性能
を持ちかつ曲げてもそのバリア性能が劣化しない透明フ
ィルムを提供することができる。本発明のフィルムをた
とえば表示素子用基板として適用すれば、軽くて割れな
いディスプレイが実現できる。
機層を形成できる。また、本発明の方法で形成した有機
層を用いることにより、従来よりも高いガスバリア性能
を持ちかつ曲げてもそのバリア性能が劣化しない透明フ
ィルムを提供することができる。本発明のフィルムをた
とえば表示素子用基板として適用すれば、軽くて割れな
いディスプレイが実現できる。
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フロントページの続き
Ｆターム(参考） 4F073 AA17 BA32 BA34 BB01 CA45
4F100 AA00C AA20C AD05C AK02A
AK25B AK54A AL06B AT00A
BA02 BA03 BA07 BA10A
BA10B BA10C EH662 EJ08B
EJ082 GB15 GB23 GB41
GB66 JB14B JD02 JN01
YY00B
4J100 AL08P AL62P AL66P BA03P
BA08P BA21P BA38P BC12P
BC59P BC75P CA01 JA32
JA58
4K029 AA11 AA25 BA41 BA46 BA62
BB02 BC00 BD00 CA01 CA11
DB21 EA01 GA01
Claims (12)
- 【請求項１】 熱重量分析による５％重量減少温度の差
が３０℃以内である光重合性モノマーと光重合開始剤を
含む混合物を基材上に蒸着させ、ＵＶ架橋させる有機層
の形成方法。 - 【請求項２】 前記光重合性モノマーが、熱重量分析に
よる５％重量減少温度が１５５℃〜３００℃であること
を特徴とする請求項１記載の有機層の形成方法。 - 【請求項３】 前記光重合性モノマーが、アクリロイル
基またはメタクリロイル基を有する１種以上のモノマー
であることを特徴とする請求項１又は２記載の有機層の
形成方法 - 【請求項４】 前記光重合性モノマーが、２官能以上の
アクリロイル基を有する１種類以上のモノマーであるこ
とを特徴とする請求項１又は２記載の有機層の形成方
法。 - 【請求項５】 前記光重合性モノマーが、脂環式ジアク
リレートまたは環状エーテル構造を有するジアクリレー
トであることを特徴とする請求項１又は２記載の有機層
の形成方法。 - 【請求項６】 脂環式ジアクリレートが下記式(1)に示
されるジシクロペンタジエニルジアクリレートであるこ
とを特徴とする請求項５記載の有機層の形成方法。 【化１】 - 【請求項７】 環状エーテル構造を有するジアクリレー
トが下記式(2)に示されるネオペンチルグリコール変性
トリメチロールプロパンジアクリレートであることを特
徴とする請求項５記載の有機層の形成方法。 【化２】 - 【請求項８】 前記光重合開始剤がラジカル重合開始剤
であることを特徴とする請求項１〜７何れか一項記載の
有機層の形成方法。 - 【請求項９】高分子材料からなる基材の少なくとも片面
に、請求項１〜８何れか一項記載の方法で形成された有
機層と無機層とが交互に少なくとも一層以上積層された
ガスバリア性プラスチックフィルム。 - 【請求項１０】前記有機層の厚みが１０ｎｍ〜５０００
ｎｍである請求項９記載のガスバリア性プラスチックフ
ィルム。 - 【請求項１１】 前記無機層が珪素酸化物または珪素窒
化物または珪素窒化酸化物を主成分とする請求項９又は
１０記載のガスバリア性プラスチックフィルム。 - 【請求項１２】 前記高分子材料からなる基材がノルボ
ルネン系樹脂またはポリエーテルスルホンを主成分とす
る請求項９〜１１何れか一項記載のガスバリア性プラス
チックフィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002371281A JP4083564B2 (ja) | 2001-12-26 | 2002-12-24 | 有機層の形成方法及びガスバリア性プラスチックフィルム |
Applications Claiming Priority (7)
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