JP2003318518A - フィルム基板の移載機構、及びこれを備えたプラズマ洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 プラズマ洗浄されたフィルム基板を円滑に搬
出用のマガジンへ移載するフィルム基板の移載機構を提
供する。 【解決手段】 プラズマ洗浄された可撓性の処理フィル
ム基板Ａｂを、その両側部を受け入れて支持する溝２０
が両側面の内側に複数段形成されるとともに両端が開放
された排出側マガジン２１へ、それら溝２０の上段から
順にスライド移載するフィルム基板の移載機構におい
て、排出側マガジン２１を挿通し略水平にスライド離脱
する一対の中空管７１の上面に、先端から順に、処理フ
ィルム基板Ａｂの下面を吸着して略水平に保持する吸盤
７４と、中空管７１がスライド離脱する際に、排出側マ
ガジン２１に収納されている最下段の処理フィルム基板
Ａｂの下面と摺動し、その湾曲して垂れた部分を吸盤７
４で保持されている処理フィルム基板Ａｂよりも上方に
押し上げて矯正するブロック体７６と、を設ける。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマ洗浄され
た可撓性のある薄いフィルム基板を搬出用のマガジンへ
移載するフィルム基板の移載機構、及びこれを備えたプ
ラズマ洗浄装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、プラズマ洗浄装置は、大きく
は、基板を略水平状態で水平移動可能に支持して内外間
を進退するトレイを有するとともに、内部にプラズマを
発生させて基板を洗浄するチャンバと、このチャンバの
外部に進退したトレイに対して基板を搬入・搬出する搬
入・搬出機構とからなり、この搬入・搬出機構は、プラ
ズマ洗浄前の基板を装置外から受け入れてトレイ上に搬
入するという搬入工程と、プラズマ洗浄された基板をト
レイから受け取り装置外へ搬出するという搬出工程とに
区分けされる。

【０００３】この搬出工程の最終段階では、基板は、そ
の両側部を受け入れて支持する溝が両側面の内側に複数
段形成されるとともに両端が開放されたマガジンへ、そ
れら溝の上段から順に移載機構によりスライド移載され
て収納され、マガジンごと装置外へ搬出されることにな
る。ここで、従来の移載機構は、マガジンを挿通し略水
平にスライド離脱が可能なアーム部材と、このアーム部
材に設けられ移載中の基板を保持する保持機構とを備え
ていて、保持機構で基板を保持したアーム部材がスライ
ド離脱することにより、その基板をマガジンへ移載する
ようになっている。なお、マガジンの上段から順に基板
を移載して収納する理由は、移載中の基板に多少点在し
ているゴミ等が不用意に落下して、既に収納されている
基板上に堆積しないようにするためである。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、プラズマ洗
浄の対象となる基板としては、従来は、フェノール系や
エポキシ系の樹脂製の硬質基板がほとんどであったが、
近年では、例えば携帯電話機のような薄い小型の携帯情
報機器等に搭載するために、厚さ５０〜１００μｍ程度
と薄く可撓性のあるフィルム基板が主流となってきてい
る。

【０００５】しかし、そのフィルム基板は、硬質基板と
異なり自由に屈曲するという特質を有するため、マガジ
ンに収納されて両側部が溝で支持されている状態では、
自重や実装部品等の重量によりその両側部を支点に中央
部が下方に湾曲して垂れ、特に、そのうちの最下段のフ
ィルム基板が著しく垂れると、その部分の端部とこれか
ら移載しようとするフィルム基板の端部とが移載中に干
渉し、フィルム基板は互いに予定しない大きな衝撃を受
けてしまう。

【０００６】よって、フィルム基板にとってみれば、保
持機構やマガジンから脱落して紛失したり、相互に破損
したりして、不良率が激増するという問題が生じる。他
方、装置にとってみれば、保持機構に保持されているフ
ィルム基板や、マガジンに収納されているフィルム基板
の位置ズレが引き起こされて、円滑な移載動作が阻害さ
れ、ひいてはプラズマ洗浄装置全体の操業効率の悪化に
つながるという問題がある。また、保持機構にも異常な
負荷を与えて、故障を招くという問題もある。

【０００７】なお、従来多用されていた硬質基板の場合
は、それがほとんど屈曲しないことから、上記のような
問題は基本的に生じなかった。

【０００８】そこで本発明は、上記の問題に鑑みてなさ
れたものであり、プラズマ洗浄されたフィルム基板を円
滑に搬出用のマガジンへ移載するフィルム基板の移載機
構を提供することを目的とするものである。また本発明
の目的は、プラズマ洗浄そのものに加え、プラズマ洗浄
されたフィルム基板を円滑に搬出用のマガジンへ移載す
ることができる効率的なプラズマ洗浄装置を提供するこ
とにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明によるフィルム基板の移載機構は、プラズマ
洗浄された可撓性のフィルム基板を、その両側部を受け
入れて支持する溝が両側面の内側に複数段形成されると
ともに両端が開放されたマガジンへ、それら溝の上段か
ら順にスライド移載するフィルム基板の移載機構におい
て、マガジンを挿通し略水平にスライド離脱してフィル
ム基板を移載するアーム部材と、このアーム部材に設け
られ移載中のフィルム基板を略水平に保持する保持機構
と、アーム部材がスライド離脱する際に、マガジンに収
納されている最下段のフィルム基板の湾曲して垂れた部
分を、保持機構により保持されているフィルム基板より
も上方に矯正する矯正機構と、を備えている。これによ
り、保持機構に保持されているフィルム基板と、マガジ
ンに収納されているフィルム基板とが、移載中に相互に
干渉することは全くなくなる。

【００１０】ここで、簡単な構成で実用的な矯正機構を
得る観点から、前記矯正機構がアーム部材に立設された
ブロック体であり、このブロック体の上面がマガジンに
収納されている最下段のフィルム基板の下面と摺動しな
がら押し上げるようになっているとよい。

【００１１】更に、移載の際、マガジン内の最下段のフ
ィルム基板における湾曲して垂れた部分の端面とブロッ
ク体の端面とが干渉することなく、その垂れた部分が徐
々に押し上げられるように、前記ブロック体の上面がア
ーム部材のスライド離脱する方向で下方に向けて傾斜す
ることが好ましい。

【００１２】更に、移載の際、マガジン内の最下段のフ
ィルム基板の下面とブロック体の上面とが相互に摺動す
るわけであるが、この摺動によってフィルム基板の下面
が著しく擦れて損傷しないように、前記ブロック体が樹
脂製であることが好ましい。

【００１３】また、マガジン内の最下段のフィルム基板
に対して全く損傷を与えない実用的な矯正機構を得る観
点から、前記矯正機構は、アーム部材と一体的にスライ
ド離脱し、後端に圧縮ポンプが連結されるとともに上面
に噴出孔が形成された管状部材であり、圧縮ポンプの駆
動により噴出孔から圧搾気体が噴出され、マガジンに収
納されている最下段のフィルム基板の下面を押し上げる
ようになっていてもよい。

【００１４】また、アーム部材によって移載されている
フィルム基板を簡単な構成で略水平に十分保持できるよ
うに、前記アーム部材が所定の間隔で水平に延在する一
対の中空管であって、前記保持機構は、各中空管の後端
に連結された真空ポンプと、各先端部に上方に向けて突
設されその内部に貫通する貫通孔を有する吸盤とからな
り、真空ポンプの駆動により各吸盤がフィルム基板の端
部下面を吸着して保持するようになっているとよい。

【００１５】そして、上記目的を達成するため、本発明
によるプラズマ洗浄装置は、前記いずれかのフィルム基
板の移載機構を備えている。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施形態につい
て図面を参照しながら詳述する。先ず、本発明の第１実
施形態について説明する。図１は第１実施形態のプラズ
マ洗浄装置の全体構成を示す概略斜視図、図２は図１に
おける右側のチャンバ及びトレイの拡大図、図３は図１
における基板搬送機構の拡大図、図４は図３のＡ−Ａ断
面図、図５は図１におけるチャンバ側移載機構の拡大
図、図６はチャンバ側移載機構における掴持機構の縦断
面図、図７は図１における押圧機構の拡大図、図８は図
１における掴持移載・押圧機構の拡大図、図９は掴持移
載・押圧機構における掴持・押圧機構の縦断面図、図１
０は図１における吸着移載機構の拡大図、図１１〜１４
はフィルム基板の移載動作を説明する概略図、図１５は
基板搬送機構におけるフィルム基板のバックアップ動作
を説明する概略図、図１６は吸着移載機構による処理フ
ィルム基板の矯正動作を説明する概略図である。なお、
図中で同じ名称で同じ機能を有する部分には同一の符号
を付している。

【００１７】図１に示すように、このプラズマ洗浄装置
１００は、大きくは、内部にプラズマを発生させ導入し
たフィルム基板Ａを洗浄する左右一対のチャンバ１０１
と、この一対のチャンバ１０１に対して交互にフィルム
基板Ａを搬入・搬出する搬入・搬出機構１０２とからな
っている。

【００１８】各チャンバ１０１は、相互に所定間隔を有
して配置されていて、図２に示すように、真空容器であ
る箱状のチャンバ本体１１１と、チャンバ本体１１１の
前面に設けられたフランジ状の蓋体１１２とを有してい
る。蓋体１１２は、両側に設けた蓋ガイド１１３により
チャンバ本体１１１に対して進退自在に構成され、且つ
チャンバ本体１１１の側面に設けたチャンバ開閉シリン
ダ（エアシリンダ）１１４のピストンロッド１１５と連
結板１１６で連結され、また蓋体１１２の内側には導電
性材料からなるトレイ１１７が取り付けられている。こ
のような構成のもとで、チャンバ開閉シリンダ１１４が
駆動されて蓋体１１２が前進すると、チャンバ本体１１
１が開放されるとともにトレイ１１７が引き出され、蓋
体１１２が後退すると、トレイ１１７が押し込まれると
ともにチャンバ本体１１１が閉塞される（図１参照）。

【００１９】また、トレイ１１７上には、２枚のフィル
ム基板Ａを前後に並べて収容支持できるように、相互に
内向きの受け溝１１９が形成された一対の突条１１８が
前後方向に２つ設けられ、更に各一対の突条１１８の中
間で延在する中間突条１２０が１つずつ設けられてい
る。この中間突条１２０は、トレイ１１７の上面に対す
るその高さが一対の突条１１８に形成された受け溝１１
９の高さとほぼ同程度に設定され、その両端部が傾斜面
に面取りされている。このような構成のもと、トレイ１
１７が引き出された状態で、後述するチャンバ側移載機
構４により、２枚のフィルム基板Ａが基板搬送機構３と
トレイ１１７との間で左右水平方向に授受される。その
際、各フィルム基板Ａは、その両側部が各一対の突条１
１８に形成された受け溝１１９で案内されるとともに、
その下面中央部が各中間突条１２０と摺動しながら湾曲
が規制され、略水平状態で移動しつつ支持される。

【００２０】なお、チャンバ開閉シリンダ１１４は、右
側のチャンバ１０１（１０１ａ）では、そのチャンバ本
体１１１の右側面に取り付けられているが（図２参
照）、左側のチャンバ１０１（１０１ｂ）では、その左
側面に取り付けられている。

【００２１】次に、搬入・搬出機構１０２は、図１に示
すように、洗浄処理前のフィルム基板Ａ（以下、「未処
理フィルム基板Ａａ」と記すことがある）を棚板状に複
数枚収納した供給側マガジン１１を備えた供給側マガジ
ン部１と、洗浄処理後のフィルム基板Ａ（以下、「処理
フィルム基板Ａｂ」と記すことがある）を棚板状に複数
枚収納する搬出用の排出側マガジン２１を備えた排出側
マガジン部２と、両チャンバ１０１と供給側マガジン部
１及び排出側マガジン部２との間でフィルム基板Ａを搬
送する基板搬送機構３と、この基板搬送機構３と両チャ
ンバ１０１との間でフィルム基板Ａの端部を掴持して移
載するチャンバ側移載機構４と、供給側マガジン１１に
収納された未処理フィルム基板Ａａの一端部を押圧し、
供給側マガジン１１から基板搬送機構３に向けて未処理
フィルム基板Ａａの他端部を突出させる押圧機構５と、
この押圧機構５により突出した未処理フィルム基板Ａａ
の他端部を掴持して基板搬送機構３に移載するととも
に、基板搬送機構３に収容支持された処理フィルム基板
Ａｂの一端部を押圧し基板搬送機構３から排出側マガジ
ン２１に向けて処理フィルム基板Ａｂの他端部を突出さ
せる掴持移載・押圧機構６と、この掴持・押圧機構６に
より突出した処理フィルム基板Ａｂの他端部の下面を吸
着して排出側マガジン２１に移載する吸着移載機構７と
を有している。

【００２２】供給側マガジン部１は左側のチャンバ１０
１ｂの前下方に、他方排出側マガジン部２は右側のチャ
ンバ１０１ａの前下方に、相互に所定間隔を有して左右
方向で対向配置されている。供給側マガジン部１は、複
数個（図１では３個を図示）の供給側マガジン１１を前
後方向に並べて載置可能な供給側マガジン載置台１２を
有していて、この供給側マガジン載置台１２は、不図示
の駆動部により前後方向及び上下方向に移動が可能にな
っている。ここで、供給側マガジン１１は、排出側マガ
ジン２１と同一のものを相互に共用されるものであっ
て、複数段に亘ってフィルム基板Ａを棚板状に収納でき
るように、両端が開放されるとともに、両側壁の内側に
は、フィルム基板Ａの両側部を受け入れて支持する溝２
０が複数段形成されている（図１１、１４参照）。そし
て、未処理フィルム基板Ａａを収納した状態で、開放前
端を基板搬送機構３側（右側）に向けて供給側マガジン
載置台１２上に載置されている。

【００２３】他方、排出側マガジン部２は、供給側マガ
ジン部１と同様に、複数個の排出側マガジン２１を載置
可能で、不図示の駆動部により前後方向及び上下方向に
移動が可能な排出側マガジン載置台２２を有している。
そして、排出側マガジン２１は、開放前端を基板搬送機
構３側（左側）に向けて排出側マガジン載置台２２上に
載置されている。

【００２４】基板搬送機構３は、供給側マガジン部１及
び排出側マガジン部２と、各チャンバ１０１から引き出
された各トレイ１１７との間を移動する構成となってい
る。つまり、図３、４に示すように、駆動部（不図示）
により前後方向及び上下方向に移動が可能なベースプレ
ート３０を有していて、このベースプレート３０上に
は、各チャンバ１０１のトレイ１１７上に設けられた二
対の突条１１８（図２参照）に対応させて、２枚のフィ
ルム基板Ａを前後に並べて上下２段に収容支持できるよ
うに、相互に内向きの上段受け溝３２及び下段受け溝３
３が形成された一対の突条３１が前後方向に２つ設けら
れている。ここで、上段受け溝３２には、詳細は後述す
るチャンバ側移載機構４により処理フィルム基板Ａｂが
その両側部を案内されながら各チャンバ１０１のトレイ
１１７から移載され、他方下段受け溝３３には、詳細は
後述する押圧機構５及び掴持移載・押圧機構６により、
未処理フィルム基板Ａａがその両側部を案内されながら
供給側マガジン１１から移載されることになる。

【００２５】更に、各一対の突条３１のうち各一方の突
条３１（図３では最前列と最後列）には、上段受け溝３
２と下段受け溝３３との間で貫通する矩形の上段開口３
４が左右方向で所定間隔を有して各一対形成され、同様
に下段受け溝３３とベースプレート３０との間で貫通す
る矩形の下段開口３５が左右方向で所定間隔を有して各
一対形成されている。ここで、各一対の上段開口３４
は、上段受け溝３２に支持された処理フィルム基板Ａｂ
の下面を押し上げてその湾曲を規制し、略水平状態に保
持する役割を果たす上段バックアッププレート８１を配
設するために形成されたもので、また同様に、各一対の
下段開口３５は、下段受け溝３３に支持された未処理フ
ィルム基板Ａａの下面を押し上げてその湾曲を規制し、
略水平状態に保持する役割を果たす下段バックアッププ
レート８２を配設するために形成されたものである。

【００２６】つまり、その各上段バックアッププレート
８１は、各一対の上段開口３４に挿通するコの字状平板
の上段バックアップフック８３の両端部に固定され、同
様に各下段バックアッププレート８２は、各一対の下段
開口３５に挿通するコの字状平板の下段バックアップフ
ック８４の両端部に固定されている。また、各一対の上
段開口３４及び下段開口３５が形成された各突条３１の
外面には、上下方向に駆動する昇降シリンダ８５が固定
されていて、この昇降シリンダ８５のリニア部８６（昇
降シリンダ８５が駆動して上下移動する部分）の上下端
部に、それぞれ上段バックアップベース８７及び下段バ
ックアップベース８８が外側に向けて突設されている。
更に、各上段バックアップベース８７及び各下段バック
アップベース８８には、それぞれ前後方向に駆動する上
段水平シリンダ８９及び下段水平シリンダ９０が固定さ
れていて、この上段水平シリンダ８９のリニア部９１
（上段水平シリンダ８９が駆動して前後移動する部
分）、及び下段水平シリンダ９０のリニア部９２（下段
水平シリンダ９０が駆動して前後移動する部分）に、上
段バックアップフック８３及び下段バックアップフック
８４それぞれの基部が固定されている。

【００２７】このようにしてフィルム基板Ａのバックア
ップ機構が構成され、各上段バックアッププレート８１
及び各下段バックアッププレート８２は、それぞれ各上
段水平シリンダ８９及び各下段水平シリンダ９０の駆動
により、各一対の突条３１の中間と一方の突条３１の内
面近傍とを個別に前後移動する。また、各上段バックア
ッププレート８１及び下段バックアッププレート８２
は、各一対の突条３１の中間に位置した状態で、それぞ
れ各昇降シリンダ８５の駆動により一体的に上下移動し
て、各上段受け溝３２に支持された処理フィルム基板Ａ
ｂ、及び各下段受け溝３３に支持された未処理フィルム
基板Ａａの下面を押し上げて略水平状態に保持する。

【００２８】次に、チャンバ側移載機構４は、図５に示
すように、フィルム基板Ａの端部を掴持する掴持機構４
１と、この掴持機構４１を一体的に上下移動させる上下
方向駆動部４２と、一対のチャンバ１０１間に亘って左
右方向に延在し、掴持機構４１及び上下方向駆動部４２
を一体的に左右移動させる左右方向駆動部４３（図１参
照）と、から構成される。

【００２９】掴持機構４１の下端部には、前後２枚のフ
ィルム基板Ａの各端部を上下方向から掴持するために、
左右方向に突出するとともに先端が二股に形成された左
側爪部４４及び右側爪部４５が、それぞれ前後方向に２
つずつ設けられている。ここで、各左側爪部４４は、固
定の左側下爪４６、及び不図示の駆動部の駆動により上
下動して左側下爪４６に対して開閉する左側上爪４７を
備え、各右側爪部４５は同様に、固定の右側下爪４８、
及び不図示の駆動部の駆動により上下動して右側下爪４
８に対して開閉する右側上爪４９を備えている（図６参
照）。

【００３０】次に、押圧機構５は、供給側マガジン部１
の左側方に配置され（図１参照）、図７に示すように、
左右方向に延在するロッド５１と、図外の機台に固定さ
れたベースプレート５２と、このベースプレート５２上
の左端部に固定されるとともにロッド５１の左端部に連
結されロッド５１を左右方向に移動させる左右方向駆動
部５３と、から構成され、ロッド５１の右端には略直方
体のブロック部材５４が取り付けられている。このよう
な構成のもと、左右方向駆動部５３の駆動によりロッド
５１が右方向に移動すると、ブロック部材５４が供給側
マガジン１１に収納された未処理フィルム基板Ａａの左
端に当接してそのまま押圧し、未処理フィルム基板Ａａ
の右端部を供給側マガジン１１から突出させることがで
きる。

【００３１】次に、掴持移載・押圧機構６は、供給側マ
ガジン部１と排出側マガジン部２との間で前方にかけて
配置され（図１参照）、図８に示すように、押圧機構５
により突出した未処理フィルム基板Ａａの右端部を掴持
したり、基板搬送機構３に収容支持された処理フィルム
基板Ａｂの左端を押圧したりする掴持・押圧機構６１
と、この掴持・押圧機構６１を一体的に前後移動させる
前後方向駆動部６２と、掴持・押圧機構６１及び前後方
向駆動部６２を一体的に上下移動させる上下方向駆動部
６３と、この上下方向駆動部６３が固定されたベースプ
レート６４と、図外の機台に固定されるとともにベース
プレート６４に連結されベースプレート６４を左右に移
動させる左右方向駆動部６５（不図示）と、から構成さ
れる。

【００３２】掴持・押圧機構６１の下端部には、未処理
フィルム基板Ａａの右端部を上下方向から掴持するため
に、左方向に突出する爪部６６が設けられ、また処理フ
ィルム基板Ａｂの左端を押圧するために右方向に突出す
る突出部６７が設けられている。ここで、爪部６６は、
固定の下爪６８、及び不図示の駆動部の駆動により上下
動して下爪６８に対して開閉する上爪６９を備えている
（図９参照）。

【００３３】次に、吸着移載機構７は、排出側マガジン
部２の右側方に配置されていて（図１参照）、図１０に
示すように、所定の間隔を有して左右方向で水平に延在
する前後一対の中空管７１と、図外の機台に固定された
ベースプレート７２と、このベースプレート７２上に固
定されるとともに各中空管７１の右端部に連結され各中
空管７１を一体的に左右方向に移動させる左右方向駆動
部７３と、上下方向に移動させる上下方向駆動部７５と
から構成されている。各中空管７１の右端（後端）は不
図示の真空ポンプに連結され、他方各左端部（先端部）
には、上方に向けて突設されその内部に貫通する貫通孔
（不図示）を有する樹脂性の吸盤７４が設けられてい
る。

【００３４】このような構成のもと、左右方向駆動部７
３の駆動により各中空管７１が左方向に移動して排出側
マガジン２１の開放後端から開放前端へ挿通し、各吸盤
７４が基板搬送機構３から突出した処理フィルム基板Ａ
ｂの右端部下面に位置され、上下方向駆動部７５により
吸盤７４が上昇し、吸盤７４が処理フィルム基板Ａｂの
下面に密着した状態で真空ポンプを駆動すると、処理フ
ィルム基板Ａｂの右端部の下面は各吸盤７４により吸着
されて水平に保持される。そして、左右方向駆動部７３
の反転駆動によりそのまま各中空管７１が左方向に移
動、すなわち排出側マガジン２１からスライド離脱し、
処理フィルム基板Ａｂは排出側マガジン２１に移載され
る。

【００３５】また本実施形態では、各中空管７１の吸盤
７４の右側に、上面頂部の高さが各吸盤７４の高さより
も若干高くなるように設定されたブロック体７６が立設
されている。従って、中空管７１のスライド離脱によっ
て処理フィルム基板Ａｂを排出側マガジン２１に移載す
る際、これら各ブロック体７６は、吸盤７４によって吸
着保持されている処理フィルム基板Ａｂに先行してスラ
イド離脱し、その上面が排出側マガジン２１に既に収納
されている最下段の処理フィルム基板Ａｂの下面と摺動
しながら押し上げ、これにより、その最下段の処理フィ
ルム基板Ａｂの湾曲して垂れた中央部を、吸着保持され
ている処理フィルム基板Ａｂに対して、障害とならない
よう上方に矯正する役割を果たす（図１４、１６参
照）。

【００３６】ここで、ブロック体７６の端面とその最下
段の処理フィルム基板Ａｂにおける湾曲して垂れた部分
の端面との干渉を防止するとともに、その垂れた部分を
徐々に押し上げて矯正する目的で、ブロック体７６の上
面がスライド離脱する方向で下方に向けて傾斜してい
る。更に、その最下段の処理フィルム基板Ａｂがブロッ
ク体７６と摺動することにより著しく擦れて損傷しない
ように、ブロック体７６は、弾力性と潤滑性に富むナイ
ロン等の樹脂で成形されている。

【００３７】なお、チャンバ１０１及び搬入・搬出機構
１０２における各部の駆動制御は、不図示の制御装置に
より総括的に行われる。ここで、図１１〜１６を参照し
ながら、プラズマ洗浄装置１００の一連の動作を順に説
明する。

【００３８】今、左側のチャンバ１０１ｂはフィルム基
板Ａの洗浄工程にあって未処理フィルム基板Ａａが収容
されており、他方右側のチャンバ１０１ａはフィルム基
板Ａの搬入・搬出工程にあって処理フィルム基板Ａｂが
収容されているものとし、また基板搬送機構３にはフィ
ルム基板Ａが収容されていないものとする。

【００３９】先ず、基板搬送機構３への未処理フィルム
基板Ａａの移載について説明する。供給側マガジン１１
を載置した供給側マガジン載置台１２、及び基板搬送機
構３のベースプレート３０をそれぞれ前後及び上下方向
に移動させる。これにより、供給側マガジン１１に収納
されている最上段の未処理フィルム基板Ａａと、押圧機
構５のロッド５１と、ベースプレート３０上に設けた前
後二対の下段受け溝３３のうちの前側の各下段受け溝３
３との相互の高さを一致させるとともに、未処理フィル
ム基板Ａａの中心とロッド５１、及び未処理フィルム基
板Ａａの両側部と各下段受け溝３３を相互に一致させ
る。これに続いて、掴持移載・押圧機構６の掴持・押圧
機構６１を前後、左右及び上下方向に移動させ、その爪
部６６を未処理フィルム基板Ａａの右端部の側方近傍に
おいて開放状態で待機させる。

【００４０】次いで、図１１に示すように、押圧機構５
のロッド５１を右方向に移動させると、そのブロック部
材５４が未処理フィルム基板Ａａの左端に当接してその
まま押圧し、未処理フィルム基板Ａａの右端部が供給側
マガジン１１から突出する。ここで、突出した未処理フ
ィルム基板Ａａの右端部は、掴持・押圧機構６１の爪部
６６を構成する下爪６８と上爪６９との間に進入した状
態となる。この状態でその上爪６９を下動させて未処理
フィルム基板Ａａの右端部が掴持される。これととも
に、ロッド５１を左方向に移動させて供給側マガジン１
１から退避させ、次の供給に備える。

【００４１】続いて、掴持・押圧機構６１を右方向に移
動させると、掴持された未処理フィルム基板Ａａは、そ
の両側部が基板搬送機構３の前側の下段受け溝３３に案
内されながら水平移動して引き込まれ、収容支持され
る。ここで、図１５（ａ）に示すように、未処理フィル
ム基板Ａａはその中央部が下方に湾曲した状態にある
が、上段バックアッププレート８１及び下段バックアッ
ププレート８２が突条３１の内面近傍で下降して退避し
ているため、これがその未処理フィルム基板Ａａの水平
移動に際し障害とはならない。その後、上爪６９を上動
させて掴持を解除するとともに、掴持・押圧機構６１を
退避させ次の供給に備える。

【００４２】そして、バックアップ機構における前側の
下段水平シリンダ９０を駆動させて下段バックアッププ
レート８２を一対の突条３１の中間に移動させ、更に、
前側の昇降シリンダ８５を駆動させて下段バックアップ
プレート８２を上昇させる。これにより、下段受け溝３
３に収容支持された未処理フィルム基板Ａａは、その下
面が押し上げられて略水平状態に保持される（図１５
（ｂ）参照）。

【００４３】続いて上記と同様の動作を行い、後側の下
段受け溝３３へ未処理フィルム基板Ａａが供給される。
その際、別の供給側マガジン１１に収納されている最上
段の未処理フィルム基板Ａａが供給されてもよいし、連
続して同じ供給側マガジン１１に収納されている次段の
未処理フィルム基板Ａａが供給されてもよい。このよう
にして、基板搬送機構３のベースプレート３０上には、
前後２枚の未処理フィルム基板Ａａが略水平状態で収容
支持された状態となり、基板搬送機構３への未処理フィ
ルム基板Ａａの移載が完了する。

【００４４】次ぎに、引き続き基板搬送機構３と両チャ
ンバ１０１との間で行われるフィルム基板Ａの移載につ
いて説明する。洗浄処理が終了した右側のチャンバ１０
１ａからトレイ１１７が引き出される。ここで、トレイ
１１７上には、前後２枚の処理フィルム基板Ａｂが、前
後二対の受け溝１１９及び中間突条１２０により略水平
状態で支持されている。

【００４５】次いで、基板搬送機構３のベースプレート
３０を上昇させるとともに前後方向に移動させて、ベー
スプレート３０上に設けた前後二対の上段受け溝３２
と、トレイ１１７上の各処理フィルム基板Ａｂの両側部
とを相互に一致させる。これに続いて、チャンバ側移載
機構４の掴持機構４１を左右及び上下方向に移動させ、
その各右側爪部４５を各処理フィルム基板Ａｂの左端部
の側方近傍において開放状態で一旦待機させた後、掴持
機構４１を右方向に移動させると、各処理フィルム基板
Ａｂの左端部が、各右側爪部４５を構成する右側下爪４
８と右側上爪４９との間に進入した状態となる。この状
態でその各右側上爪４９を下動させて処理フィルム基板
Ａｂの左端部が掴持される。

【００４６】続いて、図１３に示すように、掴持機構４
１を左方向に移動させると、掴持された各処理フィルム
基板Ａｂは、その両側部が基板搬送機構３の各上段受け
溝３２に案内されながら水平移動して引き込まれ、収容
支持される。ここで、各処理フィルム基板Ａｂはその中
央部が下方に湾曲する様相にあるが、引き続きバックア
ップ機構における前後の各上段水平シリンダ８９を駆動
させて、各上段バックアッププレート８１を各一対の突
条３１の中間に移動させることにより、各処理フィルム
基板Ａｂは、湾曲が規制されて略水平状態に保持される
（図１５（ｂ）参照）。その後、各右側上爪４９を上動
させて掴持を解除する。

【００４７】次ぎに、基板搬送機構３のベースプレート
３０を若干上昇させて、前後二対の下段受け溝３３に収
容支持された未処理フィルム基板Ａａの両側部と、トレ
イ１１７上に設けた前後二対の受け溝１１９とを相互に
一致させる。これに続いて、チャンバ側移載機構４の掴
持機構４１を左右及び上下方向に移動させ、その各左側
爪部４４を各未処理フィルム基板Ａａの右端部の側方近
傍において開放状態で一旦待機させた後、掴持機構４１
を左方向に移動させると、各未処理フィルム基板Ａａの
右端部が、各左側爪部４４を構成する左側下爪４６と左
側上爪４７との間に進入した状態となる。この状態でそ
の各左側上爪４７を下動させて未処理フィルム基板Ａａ
の左端部が掴持される。

【００４８】続いて、図１２に示すように、掴持機構４
１を右方向に移動させると、掴持された各未処理フィル
ム基板Ａａは、その両側部がトレイ１１７の各受け溝１
１９及び中間突条１２０に案内されつつ、湾曲が規制さ
れながら水平移動して引き込まれ、収容支持される。そ
の後、各左側上爪４７を上動させて掴持を解除するとと
もに、掴持機構４１を退避させ、基板搬送機構３と両チ
ャンバ１０１との間で行われるフィルム基板Ａの移載が
完了する。

【００４９】そして、前後２枚の未処理フィルム基板Ａ
ａを支持したトレイ１１７が右側のチャンバ１０１ａ内
に導入され、その右側のチャンバ１０１ｂが洗浄工程に
移行する。一方、これと同時に行われる基板搬送機構３
からの処理フィルム基板Ａｂの移載について、次ぎに説
明する。

【００５０】空の状態の排出側マガジン２１を載置した
排出側マガジン載置台２２、及び基板搬送機構３のベー
スプレート３０をそれぞれ前後及び上下方向に移動させ
る。これにより、排出側マガジン２１の両側壁に形成さ
れている複数段の溝２０のうちの最上段の溝２０と、吸
着移載機構７の各中空管７１と、ベースプレート３０の
各上段受け溝３２に収容支持されている処理フィルム基
板Ａｂのうちの前側の処理フィルム基板Ａｂとの相互の
高さをほぼ一致させるとともに、処理フィルム基板Ａｂ
の中心と各中空管７１の中心、及び前側の処理フィルム
基板Ａｂの両側部と排出側マガジン２１の最上段の溝２
０を相互に一致させる。これに続いて、掴持移載・押圧
機構６の掴持・押圧機構６１を前後、左右及び上下方向
に移動させ、その突出部６７を処理フィルム基板Ａｂの
左端部の側方近傍に待機させる。また吸着移載機構７の
各中空管７１を排出側マガジン２１に挿通させ、その各
吸盤７４を処理フィルム基板Ａｂの左端下部の側方近傍
に待機させる。

【００５１】次いで、図１４に示すように（図１４で
は、最上段の溝２０には既に処理フィルム基板Ａｂを収
納した状態であって、上段から数えて２段目の溝２０に
処理フィルム基板Ａｂを移載する状態を図示）、掴持・
押圧機構６１を右方向に移動させると、その突出部６７
が処理フィルム基板Ａｂの左端に当接してそのまま押圧
し、処理フィルム基板Ａｂの右端部が上段受け溝３２か
ら突出する。ここで、突出した処理フィルム基板Ａｂの
右端部は、その下面が各吸盤７４の直上に位置した状態
となる。この状態で吸盤７４を上昇させ、吸盤７４が処
理フィルム基板Ａｂの下面に密着した状態で、吸着移載
機構７の真空ポンプを駆動させると、処理フィルム基板
Ａｂは各吸盤７４により吸着される。これとともに、掴
持・押圧機構６１を左方向に移動退避させ、次の動作に
備える。

【００５２】続いて、各中空管７１を右方向に移動、す
なわちからスライド離脱させると、吸着された処理フィ
ルム基板Ａｂは、その両側部が排出側マガジン２１の最
上段の各溝２０に案内されながら水平移動して引き込ま
れ、収納される。その後、吸着移載機構７の真空ポンプ
を停止させて吸着を解除するとともに、各中空管７１を
排出側マガジン２１から退出させ次の動作に備える。

【００５３】次いで、上記と同様の動作を行い、ベース
プレート３０の後側の上段受け溝３２に収容支持されて
いる処理フィルム基板Ａｂが排出される。その際、別の
排出側マガジン２１の最上段の溝２０に移載排出されて
もよいし、連続して同じ排出側マガジン２１の次段の溝
２０に移載排出されてもよい。

【００５４】ここで、同じ排出側マガジン２１の次段の
溝２０に移載する場合の移載の様子について、図１４、
１６に基づき説明しておく。既に排出側マガジン２１に
収納されている処理フィルム基板Ａｂ（図１６中では破
線で図示）は、自重や実装部品等の重量の影響により、
一般には、溝２０で支持されている両側部を支点に中央
部が下方に湾曲して垂れた状態となる。この湾曲度合い
は処理フィルム基板Ａｂ毎に様々であるが、その湾曲部
分が次段の溝２０の水平面に達する場合、これから移載
しようとする処理フィルム基板Ａｂと干渉する様相とな
り、このままでは移載の障害となってしまう。そこで、
この干渉を防止するために、各中空管７１に設けたブロ
ック体７６が活躍する。

【００５５】つまり、吸盤７４によって処理フィルム基
板Ａｂを吸着保持している中空管７１がスライド離脱す
る際、その処理フィルム基板Ａｂに先行して各ブロック
体７６がスライド離脱し、これら各ブロック体７６が、
排出側マガジン２１に既に収納されている最下段の処理
フィルム基板Ａｂ（図１４、１６では最上段の溝２０に
収納されているもの）の下面と摺動しながら押し上げて
いく。これにより、その最下段の処理フィルム基板Ａｂ
の湾曲部分を、吸着保持されている処理フィルム基板Ａ
ｂよりも上方に矯正し、処理フィルム基板Ａｂ相互の干
渉が防止されるわけである。

【００５６】その後、基板搬送機構３のバックアップ機
構における全ての上段水平シリンダ８９、下段水平シリ
ンダ９０、及び昇降シリンダ８５を駆動させて、全ての
上段バックアッププレート８１及び下段バックアッププ
レート８２を突条３１の内面近傍で下降した状態に退避
させる。このようにして、基板搬送機構３から排出側マ
ガジン２１への処理フィルム基板Ａｂの移載が完了す
る。

【００５７】そして、右側のチャンバ１０１ａはフィル
ム基板Ａの洗浄工程にあって、他方左側のチャンバ１０
１ｂは洗浄処理が終了しフィルム基板Ａの搬入・搬出工
程に移行していて、上記の動作は、全ての供給側マガジ
ン１１の未処理フィルム基板Ａａが供給されて洗浄処理
され、それが排出側マガジン２１に排出されるまで繰り
返される。なお、各ブロック体７６による矯正作用は、
排出側マガジン２１に収納されている最下段の処理フィ
ルム基板Ａｂに対して、順次なされていく。

【００５８】このように本実施形態では、排出側マガジ
ン２１に収納されている最下段の処理フィルム基板Ａｂ
が各ブロック体７６により矯正されるため、これから移
載される処理フィルム基板Ａｂがその最下段の処理フィ
ルム基板Ａｂと干渉することは全くなく、排出側マガジ
ン２１への移載が円滑に行える。また、左右のチャンバ
１０１ａ、１０１ｂで交互に搬入・搬出工程と洗浄工程
とが繰り返されることから、効率よく洗浄処理が行え、
しかも、基板搬送機構３のベースプレート３０上に未処
理フィルム基板Ａａと処理フィルム基板Ａｂとを同時に
収容できることから、各チャンバ１０１との授受の際に
待ち時間がなく高能率で行える。更に、特に基板搬送機
構３のベースプレート３０上に支持されたフィルム基板
Ａは、バックアップ機構により湾曲が規制されて略水平
状態に保持されるため、移載の際に確実にフィルム基板
Ａを掴持でき、操業トラブルの要因を解消できる。

【００５９】なお、各チャンバ１０１のトレイ１１７上
に収容支持するフィルム基板Ａは、１枚であっても３枚
以上であってもよく、この場合は、その枚数に合わせて
基板搬送機構３や掴持機構４１を調整すれば足りる。ま
た、掴持移載・押圧機構６を構成する掴持・押圧機構６
１に設けられた爪部６６と突出部６７とは、相互に異な
る作用（前者は未処理フィルム基板Ａａを掴持するため
のもの、後者は処理フィルム基板Ａｂの押圧するための
もの）を付与することから、個別の機構に設けられても
構わない。

【００６０】次に、本発明の第２実施形態について図１
７に基づき説明する。図１７は第２実施形態のプラズマ
洗浄装置における吸着移載機構の概略斜視図である。な
お、図中で図１〜１６と同じ名称で同じ機能を有する部
分には同一の符号を付し、重複する説明は適宜省略す
る。

【００６１】上記した第１実施形態の各ブロック体７６
による矯正機構は、簡単な構成で得られる反面、排出側
マガジン２１内の最下段の処理フィルム基板Ａｂの下面
と各ブロック体７６の上面とが相互に摺動するため、そ
の最下段の処理フィルム基板Ａｂの下面が擦れて損傷し
てしまうおそれがある。そこで本実施形態の特徴は、そ
の損傷を防止すべく、その最下段の処理フィルム基板Ａ
ｂに直接触れないで矯正作用が得られるように図った点
にある。

【００６２】つまり本実施形態では、図１７に示すよう
に、ブロック体７６の代わりに、各中空管７１の外側に
隣接して中空管７１と一体的にスライド離脱する管状部
材７７を配設しており、これら各管状部材７７の右端
（後端）は不図示の圧縮ポンプに連結され、他方各左端
部（先端部）はブロック体７６（図１０参照）と同様の
吸盤７４の右側に配置されて、その上面に噴出孔７８が
形成されている。これにより、吸盤７４によって処理フ
ィルム基板Ａｂを吸着保持している中空管７１がスライ
ド離脱する際、噴出孔７８が圧縮ポンプの駆動により圧
搾気体を噴出しながらその処理フィルム基板Ａｂに先行
してスライド離脱し、その圧搾気体の噴出力で排出側マ
ガジン２１に既に収納されている最下段の処理フィルム
基板Ａｂの下面を押し上げて、その湾曲部分を矯正して
いく。なお、その湾曲部分の矯正度合いの調整は、噴出
孔７８からの圧搾気体の吐出力の調整で簡単に行える。

【００６３】このように本実施形態では、最下段の処理
フィルム基板Ａｂに直接触れないで矯正が行えるため、
その処理フィルム基板Ａｂの損傷防止に対して極めて効
果的である。

【００６４】なお、本発明は上記の実施形態に限定され
ず、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、種々の変更が可
能である。例えば、ブロック体７６や噴出孔７８の配備
位置は、吸盤７４によって保持されている処理フィルム
基板Ａｂよりもそれらが先行してスライド離脱できる限
り、排出側マガジン２１に収納されている処理フィルム
基板Ａｂの中心線上であってもよいし、配備個数にも限
定はない。また、吸盤７４に吸着作用を与え得る限り、
吸着移載機構７を構成する一対の中空管７１が単なるア
ーム部材であっても構わない。更に、吸着移載機構７に
おける処理フィルム基板Ａｂの保持機構としては、吸着
作用を与える吸盤７４に代え、掴持作用を与える爪等で
あってもよい。

【００６５】

【発明の効果】以上説明した通り、本発明のフィルム基
板の移載機構によれば、プラズマ洗浄された可撓性のフ
ィルム基板を、その両側部を受け入れて支持する溝が両
側面の内側に複数段形成されるとともに両端が開放され
たマガジンへ、それら溝の上段から順にスライド移載す
るフィルム基板の移載機構において、マガジンを挿通し
略水平にスライド離脱してフィルム基板を移載するアー
ム部材と、このアーム部材に設けられ移載中のフィルム
基板を略水平に保持する保持機構と、アーム部材がスラ
イド離脱する際に、マガジンに収納されている最下段の
フィルム基板の湾曲して垂れた部分を、保持機構により
保持されているフィルム基板よりも上方に矯正する矯正
機構と、を備えているので、保持機構に保持されている
フィルム基板は、マガジンに収納されているフィルム基
板と全く干渉することなく、円滑にマガジンに移載され
る。

【００６６】ここで、前記矯正機構がアーム部材に立設
されたブロック体であり、このブロック体の上面がマガ
ジンに収納されている最下段のフィルム基板の下面と摺
動しながら押し上げるようになっていると、簡単な構成
で実用的な矯正機構を得ることが可能となる。

【００６７】更に、前記ブロック体の上面がアーム部材
のスライド離脱する方向で下方に向けて傾斜すると、移
載の際、マガジン内の最下段のフィルム基板における湾
曲して垂れた部分の端面とブロック体の端面とが干渉す
ることなく、その垂れた部分が徐々に押し上げられるよ
うにできる。

【００６８】更に、前記ブロック体が樹脂製であると、
移載の際、マガジン内の最下段のフィルム基板の下面と
ブロック体の上面とが相互に摺動しても、この摺動によ
ってフィルム基板の下面が著しく擦れて損傷することは
ない。

【００６９】また、前記矯正機構が、アーム部材と一体
的にスライド離脱し、後端に圧縮ポンプが連結されると
ともに上面に噴出孔が形成された管状部材であり、圧縮
ポンプの駆動により噴出孔から圧搾気体が噴出され、マ
ガジンに収納されている最下段のフィルム基板の下面を
押し上げるようになっていると、マガジン内の最下段の
フィルム基板には直接触れずに矯正できるため、そのフ
ィルム基板に対して全く損傷を与えない実用的な矯正機
構を得ることが可能となる。

【００７０】また、前記アーム部材が所定の間隔で水平
に延在する一対の中空管であって、前記保持機構は、各
中空管の後端に連結された真空ポンプと、各先端部に上
方に向けて突設されその内部に貫通する貫通孔を有する
吸盤とからなり、真空ポンプの駆動により各吸盤がフィ
ルム基板の端部下面を吸着して保持するようになってい
ると、アーム部材によって移載されているフィルム基板
を簡単な構成で略水平に十分保持でき、移載動作が安定
する。

【００７１】そして、本発明のプラズマ洗浄装置によれ
ば、前記いずれかのフィルム基板の移載機構を備えてい
るので、プラズマ洗浄そのものに加え、プラズマ洗浄さ
れたフィルム基板を円滑に搬出用のマガジンへ移載する
ことができる効率的なプラズマ洗浄装置となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 第１実施形態のプラズマ洗浄装置の全体構
造を示す概略斜視図である。

【図２】 図１における右側のチャンバ及びトレイの
拡大図である。

【図３】 図１における基板搬送機構の拡大図であ
る。

【図４】 図３のＡ−Ａ断面図である。

【図５】 図１におけるチャンバ側移載機構の拡大図
である。

【図６】 チャンバ側移載機構における掴持機構の縦
断面図である。

【図７】 図１における押圧機構の拡大図である。

【図８】 図１における掴持移載・押圧機構の拡大図
である。

【図９】 掴持移載・押圧機構における掴持・押圧機
構の縦断面図である。

【図１０】 図１における吸着移載機構の拡大図であ
る。

【図１１】 供給側マガジン部から基板搬送機構への
未処理フィルム基板の移載動作を説明する概略図であ
る。

【図１２】 基板搬送機構からチャンバへの未処理フ
ィルム基板の移載動作を説明する概略図である。

【図１３】 チャンバから基板搬送機構への処理フィ
ルム基板の移載動作を説明する概略図である。

【図１４】 基板搬送機構から排出側マガジン部への
処理フィルム基板の移載動作を説明する概略図である。

【図１５】 基板搬送機構におけるフィルム基板のバ
ックアップ動作を説明する概略図である。

【図１６】 吸着移載機構による処理フィルム基板の
矯正動作を説明する概略図である。

【図１７】 第２実施形態のプラズマ洗浄装置におけ
る吸着移載機構の概略斜視図である。

【符号の説明】

１ 供給側マガジン部 ２ 排出側マガジン部 ３ 基板搬送機構 ４ チャンバ側移載機構 ５ 押圧機構 ６ 掴持移載・押圧機構 ７ 吸着移載機構 ２０ 溝 ２１ 排出側マガジン ７１ 中空管 ７２ ベースプレート ７３ 左右方向駆動部 ７４ 吸盤 ７５ 上下方向駆動部 ７６ ブロック体 ７７ 管状部材 ７８ 噴出孔 １００ プラズマ洗浄装置 １０１ チャンバ １０２ 搬入・搬出機構 Ａｂ 処理フィルム基板

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 プラズマ洗浄された可撓性のフィルム基
   板を、その両側部を受け入れて支持する溝が両側面の内
   側に複数段形成されるとともに両端が開放されたマガジ
   ンへ、それら溝の上段から順にスライド移載するフィル
   ム基板の移載機構において、 マガジンを挿通し略水平にスライド離脱してフィルム基
   板を移載するアーム部材と、このアーム部材に設けられ
   移載中のフィルム基板を略水平に保持する保持機構と、
   アーム部材がスライド離脱する際に、マガジンに収納さ
   れている最下段のフィルム基板の湾曲して垂れた部分
   を、保持機構により保持されているフィルム基板よりも
   上方に矯正する矯正機構と、を備えたことを特徴とする
   フィルム基板の移載機構。
2. 【請求項２】 前記矯正機構がアーム部材に立設された
   ブロック体であり、このブロック体の上面がマガジンに
   収納されている最下段のフィルム基板の下面と摺動しな
   がら押し上げることを特徴とする請求項１に記載のフィ
   ルム基板の移載機構。
3. 【請求項３】 前記ブロック体の上面がアーム部材のス
   ライド離脱する方向で下方に向けて傾斜することを特徴
   とする請求項２に記載のフィルム基板の移載機構。
4. 【請求項４】 前記ブロック体が樹脂製であることを特
   徴とする請求項２又は３に記載のフィルム基板の移載機
   構。
5. 【請求項５】 前記矯正機構は、アーム部材と一体的に
   スライド離脱し、後端に圧縮ポンプが連結されるととも
   に上面に噴出孔が形成された管状部材であり、圧縮ポン
   プの駆動により噴出孔から圧搾気体が噴出され、マガジ
   ンに収納されている最下段のフィルム基板の下面を押し
   上げることを特徴とする請求項１に記載のフィルム基板
   の移載機構。
6. 【請求項６】 前記アーム部材が所定の間隔で水平に延
   在する一対の中空管であって、前記保持機構は、各中空
   管の後端に連結された真空ポンプと、各先端部に上方に
   向けて突設されその内部に貫通する貫通孔を有する吸盤
   とからなり、真空ポンプの駆動により各吸盤がフィルム
   基板の端部下面を吸着して保持することを特徴とする請
   求項１から５のいずれかに記載のフィルム基板の移載機
   構。
7. 【請求項７】 請求項１から６のいずれかに記載のフィ
   ルム基板の移載機構を備えたことを特徴とするプラズマ
   洗浄装置。