JP2003331464A - 光ディスク記録媒体およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高い再生効率で、且つ高い記録密度でホログ
ラムを記録することができる光ディスク記録媒体を提供
する。 【解決手段】 一方の面に物理的なプリフォーマットが
施された第１の基板１１と、この第１の基板１１のプリ
フォーマットが施された面上に形成された反射膜１２
と、反射膜１２の上に形成された厚さが５０μｍ〜４３
０μｍの透明層１３と、この透明層１３との間に所定の
間隔を空けて配置された透明体からなる第２の基板１５
と、透明層１３と第２の基板１５との間に充填されたホ
ログラム記録用の記録層１４とを備えた。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、ホログラムを記
録するための記録層を有する光ディスク記録媒体および
その製造方法に関し、特にデフォーカス用の透明層を介
して記録層とプリフォーマットされた反射層とが対向す
る光ディスク記録媒体およびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、ホログラムによって光ディス
ク記録媒体に情報を超高密度で記録するホログラフィッ
ク記録方式が知られている。このホログラフィック記録
方式では、イメージ情報を担持する情報光と記録用参照
光とを光ディスク記録媒体の内部の記録層内で重ね合わ
せて干渉縞パターンを生成し、この干渉縞パターンを光
ディスク記録媒体の記録層に記録することによってイメ
ージ情報の書き込みが行われる。記録された干渉縞パタ
ーンから情報を再生する場合には、その光ディスク記録
媒体中に記録された干渉縞パターンに書込時と同様の再
生用参照光を照射し、干渉縞パターンによって回折を生
じさせてイメージ情報を再生する。

【０００３】近年では、光ディスク記録媒体の記録層の
厚み方向も利用して、干渉縞パターンを３次元的に書き
込むことにより、記録密度を更に増加させるようにした
ボリュームホログラフィの開発が注目されている。この
ボリュームホログラフィによる記録方式を利用し、更に
多重記録を行うことによって情報の記録容量を飛躍的に
増大させることができる。

【０００４】このようなボリュームホログラフィによる
光ディスク記録媒体への情報記録及び再生に係る装置及
びその方法が、国際公開番号ＷＯ９９／４４１９５号に
開示されている。本発明を理解するために、同公開公報
に記載のボリュームホログラフィを記録する光ディスク
記録媒体について簡単に説明する。図１３に示すよう
に、光ディスク記録媒体１０１は、円形の透明基板１０
１ａ，１０１ｂの間にホログラム記録用の記録層１０１
ｃを設けると共に、透明基板１０１ｂの記録層１０１ｃ
とは反対側の面に反射膜１０１ｄを形成し、これらを基
板１０１ｅと貼り合わせて構成され、反射膜１０１ｄに
は、光ディスク記録媒体１０１の半径方向に複数のアド
レスサーボ領域が所定の角度間隔で配列され、周方向に
並ぶこれらアドレスサーボ領域間には、情報記録領域が
設けられている。アドレスサーボ領域には、フォーカス
サーボ制御やトラッキングサーボ制御を行うためのサー
ボ情報及び情報記録領域に対するアドレス情報が、予め
エンボスピット１０１ｆによって記録（プリフォーマッ
ト）してある。

【０００５】光ディスク記録媒体の具体的な構成として
は、透明基板１０１ａ，１０１ｂが、例えば５００μｍ
程度の厚みを有し、記録層１０１ｃが、例えば２００μ
ｍの厚みを有している。記録層１０１ｃは、レーザ光で
所定時間照射されたときに、レーザ光の強度に応じて屈
折率、誘電率及び反射率等の光学特性が変化するホログ
ラム記録材料によって形成されている。

【０００６】ボリュームホログラフィによる記録層１０
１ｃへの記録の一例としては、図示のように、記録すべ
き情報を担持する情報光１１１と記録用参照光１１２と
が記録層１０１ｃ内において、厚み方向の干渉縞を生成
するように、透明基板１０１ａ側から情報光１１１と記
録用参照光１１２とを同時に所定時間照射して、記録層
１０１ｃ内に干渉縞パターンを立体的に定着させること
により情報を立体的なホログラムとして記録する。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ところで、記録層１０
１ｃに記録すべき情報は、図１４に示すような空間光変
調器１１３により与えられる二次元的に配列された情報
パターンである。この情報パターンは、空間光変調器を
構成する二次元配列された各ドット１１４の光の透過・
非透過を制御することにより得られる。この場合、ホロ
グラム面上には、ドット１１４の配列ピッチｐ_Dとレンズ
の焦点距離ｆおよび記録光の波長λで決定される周期で
スパイク状の光強度分布が得られ、これが線形的記録を
阻害する。このため、従来は、ホログラム面を焦点距離
から若干ずらすことにより、光強度分布を平均化するデ
フォーカス法が用いられる。また、特にエンボスピット
１０１ｆが形成された記録媒体の場合、記録層１０１ｃ
とエンボスピット１０１ｆとがあまり近いと、ホログラ
ム記録再生上不都合を生じる。このため、記録層１０１
ｃと反射膜１０１ｄとの間には、所定の厚さの透明基板
１０１ｂが挿入される。

【０００８】しかしながら、透明基板１０１ｂの厚みが
厚すぎると、記録されるホログラムの径Ｄが大きくなり
すぎてしまい、記録密度が低下してしまう。また、記録
密度を高めようとすると、隣接するホログラム同士のオ
ーバーラップが生じる。１００％の回折効率が得られる
ホログラムをいくつ多重化できるかを示す数値をＭナン
バーと呼び、このＭナンバーは記録材料によって決定さ
れる。ホログラムの多重化数をＭとすれば、再生効率η
は、Ｍナンバーを多重化数Ｍで割った値の二乗に比例す
る。このため、再生効率を高めるためには、極力多重化
数Ｍを減らすことが必要である。このためには、透明基
板１０１ｂが適切な厚みであることが必要である。

【０００９】本発明は、このような点に鑑みなされたも
ので、高い再生効率が得られ、且つ高い記録密度での記
録が可能な光ディスク記録媒体およびその製造方法を提
供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明に係る第１の光デ
ィスク記録媒体は、一方の面に物理的なプリフォーマッ
トが施された第１の基板と、この第１の基板のプリフォ
ーマットが施された面上に形成された反射膜と、前記反
射膜の上に形成された厚さが５０μｍ〜４３０μｍの透
明層と、この透明層との間に所定の間隔を空けて配置さ
れた透明体からなる第２の基板と、前記透明層と前記第
２の基板との間に充填されたホログラム記録用の記録層
とを備えたことを特徴とする。

【００１１】また、本発明に係る第２の光ディスク記録
媒体は、一方の面に物理的なプリフォーマットが施され
た厚さが５０μｍ〜４３０μｍの透明フィルムと、この
透明フィルムのプリフォーマットが施された面上に形成
された反射膜と、前記反射膜を介して前記透明フィルム
を保持する第１の基板と、前記透明フィルムとの間に所
定の間隔を空けて配置された透明体からなる第２の基板
と、前記透明層と前記第２の基板との間に充填されたホ
ログラム記録用の記録層とを備えたことを特徴とする。

【００１２】ここで、透明層の厚さが５０〜４３０μｍ
に規定されているのは、以下の理由による。すなわち、
いま、図１４に示された空間光変調器１１３の各ドット
の直径をｄ_Dとすると、１つの円形ドットが与える回折
パターンは、次式で与えられる。

【００１３】

【数１】 Ｅ（θ）＝Ｊ₁（ｄ_Dθｒ／λ）／（ｄ_Dθｒ／λ）

【００１４】ここで、図１５に示すように、Ｊ₁（ｘ）
／ｘは、Airy関数と呼ばれ、sinｘ／ｘと波形的には類
似するが、最初の零点がｘ＝±１．２２に現れる関数で
ある。従って、ホログラムが少なくとも回折パターンの
最初の零点間の情報は全部収めるものと仮定すると、そ
の最小径ｄ_Hは、次式で与えられる。

【００１５】

【数２】ｄ_H＝２．４４ｆλ／ｄ_D

【００１６】但し、ｆはレンズの焦点距離、λは記録光
の波長である。ここで、波長λとして現在利用可能なも
のは、３９０ｎｍ〜６５０ｎｍである。また、レンズの
焦点距離としては３ｍｍが平均的である。更に、空間光
変調器１１３のドットの直径ｄ_Dとしては、１３．７μ
ｍまたは１７μｍが使用されている。従って、λ＝６５
０ｎｍ、ｄ_D＝１３．７μｍとすると、

【００１７】

【数３】 ｄ_H＝２．４４×３×１０^-3×６５０×１０^-9／１３．７×１０^-6 ≒３４７μｍ

【００１８】となる。同様に、λ＝３９０ｎｍ、ｄ_D＝
１７μｍとすると、

【００１９】

【数４】 ｄ_H＝２．４４×３×１０^-3×３９０×１０^-9／１７×１０^-6 ≒１６８μｍ

【００２０】となる。光ディスク記録媒体の内部の屈折
率ｎ≒１．５２とすると、媒体内では波長が１／１．５
２倍になるので、

【００２１】

【数５】λ＝６５０ｎｍ、ｄ_D＝１３．７μｍの場合 ｄ_H≒２２８μｍ λ＝３９０ｎｍ、ｄ_D＝１７μｍの場合 ｄ_H≒１１０μｍ

【００２２】となる。ここで、図１６に示すように、レ
ンズ１１５のＮＡ（開口数）＝０．５とすると、θ₀＝
３０°である。ただし、媒体内部では、スネルの法則に
より、

【００２３】

【数６】ｎ₀sinθ₀＝ｎ₁sinθ₁ ｎ₀＝１．０（空気），ｎ₁＝１．５２（ガラス）

【００２４】であるから、

【００２５】

【数７】 θ₁＝sin^-1（sinθ₀／ｎ₁） ＝sin^-1（ＮＡ／ｎ₁） ≒１９．２°

【００２６】ここで、２ε≒ｄ_Hという経験則に従う
と、

【００２７】

【数８】λ＝６５０ｎｍ、ｄ_D＝１３．７μｍの場合 ２ε≒２２８μｍ λ＝３９０ｎｍ、ｄ_D＝１７μｍの場合 ２ε≒１１０μｍ

【００２８】従って、焦点面からホログラム形成面まで
の距離Δｆは次のように求められる。

【００２９】

【数９】λ＝６５０ｎｍ、ｄ_D＝１３．７μｍの場合 Δｆ＝（２２８／２）（１／tan１９．２°） ≒３２７μｍ λ＝３９０ｎｍ、ｄ_D＝１７μｍの場合 Δｆ＝（１１０／２）（１／tan１９．２°） ≒１５８μｍ

【００３０】通常、記録層の厚みは、２００μｍである
から、ホログラム面（焦点位置からΔｆだけ離れた位
置）を記録層の中心当たりに位置させるとすれば、透明
層の厚みは、５０μｍ〜４３０μｍとなる。また、ベス
トモードをλ＝５３２ｎｍ、ｄ_D＝１３．７μｍとする
と、

【００３１】

【数１０】 ２ε＝ｄ_H ＝２．４４×３×１０^-3×５３２×１０^-9 ／（１．５２×１３．７×１０^-6） ≒１８７μｍ

【００３２】従って、Δｆは、

【００３３】

【数１１】 Δｆ＝（１８７／２）（１／tan１９．２°） ≒２６８μｍ

【００３４】となる。よって、透明層の厚みは、約２０
０μｍがベストモードである。また、記録層を安定に保
持するためには、第１および第２の基板の厚さは、０．
５ｍｍ以上であることが望ましい。

【００３５】本発明に係る第１の光ディスク記録媒体の
製造方法は、第１の基板の一方の面上にエンボスピット
を形成する工程と、前記第１の基板のエンボスビットが
形成された面に反射膜を形成する工程と、前記第１の基
板の前記反射膜が形成された面上に厚さ５０μｍ〜４３
０μｍの透明層を形成する工程と、前記透明層が内側に
配置されるように、前記第１の基板と所定の間隔を空け
て透明な第２の基板を配置する工程と、前記第１の基板
と前記第２の基板との間にホログラム記録用の記録材料
を充填して記録層を形成する工程とを備えたことを特徴
とする。

【００３６】ここで、透明層を形成する工程は、例えば
透明フィルムを、第１の基板の反射膜が形成された面上
に接着する工程である。

【００３７】また、本発明に係る第２の光ディスク記録
媒体の製造方法は、５０μｍ〜４３０μｍの透明フィル
ムの一方の面上にエンボスピットを形成する工程と、前
記透明フィルムのエンボスピットを形成した面に反射膜
を形成する工程と、前記透明フィルムを前記反射膜を介
して第１の基板に接着する工程と、前記透明フィルムが
内側に配置されるように、前記第１の基板と所定の間隔
を空けて透明な第２の基板を配置する工程と、前記第１
の基板と前記第２の基板との間にホログラム記録用の記
録材料を充填して記録層を形成する工程とを備えたこと
を特徴とする。

【００３８】なお、これらの光ディスク記録媒体の製造
方法において、記録材料を充填する工程は、例えば第１
および第２の基板の間の空間を減圧して記録材料を充填
する工程である。

【００３９】本発明の光ディスク記録媒体の製造方法に
よれば、透明層と第２の基板との間に先ず記録層を充填
するのではなく、透明層が第１の基板上に形成されてか
ら、第１の基板と第２の基板との間に記録材料の充填が
なされるため、透明層を５０〜４３０μｍと薄くした場
合でも、第１の基板の存在により、記録材料の充填を支
障なく行うことができる。

【００４０】また、本発明の第３の光ディスク記録媒体
の製造方法は、第１の基板の一方の面上にエンボスピッ
トを形成する工程と、前記第１の基板のエンボスピット
が形成された面に反射膜を形成する工程と、厚さ５０μ
ｍ〜４３０μｍの透明板をホルダの上面に固定してその
上に液体状の記録材料を塗布し、その上から透明な第２
の基板を押し付けて前記透明板と第２の基板との間に前
記記録材料からなる記録層を形成してなる三層構造体を
形成する工程と、前記反射膜が形成された第１の基板と
前記三層構造体とを前記反射膜および透明板を内側にし
て張り合わせる工程とを備えたことを特徴とする。

【００４１】

【発明の実施の形態】以下、添付の図面を参照して、本
発明の実施の形態について説明する。図１は、この発明
の一実施形態に係る光ディスク記録媒体を説明するため
の図である。図１に示すように、円板状の光ディスク記
録媒体１は、周方向に分割された複数のフレーム２（こ
の例では、フレーム＃００〜＃９７）を備え、これら各
フレーム２は、更に周方向に分割された複数のセグメン
ト３（この例では、セグメント＃００〜＃１３）から構
成されている。各セグメント３は、サーボ領域６と、一
部の隣接するサーボ領域６間を除いてはホログラム記録
領域７とを備え、一部の隣接するサーボ領域６間（この
例では、セグメント＃００のサーボ領域６とセグメント
＃０１のサーボ領域６間）には、アクセス位置を示すア
ドレス情報が記録されたアドレス領域８が形成されてい
る。

【００４２】各サーボ領域６には、光ディスク記録・再
生装置における各種の動作のタイミングの基準となるサ
ーボクロックピットと、例えばサンプルド・サーボ方式
によってフォーカスサーボ及びトラッキングサーボを行
うためのサーボピットとが予めエンボスピットにより記
録されている。アドレス領域８には、プリ・アンブル、
同期マーク、アドレスパート、エンドアドレスマーク、
ポスト同期マーク及びポスト・アンブルが予めエンボス
ピットにより記録されている。ホログラムの記録の際に
は、このアドレス領域８にプリフォーマットされている
情報を利用して、各ホログラム記録領域７の情報記録位
置に対する光ヘッドからの情報光、記録用参照光及び再
生用参照光の照射位置の位置合わせを行う。光ディスク
記録・再生装置は、サーボ領域６に記録されているサー
ボクロックピット及びサーボピットを利用してフォーカ
シングやトラッキングを行うと共に、アドレス領域８に
記録されているアドレス情報を検出して各ホログラム記
録領域７における情報光、記録用参照光及び再生用参照
光の照射位置を合わせている。ホログラム記録領域７
は、エンボスビットによる物理フォーマットが施されて
いないミラー領域である。

【００４３】図２は、この光ディスク記録媒体１の拡大
した部分断面図である。光ディスク記録媒体１は、図中
下から順に、円形の第１の基板１１、反射膜１２、透明
層１３、記録層１４および第２の基板１５を積層して構
成されている。第１の基板１１と透明層１３の間の反射
膜１２の部分には、アドレス情報やサーボ情報等を示す
エンボスピット１６が形成されている。第１の基板１１
としては、厚さ０．６〜１．２ｍｍのガラスまたはポリ
カーボネート等の樹脂が使用される。反射膜１２は、例
えばＡｌの蒸着層である。透明層１３は、厚さ５０〜４
３０μｍ、好ましくは２００μｍで、透明度が高く、複
屈折が少なく、吸水率が小さいポリエーテルサルフォ
ン、ポリカーボネート、ポリオレフィン、ガラス等が用
いられる。記録層１４はレーザ光で所定時間照射された
ときに、レーザ光の強度に応じて屈折率、誘電率及び反
射率等の光学特性が変化するホログラム記録材料によっ
て形成されており、例えばデュポン（Dupont）社製のフ
ォトポリマ（Photopolymers）ＨＲＦ−６００（製品
名）等が使用される。この記録層１４は、厚さ約２００
μｍに設定されている。第２の基板１５としては、厚さ
０．５ｍｍのガラスまたはポリカーボネート等の樹脂が
使用される。

【００４４】次に、このように構成された光ディスク記
録媒体１の製造方法について説明する。図３は、第１の
実施形態に係る光ディスク記録媒体１の製造工程を示す
フローチャート、図４および図５は、同実施形態におけ
る光ディスク記録媒体１の製造工程に沿った部分拡大断
面図である。先ず、図４（ａ）に示すように、第１の基
板１１上にエンボスピット１６を形成する（Ｓ１１）。
第１の基板１１がガラス基板である場合には、例えばガ
ラス基板の上にＵＶ（紫外線）硬化樹脂をエンボスピッ
トの凹凸の深さに相当する厚み分だけ塗布し、図示しな
いスタンパをＵＶ硬化樹脂に押し当てながら、反対側か
らＵＶを照射することによりエンボスピットを形成する
ことができる。また、第１の基板１１がポリカーボネー
ト等の樹脂の場合には、直接モールド成形によってエン
ボスピット付きの基板を形成することができる。

【００４５】次に、図４（ｂ）に示すように、第１の基
板１１のエンボスピット１６が形成された面にＡｌの蒸
着などによって反射膜１２を形成する（Ｓ１２）。続い
て、図４（ｃ）に示すように、第１の基板１１の反射膜
１２が形成された面に、厚さ２００μｍの樹脂フィルム
を透明な接着剤１７を用いて接着することにより透明層
１３を形成する。なお、透明層１３は、膜厚が制御可能
であれば、スピンコート等により形成することもでき
る。続いて、図５（ａ）に示すように、透明層１３が形
成された第１の基板１１と約２００μｍの間隔を空け
て、第２の基板１５を配置する（Ｓ１４）。そして最後
に、図５（ｂ）に示すように、透明層１３と第２の基板
１５との隙間に、記録材料を充填して記録層１４を形成
する（Ｓ１５）。

【００４６】図６および図７は、記録材料の具体的な充
填方法を説明するための図である。図６（ａ），（ｂ）
に示すように、透明層１３が形成された円形の第１の基
板１１と円形の第２の基板１５との間は、その外周部お
よび内周部に挿入されたスペーサ１７によって所定の隙
間１８を確保する。外周部のスペーサ１７の一部は開口
部１９となっており、この開口部１９を介して隙間１８
と外部とが連通している。

【００４７】このように形成されたディスク１´を真空
チャンバ２１内に収容する。真空チャンバ２１内には、
更に記録材料である液体感光剤２２を満たした容器２３
が配置される。この状態で真空ポンプを駆動して真空チ
ャンバ２１内を減圧する。この場合、第１の基板１１と
第２の基板１５に挟まれた隙間１８も開口部１９を介し
て外部と同圧となるので、圧力による反り等は発生しな
い。

【００４８】真空チャンバ２１内を所定圧まで減圧した
ら、ディスク１´の開口部１９を液体感光剤２２の液面
よりも少し沈める。そして、真空チャンバ２１内の圧力
を常圧に戻す。この場合、ディスク１´の隙間１８は、
減圧されたままなので、液体感光剤２２は隙間１８に吸
い上げられる。隙間１８に液体感光剤２２が行き渡った
ら、ディクス１´を真空チャンバ２１内から取り出し、
接液部に付着している感光剤を拭き取る。ここで、開口
部１９と反対側に小さい気泡が残る可能性がある。その
場合には、開口部１９を上にして、暫く放置する。これ
により気泡が開口部１９を介して外部に放射される。最
後に、開口部１９のみに強い紫外線を照射し、感光剤を
硬化させて開口部１９を防ぐ。

【００４９】図８は、第２の実施形態に係る光ディスク
記録媒体１の製造工程を示すフローチャート、図９は、
同実施形態における光ディスク記録媒体１の製造工程に
沿った部分拡大断面図である。先ず、図９（ａ）に示す
ように、２００μｍの樹脂フィルム３１の下面にエンボ
スピット３２を形成する（Ｓ２１）。例えば、樹脂フィ
ルム３１の下面にＵＶ硬化樹脂３３を塗布し、スタンパ
３４を押し当てて、エンボスピット３２を形成する。続
いて、図９（ｂ）に示すように、透明フィルム３１のエ
ンボスピット３２を形成した面に、反射膜１２をＡｌ蒸
着などにより形成する（Ｓ２２）。そして、エンボスピ
ット１６が形成された樹脂フィルム３１を、接着剤３５
を介して第１の基板１１上に接着する（Ｓ２３）。以後
の工程は、先の実施形態と同様であるため、詳しい説明
は割愛する。

【００５０】図１０は、第３の実施形態に係る光ディス
ク記録媒体１の製造工程を示すフローチャート、図１１
および図１２は、同実施形態における光ディスク記録媒
体１の製造工程に沿った部分拡大断面図である。先ず、
第１の実施形態と同様の方法で、第１の基板１１上にエ
ンボスピット１６を形成する（Ｓ３１）。次に、第１の
実施形態と同様の方法で、第１の基板１１のエンボスピ
ット１６が形成された面にＡｌの蒸着などによって反射
膜１２を形成する（Ｓ３２）。

【００５１】次に、５０〜４３０μｍの透明層１３と第
２の基板１５との間に記録層１４が形成された三層構造
体を作成する（Ｓ３３）。この三層構造体は、例えば次
のように作成することができる。すなわち、図１１
（ａ）に示すように、上下に対向するホルダ４１，４２
のうち、下側ホルダ４１の上に、５０〜４３０μｍ、好
ましくは２００μｍの透明層１３を形成する円板状で中
心孔４３ａを有するガラス等からなる透明板４３を配置
し、エアーの吸引力によって透明板４３を保持する。ま
た、上側ホルダ４２の下面に厚さ５００μｍ程度の円板
状で中心孔１５ａを有する第２の基板１５を配置し、第
２の基板１５をエアーの吸引力によって保持する。透明
板４３の内周部と外周部には、約２００μｍの厚みを有
するスペーサ４４を装着しておく。記録層１４を形成す
る液体状の記録材料４５を透明板４３の所定の半径位置
にリング状に塗布し、上側ホルダ４２に保持された第２
の基板１５を透明板４３に押し付けて、記録材料４５を
第２の基板１５と透明板４３の間の２００μｍの隙間に
記録材料４５を薄く伸ばして充填する。このようにして
三層構造体４６が形成される。

【００５２】次に、図１２に示すように、エンボスピッ
ト１６および反射膜１２が形成された第１の基板１１
を、反射膜１２を上にして回転テーブル５１の上に中心
位置決めして装着し、反射膜１２側の最内周部と最外周
部とに両面接着テープ４７を貼り付け、反射膜１２側の
最内周部に、例えばエポキシ系接着剤や嫌気性瞬間接着
剤等の液体状の接着剤４８をリング状に塗布する。次
に、接着剤４８が塗布された第１の基板１１の上に、上
側ホルダ５１に保持されていた三層構造体４６を透明層
１３が下になるように乗せ、回転テーブル５１を回転さ
せると、接着剤４８は遠心力により外側に流れて行き、
反射膜１２の全面に広がる。そして、接着剤４８が固化
することにより、反射膜１２が形成された第１の基板１
１と三層構造体４６とが張り合わされる。

【００５３】なお、以上の各実施形態では、透明層１３を
２００μｍとしたが、５０〜４３０μｍの間で任意の厚
さとすることができる。また、第１の基板１１や樹脂フ
ィルム３１の表面に反射膜１２を形成する場合、製造過
程で反射膜１２の表面が腐食したり反射膜１２の表面に
傷などが付かないように、反射膜１２の表面に保護膜を
形成するようにしても良い。

【００５４】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
記録層と反射膜との間の透明層の厚みを適切な値に設定
したので、高い再生効率が得られ、且つ高い記録密度で
の記録が可能になるという効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】 この発明の一実施形態に係る光ディスク記録
媒体を説明するための図である。

【図２】 同光ディスク記録媒体の拡大した部分断面図
である。

【図３】 同光ディスク記録媒体の製造方法を示すフロ
ーチャートである。

【図４】 同光ディスク記録媒体の製造工程に沿った拡
大部分断面図である。

【図５】 同光ディスク記録媒体の製造工程に沿った拡
大部分断面図である。

【図６】 同光ディスク記録媒体の記録材料の充填工程
を説明するための図である。

【図７】 同光ディスク記録媒体の記録材料の充填工程
を説明するための図である。

【図８】 同光ディスク記録媒体の製造方法を示すフロ
ーチャートである。

【図９】 同光ディスク記録媒体の製造工程に沿った拡
大部分断面図である。

【図１０】 本発明の第３の実施形態に係る光ディス記
録媒体の製造方法を示すフローチャートである。

【図１１】 同光ディスク記録媒体の製造工程に沿った
拡大部分断面図である。

【図１２】 同光ディスク記録媒体の製造工程に沿った
拡大部分断面図である。

【図１３】 従来の光ディスク記録媒体の拡大部分断面
図である。

【図１４】 光ディスク記録媒体に書き込む二次元デー
タを生成する空間光変調器を示す図である。

【図１５】 １つのドットによって形成される回折パタ
ーンを示す図である。

【図１６】 光ディスク記録媒体への記録時の媒体とレ
ンズとの間の関係を示す図である。

【符号の説明】

１…光ディスク記録媒体、１１…第１の基板、１２…反
射膜、１３…透明層、１４…記録層、１５…第２の基
板、１６…エンボスピット。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 堀米 秀嘉 神奈川県横浜市港北区新横浜２−５−１ 日総第13ビル７階 株式会社オプトウェア 内 (72)発明者 木下 昌治 神奈川県横浜市港北区新横浜２−５−１ 日総第13ビル７階 株式会社オプトウェア 内 (72)発明者 田中 善喜 茨城県真壁郡明野町宮後2193 メモリーテ ック株式会社内 (72)発明者 高谷 佳弘 茨城県真壁郡明野町宮後2193 メモリーテ ック株式会社内 Ｆターム(参考） 2K008 AA04 DD01 EE04 5D029 NA01 5D090 AA01 BB12 CC12 CC14 DD02 FF14 KK12 KK14

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一方の面に物理的なプリフォーマットが
   施された第１の基板と、 この第１の基板のプリフォーマットが施された面上に形
   成された反射膜と、 前記反射膜の上に形成された厚さが５０μｍ〜４３０μ
   ｍの透明層と、 この透明層との間に所定の間隔を空けて配置された透明
   体からなる第２の基板と、 前記透明層と前記第２の基板との間に充填されたホログ
   ラム記録用の記録層とを備えたことを特徴とする光ディ
   スク記録媒体。
2. 【請求項２】 一方の面に物理的なプリフォーマットが
   施された厚さが５０μｍ〜４３０μｍの透明フィルム
   と、 この透明フィルムのプリフォーマットが施された面上に
   形成された反射膜と、 前記反射膜を介して前記透明フィルムを保持する第１の
   基板と、 前記透明フィルムとの間に所定の間隔を空けて配置され
   た透明体からなる第２の基板と、 前記透明層と前記第２の基板との間に充填されたホログ
   ラム記録用の記録層とを備えたことを特徴とする光ディ
   スク記録媒体。
3. 【請求項３】 前記透明層の厚さは、約２００μｍであ
   ることを特徴とする請求項１または２記載の光ディスク
   記録媒体。
4. 【請求項４】 前記第１および第２の基板の厚さは、
   ０．５ｍｍ以上であることを特徴とする請求項１〜３の
   いずれか１項記載の光ディスク記録媒体。
5. 【請求項５】 第１の基板の一方の面上にエンボスピッ
   トを形成する工程と、 前記第１の基板のエンボスピットが形成された面に反射
   膜を形成する工程と、 前記第１の基板の前記反射膜が形成された面上に厚さ５
   ０μｍ〜４３０μｍの透明層を形成する工程と、 前記透明層が内側に配置されるように、前記第１の基板
   と所定の間隔を空けて透明な第２の基板を配置する工程
   と、 前記第１の基板と前記第２の基板との間にホログラム記
   録用の記録材料を充填して記録層を形成する工程とを備
   えたことを特徴とする光ディスク記録媒体の製造方法。
6. 【請求項６】 前記透明層を形成する工程は、透明フィ
   ルムを前記第１の基板の前記反射膜が形成された面上に
   接着する工程であることを特徴とする請求項５記載の光
   ディスク記録媒体の製造方法。
7. 【請求項７】 ５０μｍ〜４３０μｍの透明フィルムの
   一方の面上にエンボスピットを形成する工程と、 前記透明フィルムのエンボスピットを形成した面に反射
   膜を形成する工程と、 前記透明フィルムを前記反射膜を介して第１の基板に接
   着する工程と、 前記透明フィルムが内側に配置されるように、前記第１
   の基板と所定の間隔を空けて透明な第２の基板を配置す
   る工程と、 前記第１の基板と前記第２の基板との間にホログラム記
   録用の記録材料を充填して記録層を形成する工程とを備
   えたことを特徴とする光ディスク記録媒体の製造方法。
8. 【請求項８】 前記記録材料を充填する工程は、前記第
   １および第２の基板の間の空間を減圧して前記記録材料
   を充填する工程であることを特徴とする請求項５または
   ７記載の光ディスク記録媒体の製造方法。
9. 【請求項９】 第１の基板の一方の面上にエンボスピ
   ットを形成する工程と、 前記第１の基板のエンボスピットが形成された面に反射
   膜を形成する工程と、 厚さ５０μｍ〜４３０μｍの透明板をホルダの上面に固
   定してその上に液体状の記録材料を塗布し、その上から
   透明な第２の基板を押し付けて前記透明板と第２の基板
   との間に前記記録材料からなる記録層を形成してなる三
   層構造体を形成する工程と、 前記反射膜が形成された第１の基板と前記三層構造体と
   を前記反射膜および透明板を内側にして張り合わせる工
   程とを備えたことを特徴とする光ディスク記録媒体の製
   造方法。
10. 【請求項１０】 前記反射膜を形成する工程で形成され
    た反射膜の上に、保護膜を形成する工程を更に含むこと
    を特徴する請求項５，７または９記載の光ディスク記録
    媒体の製造方法。