JP2003311449A - レーザーマーキング方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 均一なドットパターンの形状や径寸法でのマ
ーキングを可能とし、特に感光材料を被印字体とした場
合には、不必要な感光を防止でき、視認性を維持する。 【解決手段】 レーザー発振器４４をドットパターン形
成時期よりも早く照射を開始することで、レーザービー
ムＬＢのエネルギーを安定させた状態でドットパターン
を形成することができるため、過度の出力エネルギーに
よってＸレイフィルム１２への不必要な感光が防止で
き、不足したエネルギーによるドットパターン形成によ
る視認性の低いドットパターンの発生が防止できる。Ｘ
レイフィルム１２等の感光材料では、エネルギーの許容
範囲が狭いため、予めレーザービームＬＢを照射して過
渡期を過ぎた時点でドットパターンを形成することは、
適正な形状のドットパターンを形成する上で非常に有効
である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、被印字体に対し
て、レーザーからレーザービームを照射すると共に、前
記被印字体の所定位置にドットパターンを形成し、当該
ドットパターンの組み合わせによって視認可能な文字又
は記号を含むマーキングパターンを形成するレーザーマ
ーキング方法及び装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】レーザー光を利用して、被印字体の表面
に文字、記号等をマーキングする技術として、Ｘレイフ
ィルム等の感光材料へレーザービームを照射して感光材
料の表面に熱被りや変形によってマーキングを施す技術
が提案されている（一例として、特許第３１９１２０１
号公報（以下、先行技術という）。

【０００３】被印字体が上記のような感光材料の場合、
レーザービームのエネルギーが強すぎると、プラズマ発
生や印字部周囲の異物が加熱発光する現象が起き、感光
材料を不必要に感光させてしまう（所謂カブリ）。一
方、レーザービームのエネルギーが弱すぎると、感光材
料の表面に物性変化が発生せず、ドットパターンが所望
のとおり形成することができない。

【０００４】このため、感光材料を被印字体とするレー
ザーマーキングでは、一般の被印字体へのマーキングに
比べて適正なレーザービームのエネルギーの許容範囲が
狭いという傾向がある。

【０００５】ここで、レーザーマーキング装置では、レ
ーザーマーキングを実行していないときは、当然レーザ
ービームの発振を中止している。このレーザービームの
発振を中止を行なうことで、ドットパターンを形成して
いないときのレーザービームを遮る部材が不要となり、
装置の小型化を図ることができる。また、レーザービー
ムの発振及び吸収で発生する熱も抑えることができる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、炭酸ガ
ス（ＣＯ₂）レーザー管等では、発振開始直後に出力さ
れるレーザービームのエネルギーが不安定であり、十分
な時間継続して発振させえた状態よりも高いエネルギー
が瞬間的に発生したり、逆に低いエネルギーになったり
する。また、そのエネルギーの変動挙動も発振を開始す
るたびに変化している。

【０００７】すなわち、マーキング時のみ発振する制御
では、エネルギーの不安定なレーザービームでマーキン
グを実行することになり、ドットパターンの形状や径寸
法にばらつきが生じ、目視するときの見易さが低下す
る。特に、上記感光材料では、レーザービームのエネル
ギー許容範囲が狭いため、その影響が顕著に現れ、出力
過多となった場合には不必要な感光が発生し、出力不足
となった場合には視認性が低下するといった問題点があ
る。

【０００８】本発明は上記事実を考慮し、均一なドット
パターンの形状や径寸法でのマーキングを可能とし、特
に感光材料を被印字体とした場合には、不必要な感光を
防止でき、視認性を維持することができるレーザーマー
キング方法及び装置を得ることが目的である。

【０００９】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、被印字体に対して、レーザーからレーザービームを
照射すると共に、前記被印字体の所定位置にドットパタ
ーンを形成し、当該ドットパターンの組み合わせによっ
て視認可能な文字又は記号を含むマーキングパターンを
形成するレーザーマーキング方法であって、前記レーザ
ーからのレーザービームの照射時期を、前記所定位置に
ドットパターンを形成する印字時期よりも所定時間前に
設定し、当該所定時間中のレーザービームを所定の空間
内で吸収させるようにしたことを特徴としている。

【００１０】請求項１記載の発明によれば、所定時間前
にレーザービームの照射を開始することで、レーザービ
ームのエネルギーを安定させることできる。また、この
過渡期のレーザービームを所定の空間内で吸収させるた
め、外部への影響や被印字体への影響もない。

【００１１】請求項２に記載の発明は、前記請求項１に
記載の発明において、前記所定時間を、適用されるレー
ザーから出力されるレーザービームのエネルギーが安定
する時間に基づいて設定することを特徴としている。

【００１２】請求項２に記載の発明によれば、レーザー
や、ビーム光路上の部材の特性によって過渡期の時間が
異なるため、レーザーによってエネルギーが安定する時
間を予め実験等により把握し、そこで設定された時間を
所定時間とすることが好ましい。一般的に５分あれば十
分である。

【００１３】請求項３に記載の発明は、被印字体に対し
て、レーザーからレーザービームを照射すると共に、前
記被印字体の所定位置にドットパターンを形成し、当該
ドットパターンの組み合わせによって視認可能な文字又
は記号を含むマーキングパターンを形成するレーザーマ
ーキング装置であって、前記レーザーからのレーザービ
ームを少なくとも、前記ドットパターン形成領域内と、
前記ドットパターン領域外とに偏向する偏向手段と、前
記ドットパターン形成領域外のレーザービームが照射さ
れる位置に配設され、当該レーザービームエネルギーを
吸収するエネルギー吸収手段と、前記レーザーからのレ
ーザービームの照射時期を基準として、当該照射時期よ
りも所定時間前にレーザービームの照射を開始すると共
に前記偏向手段を制御してレーザービームを前記ドット
パターン形成領域外に偏向し、照射時期に同期して前記
偏向手段を制御してドットパターン形成領域内へ偏向す
る照射偏向制御手段と、を有している。

【００１４】請求項３に記載の発明によれば、偏向手段
によってレーザービームをドットパターン形成領域外と
して、ドットパターン形成開始前に照射を開始する。こ
のドットパターン形成領域外では、レーザービームをエ
ネルギー吸収部材によって吸収しているため、被印字体
や外部への影響はない。

【００１５】ドットパターン形成開始時期になると、偏
向手段によってレーザービームをドットパターン形成領
域内へ偏向する。このとき、レーザービームは過渡期を
過ぎて安定期に入っているため、予め設定した所望のエ
ネルギー下でドットパターンを形成することができる。

【００１６】請求項４に記載の発明は、前記請求項３に
記載の発明において、前記偏向手段が、被印字体上でレ
ーザービームを走査する走査手段と共用されており、当
該走査手段の全走査幅における走査方向上流側端部をド
ットパターン形成領域外として設定することを特徴とし
ている。

【００１７】請求項４に記載の発明によれば、ドットパ
ターンを形成する際にレーザーを走査するための走査手
段が備えられている。これを偏向手段として兼用するこ
とで、追加する部品を軽減することができる。

【００１８】

【発明の実施の形態】図１には本実施の形態に係るマー
キング装置１０の概略が示されている。

【００１９】このマーキング装置１０は、ロール状に巻
き取られた長尺のＸレイフィルム（感光材料）１２を搬
送する過程で、その表面にレーザービーム（光ビーム）
ＬＢを照射して文字や記号等のマーキングパターンを加
工するものである。

【００２０】図２に示される如く、Ｘレイフィルム１２
は、支持体としてのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレー
ト）層１４と、このＰＥＴ層１４の少なくとも一方の面
に塗布された乳剤層１６とで構成されている。

【００２１】図１に示される如く、巻芯１８には、前記
Ｘレイフィルム１２が乳剤層１６を外向きとしてロール
状に巻き取られており、その最外層から引き出されたＸ
レイフィルム１２は、第１のパスロール２０に巻き掛け
られて、進行方向左略直角方向に方向転換され、また、
第２のパスロール２２に巻き掛けられて、進行方向右略
直角方向に方向転換され、プリントロール２４へと至る
ようになっている。

【００２２】プリントロール２４に巻き掛けられた一部
が、レーザービームＬＢの照射位置として設定されてお
り、このプリントロール２４により進行方向右略直角に
方向転換されたＸレイフィルム１２は、さらにローラ対
２６に挟持され、かつ進行方向左略直角に方向転換され
る。

【００２３】このローラ対２６の内、Ｘレイフィルム１
２の巻き掛けられえた側のロールを円筒状の下刃が組み
込まれたロール、もう一方を円盤状の上刃とし、Ｘレイ
フィルム１２の搬送面でかみ合わせるように配置すれ
ば、Ｘレイフィルム１２を長手方向にカットする装置と
することもできる。

【００２４】ローラ対２６から巻き出されるＸレイフィ
ルム１２は、一対の小ローラ２８、３０によって略Ｕ字
型の搬送経路を形成している。この略Ｕ字型の搬送経路
には、サクションドラム３２が配設されている。すなわ
ち、このサクションドラム３２にＸレイフィルム１２が
巻き掛けられることで、略Ｕ字型の搬送経路を保持して
いる。

【００２５】サクションドラム３２は、外周面に複数の
小孔（図示省略）が設けられ、エア吸引によって巻き付
けられるＸレイフィルム１２を吸着保持している。サク
ソＨンドラム３２が自重又は図示しない付勢手段の付勢
力で、図１の下方へ移動するようになっているか、巻芯
１８の支持軸に図示しない手段にて巻芯１８の回転にブ
レーキをかける構造となっている。これにより、Ｘレイ
フィルム１２には、バックテンションが付与されるた
め、前記プリントロール２４を通過するＸレイフィルム
１２は、プリントロール２４と緊密に密着された状態が
維持されるようになっている。

【００２６】下流側の小ローラ３０を通過したＸレイフ
ィルム１２は、巻芯３４に巻き取られて収容される。

【００２７】前記巻芯３４及びサクションドラム３２、
必要に応じて巻芯１８には、巻き取り制御装置３６から
の駆動信号で所定の回転速度で回転するモータ等の駆動
手段（図示省略）が備えられており、基本的には、同一
の線速度で巻芯１８はＸレイフィルム１２を送り出し、
巻芯３４は、Ｘレイフィルム１２を巻き取ると共に、サ
クションドラム３２がＸレイフィルム１２を吸着保持し
ながら回転するため、サクションドラム３２の回転速度
（線速度）がＸレイフィルム１２のプリントロール２４
での搬送速度と一致するようになっている。

【００２８】前記サクションドラム３２には、ロータリ
エンコーダ３８が取り付けられており、このサクション
ドラム３２の回転状態をパルス発振によって検出するこ
とができるようになっている。

【００２９】このロータリエンコーダ３８の出力信号端
はレーザー制御装置４０へ接続されている。

【００３０】レーザー制御装置４０は、前記プリントロ
ール２４上でのレーザービームＬＢを照射するためのマ
ーキングヘッド４２を制御する。

【００３１】マーキングヘッド４２は、その先端部であ
るレーザービームＬＢ出射口が前記プリントロール２４
に対向して配設されている。

【００３２】マーキングヘッド４２は、レーザー発振器
４４と、図示しない集光レンズを含むビーム偏向器４６
とから構成されている。

【００３３】本実施の形態に適用されるレーザー発振器
４４はＣＯ₂レーザーであり、レーザー制御装置４０か
らの駆動信号に基づいて、所定のタイミングで一定の発
振波長のレーザービームＬＢを一定の時間幅（パルス
幅）で出射する。

【００３４】ビーム偏向器４６は、例えば、ＡＯＤ（音
響光学装置）からなり、レーザー制御装置４０からの偏
向信号によりレーザービームＬＢをＸレイフィルム１２
の搬送方向と直交する方向に走査する機能を有してい
る。なお、走査された各レーザービームＬＢは集光レン
ズ４８（図５参照）によってＸレイフィルム１２上で所
定のスポット径の焦点を結ぶように結像する。

【００３５】レーザー制御装置４０には、前記Ｘレイフ
ィルム１２に記録すべきマーキングパターン（文字や記
号）に対応したパターン信号が巻き取り制御装置３６か
ら入力されている。このため、レーザー制御装置４０
は、ロータリーエンコーダ３８からの搬送パルスに基づ
いてＸレイフィルム１２の搬送長を監視しながら、パタ
ーン信号に基づいてレーザー発振器（ＣＯ₂レーザー）
４４に駆動信号を送ってレーザービームＬＢを照射し、
また、ビーム偏向器４６に偏向信号を送って、レーザー
ビームＬＢを走査する。

【００３６】これにより、図３に示される如く、ビーム
偏向器４６によるレーザービームＬＢの走査方向を主走
査方向とし、Ｘレイフィルム１２の搬送方向を副走査方
向として、マーキングパターン（ここでは、アルファベ
ット）ＭＰが５×５ドットでマーキングされるようにな
っている。

【００３７】なお、図４に示される如く、Ｘレイフィル
ム１２が長手方向にカット（カットラインを鎖線で示
す）されてシート状のＸレイフィルム１２を形成する場
合には、このカッティングラインを挟んで両サイドに天
地の向きが逆となったマーキングパターンＭＰを形成す
ることも可能である。

【００３８】このようなドットパターンの配列で表現さ
れるマーキングパターンＭＰを高品質で形成するために
は、ドットパターンの個々の直径をほぼ一定に揃え、ま
たＸレイフィルム１２の搬送速度が一定に保たれる位置
でレーザービームＬＢを照射する必要がある。

【００３９】そこで、Ｘレイフィルム１２がプリントロ
ール２４に巻き掛けられることで、マーキングヘッド４
２との間隔を一定に保持している。さらに、Ｘレイフィ
ルム１２は、サクションドラム３２によって吸着保持
し、このサクションドラム３２の線速度と一致するプリ
ントロール２４の位置でレーザービームＬＢの照射を行
っている。

【００４０】図５には、マーキングヘッド４２の詳細構
造が示されている。

【００４１】レーザー発振器４４から出力されたレーザ
ービームＬＢは、前述の如くビーム偏向器４６に入力さ
れることで、所定の幅で走査されるようになっており、
この走査幅は、ドットパターンを形成するための走査幅
よりも大きくとられている。以下、前記ドットパターン
を形成するための走査幅の範囲をドットパターン形成領
域といい、それ以外をドットパターン形成領域外とい
う。

【００４２】なお、図５では、レーザー発振器４４とビ
ーム偏向器４６との間にレーザービームＬＢを略９０°
偏向するミラー５０が介在されているが、このミラー５
０は、マーキングヘッド４２の取付スペースを確保する
ためののものであり、特に必要なものではない。

【００４３】前記ビーム偏向器４６における走査幅にお
ける走査方向上流側のドットパターン形成領域外に対応
するレーザービームＬＢの照射位置には、エネルギー吸
収手段としてのエネルギー吸収材５２が配設されてい
る。

【００４４】このエネルギー吸収材５２は、例えば炭素
を燒結したもの等が適用可能であり、このエネルギー吸
収材５２に入力されたレーザービームＬＢのほとんどの
光が吸収されるため、反射光が散乱するようなことが防
止されている。

【００４５】ここで、このエネルギー吸収材５２へレー
ザービームＬＢを案内する時期は、ドットパターン形成
時の所定時間（この実施の形態では、約５分）前として
いる。

【００４６】ここで、図６に示される如く、レーザー発
振器４４の発振開始からのエネルギー特性図を見ると、
発振開始から所定時間は不安定な過渡期を持っているこ
とがわかる。この過渡期においてドットパターンを形成
すると、所望のエネルギーから逸脱したエネルギーを与
えることになり、過度の出力時にはＸレイフィルム１２
を不必要に感光させたり、出力不足時には適正なドット
パターンが形成されず、視認性が低下することがあっ
た。

【００４７】このような現象は、毎日の装置立ち上げ
時、並びに巻芯１８への長尺状のＸレイフィルム１２の
付け替え時等に起こり得る。また、何らかのトラブルで
可動停止した直後等、比較的長時間レーザー発振器４４
からのレーザービームＬＢの照射を中止した直後にも起
こり得る。

【００４８】そこで、本実施の形態では、上記設定した
５分の間に、レーザービームＬＢの照射を開始したレー
ザー発振器４４の出力エネルギーを安定させ、その後
に、ビーム偏向器４６によってドットパターン形成領域
へ偏向することで、適正なエネルギー下でのドットパタ
ーンの形成を実現している。

【００４９】以下に本実施の形態の作用を説明する。

【００５０】巻き取り制御装置３６から駆動信号を出力
すると、巻芯１８がＸレイフィルム１２の巻き出しを開
始し、巻芯３４がＸレイフィルム１２の巻き取りを開始
する。

【００５１】一方、サクションドラム３２では、エア吸
引が開始されることで、巻き掛けられているＸレイフィ
ルム１２を吸着保持すると共に前記巻芯１８、３４の線
速度とほぼ同一の線速度で回転駆動する。

【００５２】ここで、巻芯１８、３４では、巻径が連続
的に変化するため、線速度を一定に保持するのは困難で
あり、その結果、Ｘレイフィルム１２に搬送中に緊張や
弛みが生じることがある。しかし、サクションドラム３
２では、エア吸着によってＸレイフィルム１２を確実に
保持しているため、サクションドラム３２では、Ｘレイ
フィルム１２の滑りはない。また、サクションドラム３
２は、自重又は付勢手段の付勢力等でＸレイフィルム１
２にテンションを付与している。

【００５３】このため、サクションドラム３２の線速度
が、Ｘレイフィルム１２の搬送系の基準となる線速度と
なり、プリントロール２４上でのＸレイフィルム１２の
搬送線速度は、サクションドラム３２の線速度と一致す
る。

【００５４】このサクションドラム３２の回転状態をロ
ータリーエンコーダ３８によって検出し、その検出結果
（搬送パルス）は、レーザー制御装置４０へ送られる。

【００５５】レーザー制御装置４０に、巻き取り制御装
置３６から前記Ｘレイフィルム１２に記録すべきマーキ
ングパターン（文字や記号）に対応したパターン信号が
入力されると、前記ロータリーエンコーダ３８からの搬
送パルスに基づいてＸレイフィルム１２の搬送長を監視
しながら、パターン信号に基づいてレーザー発振器（Ｃ
Ｏ₂レーザー）４４に駆動信号を送ってレーザービーム
ＬＢを照射し、また、ビーム偏向器４６に偏向信号を送
って、レーザービームＬＢを走査する。

【００５６】この走査は、ビーム偏向器４６によるレー
ザービームＬＢの走査方向が主走査方向となり、Ｘレイ
フィルム１２の搬送方向が副走査方向となり、５×５ド
ットでマーキングされる。

【００５７】ここで、本実施の形態では、上記ドットパ
ターンを形成する際に、ドットパターン形成時期（図７
の矢印Ａ参照）を基準として、所定時間（図７のｔ＝約
５分）前にレーザー発振器４４からのレーザービームＬ
Ｂの照射を開始する（図７の矢印Ｂ参照）。

【００５８】このとき、レーザービームＬＢは、ビーム
偏向器４４によってドットパターン形成領域外（走査方
向上流側）とされ、エネルギー吸収材５２に向けて照射
される。

【００５９】このエネルギー吸収材５２に入力するレー
ザービームＬＢは、そのほとんどの光が吸収されるた
め、反射光が散乱することがない。これにより、Ｘレイ
フィルム１２が不必要に感光されることもない。また、
装置外へ漏れることもないため、作業者への影響もな
い。

【００６０】所定時間（約５分）が経過すると、図６に
示される如く、レーザービームＬＢのエネルギー特性が
過渡期を過ぎ安定期に入る。この時点で、ビーム偏向器
４６を制御して、レーザービームＬＢをドットパターン
形成領域へ偏向する。

【００６１】このように、レーザー発振器４４をドット
パターン形成時期よりも早く照射を開始することで、レ
ーザービームＬＢのエネルギーを安定させた状態でドッ
トパターンを形成することができるため、過度の出力エ
ネルギーによってＸレイフィルム１２への不必要な感光
が防止でき、不足したエネルギーによるドットパターン
形成による視認性の低いドットパターンの発生が防止で
きる。

【００６２】Ｘレイフィルム１２等の感光材料では、エ
ネルギーの許容範囲が狭いため、予めレーザービームＬ
Ｂを照射して過渡期を過ぎた時点でドットパターンを形
成することは、適正な形状のドットパターンを形成する
上で非常に有効である。

【００６３】また、この場合、ドットパターン領域外で
照射されているレーザービームＬＢをそのまま放置する
のではなく、エネルギー吸収材５２によって確実にエネ
ルギーを吸収する構成としたため、乱反射によるＸレイ
フィルム１２の不必要な感光や、装置周囲の作業者等に
悪影響を及ぼすことがない。

【００６４】なお、本実施の形態では、ドットパターン
を形成するための走査手段としてビーム偏向器（ＡＯ
Ｄ）４６を用いたが、図８に示される如く、ガルバノミ
ラー５４を走査手段として用いてもよい。この場合、ガ
ルバノミラー５４の振り幅をドットパターン形成領域以
上とすれば、振り幅の一端をドットパターン形成領域外
として適用することができる。

【００６５】また、本実施の形態では、偏向手段をビー
ム偏向器４６やガルバノミラー５４と兼用したが、これ
らを兼用せず、例えば、図５に示したレーザー発振器４
４とビーム偏向器４６との間に設けたミラー５０を可動
タイプとし、このミラー５０によって、レーザービーム
ＬＢの方向をビーム偏向器４６から逸脱させるようにし
てもよい。

【００６６】

【発明の効果】以上説明した如く本発明では、均一なド
ットパターンの形状や径寸法でのマーキングを可能と
し、特に感光材料を被印字体とした場合には、不必要な
感光を防止でき、視認性を維持することができるという
優れた効果を有する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本実施の形態に係るマーキング装置の概略構成
図である。

【図２】感光材料の断面図である。

【図３】ドットパターンによるマーキングパターン形成
状態を示し、プリントロール近傍の拡大斜視図である。

【図４】搬送方向にカッティングラインを持つＸレイフ
ィルムの平面図である。

【図５】マーキングヘッドの詳細構成図である。

【図６】レーザービームの照射開始時を含むエネルギー
特性図である。

【図７】レーザー発振器の発振、並びにマーキング開始
のタイミングチャートである。

【図８】マーキングヘッドの変形例を示す詳細構成図で
ある。

【符号の説明】

ＬＢ レーザービーム １０ マーキング装置 １２ Ｘレイフィルム（感光材料） １８ 巻芯 ２０ 第１のパスロール ２２ 第２のパスロール ２４ プリントロール ２６ ローラ対 ２８、３０ 小ローラ ３２ サクションドラム ３４ 巻芯 ３６ 巻取り制御装置 ３８ ロータリーエンコーダ ４０ レーザー制御装置 ４２ マーキングヘッド ４４ レーザー発振器（ＣＯ₂レーザー） ４６ 光偏向器 ５０ ミラー ５２ エネルギー吸収材（エネルギー吸収手段） ５４ ガルバノミラー

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被印字体に対して、レーザーからレーザ
   ービームを照射すると共に、前記被印字体の所定位置に
   ドットパターンを形成し、当該ドットパターンの組み合
   わせによって視認可能な文字又は記号を含むマーキング
   パターンを形成するレーザーマーキング方法であって、 前記レーザーからのレーザービームの照射時期を、前記
   所定位置にドットパターンを形成する印字時期よりも所
   定時間前に設定し、 当該所定時間中のレーザービームを所定の空間内で吸収
   させるようにしたことを特徴とするレーザーマーキング
   方法。
2. 【請求項２】 前記所定時間を、適用されるレーザーか
   ら出力されるレーザービームのエネルギーが安定する時
   間に基づいて設定することを特徴とする請求項１記載の
   レーザーマーキング方法。
3. 【請求項３】 被印字体に対して、レーザーからレーザ
   ービームを照射すると共に、前記被印字体の所定位置に
   ドットパターンを形成し、当該ドットパターンの組み合
   わせによって視認可能な文字又は記号を含むマーキング
   パターンを形成するレーザーマーキング装置であって、 前記レーザーからのレーザービームを少なくとも、前記
   ドットパターン形成領域内と、前記ドットパターン領域
   外とに偏向する偏向手段と、 前記ドットパターン形成領域外のレーザービームが照射
   される位置に配設され、当該レーザービームエネルギー
   を吸収するエネルギー吸収手段と、 前記レーザーからのレーザービームの照射時期を基準と
   して、当該照射時期よりも所定時間前にレーザービーム
   の照射を開始すると共に前記偏向手段を制御してレーザ
   ービームを前記ドットパターン形成領域外に偏向し、照
   射時期に同期して前記偏向手段を制御してドットパター
   ン形成領域内へ偏向する照射偏向制御手段と、を有する
   レーザーマーキング装置。
4. 【請求項４】 前記偏向手段が、被印字体上でレーザー
   ビームを走査する走査手段と共用されており、当該走査
   手段の全走査幅における走査方向上流側端部をドットパ
   ターン形成領域外として設定することを特徴とする請求
   項３記載のレーザーマーキング装置。