JP2003307727A - 液晶表示装置 - Google Patents
液晶表示装置Info
- Publication number
- JP2003307727A JP2003307727A JP2002113833A JP2002113833A JP2003307727A JP 2003307727 A JP2003307727 A JP 2003307727A JP 2002113833 A JP2002113833 A JP 2002113833A JP 2002113833 A JP2002113833 A JP 2002113833A JP 2003307727 A JP2003307727 A JP 2003307727A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- display device
- crystal display
- layer
- data line
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133553—Reflecting elements
- G02F1/133555—Transflectors
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
- G02F1/1362—Active matrix addressed cells
- G02F1/136286—Wiring, e.g. gate line, drain line
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Thin Film Transistor (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
を拡大した場合であっても、データ線近傍における無効
領域の拡大を抑え、良好な表示品質を実現する。 【解決手段】 一対の基板2,7間に液晶層8が挟み込
まれ、透過光により表示を行う透過表示領域Aと、反射
光により表示を行う反射表示領域Bとを備えてなり、上
記液晶層8を駆動する駆動素子TFTに信号を供給する
データ線5が配され、上記透過表示領域Bに隣接するデ
ータ線5は、上記反射表示領域Aに隣接するデータ線5
とは異なる面上に形成されている。
Description
するものであり、特に反射透過併用型の液晶表示装置の
改良に関する。
るという特徴を活かして、ノート型パーソナルコンピュ
ータ、カーナビゲーション用の表示装置、携帯情報端末
(Personal Digital Assistant: PDA)、携帯電話に広
く用いられている。この液晶表示装置には、バックライ
トと呼ばれる内部光源を有し、このバックライトからの
光のオン・オフを液晶パネルで切り替えて表示を行う透
過型の液晶表示装置と、太陽光等の周囲光を反射板等で
反射させ、この反射光のオン・オフを液晶パネルで切り
替えて表示を行う反射型の液晶表示装置とが知られてい
る。
は、表示装置の全消費電力のうち50%以上をバックラ
イトが占めており、このようなバックライトを設けるこ
とで消費電力が多くなるという問題がある。また、透過
型の液晶表示装置は、周囲が明るい場合には表示光が暗
く見え、視認性が低下するという問題もある。一方、反
射型の液晶表示装置においては、バックライトを設けて
いないため消費電力の増加という問題はないが、周囲が
暗い場合には反射光量が低下して視認性が極端に低下す
るという問題がある。
方の問題を解消するために、透過型表示と反射型表示と
の両方を1つの液晶パネルで実現する反射透過併用型の
液晶表示装置が提案されている。この反射透過併用型の
液晶表示装置では、周囲が明るい場合には周囲光の反射
による表示(反射表示)を行い、周囲が暗い場合にはバ
ックライト光による表示(透過表示)を行う。反射透過
併用型の液晶表示装置の例は、特許第2955277号
公報、特開2001−166289号公報等に開示され
ている。
装置101における、薄膜トランジスタ(Thin Film Tr
ansistor:以下TFTと称する。)基板102の平面構
造を示す。TFT基板102には、図6に示すように、
後述するTFTによって制御される複数の画素電極10
3がマトリクス状に配設されるとともに、これら画素電
極103の周囲にTFTに走査信号を供給するためのゲ
ート線104と、TFTに表示信号を供給するためのデ
ータ線105とが互いに直交するように設けられ、画素
部が構成されている。
04と平行な金属膜からなる補助容量用配線(以下、C
s線と称する。)106が設けられている。Cs線10
6は、後述するように接続電極との間に補助容量Cを形
成し、カラーフィルタ基板に設けられた対向電極に接続
されている。
うための反射表示領域Aと、透過表示を行うための透過
表示領域Bとが設けられている。
る液晶表示装置101の断面構造を示す。この液晶表示
装置101は、先に述べたTFT基板102と、カラー
フィルタ基板107とが対向して配設され、これらの間
に液晶層108が挟持された構造とされる。
らなる透明絶縁基板109のTFT基板102と対向す
る側の面にカラーフィルタ110と、ITO等からなる
対向電極111とをこの順に有する。カラーフィルタ1
10は、顔料や染料によって各色に着色された樹脂層で
あり、例えばR,G,Bの各色のフィルタ層が組み合わ
されて構成されている。
フィルタ110及び対向電極111が形成された反対側
の面には、λ/4層112と、偏光板113とが配設さ
れる。
ては、ガラス等の透明基材からなる透明絶縁基板114
上に、画素電極103に表示信号を供給するためのスイ
ッチング素子であるTFT115と、詳細を後述する何
層かの絶縁膜を介してTFT115上に形成される散乱
層116と、この散乱層116上に形成される平坦化層
117と、ITO膜118aを介して平坦化層117上
に形成される反射電極119とを備えている。
ボトムゲート構造であり、透明絶縁基板114上に形成
されたゲート電極120と、ゲート電極120の上面に
重ねられた窒化シリコン膜121a及び酸化シリコン膜
121bの積層膜からなるゲート絶縁膜121と、ゲー
ト絶縁膜121上に重ねられた半導体薄膜122とを有
し、半導体薄膜122の両脇がN+拡散領域とされてい
る。ゲート電極120は、ゲート線104の一部を延在
させたものであり、モリブデン(Mo)、タンタル(T
a)等の金属又は合金をスパッタリング等の方法によっ
て成膜されてなる。
は、第1の層間絶縁膜123及び第2の層間絶縁膜12
4に形成されたコンタクトホールを介してソース電極1
25が接続される。ソース電極125にはデータ線10
5が接続され、データ信号が入力される。また、半導体
薄膜122の他方のN+拡散領域には、第1の層間絶縁
膜123及び第2の層間絶縁膜124に形成されたコン
タクトホールを介してドレイン電極126が接続され
る。ドレイン電極126は、接続電極127と接続さ
れ、さらにコンタクト部128を介して画素電極103
と電気的に接続される。接続電極127は、ゲート絶縁
膜121を介してCs線106との間に補助容量Cを形
成している。半導体薄膜122は、例えば化学気相成長
(Chemical Vapor Deposition: CVD)法等によって得ら
れる低温ポリシリコンからなる薄膜であり、ゲート絶縁
膜121を介してゲート電極120と整合する位置に形
成される。
3及び第2の層間絶縁膜124を介した直上には、スト
ッパ129が設けられる。このストッパ129は、ゲー
ト電極120と整合する位置に形成された半導体薄膜1
22を保護するものである。
にあっては、反射表示領域Aの略全面にわたって形成さ
れている各種絶縁膜、すなわちゲート絶縁膜121、第
1の層間絶縁膜123、第2の層間絶縁膜124、散乱
層116及び平坦化層117が除去されており、透明絶
縁基板114上に直接、透明電極118が形成されてい
る。また、反射表示領域Aにおいて成膜されている反射
電極119も、透過表示領域Bには形成されていない。
が形成された反対側の面、すなわち、図示を省略する内
部光源たるバックライトが配される側の面には、カラー
フィルタ基板107と同様に、λ/4層130と偏光板
131とがこの順に配設される。
置101では、反射表示領域Aと透過表示領域Bとで液
晶層108の厚みを異ならせることにより、反射表示及
び透過表示のいずれの状態においても高品質な表示を可
能とする。
表示領域Aと透過表示領域Bとの段差は、例えば2μm
程度とされる。そして、この段差は図7中に示すように
急峻な勾配をなすので、反射表示領域Aと透過表示領域
Bとの境界領域では液晶ドメインが発生しやすく、ま
た、反射表示に必要なギャップ及び透過表示に必要なギ
ャップのどちらも満足しないので、反射表示及び透過表
示のいずれにも寄与せず、光抜け等を生じる。以下、反
射表示及び透過表示のいずれにも寄与しない領域を無効
領域と称する。通常この無効領域は表示品質の劣化を招
くため、遮光膜等によって遮光される必要がある。
常に高精細な表示を実現する液晶表示装置において、図
8に示すように透過表示に寄与する透過表示領域Bを広
く確保した構造が提案されている。
ータ線105及びゲート線104に囲まれた1つの画素
部においては透過領域Bの周囲の反射表示領域Aが相対
的に狭くなり、図8に示すようにデータ線105と透過
表示領域Bとが近接する。
表示領域Bとが離間している場合には、反射表示領域A
と透過表示領域Bとの段差は図7に示すように、ゲート
絶縁膜121、第1の層間絶縁膜123、第2の層間絶
縁膜124、散乱層116、平坦化層117、及び反射
電極119の厚みの和であるが、図8に示すようにデー
タ線105と透過表示領域Bとが隣接する場合には、先
に述べた厚みの和にデータ線105の厚みが加わるの
で、データ線105近傍の透過表示領域Bにおいて透過
表示に必要なギャップが得られなくなる。
表示領域Bにおいて無効領域が拡大し、有効に機能する
領域が相対的に減少するので、透過表示領域Bを拡大し
たのにも拘わらず、透過表示において所望の輝度を得ら
れないといった問題が生じる。
解決するために提案されたものであり、透過表示の輝度
を上げるために透過表示領域を拡大した場合であって
も、データ線近傍における無効領域の拡大を抑え、良好
な表示品質を実現する反射透過併用型の液晶表示装置を
提供することを目的とする。
めに、本発明に係る液晶表示装置は、一対の基板間に液
晶層が挟み込まれ、透過光により表示を行う透過表示領
域と、反射光により表示を行う反射表示領域とを備えて
なる液晶表示装置において、上記液晶層を駆動する駆動
素子に信号を供給するデータ線が配され、上記透過表示
領域に隣接するデータ線は、上記反射表示領域に隣接す
るデータ線とは異なる面上に形成されていることを特徴
とする。
射表示領域に隣接するデータ線領域とでデータ線の形成
される面を異ならせることによって、透過表示領域と反
射表示領域とでデータ線が同一面上に形成されている従
来の液晶表示装置に比べて、透過表示領域に隣接するデ
ータ線領域と透過表示領域との段差を低減する。
に反射表示領域が存在しないほど透過表示領域を拡大し
た場合であっても、データ線近傍の透過表示領域におい
て無効領域が拡大することを防止する。
装置について、図面を参照しながら詳細に説明する。
表示とを1つの表示パネルで実現するいわゆる反射透過
併用型の液晶表示装置であり、例えばTFT等が形成さ
れたTFT基板及びカラーフィルタ等が形成されたカラ
ーフィルタ基板の一対の基板が液晶層を挟持してなる構
成とされる。
液晶表示装置1における、TFT基板2の平面構造を示
す。TFT基板2には、図1に示すように、後述するT
FTによって制御される複数の画素電極3がマトリクス
状に配設されるとともに、これら画素電極3の周囲にT
FTに走査信号を供給するためのゲート線4と、TFT
に表示信号を供給するためのデータ線5とが互いに直交
するように設けられ、画素部が構成されている。
行な金属膜からなるCs線6が設けられている。Cs線
6は、後述するように接続電極との間に補助容量Cを形
成し、カラーフィルタ基板に設けられた対向電極に接続
されている。
めの反射表示領域Aと、透過表示を行うための透過表示
領域Bとが設けられている。
−C'線における断面構造、すなわち、データ線5に平
行であり、且つ透過表示領域Bの略中央を通る断面構造
について図2を参照しながら説明する。
基板2と、カラーフィルタ基板7とが対向して配設さ
れ、これらの間に液晶層8が挟持された構造とされる。
る透明絶縁基板9のTFT基板2と対向する側の面にカ
ラーフィルタ10と、ITO等からなる対向電極11と
をこの順に有する。カラーフィルタ10は、顔料や染料
によって各色に着色された樹脂層であり、例えばR,
G,Bの各色のフィルタ層が組み合わされて構成されて
いる。
ルタ10及び対向電極11が形成された反対側の面に
は、λ/4層12と、偏光板13とが配設される。
は、ガラス等の透明基材からなる透明絶縁基板14のカ
ラーフィルタ基板2と対向する側の面に、画素電極3に
表示信号を供給するためのスイッチング素子であるTF
T15と、詳細を後述する何層かの絶縁膜を介してTF
T15上に形成される散乱層16と、この散乱層16上
に形成される平坦化層17と、ITO膜18aを介して
平坦化層17上に形成される反射電極19とを備えてい
る。散乱層16及び平坦化層17は、反射表示領域Aと
透過表示領域BとでTFT基板2の厚みを変えるための
凹凸形成層である。反射電極19は、ロジウム、チタ
ン、クロム、銀、アルミニウム、ニッケル−クロム合金
等の金属膜からなり、特に銀を使用した場合に反射表示
における反射率が高くなる。
トムゲート構造であり、透明絶縁基板14上に形成され
たゲート電極20と、ゲート電極20の上面に重ねられ
た窒化シリコン膜21a及び酸化シリコン膜21bの積
層膜からなるゲート絶縁膜21と、ゲート絶縁膜21上
に重ねられた半導体薄膜22とを有し、半導体薄膜22
の両脇がN+拡散領域とされている。ゲート電極20
は、ゲート線4の一部を延在させたものであり、モリブ
デン(Mo)、タンタル(Ta)等の金属又は合金をス
パッタリング等の方法によって成膜されてなる。
は、第1の層間絶縁膜23及び第2の層間絶縁膜24に
形成されたコンタクトホールを介してソース電極25が
接続される。ソース電極25にはデータ線5が接続さ
れ、データ信号が入力される。また、半導体薄膜22の
他方のN+拡散領域には、第1の層間絶縁膜23及び第
2の層間絶縁膜24に形成されたコンタクトホールを介
してドレイン電極26が接続される。ドレイン電極26
は、接続電極27と接続され、さらにコンタクト部28
を介して画素電極3と電気的に接続される。接続電極2
7は、ゲート絶縁膜21を介してCs線6との間に補助
容量Cを形成している。半導体薄膜22は例えばCVD
法等によって得られる低温ポリシリコンからなる薄膜で
あり、ゲート絶縁膜21を介してゲート電極20と整合
する位置に形成される。
び第2の層間絶縁膜24を介した直上には、ストッパ2
9が設けられる。このストッパ29は、ゲート電極20
と整合する位置に形成された半導体薄膜22を保護する
ものである。
っては、反射表示領域Aの略全面にわたって形成されて
いる各種絶縁膜、すなわちゲート絶縁膜21、第1の層
間絶縁膜23、第2の層間絶縁膜24、散乱層16及び
平坦化層17が除去されており、透明絶縁基板14上に
直接、ITO等からなる透明電極18が形成されてい
る。また、反射表示領域Aにおいて成膜されている反射
電極19も、透過表示領域Bには形成されていない。
された反対側の面、すなわち、図示を省略する内部光源
たるバックライトが配される側の面には、カラーフィル
タ基板7と同様に、λ/4層30と偏光板31とがこの
順に配設される。
基板7に挟持される液晶層8は、負の誘電異方性を有す
るネマティック液晶分子を主体とし、且つ二色性色素を
所定の割合で含有しているゲストホスト液晶が封入され
たものであり、図示を省略する配向膜によって垂直配向
される。この液晶層8においては、電圧印加時に液晶分
子が基板に対して垂直配向し、電圧無印加時に液晶分子
が基板に対して水平配向する。なお、液晶層8は上述の
構成に限定されず、電圧印加時に液晶分子が基板に対し
て水平配向し、電圧無印加時に液晶分子が基板に対して
垂直配向するような構成であってもよい。
線における断面構造、すなわち、データ線5に平行であ
り、且つデータ線5の略中央を通過するTFT基板2の
断面構造について図3を参照しながら説明する。
する領域においては、透明絶縁基板14上にCs線6
と、Cs線6を覆うように窒化シリコン膜21a及び酸
化シリコン膜21bの積層膜からなるゲート絶縁膜21
と、半導体薄膜22と、ストッパ29と、第1の層間絶
縁膜23と、第2の層間絶縁膜24とがこの順に積層さ
れ、これら層間絶縁膜上にデータ線5が形成されてい
る。データ線5上には、平坦化層17と、反射電極19
とがこの順に積層される。また、Cs線6に対応するデ
ータ線5上には、ドレイン電極26と画素電極3とを接
続する接続電極27が形成される。また、データ線5上
には、データ線5とソース電極25とを接続する接続電
極32が形成される。
域においては、ゲート絶縁膜21、第1の層間絶縁膜2
3及び第2の層間絶縁膜24が除去されており、透明絶
縁基板14上に直接データ線5が形成される。また、透
過表示領域Bに隣接する領域のデータ線5上には、反射
表示領域Aに隣接する領域から延在する平坦化層17
と、透明電極18とがこの順に積層される。
域と反射表示領域Aに隣接する領域とでデータ線5の形
成される面が異なり、透過表示領域Bに隣接する領域に
おけるデータ線5部分の高さが、ゲート絶縁膜21、第
1の層間絶縁膜23及び第2の層間絶縁膜24の厚みの
和に相当する分だけ反射表示領域Aに隣接する領域に比
べて低くなされる。すなわち、透過表示領域Bを広く確
保するためにデータ線5に透過表示領域Bが極めて接近
する構造であっても、従来の反射透過併用型の液晶表示
装置に比べて、透過表示領域Bとこれに隣接するデータ
線5領域との段差が低減される。この結果、データ線5
近傍の透過表示領域Bにおいて透過表示に必要なギャッ
プを満足しない無効領域の増大を従来構造に比べて抑え
ることができる。すなわち、本発明の液晶表示装置1
は、透過表示領域Bを広く確保しつつ無効領域の拡大を
最小限に抑えることが可能であり、従来の反射透過併用
型の液晶表示装置に比べて透過表示の輝度を高めること
ができる。
輝度を向上させられることから、特に透過表示重視の反
射透過併用型の液晶表示装置、より具体的には、表示パ
ネルにおける光の反射率が1%以上、10%以下の範囲
内であり、且つ表示パネルにおける光の透過率が5%以
上、10%以下の範囲内であるように規定された反射透
過併用型の液晶表示装置に本発明を適用することで、本
発明の効果を最大限に得ることができる。上述のように
光の反射率及び透過率が所定の範囲内に規定された反射
透過併用型の液晶表示装置は、反射表示における表示光
の輝度が最低限必要なレベルに保持されつつ、透過表示
における表示光の輝度が透過型の液晶表示装置と同等の
レベルの輝度とされ、視認性及び色再現性の向上が図ら
れたものである。
5は、透明絶縁基板14上、すなわち、透過表示領域B
における透明電極18と同じ面上に直接形成されること
が好ましい。この構造とすることにより、データ線5領
域と透過表示領域Bとの段差を最小とし、且つ製造プロ
セスを容易とすることができる。
ゲート絶縁膜21、第1の層間絶縁膜23及び第2の層
間絶縁膜24を全て透明絶縁基板14上から除去するこ
とによって、透過表示領域Bに隣接する領域と反射表示
領域Aに隣接する領域とでデータ線5の形成される面を
異ならせた例を挙げたが、本発明はこれに限定されるも
のではない。例えば、透過表示領域Bに隣接するデータ
線5下には、ゲート絶縁膜21、第1の層間絶縁膜23
及び第2の層間絶縁膜24のうち少なくとも1つの層を
除去することによって、透過表示領域Bに隣接する領域
と反射表示領域Aに隣接する領域とでデータ線5の形成
される面を異ならせてもよい。また、透過表示領域Bに
隣接するデータ線5下の、ゲート絶縁膜21、第1の層
間絶縁膜23及び第2の層間絶縁膜24のうち少なくと
も1つの層の厚みを変化させることによって、透過表示
領域Bに隣接する領域と反射表示領域Aに隣接する領域
とでデータ線5の形成される面を異ならせてもよい。
タ線5は、透明電極18との電気的な接触を防ぐため
に、絶縁層によって被覆される。この透過表示領域Bに
隣接するデータ線5を覆う絶縁層は、なだらかな形状、
すなわち順テーパ形状とされることにより、液晶ドメイ
ンやリバースチルト等の発生が抑制され、光抜け等の不
都合を防止できる。このような観点から、データ線5を
覆う絶縁層の具体的な立ち上がり角度は、80°以下と
されることが好ましく、45°以下とされることがより
好ましい。
う絶縁層に用いる材料としては特に限定されないが、例
えばアクリル系、ポリオレフィン系、スチレン系等の熱
又は光によって流動性を発現する有機材料、無機材料等
を用い、リフローすることによって、先に述べたような
なだらかな形状、すなわち順テーパ形状の絶縁層を容易
に実現できる。また、熱又は光によって流動性を発現し
ない材料を用いた場合であっても、ウェットプロセスに
よるエッチングやドライプロセスによる後退エッチング
等によりなだらかな形状、すなわち順テーパ形状の絶縁
層を形成可能である。さらに、データ線5を覆う絶縁層
に感光性の有機材料を用いることで、フォトリソグラフ
ィによって所望の位置に高精度にて絶縁層をパターニン
グすることが可能となる。
射表示領域Aにおける凹凸形成層の少なくとも一部を延
在した層を用いることができる。例えば凹凸形成層が感
光性の有機材料からなる場合には、フォトリソグラフィ
における露光量を調整して、反射表示領域Aに隣接する
領域と透過表示領域Bに隣接する領域とでデータ線5を
覆う凹凸形成層の厚みを変化させる。この手法は、デー
タ線5上の絶縁層の膜厚を任意に設定できるので、必要
上充分な電極間容量を得られるとともに、所望のなだら
かな形状を実現できる。
示すように、凹凸形成層として平坦化層17のみを備え
る場合、図5に示すように、凹凸形成層として散乱層1
6及び平坦化層17の両方を備える場合、データ線5を
覆う絶縁層が散乱層16のみからなる場合のいずれであ
ってもよい。さらに、凹凸形成層が散乱層16や平坦化
層17以外の層を含む場合には、この層が透過表示領域
Bに隣接するデータ線5を覆う絶縁層を構成してもよ
い。
造の液晶表示装置1の製造方法について説明する。
20、窒化シリコン膜21a及び酸化シリコン膜21b
からなるゲート絶縁膜21、及び半導体薄膜22を順次
堆積・パターニングし、半導体薄膜22の両脇の領域に
不純物導入し、N+拡散領域とする。また、半導体薄膜
22上にストッパ29を形成し、半導体薄膜22及びス
トッパ29を被覆するように、第1の層間絶縁膜23及
び第2の層間絶縁膜24を成膜する。
域に対応する箇所の第1の層間絶縁膜23及び第2の層
間絶縁膜24を例えばエッチングにより開口し、コンタ
クトホールを形成する。コンタクトホールを形成するの
と同時に、透過表示領域Bに隣接し、且つ後で形成する
データ線5の下方に存在することになるゲート絶縁膜2
1、第1の層間絶縁膜23及び第2の層間絶縁膜24を
エッチングにより除去することが好ましい。
して半導体薄膜22と接続するソース電極25及びドレ
イン電極26を所定の形状にパターニングして形成す
る。
散乱層16を成膜し、所定の形状にパターニングする。
この上に、平坦化層17を成膜し、所定の形状にパター
ニングする。この平坦化層17のパターニングの際に、
透過表示領域Bのゲート絶縁膜21、第1の層間絶縁膜
23及び第2の層間絶縁膜24を除去し、透明絶縁基板
14を露出させる。
からなる透明電極18を形成する。さらに透明電極18
上の、反射表示領域Aに対応する領域に反射電極19を
形成する。以上のようにして、透明絶縁基板14上にT
FT15等が形成されてなるTFT基板2を得る。
0及び対向電極11を公知の方法に従って形成し、カラ
ーフィルタ基板7を得る。
TFT15が形成された主面、及びカラーフィルタ基板
7のカラーフィルタ10が形成された主面にそれぞれ配
向膜を形成する。配向膜が内側となるようにTFT基板
2とカラーフィルタ基板7とを対向させて貼り合わせ、
さらに液晶を注入して液晶層8を形成する。そして、T
FT基板2の外側にλ/4層30及び偏光板31を、カ
ラーフィルタ基板7の外側にλ/4層12及び偏光板1
3を貼り付けることによって、図2に示すような反射透
過併用型の液晶表示装置1が完成する。
とはなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜
変更可能である。
ボトムゲート構造のTFTを用いた液晶表示装置を例に
挙げたが、トップゲート構造のTFTを用いた液晶表示
装置に本発明を適用することも可能である。
明によれば、透過表示領域を広く確保した構造であって
も、データ線と隣接する透過表示領域における無効領域
の拡大を抑えて充分な面積の透過表示領域を確保し、高
輝度な透過表示を実現することが可能な反射透過併用型
の液晶表示装置を提供することができる。
置の、TFT基板を示す平面図である。
る断面図である。
る断面図である。
断面図の一例である。
断面図の他の例である。
T基板を示す平面図である。
における断面図である。
用型の液晶表示装置の、TFT基板を示す平面図であ
る。
Claims (13)
- 【請求項1】 一対の基板間に液晶層が挟み込まれ、透
過光により表示を行う透過表示領域と、反射光により表
示を行う反射表示領域とを備えてなる液晶表示装置にお
いて、 上記液晶層を駆動する駆動素子に信号を供給するデータ
線が配され、上記透過表示領域に隣接するデータ線は、
上記反射表示領域に隣接するデータ線とは異なる面上に
形成されていることを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項2】 上記データ線下に配される少なくとも1
層の有無により上記異なる面が形成されていることを特
徴とする請求項1記載の液晶表示装置。 - 【請求項3】 上記データ線下に配される少なくとも1
層の膜厚を変更することにより上記異なる面が形成され
ていることを特徴とする請求項1記載の液晶表示装置。 - 【請求項4】 上記データ線は、上記透過表示領域と隣
接する領域において、透明電極と同一の面上に形成され
ていることを特徴とする請求項1記載の液晶表示装置。 - 【請求項5】 上記データ線は、上記反射表示領域に隣
接する領域においては層間絶縁膜上に形成されており、
上記透過表示領域と隣接する領域においては基板上に形
成されていることを特徴とする請求項1記載の液晶表示
装置。 - 【請求項6】 上記透過表示領域と隣接する領域におい
て、上記データ線を覆って絶縁層が形成されていること
を特徴とする請求項1記載の液晶表示装置。 - 【請求項7】 上記絶縁層は、エッジ部分の立ち上がり
角度が80°以下であることを特徴とする請求項6記載
の液晶表示装置。 - 【請求項8】 上記絶縁層は、感光性有機膜により形成
されていることを特徴とする請求項6記載の液晶表示装
置。 - 【請求項9】 上記絶縁層は、熱又は光により流動性が
発現することを特徴とする請求項6記載の液晶表示装
置。 - 【請求項10】 上記絶縁層は、上記反射表示領域にお
ける凹凸形成層の少なくとも一部であることを特徴とす
る請求項6記載の液晶表示装置。 - 【請求項11】 上記絶縁層は、上記反射表示領域にお
ける凹凸形成層の膜厚を薄くすることにより形成されて
いることを特徴とする請求項10記載の液晶表示装置。 - 【請求項12】 上記反射表示領域における凹凸形成層
が2層以上の層からなり、上記絶縁層はそのうちの1層
からなることを特徴とする請求項10記載の液晶表示装
置。 - 【請求項13】 上記反射表示領域における凹凸形成層
が、凹凸を有する散乱層と、この凹凸間を平坦化する平
坦化層とからなり、上記絶縁層は上記平坦化層からなる
ことを特徴とする請求項12記載の液晶表示装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002113833A JP3763285B2 (ja) | 2002-04-16 | 2002-04-16 | 液晶表示装置 |
US10/414,380 US6850299B2 (en) | 2002-04-16 | 2003-04-15 | Liquid crystal display device |
CNB031438377A CN1252516C (zh) | 2002-04-16 | 2003-04-16 | 液晶显示装置 |
TW092108811A TWI316143B (en) | 2002-04-16 | 2003-04-16 | Liquid crystal display device including a pair of substrates and liquid crystal layer held therebetween |
KR1020030024022A KR100928368B1 (ko) | 2002-04-16 | 2003-04-16 | 액정 디스플레이 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002113833A JP3763285B2 (ja) | 2002-04-16 | 2002-04-16 | 液晶表示装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003307727A true JP2003307727A (ja) | 2003-10-31 |
JP3763285B2 JP3763285B2 (ja) | 2006-04-05 |
Family
ID=29395901
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002113833A Expired - Fee Related JP3763285B2 (ja) | 2002-04-16 | 2002-04-16 | 液晶表示装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6850299B2 (ja) |
JP (1) | JP3763285B2 (ja) |
KR (1) | KR100928368B1 (ja) |
CN (1) | CN1252516C (ja) |
TW (1) | TWI316143B (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100407011C (zh) * | 2003-11-07 | 2008-07-30 | 夏普株式会社 | 液晶显示装置及其制造方法 |
JP2011034115A (ja) * | 2004-02-05 | 2011-02-17 | Sony Corp | 液晶表示装置およびその製造方法 |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8125601B2 (en) * | 2003-01-08 | 2012-02-28 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Upper substrate and liquid crystal display device having the same |
KR100940569B1 (ko) * | 2003-05-12 | 2010-02-03 | 삼성전자주식회사 | 박막 트랜지스터 기판 |
KR100543347B1 (ko) * | 2003-05-27 | 2006-01-20 | 삼성전자주식회사 | 광시야각 보상필름 및 이를 포함한 액정 표시장치 |
KR100692685B1 (ko) * | 2003-12-29 | 2007-03-14 | 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 | 반사투과형 액정표시장치용 어레이 기판 및 그의 제조 방법 |
US8021277B2 (en) | 2005-02-02 | 2011-09-20 | Mad Dogg Athletics, Inc. | Programmed exercise bicycle with computer aided guidance |
KR101244898B1 (ko) * | 2006-06-28 | 2013-03-19 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 박막 트랜지스터 기판 및 그 제조 방법 |
CN110767676B (zh) * | 2018-08-06 | 2022-04-15 | 昆山国显光电有限公司 | 透明显示面板、显示屏和显示终端 |
US11806577B1 (en) | 2023-02-17 | 2023-11-07 | Mad Dogg Athletics, Inc. | Programmed exercise bicycle with computer aided guidance |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2955277B2 (ja) | 1997-07-28 | 1999-10-04 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置 |
JP3281849B2 (ja) | 1997-10-07 | 2002-05-13 | シャープ株式会社 | アクティブマトリクス型液晶表示装置 |
JP3431856B2 (ja) * | 1999-04-19 | 2003-07-28 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置の製造方法 |
JP4196505B2 (ja) * | 1999-12-13 | 2008-12-17 | ソニー株式会社 | 表示装置及びその製造方法とカラーフィルタ |
-
2002
- 2002-04-16 JP JP2002113833A patent/JP3763285B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2003
- 2003-04-15 US US10/414,380 patent/US6850299B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-04-16 KR KR1020030024022A patent/KR100928368B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2003-04-16 CN CNB031438377A patent/CN1252516C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2003-04-16 TW TW092108811A patent/TWI316143B/zh not_active IP Right Cessation
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100407011C (zh) * | 2003-11-07 | 2008-07-30 | 夏普株式会社 | 液晶显示装置及其制造方法 |
JP2011034115A (ja) * | 2004-02-05 | 2011-02-17 | Sony Corp | 液晶表示装置およびその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI316143B (en) | 2009-10-21 |
KR20030082463A (ko) | 2003-10-22 |
KR100928368B1 (ko) | 2009-11-23 |
TW200500692A (en) | 2005-01-01 |
JP3763285B2 (ja) | 2006-04-05 |
CN1482500A (zh) | 2004-03-17 |
CN1252516C (zh) | 2006-04-19 |
US6850299B2 (en) | 2005-02-01 |
US20040001172A1 (en) | 2004-01-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7639331B2 (en) | Liquid crystal display device | |
JP4925030B2 (ja) | 液晶表示装置及びその製造方法 | |
TWI224699B (en) | Liquid crystal display and electronic device | |
US20050200791A1 (en) | In-plane switching mode liquid crystal display device and fabrication method thereof | |
JP4167085B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
US20100157236A1 (en) | Reflective-transmissive type liquid crystal display device | |
JP2001013520A (ja) | アクティブマトリックス型液晶表示装置 | |
KR20070000317A (ko) | 액정 표시 장치 및 그 제조 방법 | |
JP2003222854A (ja) | 液晶表示装置およびその製造方法 | |
TW200413764A (en) | Liquid crystal display device and electronic apparatus | |
JP2007034308A (ja) | 液晶表示装置とその製造方法 | |
US7248316B2 (en) | Transflective liquid crystal display device | |
JP4135407B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
JP4036498B2 (ja) | アクティブマトリクス型液晶表示装置 | |
JP2004280113A (ja) | アレー基板とこれを有する反射−透過型液晶表示装置 | |
JP3763285B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
US7995171B2 (en) | Thin film transistor substrate capable of avoiding aperture reduction | |
JP2004157148A (ja) | 液晶表示装置及び電子機器 | |
KR20010046244A (ko) | 반사 투과 복합형 박막트랜지스터 액정표시장치 | |
KR20050054542A (ko) | 반투과형 액정표시장치 | |
JP5121488B2 (ja) | 液晶装置及び電子機器 | |
JP4511248B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
JP5127427B2 (ja) | 液晶装置とその製造方法及び電子機器 | |
JP2009122601A (ja) | 液晶装置の製造方法 | |
JP2008046631A (ja) | Lcdパネルの半透過型画素構造とその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040420 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20050525 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20050527 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20051216 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20051227 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060109 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 3763285 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100127 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100127 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110127 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110127 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120127 Year of fee payment: 6 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120127 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130127 Year of fee payment: 7 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130127 Year of fee payment: 7 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130127 Year of fee payment: 7 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140127 Year of fee payment: 8 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |