JP2003329956A - 画像露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光ビームを強度変調するときに安定かつ効率
的に変調することができる画像露光装置を得る。 【解決手段】 光強度変調装置１６に入射された直線偏
光の光ビームＬｐは、偏光ビームスプリッタ３０を透過
してＡＯＭ３６で所定の回折角度をもって回折され、１
／４波長版３８で円偏光の光ビームＬｃに変換された後
に反射板４０で反射され、再度１／４波長版３８を透過
する。このとき、ＡＯＭ３６へ向かう光ビームは、光ビ
ームＬｐと偏光方向がほぼ直交する光ビームＬｓとな
る。この光ビームＬｓは、ＡＯＭ３６で再度回折されて
入射光路を逆方向に伝播されて、偏光ビームスプリッタ
３０で反射されて、光強度変調装置１６から射出され
る。従って、ＡＯＭ３６で回折された光ビームのみを効
率的に抽出でき、レーザ露光装置１０では鮮明な画像を
得ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、画像露光装置にか
かり、特に、光ビームを少なくとも一方向へ走査しなが
ら該光ビームの光量を変調して画像を露光媒体に露光す
る画像露光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体レーザなどの光源から出力される
光ビームを集光光学系によって集光し、その焦点位置に
露光媒体（例えば、高速に回転するドラムの周面に貼り
付けられた記録媒体）を配置し、前記光ビームをドラム
の軸線方向に走査（主走査）しながら、ドラムを回転
（副走査）させることにより、露光媒体上に画像を露光
（記録）する画像露光装置や画像形成装置が知られてい
る（特開平１０−２２８１４９号公報参照）。この場
合、主走査及び副走査をしながら光ビームを変調するこ
とで、画像を露光する。

【０００３】ところで、光ビームを変調するとき、光強
度を変調する光強度変調が用いられる場合がある。周知
のように半導体レーザは、射出される光ビームの強度や
パルス幅などの変調を、その駆動電流の直接変調をする
ことにより実現できる。また、近年では、画像の高密度
化や鮮鋭度の向上の要望などによって、変調のための周
波数はより高周波へ移行している。このため、高速の直
接変調が困難な半導体レーザもあり、このような半導体
レーザは外部変調しなければならなかった。

【０００４】この外部変調のための素子は音響光学変調
素子（以下、ＡＯＭという）が知られている。ＡＯＭは
印加する信号により入射された光ビームに対して回折現
象を生じさせる素子である。すなわち、ＡＯＭ結晶中を
伝播される超音波により生じるグレーティングによって
の回折現象である。この回折強度は、伝播される超音波
の強度に依存する。この回折現象は、ブラッグ回折現象
と同様に、ｎ次回折光が所定の回折角度をなして回折さ
れる。この回折光を取り出す光学系を採用することで、
超音波を伝播させるための部位（トランスデューサ）へ
印加する信号を制御することで回折された光ビームが変
調された光ビームとして用いることができる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ＡＯＭ
を用いて回折光を利用する場合、回折角度が微少である
ため、露光に用いる次数の回折光以外の回折光が、下流
側の光学系に至り、フレア光となって画像露光時の外乱
光として作用することで、画像の露光精度が悪化する場
合がある。また、ＡＯＭでは、強度変調信号に対する応
答時間は数ｎｓｅｃから数十ｎｓｅｃを必要とする。す
なわち、ＡＯＭの回折点においては数十μｍの径に絞ら
れた光ビームに対して、数百乃至数千ｍ／ｓｅｃで伝播
する超音波が作用することで生じる回折現象であるた
め、入力された強度変調信号に対して実際に回折光を得
るには応答時間が必要である。このため、画像濃度をス
テップ状に変動させる階調を有するように露光する場
合、鮮鋭度が高い濃度変動の実現が困難であった。この
ため、残像を有するような所謂「尾引き」のような画像
が露光される場合があった。また、主走査方向に空間周
波数の高いパターンを描画する場合にも鮮鋭度の高い濃
度変動の実現が困難であった。

【０００６】本発明は、上記事実を考慮して、光ビーム
を強度変調するときに安定かつ効率的に変調することが
できる画像露光装置を得ることが目的である。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、光ビームを少なくとも一方向へ走査しなが
ら該光ビームの光量を変調して画像を露光媒体に露光す
る画像露光装置において、所定の偏光状態の光ビームを
出力する光源手段と、入力信号により前記光源手段から
出力された光ビームを回折する音響光学素子と、前記回
折された光ビームを、該回折方向と逆方向に反射する反
射手段と、前記音響光学素子と前記反射手段との光路上
に挿入されかつ、入射光の偏光状態を変更する波長板
と、前記反射手段で反射された光ビームを分離する分離
手段と、を備えたことを特徴とする。

【０００８】本発明の画像露光装置は、光ビームを少な
くとも一方向へ走査しながら該光ビームの光量を変調し
て画像を露光媒体に露光する。例えば露光媒体に光ビー
ムを案内しかつ該光ビームと前記露光媒体との相対的移
動により光ビームを露光媒体に対して予め定めた主走査
方向の主走査及び該主走査方向と交差する副走査方向に
副走査して画像を露光する。その光ビームは半導体レー
ザなどの光源手段により出力される。光源手段は、所定
の偏光状態の光ビームを出力するものであり、半導体レ
ーザなどのように単一構成で所定の偏光状態の光ビーム
を出力するものや、偏光板と光源とを組み合わせた構成
のものがある。例えば、光源手段は、光源に偏光板を付
与して直線偏光の光ビームを供給するものを含む。この
光ビームは、音響光学素子に入射され、音響光学素子へ
の入力信号に応じて回折される。回折された光ビーム
は、波長板により偏光状態が変更され、反射手段へ射出
される。反射手段では、回折されかつ偏光状態が変更さ
れた光ビームを、回折方向と逆方向に反射する。すなわ
ち、反射手段への入射方向と逆方向で同一光路上に光ビ
ームを戻す。反射手段で反射された光ビームは、再度波
長板を透過され、偏光状態が変更された後に、音響光学
素子で回折されて、分離手段へ至る。分離手段では、反
射手段で反射された光ビームを分離する。これによっ
て、分離手段で分離された光ビームは、音響光学素子で
回折された、入力信号に対応する光ビームのみとなり、
入力信号に関与しない光ビームは除外される。

【０００９】前記波長板には、１／４波長板を用いるこ
とができる。１／４波長板では、１度の透過により直線
偏光の光ビームを円偏光の光ビームに偏光状態を変更で
きる。これによって、音響光学素子で回折された光ビー
ムは１／４波長板を２度透過することで、直線偏光の偏
光角度が９０度回転される。従って、分離手段で回転さ
れた偏光角度の光ビームを容易に分離することができ
る。

【００１０】前記分離手段には、偏光ビームスプリッタ
を用いることができる。前記のように直線偏光の偏光角
度が９０度回転されるた光ビームは、偏光ビームスプリ
ッタを用いることで回折された光ビームのみを容易に分
離することができる。例えば、光源手段から射出されて
偏光ビームスプリッタに入射される光ビームがＰ偏光成
分のみを有する直線偏光である場合、その入射光のほぼ
全て（約１００％）を透過し、前記音響光学素子で回折
される。そして回折された光ビームのみが反射手段及び
波長板によって直線偏光の偏光面角度が９０度回転され
てＳ偏光にされた状態で、偏光ビームスプリッタへ再度
入射される。このときの入射光は、Ｓ偏光成分のみを有
するため、ほぼ全て（約１００％）が反射される。これ
によって、回折された光ビームのみを容易に分離するこ
とができる。

【００１１】前記反射手段には、焦点距離を有する反射
部材を用いることができる。反射手段は、平面形状の反
射部材に限定されず、曲面形状の反射部材を用いること
ができる。この場合、その集光位置を音響光学素子近傍
に位置するように設置することで、音響光学素子におけ
る回折効率を充分に引き出すことができる。なお、平面
形状の反射部材を用いた場合には、屈折力を有するレン
ズ系を設けることで同様の効果が期待できる。

【００１２】例えば、前記反射手段は、光ビームを透過
するレンズ部材と光ビームを反射する反射部材とから構
成され、前記レンズ部材及び反射部材の少なくとも一方
の部材が焦点距離を有することができる。

【００１３】すなわち、音響光学素子で回折された光ビ
ームは、反射手段によって音響光学素子へ戻される。こ
の光ビームを戻すとき、音響光学素子の回折点近傍に収
束するようにすることで、音響光学素子における回折効
率を充分に引き出すことができる。このように光ビーム
を音響光学素子の回折点近傍で収束（光ビームがビーム
ウェストとなるように）させるためには、レンズ部材と
反射部材とを有して、少なくとも一方の部材が焦点距離
を有すれば、音響光学素子の回折点近傍に光ビームを収
束させることができる。少なくとも一方の部材が焦点距
離を有する場合には、レンズ部材と反射部材との合成さ
れた系による焦点距離が音響光学素子の回折点近傍で収
束される（光ビームがビームウェストとなる）値とする
ことが好ましい。

【００１４】前記画像露光装置では、前記分離手段は、
前記光源手段と前記音響光学素子との間に設けられか
つ、前記光源手段からの光ビームの一部を分離し、分離
された光ビームの強度を検出する検出手段をさらに備え
ることができる。

【００１５】前記画像露光装置は、光ビームの強度を検
出する必要がある場合がある。そこで、分離手段におい
て、光源手段からの光ビームの一部を分離し、そして、
分離された光ビームの強度を検出する検出手段をさらに
備えることにより、光ビームの強度を検出することがで
きる。これにより、光源手段からの光ビームを最大限利
用することができ、光ビームの利用効率を最大限に向上
させることができる。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態の一例を詳細に説明する。本実施の形態はレー
ザ露光装置に本発明を適用したものである。

【００１７】〔第１実施の形態〕図１には、本実施の形
態のレーザ露光装置１０が示されている。レーザ露光装
置１０は、半導体レーザ１２から出力されたレーザビー
ムＬを露光ドラム２８上に照射することで、画像を露光
する構造となっている。

【００１８】詳細には、レーザ露光装置１０は、半導体
レーザ１２を備えており、半導体レーザ１２の光射出側
には、レンズ系１４、光強度変調装置１６，シリンドリ
カルレンズ１８、ポリゴンミラー２０が順に配置されて
おり、更に、ポリゴンミラー２０の光偏向側には、ｆθ
レンズ２２、及び露光ドラム２８が順に配置されてい
る。なお、ポリゴンミラー２０による露光ドラム２８を
走査する走査範囲外の光路上には、主走査開始を検出す
る同期センサ２６へ光ビームを案内するサンプリングミ
ラー２４が設けられている。

【００１９】半導体レーザ１２から射出された光ビーム
は、レンズ系１４によって収束光とされ、光強度変調装
置１６へ入射される。光強度変調装置１６は、ＡＯＭを
備えており入射された光ビームを光強度変調して射出す
る（詳細は後述）。そして、レンズ系１４によって収束
光とされた光ビームは、光強度変調装置１６内のＡＯＭ
における回折点（回折現象が発生する部位）においてビ
ームウェストとなっている。光強度変調装置１６から射
出された光ビームＬは、シリンドリカルレンズ１８によ
って副走査方向に集束されてポリゴンミラー２０の反射
面へ結像される。そして、ポリゴンミラー２０の回転に
よって偏向されて、ｆθレンズ２２を介して露光ドラム
２８上に結像される。

【００２０】なお、ポリゴンミラー２０の矢印Ａ方向へ
の回転によって主走査が行われ、露光ドラム２８の矢印
Ｂ方向への回転によって副走査が行われ、主走査及び副
走査しながら光強度変調装置１６による光強度変調する
ことで、露光ドラム２８上に二次元画像が形成される。

【００２１】図２に示すように、光強度変調装置１６
は、偏光ビームスプリッタ３０，ＡＯＭ３６、１／４波
長版３８、及び反射板４０を備えている。光強度変調装
置１６の光ビームＬの入射側には、偏光ビームスプリッ
タ３０及びＡＯＭ３６が順に設けられており、ＡＯＭ３
６の光ビームＬの回折側に波長版３８及び反射板４０が
順に設けられている。

【００２２】ＡＯＭ３６は、音響光学結晶３２及びトラ
ンスデューサ３４から構成されている。この音響光学結
晶３２及びトランスデューサ３４には制御回路４２が接
続されている。ＡＯＭ３６は、制御回路４２からの供給
信号により超音波が発生され、その超音波により音響光
学結晶３２にグレーティング効果が生じて、入射された
光ビームＬｐを回折角度をもって回折する。

【００２３】次に、本実施の形態のレーザ露光装置１０
における光強度変調装置１６の作動を説明する。

【００２４】本実施の形態では、半導体レーザ１２から
射出される光ビームＬを用いているので、光ビームＬは
直線偏光の光ビームＬ、すなわちＰ偏光の光ビームＬ
が、光強度変調装置１６に入射される。以下の説明で
は、直線偏光の光ビームＬについて、偏光ビームスプリ
ッタ３０で透過される偏光状態（Ｐ偏光）の光ビームを
光ビームＬｐ、その光ビームＬｐに対して偏光面が９０
度傾いており、偏光ビームスプリッタ３０で反射される
偏光状態（Ｓ偏光）の光ビームを光ビームＬｓと称し、
ここでは光強度変調装置１６に入射される光ビームＬが
光ビームＬｐであるものとする。

【００２５】なお、本実施の形態では、半導体レーザ１
２によるＰ偏光の光ビームＬを用いた場合を説明する
が、本発明はこれに限定されるものではなく、偏光板を
用いて直線偏光の光ビームＬを生成してもよい。

【００２６】半導体レーザ１２から射出され、光強度変
調装置１６に入射された光ビームＬｐは、偏光ビームス
プリッタ３０を透過し、ＡＯＭ３６へ至る。ＡＯＭ３６
では、制御回路４２からの供給信号によってグレーティ
ング現象が生じて、光ビームＬｐは回折現象を起こし、
実際に露光に利用される所望の光ビームＬｐ’、及びそ
れ以外の高次回折光（図示省略）に分離回折される。こ
の制御回路４２からの供給信号の信号レベルに対応して
回折される光ビームＬｐ’の光強度が変更される。従っ
て、制御回路４２の供給信号による光強度変調が可能と
なる。この場合、ＡＯＭ３６が有する回折効率Ｋで光ビ
ームＬｐに作用することになる。

【００２７】ＡＯＭ３６では、０次回折光ビーム（以
下、光ビームＬｐ”）はそのまま通過し、１次以上の回
折光ビームが所定の回折角度を以て回折される。本実施
の形態では、ＡＯＭ３６により回折される１次回折光を
変調光ビーム（以下、光ビームＬｐ’と総称する）とし
て用いる。なお、２次以上の回折光ビームは光強度が微
弱であるため、系への影響がなく、本実施の形態では、
考慮しない。

【００２８】従って、半導体レーザ１２から射出された
光ビームＬｐは、ＡＯＭ３６で所定の回折角度をもって
回折され、１／４波長版３８へ至る。１／４波長版３８
では、偏光状態を変換する素子であり、直線偏光である
光ビームＬｐ’を円偏光の光ビームＬｃに変換する。円
偏光の光ビームＬｃは反射板４０で反射され、再度１／
４波長版３８を透過する。このように、ＡＯＭ３６で回
折された光ビームＬｐ’のみが反射板４０へ向けて射出
される。

【００２９】反射板４０は、法線が光ビームＬｐ’及び
Ｌｃの光軸とほぼ一致され、入射光路と反射光路が一致
するべく設けられている。反射板４０で反射された円偏
光の光ビームＬｃが１／４波長版３８を透過すると、光
ビームＬｐ’の偏光状態と比較して１／４波長板３８の
効果が２度作用されることにより、直線偏光の偏光方向
がπ／２だけ回転される。これによって１／４波長板３
８からＡＯＭ３６へ向かう光ビームは、光ビームＬｐ及
びＬｐ’と偏光方向がほぼ直交する光ビームＬｓとな
る。

【００３０】１／４波長版３８からＡＯＭ３６へ入射さ
れる光ビームＬｓは、ＡＯＭ３６において再度回折され
て入射光路を逆方向に伝播されて、偏光ビームスプリッ
タ３０へ至る。偏光ビームスプリッタ３０では、入射さ
れた光ビームＬｓを反射して、光強度変調装置１６から
光ビームＬｓを光ビームＬとして射出する。この場合、
光ビームは、ＡＯＭ３６を２度透過するので、回折効率
Ｋ²で光ビームＬｓに作用することに相当する。

【００３１】以上詳細に説明したように、本実施の形態
のレーザ露光装置１０では、直線偏光の光ビームＬｐを
ＡＯＭ３６により回折させ、１／４波長版３８及び反射
板４０によって光ビームＬｐ及びＬｐ’と直交する方向
の直線偏光の光ビームＬｓを生成し、同一光路を戻すこ
とで、再度ＡＯＭ３６で回折させた後に、偏光ビームス
プリッタ３０で抽出している。従って、ＡＯＭ３６で回
折された光ビームのみを効率的に抽出でき、レーザ露光
装置１０では鮮明な画像を得ることができる。

【００３２】また、本実施の形態では、光ビームＬはＡ
ＯＭ３６を２度透過している。このため、光ビームＬに
は回折効率Ｋ²で作用する。これによって、応答特性が
向上する。すなわち、図３（Ａ）に示すように、所定の
パルス幅の信号を供給信号としてＡＯＭ３６へ供給する
場合、光ビームＬが１度通過する場合の応答特性は徐々
に応答するものとなる（図３（Ｂ）の点線で示した１パ
スの特性）。この光ビームＬが１度通過する応答特性で
あっても、２度光ビームＬが通過することによって、そ
の立ち下がりは急峻になる（図３（Ｂ）の実線で示した
２パスの特性）。

【００３３】〔第２実施の形態〕次に、本発明の第２実
施の形態を説明する。本実施の形態では、ＡＯＭ３６に
おいて生じる回折光を効率的に用いるべく構成したもの
である。なお、本実施の形態は、上記の実施の形態とほ
ぼ同様の構成のため、同一部分には同一符号を付して詳
細は説明を省略する。

【００３４】図４に示すように、本実施の形態のレーザ
露光装置１０は、ＡＯＭ３６と１／４波長版３８との間
に集光レンズ４４を設けている。この集光レンズ４４
は、光ビームＬｐ’がＡＯＭ３６の音響光学結晶３２内
を再度透過する位置さらに詳しくは２度目の回折現象が
生じる位置に焦点位置となるように設置している。集光
レンズ４４はＡＯＭ３６で回折された光ビームＬｐ’を
平行光束にして１／４波長板３８へ射出する。

【００３５】このように、本実施の形態では、回折現象
が生じる位置における光を、集光レンズ４４を用いてコ
リメートすると共に、再度同一光路を戻しているので、
ＡＯＭ３６における回折現象を効率的に利用することが
可能となる。

【００３６】〔第３実施の形態〕次に、本発明の第３実
施の形態を説明する。本実施の形態は、ＡＯＭ３６にお
いて生じる回折光を効率的に用いるべく反射板にを工夫
したものである。なお、本実施の形態は上記実施の形態
と同様の構成であるため、同一部分には同一符号を付し
て詳細な説明を省略する。

【００３７】図５に示すように、本実施の形態のレーザ
露光装置１０は、上記実施の形態の反射板４０に代えて
反射板４６を備えている。この反射板４６は、光ビーム
Ｌｐ’がＡＯＭ３６の音響光学結晶３２内を再度透過す
る位置さらに詳しくは２度目の回折現象が生じる位置に
焦点位置となるように設置している。反射板４６はＡＯ
Ｍ３６で回折された反射板４６の焦点位置からの光ビー
ムＬｐ’を同一光路でそのまま、すなわち、屈折作用や
偏向作用を付加することなく直線的に戻している。

【００３８】このように、本実施の形態では、回折現象
が生じる位置における光を、反射板４６を用いてそのま
ま反射すると共に、再度同一光路を戻しているので、Ａ
ＯＭ３６における回折現象を効率的に利用することが可
能となる。

【００３９】〔第４実施の形態〕次に、本発明の第４実
施の形態を説明する。本実施の形態は、光強度変調装置
１６において光ビームＬの光強度を検出することで、射
出光量を安定的に供給するものである。なお、本実施の
形態は上記実施の形態と同様の構成であるため、同一部
分には同一符号を付して詳細な説明を省略する。

【００４０】図６に示すように、本実施の形態のレーザ
露光装置１０は、上記実施の形態の構成とは異なり、偏
光ビームスプリッタ３０に入射する光ビームＬはＰ偏光
成分のみならずＳ偏光成分を有するものである。また、
偏光ビームスプリッタ３０の光ビームＬｓの反対側に検
出素子４８を設けている。偏光ビームスプリッタ３０で
は、入射される光ビームＬのうち、Ｐ偏光成分の光ビー
ムＬｐは透過され、Ｓ偏光成分の光ビームＬｓ’は反射
される。また、ＡＯＭ３６から戻された光ビームＬｓは
全てが反射される。

【００４１】半導体レーザ１２から伝播された光ビーム
Ｌで、偏光ビームスプリッタ３０により反射された光ビ
ームＬｓ’は、検出素子４８へ入射される。この検出素
子４８により半導体レーザ１２から伝播された光ビーム
Ｌの状態、例えば光強度が検出される。検出素子４８の
検出結果は、半導体レーザ１２の駆動回路などにフィー
ドバックされる。この駆動回路では、検出素子４８の検
出結果により、半導体レーザ１２より射出される光ビー
ムＬの強度を調整し、射出強度の安定化を図ることがで
きる。

【００４２】これによって、ＡＯＭ３６に入射する光ビ
ームＬｐの光強度の安定化が可能となり、光強度変調装
置１６から射出された光ビームＬｓにおいて、その強度
とＡＯＭ３６及びＡＯＭ制御回路４２からの供給信号と
の関係が崩れることなく調整され、露光量変動などを防
止することができる。

【００４３】以上説明したように、本実施の形態では、
光強度変調装置１６へ入射される光ビームＬの状態（光
強度）を検出し、半導体レーザ１２からの射出光及び光
強度変調装置１６へ入射される光ビームＬの強度を一定
に制御し、ＡＯＭ制御回路４２からの制御信号に対して
光強度変調装置１６から射出される光ビームＬｓの強度
の関係を維持しつつ、描画する画像データに対応した露
光強度を有するビームの供給を保証することができ、感
光体への露光量変動を抑制することができる。

【００４４】なお、本実施の形態は、上記実施の形態の
何れにも適用が可能である。

【００４５】〔第５実施の形態〕次に、本発明の第５実
施の形態を説明する。本実施の形態は、本発明のレーザ
露光装置１０を画像形成装置に適用したものである。な
お、本実施の形態は上記実施の形態と同様の構成である
ため、同一部分には同一符号を付して詳細な説明を省略
する。

【００４６】図７に示すように、本実施の形態の画像形
成装置５２は、上記説明した何れかの実施の形態のレー
ザ露光装置１０を走査装置として備える。本実施の形態
の画像形成装置５２は、帯電器５８、現像装置６０，ク
リーナ５６，定着装置６２を備えている。

【００４７】画像形成時には、レーザ露光装置１０によ
って形成するための画像データに基づいて変調したり主
走査及び副走査することで露光ドラム２８上に画像を形
成する。この光ビームＬにより露光される露光ドラム２
８の上流側には、帯電器５８が設けられており、帯電器
５８の帯電を露光により潜像し、光ビームＬの露光位置
の下流側に設けられた現像装置６０で現像する。この後
に、定着装置６２によって。記録媒体６４に転写定着
し、画像形成装置５２から出力される（図７の矢印Ｃ方
向）。

【００４８】このように、本実施の形態では、画像形成
装置に、ＡＯＭ３６の回折現象を効率的に利用したレー
ザ露光装置１０による露光で、画像露光を行っているの
で、形成される画像は、鮮鋭度が向上したものを提供す
ることが可能となる。

【００４９】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、光
ビームを音響光学素子で回折させ、その回折光を反射手
段により元の光路へ戻すと共に、波長板を往路復路で透
過させた後に、音響光学素子で再度回折させて、分離手
段において前記回折された光ビームを分離するので、音
響光学素子で回折された、入力信号に対応する光ビーム
のみを扱うことができる、という効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施の形態にかかるレーザ露光装
置の構成を示すブロック図である。

【図２】 本発明の第１実施の形態にかかる光強度変調
装置の構成を示すブロック図である。

【図３】 光強度変調装置における回折効率を説明する
ための説明図である。

【図４】 本発明の第２実施の形態にかかる光強度変調
装置の構成を示すブロック図である。

【図５】 本発明の第３実施の形態にかかる光強度変調
装置の構成を示すブロック図である。

【図６】 本発明の第４実施の形態にかかる光強度変調
装置の構成を示すブロック図である。

【図７】 本発明の第５実施の形態にかかる画像形成装
置の構成を示すブロック図である。

【符号の説明】

Ｌ、Ｌｐ、Ｌｐ’、Ｌｐ”、Ｌｓ、Ｌｓ’、Ｌｃ…光ビ
ーム １０…レーザ露光装置 １２…半導体レーザ １６…光強度変調装置 ２０…ポリゴンミラー ２８…露光ドラム ３０…偏光ビームスプリッタ ３２…音響光学結晶 ３４…トランスデューサ ３６…ＡＯＭ ３８…１／４波長版 ４０…反射板 ４２…制御回路

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） // Ｇ０２Ｆ 1/11 Ｈ０４Ｎ 1/04 １０４Ａ ５Ｃ０７２ Ｆターム(参考） 2C362 AA03 BA82 2H045 CB31 CB63 DA02 2H079 AA04 AA12 BA01 BA03 CA21 EB21 2H099 AA00 BA17 CA07 5C051 AA02 CA07 DB22 DB24 DB30 DC04 DC07 DE30 5C072 AA03 DA02 DA04 DA19 DA20 DA21 HA02 HA13 HA16 HB06 XA05

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光ビームを少なくとも一方向へ走査しな
   がら該光ビームの光量を変調して画像を露光媒体に露光
   する画像露光装置において、 所定の偏光状態の光ビームを出力する光源手段と、 入力信号により前記光源手段から出力された光ビームを
   回折する音響光学素子と、 前記回折された光ビームを、該回折方向と逆方向に反射
   する反射手段と、 前記音響光学素子と前記反射手段との光路上に挿入され
   かつ、入射光の偏光状態を変更する波長板と、 前記反射手段で反射された光ビームを分離する分離手段
   と、 を備えたことを特徴とする画像露光装置。
2. 【請求項２】 前記波長板は、１／４波長板であること
   を特徴とする請求項１に記載の画像露光装置。
3. 【請求項３】 前記分離手段は、偏光ビームスプリッタ
   であることを特徴とする請求項２に記載の画像露光装
   置。
4. 【請求項４】 前記反射手段は、焦点距離を有すること
   を特徴とする請求項１乃至請求項３の何れか１項に記載
   の画像露光装置。
5. 【請求項５】 前記反射手段は、光ビームを透過するレ
   ンズ部材と光ビームを反射する反射部材とから構成さ
   れ、前記レンズ部材及び反射部材の少なくとも一方の部
   材が焦点距離を有することを特徴とする請求項４に記載
   の画像露光装置。