JP2003327587A - 新規なナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物とその重合体、および、該ナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物の製造方法 - Google Patents

新規なナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物とその重合体、および、該ナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物の製造方法

Info

Publication number
JP2003327587A
JP2003327587A JP2002135614A JP2002135614A JP2003327587A JP 2003327587 A JP2003327587 A JP 2003327587A JP 2002135614 A JP2002135614 A JP 2002135614A JP 2002135614 A JP2002135614 A JP 2002135614A JP 2003327587 A JP2003327587 A JP 2003327587A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substituent
group
divalent
formula
atom
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2002135614A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4078113B2 (ja
Inventor
Norihiro Kikuchi
憲裕 菊地
Kunihiko Sekido
邦彦 関戸
Tomohiro Kimura
知裕 木村
Shintetsu Go
信哲 呉
Hiroyuki Tanaka
博幸 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2002135614A priority Critical patent/JP4078113B2/ja
Publication of JP2003327587A publication Critical patent/JP2003327587A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4078113B2 publication Critical patent/JP4078113B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 十分な溶解性を有し、結晶化や膜のクラック
などの問題を生じず、薄膜化が可能な、電子輸送能を有
する新規な物質を提供する。 【解決手段】 溶解性を向上させ、嵩高い置換基を導入
した式(1)で示されるナフタレンテトラカルボン酸ジ
イミド化合物、および、この化合物を重合させて得られ
る重合物。 (式(1)中、X11は置換基を有してもよくエーテル
基で中断されていてもよい炭素数1〜15の2価のアル
キレン基(R11もしくはN原子との結合位置に酸素原
子を介在してもよい)、置換基を有してもよい2価のア
リーレン基または置換基を有してもよい2価のアラルキ
レン基のいずれかを示す。R11は下記式(2)、
(3)または(4)のいずれかを示し、 12は置換基を有してもよい炭素数1〜15のアルキ
ル基、置換基を有してもよいアリール基または置換基を
有してもよいアラルキル基のいずれかを示す。)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、特定の重合性官能
基を有するナフタレンアミジンイミド化合物、および、
該ナフタレンアミジンイミド化合物を重合した重合物に
関する。
【0002】該ナフタレンアミジンイミド化合物および
該ナフタレンアミジンイミド化合物を重合した重合物
は、有機電子デバイスなどの電子輸送物質として有用で
ある。
【0003】
【従来の技術】有機の電荷輸送物質としては、従来、ポ
リアセチレン、ポリチオフェン、ポリアニリンなどの共
役二重結合を有する高分子化合物や、ピラゾリン系化合
物、ヒドラゾン系化合物、トリフェニルアミン系化合
物、アミノ基を有するスチルベン系化合物などが数多く
提案されており、電子写真感光体や、有機薄膜電界発光
素子や、フォトセルなどへの利用が検討されている。
【0004】しかし、これらのほとんどが、いわゆる正
孔輸送物質(p型半導体)である。一方、有機の電子輸
送物質(n型半導体)の例はあまり多くない。
【0005】代表的なものとして2,4,7−トリニト
ロフルオレノン、特開昭60−69657号公報に記載
のフルオレニデンメタン化合物、特開昭61−2337
50号公報に記載のアントキノジメタンおよびアントロ
ン化合物、特開平4−285670号公報に記載のジフ
ェノキノン化合物、特開平9−151157公報記載の
ナフトキノン化合物などが提案されている。
【0006】しかし、これらの電子輸送物質は、溶解性
が悪かったり、毒性が強かったり、電子の輸送特性が悪
かったりと、実用上大きな問題を有しているのが現状で
ある。
【0007】その中で、1,4,5,8−ナフタレンテ
トラカルボン酸ジイミド化合物は、毒性が低く、かつ、
ある程度電子輸送能に優れており、近年、電子輸送物質
として数多くの提案が見られる。例えば、特開平1−3
9098号公報、特開平5−25174号公報、米国特
許第4442193号明細書、米国特許第546858
3号明細書、特公平1−39098号公報および特開平
11−343290号公報などに開示されている。
【0008】しかし、いずれの場合も、電子デバイスな
どに使用するには、他の樹脂と混合し薄膜を作製しよう
とすると溶解性が低く、結晶化や膜のクラックなどの問
題を生じてしまう。それを避けるために、1,4,5,
8−ナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物の量を
減らしたり、溶解性向上のために、嵩高い置換基を導入
したりすると、今度は電子輸送能の低下が見られ、いま
だ実用レベルで十分な物が得られていないのが現状であ
る。
【0009】一方、溶解性と電子輸送能の向上を目的と
して、電子輸送物質を高分子化した材料の開発もいくつ
か試みられている。例えば、特開平8−134019号
公報にはフルオレン誘導体を構成成分とした重合物、特
開平9−194535号公報にはチオキサンテン誘導体
を構成成分とした重合物がそれぞれ開示されている。こ
れらにより、膜中での結晶化やクラックの問題はある程
度改善されたが、電子輸送能としては、重合物にペンダ
ントされている電子輸送能を有する材料の特性上、電子
輸送能としてはいまだ不十分である。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、結晶
化や膜のクラックなどの問題を生じず、十分な溶解性や
電子輸送能を有する新規な物質を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
の改善に鋭意検討した結果、本発明に至った。
【0012】すなわち、本発明は、下記式(1)で示さ
れる構造を有するナフタレンテトラカルボン酸ジイミド
化合物である。
【外40】
【0013】(式(1)中、X11は置換基を有しても
よくエーテル基で中断されていてもよい炭素数1〜15
の2価のアルキレン基(R11もしくはN原子との結合
位置に酸素原子を介在してもよい)、置換基を有しても
よい2価のアリーレン基または置換基を有してもよい2
価のアラルキレン基のいずれかを示す。R11は下記式
(2)、(3)または(4)のいずれかを示し、
【外41】
【0014】R12は置換基を有してもよい炭素数1〜
15のアルキル基、置換基を有してもよいアリール基ま
たは置換基を有してもよいアラルキル基のいずれかを示
す。)また、本発明は、下記式(5)で示される構造を
有するナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物であ
る。
【外42】
【0015】(式(5)中、X51およびX52はそれ
ぞれ置換基を有してもよくエーテル基で中断されていて
もよい炭素数1〜15の2価のアルキレン基(R51
たはR 52もしくはN原子との結合位置に酸素原子を介
在してもよい)、置換基を有してもよい2価のアリーレ
ン基または置換基を有してもよい2価のアラルキレン基
のいずれかを示す。R51およびR52はそれぞれ下記
式(2)、(3)または(4)のいずれかを示す。
【外43】
【0016】また、本発明は、下記式(7)で示される
繰り返し構造単位、下記式(8)で示される繰り返し構
造単位および下記式(9)で示される繰り返し構造単位
からなる群より選択される少なくとも1つの繰り返し構
造単位を有する重合体である。
【外44】
【0017】(式(7)、(8)および(9)中、X
71およびX81は置換基を有してもよくエーテル基で
中断されていてもよい炭素数1〜15の2価のアルキレ
ン基(N原子との結合位置に酸素原子を介在してもよ
い)、置換基を有してもよい2価のアリーレン基および
置換基を有してもよい2価のアラルキレン基のいずれか
を示す。X91は置換基を有してもよくエーテル基で中
断されていてもよい炭素数1〜15の2価のアルキレン
基(N原子との結合位置に酸素原子を介在してもよ
い)、置換基を有してもよい2価のアリーレン基、置換
基を有してもよい2価のアラルキレン基、または、単結
合のいずれかを示す。R72、R82およびR92は置
換基を有してもよい炭素数1〜15のアルキル基、置換
基を有してもよいアリール基または置換基を有してもよ
いアラルキル基のいずれかを示す。)また、本発明は、
下記式(10)で示される繰り返し構造単位、下記式
(11)で示される繰り返し構造単位、下記式(12)
で示される繰り返し構造単位、下記式(13)で示され
る繰り返し構造単位、下記式(14)で示される繰り返
し構造単位、および、下記式(15)で示される繰り返
し構造単位からなる群より選択される少なくとも1つの
繰り返し構造単位を有する重合体である。
【外45】
【0018】
【外46】
【0019】(式(10)、(11)、(12)、(1
3)、(14)および(15)中、X 101
102、X111、X112、X121、X131
132およびX141は、置換基を有してもよくエー
テル基で中断されていてもよい炭素数1〜15の2価の
アルキレン基(N原子との結合位置に酸素原子を介在し
てもよい)、置換基を有してもよい2価のアリーレン基
および置換基を有してもよい2価のアラルキレン基のい
ずれかを示す。X122、X142、X151およびX
52は、置換基を有してもよくエーテル基で中断され
ていてもよい炭素数1〜15の2価のアルキレン基(N
原子との結合位置に酸素原子を介在してもよい)、置換
基を有してもよい2価のアリーレン基、置換基を有して
もよい2価のアラルキレン基、または、単結合のいずれ
かを示す。)また、本発明は、下記式(18)で示され
る構造を有するナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化
合物と、
【外47】
【0020】(式(18)中、X11は置換基を有して
もよくエーテル基で中断されていてもよい炭素数1〜1
5の2価のアルキレン基(OもしくはN原子との結合位
置に酸素原子を介在してもよい)、置換基を有してもよ
い2価のアリーレン基または置換基を有してもよい2価
のアラルキレン基のいずれかを示す。R12は置換基を
有してもよい炭素数1〜15のアルキル基、置換基を有
してもよいアリール基または置換基を有してもよいアラ
ルキル基のいずれかを示す。) アクリル酸、アクリル酸クロライドおよびアクリル酸エ
ステルからなる群より選択される少なくとも1つとを反
応させて、下記式(1)で示される構造を有するナフタ
レンテトラカルボン酸ジイミド化合物
【外48】
【0021】(式(1)中、X11およびR12は、上
記式(18)中のX11およびR12と同義である。す
なわち、X11は置換基を有してもよくエーテル基で中
断されていてもよい炭素数1〜15の2価のアルキレン
基(R11もしくはN原子との結合位置に酸素原子を介
在してもよい)、置換基を有してもよい2価のアリーレ
ン基または置換基を有してもよい2価のアラルキレン基
のいずれかを示す。R は下記式(2)を示し、
【外49】
【0022】R12は置換基を有してもよい炭素数1〜
15のアルキル基、置換基を有してもよいアリール基ま
たは置換基を有してもよいアラルキル基のいずれかを示
す。)を製造するナフタレンテトラカルボン酸ジイミド
化合物の製造方法である。
【0023】また、本発明は、下記式(18)で示され
る構造を有するナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化
合物と、
【外50】
【0024】(式(18)中、X11は置換基を有して
もよくエーテル基で中断されていてもよい炭素数1〜1
5の2価のアルキレン基(OもしくはN原子との結合位
置に酸素原子を介在してもよい)、置換基を有してもよ
い2価のアリーレン基または置換基を有してもよい2価
のアラルキレン基のいずれかを示す。R12は置換基を
有してもよい炭素数1〜15のアルキル基、置換基を有
してもよいアリール基または置換基を有してもよいアラ
ルキル基のいずれかを示す。) メタクリル酸、メタクリル酸クロライドおよびメタクリ
ル酸エステルからなる群より選択される少なくとも1つ
とを反応させて、下記式(1)で示される構造を有する
ナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物
【外51】
【0025】(式(1)中、X11およびR12は、上
記式(18)中のX11およびR12と同義である。す
なわち、X11は置換基を有してもよくエーテル基で中
断されていてもよい炭素数1〜15の2価のアルキレン
基(R11もしくはN原子との結合位置に酸素原子を介
在してもよい)、置換基を有してもよい2価のアリーレ
ン基または置換基を有してもよい2価のアラルキレン基
のいずれかを示す。R は下記式(3)を示し、
【外52】
【0026】R12は置換基を有してもよい炭素数1〜
15のアルキル基、置換基を有してもよいアリール基ま
たは置換基を有してもよいアラルキル基のいずれかを示
す。)を製造するナフタレンテトラカルボン酸ジイミド
化合物の製造方法である。
【0027】また、本発明は、下記式(19)で示され
る構造を有するナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化
合物と、
【外53】
【0028】(式(19)中、X51およびX52はそ
れぞれ置換基を有してもよくエーテル基で中断されてい
てもよい炭素数1〜15の2価のアルキレン基(Oもし
くはN原子との結合位置に酸素原子を介在してもよ
い)、置換基を有してもよい2価のアリーレン基または
置換基を有してもよい2価のアラルキレン基のいずれか
を示す。) アクリル酸、アクリル酸クロライドおよびアクリル酸エ
ステルからなる群より選択される少なくとも1つとを反
応させて、下記式(1)で示される構造を有するナフタ
レンテトラカルボン酸ジイミド化合物
【外54】
【0029】(式(5)中、X51およびX52は、上
記式(19)中のX51およびX52と同義である。す
なわち、X51およびX52はそれぞれ置換基を有して
もよくエーテル基で中断されていてもよい炭素数1〜1
5の2価のアルキレン基(R またはR52もしくは
N原子との結合位置に酸素原子を介在してもよい)、置
換基を有してもよい2価のアリーレン基または置換基を
有してもよい2価のアラルキレン基のいずれかを示す。
51およびR52はそれぞれ下記式(2)を示す。
【外55】
【0030】を製造するナフタレンテトラカルボン酸ジ
イミド化合物の製造方法である。
【0031】また、本発明は、下記式(19)で示され
る構造を有するナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化
合物と、
【外56】
【0032】(式(19)中、X51およびX52はそ
れぞれ置換基を有してもよくエーテル基で中断されてい
てもよい炭素数1〜15の2価のアルキレン基(Oもし
くはN原子との結合位置に酸素原子を介在してもよ
い)、置換基を有してもよい2価のアリーレン基または
置換基を有してもよい2価のアラルキレン基のいずれか
を示す。) メタクリル酸、メタクリル酸クロライドおよびメタクリ
ル酸エステルからなる群より選択される少なくとも1つ
とを反応させて、下記式(1)で示される構造を有する
ナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物
【外57】
【0033】(式(5)中、X51およびX52は、上
記式(19)中のX51およびX52と同義である。す
なわち、X51およびX52はそれぞれ置換基を有して
もよくエーテル基で中断されていてもよい炭素数1〜1
5の2価のアルキレン基(R またはR52もしくは
N原子との結合位置に酸素原子を介在してもよい)、置
換基を有してもよい2価のアリーレン基または置換基を
有してもよい2価のアラルキレン基のいずれかを示す。
51およびR52はそれぞれ下記式(3)を示す。
【外58】
【0034】を製造するナフタレンテトラカルボン酸ジ
イミド化合物の製造方法である。
【0035】また、本発明は、下記式(20)で示され
る構造を有するナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化
合物と、
【外59】
【0036】(式(18)中、Y201は塩素原子また
は臭素原子を示す。X11は置換基を有してもよくエー
テル基で中断されていてもよい炭素数1〜15の2価の
アルキレン基(Y201もしくはN原子との結合位置に
酸素原子を介在してもよい)、置換基を有してもよい2
価のアリーレン基または置換基を有してもよい2価のア
ラルキレン基のいずれかを示す。R12は置換基を有し
てもよい炭素数1〜15のアルキル基、置換基を有して
もよいアリール基または置換基を有してもよいアラルキ
ル基のいずれかを示す。) アクリル酸ナトリウムおよびアクリル酸カリウムの少な
くとも一方とを反応させて、下記式(1)で示される構
造を有するナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物
【外60】
【0037】(式(1)中、X11およびR12は、上
記式(20)中のX11およびR12と同義である。す
なわち、X11は置換基を有してもよくエーテル基で中
断されていてもよい炭素数1〜15の2価のアルキレン
基(R11もしくはN原子との結合位置に酸素原子を介
在してもよい)、置換基を有してもよい2価のアリーレ
ン基または置換基を有してもよい2価のアラルキレン基
のいずれかを示す。R は下記式(2)を示し、
【外61】
【0038】R12は置換基を有してもよい炭素数1〜
15のアルキル基、置換基を有してもよいアリール基ま
たは置換基を有してもよいアラルキル基のいずれかを示
す。)を製造するナフタレンテトラカルボン酸ジイミド
化合物の製造方法である。
【0039】また、本発明は、下記式(20)で示され
る構造を有するナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化
合物と、
【外62】
【0040】(式(20)中、Y201は塩素原子また
は臭素原子を示す。X11は置換基を有してもよくエー
テル基で中断されていてもよい炭素数1〜15の2価の
アルキレン基(Y201もしくはN原子との結合位置に
酸素原子を介在してもよい)、置換基を有してもよい2
価のアリーレン基または置換基を有してもよい2価のア
ラルキレン基のいずれかを示す。R12は置換基を有し
てもよい炭素数1〜15のアルキル基、置換基を有して
もよいアリール基または置換基を有してもよいアラルキ
ル基のいずれかを示す。) メタクリル酸ナトリウムおよびメタクリル酸カリウムの
少なくとも一方とを反応させて、下記式(1)で示され
る構造を有するナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化
合物
【外63】
【0041】(式(1)中、X11およびR12は、上
記式(20)中のX11およびR12と同義である。す
なわち、X11は置換基を有してもよくエーテル基で中
断されていてもよい炭素数1〜15の2価のアルキレン
基(R11もしくはN原子との結合位置に酸素原子を介
在してもよい)、置換基を有してもよい2価のアリーレ
ン基または置換基を有してもよい2価のアラルキレン基
のいずれかを示す。R は下記式(3)を示し、
【外64】
【0042】R12は置換基を有してもよい炭素数1〜
15のアルキル基、置換基を有してもよいアリール基ま
たは置換基を有してもよいアラルキル基のいずれかを示
す。)を製造するナフタレンテトラカルボン酸ジイミド
化合物の製造方法である。
【0043】また、本発明は、下記式(21)で示され
る構造を有するナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化
合物と、
【外65】
【0044】(式(21)中、Y211およびY212
はそれぞれ塩素原子または臭素原子を示す。X51およ
びX52はそれぞれ置換基を有してもよくエーテル基で
中断されていてもよい炭素数1〜15の2価のアルキレ
ン基(Y211またはY212もしくはN原子との結合
位置に酸素原子を介在してもよい)、置換基を有しても
よい2価のアリーレン基または置換基を有してもよい2
価のアラルキレン基のいずれかを示す。) アクリル酸ナトリウムおよびアクリル酸カリウムの少な
くとも一方とを反応させて、下記式(1)で示される構
造を有するナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物
【外66】
【0045】(式(5)中、X51およびX52は、上
記式(21)中のX51およびX52と同義である。す
なわち、X51およびX52はそれぞれ置換基を有して
もよくエーテル基で中断されていてもよい炭素数1〜1
5の2価のアルキレン基(R またはR52もしくは
N原子との結合位置に酸素原子を介在してもよい)、置
換基を有してもよい2価のアリーレン基または置換基を
有してもよい2価のアラルキレン基のいずれかを示す。
51およびR52はそれぞれ下記式(2)を示す。
【外67】
【0046】を製造するナフタレンテトラカルボン酸ジ
イミド化合物の製造方法である。
【0047】また、本発明は、下記式(21)で示され
る構造を有するナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化
合物と、
【外68】
【0048】(式(21)中、Y211およびY212
はそれぞれ塩素原子または臭素原子を示す。X51およ
びX52はそれぞれ置換基を有してもよくエーテル基で
中断されていてもよい炭素数1〜15の2価のアルキレ
ン基(Y211またはY212もしくはN原子との結合
位置に酸素原子を介在してもよい)、置換基を有しても
よい2価のアリーレン基または置換基を有してもよい2
価のアラルキレン基のいずれかを示す。) メタクリル酸ナトリウムおよびメタクリル酸カリウムの
少なくとも一方とを反応させて、下記式(1)で示され
る構造を有するナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化
合物
【外69】
【0049】(式(5)中、X51およびX52は、上
記式(21)中のX51およびX52と同義である。す
なわち、X51およびX52はそれぞれ置換基を有して
もよくエーテル基で中断されていてもよい炭素数1〜1
5の2価のアルキレン基(R またはR52もしくは
N原子との結合位置に酸素原子を介在してもよい)、置
換基を有してもよい2価のアリーレン基または置換基を
有してもよい2価のアラルキレン基のいずれかを示す。
51およびR52はそれぞれ下記式(3)を示す。
【外70】
【0050】を製造するナフタレンテトラカルボン酸ジ
イミド化合物の製造方法である。
【0051】また、本発明は、触媒としてのイミダゾー
ル存在下で、下記式(17)で示される構造を有するナ
フタレンテトラカルボン酸無水物と、
【外71】
【0052】下記式(22)で示される構造を有する一
級アミンと
【外72】
【0053】(式(22)中、Y221は水酸基、塩素
原子または臭素原子を示す。X221は置換基を有して
もよくエーテル基で中断されていてもよい炭素数1〜1
5の2価のアルキレン基(Y231もしくはN原子との
結合位置に酸素原子を介在してもよい)、置換基を有し
てもよい2価のアリーレン基または置換基を有してもよ
い2価のアラルキレン基のいずれかを示す。)を反応さ
せて、下記式(23)で示される構造を有するナフタレ
ンテトラカルボン酸ジイミド化合物、および、
【外73】
【0054】(式(23)中、Y231は水酸基、塩素
原子または臭素原子を示す。X11は置換基を有しても
よくエーテル基で中断されていてもよい炭素数1〜15
の2価のアルキレン基(Y231もしくはN原子との結
合位置に酸素原子を介在してもよい)、置換基を有して
もよい2価のアリーレン基または置換基を有してもよい
2価のアラルキレン基のいずれかを示す。R12は置換
基を有してもよい炭素数1〜15のアルキル基、置換基
を有してもよいアリール基または置換基を有してもよい
アラルキル基のいずれかを示す。) 下記式(24)で示される構造を有するナフタレンテト
ラカルボン酸ジイミド化合物
【外74】
【0055】(式(24)中、Y241およびY242
はそれぞれ水酸基、塩素原子または臭素原子を示す。X
51およびX52はそれぞれ置換基を有してもよくエー
テル基で中断されていてもよい炭素数1〜15の2価の
アルキレン基(Y241またはY242もしくはN原子
との結合位置に酸素原子を介在してもよい)、置換基を
有してもよい2価のアリーレン基または置換基を有して
もよい2価のアラルキレン基のいずれかを示す。)の少
なくとも一方を製造するナフタレンテトラカルボン酸ジ
イミド化合物の製造方法である。
【0056】また、本発明は、下記式(23)で示され
る構造を有するナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化
合物である。
【外75】
【0057】(式(23)中、Y231は水酸基、塩素
原子または臭素原子を示す。X11は置換基を有しても
よくエーテル基で中断されていてもよい炭素数1〜15
の2価のアルキレン基(Y231もしくはN原子との結
合位置に酸素原子を介在してもよい)、置換基を有して
もよい2価のアリーレン基または置換基を有してもよい
2価のアラルキレン基のいずれかを示す。R12は置換
基を有してもよい炭素数1〜15のアルキル基、置換基
を有してもよいアリール基または置換基を有してもよい
アラルキル基のいずれかを示す。) また、本発明は、下記式(24)で示される構造を有す
るナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物である。
【外76】
【0058】(式(24)中、Y241およびY242
はそれぞれ水酸基、塩素原子または臭素原子を示す。X
51およびX52はそれぞれ置換基を有してもよくエー
テル基で中断されていてもよい炭素数1〜15の2価の
アルキレン基(Y241またはY242もしくはN原子
との結合位置に酸素原子を介在してもよい)、置換基を
有してもよい2価のアリーレン基または置換基を有して
もよい2価のアラルキレン基のいずれかを示す。)
【0059】
【発明の実施の形態】以下、本発明をさらに詳細に説明
する。
【0060】上記式(1)中のX11、上記式(5)中
のX51、X52の置換基を有してもよくエーテル基で
中断されていてもよい炭素数1〜15の2価のアルキレ
ン基としては、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチ
レン、ヘプチレン、オクチレンなどの直鎖アルキレン基
や、1−メチルエチレン基、2−メチルプロピレン基、
2,2−ジメチルプロピレン基、1−エチルエチレン
基、2−エチルヘキシレン基、1−メチルヘキシレン
基、1,5−ジメチルヘキシレン基、1,3−ジメチル
ブチレン基などの分岐鎖アルキレン基などが挙げられ、
同置換基を有してもよい2価のアリーレン基としては、
フェニレン、ナフチレン、ビフェニレンなどが挙げら
れ、同置換基を有してもよい2価のアラルキレン基とし
ては、下記式(6)で示される構造を有するアラルキレ
ン基などが挙げられる。
【外77】
【0061】上記式(6)中、nは正の整数であり、1
〜5が好ましい。
【0062】上記式(1)中のR12の置換基を有して
もよい炭素数1〜15のアルキル基としては、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、オ
クチル基などの直鎖アルキル基や、iso―プロピル
基、t−ブチル基、1−メチルヘプチル基、2−エチル
ヘキシル基、t−オクチル基、1,5−ジメチルヘキシ
ル基、2−ヘキシルヘプチル基などの分岐鎖アルキル基
や、シクロヘプチル基、シクロへキシル基、シクロヘプ
チル基などの炭素数5〜12の環状アルキル基や、2,
3−プロピレン基、3,4−ペンチレン基などの炭素数
3〜15の直鎖不飽和アルキル基や、2,3−シクロヘ
キシレン基、3,4−シクロヘキシレン基などの炭素数
5〜10の環状不飽和アルキル基などが挙げられ、置換
基を有してもよいアリール基としては、フェニル、ナフ
チル、アントラセニル、ピレニル、ピリジル、キノリ
ル、チエニル、フリル、カルバゾリル、ベンゾイミダゾ
リル、ベンゾチアゾリルなどのアリール基などが挙げら
れ、置換基を有してもよいアラルキル基としては、ベン
ジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、ナフ
チルメチル基などが挙げられる。
【0063】上記式(1)中のX11、R12、上記式
(5)中のX51、X52が有してもよい置換基として
は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシルなど
のアルキル基、メトキシ、エトキシ、ブトキシなどのア
ルコキシ基、フェノキシ、ナフトキシなどのアリールオ
キシ基、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原
子、フェニル、ナフチル、ピリジル、キノリル、チエニ
ル、フリルなどの複素環基、アセチル、ベンジルなどの
アシル基、トリフルオロメチルなどのハロアルキル基、
シアノ基、ニトロ基、フェニルカルバモイル基、カルボ
キシル基、ヒドロキシル基などが挙げられる。
【0064】また、上記式(1)で示される構造を有す
るナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物は、X
11が、置換基を有してもよい炭素数1〜10の2価の
アルキレン基、置換基を有してもよい2価のフェニレン
基または置換基を有してもよい上記式(6)で示される
構造を有する2価のアラルキレン基であり、かつ、R
が、上記式(2)または(3)であることが好まし
い。
【0065】また、上記式(5)で示される構造を有す
るナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物は、X
51およびX52が、置換基を有してもよい炭素数1〜
10の2価のアルキレン基、置換基を有してもよい2価
のフェニレン基または置換基を有してもよい上記式
(6)で示される構造を有する2価のアラルキレン基で
あり、かつ、R51およびR52の少なくとも一方が、
上記式(2)または(3)であることが好ましい。
【0066】上記式(1)および(5)で示される構造
を有するナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物
は、以下のような方法で合成される。
【0067】上記式(1)で示される構造を有する化合
物は、例えば以下に示すように、ナフタレンテトラカル
ボン酸無水物(16)と2種類の1級アミンを、通常の
ナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物を合成する
方法により反応させて得ることができる。
【0068】2種類の1級アミンは混合物として反応系
に供給してもよいし、段階的に反応系に供給して、モノ
イミドを経てジイミドを生成させてもよい。溶媒として
は、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N
−メチルピロリドンなどの非プロトン性極性溶媒を用い
るのが好ましく、反応温度は溶媒の沸点とするのが好ま
しい。そして、得られたナフタレンテトラカルボン酸ジ
イミド化合物の3種混合物の中より目的化合物を再結晶
やカラムクロマトで精製し、非対称の化合物(17)を
得ることができる。
【外78】
【0069】なお、上記反応式中、R172は上記式
(1)中のR12と、X171は上記式(1)中のX
11と、Wは上記式(1)中のR11と同義である。
【0070】上記Wが上記式(4)で示される構造のス
チレン基の場合は、ある程度反応がうまくいき、目的化
合物の収率が高くなる一方、上記Wが上記式(2)ある
いは(3)で示される構造のアクリル基やメタクリル基
の場合は、反応が複雑になり、目的化合物の収率は低く
なる。
【0071】アクリル基やメタクリル基を有する本発明
のナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物を得るに
は、以下の製造方法が好ましい。
【0072】上記Wが塩素や臭素などのハロゲン原子
や、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基などのアル
コキシ基や、水酸基などの場合は、通常のジイミド化の
反応収率はある程度よく、特に活性基のハロゲン原子お
よび水酸基の場合は、触媒としてイミダゾールを介在さ
せて反応を行うとさらに高収率となり好ましい。その際
のイミダゾールの量は、ナフタレンテトラカルボン酸無
水物に対して0.03〜50質量%が好ましく、さらに
は、0.05〜10質量%がより好ましい。
【0073】得られた中間体は、以下の方法でアクリル
化あるいはメタクリル化が比較的容易に高収率でできる
ため、この反応ルートを選択することが好ましい。
【0074】例えば、上記Wがハロゲン原子の場合は、
アクリル酸あるいはメタクリル酸のナトリウムまたはカ
リウム塩と、テトラブチルアンモニウムブロマイドなど
の相関移動触媒存在下で、適当な溶媒に溶解し、室温か
ら溶媒の沸点までの温度内でアクリル化あるいはメタク
リル化を行うことができる。その際の溶媒としては、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチ
ルピロリドンなどの非プロトン性極性溶媒を用いるのが
好ましい。
【0075】また、上記Wがアルコキシ基の場合は、オ
キシ塩化リン、チオニルクロライド、チオニルブロマイ
ド、5塩化リンあるいは5臭化リンなどにより上記Wを
塩素原子あるいは臭素原子に代え、前述と同様にアクリ
ル化およびメタクリル化反応を行うことができる。
【0076】また、上記Wが水酸基の場合は、アクリル
酸、メタクリル酸あるいはアクリル酸エステル、メタク
リル酸エステルあるいはアクリル酸クロライド、メタク
リル酸クロライドなどのいずれかと既知の方法により、
容易にアクリル化およびメタクリル化反応を行うことが
できる。
【0077】アクリル基あるいはメタクリル基あるいは
スチレン基を2つ有する上記式(5)で示される構造を
有するナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物も、
基本的に上記式(1)で示される構造を有するナフタレ
ンテトラカルボン酸ジイミド化合物の合成法を適用すれ
ばよい。
【0078】上記式(1)および(5)で示される構造
を有するナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物の
具体例を以下の表1に示す。ただし、本発明のナフタレ
ンテトラカルボン酸ジイミド化合物は、これらに限定さ
れるわけではない。
【0079】
【表1】
【0080】
【表2】
【0081】次に、上記式(1)で示される構造を有す
るナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物を重合し
た本発明の重合体について説明する。
【0082】上述の通り、この重合体は、上記式(7)
で示される繰り返し構造単位、上記式(8)で示される
繰り返し構造単位および上記式(9)で示される繰り返
し構造単位からなる群より選択される少なくとも1つの
繰り返し構造単位を有する重合体である。
【0083】この重合体は、上記式(1)で示される構
造を有するナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物
を機知の方法で重合することができる。例えば、テトラ
ヒドロフランなどの有機溶媒に溶解後、さらに既知の重
合開始剤などを加え、加熱し重合反応を行う。反応終了
後、反応液をアルコール系溶剤のような貧溶媒にあけ、
析出した重合物を濾集する。その後、再沈工程を繰り返
し目的の重合物を得ることができる。
【0084】さらに、前記重合反応においては、スチレ
ン、アクリロニトリル、イソプレン、アクリル酸エステ
ルおよびメタクリル酸エステルなどの他のモノマーをさ
らに加えて重合し、共重合体を得てもよい。添加量は任
意であってもかまわないが、上記式(1)で示される構
造を有するナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物
に対して1〜30モル%程度が好ましい。添加量が30
モル%を超えると、重合物の電子輸送能が低下する場合
がある。
【0085】なお、この重合物の重量平均分子量は、5
000〜200000であることが好ましい。
【0086】また、この重合物は、電子輸送能の面から
上記式(7)および(8)で示される繰り返し構造単位
を有するものが好ましく、さらには、上記式(7)およ
び(8)で示される繰り返し構造単位を有するものであ
って、かつ、上記式(7)および(8)中のX71およ
びX81が、置換基を有してもよい炭素数1〜10の2
価のアルキレン基、置換基を有してもよい2価のフェニ
レン基および置換基を有してもよい上記式(6)で示さ
れる構造を有する2価のアラルキレン基である場合がよ
り好ましい。さらには、上記式(7)および(8)中の
72およびR 82が、置換基を有してもよい炭素数1
〜10のアルキル基または置換基を有してもよいフェニ
ル基である場合が特に好ましい。
【0087】次に、上記式(5)で示される構造を有す
るナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物を重合し
た本発明の重合体について説明する。
【0088】上述の通り、この重合体は、上記式(1
0)で示される繰り返し構造単位、上記式(11)で示
される繰り返し構造単位、上記式(12)で示される繰
り返し構造単位、上記式(13)で示される繰り返し構
造単位、上記式(14)で示される繰り返し構造単位、
および、上記式(15)で示される繰り返し構造単位か
らなる群より選択される少なくとも1つの繰り返し構造
単位を有する重合体である。
【0089】この重合体は、上記式(5)で示される構
造を有するナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物
を機知の方法で重合することで得られる。例えば、上記
式(1)で示される構造を有するナフタレンテトラカル
ボン酸ジイミド化合物を溶液で重合したのと同様に有機
溶媒に溶解後、既知の重合開始剤などを加え、加熱し重
合反応を行うと重合物が得られる。
【0090】しかし、この場合は、3次元構造を有する
重合物となるため、一般の溶媒への溶解性が悪く、この
重合物を成膜して有機電子デバイスに使用するには制限
が生じてしまう。
【0091】そこで、一般的には、上記式(5)の化合
物を適当な溶媒に溶解した液を塗布後、加熱、紫外線照
射あるいは電子線照射などの処理を行い重合硬化し、成
膜された重合物を得る方法が好ましい。この際、必要に
応じて既知の重合開始剤などを加えてもよい。
【0092】また、この重合物は、電子輸送能の面か
ら、上記式(10)、(11)および(13)で示され
る繰り返し単位を有するものが好ましく、さらには、上
記式(10)、(11)および(13)で示される繰り
返し構造単位を有するものであって、かつ、上記式(1
0)、(11)および(13)中のX101
102、X111、X112、X131およびX
132が、置換基を有してもよい炭素数1〜10の2価
のアルキレン基、置換基を有してもよい2価のフェニレ
ン基および置換基を有してもよい上記式(6)で示され
る構造を有する2価のアラルキレン基である場合がより
好ましい。
【0093】
【実施例】以下に本発明の実施例を説明するが、本発明
はこれら実施例に限定されるものではない。
【0094】(実施例1−1) (化合物例No.(2)の合成)90部のナフタレン−
1,4,5,8−テトラカルボン酸二無水物と50部の
2−メチル−6−エチルアニリンとをジメチルホルムア
ミド中で1時間還流下に加熱し、次いで35部の2−エ
トキシエチルアミンを添加して、ジメチルホルムアミド
中で還流下にてさらに2時間加熱した。冷却後、反応混
合物を濾過し、沈殿をジメチルホルムアミドで洗浄し、
さらにジエチルエーテルで洗浄し、乾燥した。
【0095】この生成物をカラムクロマトで精製して、
65部のN−(2−エトキシエチル)−N’−(2−メ
チル−6−エチルフェニル)ナフタレン−1,4,5,
8−テトラカルボン酸ジイミドを得た。
【0096】オキシ塩化リン356部を氷水で冷却しジ
メチルホルムアミド513部にゆっくり滴下した。滴下
終了後、室温で30分間攪拌後、N−(2−エトキシエ
チル)−N’−(2−メチル−6−エチルフェニル)ナ
フタレン−1,4,5,8−テトラカルボン酸ジイミド
54部をゆっくり添加した。添加終了後、ゆっくり加熱
し、内温が110〜120℃に保ち12時間加熱攪拌を
行った。反応液を冷却後、氷で冷却した10%の酢酸ナ
トリウム水溶液10000部にあけ、析出した結晶を濾
取した。得られた粗結晶を水洗およびメタノールで洗浄
した。
【0097】得られた粗結晶をトルエン/テトラヒドロ
フラン混合溶媒に溶解し、シリカゲルクロマトグラフィ
ーにより精製し、N−(2−クロロエチル)−N’−
(2−メチル−6−エチルフェニル)ナフタレン−1,
4,5,8−テトラカルボン酸ジイミドを51部得た。
その赤外線吸収スペクトルを図1に示す。また、その核
磁気共鳴スペクトル(H−NMR)を図2に示す。
【0098】N−(2−クロロエチル)−N’−(2−
メチル−6−エチルフェニル)ナフタレン−1,4,
5,8−テトラカルボン酸ジイミド25部、アクリル酸
カリウム18.5部およびテトラブチルアンモニウムブ
ロマイド0.9部をジメチルホルムアミド300部に加
え、115℃で7時間加熱撹拌を行った。冷却後、氷水
で冷やした2.5%カセイソーダ水溶液700部にあ
け、酢酸エチルで抽出を行った。有機層を飽和食塩水洗
い後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下で
除去後、残留物にテトラヒドロフラン35部を加え完全
に溶解後n−ヘキサン135部を加え冷却し、結晶を析
出させた。結晶を濾取後、さらにn−ヘキサンで分散洗
浄し粗結晶を45部得た。
【0099】得られた粗結晶をトルエンに溶解し、シリ
カゲルクロマトグラフィーで精製を行い例示化合物N
o.(2)を36部得た。その赤外線吸収スペクトルを
図3に示す。また、その核磁気共鳴スペクトル(H−
NMR)を図4に示す。
【0100】(実施例1−2) (化合物例No.(29)の合成)ナフタレン−1,
4,5,8−テトラカルボン酸二無水物50部に2−ア
ミノー1−プロパノール66部およびイミダゾール0.
8部を加え、窒素雰囲気下140℃で4時間加熱撹拌を
行った。冷却後、10%塩酸水溶液3000部にあけ析
出した粗結晶を濾取した。粗結晶を10%炭酸カリウム
水溶液で分散洗浄(80℃)を2回行った。さらに、8
0℃で水洗浄を行った。
【0101】粗結晶を乾燥後、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィーで精製を行い、N,N’−ジ(2−ヒドロ
キシ−1−メチルエチル)ナフタレン−1,4,5,8
−テトラカルボン酸ジイミドを28部得た。
【0102】N,N’−ジ(2−ヒドロキシ−1−メチ
ルエチル)ナフタレン−1,4,5,8−テトラカルボ
ン酸ジイミド250部、アクリル酸142部および2−
メトキシフェノール0.9部をトルエン650部に加え
溶解後、p−トルエンスルホン酸1水和物2.5部を加
え110℃に加熱し脱水反応を6時間行った。冷却後、
10%苛性ソーダ水溶液にあけ酢酸エチルで抽出を行っ
た。有機層をさらに水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥
を行った。溶媒を減圧下で除去後、残留物をシリカゲル
クロマトグラフィーで精製を行い、例示化合物No.
(29)の化合物を210部得た。
【0103】(実施例1−3) (化合物例No.(20)の合成)90部のナフタレン
−1,4,5,8−テトラカルボン酸二無水物と50部
の2−メチル−6−エチルアニリンとをジメチルホルム
アミド中で1時間還流下に加熱し、次いで47部の4−
ビニルアニリンを添加して、ジメチルホルムアミド中で
還流下にてさらに2時間加熱した。冷却後、反応混合物
を濾過し、沈殿をジメチルホルムアミドで洗浄し、さら
にジエチルエーテルで洗浄し、乾燥した。この生成物を
カラムクロマトで精製を行い例示化合物No.(20)
の化合物を58部得た。
【0104】(実施例2−1)三つ口フラスコに乾燥窒
素ガスを送りながら例示化合物No.(2) 1部とト
ルエン10部を加えた。これを25℃で撹拌下、AIB
N 0.005部を加えた。引き続き窒素を送りながら
65℃で50時間重合反応を行った。反応終了後、激し
く撹拌した500部のメタノールに反応液を滴下し、析
出した析出物を瀘取した。この析出物を10部のテトラ
ヒドロフランに溶解し、濾過を行ったのち瀘液をメタノ
ール500部に滴下し、重合物を析出させた。析出した
重合物を瀘取後、メタノール500部で分散洗浄し、さ
らに真空乾燥して重合物(P−1)0.89部を得た。
その赤外線吸収スペクトルを図5に示す。また、得られ
たポリマーの分子量をGPC(クロロホルム移動層)に
より測定したところ、そのスチレン換算重量平均分子量
は24000だった。
【0105】(実施例2−2〜2−5)実施例2−1に
使用した例示化合物No.(2)に代えて、例示化合物
No.(3)、例示化合物No.(20) 、例示化合
物No.(9) 、例示化合物No.(26) にそれ
ぞれ代えた以外は実施例2−1と同様に反応を行い、重
合物(P−2〜P−5)を得た。得られた重合物の分子
量をGPC(クロロホルム移動層)により測定したとこ
ろ、その重量平均分子量は、(P−2):16300
0、(P−3):78000、(P−4):12800
0、(P−5):52000であった。
【0106】(実施例2−6〜2−9)実施例2−1に
使用した例示化合物No.(2)に代えて、例示化合物
No.(22)、例示化合物No.(5)、例示化合物
No.(6)、例示化合物No.(8)を0.9部とメ
タクリル酸メチル0.1部とを使用した以外は実施例2
−1と同様に反応を行い、重合物(P−6〜P−9)を
得た。得られた重合物の分子量をGPC(クロロホルム
移動層)により測定したところ、その重量平均分子量
は、(P−6):99000、(P−7):6100
0、(P−8):94000、(P−9):78000
であった。
【0107】(実施例2−10、2−11)実施例2−
1に使用した例示化合物No.(2)に代えて、例示化
合物No.(1)、例示化合物No.(4)を0.9部
とスチレン0.1部とを使用した以外は実施例2−1と
同様に反応を行い、重合物(P−10〜P−11)を得
た。得られた重合物の分子量をGPC(クロロホルム移
動層)により測定したところ、その重量平均分子量は
(P−11):65000、(P−12):42000
であった。
【0108】(実施例2−12、2−13)実施例2−
1に使用した例示化合物No.(2)に代えて、例示化
合物No.(10)、例示化合物No.(16)を0.
5部と下記アクリル化合物0.5部とを使用した以外は
実施例2−1と同様に反応を行い、重合物(P−13〜
P14)を得た。得られた重合物の分子量をGPC(ク
ロロホルム移動層)により測定したところ、その重量平
均分子量は、(P−13):55000、(P−1
4):104000であった。
【0109】(実施例2−14)例示化合物No.(2
0)、を0.1部と例示化合物No.(2) 0.9部
とを使用した以外は実施例2−1と同様に反応を行い、
重合物((P−15)を得た。得られた重合物の分子量
をGPC(クロロホルム移動層)により測定したとこ
ろ、その重量平均分子量は145000であった (実施例2−15)触媒を過酸化ベンゾイルにした以外
は実施例2−1と同様に反応を行い重合物((P−1
6)を得た。得られたポリマーの分子量をGPC(クロ
ロホルム移動層)により測定したところ、その重量平均
分子量は35000であった。
【0110】(実施例3−1)実施例1−2で得られた
化合物(29)5部をテトラヒドロフラン5部に溶解し
た溶液をアルミマイラー上にマイヤーバーで塗布し、4
0℃で5分間乾燥後、加速電圧150kV、照射線量5
Mradの条件で電子線を照射し、硬化重合させ10μ
mの膜を形成した。クラックの促進試験として、作製し
た感光体の表面に指油を付着させ、常温常圧下で32時
間放置し、感光層にクラックが生じているか否かを観察
したところ、クラックは全く生じていなかった。さら
に、結晶化の促進試験として作製した感光体の表面に指
油を付着させ、75℃で2週間放置し、重合物などの析
出が生じているかを観察したところ、析出物は全く認め
られなかった。なお、クラックおよび析出物の観察は、
顕微鏡(VERSAMET6390、UNION社製)
で50倍にて行い、クラックおよび析出物の有無を確認
した。
【0111】また、上記と全く同様にアルミマイラー上
に作製した膜上に、さらに金蒸着を行い、サンドイッチ
構成の移動度測定用シートを作製した。そのシートを既
知の飛行時間法(TOF法)で電界強度が5×10
/cmにおける電子移動度を測定したところ、5.6×
10−6cm/V・sであった。
【0112】(実施例4−1)実施例2−1で得られた
重合物(P−1)5部をテトラヒドロフラン5部に溶解
した溶液をアルミマイラー上にマイヤーバーで塗布後、
110℃で1時間乾燥し、10μmの膜を形成した。上
記実施例3−1と同様にクラックの促進試験および結晶
化の促進試験を行ったが、クラックおよび析出物は全く
認められなかった。
【0113】また、上記と全く同様にアルミマイラー上
に作製した膜上に、さらに金蒸着を行い、サンドイッチ
構成の移動度測定シートを作製した。そのシートを既知
の飛行時間法(TOF法)で電界強度が5×10V/
cmにおける電子移動度を測定したところ、7.5×1
−6cm/V・sであった。
【0114】(比較例1−1)三つ口フラスコに乾燥窒
素ガスを送りながら、下記式で示される構造を有する化
合物1部と、
【外79】
【0115】トルエン15部を加えた。この溶液を25
℃で攪拌下、AIBN0.005部を加えた。引き続き
窒素を送りながら、65℃で50時間重合反応を行っ
た。反応終了後、激しく攪拌した500部のメタノール
に反応液を滴下し、析出した析出物を濾取した。この析
出物を50部のテトラヒドロフランに溶解し、濾過を行
った後、濾液を、メタノール500部に滴下し、重合物
を析出させた。析出した重合物を濾取後、メタノール5
00部で分散洗浄し、さらに真空乾燥して重合物(H−
1)0.89部得た。得られた重合物の分子量をGPC
(クロロホルム移動層)により測定したところ、その平
均分子量は35000であった。
【0116】得られた重合物(H−1)5部をテトラヒ
ドロフラン5部に溶解した溶液をアルミマイラー上にマ
イヤーバーで塗布後、110℃で1時間乾燥し、10μ
mの膜を形成した。上記実施例3−1と同様にクラック
の促進試験および結晶化の促進試験を行ったところ、ク
ラックは認められなかったが、析出物が数箇所確認され
た。
【0117】また、上記と全く同様にアルミマイラー上
に作製した膜上に、さらに金蒸着を行い、サンドイッチ
構成の移動度測定シートを作製した。そのシートを既知
の飛行時間法(TOF法)で電界強度が5×10V/
cmにおける電子移動度を測定したところ、2.5×1
−6cm/V・sであった。
【0118】
【発明の効果】本発明により、結晶化や膜のクラックな
どの問題を生じず、十分な溶解性や電子輸送能を有する
新規な構造の重合体、および、該重合体を合成すること
ができる新規な構造の1,4,5,8−ナフタレンテト
ラカルボン酸ジイミド化合物、該ナフタレンテトラカル
ボン酸ジイミド化合物の中間体を提供することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の例示化合物No.(2)の中間体であ
るN−(2−クロロエチル)−N’−(2−メチル−6
−エチルフェニル)ナフタレン−1,4,5,8−テト
ラカルボン酸ジイミド化合物の赤外線吸収スペクトル図
である。
【図2】本発明の例示化合物No.(2)の中間体であ
るN−(2−クロロエチル)−N’−(2−メチル−6
−エチルフェニル)ナフタレン−1,4,5,8−テト
ラカルボン酸ジイミド化合物のH−NMRスペクトル
図である。
【図3】本発明の例示化合物No.(2)の赤外線吸収
スペクトル図である。
【図4】本発明の例示化合物No.(2)のH−NM
Rスペクトル図である。
【図5】本発明の重合物(P−1)の赤外線吸収スペク
トル図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 木村 知裕 東京都大田区下丸子3丁目30番2号キヤノ ン株式会社内 (72)発明者 呉 信哲 東京都大田区下丸子3丁目30番2号キヤノ ン株式会社内 (72)発明者 田中 博幸 東京都大田区下丸子3丁目30番2号キヤノ ン株式会社内 Fターム(参考) 2H068 AA20 BA16 BA63 BB07 BB08 BB10 BB20 BB49 BB52 BB57 4C050 AA02 AA08 BB07 CC07 EE02 FF01 GG03 HH01 HH04 4J100 AB00Q AB15T AL08P AL66R AL82S BC49P BC49Q BC49R BC49S BC49T BC67P BC67Q BC67R BC67S BC67T CA03 CA04 CA05 CA06 DA39 DA55 JA32 JA43

Claims (18)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記式(1)で示される構造を有するナ
    フタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物。 【外1】 (式(1)中、X11は置換基を有してもよくエーテル
    基で中断されていてもよい炭素数1〜15の2価のアル
    キレン基(R11もしくはN原子との結合位置に酸素原
    子を介在してもよい)、置換基を有してもよい2価のア
    リーレン基または置換基を有してもよい2価のアラルキ
    レン基のいずれかを示す。R11は下記式(2)、
    (3)または(4)のいずれかを示し、 【外2】 12は置換基を有してもよい炭素数1〜15のアルキ
    ル基、置換基を有してもよいアリール基または置換基を
    有してもよいアラルキル基のいずれかを示す。)
  2. 【請求項2】 下記式(5)で示される構造を有するナ
    フタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物。 【外3】 (式(5)中、X51およびX52はそれぞれ置換基を
    有してもよくエーテル基で中断されていてもよい炭素数
    1〜15の2価のアルキレン基(R51またはR 52
    しくはN原子との結合位置に酸素原子を介在してもよ
    い)、置換基を有してもよい2価のアリーレン基または
    置換基を有してもよい2価のアラルキレン基のいずれか
    を示す。R51およびR52はそれぞれ下記式(2)、
    (3)または(4)のいずれかを示す。 【外4】
  3. 【請求項3】 前記式(1)中のX11が、置換基を有
    してもよい炭素数1〜10の2価のアルキレン基、置換
    基を有してもよい2価のフェニレン基および置換基を有
    してもよい下記式(6)で示される構造を有する2価の
    アラルキレン基からなる群より選択され、かつ、前記式
    (1)中のR11が、前記式(2)または(3)である
    請求項1に記載のナフタレンテトラカルボン酸ジイミド
    化合物。 【外5】 (式(6)中、nは1〜5の整数を示す。)
  4. 【請求項4】 前記式(5)中のX51およびX
    52が、置換基を有してもよい炭素数1〜10の2価の
    アルキレン基、置換基を有してもよい2価のフェニレン
    基および置換基を有してもよい下記式(6)で示される
    構造を有する2価のアラルキレン基からなる群より選択
    され、かつ、前記式(5)中のR51およびR52の少
    なくとも一方が、前記式(2)または(3)である請求
    項2に記載のナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合
    物。 【外6】 (式(6)中、nは1〜5の整数を示す。)
  5. 【請求項5】 下記式(7)で示される繰り返し構造単
    位、下記式(8)で示される繰り返し構造単位および下
    記式(9)で示される繰り返し構造単位からなる群より
    選択される少なくとも1つの繰り返し構造単位を有する
    重合体。 【外7】 (式(7)、(8)および(9)中、X71およびX
    81は置換基を有してもよくエーテル基で中断されてい
    てもよい炭素数1〜15の2価のアルキレン基(N原子
    との結合位置に酸素原子を介在してもよい)、置換基を
    有してもよい2価のアリーレン基および置換基を有して
    もよい2価のアラルキレン基のいずれかを示す。X91
    は置換基を有してもよくエーテル基で中断されていても
    よい炭素数1〜15の2価のアルキレン基(N原子との
    結合位置に酸素原子を介在してもよい)、置換基を有し
    てもよい2価のアリーレン基、置換基を有してもよい2
    価のアラルキレン基、または、単結合のいずれかを示
    す。R72、R82およびR92は置換基を有してもよ
    い炭素数1〜15のアルキル基、置換基を有してもよい
    アリール基または置換基を有してもよいアラルキル基の
    いずれかを示す。)
  6. 【請求項6】 重量平均分子量が5000〜20000
    0である請求項5に記載の重合体。
  7. 【請求項7】 下記式(10)で示される繰り返し構造
    単位、下記式(11)で示される繰り返し構造単位、下
    記式(12)で示される繰り返し構造単位、下記式(1
    3)で示される繰り返し構造単位、下記式(14)で示
    される繰り返し構造単位、および、下記式(15)で示
    される繰り返し構造単位からなる群より選択される少な
    くとも1つの繰り返し構造単位を有する重合体。 【外8】 【外9】 (式(10)、(11)、(12)、(13)、(1
    4)および(15)中、X 101、X102
    111、X112、X121、X131、X132
    よびX141は、置換基を有してもよくエーテル基で中
    断されていてもよい炭素数1〜15の2価のアルキレン
    基(N原子との結合位置に酸素原子を介在してもよ
    い)、置換基を有してもよい2価のアリーレン基および
    置換基を有してもよい2価のアラルキレン基のいずれか
    を示す。X122、X142、X151およびX 52
    は、置換基を有してもよくエーテル基で中断されていて
    もよい炭素数1〜15の2価のアルキレン基(N原子と
    の結合位置に酸素原子を介在してもよい)、置換基を有
    してもよい2価のアリーレン基、置換基を有してもよい
    2価のアラルキレン基、または、単結合のいずれかを示
    す。)
  8. 【請求項8】 下記式(18)で示される構造を有する
    ナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物と、 【外10】 (式(18)中、X11は置換基を有してもよくエーテ
    ル基で中断されていてもよい炭素数1〜15の2価のア
    ルキレン基(OもしくはN原子との結合位置に酸素原子
    を介在してもよい)、置換基を有してもよい2価のアリ
    ーレン基または置換基を有してもよい2価のアラルキレ
    ン基のいずれかを示す。R12は置換基を有してもよい
    炭素数1〜15のアルキル基、置換基を有してもよいア
    リール基または置換基を有してもよいアラルキル基のい
    ずれかを示す。) アクリル酸、アクリル酸クロライドおよびアクリル酸エ
    ステルからなる群より選択される少なくとも1つとを反
    応させて、下記式(1)で示される構造を有するナフタ
    レンテトラカルボン酸ジイミド化合物 【外11】 (式(1)中、X11およびR12は、上記式(18)
    中のX11およびR12と同義である。すなわち、X
    11は置換基を有してもよくエーテル基で中断されてい
    てもよい炭素数1〜15の2価のアルキレン基(R11
    もしくはN原子との結合位置に酸素原子を介在してもよ
    い)、置換基を有してもよい2価のアリーレン基または
    置換基を有してもよい2価のアラルキレン基のいずれか
    を示す。R は下記式(2)を示し、 【外12】 12は置換基を有してもよい炭素数1〜15のアルキ
    ル基、置換基を有してもよいアリール基または置換基を
    有してもよいアラルキル基のいずれかを示す。)を製造
    するナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物の製造
    方法。
  9. 【請求項9】 下記式(18)で示される構造を有する
    ナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物と、 【外13】 (式(18)中、X11は置換基を有してもよくエーテ
    ル基で中断されていてもよい炭素数1〜15の2価のア
    ルキレン基(OもしくはN原子との結合位置に酸素原子
    を介在してもよい)、置換基を有してもよい2価のアリ
    ーレン基または置換基を有してもよい2価のアラルキレ
    ン基のいずれかを示す。R12は置換基を有してもよい
    炭素数1〜15のアルキル基、置換基を有してもよいア
    リール基または置換基を有してもよいアラルキル基のい
    ずれかを示す。) メタクリル酸、メタクリル酸クロライドおよびメタクリ
    ル酸エステルからなる群より選択される少なくとも1つ
    とを反応させて、下記式(1)で示される構造を有する
    ナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物 【外14】 (式(1)中、X11およびR12は、上記式(18)
    中のX11およびR12と同義である。すなわち、X
    11は置換基を有してもよくエーテル基で中断されてい
    てもよい炭素数1〜15の2価のアルキレン基(R11
    もしくはN原子との結合位置に酸素原子を介在してもよ
    い)、置換基を有してもよい2価のアリーレン基または
    置換基を有してもよい2価のアラルキレン基のいずれか
    を示す。R は下記式(3)を示し、 【外15】 12は置換基を有してもよい炭素数1〜15のアルキ
    ル基、置換基を有してもよいアリール基または置換基を
    有してもよいアラルキル基のいずれかを示す。)を製造
    するナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物の製造
    方法。
  10. 【請求項10】 下記式(19)で示される構造を有す
    るナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物と、 【外16】 (式(19)中、X51およびX52はそれぞれ置換基
    を有してもよくエーテル基で中断されていてもよい炭素
    数1〜15の2価のアルキレン基(OもしくはN原子と
    の結合位置に酸素原子を介在してもよい)、置換基を有
    してもよい2価のアリーレン基または置換基を有しても
    よい2価のアラルキレン基のいずれかを示す。) アクリル酸、アクリル酸クロライドおよびアクリル酸エ
    ステルからなる群より選択される少なくとも1つとを反
    応させて、下記式(1)で示される構造を有するナフタ
    レンテトラカルボン酸ジイミド化合物 【外17】 (式(5)中、X51およびX52は、上記式(19)
    中のX51およびX52と同義である。すなわち、X
    51およびX52はそれぞれ置換基を有してもよくエー
    テル基で中断されていてもよい炭素数1〜15の2価の
    アルキレン基(R またはR52もしくはN原子との
    結合位置に酸素原子を介在してもよい)、置換基を有し
    てもよい2価のアリーレン基または置換基を有してもよ
    い2価のアラルキレン基のいずれかを示す。R51およ
    びR52はそれぞれ下記式(2)を示す。 【外18】 を製造するナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物
    の製造方法。
  11. 【請求項11】 下記式(19)で示される構造を有す
    るナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物と、 【外19】 (式(19)中、X51およびX52はそれぞれ置換基
    を有してもよくエーテル基で中断されていてもよい炭素
    数1〜15の2価のアルキレン基(OもしくはN原子と
    の結合位置に酸素原子を介在してもよい)、置換基を有
    してもよい2価のアリーレン基または置換基を有しても
    よい2価のアラルキレン基のいずれかを示す。) メタクリル酸、メタクリル酸クロライドおよびメタクリ
    ル酸エステルからなる群より選択される少なくとも1つ
    とを反応させて、下記式(1)で示される構造を有する
    ナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物 【外20】 (式(5)中、X51およびX52は、上記式(19)
    中のX51およびX52と同義である。すなわち、X
    51およびX52はそれぞれ置換基を有してもよくエー
    テル基で中断されていてもよい炭素数1〜15の2価の
    アルキレン基(R またはR52もしくはN原子との
    結合位置に酸素原子を介在してもよい)、置換基を有し
    てもよい2価のアリーレン基または置換基を有してもよ
    い2価のアラルキレン基のいずれかを示す。R51およ
    びR52はそれぞれ下記式(3)を示す。 【外21】 を製造するナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物
    の製造方法。
  12. 【請求項12】 下記式(20)で示される構造を有す
    るナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物と、 【外22】 (式(18)中、Y201は塩素原子または臭素原子を
    示す。X11は置換基を有してもよくエーテル基で中断
    されていてもよい炭素数1〜15の2価のアルキレン基
    (Y201もしくはN原子との結合位置に酸素原子を介
    在してもよい)、置換基を有してもよい2価のアリーレ
    ン基または置換基を有してもよい2価のアラルキレン基
    のいずれかを示す。R12は置換基を有してもよい炭素
    数1〜15のアルキル基、置換基を有してもよいアリー
    ル基または置換基を有してもよいアラルキル基のいずれ
    かを示す。) アクリル酸ナトリウムおよびアクリル酸カリウムの少な
    くとも一方とを反応させて、下記式(1)で示される構
    造を有するナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物 【外23】 (式(1)中、X11およびR12は、上記式(20)
    中のX11およびR12と同義である。すなわち、X
    11は置換基を有してもよくエーテル基で中断されてい
    てもよい炭素数1〜15の2価のアルキレン基(R11
    もしくはN原子との結合位置に酸素原子を介在してもよ
    い)、置換基を有してもよい2価のアリーレン基または
    置換基を有してもよい2価のアラルキレン基のいずれか
    を示す。R は下記式(2)を示し、 【外24】 12は置換基を有してもよい炭素数1〜15のアルキ
    ル基、置換基を有してもよいアリール基または置換基を
    有してもよいアラルキル基のいずれかを示す。)を製造
    するナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物の製造
    方法。
  13. 【請求項13】 下記式(20)で示される構造を有す
    るナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物と、 【外25】 (式(20)中、Y201は塩素原子または臭素原子を
    示す。X11は置換基を有してもよくエーテル基で中断
    されていてもよい炭素数1〜15の2価のアルキレン基
    (Y201もしくはN原子との結合位置に酸素原子を介
    在してもよい)、置換基を有してもよい2価のアリーレ
    ン基または置換基を有してもよい2価のアラルキレン基
    のいずれかを示す。R12は置換基を有してもよい炭素
    数1〜15のアルキル基、置換基を有してもよいアリー
    ル基または置換基を有してもよいアラルキル基のいずれ
    かを示す。) メタクリル酸ナトリウムおよびメタクリル酸カリウムの
    少なくとも一方とを反応させて、下記式(1)で示され
    る構造を有するナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化
    合物 【外26】 (式(1)中、X11およびR12は、上記式(20)
    中のX11およびR12と同義である。すなわち、X
    11は置換基を有してもよくエーテル基で中断されてい
    てもよい炭素数1〜15の2価のアルキレン基(R11
    もしくはN原子との結合位置に酸素原子を介在してもよ
    い)、置換基を有してもよい2価のアリーレン基または
    置換基を有してもよい2価のアラルキレン基のいずれか
    を示す。R は下記式(3)を示し、 【外27】 12は置換基を有してもよい炭素数1〜15のアルキ
    ル基、置換基を有してもよいアリール基または置換基を
    有してもよいアラルキル基のいずれかを示す。)を製造
    するナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物の製造
    方法。
  14. 【請求項14】 下記式(21)で示される構造を有す
    るナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物と、 【外28】 (式(21)中、Y211およびY212はそれぞれ塩
    素原子または臭素原子を示す。X51およびX52はそ
    れぞれ置換基を有してもよくエーテル基で中断されてい
    てもよい炭素数1〜15の2価のアルキレン基(Y
    211またはY212もしくはN原子との結合位置に酸
    素原子を介在してもよい)、置換基を有してもよい2価
    のアリーレン基または置換基を有してもよい2価のアラ
    ルキレン基のいずれかを示す。) アクリル酸ナトリウムおよびアクリル酸カリウムの少な
    くとも一方とを反応させて、下記式(1)で示される構
    造を有するナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物 【外29】 (式(5)中、X51およびX52は、上記式(21)
    中のX51およびX52と同義である。すなわち、X
    51およびX52はそれぞれ置換基を有してもよくエー
    テル基で中断されていてもよい炭素数1〜15の2価の
    アルキレン基(R またはR52もしくはN原子との
    結合位置に酸素原子を介在してもよい)、置換基を有し
    てもよい2価のアリーレン基または置換基を有してもよ
    い2価のアラルキレン基のいずれかを示す。R51およ
    びR52はそれぞれ下記式(2)を示す。 【外30】 を製造するナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物
    の製造方法。
  15. 【請求項15】 下記式(21)で示される構造を有す
    るナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物と、 【外31】 (式(21)中、Y211およびY212はそれぞれ塩
    素原子または臭素原子を示す。X51およびX52はそ
    れぞれ置換基を有してもよくエーテル基で中断されてい
    てもよい炭素数1〜15の2価のアルキレン基(Y
    211またはY212もしくはN原子との結合位置に酸
    素原子を介在してもよい)、置換基を有してもよい2価
    のアリーレン基または置換基を有してもよい2価のアラ
    ルキレン基のいずれかを示す。) メタクリル酸ナトリウムおよびメタクリル酸カリウムの
    少なくとも一方とを反応させて、下記式(1)で示され
    る構造を有するナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化
    合物 【外32】 (式(5)中、X51およびX52は、上記式(21)
    中のX51およびX52と同義である。すなわち、X
    51およびX52はそれぞれ置換基を有してもよくエー
    テル基で中断されていてもよい炭素数1〜15の2価の
    アルキレン基(R またはR52もしくはN原子との
    結合位置に酸素原子を介在してもよい)、置換基を有し
    てもよい2価のアリーレン基または置換基を有してもよ
    い2価のアラルキレン基のいずれかを示す。R51およ
    びR52はそれぞれ下記式(3)を示す。 【外33】 を製造するナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物
    の製造方法。
  16. 【請求項16】 触媒としてのイミダゾール存在下で、
    下記式(17)で示される構造を有するナフタレンテト
    ラカルボン酸無水物と、 【外34】 下記式(22)で示される構造を有する一級アミンと 【外35】 (式(22)中、Y221は水酸基、塩素原子または臭
    素原子を示す。X221は置換基を有してもよくエーテ
    ル基で中断されていてもよい炭素数1〜15の2価のア
    ルキレン基(Y231もしくはN原子との結合位置に酸
    素原子を介在してもよい)、置換基を有してもよい2価
    のアリーレン基または置換基を有してもよい2価のアラ
    ルキレン基のいずれかを示す。)を反応させて、下記式
    (23)で示される構造を有するナフタレンテトラカル
    ボン酸ジイミド化合物、および、 【外36】 (式(23)中、Y231は水酸基、塩素原子または臭
    素原子を示す。X11は置換基を有してもよくエーテル
    基で中断されていてもよい炭素数1〜15の2価のアル
    キレン基(Y231もしくはN原子との結合位置に酸素
    原子を介在してもよい)、置換基を有してもよい2価の
    アリーレン基または置換基を有してもよい2価のアラル
    キレン基のいずれかを示す。R12は置換基を有しても
    よい炭素数1〜15のアルキル基、置換基を有してもよ
    いアリール基または置換基を有してもよいアラルキル基
    のいずれかを示す。) 下記式(24)で示される構造を有するナフタレンテト
    ラカルボン酸ジイミド化合物 【外37】 (式(24)中、Y241およびY242はそれぞれ水
    酸基、塩素原子または臭素原子を示す。X51およびX
    52はそれぞれ置換基を有してもよくエーテル基で中断
    されていてもよい炭素数1〜15の2価のアルキレン基
    (Y241またはY242もしくはN原子との結合位置
    に酸素原子を介在してもよい)、置換基を有してもよい
    2価のアリーレン基または置換基を有してもよい2価の
    アラルキレン基のいずれかを示す。)の少なくとも一方
    を製造するナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物
    の製造方法。
  17. 【請求項17】 下記式(23)で示される構造を有す
    るナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物。 【外38】 (式(23)中、Y231は水酸基、塩素原子または臭
    素原子を示す。X11は置換基を有してもよくエーテル
    基で中断されていてもよい炭素数1〜15の2価のアル
    キレン基(Y231もしくはN原子との結合位置に酸素
    原子を介在してもよい)、置換基を有してもよい2価の
    アリーレン基または置換基を有してもよい2価のアラル
    キレン基のいずれかを示す。R12は置換基を有しても
    よい炭素数1〜15のアルキル基、置換基を有してもよ
    いアリール基または置換基を有してもよいアラルキル基
    のいずれかを示す。)
  18. 【請求項18】 下記式(24)で示される構造を有す
    るナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物。 【外39】 (式(24)中、Y241およびY242はそれぞれ水
    酸基、塩素原子または臭素原子を示す。X51およびX
    52はそれぞれ置換基を有してもよくエーテル基で中断
    されていてもよい炭素数1〜15の2価のアルキレン基
    (Y241またはY242もしくはN原子との結合位置
    に酸素原子を介在してもよい)、置換基を有してもよい
    2価のアリーレン基または置換基を有してもよい2価の
    アラルキレン基のいずれかを示す。)
JP2002135614A 2002-05-10 2002-05-10 ナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物の製造方法 Expired - Fee Related JP4078113B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002135614A JP4078113B2 (ja) 2002-05-10 2002-05-10 ナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002135614A JP4078113B2 (ja) 2002-05-10 2002-05-10 ナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003327587A true JP2003327587A (ja) 2003-11-19
JP4078113B2 JP4078113B2 (ja) 2008-04-23

Family

ID=29697901

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002135614A Expired - Fee Related JP4078113B2 (ja) 2002-05-10 2002-05-10 ナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4078113B2 (ja)

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005154409A (ja) * 2003-07-16 2005-06-16 Mitsui Chemicals Inc 新規なナフタレンカルボン酸誘導体、および該化合物を用いた電子写真感光体、電子写真装置
WO2005066718A1 (ja) * 2003-12-26 2005-07-21 Canon Kabushiki Kaisha 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置
WO2007024522A1 (en) * 2005-08-19 2007-03-01 Eastman Kodak Company Condensation polymer photoconductive elements
KR100739683B1 (ko) * 2004-04-09 2007-07-13 삼성전자주식회사 나프탈렌테트라카르복실산 디이미드 유도체를 포함한유기감광체 및 이를 채용한 전자사진 화상형성장치
JPWO2005092901A1 (ja) * 2004-03-29 2008-02-14 三井化学株式会社 新規化合物、および該化合物を用いた有機エレクトロニクス素子
WO2008051552A2 (en) * 2006-10-25 2008-05-02 Northwestern University Organic semiconductor materials and methods of preparing and use thereof
US7371492B2 (en) 2005-07-28 2008-05-13 Eastman Kodak Company Vinyl polymer photoconductive elements
US7371493B2 (en) 2005-03-11 2008-05-13 Samsung Electronics Co., Ltd. Charge transport materials having a 1,3,6,8-tetraoxo-1,3,6,8-tetrahydrobenzo[lmn][3,8]phenanthroline-2,7-diyl group
JP2008250082A (ja) * 2007-03-30 2008-10-16 Canon Inc 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジ及び電子写真装置
US7569693B2 (en) 2006-06-12 2009-08-04 Northwestern University Naphthalene-based semiconductor materials and methods of preparing and use thereof
US7579127B2 (en) 2006-06-15 2009-08-25 Eastman Kodak Company Blocked polyisocyanates incorporating planar electron-deficient tetracobonylbisimide moieties
CN100535768C (zh) * 2005-06-13 2009-09-02 三星电子株式会社 电子照相感光体以及使用该感光体的电子照相成像设备
US7671202B2 (en) 2004-01-26 2010-03-02 Northwestern University Perylene n-type semiconductors and related devices
US7776500B2 (en) 2006-06-15 2010-08-17 Eastman Kodak Company Monomeric glass mixtures incorporating tetracarbonylbisimide group
US7893265B2 (en) 2007-01-08 2011-02-22 Polyera Corporation Methods for preparing arene-BIS (dicarboximide)-based semiconducting materials and related intermediates for preparing same
US7902363B2 (en) 2006-11-17 2011-03-08 Polyera Corporation Diimide-based semiconductor materials and methods of preparing and using the same
US7964328B2 (en) 2007-07-30 2011-06-21 Eastman Kodak Company Condensation polymer photoconductive elements
US8022214B2 (en) 2007-01-24 2011-09-20 Polyera Corporation Organic semiconductor materials and precursors thereof
JP2017178815A (ja) * 2016-03-29 2017-10-05 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 ナフタレンテトラカルボジイミド誘導体及び電子写真感光体

Cited By (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005154409A (ja) * 2003-07-16 2005-06-16 Mitsui Chemicals Inc 新規なナフタレンカルボン酸誘導体、および該化合物を用いた電子写真感光体、電子写真装置
JP4547201B2 (ja) * 2003-07-16 2010-09-22 三井化学株式会社 新規なナフタレンカルボン酸誘導体、および該化合物を用いた電子写真感光体、電子写真装置
WO2005066718A1 (ja) * 2003-12-26 2005-07-21 Canon Kabushiki Kaisha 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置
US7129012B2 (en) 2003-12-26 2006-10-31 Canon Kabushiki Kaisha Electrophotographic photosensitive member, process cartridge, and electrophotographic apparatus
US7671202B2 (en) 2004-01-26 2010-03-02 Northwestern University Perylene n-type semiconductors and related devices
US7982039B2 (en) 2004-01-26 2011-07-19 Northwestern University N-type semiconductors and related devices
JP4627528B2 (ja) * 2004-03-29 2011-02-09 三井化学株式会社 新規化合物、および該化合物を用いた有機エレクトロニクス素子
JPWO2005092901A1 (ja) * 2004-03-29 2008-02-14 三井化学株式会社 新規化合物、および該化合物を用いた有機エレクトロニクス素子
KR100739683B1 (ko) * 2004-04-09 2007-07-13 삼성전자주식회사 나프탈렌테트라카르복실산 디이미드 유도체를 포함한유기감광체 및 이를 채용한 전자사진 화상형성장치
CN100394309C (zh) * 2004-04-09 2008-06-11 三星电子株式会社 含萘四羧酸二酰亚胺衍生物的电子照相感光体及其电子照相成像设备
US7396624B2 (en) 2004-04-09 2008-07-08 Samsung Electronics Co., Ltd. Electrophotographic photoreceptor containing naphthalenetetracarboxylic acid diimide derivatives and electrophotographic imaging apparatus employing the same
US7371493B2 (en) 2005-03-11 2008-05-13 Samsung Electronics Co., Ltd. Charge transport materials having a 1,3,6,8-tetraoxo-1,3,6,8-tetrahydrobenzo[lmn][3,8]phenanthroline-2,7-diyl group
CN100535768C (zh) * 2005-06-13 2009-09-02 三星电子株式会社 电子照相感光体以及使用该感光体的电子照相成像设备
US7371492B2 (en) 2005-07-28 2008-05-13 Eastman Kodak Company Vinyl polymer photoconductive elements
JP2009505156A (ja) * 2005-08-19 2009-02-05 イーストマン コダック カンパニー 縮合ポリマー光導電素子
WO2007024522A1 (en) * 2005-08-19 2007-03-01 Eastman Kodak Company Condensation polymer photoconductive elements
US7569693B2 (en) 2006-06-12 2009-08-04 Northwestern University Naphthalene-based semiconductor materials and methods of preparing and use thereof
US7579127B2 (en) 2006-06-15 2009-08-25 Eastman Kodak Company Blocked polyisocyanates incorporating planar electron-deficient tetracobonylbisimide moieties
US7776500B2 (en) 2006-06-15 2010-08-17 Eastman Kodak Company Monomeric glass mixtures incorporating tetracarbonylbisimide group
WO2008051552A3 (en) * 2006-10-25 2009-03-19 Univ Northwestern Organic semiconductor materials and methods of preparing and use thereof
US7947837B2 (en) 2006-10-25 2011-05-24 Polyera Corporation Organic semiconductor materials and methods of preparing and use thereof
WO2008051552A2 (en) * 2006-10-25 2008-05-02 Northwestern University Organic semiconductor materials and methods of preparing and use thereof
US7902363B2 (en) 2006-11-17 2011-03-08 Polyera Corporation Diimide-based semiconductor materials and methods of preparing and using the same
US7893265B2 (en) 2007-01-08 2011-02-22 Polyera Corporation Methods for preparing arene-BIS (dicarboximide)-based semiconducting materials and related intermediates for preparing same
US8022214B2 (en) 2007-01-24 2011-09-20 Polyera Corporation Organic semiconductor materials and precursors thereof
JP2008250082A (ja) * 2007-03-30 2008-10-16 Canon Inc 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジ及び電子写真装置
US7964328B2 (en) 2007-07-30 2011-06-21 Eastman Kodak Company Condensation polymer photoconductive elements
JP2017178815A (ja) * 2016-03-29 2017-10-05 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 ナフタレンテトラカルボジイミド誘導体及び電子写真感光体

Also Published As

Publication number Publication date
JP4078113B2 (ja) 2008-04-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2003327587A (ja) 新規なナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物とその重合体、および、該ナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物の製造方法
Draheim et al. Polymerizable dendrimers. Synthesis of a symmetrically branched methacryl derivative bearing eight ester groups
TW201229001A (en) Novel spirobifluorene compounds
JP2007502251A (ja) 2位官能化及び2,7位二官能化カルバゾール類のモノマー類、オリゴマー類、及びポリマー類
TW562837B (en) PPE copolymers, the process of preparing the same and resin composition having the same
JP5135897B2 (ja) キノクサリン含有化合物およびその重合体
US20230043088A1 (en) Organic Light Emitting Device
JP2005146022A (ja) 電荷輸送性単量体、電荷輸送性材料およびその製造方法
Wang et al. Synthesis and characterization of a partial-conjugated hyperbranched poly (p-phenylene vinylene)(HPPV)
JP2008056894A (ja) 高分岐ポリマー及びその製造方法、並びに、高分岐ポリマー合成用モノマー及びその前駆体
JP4754098B2 (ja) 液晶化合物と同様な化学構造を持ち、電子輸送性el素子として応用可能なビオロゲン誘導体およびその製造方法
JP5040159B2 (ja) 新規なチオフェン含有化合物及びチオフェン含有化合物重合体
JP4873570B2 (ja) ポリ[2]カテナン化合物およびその単量体、ならびにそれらの製造方法
JP2004115628A (ja) スーパー螺旋共役構造を有するポリアセチレン及びその製造方法
JP2021502439A (ja) 新規な高分子およびこれを含む有機発光素子
Wang et al. Synthesis and property investigations: A partially conjugated hyperbranched polymer for light-emitting application
JP3830677B2 (ja) 光学活性ポリチオフェン誘導体とその製造方法
JP2004256690A (ja) 吸光・発光スペクトルの形状及びピーク位置が可逆的に変化するポリマー
US11987665B2 (en) Polymer and organic light emitting device comprising same
CN108976426B (zh) 一种高接枝密度环梳状聚合物及其制备方法
US20220238804A1 (en) Organic Light Emitting Device
CN110698651B (zh) 一种聚集诱导红移发光聚合物及其制备方法与应用
JP2009185125A (ja) 高分岐ポリマー及びその製造方法、並びに、高分岐ポリマー合成用モノマー及びその前駆体
JP3245120B2 (ja) 光学活性ポリチオフェン誘導体
JP2011153117A (ja) 縮環芳香族高分子およびその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040524

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20071025

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20071030

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20071217

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080122

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080204

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4078113

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110208

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120208

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130208

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140208

Year of fee payment: 6

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees