JP2003275650A - 描画システム、およびこれを用いた液晶表示装置の製造方法、有機ｅｌ装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、ｐｄｐ装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機ｅｌの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 吐出パターンデータの入れ替えを容易に行う
ことを目的とする。 【解決手段】 チップ形成領域Ｃにおける画素Ｅの配列
に関する画素情報と、ワークＷ上におけるチップ形成領
域の配置に関するチップ情報と、各ノズル３８の配置に
関するノズル情報とを設定する設定手段と、ワークおよ
び機能液滴吐出ヘッド７の位置関係、並びに設定手段に
より設定された各情報に基づいて、各ノズルの吐出パタ
ーンデータを生成する吐出パターンデータ生成手段と、
生成された吐出パターンデータを格納した記憶媒体５
と、記憶媒体に格納された吐出パターンデータを読み込
み、当該吐出パターンデータに基づいて描画を行う描画
手段と、を備えたものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、機能液滴吐出ヘッ
ドからワークに機能液滴を選択的に吐出することにより
描画を行う描画システム、およびこれを用いた液晶表示
装置の製造方法、有機ＥＬ装置の製造方法、電子放出装
置の製造方法、ＰＤＰ装置の製造方法、電気泳動表示装
置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機ＥＬの
製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レン
ズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法
に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、インクジェットプリンタなど、イ
ンクジェットヘッド（機能液滴吐出ヘッド）に同ピッチ
で配列されたノズル列から、インク（機能液滴）を吐出
することによりドットを形成する機能液滴吐出装置で
は、１のインクジェットヘッドを主走査方向および副走
査方向にワークに対して相対的に移動することによっ
て、描画を行っている。この場合、各ノズルの吐出パタ
ーンデータ（描画パターンデータ）は、ノズル列（ヘッ
ド）毎に生成され、生成されたデータをヘッド駆動装置
に順次送ることにより、１列分の機能液滴の吐出（描
画）を行っている。

【０００３】ところが、近年、大型のプリンタ等では、
機能液滴吐出ヘッドの歩留まりを考慮し、副走査方向の
ノズルの全並び（１ライン）を、単一の機能液滴吐出ヘ
ッドではなく、複数の機能液滴吐出ヘッドで構成してい
る。このため、例えば２列のノズル列を有する機能液滴
吐出ヘッドを６個並べることで１ラインが構成される場
合は、全部で１２列分の吐出パターンデータを生成する
必要がある。しかしながら、１２列分の吐出パターンデ
ータを生成するには、膨大なデータ量となるため、従来
のノズル列毎に吐出パターンデータを生成する方法では
事実上生成不可能であった。

【０００４】そこで、複数の機能液滴吐出ヘッドを用い
て描画を行う機能液滴吐出装置では、ワークおよび機能
液滴吐出ヘッドの位置関係並びに設定された画素情報や
ノズル情報等に基づいて、全てのノズルの吐出パターン
データを、一括して生成する方法が知られている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな方法では、使用する機能液滴吐出装置毎にデータを
生成するため、各機能液滴吐出装置を駆動する駆動ＰＣ
はいずれも高性能であることが望まれる。また、機能液
滴吐出装置に対し、吐出パターンデータの入れ替えを行
う場合には、その都度、元々記憶されていた吐出パター
ンデータを削除し、再度新たな吐出パターンデータを生
成し直すといった煩雑な手間を必要としていた。しか
も、この場合、データの生成時には、機能液滴吐出装置
を駆動できないため、稼働率の低下も大きな問題となっ
ていた。

【０００６】本発明は、複数の機能液滴吐出ヘッドに列
設されたノズル列からワークに機能液滴を選択的に吐出
することで描画を行う場合に、各ノズルの吐出パターン
データの入れ替えを容易に行い得る描画システム、およ
びこれを用いた液晶表示装置の製造方法、有機ＥＬ装置
の製造方法、電子放出装置の製造方法、ＰＤＰ装置の製
造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタ
の製造方法、有機ＥＬの製造方法、スペーサ形成方法、
金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法
および光拡散体形成方法を提供することを課題としてい
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の描画システム
は、記憶媒体に格納されたデータに基づき、機能液滴吐
出ヘッドをワークに対して相対的に移動させながら当該
機能液滴吐出ヘッドに列設した複数のノズルから機能液
滴を選択的に吐出させることにより、ワーク上の１以上
のチップ形成領域に描画を行う描画システムであって、
チップ形成領域における画素の配列に関する画素情報
と、ワーク上におけるチップ形成領域の配置に関するチ
ップ情報と、各ノズルの配置に関するノズル情報とを設
定する設定手段と、ワークおよび機能液滴吐出ヘッドの
位置関係、並びに設定手段により設定された画素情報、
チップ情報およびノズル情報に基づいて、各ノズルの吐
出パターンデータを生成する吐出パターンデータ生成手
段と、生成された吐出パターンデータを格納した記憶媒
体と、記憶媒体に格納された吐出パターンデータを読み
込み、当該吐出パターンデータに基づいて描画を行う描
画手段と、を備えたことを特徴とする。

【０００８】この構成によれば、ワークおよび機能液滴
吐出ヘッドの位置関係並びに設定された画素情報、チッ
プ情報およびノズル情報に基づいて、吐出パターンデー
タを生成するため、全てのノズルの吐出パターンデータ
を、一括して生成することができる。すなわち、ノズル
数に関係なく各ノズルの吐出パターンデータを容易且つ
迅速に生成することができる。また、描画手段は、デー
タ生成手段によって生成された各ノズルの吐出パターン
データを格納した記憶媒体を読み込むだけで、描画を行
うことができる。すなわち、描画手段によって吐出パタ
ーンデータの生成のための時間を必要としないため、描
画処理を長時間中断することがない。したがって、吐出
パターンデータの生成による描画手段の稼働率の低下を
防ぐことができる。さらに、吐出パターンデータが記憶
媒体に格納されているため、記憶媒体を交換するだけ
で、煩雑な手間を必要とすることなく吐出パターンデー
タの入れ替えを行うことができる。

【０００９】この場合、設定手段により機能液滴吐出ヘ
ッドの相対移動に関するヘッド移動情報が更に設定され
ることにより、画素情報、チップ情報、ノズル情報およ
びヘッド移動情報に基づいて、機能液滴吐出ヘッドのヘ
ッド動作パターンデータを生成するヘッド動作パターン
データ生成手段を更に備え、記憶媒体は、生成されたヘ
ッド動作パターンデータを格納し、描画手段は、記憶媒
体に格納されたヘッド動作パターンデータを読み込み、
当該ヘッド動作パターンデータに基づいて描画を行うこ
とが好ましい。

【００１０】この構成によれば、機能液滴吐出ヘッドの
相対移動に関するヘッド移動情報を更に設定すること
で、各ノズルの吐出パターンデータだけでなく、機能液
滴吐出ヘッドのヘッド動作パターンデータも生成するこ
とができる。言い換えれば、画素情報と、チップ情報
と、ノズル情報と、ヘッド移動情報と、が設定されるこ
とで、一括して各ノズルの吐出パターンデータおよびヘ
ッド動作パターンデータを生成することができる。すな
わち、ヘッド数やノズル数に関係なく、これらのデータ
を容易且つ迅速に生成することができる。また、記憶媒
体を読み込むだけで描画を行うことができるため、ヘッ
ド動作パターンデータ（および吐出パターンデータ）の
生成による描画手段の稼働率の低下を防ぐことができ
る。さらに、記憶媒体を交換するだけで、煩雑な手間を
必要とすることなく、ヘッド動作パターンデータ（およ
び吐出パターンデータ）の入れ替えを行うことができ
る。

【００１１】この場合、画素情報には、機能液滴の色情
報が含まれ、吐出パターンデータおよびヘッド動作パタ
ーンデータは、色別に生成されることが好ましい。

【００１２】この構成によれば、吐出パターンデータお
よびヘッド動作パターンデータが、色別に生成されるた
め、複数色の画素により描画を行う場合（カラー描画を
行う場合）、描画処理を容易に行うことができる。

【００１３】この場合、記憶媒体には、色別に生成され
た吐出パターンデータおよびヘッド動作パターンデータ
がそれぞれ色別に格納されていることが好ましい。

【００１４】また、この場合、描画手段は、色別に複数
備えられ、色別の記憶媒体をそれぞれ読み込むことによ
り、各色の描画を行うことが好ましい。

【００１５】これらの構成によれば、色別に生成された
吐出パターンデータおよびヘッド動作パターンデータに
基づいて、複数の描画手段により各色の描画を行うこと
ができる。すなわち、このように複数の描画手段により
描画を行う場合でも、複数色分の吐出パターンデータお
よびヘッド動作パターンデータを一括して、容易且つ迅
速に生成することができる。また、複数の描画手段のう
ち、いずれかの色を描画する描画手段が故障等で使用で
きない場合でも、データ上は記憶媒体を交換するだけで
（当然、機能液滴の交換も必要であるが）、他の描画手
段によりその色の描画を行うことができる。

【００１６】これらの場合、設定手段は、１の画素内に
おける機能液滴の吐出位置に関する吐出位置情報を更に
設定し、吐出パターンデータおよびヘッド動作パターン
データは、吐出位置情報に基づいて生成されることが好
ましい。

【００１７】この構成によれば、１の画素内における機
能液滴の吐出位置を設定することができるため、所望す
る位置に機能液滴を着弾させることができる。

【００１８】これらの場合、設定手段は、１の画素に対
する機能液滴の吐出回数に関する吐出回数情報を更に設
定し、吐出パターンデータおよびヘッド動作パターンデ
ータは、吐出回数情報に基づいて生成されることが好ま
しい。

【００１９】この構成によれば、１の画素に対する機能
液滴の吐出回数を設定することができる。すなわち、１
の画素当たりのドット数を、４個、８個などと任意に設
定することができる。

【００２０】この場合、設定手段は、１の画素に対し複
数回に分割して機能液滴を吐出する場合、それぞれ異な
るノズルから機能液滴を吐出するようにノズルずらし情
報を更に設定し、吐出パターンデータおよびヘッド動作
パターンデータは、ノズルずらし情報に基づいて生成さ
れることが好ましい。

【００２１】この構成によれば、１の画素に対し、複数
回に分割してそれぞれ異なるノズルから機能液滴を吐出
することができる。したがって、ノズルによって機能液
滴の吐出量にばらつきがある場合でも、１の画素に対す
る機能液滴吐出量を平均化することができる。

【００２２】この場合、設定手段は、１の画素に対し複
数回に分割して機能液滴を吐出する場合、それぞれ異な
る吐出位置に機能液滴を吐出するように位置ずらし情報
を更に設定し、吐出パターンデータおよびヘッド動作パ
ターンデータは、位置ずらし情報に基づいて生成される
ことが好ましい。

【００２３】この構成によれば、１の画素内において、
複数回に分割してそれぞれ異なる吐出位置に機能液滴を
吐出させることができるため、１の画素をむらなく描画
することができる。

【００２４】これらの場合、機能液滴吐出ヘッドは、ノ
ズル列が列設された複数の単位ヘッドによって構成され
ていることが好ましい。

【００２５】この構成によれば、機能液滴吐出ヘッド
は、ノズル列が列設された複数の単位ヘッドによって構
成されているため、同型の単位ヘッドを大量生産するこ
とができ、ひいては機能液滴吐出ヘッドを安価で製造す
ることができる。

【００２６】本発明の液晶表示装置の製造方法は、上記
した描画システムを用い、カラーフィルタの基板上に多
数のフィルタエレメントを形成する液晶表示装置の製造
方法であって、機能液滴吐出ヘッドに各色のフィルタ材
料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に
走査し、フィルタ材料を選択的に吐出して多数のフィル
タエレメントを形成することを特徴とする。

【００２７】本発明の有機ＥＬ装置の製造方法は、上記
した描画システムを用い、基板上の多数の絵素ピクセル
にそれぞれＥＬ発光層を形成する有機ＥＬ装置の製造方
法であって、機能液滴吐出ヘッドに各色の発光材料を導
入し、機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査
し、発光材料を選択的に吐出して多数のＥＬ発光層を形
成することを特徴とする。

【００２８】本発明の電子放出装置の製造方法は、上記
した描画システムを用い、電極上に多数の蛍光体を形成
する電子放出装置の製造方法であって、機能液滴吐出ヘ
ッドに各色の蛍光材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを
電極に対し相対的に走査し、蛍光材料を選択的に吐出し
て多数の蛍光体を形成することを特徴とする。

【００２９】本発明のＰＤＰ装置の製造方法は、上記し
た描画システムを用い、背面基板上の多数の凹部にそれ
ぞれ蛍光体を形成するＰＤＰ装置の製造方法であって、
機能液滴吐出ヘッドに各色の蛍光材料を導入し、機能液
滴吐出ヘッドを背面基板に対し相対的に走査し、蛍光材
料を選択的に吐出して多数の蛍光体を形成することを特
徴とする。

【００３０】本発明の電気泳動表示装置の製造方法は、
上記した描画システムを用い、電極上の多数の凹部に泳
動体を形成する電気泳動表示装置の製造方法であって、
機能液滴吐出ヘッドに各色の泳動体材料を導入し、機能
液滴吐出ヘッドを電極に対し相対的に走査し、泳動体材
料を選択的に吐出して多数の泳動体を形成することを特
徴とする。

【００３１】このように、上記の描画システムを、液晶
表示装置の製造方法、有機ＥＬ（Electro-Luminescenc
e）装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、ＰＤＰ
（Plasma Display Panel）装置の製造方法および電気泳
動表示装置の製造方法に適用することにより、吐出パタ
ーンデータに基づいて、各装置に求められるフィルタ材
料や発光材料等を、適切な位置に適切な量を選択的に供
給することができる。なお、液滴吐出ヘッドの走査は、
一般的には主走査および副走査となるが、いわゆる１ラ
インを単一の液滴吐出ヘッドで構成する場合には、副走
査のみとなる。また、電子放出装置は、いわゆるＦＥＤ
（Field Emission Display）装置を含む概念である。

【００３２】本発明のカラーフィルタの製造方法は、上
記した描画システムを用い、基板上に多数のフィルタエ
レメントを配列して成るカラーフィルタを製造するカラ
ーフィルタの製造方法であって、機能液滴吐出ヘッドに
各色のフィルタ材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを基
板に対し相対的に走査し、フィルタ材料を選択的に吐出
して多数のフィルタエレメントを形成することを特徴と
する。この場合、多数のフィルタエレメントを被覆する
オーバーコート膜が形成されており、フィルタエレメン
トを形成した後に、機能液滴吐出ヘッドに透光性のコー
ティング材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを基板に対
し相対的に走査し、コーティング材料を選択的に吐出し
てオーバーコート膜を形成することが、好ましい。

【００３３】本発明の有機ＥＬの製造方法は、上記した
描画システムを用い、ＥＬ発光層を含む多数の絵素ピク
セルを基板上に配列して成る有機ＥＬの製造方法であっ
て、機能液滴吐出ヘッドに各色の発光材料を導入し、機
能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、発光材
料を選択的に吐出して多数のＥＬ発光層を形成すること
を特徴とする。この場合、多数のＥＬ発光層と基板との
間には、ＥＬ発光層に対応して多数の画素電極が形成さ
れており、機能液滴吐出ヘッドに液状電極材料を導入
し、機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、
液状電極材料を選択的に吐出して多数の画素電極を形成
することが、好ましい。この場合、多数のＥＬ発光層を
覆うように対向電極が形成されており、ＥＬ発光層を形
成した後に、機能液滴吐出ヘッドに液状電極材料を導入
し、機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、
液状電極材料を選択的に吐出して対向電極を形成するこ
とが、好ましい。

【００３４】本発明のスペーサ形成方法は、上記した描
画システムを用い、２枚の基板間に微小なセルギャップ
を構成すべく多数の粒子状のスペーサを形成するスペー
サ形成方法であって、機能液滴吐出ヘッドにスペーサを
構成する粒子材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを少な
くとも一方の基板に対し相対的に走査し、粒子材料を選
択的に吐出して基板上にスペーサを形成することを特徴
とする。

【００３５】本発明の金属配線形成方法は、上記した描
画システムを用い、基板上に金属配線を形成する金属配
線形成方法であって、機能液滴吐出ヘッドに液状金属材
料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に
走査し、液状金属材料を選択的に吐出して金属配線を形
成することを特徴とする。

【００３６】本発明のレンズ形成方法は、上記した描画
システムを用い、基板上に多数のマイクロレンズを形成
するレンズ形成方法であって、機能液滴吐出ヘッドにレ
ンズ材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相
対的に走査し、レンズ材料を選択的に吐出して多数のマ
イクロレンズを形成することを特徴とする。

【００３７】本発明のレジスト形成方法は、上記した描
画システムを用い、基板上に任意形状のレジストを形成
するレジスト形成方法であって、機能液滴吐出ヘッドに
レジスト材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを基板に対
し相対的に走査し、レジスト材料を選択的に吐出してレ
ジストを形成することを特徴とする。

【００３８】本発明の光拡散体形成方法は、上記した描
画システムを用い、基板上に多数の光拡散体を形成する
光拡散体形成方法であって、機能液滴吐出ヘッドに光拡
散材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対
的に走査し、光拡散材料を選択的に吐出して多数の光拡
散体を形成することを特徴とする。

【００３９】このように、上記の描画システムを、カラ
ーフィルタの製造方法、有機ＥＬの製造方法、スペーサ
形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジス
ト形成方法および光拡散体形成方法に適用することによ
り、吐出パターンデータに基づいて、各電子デバイスや
各光デバイスに求められるフィルタ材料や発光材料等
を、適切な位置に適切な量を選択的に供給することがで
きる。

【００４０】

【発明の実施の形態】以下、添付の図面を参照して、本
発明の実施形態について説明する。本発明の描画システ
ムを構成する機能液滴吐出装置は、その機能液滴吐出ヘ
ッドに配列された複数のノズルから、微小な液滴をドッ
ト状に精度良く吐出することができることから、機能液
に特殊なインクや感光性・発光性の樹脂等を用いること
により、各種部品の製造分野への応用が期待されてい
る。

【００４１】例えば、本実施形態の描画システムは、液
晶表示装置や有機ＥＬ装置等の、いわゆるフラットディ
スプレイの製造装置に適用され、その複数の機能液滴吐
出ヘッドからフィルタ材料や発光材料等の機能液を吐出
して（インクジェット方式）、液晶表示装置におけるＲ
（赤）．Ｇ（緑）．Ｂ（青）のフィルタエレメントや、
有機ＥＬ装置における各画素のＥＬ発光層および正孔注
入層を形成するものである。そこで、本実施形態では、
液晶表示装置の製造装置等に適用される描画システムを
例に挙げて説明する。

【００４２】図１に示すように、描画システム１は、種
々のデータ（吐出パターンデータおよびヘッド動作パタ
ーンデータ）を生成するデータ生成用ＰＣ２と、Ｒ
（赤）．Ｇ（緑）．Ｂ（青）別に生成されたデータをそ
れぞれ格納する複数の記憶媒体５と、Ｒ（赤）．Ｇ
（緑）．Ｂ（青）それぞれの機能液滴を吐出する３台の
機能液滴吐出装置１０を備えた描画装置６と、により構
成されている。

【００４３】データ生成用ＰＣ２は、膨大なデータを処
理するため高スペックのものが用いられ（例えば、P４
−1.5GHz, RAM1G）、できるだけ短時間にてデータの生
成ができるように構成されている。データの生成方法に
ついては、後に詳述するが、ユーザにより設定された描
画対象となる基板Ｗや機能液滴吐出ヘッド７、並びに機
種等に関する種々の情報に基づいてデータの生成を行
い、記憶媒体５にこれらのデータを格納する。また、記
憶媒体５は、機種別（ライン別）且つ色別に作成され、
同一機種間においてデータの入れ替えが行えるようにな
っている。

【００４４】一方、描画装置６は、いずれも同一機種で
あって、Ｒ（赤）．Ｇ（緑）．Ｂ（青）の描画を行う機
能液滴吐出装置１０と、各記憶媒体５を読み込み、各機
能液滴吐出装置１０を制御するＰＣ（第２ＰＣ）１５２
と、マガジンにストックした処理前の基板Ｗを送り出す
搬入側マガジンローダ８と、処理後の基板Ｗを送り出す
搬出側マガジンローダ９とにより構成されている。処理
前の基板Ｗは、搬入側マガジンローダ８から図示しない
移載装置に移載されて各機能液滴吐出装置１０によりＲ
色、Ｇ色、Ｂ色の描画が行われ（描画する順番について
は任意）、図示しない移載装置を介して搬出側マガジン
ローダ９により送り出される。

【００４５】ここで、各機能液滴吐出装置１０の装置構
成について説明する。図２および図３に示すように、機
能液滴吐出装置１０は、Ｘ軸テーブル２３およびこれに
直交するＹ軸テーブル２４と、Ｙ軸テーブル２４に設け
たメインキャリッジ２５と、メインキャリッジ２５に搭
載したヘッドユニット２６とを有している。詳細は後述
するが、ヘッドユニット２６には、サブキャリッジ４１
を介して、複数の機能液滴吐出ヘッド７が搭載されてい
る。また、この複数の機能液滴吐出ヘッド７に対応し
て、Ｘ軸テーブル２３の吸着テーブル２８上に基板（ワ
ーク）Ｗがセットされるようになっている。

【００４６】本実施形態の機能液滴吐出装置１０では、
機能液滴吐出ヘッド７の駆動（機能液滴の選択的吐出）
に同期して基板Ｗが移動する構成であり、機能液滴吐出
ヘッド７のいわゆる主走査は、Ｘ軸テーブル２３のＸ軸
方向への往復の両動作により行われる。また、これに対
応して、いわゆる副走査は、Ｙ軸テーブル２４により機
能液滴吐出ヘッド７のＹ軸方向への往動動作により行わ
れる。なお、上記の主走査をＸ軸方向への往動（または
復動）動作のみで行うようにしてもよい。

【００４７】ヘッドユニット２６は、サブキャリッジ４
１と、サブキャリッジ４１に搭載した複数個（１２個）
の機能液滴吐出ヘッド７とを備えている。１２個の機能
液滴吐出ヘッド７は、６個づつ左右に二分され、主走査
方向に対し所定の角度傾けて配設されている。なお、本
実施形態の機能液滴吐出ヘッド７は、ピエゾ圧電効果を
応用した精密ヘッドが使用され、微小液滴を着色層形成
領域に選択的に吐出するものである。

【００４８】また、各６個の機能液滴吐出ヘッド７は、
副走査方向に対し相互に位置ずれして配設され、１２個
の機能液滴吐出ヘッド７の全吐出ノズル３８（後述す
る）が副走査方向において連続する（一部重複）ように
なっている。すなわち、実施形態のヘッド配列は、サブ
キャリッジ４１上において、同一方向に傾けて配置した
６個の機能液滴吐出ヘッド７を２列としている。このよ
うに、所定角度（副走査方向に対して角度θ）の傾斜状
態で主走査を行うことにより、複数のノズルのノズル間
ピッチを基板上の画素ピッチに合わせることができる。
また、各機能液滴吐出ヘッド７には、２本のノズル列３
７，３７が相互に平行に列設されており、各ノズル列３
７は、等ピッチで並べた１８０個（図示では模式的に表
している）の吐出ノズル３８で構成されている。

【００４９】もっとも、この配列パターンは一例であ
り、例えば、各ヘッド列における隣接する機能液滴吐出
ヘッド７，７同士を９０°の角度を持って配置（隣接ヘ
ッド同士が「ハ」字状）したり、各ヘッド列間における
機能液滴吐出ヘッド７を９０°の角度を持って配置（列
間ヘッド同士が「ハ」字状）したりすることは可能であ
る。いずれにしても、１２個の機能液滴吐出ヘッド７の
全吐出ノズル３８によるドットが副走査方向において連
続していればよい。

【００５０】また、各種の基板Ｗに対し機能液滴吐出ヘ
ッド７を専用部品とすれば、機能液滴吐出ヘッド７をあ
えて傾けてセットする必要は無く、千鳥状や階段状に配
設すれば足りる。さらにいえば、所定長さのノズル列３
７（ドット列）を構成できる限り、これを単一の機能液
滴吐出ヘッド７で構成してもよいし複数の機能液滴吐出
ヘッド７で構成してもよい。すなわち、機能液滴吐出ヘ
ッド７の個数や列数、さらに配列パターンは任意であ
る。

【００５１】ここで、描画装置６の一連の動作を簡単に
説明する。先ず、準備段階として、各機能液滴吐出装置
１０を制御するＰＣ（第２ＰＣ１５２）に、各ノズル３
８の吐出パターンデータおよび各機能液滴吐出ヘッド７
のヘッド動作パターンデータが格納された記憶媒体５
（例えば、ＣＤ−ＲＯＭ等）をセットし、これらのデー
タを読み込ませる。一方、各機能液滴吐出装置１０のメ
インキャリッジ２５には、作業に供する基板用のヘッド
ユニット２６が運び込まれ、これがセットされる。ヘッ
ドユニット２６がメインキャリッジ２５にセットされる
と、Ｙ軸テーブル２４がヘッドユニット２６を、図外の
ヘッド認識カメラの位置に移動させ、ヘッド認識カメラ
でヘッドアライメントマークを検出することにより、ヘ
ッドユニット２６が位置認識される。ここで、この認識
結果に基づいて、ヘッドユニット２６がθ補正され、且
つヘッドユニット２６のＸ軸方向およびＹ軸方向の位置
補正がデータ上で行われる。位置補正後、ヘッドユニッ
ト（メインキャリッジ２５）２６はホーム位置に戻る。

【００５２】一方、Ｘ軸テーブル２３の吸着テーブル２
８上に、マガジンから取り出した基板（この場合は、導
入される基板毎）Ｗが搬入側マガジンローダ８から移載
装置を介して導入されると、この位置（受渡し位置）で
図外の基板認識カメラにより基板アライメントマーク
（図３８参照）を検出することによって、基板Ｗを位置
認識する。ここで、この認識結果に基づいて、基板Ｗが
θ補正され、且つ基板ＷのＸ軸方向およびＹ軸方向の位
置補正がデータ上で行われる。位置補正後、基板（吸着
テーブル２８）Ｗはホーム位置に戻る。

【００５３】このようにして準備が完了すると、実際の
液滴吐出作業では、先ずＸ軸テーブル２３が駆動し、基
板Ｗを主走査方向に往復動させると共に複数の機能液滴
吐出ヘッド７を駆動して、機能液滴の基板Ｗへの選択的
な吐出動作（画素Eの形成）が行われる。基板Ｗが復動
した後、今度はＹ軸テーブル２４が駆動し、ヘッドユニ
ット２６を１ピッチ分、副走査方向に移動させ、再度基
板Ｗの主走査方向への往復移動と機能液滴吐出ヘッド７
の駆動が行われる。そして、読み込まれた吐出パターン
データおよびヘッド動作パターンデータに基づき、これ
らの動作を数回繰り返すことで、全チップ形成領域Ｃの
描画が行われる（ブロック打ち；図３６参照）。

【００５４】以上により、チップ形成領域Ｃを構成する
Ｒ．Ｇ．Ｂの３色のうちの例えばＲについての描画を終
えると、基板Ｗを例えばＧの機能液滴を吐出する機能液
滴吐出装置１０へ搬送してＧの描画を行う。そして、最
終的にＢの機能液滴を吐出する機能液滴吐出装置１０へ
搬送してＢの描画を行い、カラー描画された全チップ形
成領域Ｃを個々に切り出すことにより、１のチップ形成
領域Ｃを得ることができる。

【００５５】一方、上記の動作に並行し、液滴吐出装置
１０の機能液滴吐出ヘッド７には、エアー供給装置４２
を圧力供給源として機能液供給装置４３から機能液が連
続的に供給され、また吸着テーブル２８では、基板Ｗを
吸着すべく、真空吸引装置１５によりエアー吸引が行わ
れる。また、液滴吐出作業の直前には、ヘッドユニット
２６が図外のクリーニングユニットおよびワイピングユ
ニットに臨んで、機能液滴吐出ヘッド７の全吐出ノズル
３８からの機能液吸引と、これに続くノズル形成面の拭
取りが行われる。また、液滴吐出作業中には、適宜ヘッ
ドユニット２６がフラッシングユニットに臨んで、フラ
ッシングが行われる（図２５参照）。

【００５６】なお、本実施形態では、ヘッドユニット２
６に対し、その吐出対象物である基板Ｗを主走査方向
（Ｘ軸方向）に移動させるようにしているが、ヘッドユ
ニット２６を主走査方向に移動させる構成であってもよ
い。また、ヘッドユニット２６を固定とし、基板Ｗを主
走査方向および副走査方向に移動させる構成であっても
よい。

【００５７】次に、図４を参照し、機能液滴吐出装置１
０の制御構成について説明する。機能液滴吐出装置１０
は、機能液滴吐出ヘッド７（圧電素子駆動インクジェッ
トヘッド）と、これを接続するためのヘッドインターフ
ェース基板１１１とを有するヘッド部１１０と、波形・
パターン記憶回路基板１２１と、これを接続するための
インターフェース基板１２２と、波形・パターン記憶回
路基板１２１にトリガパルスを伝送するトリガ基板１２
３とを有し、機能液滴吐出ヘッド７を駆動する駆動部１
２０と、直流電源１３１を有し、波形・パターン記憶回
路基板１２１に電源を供給する電源部１３０と、リニア
スケール１４１を有し、スキャンの送りを検出する送り
検出部１４０と、装置全体を制御する第１ＰＣ１５１
と、主に機能液滴吐出ヘッド７の駆動を制御すると共に
記憶媒体５に格納された吐出パターンデータおよびヘッ
ド動作パターンデータを読み込む第２ＰＣ１５２（例え
ば、P3−700MHz, RAM256M×3）とを有する制御部１５０
と、により構成されている。

【００５８】ヘッド部１１０の機能液滴吐出ヘッド７
は、上記した構成であり、１ヘッド当たり１８０個のノ
ズル列が２列使用されている。ヘッドインターフェース
基板１１１は、波形・パターン記憶回路基板１２１から
送信された信号を差動信号変換し、機能液滴吐出のため
のピエゾ圧電素子を駆動するピエゾ圧電素子駆動信号、
吐出パターンデータおよびヘッド動作パターンデータを
機能液滴吐出ヘッド７に送る。

【００５９】駆動部１２０の波形・パターン記憶回路基
板１２１は、第２ＰＣ１５２からピエゾ圧電素子の駆動
信号を受けて駆動波形を生成する。また、リニアスケー
ル１４１からの信号に基づいて機能液滴吐出距離をカウ
ントするトリガ基板１２３により、トリガパルスが作成
され、波形・パターン記憶回路基板１２１は、このトリ
ガパルスを受けて予め第２ＰＣ１５２から送られ、格納
していた吐出パターンデータおよびヘッド動作パターン
データを順次取り出す。さらに、波形・パターン記憶回
路基板１２１は、予め第２ＰＣ１５２から送られ、格納
していた波形パラメータに応じたピエゾ素子駆動波形
を、トリガパルスと同期して生成する。また、波形・パ
ターン記憶回路基板１２１は、電源部１３１の直流電源
１３１より（ヘッド駆動用として）電源が供給される。

【００６０】送り検出部１４０のリニアスケール１４１
は、０．５μｍピッチでスキャンの送りを検出し、位置
パルスをトリガ基板１２３に伝送する。また、制御部１
５０の第２ＰＣ１５２は、第１ＰＣ１５１とＲＳ−２３
２Ｃにより接続され、第１ＰＣ１５１からのコマンドを
受けて機能液滴吐出ヘッド７の駆動結果等に関するデー
タを返信する。また、第２ＰＣ１５２は、記憶媒体５に
格納された吐出パターンデータおよびヘッド動作パター
ンデータを読み込み、インターフェース基板１２２を介
して波形・パターン記憶回路基板１２１に転送制御信号
を送ると共に、トリガ基板１２３にトリガ制御信号およ
び吐出制御信号を送る。

【００６１】次に、記憶媒体５に格納される吐出パター
ンデータおよびヘッド動作パターンデータの生成方法に
ついて説明する。前述の通り、これら吐出パターンデー
タおよびヘッド動作パターンデータは、ユーザにより設
定された描画対象となる基板Ｗや機能液滴吐出ヘッド７
等に関する種々の情報に基づき、データ生成用ＰＣ５０
により所定のアルゴリズムにしたがって一括して生成さ
れる。

【００６２】図５に示すように、ユーザにより、基板Ｗ
に関する情報（画素情報、チップ情報：基板データ）、
機能液滴吐出ヘッド７に関する情報（ノズル情報、ヘッ
ド移動情報：ヘッドデータ）、機能液滴吐出装置１０
（機種）に関する情報（装置データ）およびその他の情
報（コンパイルオプション）が入力されて、これをコン
パイルすることにより、各機能液滴吐出装置１０（各
色）の吐出パターンデータ（描画データ）およびヘッド
動作パターンデータ（位置データ）を生成する。このよ
うに、吐出パターンデータおよびヘッド動作パターンデ
ータが機能液滴吐出装置１０別（色別）に生成されるた
め、描画処理を容易に行うことができる。また、基板Ｗ
に関する情報や機能液滴吐出ヘッド７に関する情報を一
度設定することで、各装置の吐出パターンデータおよび
ヘッド動作パターンデータを一括して生成するため（同
じラインの機能液滴吐出装置１０は同一機種であるた
め）、ヘッド数やノズル数に関係なく、容易且つ迅速に
これらのデータを生成することができる。

【００６３】また、色別に生成された記憶媒体５を読み
込むだけで描画を行うことができるため、吐出パターン
データおよびヘッド動作パターンデータを生成するため
に、機能液滴吐出装置１０の稼働率が低下することがな
い。つまり、各機能液滴吐出装置１０に接続された第２
ＰＣ１５２（又は第１ＰＣ１５１）により、これらのデ
ータを生成することも可能であるが、データの生成中は
機能液滴吐出装置１０を駆動することができない。しか
も、本実施形態の場合、機能液滴吐出ヘッド７が１２個
あり、各ヘッドには１８０個のノズル列３７が２列配列
されていることから、各ノズル３８の吐出パターンデー
タおよび各機能液滴吐出ヘッド７のヘッド動作パターン
データを生成するには膨大な時間（例えば、十数時間）
を必要とする。したがって、各機能液滴吐出装置１０に
接続された第２ＰＣ１５２とは別の装置（データ生成用
ＰＣ２）でデータを生成することで、各機能液滴吐出装
置１０の稼働率を大幅に向上させることができる。

【００６４】さらに、記憶媒体５を交換するだけで、煩
雑な手間を必要とすることなく、データの入れ替えを行
うことができる。しかも、複数の機能液滴吐出装置１０
のうち、いずれかの色を描画する機能液滴吐出装置１０
が故障等で使用できない場合は、データ上は記憶媒体５
を交換するだけで（当然、機能液滴の交換も必要である
が）、他の機能液滴吐出装置１０によりその色の描画を
行うことができる。すなわち、装置故障時のデータ復旧
を容易に行うことができる。

【００６５】なお、本実施形態では、同一ラインで使用
される３台の機能液滴吐出装置１０は同一機種であり、
同一ラインの中で記憶媒体５の入れ替えが可能であるも
のとしたが、別ラインであっても同一機種であれば、記
憶媒体５の入れ替えが可能であることは言うまでもな
い。

【００６６】以下、吐出パターンデータおよびヘッド動
作パターンデータの生成方法について、同データの生成
プログラムを格納したデータ生成用ＰＣ２の表示画面を
示す図面（図６ないし図３１）を参照しながら、操作手
順に従って説明する。

【００６７】図６に示すように、まず描画装置６を構成
する機能液滴吐出装置１０の機種を選択する。そして、
その機種における描画色毎の装置および使用する機能液
滴吐出ヘッド７を選択する。ここでは、機能液滴吐出装
置１０がＲ．Ｇ．Ｂいずれも同一機種であり、使用する
ヘッドも同一である（「Head１」）ため、後に設定する
ヘッドデータ（図１９ないし図２４参照）は、この「He
ad１」に関する情報を入力すればよい。

【００６８】次に、図７に示すように、選択した描画装
置６（機種名「646all_4d_200」）で使用する機種ファ
イルを選択する。以下、図８ないし図１８は、ここで選
択した機種ファイル（機種ファイル名「646all_4d_20
0」）の編集画面を示すものである。

【００６９】図８ないし図１１は、セルパターン（画素
Eの配列）を選択する画面であり、図８はモザイク配
列、図９および図１０はデルタ配列、図１１はストライ
プ配列を選択した例を示している。ここでは、セルパタ
ーンを選択する他に、セル（画素Ｅ）の配色も選択可能
となっており、どのセルＥに対してどの色の機能液滴を
吐出するかを設定することができる。

【００７０】なお、「セルの配色」に示すアルファベッ
ト「Ａ」は、チップ形成領域Ｃの基準位置を示すもので
ある。また、デルタ配列の「タイプＡ」および「タイプ
Ｂ」とは、基準位置「Ａ」にもっとも近い画素Eを、全
画素とするか（図９）半画素とするか（図１０）の違い
を選択可能にしたものである。

【００７１】また、それぞれの配列の一例は、図３２
（ａ）ないし（ｃ）に示すとおりであり、同図（ａ）は
モザイク配列、同図（ｂ）はデルタ配列、同図（ｃ）は
ストライプ配列の一例である。ここに示すとおり、スト
ライプ配列は、マトリクスの縦または横列が全て同色と
なる配列であり、モザイク配列は、縦・横に並んだ任意
の３つの画素が、Ｒ．Ｇ．Ｂの３色となる配列である。
また、デルタ配列は、画素の配列を段違いにし、任意の
隣接する３つの画素が、Ｒ．Ｇ．Ｂの３色となる配列で
ある。したがって、それぞれの配色の選択は、例えば、
図８のモザイク配列の場合、右上の画素を「Ｒ」と設定
すると、同図に示す他の２つの画素も「Ｒ」に設定され
る。また、次に、いずれかの場所を、「Ｇ」または
「Ｂ」に設定すると、必然的に、ここに示す全ての画素
の配色が決定する。

【００７２】図１２は、カラーフィルタ（ＣＦ：チップ
形成領域Ｃ）の設計値１を設定する画面であり、画素
数、画素寸法、画素ピッチおよびワークに対するＣＦ
（チップ形成領域Ｃ）の設置方向を設定（選択）可能と
なっている。ワークに対するＣＦの設置方向は、ワーク
基準（図３４参照）が右上時の設置方向となる。したが
って、ここで設定した設置方向で描画されるＣＦは、図
３４に示す方向となる。

【００７３】図１３は、ワーク（基板）Ｗの設計値１を
設定する画面であり、ＣＦ数、ＣＦ寸法、ＣＦピッチ、
ＣＦの中央ピッチ（図示ａ）、ワーク（ＷＦ）サイズお
よびマガジンピッチを設定（選択）可能となっている。
なお、ここでいう「横」とはワークＷの長手方向を指す
ものである。また、図示の場合、ＣＦの中央ピッチは
「無」に設定されている（「中央ピッチ有り」にチェッ
クされていない）。これは、全てのＣＦが横方向におい
て等ピッチで配列されていることを示している（図３４
参照）。また、ワークサイズは、２種類のうちのいずれ
かを選択可能となっているが、当然、数値入力可能に
し、任意のサイズを設定可能に構成しても良い。また、
マガジンピッチとは、ワークＷを戴置しておくマガジン
の棚の間隔を指すものであり、ワークＷ（ガラス製）の
厚みによって、その撓み量が異なるため、２種類のピッ
チが選択できるようになっている。

【００７４】図１４は、ワーク（基板）Ｗの設計値２を
設定する画面であり、マスター基板アライメントマーク
から先頭セル間の距離およびマスター基板アライメント
マークからスレーブ基板アライメントマーク間の距離を
設定可能となっている。スレーブ基板アライメントマー
クは、複数個設けるようにしても良いが、ここでは、ス
レーブ基板アライメントマークが１箇所の場合を示して
いる。なお、ここに示す「描画方向」とは、上記の「主
走査方向（Ｘ方向）」を指し、「改行方向」とは、上記
の「副走査方向（Ｙ方向）」を指すものである。また、
これらのマークを認識するための、基板認識用カメラ
は、ワークＷが縦置の場合と横置の場合があり、それぞ
れの場合に、マスター基板アライメントマークおよびス
レーブ基板アライメントマークを検出可能にするため、
合計４つが配設されている。

【００７５】図１５は、（ワークＷのアライメントに関
する）画像設定を行う画面であり、ＷＦ（ワークＷ）ア
ライメント用画像処理装置の設定値を設定可能となって
いる。これは、ワークＷによってマークの形状（パター
ン）が異なるためである。上記の通り、アライメントす
るためのマークは２種類あるが、それぞれについて、パ
ターン名称、精度、複雑度、途中下限値および最終下限
値を設定しなければならない。本実施形態では、図３８
に示すように、マスター基板アライメントマークとスレ
ーブ基板アライメントマークは同一形状となっている。
ここで、パターン名称とは、予め設定しておいたパター
ンの名称である。したがって、複数のパターンの登録が
予め為されている必要がある。また、精度とは、そのパ
ターンがどの程度の精度を有するかを選択するものであ
り、複雑度とは、マーク形状の複雑さを数値化し、１な
いし１０の中から選択するものである（図３８に示すア
ライメントマークは、複雑度が「５」であるため、これ
より複雑な形状の場合は、複雑度が６ないし１０とな
る）。

【００７６】また、途中下限値とは、基板認識カメラで
認識したとき、どの程度の整合性があれば、そのマーク
を認識したと判断するかの基準となる値であり、「途中
下限値６５００」とは、６５％以上の整合性があったと
きにマークを認識するものである。また、途中下限値と
最終下限値との２つの下限値が設定されるのは、マーク
の認識（パターンマッチング）を、高速処理化のため、
処理を２段階に分けて行うためである。すなわち、第１
段階では、似ていると思われるパターンを探し出し(候
補点を見つけ)、第２段階では、候補点が本当にサーチ
するパターンかどうかを評価する。したがって、第１段
階において、「途中下限値」以上の相関値を示したら
「このあたりにパターンが存在していると思われる」と
判断して、第２段階に処理を引き渡し、第２段階で、
「最終下限値」以上の相関値を示したら、その候補点
を、本当にサーチするパターンであると判断する。この
ため、「途中下限値」が低い場合は多数の候補点が出現
するので、第２段階の処理が増加してしまう。逆に「途
中下限値」を高くすると処理速度は高速になるが、あま
り高すぎると本来のパターンさえ見つからなくなってし
まうので、設定値は、6000〜 7000程度にすることが好
ましい。また、「最終下限値」は、最終的に「見つけ
た」と判断するしきい値であるため、「途中下限値」よ
り低い値では意味がなく、一般的に、サーチする画像の
最悪の状態を想定して設定する。しかも、あまり低い値
にしておくと、予期せぬパターンをサーチしてしまうた
め、8000 以上に設定することが好ましい。

【００７７】図１６は、描画情報を設定する画面であ
り、描画色（Ｒ．Ｇ．Ｂ）ごとの描画情報として、吐出
分解能およびＸ軸描画スピードを、また、描画色共通の
描画情報として、フラッシング回数を設定可能となって
いる。吐出分解能およびＸ軸描画スピードは、機能液の
種類に応じて、また選択した機能液滴吐出ヘッド７の特
性に応じて変更するものであり、本実施形態の場合は、
同一種類の機能液滴および機能液滴吐出ヘッド７を用い
ているため、いずれも同一条件となっている。また、フ
ラッシング回数は、描画方向の前後に配設されたフラッ
シング領域（図２５参照）において、１ノズル当たり、
前後それぞれ何回づつ機能液滴を吐出するか（フラッシ
ングするか）を設定するものである。

【００７８】図１７は、画素内描画設計を設定する画面
であり、パス毎の画素内インク滴着弾開始位置およびイ
ンク滴（機能液滴）数を設定可能となっている。この場
合、１・２パス目は着弾位置（吐出位置）より（描画方
向の）プラス方向にインクを吐出し、３・４パス目はマ
イナス方向にインクを吐出する。これは、吐出方法がい
わゆる「ブロック打ち」であるためであり（図３６参
照）、ヘッドがワークＷに対してプラス方向に相対移動
する際（すなわち、ワークＷがマイナス方向に移動する
際）に、１・２パス目の機能液滴を吐出し、ヘッドがマ
イナス方向に相対移動する際（すなわち、ワークＷがプ
ラス方向に移動する際）に、３・４パス目の機能液滴を
吐出することによるものである。このように、１の画素
内において、複数回に分割して機能液滴を吐出する場
合、それぞれ異なる吐出位置に機能液滴を吐出させるよ
うに設定可能であるため、１の画素をむらなく描画する
ことができる。

【００７９】図１８は、オプション設定を行う画面であ
り、温度を設定可能となっている。この場合の温度と
は、特にワークＷの周辺温度を指すものであるが、予
め、温度によるワークＷの伸縮を補正するための補正値
をテーブルとして記憶しておき、設定された温度に応じ
て適宜、Ｘ軸テーブル２３および／またはＹ軸テーブル
２４（機能液滴吐出ヘッド７）の送り量を補正する。こ
のように、温度による基板伸縮を考慮することで、ワー
クＷ上の所望する正確な位置に機能液滴を着弾させるこ
とができる。

【００８０】なお、ワークＷが供給される吸着テーブル
２８の近傍に温度計を備え、これにより一定時間毎、若
しくはワークＷの供給時に計測された温度に基づいて、
ヘッド動作パターンデータが補正されるようにしても良
い。この構成によれば、ユーザによる設定の手間を省く
ことができると共に、正確な温度補正を行うことができ
る。また、この場合、ワークＷを載置しておくマガジン
周辺の温度と、吸着テーブル２８上に供給されたときの
周辺温度を同じにしておくことが好ましい。この構成に
よれば、より正確な温度補正を行うことができる。

【００８１】図１９は、ヘッドファイルを選択する画面
であり、図６で選択した使用ヘッド（「Head１」）に対
応するファイルが選択される。以下、図２０ないし図２
４は、ここで選択したヘッドファイル（ヘッドファイル
名「Head１」）の編集画面を示すものである。なお、ヘ
ッドファイルが予め保存されていない場合は、ここで新
規にヘッドファイルに関するデータ入力を行う必要があ
る。

【００８２】図２０は、ヘッド設計値を入力する画面で
あり、１ヘッドあたりのノズル数、ヘッドキャリッジへ
のヘッド取付角度およびヘッドキャリッジ取付時のノズ
ルピッチを設定可能となっている。１ヘッドあたりのノ
ズル数の中で、先頭ノズルからの不使用ノズル数および
最後尾ノズルからの不使用ノズル数を選択可能となって
いるが、これは、図３７に示すように、ピエゾ方式の機
能液滴吐出ヘッド７の特性で、特にノズル列３７の両端
側のインク吐出量が多くなる傾向にあるため、これら両
端付近のノズルを不使用とすることで、吐出量の平均化
を計るためである。

【００８３】また、ここで言う「ヘッドキャリッジ」と
はサブキャリッジ４１のことであるが、このサブキャリ
ッジ４１へのヘッド取付角度およびキャリッジ取付時の
ノズルピッチのいずれか一方を設定することで、他方の
値が決まることから、いずれか一方のみの入力としても
良い。なお、ここで設定するノズルピッチは、画素ピッ
チと異なる値に設定されることが好ましい。本実施形態
の場合、Ｒ．Ｇ．Ｂの描画色に対応した３つの装置（同
一設計、同一のノズル配列）を使用しており、それぞれ
の装置毎にインクを吐出する位置が異なるが、この構成
によれば、これら３つの着色パターンをなるべく多くの
ノズルを使用して着色させることができる。すなわち、
吐出むら（描画むら）を極力なくすことができる（仮
に、ストライプ配列でピッチを合わせた場合、各色で１
／３のノズルしか使用できないことになる）。

【００８４】図２１は、ヘッドキャリッジ設計値１を入
力する画面であり、ヘッド１Ａ列を基準としたときの各
ノズル列３７の間隔（各ノズル列３７までの距離）を設
定可能となっている。なお、ヘッド取付の「通常」、
「反転」とは、ヘッド７からヘッド１２までが、ヘッド
１からヘッド６までの機能液滴吐出ヘッド７を１８０°
回転させて取り付けてあることを示したものである。

【００８５】図２２は、ヘッドキャリッジ設計値２を入
力する画面であり、ヘッドアライメントマーク間距離お
よび各マークからのマスターノズル間の距離を設定可能
となっている。ヘッドアライメントマークは、サブキャ
リッジ上にレーザーエッチング等により形成されたもの
であり、マスターヘッドアライメントマークおよびスレ
ーブヘッドアライメントマークとしてそれぞれ１箇所ず
つ形成されている。また、マスターノズルとは、ヘッド
１Ａ列の先端ノズル（黒丸にて図示）を指すものであ
る。

【００８６】図２３は、ヘッドアライメント用の画像設
定を行う画面であり、ヘッドアライメント用画像処理装
置の設定値を設定可能となっている。これは、キャリッ
ジによってマークの形状が異なるためである。上記の通
り、アライメントするためのマークは２種類あるが、そ
れぞれについて、パターン名称、精度、複雑度、途中下
限値、最終下限値、２値化レベル、面積下限値および面
積上限値を設定しなければならない。ここで、パターン
名称、精度、複雑度、途中下限値、最終下限値について
は、図１５の「ＷＦアライメント用画像処理装置の設
定」と同様であるため、説明を省略する。

【００８７】２値化レベル、面積下限値および面積上限
値は、パターンマッチングにより、アライメントマーク
検出ができた後、マークの重心を算出する際に使用する
ものであり、２値化レベルは、アライメントマークの輝
度を２５６階調に分解した場合の２値化の基準点を設定
するものである。つまり、ここで設定された設定値以下
輝度の箇所を『黒』に変換する。また、面積下限値およ
び面積上限値は、２値化レベルにより、『白』と『黒』
のエリアに分けられたアライメントマークの『黒エリア
の面積』が下限以上、上限以下の場合、『黒エリア』の
重心を算出するものである。したがって、この場合、
『黒エリアの面積』が１０％以上３５％以下の場合、ア
ライメントマークの重心が算出されることになる。

【００８８】図２４は、オプション設定を行う画面であ
り、ヘッド駆動周波数を設定可能となっている。このヘ
ッド駆動周波数と、描画方向の移動速度とに基づいて、
１のノズルの吐出可能ピッチを決定するようにしても良
いが、必ずしも入力される必要はない（入力必須事項で
はない）。

【００８９】次に、図２５ないし図２８を参照し、使用
する機能液滴吐出装置１０（図示では、「装置１」と記
載）のデータファイルの編集操作を示す。図２５は、機
械設計値１の入力を行う画面であり、装置サイズを設定
可能となっている。上記の通り、基板認識カメラは、ワ
ークＷが縦置の場合と横置の場合があり、それぞれの場
合に、マスター基板アライメントマークおよびスレーブ
基板アライメントマークを検出可能にするため、合計４
つが配設されている。この４つのカメラのうちのカメラ
１（太字プラスで図示）を基準として、前後のフラッシ
ング領域からの領域を設定するようになっている。な
お、ここに示す図は、ワークを上側から見たときの平面
図であって、カメラ１との描画方向における相対位置を
示したものである。

【００９０】図２６は、機械設計値２の入力を行う画面
であり、基準となるカメラ１からの各カメラ間の描画方
向における距離を設定可能となっている。なお、カメラ
１、３で、ワークＷを縦置にした場合のマークを認識
し、カメラ２、４でワークを横置にした場合のマークを
認識している。

【００９１】図２７は、軸パラメータの入力を行う画面
であり、描画軸（Ｘ軸）のパラメータおよび改行軸（Ｙ
軸）のパラメータを設定可能となっている。描画軸（Ｘ
軸）のパラメータとしては、分解能、起動周波数、最高
速度安定待ち時間を入力するが、このうち分解能は、リ
ニアスケールの分解能に等しい。また、最高速度安定待
ち時間とは、ヘッドが描画方向を走査するときの、最高
速度に至るまで（安定した走査ができるようになるま
で）の待ち時間を指すものである。また、起動周波数と
は、Ｘ・Ｙ両軸のヘッド動作パターンデータを生成する
場合、駆動時の加速領域（速度が安定しないエリア）を
算出するために用いられるものである。一方、改行軸
（Ｙ軸）のパラメータの最高周波数は、次に説明するド
ット抜け検査に使用される。ドット抜け検査とは、機能
液滴吐出ヘッド７を移動させながら、機能液滴を吐出
し、検査をするものであるが、ここで設定された最高周
波数は、その時の機能液滴吐出ヘッド７の移動速度を設
定し、どの位置でどのノズル３８から機能液滴を吐出す
るかを算出するために使用される。

【００９２】図２８は、ドット検査パラメータの入力を
行う画面であり、ドット検査時の描画領域長さ、ドット
センサ１とセンサ２間の距離、ドット検査開始時の先頭
ノズルとセンサ間の距離、ドット検出センサ検出幅およ
びドット検査吐出時の吐出分解能を設定可能となってい
る。この「ドット検査パラメータ」は、ノズル詰まりを
検査するために用いるものであり、図示されている、二
重長方形は機能液滴の受け皿を表している。また、セン
サ１とセンサ２の２つのセンサを用いるのは、サブキャ
リッジ４１上のヘッド列３７が２列あるため、これらを
１列づつ検査するためである。

【００９３】次に、メインメニューの「コンパイルオプ
ション」アイコンをクリックすることにより設定可能な
コンパイルオプションの設定操作について、図２９ない
し図３１を参照し、説明する。図２９は、ズラシ打ちの
設定を行う画面であり、描画色ズラシおよびスキャンズ
ラシを設定可能となっている。描画色ズラシとは、複数
色（カラー）でチップ形成領域Ｃの描画を行う場合であ
って、装置１ないし３の機能液滴吐出ヘッド７のそれぞ
れのノズル列３７に一方の端から同一のノズル番号が付
されている場合（ノズル数が１８０であるため、１ない
し１８０の番号が付されているものとする）、隣り合う
画素（図３３において、Ｒ１とＧ１、Ｇ１とＢ１など）
に対しては、同一番号のノズル３８で機能液滴を吐出し
ないように設定するものである。ここでは、ズラシノズ
ル数が「１０」であるため、Ｒ１の画素を装置１のノズ
ル番号２０で吐出した場合、Ｇ１の画素を装置２のノズ
ル番号１０または３０で吐出することになる。また、Ｒ
１の画素を装置１のノズル番号１で吐出した場合、Ｇ１
の画素を装置２のノズル番号１１または隣のノズル列３
７または機能液滴吐出ヘッド７のノズル番号１７１で吐
出することになる。このため、ノズル３８の位置によっ
て吐出量にばらつきがある場合（図３７参照）でも、１
画素あたりの機能液滴の吐出量を平均化させ得るため、
吐出むらを視認しづらくすることができる。

【００９４】なお、各配列（モザイク配列、デルタ配
列、ストライプ配列）における隣り合う画素とは、図３
５に示すように、画素αに対する画素βを指すものであ
る。但し、（ｃ）ストライプ配列においては、画素β以
外に画素γも含めて画素αの隣り合う画素とし、同一番
号のノズル３８で機能液滴を吐出しないようにしても良
い。

【００９５】一方、スキャンズラシとは、１の画素が、
複数回の機能液滴の吐出によって描画される場合（本実
施形態の場合、４回に分けて描画される：図１７参
照）、それぞれ異なるノズルから機能液滴を吐出するこ
とができる。ここでは、ズラシノズル数が「８０」であ
るため、ある画素に対して１パス目をノズル番号１０で
吐出した場合、２パス目はノズル番号９０、３パス目は
ノズル番号１７０、４パス目は隣のノズル列３７または
機能液滴吐出ヘッド７のノズル番号７０で吐出すること
になる。このため、ノズル３８位置によって機能液滴の
吐出量にばらつきがある場合（図３７参照）でも、１の
画素に対する機能液滴吐出量を平均化することができ
る。

【００９６】図３０は、ワークＷ（Ｘステージ２３）に
対する機能液滴吐出ヘッド７の駆動方式の一種である
「お茶打ち」等の設定を行う画面であり、「お茶打
ち」、または「順方向打ち」を設定可能となっている。
なお、ここで特に指定がない場合（本実施形態の場合）
は、「ブロック打ち」となる。各駆動方式は、図３６に
示すとおりである。

【００９７】図３１は、ビットマップファイル形式（保
存形式）の設定を行う画面であり、「通常（BINファイ
ル）」、または「デバック（TXTファイル）」のいずれ
かを設定可能となっている。このうち、「通常（BINフ
ァイル）」は、機能液滴吐出ヘッド７の駆動データとな
るバイナリデータであり、「デバック（TXTファイ
ル）」はテキストエディタにより表示可能なテキストデ
ータである。

【００９８】上記の通り、図８ないし図１８に示す機種
ファイル（基板データ）、図２０ないし図２４に示すヘ
ッドファイル（ヘッドデータ）、図２５ないし図２８に
示す装置ファイル（装置データ）の編集を行い、さらに
必要に応じて図２９ないし図３１に示すコンパイルオプ
ションの設定を行った後、図６に示すメインメニューの
コンパイルアイコンをクリックすることにより、コンパ
イルが行われ、描画色毎（装置毎）の描画データ（吐出
パターンデータ）および位置データ（ヘッド動作パター
ンデータ）の生成を行う（図５参照）。このように、任
意に設定された画素情報とチップ情報（基板データ）
と、ノズル情報およびヘッド移動情報（ヘッドデータ）
とに基づいて、所定のアルゴリズムにより吐出パターン
データおよびヘッド動作パターンデータを生成するた
め、全てのノズル３８の吐出パターンデータや全ての装
置（機能液滴吐出ヘッド７）のヘッド動作パターンデー
タを、一括して容易且つ迅速に生成することができる。

【００９９】ところで、本発明の描画システム１（描画
装置６、機能液滴吐出装置１０）は、前述の通り、各種
フラットディスプレイの製造方法や、各種の電子デバイ
スおよび光デバイスの製造方法等にも適用可能である。
そこで、この描画システム１を用いた製造方法を、液晶
表示装置の製造方法および有機ＥＬ装置の製造方法を例
に、説明する。

【０１００】図３９は、液晶表示装置のカラーフィルタ
の部分拡大図である。図３９（ａ）は平面図であり、図
３９（ｂ）は図３９（ａ）のＢ−Ｂ´線断面図である。
断面図各部のハッチングは一部省略している。

【０１０１】図３９（ａ）に示されるように、カラーフ
ィルタ４００は、マトリクス状に並んだ画素（フィルタ
エレメント）４１２を備え、画素と画素の境目は、仕切
り４１３によって区切られている。画素４１２の１つ１
つには、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかのイ
ンク（フィルタ材料）が導入されている。この例では
赤、緑、青の配置をいわゆるデルタ配列としたが、スト
ライプ配列、モザイク配列など、その他の配置でも構わ
ない。

【０１０２】図３９（ｂ）に示されるように、カラーフ
ィルタ４００は、透光性の基板４１１と、遮光性の仕切
り４１３とを備えている。仕切り４１３が形成されてい
ない（除去された）部分は、上記画素４１２を構成す
る。この画素４１２に導入された各色のインクは着色層
４２１を構成する。仕切り４１３及び着色層４２１の上
面には、オーバーコート層４２２及び電極層４２３が形
成されている。

【０１０３】図４０は、本発明の実施形態によるカラー
フィルタの製造方法を説明する製造工程断面図である。
断面図各部のハッチングは一部省略している。

【０１０４】膜厚０．７ｍｍ、たて３８ｃｍ、横３０ｃ
ｍの無アルカリガラスからなる透明基板４１１の表面
を、熱濃硫酸に過酸化水素水を１重量％添加した洗浄液
で洗浄し、純水でリンスした後、エア乾燥を行って清浄
表面を得る。この表面に、スパッタ法によりクロム膜を
平均０．２μｍの膜厚で形成し、金属層４１４´を得る
（図４０：Ｓ１）。

【０１０５】この基板をホットプレート上で、８０℃で
５分間乾燥させた後、金属層４１４´の表面に、スピン
コートによりフォトレジスト層（図示せず）を形成す
る。この基板表面に、所要のマトリクスパターン形状を
描画したマスクフィルムを密着させ、紫外線で露光をお
こなう。次に、これを、水酸化カリウムを８重量％の割
合で含むアルカリ現像液に浸漬して、未露光の部分のフ
ォトレジストを除去し、レジスト層をパターニングす
る。続いて、露出した金属層を、塩酸を主成分とするエ
ッチング液でエッチング除去する。このようにして所定
のマトリクスパターンを有する遮光層（ブラックマトリ
クス）４１４を得ることができる（図４０：Ｓ２）。遮
光層４１４の膜厚は、およそ０．２μｍである。また、
遮光層４１４の幅は、およそ２２μｍである。

【０１０６】この基板上に、さらにネガ型の透明アクリ
ル系の感光性樹脂組成物４１５´をやはりスピンコート
法で塗布する（図４０：Ｓ３）。これを１００℃で２０
分間プレベークした後、所定のマトリクスパターン形状
を描画したマスクフィルムを用いて紫外線露光を行な
う。未露光部分の樹脂を、やはりアルカリ性の現像液で
現像し、純水でリンスした後スピン乾燥する。最終乾燥
としてのアフターベークを２００℃で３０分間行い、樹
脂部を十分硬化させることにより、バンク層４１５が形
成され、遮光層４１４及びバンク層４１５からなる仕切
り４１３が形成される（図４０：Ｓ４）。このバンク層
４１５の膜厚は、平均で２．７μｍである。また、バン
ク層４１５の幅は、およそ１４μｍである。

【０１０７】得られた遮光層４１４およびバンク層４１
５で区画された着色層形成領域（特にガラス基板４１１
の露出面）のインク濡れ性を改善するため、ドライエッ
チング、すなわちプラズマ処理を行なう。具体的には、
ヘリウムに酸素を２０％加えた混合ガスに高電圧を印加
し、プラズマ雰囲気でエッチングスポットに形成し、基
板を、このエッチングスポット下を通過させてエッチン
グする。

【０１０８】次に、仕切り４１３で区切られて形成され
た画素４１２内に、上記Ｒ、Ｇ、Ｂの各インクをインク
ジェット方式により導入する（図４０：Ｓ５）。機能液
滴吐出ヘッド７（インクジェットヘッド）には、ピエゾ
圧電効果を応用した精密ヘッドを使用し、微小インク滴
を着色層形成領域毎に１０滴、選択的に飛ばす。駆動周
波数は１４．４ｋＨｚ、すなわち、各インク滴の吐出間
隔は６９．５μ秒に設定する。ヘッドとターゲットとの
距離は、０．３ｍｍに設定する。ヘッドよりターゲット
である着色層形成領域への飛翔速度、飛行曲がり、サテ
ライトと称される分裂迷走滴の発生防止のためには、イ
ンクの物性はもとよりヘッドのピエゾ素子を駆動する波
形（電圧を含む）が重要である。従って、あらかじめ条
件設定された波形をプログラムして、インク滴を赤、
緑、青の３色を同時に塗布して所定の配色パターンにイ
ンクを塗布する。

【０１０９】インク（フィルタ材料）としては、例えば
ポリウレタン樹脂オリゴマーに無機顔料を分散させた
後、低沸点溶剤としてシクロヘキサノンおよび酢酸ブチ
ルを、高沸点溶剤としてブチルカルビトールアセテート
を加え、さらに非イオン系界面活性剤０．０１重量％を
分散剤として添加し、粘度６〜８センチポアズとしたも
のを用いる。

【０１１０】次に、塗布したインクを乾燥させる。ま
ず、自然雰囲気中で３時間放置してインク層４１６のセ
ッティングを行った後、８０℃のホットプレート上で４
０分間加熱し、最後にオーブン中で２００℃で３０分間
加熱してインク層４１６の硬化処理を行って、着色層４
２１が得られる（図４０：Ｓ６）。

【０１１１】上記基板に、透明アクリル樹脂塗料をスピ
ンコートして平滑面を有するオーバーコート層４２２を
形成する。さらに、この上面にＩＴＯ（Indium Tin Oxi
de）からなる電極層４２３を所要パターンで形成して、
カラーフィルタ４００とする（図４０：Ｓ７）。なお、
このオーバーコート層４２２を、機能液滴吐出ヘッド７
（インクジェットヘッド）によるインクジェット方式
で、形成するようにしてもよい。

【０１１２】図４１は、本発明の製造方法により製造さ
れる電気光学装置（フラットディスプレイ）の一例であ
るカラー液晶表示装置の断面図である。断面図各部のハ
ッチングは一部省略している。

【０１１３】このカラー液晶表示装置４５０は、カラー
フィルタ４００と対向基板４６６とを組み合わせ、両者
の間に液晶組成物４６５を封入することにより製造され
る。液晶表示装置４５０の一方の基板４６６の内側の面
には、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）素子（図示せず）と
画素電極４６３とがマトリクス状に形成されている。ま
た、もう一方の基板として、画素電極４６３に対向する
位置に赤、緑、青の着色層４２１が配列するようにカラ
ーフィルタ４００が設置されている。

【０１１４】基板４６６とカラーフィルタ４００の対向
するそれぞれの面には、配向膜４６１、４６４が形成さ
れている。これらの配向膜４６１、４６４はラビング処
理されており、液晶分子を一定方向に配列させることが
できる。また、基板４６６およびカラーフィルタ４００
の外側の面には、偏光板４６２、４６７がそれぞれ接着
されている。また、バックライトとしては蛍光灯（図示
せず）と散乱板の組合わせが一般的に用いられており、
液晶組成物４６５をバックライト光の透過率を変化させ
る光シャッターとして機能させることにより表示を行
う。

【０１１５】なお、電気光学装置は、本発明では上記の
カラー液晶表示装置に限定されず、例えば薄型のブラウ
ン管、あるいは液晶シャッター等を用いた小型テレビ、
ＥＬ表示装置、プラズマディスプレイ、ＣＲＴディスプ
レイ、ＦＥＤ（Field Emission Display）パネル等の種
々の電気光学手段を用いることができる。

【０１１６】次に、図４２ないし図５４を参照して、有
機ＥＬ装置（有機ＥＬ表示装置）とその製造方法を説明
する。

【０１１７】図４２ないし図５４は、有機ＥＬ素子を含
む有機ＥＬ装置の製造プロセスと共にその構造を表して
いる。この製造プロセスは、バンク部形成工程と、プラ
ズマ処理工程と、正孔注入／輸送層形成工程及び発光層
形成工程からなる発光素子形成工程と、対向電極形成工
程と、封止工程とを具備して構成されている。

【０１１８】バンク部形成工程では、基板５０１に予め
形成した回路素子部５０２上及び電極５１１（画素電極
ともいう）上の所定の位置に、無機物バンク層５１２ａ
と有機物バンク層５１２ｂを積層することにより、開口
部５１２ｇを有するバンク部５１２を形成する。このよ
うに、バンク部形成工程には、電極５１１の一部に、無
機物バンク層５１２ａを形成する工程と、無機物バンク
層の上に有機物バンク層５１２ｂを形成する工程が含ま
れる。

【０１１９】まず無機物バンク層５１２ａを形成する工
程では、図４２に示すように、回路素子部５０２の第２
層間絶縁膜５４４ｂ上及び画素電極５１１上に、無機物
バンク層５１２ａを形成する。無機物バンク層５１２ａ
を、例えばＣＶＤ法、コート法、スパッタ法、蒸着法等
によって第２層間絶縁膜５４４ｂ及び画素電極５１１の
全面にＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂等の無機物膜を形成する。

【０１２０】次にこの無機物膜をエッチング等によりパ
ターニングして、電極５１１の電極面５１１ａの形成位
置に対応する下部開口部５１２ｃを設ける。このとき、
無機物バンク層５１２ａを電極５１１の周縁部と重なる
ように形成しておく必要がある。このように、電極５１
１の周縁部（一部）と無機物バンク層５１２ａとが重な
るように無機物バンク層５１２ａを形成することによ
り、発光層５１０ｂの発光領域を制御することができ
る。

【０１２１】次に有機物バンク層５１２ｂを形成する工
程では、図４３に示すように、無機物バンク層５１２ａ
上に有機物バンク層５１２ｂを形成する。有機物バンク
層５１２ｂをフォトリソグラフィー技術等によりエッチ
ングして、有機物バンク層５１２ｂの上部開口部５１２
ｄを形成する。上部開口部５１２ｄは、電極面５１１ａ
及び下部開口部５１２ｃに対応する位置に設けられる。

【０１２２】上部開口部５１２ｄは、図４３に示すよう
に、下部開口部５１２ｃより広く、電極面５１１ａより
狭く形成することが好ましい。これにより、無機物バン
ク層５１２ａの下部開口部５１２ｃを囲む第１積層部５
１２ｅが、有機物バンク層５１２ｂよりも電極５１１の
中央側に延出された形になる。このようにして、上部開
口部５１２ｄ、下部開口部５１２ｃを連通させることに
より、無機物バンク層５１２ａ及び有機物バンク層５１
２ｂを貫通する開口部５１２ｇが形成される。

【０１２３】次にプラズマ処理工程では、バンク部５１
２の表面と画素電極の表面５１１ａに、親インク性を示
す領域と、撥インク性を示す領域を形成する。このプラ
ズマ処理工程は、予備加熱工程と、バンク部５１２の上
面（５１２ｆ）及び開口部５１２ｇの壁面並びに画素電
極５１１の電極面５１１ａを親インク性を有するように
加工する親インク化工程と、有機物バンク層５１２ｂの
上面５１２ｆ及び上部開口部５１２ｄの壁面を、撥イン
ク性を有するように加工する撥インク化工程と、冷却工
程とに大別される。

【０１２４】まず、予備加熱工程では、バンク部５１２
を含む基板５０１を所定の温度まで加熱する。加熱は、
例えば基板５０１を載せるステージにヒータを取り付
け、このヒータで当該ステージごと基板５０１を加熱す
ることにより行う。具体的には、基板５０１の予備加熱
温度を、例えば７０〜８０℃の範囲とすることが好まし
い。

【０１２５】次に、親インク化工程では、大気雰囲気中
で酸素を処理ガスとするプラズマ処理（Ｏ₂プラズマ処
理）を行う。このＯ₂プラズマ処理により、図４４に示
すように、画素電極５１１の電極面５１１ａ、無機物バ
ンク層５１２ａの第１積層部５１２ｅ及び有機物バンク
層５１２ｂの上部開口部５１２ｄの壁面ならびに上面５
１２ｆが親インク処理される。この親インク処理によ
り、これらの各面に水酸基が導入されて親インク性が付
与される。図４４では、親インク処理された部分を二点
鎖線で示している。

【０１２６】次に、撥インク化工程では、大気雰囲気中
で４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理（ＣＦ
₄プラズマ処理）を行う。ＣＦ₄プラズマ処理により、図
４５に示すように、上部開口部５１２ｄ壁面及び有機物
バンク層の上面５１２ｆが撥インク処理される。この撥
インク処理により、これらの各面にフッ素基が導入され
て撥インク性が付与される。図４５では、撥インク性を
示す領域を二点鎖線で示している。

【０１２７】次に、冷却工程では、プラズマ処理のため
に加熱された基板５０１を室温、またはインクジェット
工程（機能液滴吐出工程）の管理温度まで冷却する。プ
ラズマ処理後の基板５０１を室温、または所定の温度
（例えばインクジェット工程を行う管理温度）まで冷却
することにより、次の正孔注入／輸送層形成工程を一定
の温度で行うことができる。

【０１２８】次に、発光素子形成工程では、画素電極５
１１上に正孔注入／輸送層及び発光層を形成することに
より発光素子を形成する。発光素子形成工程には、４つ
の工程が含まれる。即ち、正孔注入／輸送層を形成する
ための第１組成物を各画素電極上に吐出する第１機能液
滴吐出工程と、吐出された第１組成物を乾燥させて画素
電極上に正孔注入／輸送層を形成する正孔注入／輸送層
形成工程と、発光層を形成するための第２組成物を正孔
注入／輸送層の上に吐出する第２機能液滴吐出工程と、
吐出された第２組成物を乾燥させて正孔注入／輸送層上
に発光層を形成する発光層形成工程とが含まれる。

【０１２９】まず、第１機能液滴吐出工程では、インク
ジェット法（機能液滴吐出法）により、正孔注入／輸送
層形成材料を含む第１組成物を電極面５１１ａ上に吐出
する。なお、この第１機能液滴吐出工程以降は、水、酸
素の無い窒素雰囲気、アルゴン雰囲気等の不活性ガス雰
囲気で行うことが好ましい。（なお、画素電極上にのみ
正孔注入／輸送層を形成する場合は、有機物バンク層に
隣接して形成される正孔注入／輸送層は形成されない）

【０１３０】図４６に示すように、インクジェットヘッ
ド（機能液滴吐出ヘッド７）Ｈに正孔注入／輸送層形成
材料を含む第１組成物を充填し、インクジェットヘッド
Ｈの吐出ノズルを下部開口部５１２ｃ内に位置する電極
面５１１ａに対向させ、インクジェットヘッドＨと基板
５０１とを相対移動させながら、吐出ノズルから１滴当
たりの液量が制御された第１組成物滴５１０ｃを電極面
５１１ａ上に吐出する。

【０１３１】ここで用いる第１組成物としては、例え
ば、ポリエチレンジオキシチオフェン(PEDOT)等のポリ
チオフェン誘導体とポリスチレンスルホン酸(PSS)等の
混合物を、極性溶媒に溶解させた組成物を用いることが
できる。極性溶媒としては、例えば、イソプロピルアル
コール(IPA)、ノルマルブタノール、γ−ブチロラクト
ン、Ｎ−メチルピロリドン(NMP)、１，３−ジメチル−
２−イミダゾリジノン(DMI)及びその誘導体、カルビト
−ルアセテート、ブチルカルビト−ルアセテート等のグ
リコールエーテル類等を挙げることができる。なお、正
孔注入／輸送層形成材料は、Ｒ・Ｇ・Ｂの各発光層５１
０ｂに対して同じ材料を用いても良く、発光層毎に変え
ても良い。

【０１３２】図４６に示すように、吐出された第１組成
物滴５１０ｃは、親インク処理された電極面５１１ａ及
び第１積層部５１２ｅ上に広がり、下部、上部開口部５
１２ｃ、５１２ｄ内に満たされる。電極面５１１ａ上に
吐出する第１組成物量は、下部、上部開口部５１２ｃ、
５１２ｄの大きさ、形成しようとする正孔注入／輸送層
の厚さ、第１組成物中の正孔注入／輸送層形成材料の濃
度等により決定される。また、第１組成物滴５１０ｃは
１回のみならず、数回に分けて同一の電極面５１１ａ上
に吐出しても良い。

【０１３３】次に正孔注入／輸送層形成工程では、図４
７に示すように、吐出後の第１組成物を乾燥処理及び熱
処理して第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させるこ
とにより、電極面５１１ａ上に正孔注入／輸送層５１０
ａを形成する。乾燥処理を行うと、第１組成物滴５１０
ｃに含まれる極性溶媒の蒸発が、主に無機物バンク層５
１２ａ及び有機物バンク層５１２ｂに近いところで起
き、極性溶媒の蒸発に併せて正孔注入／輸送層形成材料
が濃縮されて析出する。

【０１３４】これにより図４７に示すように、乾燥処理
によって電極面５１１ａ上でも極性溶媒の蒸発が起き、
これにより電極面５１１ａ上に正孔注入／輸送層形成材
料からなる平坦部５１０ａが形成される。電極面５１１
ａ上では極性溶媒の蒸発速度がほぼ均一であるため、正
孔注入／輸送層の形成材料が電極面５１１ａ上で均一に
濃縮され、これにより均一な厚さの平坦部５１０ａが形
成される。

【０１３５】次に第２機能液滴吐出工程では、インクジ
ェット法（機能液滴吐出法）により、発光層形成材料を
含む第２組成物を正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出す
る。この第２機能液滴吐出工程では、正孔注入／輸送層
５１０ａの再溶解を防止するために、発光層形成の際に
用いる第２組成物の溶媒として、正孔注入／輸送層５１
０ａに対して不溶な非極性溶媒を用いる。

【０１３６】しかしその一方で正孔注入／輸送層５１０
ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶
媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐
出しても、正孔注入／輸送層５１０ａと発光層５１０ｂ
とを密着させることができなくなるか、あるいは発光層
５１０ｂを均一に塗布できないおそれがある。そこで、
非極性溶媒ならびに発光層形成材料に対する正孔注入／
輸送層５１０ａの表面の親和性を高めるために、発光層
を形成する前に表面改質工程を行うことが好ましい。

【０１３７】そこでまず、表面改質工程について説明す
る。表面改質工程は、発光層形成の際に用いる第１組成
物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒であ
る表面改質用溶媒を、インクジェット法（機能液滴吐出
法）、スピンコート法またはディップ法により正孔注入
／輸送層５１０ａ上に塗布した後に乾燥することにより
行う。

【０１３８】例えば、インクジェット法による塗布は、
図４８に示すように、インクジェットヘッドＨに、表面
改質用溶媒を充填し、インクジェットヘッドＨの吐出ノ
ズルを基板（すなわち、正孔注入／輸送層５１０ａが形
成された基板）に対向させ、インクジェットヘッドＨと
基板５０１とを相対移動させながら、吐出ノズルＨから
表面改質用溶媒５１０ｄを正孔注入／輸送層５１０ａ上
に吐出することにより行う。そして、図４９に示すよう
に、表面改質用溶媒５１０ｄを乾燥させる。

【０１３９】次に第２機能液滴吐出工程では、インクジ
ェット法（機能液滴吐出法）により、発光層形成材料を
含む第２組成物を正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出す
る。図５０に示すように、インクジェットヘッドＨに、
青色（Ｂ）発光層形成材料を含有する第２組成物を充填
し、インクジェットヘッドＨの吐出ノズルを下部、上部
開口部５１２ｃ、５１２ｄ内に位置する正孔注入／輸送
層５１０ａに対向させ、インクジェットヘッドＨと基板
５０１とを相対移動させながら、吐出ノズルから１滴当
たりの液量が制御された第２組成物滴５１０ｅとして吐
出し、この第２組成物滴５１０ｅを正孔注入／輸送層５
１０ａ上に吐出する。

【０１４０】発光層形成材料としては、ポリフルオレン
系高分子誘導体や、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘
導体、ポリフェニレン誘導体、ポリビニルカルバゾー
ル、ポリチオフェン誘導体、ペリレン系色素、クマリン
系色素、ローダミン系色素、あるいは上記高分子に有機
ＥＬ材料をドープして用いる事ができる。例えば、ルブ
レン、ペリレン、９，１０-ジフェニルアントラセン、
テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン
６、キナクリドン等をドープすることにより用いること
ができる。

【０１４１】非極性溶媒としては、正孔注入／輸送層５
１０ａに対して不溶なものが好ましく、例えば、シクロ
へキシルベンゼン、ジハイドロベンゾフラン、トリメチ
ルベンゼン、テトラメチルベンゼン等を用いることがで
きる。このような非極性溶媒を発光層５１０ｂの第２組
成物に用いることにより、正孔注入／輸送層５１０ａを
再溶解させることなく第２組成物を塗布できる。

【０１４２】図５０に示すように、吐出された第２組成
物５１０ｅは、正孔注入／輸送層５１０ａ上に広がって
下部、上部開口部５１２ｃ、５１２ｄ内に満たされる。
第２組成物５１０ｅは１回のみならず、数回に分けて同
一の正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出しても良い。こ
の場合、各回における第２組成物の量は同一でも良く、
各回毎に第２組成物量を変えても良い。

【０１４３】次に発光層形成工程では、第２組成物を吐
出した後に乾燥処理及び熱処理を施して、正孔注入／輸
送層５１０ａ上に発光層５１０ｂを形成する。乾燥処理
は、吐出後の第２組成物を乾燥処理することにより第２
組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発して、図５１に示す
ような青色（Ｂ）発光層５１０ｂを形成する。

【０１４４】続けて、図５２に示すように、青色（Ｂ）
発光層５１０ｂの場合と同様にして、赤色（Ｒ）発光層
５１０ｂを形成し、最後に緑色（Ｇ）発光層５１０ｂを
形成する。なお、発光層５１０ｂの形成順序は、前述の
順序に限られるものではなく、どのような順番で形成し
ても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順
番を決める事も可能である。

【０１４５】次に対向電極形成工程では、図５３に示す
ように、発光層５１０ｂ及び有機物バンク層５１２ｂの
全面に陰極５０３（対向電極）を形成する。なお，陰極
５０３は複数の材料を積層して形成しても良い。例え
ば、発光層に近い側には仕事関数が小さい材料を形成す
ることが好ましく、例えばＣａ、Ｂａ等を用いることが
可能であり、また材料によっては下層にＬｉＦ等を薄く
形成した方が良い場合もある。また、上部側（封止側）
には下部側よりも仕事関数が高いものが好ましい。これ
らの陰極（陰極層）５０３は、例えば蒸着法、スパッタ
法、ＣＶＤ法等で形成することが好ましく、特に蒸着法
で形成することが、発光層５１０ｂの熱による損傷を防
止できる点で好ましい。

【０１４６】また、フッ化リチウムは、発光層５１０ｂ
上のみに形成しても良く、更に青色（Ｂ）発光層５１０
ｂ上のみに形成しても良い。この場合、他の赤色（Ｒ）
発光層及び緑色（Ｇ）発光層５１０ｂ、５１０ｂには、
ＬｉＦからなる上部陰極層５０３ｂが接することとな
る。また陰極１２の上部には、蒸着法、スパッタ法、Ｃ
ＶＤ法等により形成したＡｌ膜、Ａｇ膜等を用いること
が好ましい。また、陰極５０３上に、酸化防止のために
ＳｉＯ₂、ＳｉＮ等の保護層を設けても良い。

【０１４７】最後に、図５４に示す封止工程では、窒
素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰囲気中で、有
機ＥＬ素子５０４上に封止用基板５０５を積層する。封
止工程は、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰
囲気で行うことが好ましい。大気中で行うと、陰極５０
３にピンホール等の欠陥が生じていた場合にこの欠陥部
分から水や酸素等が陰極５０３に侵入して陰極５０３が
酸化されるおそれがあるので好ましくない。そして最後
に、フレキシブル基板の配線に陰極５０３を接続すると
ともに、駆動ＩＣに回路素子部５０２の配線を接続する
ことにより、本実施形態の有機ＥＬ装置５００が得られ
る。

【０１４８】なお、画素電極５１１および陰極（対向電
極）５０３の形成において、インクジェットヘッドＨに
よるインクジェット方式を採用してもよい。すなわち、
液体の電極材料をインクジェットヘッドＨにそれぞれ導
入し、これをインクジェットヘッドＨから吐出して、画
素電極５１１および陰極５０３をそれぞれ形成する（乾
燥工程を含む）。

【０１４９】同様に、本実施形態の機能液滴吐出装置１
０は、電子放出装置の製造方法、ＰＤＰ装置の製造方法
および電気泳動表示装置の製造方法等に、適用すること
ができる。

【０１５０】電子放出装置の製造方法では、複数の機能
液滴吐出ヘッド７にＲ、Ｇ、Ｂ各色の蛍光材料を導入
し、複数の機能液滴吐出ヘッド７を主走査および副走査
し、蛍光材料を選択的に吐出して、電極上に多数の蛍光
体を形成する。なお、電子放出装置は、ＦＥＤ（電界放
出ディスプレイ）を含む上位の概念である。

【０１５１】ＰＤＰ装置の製造方法では、複数の機能液
滴吐出ヘッド７にＲ、Ｇ、Ｂ各色の蛍光材料を導入し、
複数の機能液滴吐出ヘッド７を主走査および副走査し、
蛍光材料を選択的に吐出して、背面基板上の多数の凹部
にそれぞれ蛍光体を形成する。

【０１５２】電気泳動表示装置の製造方法では、複数の
機能液滴吐出ヘッド７に各色の泳動体材料を導入し、複
数の機能液滴吐出ヘッド７を主走査および副走査し、イ
ンク材料を選択的に吐出して、電極上の多数の凹部にそ
れぞれ泳動体を形成する。なお、帯電粒子と染料とから
成る泳動体は、マイクロカプセルに封入されていること
が、好ましい。

【０１５３】一方、本実施形態の機能液滴吐出装置１０
は、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成
方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法等に
も、適用可能である。

【０１５４】スペーサ形成方法は、２枚の基板間に微小
なセルギャップを構成すべく多数の粒子状のスペーサを
形成するものであり、複数の機能液滴吐出ヘッド７にス
ペーサを構成する粒子材料を導入し、複数の機能液滴吐
出ヘッド７を主走査および副走査し、粒子材料を選択的
に吐出して少なくとも一方の基板上にスペーサを形成す
る。例えば、上記の液晶表示装置や電気泳動表示装置に
おける２枚の基板間のセルギャップを構成する場合に有
用であり、その他この種の微小なギャップを必要とする
半導体製造技術に適用できることはいうまでもない。

【０１５５】金属配線形成方法では、複数の機能液滴吐
出ヘッド７に液状金属材料を導入し、複数の機能液滴吐
出ヘッド７を主走査および副走査し、液状金属材料を選
択的に吐出して、基板上に金属配線を形成する。例え
ば、上記の液晶表示装置におけるドライバと各電極とを
接続する金属配線や、上記の有機ＥＬ装置におけるＴＦ
Ｔ等と各電極とを接続する金属配線に適用することがで
きる。また、この種のフラットディスプレイの他、一般
的な半導体製造技術に適用できることはいうまでもな
い。

【０１５６】レンズ形成方法では、複数の機能液滴吐出
ヘッド７にレンズ材料を導入し、複数の機能液滴吐出ヘ
ッド７を主走査および副走査し、レンズ材料を選択的に
吐出して、透明基板上に多数のマイクロレンズを形成す
る。例えば、上記のＦＥＤ装置におけるビーム収束用の
デバイスとして適用可能である。また、各種の光デバイ
スに適用可能であることはいうまでもない。

【０１５７】レジスト形成方法では、複数の機能液滴吐
出ヘッド７にレジスト材料を導入し複数の機能液滴吐出
ヘッド７を主走査および副走査し、レジスト材料を選択
的に吐出して、基板上に任意形状のフォトレジストを形
成する。例えば、上記の各種表示装置おけるバンクの形
成は元より、半導体製造技術の主体を為すフォトリソグ
ラフィー法において、フォトレジストの塗布に広く適用
可能である。

【０１５８】光拡散体形成方法では、基板上に多数の光
拡散体を形成する光拡散体形成方法であって、複数の機
能液滴吐出ヘッド７に光拡散材料を導入し、複数の機能
液滴吐出ヘッド７を主走査および副走査し、光拡散材料
を選択的に吐出して多数の光拡散体を形成する。この場
合も、各種の光デバイスに適用可能であることはいうま
でもない。

【０１５９】

【発明の効果】以上のように、本発明の描画システムに
よれば、データ生成用ＰＣによって生成したデータを記
憶媒体に格納し、これを各機能液滴吐出装置に読み込ま
せることで、描画を行うことができる。すなわち、各機
能液滴吐出装置によって吐出パターンデータの生成のた
めの時間を必要としないため、描画処理を長時間中断す
ることがない。したがって、吐出パターンデータの生成
による各機能液滴吐出装置の稼働率の低下を防ぐことが
できる。さらに、データが記憶媒体に格納されているた
め、記憶媒体を交換するだけで、煩雑な手間を必要とす
ることなくデータの入れ替えを行うことができる。

【０１６０】一方、本発明の液晶表示装置の製造方法、
有機ＥＬ装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、Ｐ
ＤＰ装置の製造方法および電気泳動表示装置の製造方法
によれば、各装置におけるフィルタ材料や発光材料等に
適した機能液滴吐出ヘッドを簡単に導入することができ
るため、製造効率を向上させることができる。

【０１６１】また、本発明のカラーフィルタの製造方
法、有機ＥＬの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線
形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光
拡散体形成方法によれば、各電子デバイスや各光デバイ
スにおけるフィルタ材料や発光材料等に適した機能液滴
吐出ヘッドを簡単に導入することができため、製造効率
を向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 実施形態に係る描画システムの模式図であ
る。

【図２】 実施形態に係る機能液滴吐出装置の模式図で
ある。

【図３】 実施形態に係る機能液滴吐出ヘッドと基板の
模式図である。

【図４】 実施形態に係る機能液滴吐出装置の制御系の
ブロック図である。

【図５】 描画データおよび位置データの生成方法の概
要を示す図である。

【図６】 実施形態に係る操作画面の一例である、メイ
ンメニューの画面を示す図である。

【図７】 実施形態に係る操作画面の一例である、機種
ファイルの選択画面を示す図である。

【図８】 実施形態に係る操作画面の一例である、セル
パターンの入力画面を示す図である。

【図９】 図８とは異なる、セルパターンの入力画面を
示す図である。

【図１０】 図８および８とは異なる、セルパターンの
入力画面を示す図である。

【図１１】 図８、８および９とは異なる、セルパター
ンの入力画面を示す図である。

【図１２】 実施形態に係る操作画面の一例である、Ｃ
Ｆ設計値１の入力画面を示す図である。

【図１３】 実施形態に係る操作画面の一例である、ワ
ーク設計値１の入力画面を示す図である。

【図１４】 実施形態に係る操作画面の一例である、ワ
ーク設計値２の入力画面を示す図である。

【図１５】 実施形態に係る操作画面の一例である、画
像設定の入力画面を示す図である。

【図１６】 実施形態に係る操作画面の一例である、描
画情報の入力画面を示す図である。

【図１７】 実施形態に係る操作画面の一例である、画
素内描画設計の入力画面を示す図である。

【図１８】 実施形態に係る操作画面の一例である、オ
プションの入力画面を示す図である。

【図１９】 実施形態に係る操作画面の一例である、ヘ
ッドファイルの選択画面を示す図である。

【図２０】 実施形態に係る操作画面の一例である、ヘ
ッド設計値の入力画面を示す図である。

【図２１】 実施形態に係る操作画面の一例である、ヘ
ッドキャリッジ設計値１の入力画面を示す図である。

【図２２】 実施形態に係る操作画面の一例である、ヘ
ッドキャリッジ設計値２の入力画面を示す図である。

【図２３】 実施形態に係る操作画面の一例である、画
像設定の入力画面を示す図である。

【図２４】 実施形態に係る操作画面の一例である、オ
プションの入力画面を示す図である。

【図２５】 実施形態に係る操作画面の一例である、機
械設計値１の入力画面を示す図である。

【図２６】 実施形態に係る操作画面の一例である、機
械設計値２の入力画面を示す図である。

【図２７】 実施形態に係る操作画面の一例である、軸
パラメータの入力画面を示す図である。

【図２８】 実施形態に係る操作画面の一例である、ド
ット検査パラメータの入力画面を示す図である。

【図２９】 実施形態に係る操作画面の一例である、ズ
ラシ打ちの入力画面を示す図である。

【図３０】 実施形態に係る操作画面の一例である、お
茶打ちの入力画面を示す図である。

【図３１】 実施形態に係る操作画面の一例である、ビ
ットマップファイル形式の入力画面を示す図である。

【図３２】 実施形態に係る画素配列の一例を示す図で
ある。

【図３３】 実施形態に係るセル内のＲ．Ｇ．Ｂ画素配
列の一例を示す図である。

【図３４】 実施形態に係る基板上のセルの配列の一例
を示す図である。

【図３５】 実施形態に係る隣接する画素の一例を示す
図である。

【図３６】 実施形態に係る機能液滴吐出ヘッドの駆動
方式の一例を示す図である。

【図３７】 実施形態に係るノズル位置と機能液吐出量
の関係を示す図である。

【図３８】 実施形態に係る基板アライメントマークの
一例を示す図である。

【図３９】 実施形態のカラーフィルタの製造方法によ
り製造されるカラーフィルタの部分拡大図である。

【図４０】 実施形態のカラーフィルタの製造方法を模
式的に示す製造工程断面図である。

【図４１】 実施形態のカラーフィルタの製造方法によ
り製造される液晶表示装置の断面図である。

【図４２】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法に
おけるバンク部形成工程（無機物バンク）の断面図であ
る。

【図４３】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法に
おけるバンク部形成工程（有機物バンク）の断面図であ
る。

【図４４】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法に
おけるプラズマ処理工程（親水化処理）の断面図であ
る。

【図４５】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法に
おけるプラズマ処理工程（撥水化処理）の断面図であ
る。

【図４６】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法に
おける正孔注入層形成工程（機能液滴吐出）の断面図で
ある。

【図４７】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法に
おける正孔注入層形成工程（乾燥）の断面図である。

【図４８】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法に
おける表面改質工程（機能液滴吐出）の断面図である。

【図４９】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法に
おける表面改質工程（乾燥）の断面図である。

【図５０】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法に
おけるＢ発光層形成工程（機能液滴吐出）の断面図であ
る。

【図５１】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法に
おけるＢ発光層形成工程（乾燥）の断面図である。

【図５２】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法に
おけるＲ・Ｇ・Ｂ発光層形成工程の断面図である。

【図５３】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法に
おける対向電極形成工程の断面図である。

【図５４】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法に
おける封止工程の断面図である。

【符号の説明】

１ 描画システム ２ データ生成用Ｐ
Ｃ ５ 記憶媒体 ６ 描画装置 ７ 機能液滴吐出ヘッド ８ 搬入側マガジン
ローダ ９ 搬出側マガジンローダ １０ 機能液滴吐出装
置 ２３ Ｘ軸テーブル ２４ Ｙ軸テーブル ２５ メインキャリッジ ２６ ヘッドユニッ
ト ２８ 吸着テーブル ３７ ノズル列 ３８ ノズル ４１ サブキャリッ
ジ １１０ ヘッド部 １２０ 駆動部 １３０ 電源部 １４０ 送り検出部 １５０ 制御部 １５２ 第２ＰＣ ４００ カラーフィルタ ４１２ 画素 ４１５ バンク層 ４１６ インク層 ４２２ オーバーコート層 ４６６ 基板 ５００ 有機ＥＬ装置 ５０１ 基板 ５０２ 回路素子部 ５０４ 有機ＥＬ素
子 ５１０ａ 正孔注入／輸送層 ５１０ｂ 発光層 Ｃ チップ形成領域 Ｅ 画素 Ｗ 基板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｂ 3/00 Ｇ０２Ｂ 5/20 １０１ ４Ｄ０７５ 5/20 １０１ Ｇ０２Ｆ 1/13 １０１ ４Ｆ０４１ Ｇ０２Ｆ 1/13 １０１ 1/1335 ５０５ ４Ｆ０４２ 1/1335 ５０５ 1/1339 ５００ ５Ｃ０２８ 1/1339 ５００ Ｇ０９Ｆ 9/00 ３４２Ｚ ５Ｃ０４０ Ｇ０９Ｆ 9/00 ３４２ Ｈ０１Ｊ 9/227 Ｅ ５Ｇ４３５ Ｈ０１Ｊ 9/227 11/02 Ｂ 11/02 Ｂ４１Ｊ 3/04 １０１Ｚ Ｆターム(参考） 2C056 EA24 FB01 2H048 BA64 BB02 BB42 2H088 FA02 FA03 FA21 FA30 HA01 HA02 HA03 HA08 HA10 HA12 HA18 HA24 HA28 MA20 2H089 LA01 NA01 NA21 NA37 QA16 TA01 TA02 TA04 TA09 TA12 TA15 TA16 TA18 2H091 FC10 FC22 FC23 FC24 FC26 FC27 FC29 GA01 GA02 GA06 GA08 GA09 GA13 LA30 4D075 AC08 AC09 AC91 AC93 CA22 CA47 CB03 CB09 DA06 DB13 DC24 EA02 EA07 EA45 EB22 EB24 EB38 EB47 EC11 EC17 4F041 AA02 AA05 AB02 AB05 BA10 BA13 BA22 BA38 4F042 AA02 AA10 AB03 BA01 BA08 DH09 5C028 FF16 HH04 HH14 5C040 FA10 GG09 JA13 MA26 5G435 AA17 KK05 KK07 KK10 (54)【発明の名称】 描画システム、およびこれを用いた液晶表示装置の製造方法、有機ＥＬ装置の製造方法、電子放 出装置の製造方法、ＰＤＰ装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製 造方法、有機ＥＬの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジス ト形成方法および光拡散体形成方法

Claims (25)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 記憶媒体に格納されたデータに基づき、
   機能液滴吐出ヘッドをワークに対して相対的に移動させ
   ながら当該機能液滴吐出ヘッドに列設した複数のノズル
   から機能液滴を選択的に吐出させることにより、ワーク
   上の１以上のチップ形成領域に描画を行う描画システム
   であって、 前記チップ形成領域における画素の配列に関する画素情
   報と、前記ワーク上における前記チップ形成領域の配置
   に関するチップ情報と、前記各ノズルの配置に関するノ
   ズル情報とを設定する設定手段と、 前記ワークおよび前記機能液滴吐出ヘッドの位置関係、
   並びに前記設定手段により設定された前記画素情報、前
   記チップ情報および前記ノズル情報に基づいて、各ノズ
   ルの吐出パターンデータを生成する吐出パターンデータ
   生成手段と、 生成された前記吐出パターンデータを格納した記憶媒体
   と、 前記記憶媒体に格納された吐出パターンデータを読み込
   み、当該吐出パターンデータに基づいて描画を行う描画
   手段と、を備えたことを特徴とする描画システム。
2. 【請求項２】 前記設定手段により前記機能液滴吐出ヘ
   ッドの相対移動に関するヘッド移動情報が更に設定され
   ることにより、前記画素情報、前記チップ情報、前記ノ
   ズル情報および前記ヘッド移動情報に基づいて、前記機
   能液滴吐出ヘッドのヘッド動作パターンデータを生成す
   るヘッド動作パターンデータ生成手段を更に備え、 前記記憶媒体は、生成された前記ヘッド動作パターンデ
   ータを格納し、 前記描画手段は、前記記憶媒体に格納されたヘッド動作
   パターンデータを読み込み、当該ヘッド動作パターンデ
   ータに基づいて描画を行うことを特徴とする請求項１に
   記載の描画システム。
3. 【請求項３】 前記画素情報には、前記機能液滴の色情
   報が含まれ、 前記吐出パターンデータおよび前記ヘッド動作パターン
   データは、色別に生成されることを特徴とする請求項２
   に記載の描画システム。
4. 【請求項４】 前記記憶媒体には、色別に生成された前
   記吐出パターンデータおよび前記ヘッド動作パターンデ
   ータがそれぞれ色別に格納されていることを特徴とする
   請求項３に記載の描画システム。
5. 【請求項５】 前記描画手段は、色別に複数備えられ、
   前記色別の記憶媒体をそれぞれ読み込むことにより、各
   色の描画を行うことを特徴とする請求項４に記載の描画
   システム。
6. 【請求項６】 前記設定手段は、１の画素内における機
   能液滴の吐出位置に関する吐出位置情報を更に設定し、 前記吐出パターンデータおよび前記ヘッド動作パターン
   データは、前記吐出位置情報に基づいて生成されること
   を特徴とする請求項２ないし５のいずれかに記載の描画
   システム。
7. 【請求項７】 前記設定手段は、１の画素に対する機能
   液滴の吐出回数に関する吐出回数情報を更に設定し、 前記吐出パターンデータおよび前記ヘッド動作パターン
   データは、前記吐出回数情報に基づいて生成されること
   を特徴とする請求項２ないし６のいずれかに記載の描画
   システム。
8. 【請求項８】 前記設定手段は、１の画素に対し複数回
   に分割して機能液滴を吐出する場合、それぞれ異なるノ
   ズルから機能液滴を吐出するようにノズルずらし情報を
   更に設定し、 前記吐出パターンデータおよび前記ヘッド動作パターン
   データは、前記ノズルずらし情報に基づいて生成される
   ことを特徴とする請求項７に記載の描画システム。
9. 【請求項９】 前記設定手段は、１の画素に対し複数回
   に分割して機能液滴を吐出する場合、それぞれ異なる吐
   出位置に機能液滴を吐出するように位置ずらし情報を更
   に設定し、 前記吐出パターンデータおよび前記ヘッド動作パターン
   データは、前記位置ずらし情報に基づいて生成されるこ
   とを特徴とする請求項７に記載の描画システム。
10. 【請求項１０】 前記機能液滴吐出ヘッドは、前記ノズ
    ル列が列設された複数の単位ヘッドによって構成されて
    いることを特徴とする請求項１ないし９のいずれかに記
    載の描画システム。
11. 【請求項１１】 請求項１ないし１０のいずれかに記載
    の描画システムを用い、カラーフィルタの基板上に多数
    のフィルタエレメントを形成する液晶表示装置の製造方
    法であって、 前記機能液滴吐出ヘッドに各色のフィルタ材料を導入
    し、 前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査
    し、前記フィルタ材料を選択的に吐出して多数の前記フ
    ィルタエレメントを形成することを特徴とする液晶表示
    装置の製造方法。
12. 【請求項１２】 請求項１ないし１０のいずれかに記載
    の描画システムを用い、基板上の多数の絵素ピクセルに
    それぞれＥＬ発光層を形成する有機ＥＬ装置の製造方法
    であって、 前記機能液滴吐出ヘッドに各色の発光材料を導入し、 前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査
    し、前記発光材料を選択的に吐出して多数の前記ＥＬ発
    光層を形成することを特徴とする有機ＥＬ装置の製造方
    法。
13. 【請求項１３】 請求項１ないし１０のいずれかに記載
    の描画システムを用い、電極上に多数の蛍光体を形成す
    る電子放出装置の製造方法であって、 前記機能液滴吐出ヘッドに各色の蛍光材料を導入し、 前記機能液滴吐出ヘッドを前記電極に対し相対的に走査
    し、前記蛍光材料を選択的に吐出して多数の前記蛍光体
    を形成することを特徴とする電子放出装置の製造方法。
14. 【請求項１４】 請求項１ないし１０のいずれかに記載
    の描画システムを用い、背面基板上の多数の凹部にそれ
    ぞれ蛍光体を形成するＰＤＰ装置の製造方法であって、 前記機能液滴吐出ヘッドに各色の蛍光材料を導入し、 前記機能液滴吐出ヘッドを前記背面基板に対し相対的に
    走査し、前記蛍光材料を選択的に吐出して多数の前記蛍
    光体を形成することを特徴とするＰＤＰ装置の製造方
    法。
15. 【請求項１５】 請求項１ないし１０のいずれかに記載
    の描画システムを用い、電極上の多数の凹部に泳動体を
    形成する電気泳動表示装置の製造方法であって、 前記機能液滴吐出ヘッドに各色の泳動体材料を導入し、 前記機能液滴吐出ヘッドを前記電極に対し相対的に走査
    し、前記泳動体材料を選択的に吐出して多数の前記泳動
    体を形成することを特徴とする電気泳動表示装置の製造
    方法。
16. 【請求項１６】 請求項１ないし１０のいずれかに記載
    の描画システムを用い、基板上に多数のフィルタエレメ
    ントを配列して成るカラーフィルタを製造するカラーフ
    ィルタの製造方法であって、 前記機能液滴吐出ヘッドに各色のフィルタ材料を導入
    し、 前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査
    し、前記フィルタ材料を選択的に吐出して多数の前記フ
    ィルタエレメントを形成することを特徴とするカラーフ
    ィルタの製造方法。
17. 【請求項１７】 前記多数のフィルタエレメントを被覆
    するオーバーコート膜が形成されており、 前記フィルタエレメントを形成した後に、 前記機能液滴吐出ヘッドに透光性のコーティング材料を
    導入し、 前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査
    し、前記コーティング材料を選択的に吐出して前記オー
    バーコート膜を形成することを特徴とする請求項１６に
    記載のカラーフィルタの製造方法。
18. 【請求項１８】 請求項１ないし１０のいずれかに記載
    の描画システムを用い、ＥＬ発光層を含む多数の絵素ピ
    クセルを基板上に配列して成る有機ＥＬの製造方法であ
    って、 前記機能液滴吐出ヘッドに各色の発光材料を導入し、 前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査
    し、前記発光材料を選択的に吐出して多数の前記ＥＬ発
    光層を形成することを特徴とする有機ＥＬの製造方法。
19. 【請求項１９】 多数の前記ＥＬ発光層と前記基板との
    間には、前記ＥＬ発光層に対応して多数の画素電極が形
    成されており、 前記機能液滴吐出ヘッドに液状電極材料を導入し、 前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査
    し、前記液状電極材料を選択的に吐出して多数の前記画
    素電極を形成することを特徴とする請求項１８に記載の
    有機ＥＬの製造方法。
20. 【請求項２０】 多数の前記ＥＬ発光層を覆うように対
    向電極が形成されており、 前記ＥＬ発光層を形成した後に、 前記機能液滴吐出ヘッドに液状電極材料を導入し、 前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査
    し、前記液状電極材料を選択的に吐出して前記対向電極
    を形成することを特徴とする請求項１９に記載の有機Ｅ
    Ｌの製造方法。
21. 【請求項２１】 請求項１ないし１０のいずれかに記載
    の描画システムを用い、２枚の基板間に微小なセルギャ
    ップを構成すべく多数の粒子状のスペーサを形成するス
    ペーサ形成方法であって、 前記機能液滴吐出ヘッドにスペーサを構成する粒子材料
    を導入し、 前記機能液滴吐出ヘッドを少なくとも一方の前記基板に
    対し相対的に走査し、前記粒子材料を選択的に吐出して
    前記基板上に前記スペーサを形成することを特徴とする
    スペーサ形成方法。
22. 【請求項２２】 請求項１ないし１０のいずれかに記載
    の描画システムを用い、基板上に金属配線を形成する金
    属配線形成方法であって、 前記機能液滴吐出ヘッドに液状金属材料を導入し、 前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査
    し、前記液状金属材料を選択的に吐出して前記金属配線
    を形成することを特徴とする金属配線形成方法。
23. 【請求項２３】 請求項１ないし１０のいずれかに記載
    の描画システムを用い、基板上に多数のマイクロレンズ
    を形成するレンズ形成方法であって、 前記機能液滴吐出ヘッドにレンズ材料を導入し、 前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査
    し、前記レンズ材料を選択的に吐出して多数の前記マイ
    クロレンズを形成することを特徴とするレンズ形成方
    法。
24. 【請求項２４】 請求項１ないし１０のいずれかに記載
    の描画システムを用い、基板上に任意形状のレジストを
    形成するレジスト形成方法であって、 前記機能液滴吐出ヘッドにレジスト材料を導入し、 前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査
    し、前記レジスト材料を選択的に吐出して前記レジスト
    を形成することを特徴とするレジスト形成方法。
25. 【請求項２５】 請求項１ないし１０のいずれかに記載
    の描画システムを用い、基板上に多数の光拡散体を形成
    する光拡散体形成方法であって、 前記機能液滴吐出ヘッドに光拡散材料を導入し、 前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査
    し、前記光拡散材料を選択的に吐出して多数の前記光拡
    散体を形成することを特徴とする光拡散体形成方法。