JP2003284918A - 排ガス処理装置 - Google Patents
排ガス処理装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 コンパクト化及び低コスト化が図られる排ガ
ス処理装置を提供する。 【解決手段】 排ガスを除塵すると共に、ＨＣｌとの反
応生成物を捕集することで脱塩して通過させるバグフィ
ルタ２のフィルタを、吸着材及び金属触媒の少なくとも
一方を担持したセラミックフィルタ７とし、このセラミ
ックフィルタ７により、排ガスを従来と同様に除塵、脱
塩し、同時に、排ガス中のダイオキシンを、吸着材に吸
着且つ／又は金属触媒により分解して脱ダイオキシンと
すると共に、排ガス中のＮＯXを、ＮＨ3供給装置６から
供給されるＮＨ3と吸着材触媒作用且つ／又は金属触媒
作用により反応させて還元分解して脱硝し、加えて、排
ガス中のＳＯXを、硫酸やこの硫酸とＮＨ3との反応生成
物としてのアンモニウム塩の形で、吸着材に吸着且つ／
又はセラミックフィルタに捕集して脱硫し、従来バグフ
ィルタの後段に必要であった活性炭吸着塔を不要にして
成るもの。
ス処理装置を提供する。 【解決手段】 排ガスを除塵すると共に、ＨＣｌとの反
応生成物を捕集することで脱塩して通過させるバグフィ
ルタ２のフィルタを、吸着材及び金属触媒の少なくとも
一方を担持したセラミックフィルタ７とし、このセラミ
ックフィルタ７により、排ガスを従来と同様に除塵、脱
塩し、同時に、排ガス中のダイオキシンを、吸着材に吸
着且つ／又は金属触媒により分解して脱ダイオキシンと
すると共に、排ガス中のＮＯXを、ＮＨ3供給装置６から
供給されるＮＨ3と吸着材触媒作用且つ／又は金属触媒
作用により反応させて還元分解して脱硝し、加えて、排
ガス中のＳＯXを、硫酸やこの硫酸とＮＨ3との反応生成
物としてのアンモニウム塩の形で、吸着材に吸着且つ／
又はセラミックフィルタに捕集して脱硫し、従来バグフ
ィルタの後段に必要であった活性炭吸着塔を不要にして
成るもの。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、バグフィルタを備
える排ガス処理装置に関する。
える排ガス処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば、ボイラ、廃棄物焼却炉等からの
排ガスは、排ガス処理装置で清浄化され無害化されてか
ら大気に放出されている。この排ガス処理装置では、排
ガスの経路に、バグフィルタ、活性炭吸着塔をこの順に
備えると共に、バグフィルタに供給される排ガスに消石
灰を供給する消石灰供給装置及び活性炭吸着塔に供給さ
れる排ガスにＮＨ3を供給するＮＨ3供給装置を備え、先
ず、バグフィルタで、排ガスに随伴されるダストを捕集
して除塵すると共に、排ガス中のＨＣｌ、ＳＯXと消石
灰との反応生成物を捕集して脱塩、脱硫する。このダス
ト及び反応生成物を捕集するバグフィルタのフィルタ
は、例えば、ガラス繊維や、ゴアテックスのようにＰＴ
ＦＥ（ポリテトラフロロエチレン）とポリウレタンポリ
マを複合した防水・透湿効果を有する極薄フィルムから
構成されている。
排ガスは、排ガス処理装置で清浄化され無害化されてか
ら大気に放出されている。この排ガス処理装置では、排
ガスの経路に、バグフィルタ、活性炭吸着塔をこの順に
備えると共に、バグフィルタに供給される排ガスに消石
灰を供給する消石灰供給装置及び活性炭吸着塔に供給さ
れる排ガスにＮＨ3を供給するＮＨ3供給装置を備え、先
ず、バグフィルタで、排ガスに随伴されるダストを捕集
して除塵すると共に、排ガス中のＨＣｌ、ＳＯXと消石
灰との反応生成物を捕集して脱塩、脱硫する。このダス
ト及び反応生成物を捕集するバグフィルタのフィルタ
は、例えば、ガラス繊維や、ゴアテックスのようにＰＴ
ＦＥ（ポリテトラフロロエチレン）とポリウレタンポリ
マを複合した防水・透湿効果を有する極薄フィルムから
構成されている。
【０００３】そして、このバグフィルタで除塵、脱塩、
脱硫された排ガスを、活性炭吸着塔の活性炭に通すこと
で、当該活性炭にダイオキシンを吸着させて脱ダイオキ
シンとすると共に、排ガス中のＮＯXを、当該活性炭の
触媒作用によりＮＨ3と反応させ還元分解して脱硝し、
加えて、排ガス中のＳＯXを、硫酸やこの硫酸とＮＨ3と
の反応生成物としてのアンモニウム塩の形で当該活性炭
に吸着させて脱硫し、実質的に無害なガスとして大気に
放出する。
脱硫された排ガスを、活性炭吸着塔の活性炭に通すこと
で、当該活性炭にダイオキシンを吸着させて脱ダイオキ
シンとすると共に、排ガス中のＮＯXを、当該活性炭の
触媒作用によりＮＨ3と反応させ還元分解して脱硝し、
加えて、排ガス中のＳＯXを、硫酸やこの硫酸とＮＨ3と
の反応生成物としてのアンモニウム塩の形で当該活性炭
に吸着させて脱硫し、実質的に無害なガスとして大気に
放出する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記排
ガス処理装置にあっては、装置規模が大きく、コンパク
ト化及び低コスト化が望まれている。
ガス処理装置にあっては、装置規模が大きく、コンパク
ト化及び低コスト化が望まれている。
【０００５】本発明は、このような課題を解決するため
に成されたものであり、コンパクト化及び低コスト化が
成される排ガス処理装置を提供することを目的とする。
に成されたものであり、コンパクト化及び低コスト化が
成される排ガス処理装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明による排ガス処理
装置は、排ガスを除塵すると共に、ＨＣｌとの反応生成
物を捕集することで脱塩して通過させるバグフィルタを
具備する排ガス処理装置において、バグフィルタに供給
される排ガスに、ＮＨ3を供給するＮＨ3供給装置を備
え、バグフィルタのフィルタを、吸着材及び金属触媒の
少なくとも一方を担持したセラミックフィルタとするこ
とを特徴としている。
装置は、排ガスを除塵すると共に、ＨＣｌとの反応生成
物を捕集することで脱塩して通過させるバグフィルタを
具備する排ガス処理装置において、バグフィルタに供給
される排ガスに、ＮＨ3を供給するＮＨ3供給装置を備
え、バグフィルタのフィルタを、吸着材及び金属触媒の
少なくとも一方を担持したセラミックフィルタとするこ
とを特徴としている。
【０００７】このような排ガス処理装置によれば、排ガ
スを除塵すると共に、ＨＣｌとの反応生成物を捕集する
ことで脱塩して通過させるバグフィルタのそのフィルタ
が、吸着材及び金属触媒の少なくとも一方を担持したセ
ラミックフィルタとされるため、このセラミックフィル
タにより、排ガスが従来と同様に除塵、脱塩され、同時
に、排ガス中のダイオキシンが、吸着材に吸着且つ／又
は金属触媒により分解されて脱ダイオキシンとされると
共に、排ガス中のＮＯXが、ＮＨ3供給装置から供給され
るＮＨ3と吸着材触媒作用且つ／又は金属触媒作用によ
り反応し還元分解されて脱硝され、加えて、排ガス中の
ＳＯXが、硫酸やこの硫酸とＮＨ3との反応生成物として
のアンモニウム塩の形で、吸着材に吸着且つ／又はセラ
ミックフィルタに捕集されて脱硫される。このため、従
来バグフィルタの後段に必要であった活性炭吸着塔が不
要とされる。
スを除塵すると共に、ＨＣｌとの反応生成物を捕集する
ことで脱塩して通過させるバグフィルタのそのフィルタ
が、吸着材及び金属触媒の少なくとも一方を担持したセ
ラミックフィルタとされるため、このセラミックフィル
タにより、排ガスが従来と同様に除塵、脱塩され、同時
に、排ガス中のダイオキシンが、吸着材に吸着且つ／又
は金属触媒により分解されて脱ダイオキシンとされると
共に、排ガス中のＮＯXが、ＮＨ3供給装置から供給され
るＮＨ3と吸着材触媒作用且つ／又は金属触媒作用によ
り反応し還元分解されて脱硝され、加えて、排ガス中の
ＳＯXが、硫酸やこの硫酸とＮＨ3との反応生成物として
のアンモニウム塩の形で、吸着材に吸着且つ／又はセラ
ミックフィルタに捕集されて脱硫される。このため、従
来バグフィルタの後段に必要であった活性炭吸着塔が不
要とされる。
【０００８】ここで、バグフィルタに供給される排ガス
に、消石灰を供給する消石灰供給装置を備えていると、
消石灰とＨＣｌとの反応生成物がバグフィルタのセラミ
ックフィルタで効果的に捕集されて脱塩が成される。
に、消石灰を供給する消石灰供給装置を備えていると、
消石灰とＨＣｌとの反応生成物がバグフィルタのセラミ
ックフィルタで効果的に捕集されて脱塩が成される。
【０００９】また、吸着材を活性炭とするのが好まし
く、このように活性炭とすることで、排ガス中のダイオ
キシンが効果的に吸着されて脱ダイオキシンが成される
と共に、排ガス中のＮＯXが、ＮＨ3供給装置から供給さ
れるＮＨ3と活性炭触媒作用により反応し効果的に還元
分解されて脱硝され、加えて、排ガス中のＳＯXが、硫
酸やこの硫酸とＮＨ3との反応生成物としてのアンモニ
ウム塩の形で効果的に吸着されて脱硫される。
く、このように活性炭とすることで、排ガス中のダイオ
キシンが効果的に吸着されて脱ダイオキシンが成される
と共に、排ガス中のＮＯXが、ＮＨ3供給装置から供給さ
れるＮＨ3と活性炭触媒作用により反応し効果的に還元
分解されて脱硝され、加えて、排ガス中のＳＯXが、硫
酸やこの硫酸とＮＨ3との反応生成物としてのアンモニ
ウム塩の形で効果的に吸着されて脱硫される。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る排ガス処理装
置の好適な実施形態について添付図面を参照しながら説
明する。図１は、本発明による排ガス処理装置を示す概
略構成図、図２は、図１中のバグフィルタのフィルタを
拡大して示す縦断面図であり、本実施形態の排ガス処理
装置は、例えば、ボイラ、廃棄物焼却炉、半導体製造設
備等に適用されるものである。
置の好適な実施形態について添付図面を参照しながら説
明する。図１は、本発明による排ガス処理装置を示す概
略構成図、図２は、図１中のバグフィルタのフィルタを
拡大して示す縦断面図であり、本実施形態の排ガス処理
装置は、例えば、ボイラ、廃棄物焼却炉、半導体製造設
備等に適用されるものである。
【００１１】図１に示すように、排ガス処理装置１は、
排ガスラインＬ１に接続されるバグフィルタ２で、導入
される排ガスを清浄化し、この清浄化されたガスを、当
該バグフィルタ２に接続されるガスラインＬ２、煙突３
を介して大気に放出するものであり、ガスラインＬ２に
は、上流側の排ガスラインＬ１からバグフィルタ２を介
して下流側の煙突３に向かうガス流を、吸引することで
形成するファン４が配設されている。
排ガスラインＬ１に接続されるバグフィルタ２で、導入
される排ガスを清浄化し、この清浄化されたガスを、当
該バグフィルタ２に接続されるガスラインＬ２、煙突３
を介して大気に放出するものであり、ガスラインＬ２に
は、上流側の排ガスラインＬ１からバグフィルタ２を介
して下流側の煙突３に向かうガス流を、吸引することで
形成するファン４が配設されている。
【００１２】バグフィルタ２に排ガスを供給する排ガス
ラインＬ１に対しては、当該排ガスラインＬ１を流れる
排ガスに消石灰（中和剤）を例えば噴霧して供給する消
石灰供給装置５が接続されていると共に、ＮＨ3を例え
ば噴霧して供給するＮＨ3供給装置６が接続されてい
る。
ラインＬ１に対しては、当該排ガスラインＬ１を流れる
排ガスに消石灰（中和剤）を例えば噴霧して供給する消
石灰供給装置５が接続されていると共に、ＮＨ3を例え
ば噴霧して供給するＮＨ3供給装置６が接続されてい
る。
【００１３】上記バグフィルタ２は、下部の入口側領域
２ａと上部の出口側領域２ｂとが仕切壁２ｃにより仕切
られ、この仕切壁２ｃに多数の貫通孔２ｄが形成され
て、この貫通孔２ｄに対して、図２に示すように、鍔付
き鞘形状（キャップ形状）のフィルタ７が各々装着され
ているものである。
２ａと上部の出口側領域２ｂとが仕切壁２ｃにより仕切
られ、この仕切壁２ｃに多数の貫通孔２ｄが形成され
て、この貫通孔２ｄに対して、図２に示すように、鍔付
き鞘形状（キャップ形状）のフィルタ７が各々装着され
ているものである。
【００１４】このバグフィルタ２は、特に本実施形態に
おいては、そのフィルタ７が、活性炭（吸着材）及び金
属触媒を担持したセラミックフィルタとされている。こ
こで、セラミックフィルタ単体としては、例えば酸化チ
タンやＡｌ2Ｏ3から構成され、活性炭及び金属触媒を担
持する担持体としての機能を有すると共に除塵機能を有
し、加えて、吸湿性を備えている。また、金属触媒とし
ては、例えば、ＶＯ5、ＭｇＯ、Ｐｔ等が用いられてい
る。
おいては、そのフィルタ７が、活性炭（吸着材）及び金
属触媒を担持したセラミックフィルタとされている。こ
こで、セラミックフィルタ単体としては、例えば酸化チ
タンやＡｌ2Ｏ3から構成され、活性炭及び金属触媒を担
持する担持体としての機能を有すると共に除塵機能を有
し、加えて、吸湿性を備えている。また、金属触媒とし
ては、例えば、ＶＯ5、ＭｇＯ、Ｐｔ等が用いられてい
る。
【００１５】そして、セラミックフィルタ７は、例え
ば、水の中に、活性炭及び金属触媒、セラミックファイ
バを供給し、これらにバインダを添加して混合し、この
混合物を真空引きして水分を除去することで、所定形状
の成形体として得られる。
ば、水の中に、活性炭及び金属触媒、セラミックファイ
バを供給し、これらにバインダを添加して混合し、この
混合物を真空引きして水分を除去することで、所定形状
の成形体として得られる。
【００１６】この活性炭及び金属触媒を担持したセラミ
ックフィルタ７は、図２に示すように、その鍔部７ａが
上になるようにして貫通孔２ｄに嵌め込まれ、当該鍔部
７ａが貫通孔２ｄの周囲に当接した状態で、セラミック
フィルタ７と同軸に重ねて配置される環状板８が仕切壁
２ｃに対して螺子止め等されることで仕切壁２ｃに吊着
されている所謂外面濾過式フィルタとされている。
ックフィルタ７は、図２に示すように、その鍔部７ａが
上になるようにして貫通孔２ｄに嵌め込まれ、当該鍔部
７ａが貫通孔２ｄの周囲に当接した状態で、セラミック
フィルタ７と同軸に重ねて配置される環状板８が仕切壁
２ｃに対して螺子止め等されることで仕切壁２ｃに吊着
されている所謂外面濾過式フィルタとされている。
【００１７】このような構成を有する排ガス処理装置１
によれば、排ガスラインＬ１を流れる排ガスに対して、
消石灰供給装置５により消石灰が供給されると共にＮＨ
3供給装置６によりＮＨ3が供給される。この時、排ガス
中のＨＣｌ、ＳＯXと消石灰とが反応し、ＨＣｌ、ＳＯX
と消石灰との反応生成物を含む排ガスがバグフィルタ２
に流入する。
によれば、排ガスラインＬ１を流れる排ガスに対して、
消石灰供給装置５により消石灰が供給されると共にＮＨ
3供給装置６によりＮＨ3が供給される。この時、排ガス
中のＨＣｌ、ＳＯXと消石灰とが反応し、ＨＣｌ、ＳＯX
と消石灰との反応生成物を含む排ガスがバグフィルタ２
に流入する。
【００１８】そして、この排ガスがセラミックフィルタ
７を通過する際に、当該セラミックフィルタ７で、排ガ
スに随伴されるダストが捕集されて除塵されると共に、
ＨＣｌ、ＳＯXと消石灰との反応生成物が捕集されて脱
塩、脱硫される。
７を通過する際に、当該セラミックフィルタ７で、排ガ
スに随伴されるダストが捕集されて除塵されると共に、
ＨＣｌ、ＳＯXと消石灰との反応生成物が捕集されて脱
塩、脱硫される。
【００１９】この時、排ガス中のダイオキシンは、主と
して活性炭に吸着され、副として金属触媒により分解さ
れて、脱ダイオキシンとされる。
して活性炭に吸着され、副として金属触媒により分解さ
れて、脱ダイオキシンとされる。
【００２０】これと同時に、排ガス中のＮＯXが、活性
炭及び金属触媒の触媒作用によりＮＨ3と反応し還元分
解されて脱硝されると共に、排ガス中のＳＯXが、硫酸
やこの硫酸とＮＨ3との反応生成物としてのアンモニウ
ム塩の形で、活性炭に吸着されると共にセラミックフィ
ルタ７に捕集されて脱硫され、加えて、ガス状の水銀等
が活性炭に吸着されて脱重金属類とされる。
炭及び金属触媒の触媒作用によりＮＨ3と反応し還元分
解されて脱硝されると共に、排ガス中のＳＯXが、硫酸
やこの硫酸とＮＨ3との反応生成物としてのアンモニウ
ム塩の形で、活性炭に吸着されると共にセラミックフィ
ルタ７に捕集されて脱硫され、加えて、ガス状の水銀等
が活性炭に吸着されて脱重金属類とされる。
【００２１】そして、このようにして除塵、脱塩、脱
硫、脱ダイオキシン、脱重金属類、脱硝されて清浄化さ
れ無害化されたガスが、ガスラインＬ２、煙突３を介し
て、大気に放出される。
硫、脱ダイオキシン、脱重金属類、脱硝されて清浄化さ
れ無害化されたガスが、ガスラインＬ２、煙突３を介し
て、大気に放出される。
【００２２】このように、本実施形態においては、排ガ
スを除塵すると共に、ＨＣｌとの反応生成物を捕集する
ことで脱塩して通過させるバグフィルタ２のそのフィル
タが、活性炭及び金属触媒を担持したセラミックフィル
タ７とされるため、このセラミックフィルタ７により、
排ガスが除塵、脱塩され、同時に、排ガス中のダイオキ
シンが、活性炭に吸着されると共に金属触媒により分解
されて脱ダイオキシンとされると共に、排ガス中のＮＯ
Xが、ＮＨ3供給装置６から供給されるＮＨ3と活性炭触
媒作用及び金属触媒作用により反応し還元分解されて脱
硝され、加えて、排ガス中のＳＯXが、硫酸やこの硫酸
とＮＨ3との反応生成物としてのアンモニウム塩の形
で、活性炭に吸着されると共にセラミックフィルタ７に
捕集されて脱硫される。このため、従来バグフィルタの
後段に必要であった活性炭吸着塔が不要とされ、装置の
コンパクト化及び低コスト化が図られている。
スを除塵すると共に、ＨＣｌとの反応生成物を捕集する
ことで脱塩して通過させるバグフィルタ２のそのフィル
タが、活性炭及び金属触媒を担持したセラミックフィル
タ７とされるため、このセラミックフィルタ７により、
排ガスが除塵、脱塩され、同時に、排ガス中のダイオキ
シンが、活性炭に吸着されると共に金属触媒により分解
されて脱ダイオキシンとされると共に、排ガス中のＮＯ
Xが、ＮＨ3供給装置６から供給されるＮＨ3と活性炭触
媒作用及び金属触媒作用により反応し還元分解されて脱
硝され、加えて、排ガス中のＳＯXが、硫酸やこの硫酸
とＮＨ3との反応生成物としてのアンモニウム塩の形
で、活性炭に吸着されると共にセラミックフィルタ７に
捕集されて脱硫される。このため、従来バグフィルタの
後段に必要であった活性炭吸着塔が不要とされ、装置の
コンパクト化及び低コスト化が図られている。
【００２３】なお、本実施形態では、バグフィルタ２の
フィルタを、活性炭及び金属触媒を担持したセラミック
フィルタ７としているが、活性炭又は金属触媒の何れか
一方を担持したセラミックフィルタとしても良い。何れ
の場合も、前述した活性炭、金属触媒の単体としての作
用が発揮され、その結果、活性炭又は金属触媒の何れか
一方を担持したセラミックフィルタでは、除塵、脱塩、
脱ダイオキシン、脱硝、脱硫が成される。ここで、何れ
の場合も、製造方法としては、例えば、水の中に、活性
炭又は金属触媒の何れか一方とセラミックファイバを供
給し、これらにバインダを添加して混合し、この混合物
を真空引きして水分を除去することで、所定形状の成形
体を得る。
フィルタを、活性炭及び金属触媒を担持したセラミック
フィルタ７としているが、活性炭又は金属触媒の何れか
一方を担持したセラミックフィルタとしても良い。何れ
の場合も、前述した活性炭、金属触媒の単体としての作
用が発揮され、その結果、活性炭又は金属触媒の何れか
一方を担持したセラミックフィルタでは、除塵、脱塩、
脱ダイオキシン、脱硝、脱硫が成される。ここで、何れ
の場合も、製造方法としては、例えば、水の中に、活性
炭又は金属触媒の何れか一方とセラミックファイバを供
給し、これらにバインダを添加して混合し、この混合物
を真空引きして水分を除去することで、所定形状の成形
体を得る。
【００２４】また、活性炭に代えて他の吸着材を用いる
ことも可能であり、例えばゼオライト等を用いても良
い。但し、ゼオライトをセラミックフィルタに担持した
場合には、当該ゼオライトでは脱硝触媒の機能があまり
期待できないことになる。
ことも可能であり、例えばゼオライト等を用いても良
い。但し、ゼオライトをセラミックフィルタに担持した
場合には、当該ゼオライトでは脱硝触媒の機能があまり
期待できないことになる。
【００２５】以上、本発明をその実施形態に基づき具体
的に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるも
のではなく、例えば、上記実施形態においては、消石灰
を供給することで脱塩を可能としているが、吸着材及び
金属触媒の少なくとも一方を担持したセラミックフィル
タで捕集し得るＨＣｌとの反応生成物が生成されれば消
石灰に限定されるものではない。
的に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるも
のではなく、例えば、上記実施形態においては、消石灰
を供給することで脱塩を可能としているが、吸着材及び
金属触媒の少なくとも一方を担持したセラミックフィル
タで捕集し得るＨＣｌとの反応生成物が生成されれば消
石灰に限定されるものではない。
【００２６】また、上記実施形態においては、外面濾過
式バグフィルタ２に対する適用を述べているが、排ガス
の流れを上記図１と同じとして、上記吸着材及び金属触
媒の少なくとも一方を担持したセラミックフィルタを逆
方向に（上に凸となるように）装着して成る内面濾過式
バグフィルタに対しても適用可能である。さらには、排
ガスが流入して通過する通路を有し当該通路を塞ぐよう
にフィルタが配置されているバグフィルタに対しても適
用可能である。この場合には、吸着材及び金属触媒の少
なくとも一方を担持したセラミックフィルタを、例えば
平板状として配設するのが好ましい。
式バグフィルタ２に対する適用を述べているが、排ガス
の流れを上記図１と同じとして、上記吸着材及び金属触
媒の少なくとも一方を担持したセラミックフィルタを逆
方向に（上に凸となるように）装着して成る内面濾過式
バグフィルタに対しても適用可能である。さらには、排
ガスが流入して通過する通路を有し当該通路を塞ぐよう
にフィルタが配置されているバグフィルタに対しても適
用可能である。この場合には、吸着材及び金属触媒の少
なくとも一方を担持したセラミックフィルタを、例えば
平板状として配設するのが好ましい。
【００２７】さらに、上記実施形態においては、ボイ
ラ、廃棄物焼却炉、半導体製造設備等に対する適用を述
べているが、例えばトンネル等の車両の排ガス処理装置
としての適用も可能である。
ラ、廃棄物焼却炉、半導体製造設備等に対する適用を述
べているが、例えばトンネル等の車両の排ガス処理装置
としての適用も可能である。
【００２８】
【発明の効果】本発明による排ガス処理装置は、排ガス
を除塵すると共に、ＨＣｌとの反応生成物を捕集するこ
とで脱塩して通過させるバグフィルタのそのフィルタ
を、吸着材及び金属触媒の少なくとも一方を担持したセ
ラミックフィルタとし、このセラミックフィルタによ
り、排ガスを従来と同様に除塵、脱塩し、同時に、排ガ
ス中のダイオキシンを、吸着材に吸着且つ／又は金属触
媒により分解して脱ダイオキシンとすると共に、排ガス
中のＮＯXを、ＮＨ3供給装置から供給されるＮＨ3と吸
着材触媒作用且つ／又は金属触媒作用により反応させて
還元分解して脱硝し、加えて、排ガス中のＳＯXを、硫
酸やこの硫酸とＮＨ3との反応生成物としてのアンモニ
ウム塩の形で、吸着材に吸着且つ／又はセラミックフィ
ルタに捕集して脱硫し、従来バグフィルタの後段に必要
であった活性炭吸着塔を不要とするように構成したもの
であるから、装置のコンパクト化及び低コスト化を図る
ことが可能となる。
を除塵すると共に、ＨＣｌとの反応生成物を捕集するこ
とで脱塩して通過させるバグフィルタのそのフィルタ
を、吸着材及び金属触媒の少なくとも一方を担持したセ
ラミックフィルタとし、このセラミックフィルタによ
り、排ガスを従来と同様に除塵、脱塩し、同時に、排ガ
ス中のダイオキシンを、吸着材に吸着且つ／又は金属触
媒により分解して脱ダイオキシンとすると共に、排ガス
中のＮＯXを、ＮＨ3供給装置から供給されるＮＨ3と吸
着材触媒作用且つ／又は金属触媒作用により反応させて
還元分解して脱硝し、加えて、排ガス中のＳＯXを、硫
酸やこの硫酸とＮＨ3との反応生成物としてのアンモニ
ウム塩の形で、吸着材に吸着且つ／又はセラミックフィ
ルタに捕集して脱硫し、従来バグフィルタの後段に必要
であった活性炭吸着塔を不要とするように構成したもの
であるから、装置のコンパクト化及び低コスト化を図る
ことが可能となる。
【図１】本発明による排ガス処理装置を示す概略構成図
である。
である。
【図２】図１中のバグフィルタのフィルタを拡大して示
す縦断面図である。
す縦断面図である。
１…排ガス処理装置、２…バグフィルタ、５…消石灰供
給装置、６…ＮＨ3供給装置、７…吸着材及び金属触媒
を担持したセラミックフィルタ、Ｌ１…排ガスライン、
Ｌ２…ガスライン。
給装置、６…ＮＨ3供給装置、７…吸着材及び金属触媒
を担持したセラミックフィルタ、Ｌ１…排ガスライン、
Ｌ２…ガスライン。
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(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｂ０１Ｄ 53/56 Ｂ０１Ｄ 53/34 １２９Ｂ
53/68 １３４Ａ
53/70 １３４Ｅ
53/81 53/36 Ｇ
53/86 １０１Ａ
53/94 53/34 １２９Ａ
Ｆターム(参考） 4D002 AA02 AA12 AA19 AA21 AC01
AC04 AC10 BA03 BA04 BA06
BA14 CA01 CA13 DA05 DA07
DA12 DA41 DA70 HA01
4D019 AA01 BA03 BB01 BC05 BC07
CA04 CB04
4D048 AA06 AA11 AB02 AB03 AB05
AC04 BA01Y BA23Y BA30Y
BA41Y CC41 CC61 EA04
Claims (3)
- 【請求項１】 排ガスを除塵すると共に、ＨＣｌとの反
応生成物を捕集することで脱塩して通過させるバグフィ
ルタを具備する排ガス処理装置において、 前記バグフィルタに供給される排ガスに、ＮＨ3を供給
するＮＨ3供給装置を備え、 前記バグフィルタのフィルタを、吸着材及び金属触媒の
少なくとも一方を担持したセラミックフィルタとするこ
とを特徴とする排ガス処理装置。 - 【請求項２】 前記バグフィルタに供給される排ガス
に、消石灰を供給する消石灰供給装置を備えることを特
徴とする請求項１記載の排ガス処理装置。 - 【請求項３】 前記吸着材は、活性炭であることを特徴
とする請求項１又は２記載の排ガス処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002092658A JP2003284918A (ja) | 2002-03-28 | 2002-03-28 | 排ガス処理装置 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002092658A JP2003284918A (ja) | 2002-03-28 | 2002-03-28 | 排ガス処理装置 |
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| JP2003284918A true JP2003284918A (ja) | 2003-10-07 |
Family
ID=29237419
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002092658A Pending JP2003284918A (ja) | 2002-03-28 | 2002-03-28 | 排ガス処理装置 |
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| JP (1) | JP2003284918A (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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- 2002-03-28 JP JP2002092658A patent/JP2003284918A/ja active Pending
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