JP2003335788A - ＳｉＨ基を含有する含窒素有機系化合物の製造方法 - Google Patents
ＳｉＨ基を含有する含窒素有機系化合物の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】安定的にＳｉＨ基を含有する含窒素有機系化合
物を製造できる手段を提供すること。 【解決手段】ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重
結合を１分子中に少なくとも２個含有する含窒素有機化
合物（Ａ）とＳｉＨ基を１分子中に少なくとも２個含有
する化合物（Ｂ）を金属原子を有するヒドロシリル化触
媒（Ｃ）の存在下で反応させる際に、酸素（Ｄ）の存在
した状態でヒドロシリル化反応を行ない、（Ａ）成分中
のＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合が残存
した状態で反応を終了する。
物を製造できる手段を提供すること。 【解決手段】ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重
結合を１分子中に少なくとも２個含有する含窒素有機化
合物（Ａ）とＳｉＨ基を１分子中に少なくとも２個含有
する化合物（Ｂ）を金属原子を有するヒドロシリル化触
媒（Ｃ）の存在下で反応させる際に、酸素（Ｄ）の存在
した状態でヒドロシリル化反応を行ない、（Ａ）成分中
のＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合が残存
した状態で反応を終了する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ＳｉＨ基を含有す
る含窒素有機系化合物の製造方法に関する。
る含窒素有機系化合物の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＳｉＨ基を含有する有機系化合物は、Ｓ
ｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を含有する
有機化合物に対する相溶性が一般に良好であるため、Ｓ
ｉＨ基を含有するシリコーン系化合物では対応しきれな
い種々の物性を有する硬化物を得ることができる。この
ようなＳｉＨ基を含有する有機系化合物の製造法が、特
開昭５０−１００号公報、特開平３−９５２６６号公
報、特開平５−３２０１７３号公報、特開平８―１４３
７７８号公報などに開示されている。またＳｉＨ基を含
有する含窒素有機系化合物の製造法が、特開昭５０−１
００号公報、特開平３−９５２６６号公報、特開平５−
３２０１７３号公報に開示されている。
ｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を含有する
有機化合物に対する相溶性が一般に良好であるため、Ｓ
ｉＨ基を含有するシリコーン系化合物では対応しきれな
い種々の物性を有する硬化物を得ることができる。この
ようなＳｉＨ基を含有する有機系化合物の製造法が、特
開昭５０−１００号公報、特開平３−９５２６６号公
報、特開平５−３２０１７３号公報、特開平８―１４３
７７８号公報などに開示されている。またＳｉＨ基を含
有する含窒素有機系化合物の製造法が、特開昭５０−１
００号公報、特開平３−９５２６６号公報、特開平５−
３２０１７３号公報に開示されている。
【０００３】特開昭５０−１００号公報では、ＳｉＨ基
を含有するイソシアヌル酸系の含窒素有機系化合物の製
造法が実施例３に開示されているが、小スケールでの製
造例であるとともに、気相部の雰囲気および反応終了時
のＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合の残存
量に関しては明細書および実施例中に開示されていな
い。また該公報の明細書中では、ＳｉＨ基やＳｉＨ基と
反応性を有する炭素−炭素二重結合等の活性な基が多数
存在すると空気中の水分、酸素と反応し、劣化を起こす
恐れのあることが開示されている。特開平３−９５２６
６号公報では、ＳｉＨ基を含有する有機系化合物を製造
する際に用いることのできるＳｉＨ基と反応性を有する
炭素−炭素二重結合を含有する有機化合物として含窒素
有機系化合物が例示されているが、気相部の雰囲気およ
び反応終了時のＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二
重結合の残存量に関する開示はない。実施例にはＳｉＨ
基を含有する含窒素有機系化合物の製造例はなく、また
ＳｉＨ基を含有する含窒素有機系化合物ではない有機系
化合物の製造例は全て窒素雰囲気下で行われている。特
開平５−３２０１７３号公報では、ＳｉＨ基を含有する
イミド系の含窒素有機系化合物の製造法が開示されてい
るが、気相部の雰囲気および反応終了時のＳｉＨ基と反
応性を有する炭素−炭素二重結合の残存量に関する開示
はない。また実施例も小スケールの製造例である。
を含有するイソシアヌル酸系の含窒素有機系化合物の製
造法が実施例３に開示されているが、小スケールでの製
造例であるとともに、気相部の雰囲気および反応終了時
のＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合の残存
量に関しては明細書および実施例中に開示されていな
い。また該公報の明細書中では、ＳｉＨ基やＳｉＨ基と
反応性を有する炭素−炭素二重結合等の活性な基が多数
存在すると空気中の水分、酸素と反応し、劣化を起こす
恐れのあることが開示されている。特開平３−９５２６
６号公報では、ＳｉＨ基を含有する有機系化合物を製造
する際に用いることのできるＳｉＨ基と反応性を有する
炭素−炭素二重結合を含有する有機化合物として含窒素
有機系化合物が例示されているが、気相部の雰囲気およ
び反応終了時のＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二
重結合の残存量に関する開示はない。実施例にはＳｉＨ
基を含有する含窒素有機系化合物の製造例はなく、また
ＳｉＨ基を含有する含窒素有機系化合物ではない有機系
化合物の製造例は全て窒素雰囲気下で行われている。特
開平５−３２０１７３号公報では、ＳｉＨ基を含有する
イミド系の含窒素有機系化合物の製造法が開示されてい
るが、気相部の雰囲気および反応終了時のＳｉＨ基と反
応性を有する炭素−炭素二重結合の残存量に関する開示
はない。また実施例も小スケールの製造例である。
【０００４】ヒドロシリル化反応の制御を、白金触媒に
対する酸素の溶液濃度を制御することにより行なう方法
が特開平５−２１３９７２号公報に開示されているが、
ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を反応終
了時に残存させる重要性に関する開示はない。窒素原子
を含有する化合物は金属原子に対する配位能力が高いた
めに、金属原子を有するヒドロシリル化触媒を用いてＳ
ｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を含有する
化合物とＳｉＨ基を含有する化合物を反応させる際に
は、窒素原子を含有する化合物の存在がヒドロシリル化
触媒の活性を低下させることが良く知られている。この
性質を利用して、特定の窒素原子を含有する化合物を少
量添加することにより金属原子を有するヒドロシリル化
触媒の触媒活性を制御する方法が特開平８−１４３７７
８号公報に、ヒドロシリル化反応により得られたＳｉＨ
基を含有する有機系化合物の貯蔵安定性を改善する方法
が特開平８−１５７６０４号公報に開示されている。
対する酸素の溶液濃度を制御することにより行なう方法
が特開平５−２１３９７２号公報に開示されているが、
ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を反応終
了時に残存させる重要性に関する開示はない。窒素原子
を含有する化合物は金属原子に対する配位能力が高いた
めに、金属原子を有するヒドロシリル化触媒を用いてＳ
ｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を含有する
化合物とＳｉＨ基を含有する化合物を反応させる際に
は、窒素原子を含有する化合物の存在がヒドロシリル化
触媒の活性を低下させることが良く知られている。この
性質を利用して、特定の窒素原子を含有する化合物を少
量添加することにより金属原子を有するヒドロシリル化
触媒の触媒活性を制御する方法が特開平８−１４３７７
８号公報に、ヒドロシリル化反応により得られたＳｉＨ
基を含有する有機系化合物の貯蔵安定性を改善する方法
が特開平８−１５７６０４号公報に開示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ＳｉＨ基と反応性を有
する炭素−炭素二重結合を１分子中に少なくとも２個含
有する有機化合物が含窒素有機化合物である場合、その
反応系中の存在量が前述の場合と比較して非常に多いた
め、目的とするＳｉＨ基を含有する含窒素有機系化合物
を製造するには、金属原子を有するヒドロシリル化触媒
を多く用いる必要がある。金属原子を有するヒドロシリ
ル化触媒を多く用いることは、コスト上および製造中あ
るいは製品貯蔵中の安定性上好ましくない。また小スケ
ールでの検討で見出された製造条件を単純にスケールア
ップするだけでは、製造途中に反応が停止するなど、目
的とするＳｉＨ基を含有する含窒素有機系化合物が安定
的に得られないという問題がある。
する炭素−炭素二重結合を１分子中に少なくとも２個含
有する有機化合物が含窒素有機化合物である場合、その
反応系中の存在量が前述の場合と比較して非常に多いた
め、目的とするＳｉＨ基を含有する含窒素有機系化合物
を製造するには、金属原子を有するヒドロシリル化触媒
を多く用いる必要がある。金属原子を有するヒドロシリ
ル化触媒を多く用いることは、コスト上および製造中あ
るいは製品貯蔵中の安定性上好ましくない。また小スケ
ールでの検討で見出された製造条件を単純にスケールア
ップするだけでは、製造途中に反応が停止するなど、目
的とするＳｉＨ基を含有する含窒素有機系化合物が安定
的に得られないという問題がある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らはかかる実情
に鑑み鋭意研究した結果、ＳｉＨ基と反応性を有する炭
素−炭素二重結合を１分子中に少なくとも２個含有する
含窒素有機化合物（Ａ）とＳｉＨ基を１分子中に少なく
とも２個含有する化合物（Ｂ）を金属原子を有するヒド
ロシリル化触媒（Ｃ）の存在下で反応させる際に、酸素
（Ｄ）の存在した状態でヒドロシリル化反応を行ない、
（Ａ）成分中のＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二
重結合が残存した状態で反応を終了することにより、安
定的にＳｉＨ基を含有する含窒素有機系化合物を製造で
きることを見出し、本発明に到達した。
に鑑み鋭意研究した結果、ＳｉＨ基と反応性を有する炭
素−炭素二重結合を１分子中に少なくとも２個含有する
含窒素有機化合物（Ａ）とＳｉＨ基を１分子中に少なく
とも２個含有する化合物（Ｂ）を金属原子を有するヒド
ロシリル化触媒（Ｃ）の存在下で反応させる際に、酸素
（Ｄ）の存在した状態でヒドロシリル化反応を行ない、
（Ａ）成分中のＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二
重結合が残存した状態で反応を終了することにより、安
定的にＳｉＨ基を含有する含窒素有機系化合物を製造で
きることを見出し、本発明に到達した。
【０００７】すなわち本発明は、ＳｉＨ基と反応性を有
する炭素−炭素二重結合を１分子中に少なくとも２個含
有する含窒素有機化合物（Ａ）とＳｉＨ基を１分子中に
少なくとも２個含有する化合物（Ｂ）を金属原子を含有
するヒドロシリル化触媒（Ｃ）の存在下で反応させてＳ
ｉＨ基を含有する含窒素有機系化合物を製造する際に、
酸素（Ｄ）の存在した状態でヒドロシリル化反応を行な
い、（Ａ）成分中のＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭
素二重結合が残存した状態で反応を終了することを特徴
とする、ＳｉＨ基を含有する含窒素有機系化合物の製造
方法（請求項１）、ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭
素二重結合を１分子中に少なくとも２個含有する含窒素
有機化合物（Ａ）が、下記一般式（１）
する炭素−炭素二重結合を１分子中に少なくとも２個含
有する含窒素有機化合物（Ａ）とＳｉＨ基を１分子中に
少なくとも２個含有する化合物（Ｂ）を金属原子を含有
するヒドロシリル化触媒（Ｃ）の存在下で反応させてＳ
ｉＨ基を含有する含窒素有機系化合物を製造する際に、
酸素（Ｄ）の存在した状態でヒドロシリル化反応を行な
い、（Ａ）成分中のＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭
素二重結合が残存した状態で反応を終了することを特徴
とする、ＳｉＨ基を含有する含窒素有機系化合物の製造
方法（請求項１）、ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭
素二重結合を１分子中に少なくとも２個含有する含窒素
有機化合物（Ａ）が、下記一般式（１）
【０００８】
【化５】
（式中Ｒ1は炭素数１〜５０の一価の有機基を表し、そ
れぞれのＲ1は異なっていても同一であってもよく、こ
れらＲ1の少なくとも２個はＳｉＨ基と反応性を有する
炭素−炭素二重結合を有する基である。）で表されるイ
ソシアヌル酸系化合物、下記一般式（２）
れぞれのＲ1は異なっていても同一であってもよく、こ
れらＲ1の少なくとも２個はＳｉＨ基と反応性を有する
炭素−炭素二重結合を有する基である。）で表されるイ
ソシアヌル酸系化合物、下記一般式（２）
【０００９】
【化６】
（式中Ｒ1は炭素数１〜５０の一価の有機基を表し、そ
れぞれのＲ1は異なっていても同一であってもよく、こ
れらＲ1の少なくとも２個はＳｉＨ基と反応性を有する
炭素−炭素二重結合を有する基である。）で表されるシ
アヌル酸系化合物、下記一般式（３）
れぞれのＲ1は異なっていても同一であってもよく、こ
れらＲ1の少なくとも２個はＳｉＨ基と反応性を有する
炭素−炭素二重結合を有する基である。）で表されるシ
アヌル酸系化合物、下記一般式（３）
【００１０】
【化７】
（式中Ｒ2は炭素数４〜３０の４価の有機基を表し、Ｒ3
はＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を有す
る炭素数１〜５０の一価の有機基を表し、それぞれのＲ
3は異なっていても同一であってもよい。）で表される
イミド系化合物、からなる群より選ばれる少なくとも一
の成分である、請求項１ないし２に記載のＳｉＨ基を含
有する含窒素有機系化合物の製造方法（請求項２）、Ｓ
ｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中
に少なくとも２個含有する含窒素有機化合物（Ａ）が、
下記一般式（４）
はＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を有す
る炭素数１〜５０の一価の有機基を表し、それぞれのＲ
3は異なっていても同一であってもよい。）で表される
イミド系化合物、からなる群より選ばれる少なくとも一
の成分である、請求項１ないし２に記載のＳｉＨ基を含
有する含窒素有機系化合物の製造方法（請求項２）、Ｓ
ｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中
に少なくとも２個含有する含窒素有機化合物（Ａ）が、
下記一般式（４）
【００１１】
【化８】
（式中Ｒ3はＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重
結合を含有する炭素数１〜５０の一価の有機基を表
す。）で表されるＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素
二重結合を有する基を、１分子中に少なくとも２個含有
する含窒素有機化合物である、請求項１ないし２に記載
のＳｉＨ基を含有する含窒素有機系化合物の製造方法
（請求項３）、ＳｉＨ基を１分子中に少なくとも２個含
有する化合物（Ｂ）が、常圧における沸点が２００℃以
下である、請求項１ないし３のいずれか１項に記載のＳ
ｉＨ基を含有する含窒素有機系化合物の製造方法（請求
項４）、ＳｉＨ基を１分子中に少なくとも２個含有する
化合物（Ｂ）が、１，３，５−トリメチルシクロトリシ
ロキサン、１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラ
シロキサン、１，３，５，７，９−ペンタメチルシクロ
ペンタシロキサンからなる群より選ばれる少なくとも一
の成分である、請求項４に記載のＳｉＨ基を含有する含
窒素有機系化合物の製造方法（請求項５）、である。
結合を含有する炭素数１〜５０の一価の有機基を表
す。）で表されるＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素
二重結合を有する基を、１分子中に少なくとも２個含有
する含窒素有機化合物である、請求項１ないし２に記載
のＳｉＨ基を含有する含窒素有機系化合物の製造方法
（請求項３）、ＳｉＨ基を１分子中に少なくとも２個含
有する化合物（Ｂ）が、常圧における沸点が２００℃以
下である、請求項１ないし３のいずれか１項に記載のＳ
ｉＨ基を含有する含窒素有機系化合物の製造方法（請求
項４）、ＳｉＨ基を１分子中に少なくとも２個含有する
化合物（Ｂ）が、１，３，５−トリメチルシクロトリシ
ロキサン、１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラ
シロキサン、１，３，５，７，９−ペンタメチルシクロ
ペンタシロキサンからなる群より選ばれる少なくとも一
の成分である、請求項４に記載のＳｉＨ基を含有する含
窒素有機系化合物の製造方法（請求項５）、である。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下に本発明を詳細に説明する。
【００１３】本発明の（Ａ）成分であるＳｉＨ基と反応
性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に少なくとも
２個含有する含窒素有機化合物について説明する。
性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に少なくとも
２個含有する含窒素有機化合物について説明する。
【００１４】ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重
結合を１分子中に少なくとも２個含有する含窒素有機化
合物は、ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合
を１分子中に少なくとも２個含有する含窒素有機化合物
であれば特に制限がなく種々の化合物を用いることがで
きる。
結合を１分子中に少なくとも２個含有する含窒素有機化
合物は、ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合
を１分子中に少なくとも２個含有する含窒素有機化合物
であれば特に制限がなく種々の化合物を用いることがで
きる。
【００１５】入手性の点から好ましいＳｉＨ基と反応性
を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に少なくとも２
個含有する含窒素有機化合物としては、下記一般式
（１）
を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に少なくとも２
個含有する含窒素有機化合物としては、下記一般式
（１）
【００１６】
【化９】
（式中Ｒ1は炭素数１〜５０の一価の有機基を表し、そ
れぞれのＲ1は異なっていても同一であってもよく、こ
れらＲ1の少なくとも２個はＳｉＨ基と反応性を有する
炭素−炭素二重結合を含有する基である。）で表される
イソシアヌル酸系化合物、下記一般式（２）
れぞれのＲ1は異なっていても同一であってもよく、こ
れらＲ1の少なくとも２個はＳｉＨ基と反応性を有する
炭素−炭素二重結合を含有する基である。）で表される
イソシアヌル酸系化合物、下記一般式（２）
【００１７】
【化１０】
（式中Ｒ1は炭素数１〜５０の一価の有機基を表し、そ
れぞれのＲ1は異なっていても同一であってもよく、こ
れらＲ1の少なくとも２個はＳｉＨ基と反応性を有する
炭素−炭素二重結合を含有する基である。）で表される
シアヌル酸系化合物、下記一般式（３）
れぞれのＲ1は異なっていても同一であってもよく、こ
れらＲ1の少なくとも２個はＳｉＨ基と反応性を有する
炭素−炭素二重結合を含有する基である。）で表される
シアヌル酸系化合物、下記一般式（３）
【００１８】
【化１１】
（式中Ｒ2は炭素数４〜３０の４価の有機基を表し、Ｒ3
はＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を含有
する炭素数１〜５０の一価の有機基を表し、それぞれの
Ｒ3は異なっていても同一であってもよい。）で表され
るイミド系化合物などが例示できる。
はＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を含有
する炭素数１〜５０の一価の有機基を表し、それぞれの
Ｒ3は異なっていても同一であってもよい。）で表され
るイミド系化合物などが例示できる。
【００１９】上記一般式（１）および（２）のＲ1とし
ては、入手性の点からは、炭素数１〜２０の一価の有機
基であることが好ましく、炭素数１〜１０の一価の有機
基であることがより好ましく、炭素数１〜４の一価の有
機基であることがさらに好ましい。これらの好ましいＲ
1の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、フェニル基、ベンジル基、フェネチル基、ビニ
ル基、アリル基、グリシジル基、
ては、入手性の点からは、炭素数１〜２０の一価の有機
基であることが好ましく、炭素数１〜１０の一価の有機
基であることがより好ましく、炭素数１〜４の一価の有
機基であることがさらに好ましい。これらの好ましいＲ
1の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、フェニル基、ベンジル基、フェネチル基、ビニ
ル基、アリル基、グリシジル基、
【００２０】
【化１２】
等が挙げられるが、これらＲ1の少なくとも２個はＳｉ
Ｈ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を含有する基
である。
Ｈ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を含有する基
である。
【００２１】ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重
結合を含有する基は、炭素数１〜２０の一価の有機基で
あることが好ましく、炭素数１〜１０の一価の有機基で
あることがより好ましく、炭素数１〜４の一価の有機基
であることがさらに好ましい。これらの好ましいＳｉＨ
基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を含有する基の
例としては、ビニル基、アリル基、
結合を含有する基は、炭素数１〜２０の一価の有機基で
あることが好ましく、炭素数１〜１０の一価の有機基で
あることがより好ましく、炭素数１〜４の一価の有機基
であることがさらに好ましい。これらの好ましいＳｉＨ
基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を含有する基の
例としては、ビニル基、アリル基、
【００２２】
【化１３】
等が挙げられる。
【００２３】反応性の点からＳｉＨ基と反応性を有する
炭素−炭素二重結合を１分子中に少なくとも２個含有す
る含窒素有機化合物（Ａ）は、下記一般式（４）
炭素−炭素二重結合を１分子中に少なくとも２個含有す
る含窒素有機化合物（Ａ）は、下記一般式（４）
【００２４】
【化１４】
（式中Ｒ3はＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重
結合を含有する炭素数１〜５０の一価の有機基を表
す。）で表されるＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素
二重結合を有する基を、１分子中に少なくとも２個含有
する含窒素有機化合物が好ましく、これら少なくとも２
個のＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を有
する基は異なっていても同一であってもよい。
結合を含有する炭素数１〜５０の一価の有機基を表
す。）で表されるＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素
二重結合を有する基を、１分子中に少なくとも２個含有
する含窒素有機化合物が好ましく、これら少なくとも２
個のＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を有
する基は異なっていても同一であってもよい。
【００２５】反応性と粘度の点からＳｉＨ基と反応性を
有する炭素−炭素二重結合を１分子中に少なくとも２個
含有する含窒素有機化合物（Ａ）は、下記一般式（１）
有する炭素−炭素二重結合を１分子中に少なくとも２個
含有する含窒素有機化合物（Ａ）は、下記一般式（１）
【００２６】
【化１５】
（式中Ｒ1は炭素数１〜５０の一価の有機基を表し、そ
れぞれのＲ1は異なっていても同一であってもよく、こ
れらＲ1の少なくとも２個はＳｉＨ基と反応性を有する
炭素−炭素二重結合を有する基である。）で表されるイ
ソシアヌル酸系化合物であることがより好ましい。
れぞれのＲ1は異なっていても同一であってもよく、こ
れらＲ1の少なくとも２個はＳｉＨ基と反応性を有する
炭素−炭素二重結合を有する基である。）で表されるイ
ソシアヌル酸系化合物であることがより好ましい。
【００２７】以上のような一般式（１）で表されるイソ
シアヌル酸系化合物の好ましい具体例としては、トリア
リルイソシアヌレート、
シアヌル酸系化合物の好ましい具体例としては、トリア
リルイソシアヌレート、
【００２８】
【化１６】
等が挙げられ、より好ましい具体例はトリアリルイソシ
アヌレート、
アヌレート、
【００２９】
【化１７】
である。
【００３０】（Ａ）成分は単独もしくは２種以上のもの
を混合して用いることが可能である。
を混合して用いることが可能である。
【００３１】本発明の（Ｂ）成分であるＳｉＨ基を１分
子中に少なくとも２個含有する化合物について説明す
る。
子中に少なくとも２個含有する化合物について説明す
る。
【００３２】ＳｉＨ基を１分子中に少なくとも２個含有
する化合物は、特に制限がなく種々の化合物を用いるこ
とができる。
する化合物は、特に制限がなく種々の化合物を用いるこ
とができる。
【００３３】好ましいＳｉＨ基を１分子中に少なくとも
２個含有する化合物としては、下記一般式（５）
２個含有する化合物としては、下記一般式（５）
【００３４】
【化１８】
（但し、式中Ｒ4〜Ｒ6はそれぞれ同一もしくは異種の置
換もしくは非置換のアルキル基、シクロアルキル基又は
アリール基であり、ｎは２以上の整数、ｍは０以上の整
数で、ｎ＋ｍは３以上の整数である。）で表される環状
ポリオルガノシロキサン、下記一般式（６）
換もしくは非置換のアルキル基、シクロアルキル基又は
アリール基であり、ｎは２以上の整数、ｍは０以上の整
数で、ｎ＋ｍは３以上の整数である。）で表される環状
ポリオルガノシロキサン、下記一般式（６）
【００３５】
【化１９】
（但し、式中Ｒ7〜Ｒ13はそれぞれ同一もしくは異種の
置換もしくは非置換のアルキル基、シクロアルキル基又
はアリール基であり、Ｘは水素原子、置換もしくは非置
換のアルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であ
り、Ｘが水素原子のときｐは０以上の整数、Ｘが水素原
子でないときｐは２以上の整数であり、ｑは０以上の整
数である。）で表される鎖状ポリオルガノシロキサンが
例示できる。具体的には、１，３，５−トリメチルシク
ロトリシロキサン、１，３，５，７−テトラメチルシク
ロテトラシロキサン、１，３，５，７，９−ペンタメチ
ルシクロペンタシロキサン、１，３，５−トリフェニル
シクロトリシロキサン、１，３，５，７−テトラフェニ
ルシクロテトラシロキサン、１，３，５，７，９−ペン
タフェニルシクロペンタシロキサン、１，１，３，３−
テトラメチルジシロキサン、１，１，３，３，５，５−
ヘキサメチルトリシロキサン、１，１，３，３，５，
５，７，７−オクタメチルテトラシロキサン、１，１，
１，３，５，７，７，７−オクタメチルテトラシロキサ
ン、末端トリメチルシリル基封止メチル水素シロキサン
重合体（Ｈオイル）、ジメチルシロキサン／メチル水素
シロキサン共重合体などが挙げられる。
置換もしくは非置換のアルキル基、シクロアルキル基又
はアリール基であり、Ｘは水素原子、置換もしくは非置
換のアルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であ
り、Ｘが水素原子のときｐは０以上の整数、Ｘが水素原
子でないときｐは２以上の整数であり、ｑは０以上の整
数である。）で表される鎖状ポリオルガノシロキサンが
例示できる。具体的には、１，３，５−トリメチルシク
ロトリシロキサン、１，３，５，７−テトラメチルシク
ロテトラシロキサン、１，３，５，７，９−ペンタメチ
ルシクロペンタシロキサン、１，３，５−トリフェニル
シクロトリシロキサン、１，３，５，７−テトラフェニ
ルシクロテトラシロキサン、１，３，５，７，９−ペン
タフェニルシクロペンタシロキサン、１，１，３，３−
テトラメチルジシロキサン、１，１，３，３，５，５−
ヘキサメチルトリシロキサン、１，１，３，３，５，
５，７，７−オクタメチルテトラシロキサン、１，１，
１，３，５，７，７，７−オクタメチルテトラシロキサ
ン、末端トリメチルシリル基封止メチル水素シロキサン
重合体（Ｈオイル）、ジメチルシロキサン／メチル水素
シロキサン共重合体などが挙げられる。
【００３６】これらのＳｉＨ基を１分子中に少なくとも
２個含有する化合物うち、反応後に脱揮回収が困難でな
いため、常圧における沸点が２００℃以下である化合物
がより好ましい。具体的には１，３，５−トリメチルシ
クロトリシロキサン（沸点１３５℃未満）、１，３，
５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン（沸点１
３５℃）、１，３，５，７，９−ペンタメチルシクロペ
ンタシロキサン（沸点１７０℃）、１，１，３，３−テ
トラメチルジシロキサン（沸点７０℃）、１，１，３，
３，５，５−ヘキサメチルトリシロキサン（沸点１２８
℃）、１，１，３，３，５，５，７，７−オクタメチル
テトラシロキサン（沸点１７０℃）などが挙げられる。
２個含有する化合物うち、反応後に脱揮回収が困難でな
いため、常圧における沸点が２００℃以下である化合物
がより好ましい。具体的には１，３，５−トリメチルシ
クロトリシロキサン（沸点１３５℃未満）、１，３，
５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン（沸点１
３５℃）、１，３，５，７，９−ペンタメチルシクロペ
ンタシロキサン（沸点１７０℃）、１，１，３，３−テ
トラメチルジシロキサン（沸点７０℃）、１，１，３，
３，５，５−ヘキサメチルトリシロキサン（沸点１２８
℃）、１，１，３，３，５，５，７，７−オクタメチル
テトラシロキサン（沸点１７０℃）などが挙げられる。
【００３７】中でも入手性と相溶性の点から、１，３，
５−トリメチルシクロトリシロキサン、１，３，５，７
−テトラメチルシクロテトラシロキサン、１，３，５，
７，９−ペンタメチルシクロペンタシロキサンか好まし
く、１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキ
サンが特に好ましい。
５−トリメチルシクロトリシロキサン、１，３，５，７
−テトラメチルシクロテトラシロキサン、１，３，５，
７，９−ペンタメチルシクロペンタシロキサンか好まし
く、１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキ
サンが特に好ましい。
【００３８】（Ｂ）成分は単独もしくは２種以上のもの
を混合して用いることが可能である。
を混合して用いることが可能である。
【００３９】また３０重量％以下の範囲内でトリメチル
シラン、トリエチルシランなどのトリアルキルシラン
類、ペンタメチルジシロキサン、１，１，１，３，３，
５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、１，１，１，
３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサンなどＳｉ
Ｈ基を１分子中１個含有する化合物類を（Ｂ）成分に添
加あるいは（Ｂ）成分の副生成物として含有させてもよ
い。
シラン、トリエチルシランなどのトリアルキルシラン
類、ペンタメチルジシロキサン、１，１，１，３，３，
５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、１，１，１，
３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサンなどＳｉ
Ｈ基を１分子中１個含有する化合物類を（Ｂ）成分に添
加あるいは（Ｂ）成分の副生成物として含有させてもよ
い。
【００４０】上述した（Ａ）成分中のＳｉＨ基と反応性
を有する炭素−炭素二重結合のモル数と（Ｂ）成分中の
ＳｉＨ基のモル数の比は、ＳｉＨ基が過剰であれば特に
限定されないが、１：１．１〜１：１００であることが
好ましい。ＳｉＨ基が小過剰であると得られるＳｉＨ基
を含有する含窒素有機系化合物の粘度が高く、また反応
の制御が困難であるため好ましい下限は１：２、より好
ましい下限は１：４、さらにより好ましい下限は１：６
である。ＳｉＨ基が大過剰であるとＳｉＨ基を含有する
含窒素有機系化合物の収量が低下したり、副反応が起こ
りやすくなるため、好ましい上限は１：５０であり、よ
り好ましい上限は１：２５、さらにより好ましい上限は
１：１５である。好ましい範囲は（Ａ）成分の含窒素有
機化合物１分子中のＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭
素二重結合の数と、（Ｂ）成分の化合物１分子中のＳｉ
Ｈ基の数により異なる。
を有する炭素−炭素二重結合のモル数と（Ｂ）成分中の
ＳｉＨ基のモル数の比は、ＳｉＨ基が過剰であれば特に
限定されないが、１：１．１〜１：１００であることが
好ましい。ＳｉＨ基が小過剰であると得られるＳｉＨ基
を含有する含窒素有機系化合物の粘度が高く、また反応
の制御が困難であるため好ましい下限は１：２、より好
ましい下限は１：４、さらにより好ましい下限は１：６
である。ＳｉＨ基が大過剰であるとＳｉＨ基を含有する
含窒素有機系化合物の収量が低下したり、副反応が起こ
りやすくなるため、好ましい上限は１：５０であり、よ
り好ましい上限は１：２５、さらにより好ましい上限は
１：１５である。好ましい範囲は（Ａ）成分の含窒素有
機化合物１分子中のＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭
素二重結合の数と、（Ｂ）成分の化合物１分子中のＳｉ
Ｈ基の数により異なる。
【００４１】本発明の（Ｃ）成分である金属原子を含有
するヒドロシリル化触媒について説明する。
するヒドロシリル化触媒について説明する。
【００４２】用いることのできる金属原子を含有するヒ
ドロシリル化触媒としては特に制限されず、白金の単
体、アルミナ、シリカ、活性炭等の担体に固体白金を担
持させたもの、塩化白金酸、塩化白金酸とアルコール、
アルデヒド、ケトン等との錯体、白金−オレフィン錯体
（例えば、Ｐｔ（ＣＨ2＝ＣＨ2）2（ＰＰｈ3）2、Ｐｔ
（ＣＨ2＝ＣＨ2）2Ｃｌ2）、白金−ビニルシロキサン錯
体（例えば、Ｐｔ（ＶｉＭｅ2ＳｉＯＳｉＭｅ2Ｖ
ｉ）n、Ｐｔ［（ＭｅＶｉＳｉＯ）4］m）、白金−ホス
フィン錯体（例えば、Ｐｔ（ＰＰｈ3）4、Ｐｔ（ＰＢｕ
3）4）、白金−ホスファイト錯体（例えば、Ｐｔ［Ｐ
（ＯＰｈ）3］4、Ｐｔ［Ｐ（ＯＢｕ）3］4）（式中、Ｍ
ｅはメチル基、Ｂｕはブチル基、Ｖｉはビニル基、Ｐｈ
はフェニル基を表し、ｎ、ｍは、整数を示す。）、ジカ
ルボニルジクロロ白金、カールシュテト（Ｋａｒｓｔｅ
ｄｔ）触媒、また、アシュビー（Ａｓｈｂｙ）の米国特
許第３１５９６０１号及び３１５９６６２号明細書中に
記載された白金−炭化水素複合体、ならびにラモロー
（Ｌａｍｏｒｅａｕｘ）の米国特許第３２２０９７２号
明細書中に記載された白金アルコラート触媒が挙げられ
る。更に、モディック（Ｍｏｄｉｃ）の米国特許第３５
１６９４６号明細書中に記載された塩化白金−オレフィ
ン複合体も本発明において有用である。
ドロシリル化触媒としては特に制限されず、白金の単
体、アルミナ、シリカ、活性炭等の担体に固体白金を担
持させたもの、塩化白金酸、塩化白金酸とアルコール、
アルデヒド、ケトン等との錯体、白金−オレフィン錯体
（例えば、Ｐｔ（ＣＨ2＝ＣＨ2）2（ＰＰｈ3）2、Ｐｔ
（ＣＨ2＝ＣＨ2）2Ｃｌ2）、白金−ビニルシロキサン錯
体（例えば、Ｐｔ（ＶｉＭｅ2ＳｉＯＳｉＭｅ2Ｖ
ｉ）n、Ｐｔ［（ＭｅＶｉＳｉＯ）4］m）、白金−ホス
フィン錯体（例えば、Ｐｔ（ＰＰｈ3）4、Ｐｔ（ＰＢｕ
3）4）、白金−ホスファイト錯体（例えば、Ｐｔ［Ｐ
（ＯＰｈ）3］4、Ｐｔ［Ｐ（ＯＢｕ）3］4）（式中、Ｍ
ｅはメチル基、Ｂｕはブチル基、Ｖｉはビニル基、Ｐｈ
はフェニル基を表し、ｎ、ｍは、整数を示す。）、ジカ
ルボニルジクロロ白金、カールシュテト（Ｋａｒｓｔｅ
ｄｔ）触媒、また、アシュビー（Ａｓｈｂｙ）の米国特
許第３１５９６０１号及び３１５９６６２号明細書中に
記載された白金−炭化水素複合体、ならびにラモロー
（Ｌａｍｏｒｅａｕｘ）の米国特許第３２２０９７２号
明細書中に記載された白金アルコラート触媒が挙げられ
る。更に、モディック（Ｍｏｄｉｃ）の米国特許第３５
１６９４６号明細書中に記載された塩化白金−オレフィ
ン複合体も本発明において有用である。
【００４３】また、白金化合物以外の触媒としては、Ｒ
ｈＣｌ（ＰＰｈ）3、ＲｈＣｌ3、ＲｈＡｌ2Ｏ3、ＲｕＣ
ｌ3、ＩｒＣｌ3、ＦｅＣｌ3、ＡｌＣｌ3、ＰｄＣｌ2・
２Ｈ2Ｏ、ＮｉＣｌ2、ＴｉＣｌ4などが挙げられる。
ｈＣｌ（ＰＰｈ）3、ＲｈＣｌ3、ＲｈＡｌ2Ｏ3、ＲｕＣ
ｌ3、ＩｒＣｌ3、ＦｅＣｌ3、ＡｌＣｌ3、ＰｄＣｌ2・
２Ｈ2Ｏ、ＮｉＣｌ2、ＴｉＣｌ4などが挙げられる。
【００４４】これらの中では、触媒活性の点から塩化白
金酸、白金−オレフィン錯体、白金−ビニルシロキサン
錯体等が好ましい。また、これらの触媒は単独で使用し
てもよく、２種以上併用してもよい。
金酸、白金−オレフィン錯体、白金−ビニルシロキサン
錯体等が好ましい。また、これらの触媒は単独で使用し
てもよく、２種以上併用してもよい。
【００４５】金属原子を含有するヒドロシリル化触媒の
添加量は特に限定されないが、十分な反応性と、製造さ
れたＳｉＨ基を含有する含窒素有機系化合物の貯蔵安定
性の確保の点から、ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭
素二重結合１モルに対して１０-8モルから１０-2が好ま
しく、より好ましい下限は１０-6モルであり、より好ま
しい添加量の上限は１０-3モル、さらに好ましい添加量
の上限は１０-4モルである。
添加量は特に限定されないが、十分な反応性と、製造さ
れたＳｉＨ基を含有する含窒素有機系化合物の貯蔵安定
性の確保の点から、ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭
素二重結合１モルに対して１０-8モルから１０-2が好ま
しく、より好ましい下限は１０-6モルであり、より好ま
しい添加量の上限は１０-3モル、さらに好ましい添加量
の上限は１０-4モルである。
【００４６】（Ｃ）成分である金属原子を含有するヒド
ロシリル化触媒の添加方法としては、（Ｃ）成分と
（Ｂ）成分を予め混合しておき、ここへ（Ａ）成分を添
加してもよく、（Ｃ）成分と（Ａ）成分を予め混合して
おき、これを（Ｂ）成分に添加してもよい。また、
（Ｃ）成分と（Ａ）成分を同時ではない方法で独立して
（Ｂ）成分に添加してもよい。
ロシリル化触媒の添加方法としては、（Ｃ）成分と
（Ｂ）成分を予め混合しておき、ここへ（Ａ）成分を添
加してもよく、（Ｃ）成分と（Ａ）成分を予め混合して
おき、これを（Ｂ）成分に添加してもよい。また、
（Ｃ）成分と（Ａ）成分を同時ではない方法で独立して
（Ｂ）成分に添加してもよい。
【００４７】本発明の（Ｄ）成分である酸素について説
明する。（Ｄ）成分である酸素の供給形態としては特に
制限されないが、空気、除湿空気、窒素ガスに一定割合
の酸素ガスを混合した酸素含有窒素として供給すること
が好ましい。水分の混入による副反応を抑制するため、
除湿空気あるいは酸素含有窒素が好ましい。気相部を爆
発雰囲気にならないようにするため、また酸素の過剰供
給による副反応抑制のため、窒素ガスに一定割合の酸素
ガスを混合した酸素含有窒素がより好ましい。酸素含有
窒素中の酸素含有量は０．１体積％から１０体積％が好
ましく、より好ましい下限は１体積％、さらに好ましい
下限は２体積％であり、より好ましい上限は６体積％、
さらに好ましい上限は４体積％である。
明する。（Ｄ）成分である酸素の供給形態としては特に
制限されないが、空気、除湿空気、窒素ガスに一定割合
の酸素ガスを混合した酸素含有窒素として供給すること
が好ましい。水分の混入による副反応を抑制するため、
除湿空気あるいは酸素含有窒素が好ましい。気相部を爆
発雰囲気にならないようにするため、また酸素の過剰供
給による副反応抑制のため、窒素ガスに一定割合の酸素
ガスを混合した酸素含有窒素がより好ましい。酸素含有
窒素中の酸素含有量は０．１体積％から１０体積％が好
ましく、より好ましい下限は１体積％、さらに好ましい
下限は２体積％であり、より好ましい上限は６体積％、
さらに好ましい上限は４体積％である。
【００４８】（Ｄ）成分の反応系への供給方法は、空
気、除湿空気あるいは酸素含有窒素を、原料あるいは反
応液に対するバブリング、反応容器気相部の置換などに
より行なうことができる。また両者を併用することも可
能である。大気下に開放された反応容器に原料を仕込む
ことによっても反応系への酸素の供給は可能である。反
応系への酸素の供給は１回のみでも良く、複数回行なっ
ても良い。また連続でも良く、断続的でもよい。また加
圧により酸素供給量を増加させてもよい。
気、除湿空気あるいは酸素含有窒素を、原料あるいは反
応液に対するバブリング、反応容器気相部の置換などに
より行なうことができる。また両者を併用することも可
能である。大気下に開放された反応容器に原料を仕込む
ことによっても反応系への酸素の供給は可能である。反
応系への酸素の供給は１回のみでも良く、複数回行なっ
ても良い。また連続でも良く、断続的でもよい。また加
圧により酸素供給量を増加させてもよい。
【００４９】上述の方法で反応系へ酸素を供給すること
により酸素の存在した状態でヒドロシリル化反応を行な
うことができる。前記（Ａ）成分と前記（Ｂ）成分を前
記（Ｃ）成分の存在下、窒素雰囲気で反応を行ない、ヒ
ドロシリル化の反応速度が低下した場合に、上述の方法
で反応系へ酸素を供給することにより反応を継続させ、
目的とするＳｉＨ基を含有する含窒素有機系化合物を製
造することもできる。また上述の方法で予め反応系に酸
素を供給しておいた状態で反応を開始し、反応速度が低
下した場合あるいは反応速度を低下させないように酸素
を供給することによっても目的とするＳｉＨ基を含有す
る含窒素有機系化合物を製造することができる。
により酸素の存在した状態でヒドロシリル化反応を行な
うことができる。前記（Ａ）成分と前記（Ｂ）成分を前
記（Ｃ）成分の存在下、窒素雰囲気で反応を行ない、ヒ
ドロシリル化の反応速度が低下した場合に、上述の方法
で反応系へ酸素を供給することにより反応を継続させ、
目的とするＳｉＨ基を含有する含窒素有機系化合物を製
造することもできる。また上述の方法で予め反応系に酸
素を供給しておいた状態で反応を開始し、反応速度が低
下した場合あるいは反応速度を低下させないように酸素
を供給することによっても目的とするＳｉＨ基を含有す
る含窒素有機系化合物を製造することができる。
【００５０】本発明においては、前記（Ａ）成分と前記
（Ｂ）成分を前記（Ｃ）成分である金属原子を含有する
ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させてＳｉＨ基を含
有する含窒素有機系化合物を製造する際に、酸素（Ｄ）
の存在した状態で反応を行なうが、前記（Ａ）成分中の
ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合が残存し
た状態で反応を終了させることが重要である。（Ｃ）成
分である金属原子を含有するヒドロシリル化触媒の存在
下、ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合が存
在しない状態で酸素が供給され続けると、酸素とＳｉＨ
基含有化合物が関与した副反応により高分子量体が生成
して高粘度化したり、製品の貯蔵安定性を低下させる原
因となることがある。従って、本反応により得られるＳ
ｉＨ基を含有する含窒素有機系化合物中のＳｉＨ基と反
応性を有する炭素−炭素二重結合の反応率は１００％未
満であることが好ましく、９９％以下がより好ましい。
本反応により得られるＳｉＨ基を含有する含窒素有機系
化合物はＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合
を１分子中に少なくとも２個含有する化合物と反応させ
ることにより硬化物を得ることができる。この場合は、
ＳｉＨ基を含有する含窒素有機系化合物中のＳｉＨ基と
反応性を有する炭素−炭素二重結合の反応率は８０％以
上であることが好ましく、９０％以上がより好ましく、
９５％以上がさらにより好ましい。ＳｉＨ基と反応性を
有する炭素−炭素二重結合の反応率が３０〜８０％のも
のは加熱することによりそれ自身で硬化可能である。反
応液中のＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合
の存在量をモニターしながら、酸素供給量を制御するこ
とが好ましい。反応液中のＳｉＨ基と反応性を有する炭
素−炭素二重結合の存在量は、1Ｈ−ＮＭＲ、ガスクロ
マトグラフィー、赤外スペクトルなどによりモニターす
ることができる。
（Ｂ）成分を前記（Ｃ）成分である金属原子を含有する
ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させてＳｉＨ基を含
有する含窒素有機系化合物を製造する際に、酸素（Ｄ）
の存在した状態で反応を行なうが、前記（Ａ）成分中の
ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合が残存し
た状態で反応を終了させることが重要である。（Ｃ）成
分である金属原子を含有するヒドロシリル化触媒の存在
下、ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合が存
在しない状態で酸素が供給され続けると、酸素とＳｉＨ
基含有化合物が関与した副反応により高分子量体が生成
して高粘度化したり、製品の貯蔵安定性を低下させる原
因となることがある。従って、本反応により得られるＳ
ｉＨ基を含有する含窒素有機系化合物中のＳｉＨ基と反
応性を有する炭素−炭素二重結合の反応率は１００％未
満であることが好ましく、９９％以下がより好ましい。
本反応により得られるＳｉＨ基を含有する含窒素有機系
化合物はＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合
を１分子中に少なくとも２個含有する化合物と反応させ
ることにより硬化物を得ることができる。この場合は、
ＳｉＨ基を含有する含窒素有機系化合物中のＳｉＨ基と
反応性を有する炭素−炭素二重結合の反応率は８０％以
上であることが好ましく、９０％以上がより好ましく、
９５％以上がさらにより好ましい。ＳｉＨ基と反応性を
有する炭素−炭素二重結合の反応率が３０〜８０％のも
のは加熱することによりそれ自身で硬化可能である。反
応液中のＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合
の存在量をモニターしながら、酸素供給量を制御するこ
とが好ましい。反応液中のＳｉＨ基と反応性を有する炭
素−炭素二重結合の存在量は、1Ｈ−ＮＭＲ、ガスクロ
マトグラフィー、赤外スペクトルなどによりモニターす
ることができる。
【００５１】ヒドロシリル化反応は、一般に０〜１５０
℃の温度範囲で行われるが、期待されない副反応が起こ
らないように制御し易くするために、６０〜１２０℃で
行われるのが好ましい。反応温度の調節、反応系の粘度
の調節、副反応の抑制など必要に応じて、ｎ−ペンタ
ン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ベンゼン、トルエ
ン、キシレンなどの溶剤又はプロセスオイルなどの可塑
剤を用いてもよい。ヒドロシリル化反応を実施するため
の装置としては、特に制限はないが、各種原料及び溶媒
の沸点近傍以上の温度で反応を行う場合や、酸素供給の
ために加圧が必要な場合にはオートクレーブなどの耐圧
容器が好ましい。さらに、均一に反応を進行させるため
に、十分な攪拌能力を持った装置が好ましい。
℃の温度範囲で行われるが、期待されない副反応が起こ
らないように制御し易くするために、６０〜１２０℃で
行われるのが好ましい。反応温度の調節、反応系の粘度
の調節、副反応の抑制など必要に応じて、ｎ−ペンタ
ン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ベンゼン、トルエ
ン、キシレンなどの溶剤又はプロセスオイルなどの可塑
剤を用いてもよい。ヒドロシリル化反応を実施するため
の装置としては、特に制限はないが、各種原料及び溶媒
の沸点近傍以上の温度で反応を行う場合や、酸素供給の
ために加圧が必要な場合にはオートクレーブなどの耐圧
容器が好ましい。さらに、均一に反応を進行させるため
に、十分な攪拌能力を持った装置が好ましい。
【００５２】本発明の製造法により得られたＳｉＨ基を
含有する含窒素有機系化合物を用いた硬化物は、電子材
料、光学材料、封止材、コーティング材などに用いるこ
とができる。
含有する含窒素有機系化合物を用いた硬化物は、電子材
料、光学材料、封止材、コーティング材などに用いるこ
とができる。
【００５３】
【実施例】以下に、本発明の実施例および比較例を示す
が、本発明は以下によって限定されるものではない。 （実施例１）５Ｌの四つ口フラスコに、攪拌装置、滴下
漏斗、冷却管をセットした。窒素雰囲気下でこのフラス
コにトルエン１８００ｇ、１，３，５，７−テトラメチ
ルシクロテトラシロキサン１４４０ｇ（６．０ｍｏｌ）
を入れ、攪拌しながら反応液温を１００℃に加熱した。
トリアリルイソシアヌレート２００ｇ（０．８０ｍｏ
ｌ）、トルエン２００ｇ及び白金ビニルシロキサン錯体
のキシレン溶液（白金として３ｗｔ％含有）１．４４ｍ
ｌの混合液を３５分かけて一定速度で滴下した。約４割
を滴下した時に最高温度１０６℃を記録したが、その後
反応液温は低下し、滴下終了時は９９℃であった。反応
時間４０分（滴下開始を反応時間０とした）に少量サン
プリングし、1Ｈ−ＮＭＲで求めたアリル基反応率は６
０％であった。反応時間７０分のアリル基反応率は６２
％であり、反応はほとんど停止していた。反応時間８０
分から１３５分まで反応液直上部へ３％酸素含有窒素を
２０ｍｌ／ｍｉｎでフローした。反応時間１００分およ
び１３０分のアリル基反応率はそれぞれ６７％、７１％
であった。酸素添加により反応の進行が確認された。反
応時間１３５分から２２５分まで反応液中へ３％酸素含
有窒素を２０ｍｌ／ｍｉｎでバブリングした。反応時間
１６０分、１９０分、２２０分後のアリル基反応率はそ
れぞれ７７％、８３％、８４％であった。反応速度が低
下したので反応時間２２５分から３３０分まで反応液中
へ３％酸素含有窒素を５０ｍｌ／ｍｉｎでバブリングし
た。反応時間２５０分、３１０分後のアリル基反応率は
それぞれ８８％、９４％であった。３３０分で反応を終
了し、未反応の１，３，５，７−テトラメチルシクロテ
トラシロキサンとトルエンを減圧留去し、微黄色の液体
を得た。反応時間とアリル基反応率の関係を図１に示し
た。1Ｈ−ＮＭＲ、ＧＰＣにより、このものは１，３，
５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサンのＳｉＨ
基の一部がトリアリルイソシアヌレートと反応した下記
構造を主成分とするＳｉＨ基を含有する含窒素有機系化
合物であることがわかった。
が、本発明は以下によって限定されるものではない。 （実施例１）５Ｌの四つ口フラスコに、攪拌装置、滴下
漏斗、冷却管をセットした。窒素雰囲気下でこのフラス
コにトルエン１８００ｇ、１，３，５，７−テトラメチ
ルシクロテトラシロキサン１４４０ｇ（６．０ｍｏｌ）
を入れ、攪拌しながら反応液温を１００℃に加熱した。
トリアリルイソシアヌレート２００ｇ（０．８０ｍｏ
ｌ）、トルエン２００ｇ及び白金ビニルシロキサン錯体
のキシレン溶液（白金として３ｗｔ％含有）１．４４ｍ
ｌの混合液を３５分かけて一定速度で滴下した。約４割
を滴下した時に最高温度１０６℃を記録したが、その後
反応液温は低下し、滴下終了時は９９℃であった。反応
時間４０分（滴下開始を反応時間０とした）に少量サン
プリングし、1Ｈ−ＮＭＲで求めたアリル基反応率は６
０％であった。反応時間７０分のアリル基反応率は６２
％であり、反応はほとんど停止していた。反応時間８０
分から１３５分まで反応液直上部へ３％酸素含有窒素を
２０ｍｌ／ｍｉｎでフローした。反応時間１００分およ
び１３０分のアリル基反応率はそれぞれ６７％、７１％
であった。酸素添加により反応の進行が確認された。反
応時間１３５分から２２５分まで反応液中へ３％酸素含
有窒素を２０ｍｌ／ｍｉｎでバブリングした。反応時間
１６０分、１９０分、２２０分後のアリル基反応率はそ
れぞれ７７％、８３％、８４％であった。反応速度が低
下したので反応時間２２５分から３３０分まで反応液中
へ３％酸素含有窒素を５０ｍｌ／ｍｉｎでバブリングし
た。反応時間２５０分、３１０分後のアリル基反応率は
それぞれ８８％、９４％であった。３３０分で反応を終
了し、未反応の１，３，５，７−テトラメチルシクロテ
トラシロキサンとトルエンを減圧留去し、微黄色の液体
を得た。反応時間とアリル基反応率の関係を図１に示し
た。1Ｈ−ＮＭＲ、ＧＰＣにより、このものは１，３，
５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサンのＳｉＨ
基の一部がトリアリルイソシアヌレートと反応した下記
構造を主成分とするＳｉＨ基を含有する含窒素有機系化
合物であることがわかった。
【００５４】
【化２０】
最終のアリル基反応率は９６％、１，２−ジブロモメタ
ンを内部標準に用いて 1Ｈ−ＮＭＲによりＳｉＨ基の含
有量を求めたところ、８．２ｍｍｏｌ／ｇのＳｉＨ基を
含有していることがわかった。室温２ヵ月の保存でもほ
とんど増粘はなかった。 （実施例２）５Ｌの四つ口フラスコに、攪拌装置、滴下
漏斗、冷却管をセットした。空気中でこのフラスコにト
ルエン１８００ｇ、１，３，５，７−テトラメチルシク
ロテトラシロキサン１４４０ｇ（６．０ｍｏｌ）を入
れ、攪拌しながら反応液温を１１０℃に加熱した。トリ
アリルイソシアヌレート２００ｇ（０．８０ｍｏｌ）、
トルエン２００ｇ及び白金ビニルシロキサン錯体のキシ
レン溶液（白金として３ｗｔ％含有）１．４４ｍｌの混
合液を５０分かけて発熱状態を維持しながら連続的に滴
下した。滴下終了１時間後より約１時間間隔で６回、内
容積約５００ｍｌのバルーンに入れた空気を反応液中に
数分かけて送り込んだ。滴下終了から６時間反応を行な
い1Ｈ−ＮＭＲで反応率アリル基反応率９５％以上１０
０％未満を確認した後、未反応の１，３，５，７−テト
ラメチルシクロテトラシロキサン及びトルエンを減圧留
去し、淡黄色の液体が得られた。最終のアリル基反応率
は９６％、粘度は２．２Ｐａ・ｓ、１，２−ジブロモメ
タンを内部標準に用いて1Ｈ−ＮＭＲによりＳｉＨ基の
含有量を求めたところ、８．５ｍｍｏｌ／ｇのＳｉＨ基
を含有していることがわかった。本生成物のＧＰＣ測定
をすると多峰性のクロマトグラムが得られたことから、
本生成物は混合物であることが示唆された。ＧＰＣの主
ピークを分取、1Ｈ−ＮＭＲおよび質量スペクトルを測
定すると、下記の構造を有することが確認された。ま
た、ＧＰＣのポリスチレン換算分子量４０００以上の高
分子量成分は全面積の１０％以下であった。
ンを内部標準に用いて 1Ｈ−ＮＭＲによりＳｉＨ基の含
有量を求めたところ、８．２ｍｍｏｌ／ｇのＳｉＨ基を
含有していることがわかった。室温２ヵ月の保存でもほ
とんど増粘はなかった。 （実施例２）５Ｌの四つ口フラスコに、攪拌装置、滴下
漏斗、冷却管をセットした。空気中でこのフラスコにト
ルエン１８００ｇ、１，３，５，７−テトラメチルシク
ロテトラシロキサン１４４０ｇ（６．０ｍｏｌ）を入
れ、攪拌しながら反応液温を１１０℃に加熱した。トリ
アリルイソシアヌレート２００ｇ（０．８０ｍｏｌ）、
トルエン２００ｇ及び白金ビニルシロキサン錯体のキシ
レン溶液（白金として３ｗｔ％含有）１．４４ｍｌの混
合液を５０分かけて発熱状態を維持しながら連続的に滴
下した。滴下終了１時間後より約１時間間隔で６回、内
容積約５００ｍｌのバルーンに入れた空気を反応液中に
数分かけて送り込んだ。滴下終了から６時間反応を行な
い1Ｈ−ＮＭＲで反応率アリル基反応率９５％以上１０
０％未満を確認した後、未反応の１，３，５，７−テト
ラメチルシクロテトラシロキサン及びトルエンを減圧留
去し、淡黄色の液体が得られた。最終のアリル基反応率
は９６％、粘度は２．２Ｐａ・ｓ、１，２−ジブロモメ
タンを内部標準に用いて1Ｈ−ＮＭＲによりＳｉＨ基の
含有量を求めたところ、８．５ｍｍｏｌ／ｇのＳｉＨ基
を含有していることがわかった。本生成物のＧＰＣ測定
をすると多峰性のクロマトグラムが得られたことから、
本生成物は混合物であることが示唆された。ＧＰＣの主
ピークを分取、1Ｈ−ＮＭＲおよび質量スペクトルを測
定すると、下記の構造を有することが確認された。ま
た、ＧＰＣのポリスチレン換算分子量４０００以上の高
分子量成分は全面積の１０％以下であった。
【００５５】
【化２１】
本生成物は冷蔵庫で３ヵ月以上保存してもほとんど増粘
はなかった。 （実施例３）２Ｌのオートクレーブに窒素下でトルエン
７２０ｇ、１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラ
シロキサン５７６ｇ（２．４ｍｏｌ）を入れ、気相部を
６％酸素含有窒素で置換した。置換終了時の気相部の酸
素濃度は５．３％、内圧は１ａｔｍであった。攪拌しな
がら反応液温を１１０℃に加熱した。トリアリルイソシ
アヌレート８０ｇ（０．３２ｍｏｌ）、トルエン８０ｇ
及び白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液（白金と
して３ｗｔ％含有）５８０μｌの混合液を調製した。ト
リアリルイソシアヌレート混合液の１／８を滴下管から
オートクレーブ中に投入すると、約１分で内温が上昇し
た。内温が平衡になった５分後に、６％酸素含有窒素で
２ａｔｍまで加圧しても内温変化はなかった。混合液投
入３０分後に反応液のサンプリングを行ない、1Ｈ−Ｎ
ＭＲで測定したアリル基の反応率は１００％であった
（サンプリング１）。この時の気相部の酸素濃度は１．
６％であった。酸素濃度１．６％、内圧１ａｔｍでさら
にトリアリルイソシアヌレート混合液の１／８を滴下管
からオートクレーブ中に投入すると、投入後５分経過し
ても内温の上昇は観測されなかった。６％酸素含有窒素
を加えて２ａｔｍにするとすぐに発熱が観測された。混
合液投入３０分後に反応液のサンプリングを行ない、1
Ｈ−ＮＭＲで測定したアリル基の反応率は１００％であ
った（サンプリング２）。この時の気相部の酸素濃度は
１．２％であった。酸素濃度１．２％、内圧１ａｔｍで
さらにトリアリルイソシアヌレート混合液の１／４を滴
下管からオートクレーブ中に投入すると、投入後２分経
過しても内温の上昇は観測されなかった。６％酸素含有
窒素を加えて４ａｔｍにするとすぐに発熱が観測され
た。混合液投入４０分後に反応液のサンプリングを行な
い、1Ｈ−ＮＭＲで測定したアリル基の反応率は１００
％であった（サンプリング３）。この時の気相部の酸素
濃度は０．８％であった。酸素濃度０．８％、内圧１ａ
ｔｍでさらにトリアリルイソシアヌレート混合液の１／
４を滴下管からオートクレーブ中に投入すると、投入後
５分経過しても内温の上昇は観測されなかった。６％酸
素含有窒素を加えて２ａｔｍにするとすぐに発熱が観測
された。混合液投入４０分後に反応液のサンプリングを
行ない、1Ｈ−ＮＭＲで測定した投入したアリル基の反
応率は８８％であった（サンプリング４）。この時の気
相部の酸素濃度は１．７％であった。酸素濃度１．７
％、内圧１ａｔｍでさらにトリアリルイソシアヌレート
混合液の１／４を滴下管からオートクレーブ中に投入す
ると、投入後２分経過しても内温の上昇は観測されなか
った。６％酸素含有窒素を加えて２ａｔｍにするとすぐ
に発熱が観測された。混合液投入４０分後に反応液のサ
ンプリングを行ない、 1Ｈ−ＮＭＲで測定した全投入量
に対するアリル基の反応率は７７％であった（サンプリ
ング５）。内圧１ａｔｍにした後に６％酸素含有窒素を
加えて２ａｔｍにし、６０分反応を行なった。サンプリ
ングを行ない、1Ｈ−ＮＭＲで測定した全投入量に対す
るアリル基の反応率は８９％であった（サンプリング
６）。反応液を冷却したところ、ゲルが生成していた。
サンプリング１のＧＰＣを測定すると、この時すでにポ
リスチレン換算分子量４０００以上の高分子量成分が、
全面積の２５％以上生成していた。 （実施例４）５Ｌの四つ口フラスコに、攪拌装置、滴下
漏斗、冷却管をセットした。窒素雰囲気でこのフラスコ
にトルエン１８００ｇ、１，３，５，７−テトラメチル
シクロテトラシロキサン１４４０ｇ（６．０ｍｏｌ）を
入れた。気相部を３％酸素含有窒素で置換し、攪拌しな
がら反応液温を１１０℃に加熱した。トリアリルイソシ
アヌレート２００ｇ（０．８０ｍｏｌ）、トルエン２０
０ｇ及び白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液（白
金として３ｗｔ％含有）１．４４ｍｌの混合液を３０分
かけて発熱状態を維持しながら連続的に滴下した。滴下
終了３０分後より約２０分間隔で、内容積１Ｌのバルー
ンに入れた３％酸素含有窒素を気相部に送り込んで気体
の置換を行なった。滴下終了から５時間反応を行ない1
Ｈ−ＮＭＲで反応率アリル基反応率９５％以上１００％
未満を確認した後、未反応の１，３，５，７−テトラメ
チルシクロテトラシロキサン及びトルエンを減圧留去し
た。微黄色の液体が得られ、最終のアリル基反応率は９
６％、粘度は２．２Ｐａ・ｓであった。本生成物は冷蔵
庫で３ヵ月以上保存してもほとんど増粘はなかった。 （比較例１）２００ｍｌの四つ口フラスコに、攪拌装
置、滴下漏斗、冷却管をセットした。窒素雰囲気下でこ
のフラスコにトルエン４５ｇ、１，３，５，７−テトラ
メチルシクロテトラシロキサン３６ｇ（０．１５ｍｏ
ｌ）を入れ、攪拌しながら反応液温を８０℃に加熱し
た。トリアリルイソシアヌレート５．０ｇ（０．０２１
ｍｏｌ）、トルエン５．０ｇ及び白金ビニルシロキサン
錯体のキシレン溶液（白金として３ｗｔ％含有）４５．
２μｌの混合液を５分かけて連続的に滴下した。滴下終
了後１００℃で２時間反応させた。1Ｈ−ＮＭＲで反応
率アリル基反応率９５％以上１００％未満を確認した
後、未反応の１，３，５，７−テトラメチルシクロテト
ラシロキサン及びトルエンを減圧留去した。微黄色の液
体が得られ、最終のアリル基反応率は９６％、ＳｉＨ当
量は８．５ｍｍｏｌ／ｇであった。小スケールであれ
ば、窒素雰囲気下でもＳｉＨ基を含有する含窒素有機系
化合物は製造可能な例である。 （実施例５）５Ｌの四つ口フラスコに、攪拌装置、滴下
漏斗、冷却管をセットした。このフラスコにトルエン１
３８０ｇ、１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラ
シロキサン１３６０ｇ（５．６ｍｏｌ）を入れた。気相
部を３％酸素含有窒素で置換し、１０５℃のオイルバス
中で加熱、攪拌した。ジアリルモノグリシジルイソシア
ヌレート３００ｇ（１．１ｍｏｌ）、トルエン３００ｇ
及び白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液（白金と
して３ｗｔ％含有）１．３６ｍｌの混合液を３０分かけ
て連続的に滴下した。得られた溶液をそのまま１時間加
温、攪拌した後、未反応の１，３，５，７−テトラメチ
ルシクロテトラシロキサン及びトルエンを減圧留去し
た。1Ｈ−ＮＭＲによりこのものは１，３，５，７−テ
トラメチルシクロテトラシロキサンのＳｉＨ基の一部が
ジアリルモノグリシジルイソシアヌレートと反応したも
のであることがわかった。最終のアリル基反応率は９８
％であった。また、１，２−ジブロモメタンを内部標準
に用いて1Ｈ−ＮＭＲによりＳｉＨ基の含有量を求めた
ところ、８．７３ｍｍｏｌ／ｇのＳｉＨ基を含有してい
ることがわかった。生成物は混合物であるが、下記のも
のを主成分として含有している。
はなかった。 （実施例３）２Ｌのオートクレーブに窒素下でトルエン
７２０ｇ、１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラ
シロキサン５７６ｇ（２．４ｍｏｌ）を入れ、気相部を
６％酸素含有窒素で置換した。置換終了時の気相部の酸
素濃度は５．３％、内圧は１ａｔｍであった。攪拌しな
がら反応液温を１１０℃に加熱した。トリアリルイソシ
アヌレート８０ｇ（０．３２ｍｏｌ）、トルエン８０ｇ
及び白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液（白金と
して３ｗｔ％含有）５８０μｌの混合液を調製した。ト
リアリルイソシアヌレート混合液の１／８を滴下管から
オートクレーブ中に投入すると、約１分で内温が上昇し
た。内温が平衡になった５分後に、６％酸素含有窒素で
２ａｔｍまで加圧しても内温変化はなかった。混合液投
入３０分後に反応液のサンプリングを行ない、1Ｈ−Ｎ
ＭＲで測定したアリル基の反応率は１００％であった
（サンプリング１）。この時の気相部の酸素濃度は１．
６％であった。酸素濃度１．６％、内圧１ａｔｍでさら
にトリアリルイソシアヌレート混合液の１／８を滴下管
からオートクレーブ中に投入すると、投入後５分経過し
ても内温の上昇は観測されなかった。６％酸素含有窒素
を加えて２ａｔｍにするとすぐに発熱が観測された。混
合液投入３０分後に反応液のサンプリングを行ない、1
Ｈ−ＮＭＲで測定したアリル基の反応率は１００％であ
った（サンプリング２）。この時の気相部の酸素濃度は
１．２％であった。酸素濃度１．２％、内圧１ａｔｍで
さらにトリアリルイソシアヌレート混合液の１／４を滴
下管からオートクレーブ中に投入すると、投入後２分経
過しても内温の上昇は観測されなかった。６％酸素含有
窒素を加えて４ａｔｍにするとすぐに発熱が観測され
た。混合液投入４０分後に反応液のサンプリングを行な
い、1Ｈ−ＮＭＲで測定したアリル基の反応率は１００
％であった（サンプリング３）。この時の気相部の酸素
濃度は０．８％であった。酸素濃度０．８％、内圧１ａ
ｔｍでさらにトリアリルイソシアヌレート混合液の１／
４を滴下管からオートクレーブ中に投入すると、投入後
５分経過しても内温の上昇は観測されなかった。６％酸
素含有窒素を加えて２ａｔｍにするとすぐに発熱が観測
された。混合液投入４０分後に反応液のサンプリングを
行ない、1Ｈ−ＮＭＲで測定した投入したアリル基の反
応率は８８％であった（サンプリング４）。この時の気
相部の酸素濃度は１．７％であった。酸素濃度１．７
％、内圧１ａｔｍでさらにトリアリルイソシアヌレート
混合液の１／４を滴下管からオートクレーブ中に投入す
ると、投入後２分経過しても内温の上昇は観測されなか
った。６％酸素含有窒素を加えて２ａｔｍにするとすぐ
に発熱が観測された。混合液投入４０分後に反応液のサ
ンプリングを行ない、 1Ｈ−ＮＭＲで測定した全投入量
に対するアリル基の反応率は７７％であった（サンプリ
ング５）。内圧１ａｔｍにした後に６％酸素含有窒素を
加えて２ａｔｍにし、６０分反応を行なった。サンプリ
ングを行ない、1Ｈ−ＮＭＲで測定した全投入量に対す
るアリル基の反応率は８９％であった（サンプリング
６）。反応液を冷却したところ、ゲルが生成していた。
サンプリング１のＧＰＣを測定すると、この時すでにポ
リスチレン換算分子量４０００以上の高分子量成分が、
全面積の２５％以上生成していた。 （実施例４）５Ｌの四つ口フラスコに、攪拌装置、滴下
漏斗、冷却管をセットした。窒素雰囲気でこのフラスコ
にトルエン１８００ｇ、１，３，５，７−テトラメチル
シクロテトラシロキサン１４４０ｇ（６．０ｍｏｌ）を
入れた。気相部を３％酸素含有窒素で置換し、攪拌しな
がら反応液温を１１０℃に加熱した。トリアリルイソシ
アヌレート２００ｇ（０．８０ｍｏｌ）、トルエン２０
０ｇ及び白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液（白
金として３ｗｔ％含有）１．４４ｍｌの混合液を３０分
かけて発熱状態を維持しながら連続的に滴下した。滴下
終了３０分後より約２０分間隔で、内容積１Ｌのバルー
ンに入れた３％酸素含有窒素を気相部に送り込んで気体
の置換を行なった。滴下終了から５時間反応を行ない1
Ｈ−ＮＭＲで反応率アリル基反応率９５％以上１００％
未満を確認した後、未反応の１，３，５，７−テトラメ
チルシクロテトラシロキサン及びトルエンを減圧留去し
た。微黄色の液体が得られ、最終のアリル基反応率は９
６％、粘度は２．２Ｐａ・ｓであった。本生成物は冷蔵
庫で３ヵ月以上保存してもほとんど増粘はなかった。 （比較例１）２００ｍｌの四つ口フラスコに、攪拌装
置、滴下漏斗、冷却管をセットした。窒素雰囲気下でこ
のフラスコにトルエン４５ｇ、１，３，５，７−テトラ
メチルシクロテトラシロキサン３６ｇ（０．１５ｍｏ
ｌ）を入れ、攪拌しながら反応液温を８０℃に加熱し
た。トリアリルイソシアヌレート５．０ｇ（０．０２１
ｍｏｌ）、トルエン５．０ｇ及び白金ビニルシロキサン
錯体のキシレン溶液（白金として３ｗｔ％含有）４５．
２μｌの混合液を５分かけて連続的に滴下した。滴下終
了後１００℃で２時間反応させた。1Ｈ−ＮＭＲで反応
率アリル基反応率９５％以上１００％未満を確認した
後、未反応の１，３，５，７−テトラメチルシクロテト
ラシロキサン及びトルエンを減圧留去した。微黄色の液
体が得られ、最終のアリル基反応率は９６％、ＳｉＨ当
量は８．５ｍｍｏｌ／ｇであった。小スケールであれ
ば、窒素雰囲気下でもＳｉＨ基を含有する含窒素有機系
化合物は製造可能な例である。 （実施例５）５Ｌの四つ口フラスコに、攪拌装置、滴下
漏斗、冷却管をセットした。このフラスコにトルエン１
３８０ｇ、１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラ
シロキサン１３６０ｇ（５．６ｍｏｌ）を入れた。気相
部を３％酸素含有窒素で置換し、１０５℃のオイルバス
中で加熱、攪拌した。ジアリルモノグリシジルイソシア
ヌレート３００ｇ（１．１ｍｏｌ）、トルエン３００ｇ
及び白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液（白金と
して３ｗｔ％含有）１．３６ｍｌの混合液を３０分かけ
て連続的に滴下した。得られた溶液をそのまま１時間加
温、攪拌した後、未反応の１，３，５，７−テトラメチ
ルシクロテトラシロキサン及びトルエンを減圧留去し
た。1Ｈ−ＮＭＲによりこのものは１，３，５，７−テ
トラメチルシクロテトラシロキサンのＳｉＨ基の一部が
ジアリルモノグリシジルイソシアヌレートと反応したも
のであることがわかった。最終のアリル基反応率は９８
％であった。また、１，２−ジブロモメタンを内部標準
に用いて1Ｈ−ＮＭＲによりＳｉＨ基の含有量を求めた
ところ、８．７３ｍｍｏｌ／ｇのＳｉＨ基を含有してい
ることがわかった。生成物は混合物であるが、下記のも
のを主成分として含有している。
【００５６】
【化２２】
本生成物は冷蔵庫で３ヵ月以上保存してもほとんど増粘
はなかった。 （実施例６）５Ｌの四つ口フラスコに、攪拌装置、滴下
漏斗、冷却管をセットした。窒素雰囲気でこのフラスコ
にトルエン１８００ｇ、ＳｉＨ基含有化合物（１，３，
５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン９０重量
％、１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシ
ロキサン７重量％、１，３，５，７，９−ペンタメチル
シクロペンタシロキサン３重量％の混合物）１４４０ｇ
を入れた。気相部を３％酸素含有窒素で置換し、攪拌し
ながら反応液温を１００℃に加熱した。トリアリルイソ
シアヌレート２００ｇ（０．８０ｍｏｌ）、トルエン２
００ｇ及び白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液
（白金として３ｗｔ％含有）１．４４ｍｌの混合液を２
０分かけて発熱状態を維持しながら連続的に滴下した。
滴下終了３０分後より約２０分間隔で、内容積１Ｌのバ
ルーンに入れた３％酸素含有窒素を気相部に送り込んで
気体の置換を行なった。滴下終了から１２．５時間反応
を行ない1Ｈ−ＮＭＲで反応率アリル基反応率９５％以
上１００％未満を確認した後、未反応のＳｉＨ基含有化
合物及びトルエンを減圧留去した。微黄色の液体が得ら
れ、最終のアリル基反応率は９７％であった。本生成物
は冷蔵庫で３ヵ月以上保存してもほとんど増粘はなかっ
た。
はなかった。 （実施例６）５Ｌの四つ口フラスコに、攪拌装置、滴下
漏斗、冷却管をセットした。窒素雰囲気でこのフラスコ
にトルエン１８００ｇ、ＳｉＨ基含有化合物（１，３，
５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン９０重量
％、１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシ
ロキサン７重量％、１，３，５，７，９−ペンタメチル
シクロペンタシロキサン３重量％の混合物）１４４０ｇ
を入れた。気相部を３％酸素含有窒素で置換し、攪拌し
ながら反応液温を１００℃に加熱した。トリアリルイソ
シアヌレート２００ｇ（０．８０ｍｏｌ）、トルエン２
００ｇ及び白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液
（白金として３ｗｔ％含有）１．４４ｍｌの混合液を２
０分かけて発熱状態を維持しながら連続的に滴下した。
滴下終了３０分後より約２０分間隔で、内容積１Ｌのバ
ルーンに入れた３％酸素含有窒素を気相部に送り込んで
気体の置換を行なった。滴下終了から１２．５時間反応
を行ない1Ｈ−ＮＭＲで反応率アリル基反応率９５％以
上１００％未満を確認した後、未反応のＳｉＨ基含有化
合物及びトルエンを減圧留去した。微黄色の液体が得ら
れ、最終のアリル基反応率は９７％であった。本生成物
は冷蔵庫で３ヵ月以上保存してもほとんど増粘はなかっ
た。
【００５７】
【発明の効果】本発明の製造方法によれば、安定的にＳ
ｉＨ基を有する含窒素有機系化合物を製造できる。
ｉＨ基を有する含窒素有機系化合物を製造できる。
【図１】実施例における反応時間とアリル基反応率の関
係を示す曲線を示す。
係を示す曲線を示す。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 岡田 賢治
大阪府摂津市鳥飼西５丁目１−１ 鐘淵化
学工業株式会社大阪工場内
(72)発明者 大内 克哉
大阪府摂津市鳥飼西５丁目１−１ 鐘淵化
学工業株式会社大阪工場内
(72)発明者 萩森 茂
大阪府摂津市鳥飼西５丁目１−１ 鐘淵化
学工業株式会社大阪工場内
Ｆターム(参考） 4H039 CA92 CF10
4H049 VN01 VP08 VP09 VQ02 VQ60
VQ86 VR11 VR21 VR42 VS02
VS85 VT17
4J035 BA02 CA02U CA18M EB01
EB03 LA03 LB01 LB03 LB20
Claims (5)
- 【請求項１】ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重
結合を１分子中に少なくとも２個含有する含窒素有機化
合物（Ａ）とＳｉＨ基を１分子中に少なくとも２個含有
する化合物（Ｂ）を金属原子を含有するヒドロシリル化
触媒（Ｃ）の存在下で反応させてＳｉＨ基を含有する含
窒素有機系化合物を製造する際に、酸素（Ｄ）の存在し
た状態でヒドロシリル化反応を行ない、（Ａ）成分中の
ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合が残存し
た状態で反応を終了することを特徴とする、ＳｉＨ基を
含有する含窒素有機系化合物の製造方法。 - 【請求項２】ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重
結合を１分子中に少なくとも２個含有する含窒素有機化
合物（Ａ）が、下記一般式（１） 【化１】 （式中Ｒ1は炭素数１〜５０の一価の有機基を表し、そ
れぞれのＲ1は異なっていても同一であってもよく、こ
れらＲ1の少なくとも２個はＳｉＨ基と反応性を有する
炭素−炭素二重結合を有する基である。）で表されるイ
ソシアヌル酸系化合物、下記一般式（２） 【化２】 （式中Ｒ1は炭素数１〜５０の一価の有機基を表し、そ
れぞれのＲ1は異なっていても同一であってもよく、こ
れらＲ1の少なくとも２個はＳｉＨ基と反応性を有する
炭素−炭素二重結合を有する基である。）で表されるシ
アヌル酸系化合物、下記一般式（３） 【化３】 （式中Ｒ2は炭素数４〜３０の４価の有機基を表し、Ｒ3
はＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を有す
る炭素数１〜５０の一価の有機基を表し、それぞれのＲ
3は異なっていても同一であってもよい。）で表される
イミド系化合物、からなる群より選ばれる少なくとも一
の成分である、請求項１に記載のＳｉＨ基を含有する含
窒素有機系化合物の製造方法。 - 【請求項３】ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重
結合を１分子中に少なくとも２個含有する含窒素有機化
合物（Ａ）が、下記一般式（４） 【化４】 （式中Ｒ3はＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重
結合を含有する炭素数１〜５０の一価の有機基を表
す。）で表されるＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素
二重結合を有する基を、１分子中に少なくとも２個含有
する含窒素有機化合物である、請求項１に記載のＳｉＨ
基を含有する含窒素有機系化合物の製造方法。 - 【請求項４】ＳｉＨ基を１分子中に少なくとも２個含有
する化合物（Ｂ）が、常圧における沸点が２００℃以下
である、請求項１ないし３のいずれか１項に記載のＳｉ
Ｈ基を含有する含窒素有機系化合物の製造方法。 - 【請求項５】ＳｉＨ基を１分子中に少なくとも２個含有
する化合物（Ｂ）が、１，３，５−トリメチルシクロト
リシロキサン、１，３，５，７−テトラメチルシクロテ
トラシロキサン、１，３，５，７，９−ペンタメチルシ
クロペンタシロキサンからなる群より選ばれる少なくと
も一の成分である、請求項４に記載のＳｉＨ基を含有す
る含窒素有機系化合物の製造方法。
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