JP2003323979A - エレクトロルミネッセンス表示装置のエージング方法 - Google Patents
エレクトロルミネッセンス表示装置のエージング方法Info
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Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】白ラスターでR,G,B同時にエージングを行
うと、R,G,Bの各画素で有機EL素子の輝度劣化特
性が異なるために、それぞれの適切なエージング条件に
対して、エージングの過剰、あるいは不足が起こり、有
機EL素子の輝度劣化特性に合わせて適切なエージング
を行うことができなかった。 【解決手段】R画素101,G画素102,B画素10
3に、それぞれの画素に対応するEL素子の輝度劣化特
性に合わせて、当該EL素子に電流を順次供給するエー
ジングを行うようにしたので、有機EL素子の輝度劣化
特性に合わせて、R,G,Bの各色で見かけ上の最大寿
命を持たせた状態で出荷をすることができる。また、
R,G,BのEL素子を同時に点灯させないので、発熱
が抑えられ、EL素子に加わるダメージが軽減される。
うと、R,G,Bの各画素で有機EL素子の輝度劣化特
性が異なるために、それぞれの適切なエージング条件に
対して、エージングの過剰、あるいは不足が起こり、有
機EL素子の輝度劣化特性に合わせて適切なエージング
を行うことができなかった。 【解決手段】R画素101,G画素102,B画素10
3に、それぞれの画素に対応するEL素子の輝度劣化特
性に合わせて、当該EL素子に電流を順次供給するエー
ジングを行うようにしたので、有機EL素子の輝度劣化
特性に合わせて、R,G,Bの各色で見かけ上の最大寿
命を持たせた状態で出荷をすることができる。また、
R,G,BのEL素子を同時に点灯させないので、発熱
が抑えられ、EL素子に加わるダメージが軽減される。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、エレクトロルミネ
ッセンス表示装置のエージング方法に関し、特に、出荷
後のエレクトロルミネッセンス素子の輝度の経時変化を
抑制するために、エレクトロルミネッセンス素子に所定
時間、電流を供給するエージング方法に関するものであ
る。
ッセンス表示装置のエージング方法に関し、特に、出荷
後のエレクトロルミネッセンス素子の輝度の経時変化を
抑制するために、エレクトロルミネッセンス素子に所定
時間、電流を供給するエージング方法に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】近年、有機エレクトロルミネッセンス
(Electro Luminescence:以下、「有機EL」と称す
る。)素子を用いた有機EL表示装置が、CRTやLC
Dに代わる表示装置として注目されている。フルカラー
の有機EL表示装置においては、R,G,Bの画素がマ
トリクス状に複数配置され表示領域を構成しており、こ
れらの各画素に駆動信号を供給することで、画素毎に対
応して設けられ、それぞれR,G,Bに対応した発光特
性を有する有機EL素子を自発光させて表示を行ってい
る。
(Electro Luminescence:以下、「有機EL」と称す
る。)素子を用いた有機EL表示装置が、CRTやLC
Dに代わる表示装置として注目されている。フルカラー
の有機EL表示装置においては、R,G,Bの画素がマ
トリクス状に複数配置され表示領域を構成しており、こ
れらの各画素に駆動信号を供給することで、画素毎に対
応して設けられ、それぞれR,G,Bに対応した発光特
性を有する有機EL素子を自発光させて表示を行ってい
る。
【0003】有機EL素子は、輝度の初期劣化が大きい
という特性を有するため、出荷前に有機EL素子に電流
を供給して発光させるエージングを行うことによってそ
の輝度を劣化させ、その後の輝度の経時変化を抑制して
いた。
という特性を有するため、出荷前に有機EL素子に電流
を供給して発光させるエージングを行うことによってそ
の輝度を劣化させ、その後の輝度の経時変化を抑制して
いた。
【0004】従来の有機EL表示装置のエージング方法
は、図8に示すように、白ラスターでR画素101,G
画素102,B画素103に対して同時にエージングを
行っていた。
は、図8に示すように、白ラスターでR画素101,G
画素102,B画素103に対して同時にエージングを
行っていた。
【0005】また、従来の有機EL表示装置のエージン
グ方法は、有機EL素子を定電流で駆動し、輝度劣化が
所定値に達するまでエージングを行っていた。なお、有
機EL表示装置のエージング方法に係る先行技術として
は、特許第3250561号がある。
グ方法は、有機EL素子を定電流で駆動し、輝度劣化が
所定値に達するまでエージングを行っていた。なお、有
機EL表示装置のエージング方法に係る先行技術として
は、特許第3250561号がある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、白ラス
ターでR,G,B同時にエージングを行うと、R,G,
Bの各画素で有機EL素子の輝度劣化特性が異なるため
に、それぞれの適切なエージング条件に対して、エージ
ングの過剰、あるいは不足が起こり、有機EL素子の輝
度劣化特性に合わせて適切なエージングを行うことがで
きなかった。また、R,G,Bの有機EL素子を同時に
点灯させることにより、発熱が大きくなり、有機層(発
光層)に与えるダメージが大きくなる。
ターでR,G,B同時にエージングを行うと、R,G,
Bの各画素で有機EL素子の輝度劣化特性が異なるため
に、それぞれの適切なエージング条件に対して、エージ
ングの過剰、あるいは不足が起こり、有機EL素子の輝
度劣化特性に合わせて適切なエージングを行うことがで
きなかった。また、R,G,Bの有機EL素子を同時に
点灯させることにより、発熱が大きくなり、有機層(発
光層)に与えるダメージが大きくなる。
【0007】また、有機EL素子を定電流駆動するエー
ジング方法では、その輝度が所定輝度に劣化するまでの
時間が長いという欠点があった。
ジング方法では、その輝度が所定輝度に劣化するまでの
時間が長いという欠点があった。
【0008】そこで、本発明は、有機EL素子の輝度劣
化特性に合わせてエージングを行うことにより、R,
G,Bの各色で、見かけ上の最大寿命を持たせた状態で
出荷をすることができるエレクトロルミネッセンス表示
装置のエージング方法を提供することを目的とする。
化特性に合わせてエージングを行うことにより、R,
G,Bの各色で、見かけ上の最大寿命を持たせた状態で
出荷をすることができるエレクトロルミネッセンス表示
装置のエージング方法を提供することを目的とする。
【0009】また、本発明は、定電流駆動によるエージ
ング方法に比してエージング時間を短縮したエレクトロ
ルミネッセンス表示装置のエージング方法を提供するこ
とを目的とする。
ング方法に比してエージング時間を短縮したエレクトロ
ルミネッセンス表示装置のエージング方法を提供するこ
とを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は、エレクトロル
ミネッセンス素子を含むR,G,Bの画素を有するエレ
クトロルミネッセンス表示装置のエージング方法におい
て、前記R,G,Bの画素別に、それぞれの画素に対応
するエレクトロルミネッセンス素子の輝度劣化特性に合
わせて、該エレクトロルミネッセンス素子に電流を順次
供給するエージングを行うことを特徴とする。
ミネッセンス素子を含むR,G,Bの画素を有するエレ
クトロルミネッセンス表示装置のエージング方法におい
て、前記R,G,Bの画素別に、それぞれの画素に対応
するエレクトロルミネッセンス素子の輝度劣化特性に合
わせて、該エレクトロルミネッセンス素子に電流を順次
供給するエージングを行うことを特徴とする。
【0011】これにより、有機EL素子の輝度劣化特性
に合わせてエージングを行うことにより、R,G,Bの
各色で、見かけ上の最大寿命を持たせた状態で出荷をす
ることができる。また、R,G,Bのエレクトロルミネ
ッセンス素子を同時に点灯させないので、発熱が抑えら
れ、エレクトロルミネッセンス素子に加わるダメージが
軽減される。
に合わせてエージングを行うことにより、R,G,Bの
各色で、見かけ上の最大寿命を持たせた状態で出荷をす
ることができる。また、R,G,Bのエレクトロルミネ
ッセンス素子を同時に点灯させないので、発熱が抑えら
れ、エレクトロルミネッセンス素子に加わるダメージが
軽減される。
【0012】また、本発明は、エレクトロルミネッセン
ス素子を含む複数の画素を有するエレクトロルミネッセ
ンス表示装置のエージング方法において、前記エレクト
ロルミネッセンス素子の輝度が一定となるように前記エ
レクトロルミネッセンス素子に電流を供給し、該電流が
所定電流値に達するまでエージングを行うことを特徴と
する。
ス素子を含む複数の画素を有するエレクトロルミネッセ
ンス表示装置のエージング方法において、前記エレクト
ロルミネッセンス素子の輝度が一定となるように前記エ
レクトロルミネッセンス素子に電流を供給し、該電流が
所定電流値に達するまでエージングを行うことを特徴と
する。
【0013】これにより、エレクトロルミネッセンス素
子に供給される電流は時間と共に増加していくので、劣
化が促進され、エージング時間が短縮される。
子に供給される電流は時間と共に増加していくので、劣
化が促進され、エージング時間が短縮される。
【0014】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施形態について
図面を参照しながら詳細に説明する。
図面を参照しながら詳細に説明する。
【0015】第1の実施形態について図1,図2を参照
して説明する。図1に示すように、有機EL表示装置
は、一方向に配列されたR画素101,G画素102,
B画素103を有している。図面では省略したが、実際
にはこれらのR,G,Bの画素が、マトリクス状に複数
配列されて表示領域を構成している。そして、R,G,
Bの画素別に、それぞれの画素に対応する有機EL素子
の輝度劣化特性に合わせて、有機EL素子に電流を順次
供給するエージングを行う。
して説明する。図1に示すように、有機EL表示装置
は、一方向に配列されたR画素101,G画素102,
B画素103を有している。図面では省略したが、実際
にはこれらのR,G,Bの画素が、マトリクス状に複数
配列されて表示領域を構成している。そして、R,G,
Bの画素別に、それぞれの画素に対応する有機EL素子
の輝度劣化特性に合わせて、有機EL素子に電流を順次
供給するエージングを行う。
【0016】図2に、図1に示したR,G,Bの画素の
等価回路図を示す。図2において、ゲート信号Gnを供
給するゲート信号線50と、ドレイン信号、すなわち、
信号電圧SVを供給するドレイン信号線60とが互いに
交差している。それらの両信号線の交差点付近には、有
機EL素子120及びこの有機EL素子120を駆動す
るTFT100、表示画素を選択するためのTFT11
0が配置されている。
等価回路図を示す。図2において、ゲート信号Gnを供
給するゲート信号線50と、ドレイン信号、すなわち、
信号電圧SVを供給するドレイン信号線60とが互いに
交差している。それらの両信号線の交差点付近には、有
機EL素子120及びこの有機EL素子120を駆動す
るTFT100、表示画素を選択するためのTFT11
0が配置されている。
【0017】有機EL素子駆動用の第1のTFT100
のドレイン110dには駆動電源105が接続され、こ
の駆動電源105から正の駆動電圧PVddが供給され
ている。また、ソース110sは有機EL素子120の
アノード(陽極)121に接続されている。
のドレイン110dには駆動電源105が接続され、こ
の駆動電源105から正の駆動電圧PVddが供給され
ている。また、ソース110sは有機EL素子120の
アノード(陽極)121に接続されている。
【0018】また、表示画素選択用の第2のTFT11
0のゲート110gにはゲート信号線50が接続される
ことによりゲート信号Gnが供給され、ドレイン110
dにはドレイン信号線60が接続されることにより、信
号電圧SVが供給される。第2のTFT110のソース
110sは上記第1のTFT100のゲート100gに
接続されている。
0のゲート110gにはゲート信号線50が接続される
ことによりゲート信号Gnが供給され、ドレイン110
dにはドレイン信号線60が接続されることにより、信
号電圧SVが供給される。第2のTFT110のソース
110sは上記第1のTFT100のゲート100gに
接続されている。
【0019】ここで、ゲート信号Gnは表示領域の周辺
に配置された不図示のゲートドライバ回路から出力され
る。信号電圧SVは、同様に表示領域の周辺に配置され
た不図示のドレインドライバ回路から出力される。ま
た、有機EL素子120は、アノード(陽極)121、
カソード(陰極)122、このアノード121とカソー
ド122の間に形成された発光素子層123から成る。
に配置された不図示のゲートドライバ回路から出力され
る。信号電圧SVは、同様に表示領域の周辺に配置され
た不図示のドレインドライバ回路から出力される。ま
た、有機EL素子120は、アノード(陽極)121、
カソード(陰極)122、このアノード121とカソー
ド122の間に形成された発光素子層123から成る。
【0020】カソード122は負の共通電圧を供給する
共通電源140に接続されている。
共通電源140に接続されている。
【0021】また、第1のTFT100のゲート100
gには保持容量130が接続されている。すなわち、保
持容量130の一方の電極はゲート100gに接続さ
れ、他方の電極は保持容量電極131に接続されてい
る。保持容量130は信号電圧SVに応じた電荷を保持
することにより、1フィールド期間、表示画素の信号電
圧を保持するために設けられている。
gには保持容量130が接続されている。すなわち、保
持容量130の一方の電極はゲート100gに接続さ
れ、他方の電極は保持容量電極131に接続されてい
る。保持容量130は信号電圧SVに応じた電荷を保持
することにより、1フィールド期間、表示画素の信号電
圧を保持するために設けられている。
【0022】上述した構成のEL表示装置の動作を簡単
に説明すると以下の通りである。ゲート信号Gnが一水
平期間、ハイレベルになると、第2のTFT110がオ
ンする。すると、ドレイン信号線60から信号電圧SV
が第2のTFT110を通して、第1のTFT100の
ゲート100gに印加される。そして、ゲート100g
に供給された信号電圧SVに応じて、第1のTFT10
0のコンダクタンスが変化し、それに応じた駆動電流が
駆動電源105から第1のTFT100を通して、有機
EL素子120に供給され、有機EL素子120が発光
する。
に説明すると以下の通りである。ゲート信号Gnが一水
平期間、ハイレベルになると、第2のTFT110がオ
ンする。すると、ドレイン信号線60から信号電圧SV
が第2のTFT110を通して、第1のTFT100の
ゲート100gに印加される。そして、ゲート100g
に供給された信号電圧SVに応じて、第1のTFT10
0のコンダクタンスが変化し、それに応じた駆動電流が
駆動電源105から第1のTFT100を通して、有機
EL素子120に供給され、有機EL素子120が発光
する。
【0023】ここで、有機EL素子120は、R,G,
Bに対応して異なる有機材料を用いて作製されているた
め、それぞれR,G,Bの発光特性を有している。
Bに対応して異なる有機材料を用いて作製されているた
め、それぞれR,G,Bの発光特性を有している。
【0024】図3にR(RED),G(GREEN),
B(BLUE)の各画素の輝度の時間変化を示す。同図
から明らかなように、R,G,B毎に異なる輝度劣化特
性を示している。そこで、R,G,Bの画素別に、それ
ぞれの画素に対応する有機EL素子の輝度劣化特性に合
わせて、有機EL素子に電流を順次供給するエージング
を行うようにした。例えば、R,G,Bの順番に電流を
供給すればよいが、その順番はこれには限られない。
B(BLUE)の各画素の輝度の時間変化を示す。同図
から明らかなように、R,G,B毎に異なる輝度劣化特
性を示している。そこで、R,G,Bの画素別に、それ
ぞれの画素に対応する有機EL素子の輝度劣化特性に合
わせて、有機EL素子に電流を順次供給するエージング
を行うようにした。例えば、R,G,Bの順番に電流を
供給すればよいが、その順番はこれには限られない。
【0025】具体的なエージング条件については以下の
通りである。まず、輝度設定は、R,G,Bの画素毎
に、例えば出荷時に設定される最大輝度となるような振
幅の信号電圧SV(信号電圧)を与える。この輝度設定
は、これに限らず、最大輝度の50%〜1000%の範
囲の輝度を含む。また、輝度設定は、信号電圧SVの振
幅によるものに限られず、図2の正の駆動電源105及
び負の共通電源140による設定を含む。
通りである。まず、輝度設定は、R,G,Bの画素毎
に、例えば出荷時に設定される最大輝度となるような振
幅の信号電圧SV(信号電圧)を与える。この輝度設定
は、これに限らず、最大輝度の50%〜1000%の範
囲の輝度を含む。また、輝度設定は、信号電圧SVの振
幅によるものに限られず、図2の正の駆動電源105及
び負の共通電源140による設定を含む。
【0026】そして、エージング時間については、R,
G,B毎の輝度劣化特性に従い、所定輝度に達するまで
の時間として設定される。例えば、図3において、初期
劣化と初期劣化後についてそれぞれ一次近似曲線が引け
るが、これらの一次近似曲線の交点に対応する時間、t
R,tG,tBがエージング時間として設定される。ま
た、エージング時間は、これに限られず、例えば初期輝
度に対する減少率から算出してもよい。
G,B毎の輝度劣化特性に従い、所定輝度に達するまで
の時間として設定される。例えば、図3において、初期
劣化と初期劣化後についてそれぞれ一次近似曲線が引け
るが、これらの一次近似曲線の交点に対応する時間、t
R,tG,tBがエージング時間として設定される。ま
た、エージング時間は、これに限られず、例えば初期輝
度に対する減少率から算出してもよい。
【0027】また、有機EL素子120の駆動方法につ
いては、定電流駆動に限られず、後述する第2の実施形
態のように、輝度が一定となるように有機EL素子12
0に電流を供給し、該電流が所定電流値に達するまでエ
ージングを行うようにしてもよい。
いては、定電流駆動に限られず、後述する第2の実施形
態のように、輝度が一定となるように有機EL素子12
0に電流を供給し、該電流が所定電流値に達するまでエ
ージングを行うようにしてもよい。
【0028】次に、第2の実施形態について、図4,図
5を参照しながら説明する。図4において、301は輝
度測定器であり、有機EL素子120が複数配列された
有機EL表示装置300の輝度を測定し、その輝度に応
じた輝度信号KSを出力する。302は輝度調整回路で
あり、輝度測定器301からの輝度信号KSが一定とな
るように有機EL素子120に信号電圧SV(駆動信
号)を供給する。また、303は電流検知器であり、有
機EL素子120に供給される電流Iを検知し、該電流
Iが所定値に達した時にエージング停止信号ESを出力
する。輝度調整回路302は、エージング停止信号ES
に応じて信号の信号電圧SVの出力を停止する。
5を参照しながら説明する。図4において、301は輝
度測定器であり、有機EL素子120が複数配列された
有機EL表示装置300の輝度を測定し、その輝度に応
じた輝度信号KSを出力する。302は輝度調整回路で
あり、輝度測定器301からの輝度信号KSが一定とな
るように有機EL素子120に信号電圧SV(駆動信
号)を供給する。また、303は電流検知器であり、有
機EL素子120に供給される電流Iを検知し、該電流
Iが所定値に達した時にエージング停止信号ESを出力
する。輝度調整回路302は、エージング停止信号ES
に応じて信号の信号電圧SVの出力を停止する。
【0029】上記のエージングシステムに基づくエージ
ング方法について説明する。輝度測定器301から得ら
れた輝度信号KSと輝度調整回路302が有している参
照輝度に応じた参照信号RSとを比較し、輝度信号KS
が参照信号RSより下がった時点信号電圧SVを有機E
L素子120の輝度が上がる方向に変化させる。
ング方法について説明する。輝度測定器301から得ら
れた輝度信号KSと輝度調整回路302が有している参
照輝度に応じた参照信号RSとを比較し、輝度信号KS
が参照信号RSより下がった時点信号電圧SVを有機E
L素子120の輝度が上がる方向に変化させる。
【0030】例えば、初期輝度50cd/m2からエー
ジングを開始し、45cd/m2に劣化した時点で、5
0cd/m2近くになるように信号電圧SVの振幅を変
える。
ジングを開始し、45cd/m2に劣化した時点で、5
0cd/m2近くになるように信号電圧SVの振幅を変
える。
【0031】この場合のエージング時間は、前回のエー
ジング時に45cd/m2に到達した時間を参考にして
決定することが考えられるが、それに限定されるもので
はない。
ジング時に45cd/m2に到達した時間を参考にして
決定することが考えられるが、それに限定されるもので
はない。
【0032】例えば、エージング開始からの時間積算か
らの算出、あるいは計算せずに、はじめから所定時間に
なれば信号電圧SVの振幅を変えるようにしてもよい。
また、上記の定輝度駆動は信号電圧調節に限らず、図2
の正の駆動電源105及び負の共通電源140による調
節であってもよい。
らの算出、あるいは計算せずに、はじめから所定時間に
なれば信号電圧SVの振幅を変えるようにしてもよい。
また、上記の定輝度駆動は信号電圧調節に限らず、図2
の正の駆動電源105及び負の共通電源140による調
節であってもよい。
【0033】図5は、有機EL素子の輝度及び有機EL
駆動電流の時間変化を示す図であり、図5(A)は定電
流駆動の場合の特性、図5(B)は定輝度駆動の場合の
特性を示している。図5(B)の定輝度駆動では、輝度
を一定にするために時間の経過と共に駆動電流が増加す
るため、図5(A)の定電流駆動の場合に比して短時間
でエージングを行うことができる。定輝度駆動のエージ
ングは上述したように、駆動電流値が所定値に到達した
時点で完了する。
駆動電流の時間変化を示す図であり、図5(A)は定電
流駆動の場合の特性、図5(B)は定輝度駆動の場合の
特性を示している。図5(B)の定輝度駆動では、輝度
を一定にするために時間の経過と共に駆動電流が増加す
るため、図5(A)の定電流駆動の場合に比して短時間
でエージングを行うことができる。定輝度駆動のエージ
ングは上述したように、駆動電流値が所定値に到達した
時点で完了する。
【0034】次に、上記第1及び第2の実施形態に共通
に適用されるEL表示装置の表示画素の構成例について
説明する。
に適用されるEL表示装置の表示画素の構成例について
説明する。
【0035】図6に有機EL表示装置の表示画素付近を
示す平面図を示し、図7(a)に図6中のA−A線に沿
った断面図を示し、図7(b)に図6中のB−B線に沿
った断面図を示す。
示す平面図を示し、図7(a)に図6中のA−A線に沿
った断面図を示し、図7(b)に図6中のB−B線に沿
った断面図を示す。
【0036】図6及び図7に示すように、ゲート信号線
51とドレイン信号線52とに囲まれた領域に表示画素
115が形成されており、マトリクス状に配置されてい
る。
51とドレイン信号線52とに囲まれた領域に表示画素
115が形成されており、マトリクス状に配置されてい
る。
【0037】この表示画素115には、自発光素子であ
る有機EL素子60と、この有機EL素子60に電流を
供給するタイミングを制御するスイッチング用TFT3
0と、有機EL素子60に電流を供給する駆動用TFT
40と、保持容量とが配置されている。なお、有機EL
素子60は、第1の電極である陽極61と発光材料から
なる発光素子層と、第2の電極である陰極65とから成
っている。
る有機EL素子60と、この有機EL素子60に電流を
供給するタイミングを制御するスイッチング用TFT3
0と、有機EL素子60に電流を供給する駆動用TFT
40と、保持容量とが配置されている。なお、有機EL
素子60は、第1の電極である陽極61と発光材料から
なる発光素子層と、第2の電極である陰極65とから成
っている。
【0038】即ち、両信号線51,52の交点付近には
スイッチング用TFTである第1のTFT30が備えら
れており、そのTFT30のソース33sは保持容量電
極線54との間で容量をなす容量電極55を兼ねるとと
もに、EL素子駆動用TFTである第2のTFT40の
ゲート41に接続されており、第2のTFTのソース4
3sは有機EL素子60の陽極61に接続され、他方の
ドレイン43dは有機EL素子60に供給される電流源
である駆動電源線53に接続されている。
スイッチング用TFTである第1のTFT30が備えら
れており、そのTFT30のソース33sは保持容量電
極線54との間で容量をなす容量電極55を兼ねるとと
もに、EL素子駆動用TFTである第2のTFT40の
ゲート41に接続されており、第2のTFTのソース4
3sは有機EL素子60の陽極61に接続され、他方の
ドレイン43dは有機EL素子60に供給される電流源
である駆動電源線53に接続されている。
【0039】また、ゲート信号線51と並行に保持容量
電極線54が配置されている。この保持容量電極線54
はクロム等から成っており、ゲート絶縁膜12を介して
TFTのソース33sと接続された容量電極55との間
で電荷を蓄積して容量を成している。この保持容量56
は、第2のTFT40のゲート電極41に供給される電
圧を保持するために設けられている。
電極線54が配置されている。この保持容量電極線54
はクロム等から成っており、ゲート絶縁膜12を介して
TFTのソース33sと接続された容量電極55との間
で電荷を蓄積して容量を成している。この保持容量56
は、第2のTFT40のゲート電極41に供給される電
圧を保持するために設けられている。
【0040】図7に示すように、有機EL表示装置は、
ガラスや合成樹脂などから成る基板又は導電性を有する
基板あるいは半導体基板等の基板10上に、TFT及び
有機EL素子を順に積層形成して成る。ただし、基板1
0として導電性を有する基板及び半導体基板を用いる場
合には、これらの基板10上にSiO2やSiNなどの
絶縁膜を形成した上に第1、第2のTFT及び有機EL
素子を形成する。いずれのTFTともに、ゲート電極が
ゲート絶縁膜を介して能動層の上方にあるいわゆるトッ
プゲート構造である。
ガラスや合成樹脂などから成る基板又は導電性を有する
基板あるいは半導体基板等の基板10上に、TFT及び
有機EL素子を順に積層形成して成る。ただし、基板1
0として導電性を有する基板及び半導体基板を用いる場
合には、これらの基板10上にSiO2やSiNなどの
絶縁膜を形成した上に第1、第2のTFT及び有機EL
素子を形成する。いずれのTFTともに、ゲート電極が
ゲート絶縁膜を介して能動層の上方にあるいわゆるトッ
プゲート構造である。
【0041】まず、スイッチング用TFTである第1の
TFT30について説明する。図7(a)に示すよう
に、石英ガラス、無アルカリガラス等からなる絶縁性基
板10上に、非晶質シリコン膜(以下、「a−Si膜」
と称する。)をCVD法等にて成膜し、そのa−Si膜
にレーザ光を照射して溶融再結晶化させて多結晶シリコ
ン膜(以下、「p−Si膜」と称する。)とし、これを
能動層33とする。
TFT30について説明する。図7(a)に示すよう
に、石英ガラス、無アルカリガラス等からなる絶縁性基
板10上に、非晶質シリコン膜(以下、「a−Si膜」
と称する。)をCVD法等にて成膜し、そのa−Si膜
にレーザ光を照射して溶融再結晶化させて多結晶シリコ
ン膜(以下、「p−Si膜」と称する。)とし、これを
能動層33とする。
【0042】その上に、SiO2膜、SiN膜の単層あ
るいは積層体をゲート絶縁膜32として形成する。更に
その上に、Cr、Moなどの高融点金属からなるゲート
電極31を兼ねたゲート信号線51及びAlから成るド
レイン信号線52を備えており、有機EL素子の駆動電
源でありAlから成る駆動電源線53が配置されてい
る。
るいは積層体をゲート絶縁膜32として形成する。更に
その上に、Cr、Moなどの高融点金属からなるゲート
電極31を兼ねたゲート信号線51及びAlから成るド
レイン信号線52を備えており、有機EL素子の駆動電
源でありAlから成る駆動電源線53が配置されてい
る。
【0043】そして、ゲート絶縁膜32及び能動層33
上の全面には、SiO2膜、SiN膜及びSiO2膜の順
に積層された層間絶縁膜15が形成されており、ドレイ
ン33dに対応して設けたコンタクトホールにAl等の
金属を充填したドレイン電極36が設けられ、更に全面
に有機樹脂から成り表面を平坦にする平坦化絶縁膜17
が形成されている。
上の全面には、SiO2膜、SiN膜及びSiO2膜の順
に積層された層間絶縁膜15が形成されており、ドレイ
ン33dに対応して設けたコンタクトホールにAl等の
金属を充填したドレイン電極36が設けられ、更に全面
に有機樹脂から成り表面を平坦にする平坦化絶縁膜17
が形成されている。
【0044】次に、有機EL素子の駆動用TFTである
第2のTFT40について説明する。図7(b)に示す
ように、石英ガラス、無アルカリガラス等からなる絶縁
性基板10上に、a−Si膜にレーザ光を照射して多結
晶化してなる能動層43、ゲート絶縁膜12、及びC
r、Moなどの高融点金属からなるゲート電極41が順
に形成されており、その能動層43には、チャネル43
cと、このチャネル43cの両側にソース43s及びド
レイン43dが設けられている。
第2のTFT40について説明する。図7(b)に示す
ように、石英ガラス、無アルカリガラス等からなる絶縁
性基板10上に、a−Si膜にレーザ光を照射して多結
晶化してなる能動層43、ゲート絶縁膜12、及びC
r、Moなどの高融点金属からなるゲート電極41が順
に形成されており、その能動層43には、チャネル43
cと、このチャネル43cの両側にソース43s及びド
レイン43dが設けられている。
【0045】そして、ゲート絶縁膜12及び能動層43
上の全面に、SiO2膜、SiN膜及びSiO2膜の順に
積層された層間絶縁膜15を形成し、ドレイン43dに
対応して設けたコンタクトホールにAl等の金属を充填
して駆動電源に接続された駆動電源線53が配置されて
いる。更に全面に例えば有機樹脂から成り表面を平坦に
する平坦化絶縁膜17を備えている。
上の全面に、SiO2膜、SiN膜及びSiO2膜の順に
積層された層間絶縁膜15を形成し、ドレイン43dに
対応して設けたコンタクトホールにAl等の金属を充填
して駆動電源に接続された駆動電源線53が配置されて
いる。更に全面に例えば有機樹脂から成り表面を平坦に
する平坦化絶縁膜17を備えている。
【0046】そして、その平坦化絶縁膜17のソース4
3sに対応した位置にコンタクトホールを形成し、この
コンタクトホールを介してソース43sとコンタクトし
たITOから成る透明電極、即ち有機EL素子の陽極6
1を平坦化絶縁膜17上に設けている。この陽極61は
各表示画素ごとに島状に分離形成されている。
3sに対応した位置にコンタクトホールを形成し、この
コンタクトホールを介してソース43sとコンタクトし
たITOから成る透明電極、即ち有機EL素子の陽極6
1を平坦化絶縁膜17上に設けている。この陽極61は
各表示画素ごとに島状に分離形成されている。
【0047】有機EL素子60は、ITO(Indium Tin
Oxide)等の透明電極から成る陽極61、MTDATA
(4,4-bis(3-methylphenylphenylamino)biphenyl)から
成る第1ホール輸送層、TPD(4,4,4-tris(3-methylp
henylphenylamino)triphenylanine)からなる第2ホー
ル輸送層から成るホール輸送層62、キナクリドン(Qu
inacridone)誘導体を含むBebq2(10-ベンゾ〔h〕
キノリノール−ベリリウム錯体)から成る発光層63、
及びBebq2から成る電子輸送層64、マグネシウム
・インジウム合金もしくはアルミニウム、もしくはアル
ミニウム合金から成る陰極65が、この順番で積層形成
された構造である。
Oxide)等の透明電極から成る陽極61、MTDATA
(4,4-bis(3-methylphenylphenylamino)biphenyl)から
成る第1ホール輸送層、TPD(4,4,4-tris(3-methylp
henylphenylamino)triphenylanine)からなる第2ホー
ル輸送層から成るホール輸送層62、キナクリドン(Qu
inacridone)誘導体を含むBebq2(10-ベンゾ〔h〕
キノリノール−ベリリウム錯体)から成る発光層63、
及びBebq2から成る電子輸送層64、マグネシウム
・インジウム合金もしくはアルミニウム、もしくはアル
ミニウム合金から成る陰極65が、この順番で積層形成
された構造である。
【0048】なお、平坦化絶縁膜17上にはさらに第2
の平坦化絶縁膜66が形成されている。そして、陽極6
1上については、第2の平坦化絶縁膜66が除去された
構造としている。
の平坦化絶縁膜66が形成されている。そして、陽極6
1上については、第2の平坦化絶縁膜66が除去された
構造としている。
【0049】有機EL素子60は、陽極61から注入さ
れたホールと、陰極65から注入された電子とが発光層
の内部で再結合し、発光層を形成する有機分子を励起し
て励起子が生じる。この励起子が放射失活する過程で発
光層から光が放たれ、この光が透明な陽極61から透明
絶縁基板を介して外部へ放出されて発光する。
れたホールと、陰極65から注入された電子とが発光層
の内部で再結合し、発光層を形成する有機分子を励起し
て励起子が生じる。この励起子が放射失活する過程で発
光層から光が放たれ、この光が透明な陽極61から透明
絶縁基板を介して外部へ放出されて発光する。
【0050】
【発明の効果】本発明によれば、R,G,Bの画素別
に、それぞれの画素に対応するEL素子の輝度劣化特性
に合わせて、当該EL素子に電流を順次供給するエージ
ングを行うようにしたので、有機EL素子の輝度劣化特
性に合わせて、R,G,Bの各色で見かけ上の最大寿命
を持たせた状態で出荷をすることができる。また、R,
G,BのEL素子を同時に点灯させないので、発熱が抑
えられ、EL素子に加わるダメージが軽減される。
に、それぞれの画素に対応するEL素子の輝度劣化特性
に合わせて、当該EL素子に電流を順次供給するエージ
ングを行うようにしたので、有機EL素子の輝度劣化特
性に合わせて、R,G,Bの各色で見かけ上の最大寿命
を持たせた状態で出荷をすることができる。また、R,
G,BのEL素子を同時に点灯させないので、発熱が抑
えられ、EL素子に加わるダメージが軽減される。
【0051】また、EL素子の輝度が一定となるように
EL素子に電流を供給し、該電流が所定電流値に達する
までエージングを行うようにしたので、EL素子に供給
される電流は時間と共に増加し、劣化が促進され、エー
ジング時間が短縮される。
EL素子に電流を供給し、該電流が所定電流値に達する
までエージングを行うようにしたので、EL素子に供給
される電流は時間と共に増加し、劣化が促進され、エー
ジング時間が短縮される。
【図1】本発明の第1の実施形態に係る有機EL表示装
置のエージング方法を説明する図である。
置のエージング方法を説明する図である。
【図2】R,G,Bの画素の等価回路図である。
【図3】R,G,Bの各画素の輝度の時間変化を示す図
である。
である。
【図4】有機EL表示装置のエージングを行うためのシ
ステムを示す図である。
ステムを示す図である。
【図5】有機EL素子の輝度及び有機EL駆動電流の時
間変化を示す図である。
間変化を示す図である。
【図6】有機EL表示装置の表示画素付近を示す平面図
である。
である。
【図7】有機EL表示装置の表示画素付近を示す断面図
である。
である。
【図8】従来の有機EL表示装置のエージング方法を示
す図である。
す図である。
101 R画素 101 G画素 103 B画素
301 輝度測定器 302 輝度調整回路 30
3 電流検知器
3 電流検知器
Claims (7)
- 【請求項1】 エレクトロルミネッセンス素子を含む
R,G,Bの画素を有するエレクトロルミネッセンス表
示装置のエージング方法において、前記R,G,Bの画
素別に、それぞれの画素に対応するエレクトロルミネッ
センス素子の輝度劣化特性に合わせて、該エレクトロル
ミネッセンス素子に電流を順次供給するエージングを行
うことを特徴とするエレクトロルミネッセンス表示装置
のエージング方法。 - 【請求項2】 前記エレクトロルミネッセンス素子の輝
度が初期輝度から所定輝度に低下するまでエージングを
行うことを特徴とする請求項1記載のエレクトロルミネ
ッセンス表示装置のエージング方法。 - 【請求項3】 前記エレクトロルミネッセンス素子の輝
度劣化特性の初期劣化期間の一次近似曲線と、前記初期
劣化期間経過後の一次近似曲線との交点に対応する時間
に至るまでエージングを行うことを特徴とする請求項1
または2記載のエレクトロルミネッセンス表示装置のエ
ージング方法。 - 【請求項4】 前記エレクトロルミネッセンス素子の輝
度が一定となるように前記エレクトロルミネッセンス素
子に電流を供給し、該電流が所定電流値に達するまでエ
ージングを行うことを特徴とする請求項1または2記載
のエレクトロルミネッセンス表示装置のエージング方
法。 - 【請求項5】 エレクトロルミネッセンス素子を含む複
数の画素を有するエレクトロルミネッセンス表示装置の
エージング方法において、 前記エレクトロルミネッセンス素子の輝度が一定となる
ように前記エレクトロルミネッセンス素子に電流を供給
し、該電流が所定電流値に達するまでエージングを行う
ことを特徴とするエレクトロルミネッセンス表示装置の
エージング方法。 - 【請求項6】 エレクトロルミネッセンス素子を含む複
数の画素を有するエレクトロルミネッセンス表示装置の
エージング方法において、 前記エレクトロルミネッセンス素子の輝度を測定し、輝
度が一定となるように前記エレクトロルミネッセンス素
子に駆動信号を供給し、前記エレクトロルミネッセンス
素子に供給される電流を検知して、該電流が所定値に達
した時にエージングを停止することを特徴とするエレク
トロルミネッセンス表示装置のエージング方法。 - 【請求項7】 エレクトロルミネッセンス素子を含む複
数の画素を有するエレクトロルミネッセンス表示装置の
エージング方法において、 前記エレクトロルミネッセンス素子の輝度を測定し、輝
度信号を出力する輝度測定器と、前記輝度測定器からの
前記輝度信号が一定となるように前記エレクトロルミネ
ッセンス素子に駆動信号を供給する輝度調整回路と、前
記エレクトロルミネッセンス素子に供給される電流を検
知し、該電流が所定値に達した時にエージング停止信号
を出力する電流検知器と、を準備し、前記輝度調整回路
は、前記エージング停止信号に応じて前記駆動信号の供
給を停止することを特徴とするエレクトロルミネッセン
ス表示装置のエージング方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002127421A JP2003323979A (ja) | 2002-04-26 | 2002-04-26 | エレクトロルミネッセンス表示装置のエージング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002127421A JP2003323979A (ja) | 2002-04-26 | 2002-04-26 | エレクトロルミネッセンス表示装置のエージング方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003323979A true JP2003323979A (ja) | 2003-11-14 |
Family
ID=29541537
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002127421A Withdrawn JP2003323979A (ja) | 2002-04-26 | 2002-04-26 | エレクトロルミネッセンス表示装置のエージング方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003323979A (ja) |
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2002
- 2002-04-26 JP JP2002127421A patent/JP2003323979A/ja not_active Withdrawn
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