JP2003273156A - 電子装置及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 アンダーフィル材が良好に注入されるよう
に、電子部品と回路基板との間隙が十分に確保された構
造である電子装置を提供する。 【解決手段】 多層基板3上にTSOP10が実装され
た構造において、多層基板3表面のうち、TSOP10
のパッケージ部1と対向する領域では、銅箔4aのみが
形成された構造とする。そして、パッケージ部1と多層
基板3との間にアンダーフィル材7が形成された構造と
する。すなわち、この銅箔4aの上に直接アンダーフィ
ル材7が形成された構造とする。また、第2の手段とし
ては、多層基板3表面のうち、TSOP10のパッケー
ジ部1と対向する領域では、銅箔4aの代わりにレジス
ト層8のみが形成されている構造とする。また、他の手
段としては、多層基板3表面の同じ領域にて、銅箔4a
もレジスト層8もどちらも形成されていない構造とす
る。
に、電子部品と回路基板との間隙が十分に確保された構
造である電子装置を提供する。 【解決手段】 多層基板3上にTSOP10が実装され
た構造において、多層基板3表面のうち、TSOP10
のパッケージ部1と対向する領域では、銅箔4aのみが
形成された構造とする。そして、パッケージ部1と多層
基板3との間にアンダーフィル材7が形成された構造と
する。すなわち、この銅箔4aの上に直接アンダーフィ
ル材7が形成された構造とする。また、第2の手段とし
ては、多層基板3表面のうち、TSOP10のパッケー
ジ部1と対向する領域では、銅箔4aの代わりにレジス
ト層8のみが形成されている構造とする。また、他の手
段としては、多層基板3表面の同じ領域にて、銅箔4a
もレジスト層8もどちらも形成されていない構造とす
る。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子部品が回路基
板上に実装された電子装置及びその製造方法に関する。
板上に実装された電子装置及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】電子部品が回路基板上に実装された従来
の電子装置の断面構造を図4、5に示す。
の電子装置の断面構造を図4、5に示す。
【0003】図4に示す電子装置では、例えば、電子部
品として、ICパッケージの一種であるTSOP10が
用いられ、回路基板として、多層基板3が用いられてい
る。
品として、ICパッケージの一種であるTSOP10が
用いられ、回路基板として、多層基板3が用いられてい
る。
【0004】このTSOP10は、パッケージ部1と端
子としてのリード部2とから構成されている。パッケー
ジ部1内には、図示しないが、ICチップが封止されて
いる。リード部2はパッケージ部1内で、ICチップと
電気的に接続されている。また、リード部2はパッケー
ジ部1から多層基板3に対して直線状ではなく、リード
の一部が外側にフラットに曲げられている。このフラッ
トに曲げられた部分が基板上の配線との接続面2aとな
っている。
子としてのリード部2とから構成されている。パッケー
ジ部1内には、図示しないが、ICチップが封止されて
いる。リード部2はパッケージ部1内で、ICチップと
電気的に接続されている。また、リード部2はパッケー
ジ部1から多層基板3に対して直線状ではなく、リード
の一部が外側にフラットに曲げられている。このフラッ
トに曲げられた部分が基板上の配線との接続面2aとな
っている。
【0005】また、多層基板3は、配線層と絶縁層が交
互に積み重ねられた回路基板である。多層基板3のう
ち、TSOP10が搭載されている表面には、表面配線
である銅箔4が形成されている。
互に積み重ねられた回路基板である。多層基板3のう
ち、TSOP10が搭載されている表面には、表面配線
である銅箔4が形成されている。
【0006】銅箔4とリード部2とがはんだ6によって
固定されている。これにより、TSOP10は多層基板
3に電気的に接続及び固定されている。なお、多層基板
3表面のうち、リード部2の接続面2aが位置する領域
は、はんだ付けされる領域であり、以下では、この領域
をはんだ付け部と呼ぶ。
固定されている。これにより、TSOP10は多層基板
3に電気的に接続及び固定されている。なお、多層基板
3表面のうち、リード部2の接続面2aが位置する領域
は、はんだ付けされる領域であり、以下では、この領域
をはんだ付け部と呼ぶ。
【0007】なお、多層基板3表面のはんだ付けされな
い領域では、はんだ付け時にはんだが付着するのを防止
するために、銅箔4上にレジスト層5が形成されてい
る。
い領域では、はんだ付け時にはんだが付着するのを防止
するために、銅箔4上にレジスト層5が形成されてい
る。
【0008】また、多層基板3表面のうち、パッケージ
部1の底面1aに対向する領域では、グランド電位をと
るための領域あるいは、素子間の導通をとるため等の理
由により、銅箔4aが形成されている。この領域におい
ても、はんだ付けがされないので、銅箔4aの上にレジ
スト層5aが形成されている。
部1の底面1aに対向する領域では、グランド電位をと
るための領域あるいは、素子間の導通をとるため等の理
由により、銅箔4aが形成されている。この領域におい
ても、はんだ付けがされないので、銅箔4aの上にレジ
スト層5aが形成されている。
【0009】また、パッケージ部1の下側及びその周囲
にアンダーフィル材7が形成されている。TSOP10
は、はんだ6だけでなく、このアンダーフィル材7によ
っても、多層基板3表面に固定されている。
にアンダーフィル材7が形成されている。TSOP10
は、はんだ6だけでなく、このアンダーフィル材7によ
っても、多層基板3表面に固定されている。
【0010】多層基板3に機械的応力が加えられた場合
や、熱的応力が加えられた場合、はんだ付け部におい
て、はんだ6にクラックが生じてしまう。この対策とし
て、このアンダーフィル材7によって、TSOP10と
多層基板3とがさらに固定された構造とすることで、T
SOP10と多層基板3との固定強度が確保されてい
る。 図5に示す電子装置では、電子部品として、TS
OP10の代わりに、例えば、パッケージ部11の底面
11aの所定位置に端子12が形成されている部品20
が用いられている。
や、熱的応力が加えられた場合、はんだ付け部におい
て、はんだ6にクラックが生じてしまう。この対策とし
て、このアンダーフィル材7によって、TSOP10と
多層基板3とがさらに固定された構造とすることで、T
SOP10と多層基板3との固定強度が確保されてい
る。 図5に示す電子装置では、電子部品として、TS
OP10の代わりに、例えば、パッケージ部11の底面
11aの所定位置に端子12が形成されている部品20
が用いられている。
【0011】部品20は、図示しないが、内部に、セラ
ミック基板とICチップとを有し、セラミック基板上に
ICチップが電気的に接続されている。そして、部品2
0の外部に端子12の接続面12aとパッケージ部11
の基板側面とが同一平面となるように端子12が形成さ
れている。この端子12は、このセラミック基板に固定
され、また電気的に接続されている。
ミック基板とICチップとを有し、セラミック基板上に
ICチップが電気的に接続されている。そして、部品2
0の外部に端子12の接続面12aとパッケージ部11
の基板側面とが同一平面となるように端子12が形成さ
れている。この端子12は、このセラミック基板に固定
され、また電気的に接続されている。
【0012】この場合においても、図4と同様に、部品
20の端子12と銅箔4とがはんだ付けされ、はんだ6
によって部品20と多層基板3とが電気的に接続及び固
定されている。そして、多層基板3表面のうち、はんだ
付け部以外の領域では、レジスト層5が形成されてい
る。また、部品20における端子を除く部位に対向する
領域Aでは、銅箔4a及びレジスト層5aとが形成され
ている。
20の端子12と銅箔4とがはんだ付けされ、はんだ6
によって部品20と多層基板3とが電気的に接続及び固
定されている。そして、多層基板3表面のうち、はんだ
付け部以外の領域では、レジスト層5が形成されてい
る。また、部品20における端子を除く部位に対向する
領域Aでは、銅箔4a及びレジスト層5aとが形成され
ている。
【0013】このように、図4、図5のいずれにおいて
も、電子部品が搭載される領域においても銅箔4aが形
成されている。そして、この領域では、はんだ付けされ
ないので、銅箔4aはレジスト層5aに覆われた状態と
なっている。
も、電子部品が搭載される領域においても銅箔4aが形
成されている。そして、この領域では、はんだ付けされ
ないので、銅箔4aはレジスト層5aに覆われた状態と
なっている。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】図4に示す電子装置に
おいて、TSOP10の底面1aと多層基板3のレジス
ト層5aとの間隙が狭いため、アンダーフィル材7が良
好に注入されていないという問題があった。また、図5
に示すように、部品20を用いた電子装置においても、
はんだ6による固定を補強するために、アンダーフィル
材にて部品20と多層基板3とを固定することが好まし
い。しかし、この場合では、部品20の底面11aと多
層基板3のレジスト層5aとの間隙が無い為、アンダー
フィル材を部品11aと多層基板3との間に形成するこ
とができなかった。
おいて、TSOP10の底面1aと多層基板3のレジス
ト層5aとの間隙が狭いため、アンダーフィル材7が良
好に注入されていないという問題があった。また、図5
に示すように、部品20を用いた電子装置においても、
はんだ6による固定を補強するために、アンダーフィル
材にて部品20と多層基板3とを固定することが好まし
い。しかし、この場合では、部品20の底面11aと多
層基板3のレジスト層5aとの間隙が無い為、アンダー
フィル材を部品11aと多層基板3との間に形成するこ
とができなかった。
【0015】このため、アンダーフィル材にて電子部品
と回路基板とを十分に固定できず、電子部品と回路基板
との固定を十分に補強することができなかった。
と回路基板とを十分に固定できず、電子部品と回路基板
との固定を十分に補強することができなかった。
【0016】このような問題は、図4、5に示す電子装
置に限らず、回路基板に電子部品を搭載したとき、電子
部品の底面の基板表面からの高さと、端子の表面配線と
の接続面の基板表面からの高さとの差が小さい電子部品
を用いる場合においてみられるものである。
置に限らず、回路基板に電子部品を搭載したとき、電子
部品の底面の基板表面からの高さと、端子の表面配線と
の接続面の基板表面からの高さとの差が小さい電子部品
を用いる場合においてみられるものである。
【0017】本発明は、上記点に鑑み、アンダーフィル
材が良好に注入されるように、電子部品と回路基板との
間隙が十分に確保された構造である電子装置及びその製
造方法を提供することを目的とする。
材が良好に注入されるように、電子部品と回路基板との
間隙が十分に確保された構造である電子装置及びその製
造方法を提供することを目的とする。
【0018】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1に記載の発明では、回路基板(3)表面の
うち、電子部品(10)における端子(2)を除く部位
と対向する領域に、表面配線層(4a)が配置されてお
り、アンダーフィル材(7)は、電子部品(10)及び
表面配線層(4a)と直に接していることを特徴として
いる。
め、請求項1に記載の発明では、回路基板(3)表面の
うち、電子部品(10)における端子(2)を除く部位
と対向する領域に、表面配線層(4a)が配置されてお
り、アンダーフィル材(7)は、電子部品(10)及び
表面配線層(4a)と直に接していることを特徴として
いる。
【0019】これにより、回路基板表面のうち、電子部
品における端子を除く部位に対向する領域に、表面配線
層及び表面配線層を保護するレジスト層とが形成されて
いる場合と比較して、電子部品と回路基板との間隙を広
くすることができる。この結果、電子部品(10)と回
路基板(3)との間にアンダーフィル材(7)が良好に
注入された電子装置を提供することができる。
品における端子を除く部位に対向する領域に、表面配線
層及び表面配線層を保護するレジスト層とが形成されて
いる場合と比較して、電子部品と回路基板との間隙を広
くすることができる。この結果、電子部品(10)と回
路基板(3)との間にアンダーフィル材(7)が良好に
注入された電子装置を提供することができる。
【0020】請求項2に記載の発明では、回路基板
(3)表面のうち、電子部品(10)における端子
(2)を除く部位に対向する領域にて、回路基板(3)
表面上に直接形成されたレジスト層(8)を有し、アン
ダーフィル材(9)は、電子部品(10)及びレジスト
層(8)と直に接していることを特徴としている。
(3)表面のうち、電子部品(10)における端子
(2)を除く部位に対向する領域にて、回路基板(3)
表面上に直接形成されたレジスト層(8)を有し、アン
ダーフィル材(9)は、電子部品(10)及びレジスト
層(8)と直に接していることを特徴としている。
【0021】このように回路基板(3)表面のうち、電
子部品(10)における端子(2)を除く部位に対向す
る領域では、表面配線層(4)が配置されておらず、レ
ジスト層(8)が形成されていることから、この領域に
おいて、表面配線層と、この上に表面配線層を保護する
絶縁性樹脂とが形成されている場合と比較して、回路基
板(3)と電子部品(10)との間隙を広くすることが
できる。この結果、電子部品(10)と回路基板(3)
との間にアンダーフィル材(9)が良好に注入された電
子装置を提供することができる。
子部品(10)における端子(2)を除く部位に対向す
る領域では、表面配線層(4)が配置されておらず、レ
ジスト層(8)が形成されていることから、この領域に
おいて、表面配線層と、この上に表面配線層を保護する
絶縁性樹脂とが形成されている場合と比較して、回路基
板(3)と電子部品(10)との間隙を広くすることが
できる。この結果、電子部品(10)と回路基板(3)
との間にアンダーフィル材(9)が良好に注入された電
子装置を提供することができる。
【0022】請求項3に記載の発明では、表面配線層
(4)は、回路基板(3)表面のうち、電子部品(2
0)における端子(12)を除く部位に対向する領域に
て、回路基板(3)表面が露出するように、配置されて
おり、アンダーフィル材(17)は、電子部品(20)
及び回路基板(3)表面と直に接していることを特徴と
している。
(4)は、回路基板(3)表面のうち、電子部品(2
0)における端子(12)を除く部位に対向する領域に
て、回路基板(3)表面が露出するように、配置されて
おり、アンダーフィル材(17)は、電子部品(20)
及び回路基板(3)表面と直に接していることを特徴と
している。
【0023】これにより、回路基板表面のうち、電子部
品における端子を除く部位に対向する領域にて、表面配
線層と、表面配線層を保護する絶縁性樹脂とが形成され
ている場合と比較して、回路基板(3)と電子部品(2
0)との間の間隙を広くすることができる。
品における端子を除く部位に対向する領域にて、表面配
線層と、表面配線層を保護する絶縁性樹脂とが形成され
ている場合と比較して、回路基板(3)と電子部品(2
0)との間の間隙を広くすることができる。
【0024】また、本発明では、回路基板(3)表面の
うち、電子部品(10)における端子(2)を除く部位
に対向する領域に、表面配線層及びレジスト層とが形成
されていないことから、請求項1又は2に記載の発明よ
りも回路基板(3)と電子部品(20)との間の間隙を
広くすることができる。
うち、電子部品(10)における端子(2)を除く部位
に対向する領域に、表面配線層及びレジスト層とが形成
されていないことから、請求項1又は2に記載の発明よ
りも回路基板(3)と電子部品(20)との間の間隙を
広くすることができる。
【0025】この結果、電子部品(20)と回路基板
(3)との間にアンダーフィル材(17)が良好に注入
された電子装置を提供することができる。
(3)との間にアンダーフィル材(17)が良好に注入
された電子装置を提供することができる。
【0026】また、請求項4に示すように、電子部品
(10、20)と回路基板(3)との回路基板の垂直方
向における間隙は30μm以上とすることが好ましい。
(10、20)と回路基板(3)との回路基板の垂直方
向における間隙は30μm以上とすることが好ましい。
【0027】これにより、電子部品(20)と回路基板
(3)との間にアンダーフィル材(7、17)が良好に
注入された電子装置を提供することができる。
(3)との間にアンダーフィル材(7、17)が良好に
注入された電子装置を提供することができる。
【0028】また、請求項5に記載の発明では、回路基
板(3)表面には、表面配線層(4)及びレジスト層
(5)とが順に積層されており、回路基板(3)表面の
うち、電子部品(10)が搭載されたとき、電子部品
(10)における端子(2)を除く部位に対向する予定
の領域では、表面配線層(4a)がレジスト層(5)か
ら露出している回路基板(3)を用意する工程と、電子
部品(10)を回路基板(3)上に搭載し、端子(2)
を表面配線層(4)に電気的に接続及び固定する工程
と、電子部品(10)及び銅箔(4a)と直に接するよ
うに、電子部品(10)と回路基板(3)との間にアン
ダーフィル材(7)を形成する工程とを有することを特
徴としている。
板(3)表面には、表面配線層(4)及びレジスト層
(5)とが順に積層されており、回路基板(3)表面の
うち、電子部品(10)が搭載されたとき、電子部品
(10)における端子(2)を除く部位に対向する予定
の領域では、表面配線層(4a)がレジスト層(5)か
ら露出している回路基板(3)を用意する工程と、電子
部品(10)を回路基板(3)上に搭載し、端子(2)
を表面配線層(4)に電気的に接続及び固定する工程
と、電子部品(10)及び銅箔(4a)と直に接するよ
うに、電子部品(10)と回路基板(3)との間にアン
ダーフィル材(7)を形成する工程とを有することを特
徴としている。
【0029】この製造方法により、請求項1に記載の電
子装置を製造することができる。
子装置を製造することができる。
【0030】つまり、本発明に製造方法により、回路基
板(3)表面のうち、電子部品(10)における端子
(2)を除く部位に対向する領域にて、表面配線層と、
この上に表面配線層を保護するレジスト層とが形成され
ている場合と比較して、電子部品(10)と回路基板
(3)との間隙を広くすることができる。このため、電
子部品(10)と回路基板(3)との間にアンダーフィ
ル材(7)を良好に注入することができる。
板(3)表面のうち、電子部品(10)における端子
(2)を除く部位に対向する領域にて、表面配線層と、
この上に表面配線層を保護するレジスト層とが形成され
ている場合と比較して、電子部品(10)と回路基板
(3)との間隙を広くすることができる。このため、電
子部品(10)と回路基板(3)との間にアンダーフィ
ル材(7)を良好に注入することができる。
【0031】また、請求項6に記載の発明では、回路基
板(3)表面のうち、電子部品(10)が搭載されたと
き、電子部品(10)における端子(2)を除く部位に
対向する予定の領域にて、レジスト層(8)が回路基板
(3)表面上に直接形成されている回路基板(3)を用
意する工程と、電子部品(10)を回路基板(3)上に
搭載し、端子(2)を表面配線層(4)に電気的に接続
及び固定する工程と、電子部品(10)及びレジスト層
(8)と直に接するように、電子部品(10)と回路基
板(3)との間にアンダーフィル材(9)を形成する工
程とを有することを特徴としている。
板(3)表面のうち、電子部品(10)が搭載されたと
き、電子部品(10)における端子(2)を除く部位に
対向する予定の領域にて、レジスト層(8)が回路基板
(3)表面上に直接形成されている回路基板(3)を用
意する工程と、電子部品(10)を回路基板(3)上に
搭載し、端子(2)を表面配線層(4)に電気的に接続
及び固定する工程と、電子部品(10)及びレジスト層
(8)と直に接するように、電子部品(10)と回路基
板(3)との間にアンダーフィル材(9)を形成する工
程とを有することを特徴としている。
【0032】この製造方法により、請求項2に記載の電
子装置を製造することができる。
子装置を製造することができる。
【0033】つまり、本発明の製造方法により、回路基
板表面のうち、電子部品における端子を除く部位に対向
する領域に、表面配線層と、この上に表面配線層を保護
する絶縁性樹脂とが形成されている場合と比較して、回
路基板(3)と電子部品(10)との間隙を広くするこ
とができる。このため、電子部品(10)と回路基板
(3)との間にアンダーフィル材(9)を良好に注入す
ることができる。
板表面のうち、電子部品における端子を除く部位に対向
する領域に、表面配線層と、この上に表面配線層を保護
する絶縁性樹脂とが形成されている場合と比較して、回
路基板(3)と電子部品(10)との間隙を広くするこ
とができる。このため、電子部品(10)と回路基板
(3)との間にアンダーフィル材(9)を良好に注入す
ることができる。
【0034】また、請求項7に記載の発明では、回路基
板(3)表面には、表面配線層(4)及びレジスト層
(5)とが順に積層されており、回路基板(3)表面の
うち、電子部品(20)が搭載されたとき、電子部品
(20)における端子(2)を除く部位と対向する予定
の領域では、回路基板(3)表面が表面配線層(4)及
びレジスト層(5)から露出している回路基板(3)を
用意する工程と、電子部品(20)を回路基板(3)上
に搭載し、端子(2)を表面配線層(4)に電気的に接
続及び固定する工程と、電子部品(20)及び回路基板
(3)表面と直に接するように、電子部品(10)と回
路基板(3)との間にアンダーフィル材(17)を形成
する工程とを有することを特徴としている。
板(3)表面には、表面配線層(4)及びレジスト層
(5)とが順に積層されており、回路基板(3)表面の
うち、電子部品(20)が搭載されたとき、電子部品
(20)における端子(2)を除く部位と対向する予定
の領域では、回路基板(3)表面が表面配線層(4)及
びレジスト層(5)から露出している回路基板(3)を
用意する工程と、電子部品(20)を回路基板(3)上
に搭載し、端子(2)を表面配線層(4)に電気的に接
続及び固定する工程と、電子部品(20)及び回路基板
(3)表面と直に接するように、電子部品(10)と回
路基板(3)との間にアンダーフィル材(17)を形成
する工程とを有することを特徴としている。
【0035】この製造方法により、請求項3に記載の電
子装置を製造することができる。
子装置を製造することができる。
【0036】つまり、本発明の製造方法により、回路基
板(3)表面のうち、電子部品(20)における端子
(12)を除く部位に対向する領域に、表面配線層と、
表面配線層を保護する絶縁性樹脂とが形成されている場
合と比較して、回路基板(3)と電子部品(20)との
間の間隙を広くすることができる。また、本発明では、
請求項5又は6に記載の発明よりも回路基板(3)と電
子部品(20)との間の間隙を広くすることができる。
このため、電子部品(20)と回路基板(3)との間に
アンダーフィル材(9)を良好に注入することができ
る。
板(3)表面のうち、電子部品(20)における端子
(12)を除く部位に対向する領域に、表面配線層と、
表面配線層を保護する絶縁性樹脂とが形成されている場
合と比較して、回路基板(3)と電子部品(20)との
間の間隙を広くすることができる。また、本発明では、
請求項5又は6に記載の発明よりも回路基板(3)と電
子部品(20)との間の間隙を広くすることができる。
このため、電子部品(20)と回路基板(3)との間に
アンダーフィル材(9)を良好に注入することができ
る。
【0037】なお、上記各手段の括弧内の符号は、後述
する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示すも
のである。
する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示すも
のである。
【0038】
【発明の実施の形態】(第1実施形態)図1は、本実施
形態における電子部品が回路基板に実装された電子装置
の断面構造を示す図である。本実施形態では、例えば、
電子部品として、ICパッケージのうち、表面実装型の
TSOP10を用いており、回路基板として、ガラスエ
ポキシ製の多層基板3を用いている。なお、従来と構造
が同じ部分は同一の符号を付している。
形態における電子部品が回路基板に実装された電子装置
の断面構造を示す図である。本実施形態では、例えば、
電子部品として、ICパッケージのうち、表面実装型の
TSOP10を用いており、回路基板として、ガラスエ
ポキシ製の多層基板3を用いている。なお、従来と構造
が同じ部分は同一の符号を付している。
【0039】TSOP10はパッケージ部1と端子とし
てのリード部2とを有している。リード部2は例えば、
鉄:58wt%、ニッケル:42wt%の合金から構成
されている。本実施形態では、パッケージ部1の多層基
板3側の底面1a全体が請求項に記載の端子を除く電子
部品の底面に相当する。
てのリード部2とを有している。リード部2は例えば、
鉄:58wt%、ニッケル:42wt%の合金から構成
されている。本実施形態では、パッケージ部1の多層基
板3側の底面1a全体が請求項に記載の端子を除く電子
部品の底面に相当する。
【0040】多層基板3のうち、TSOP10が搭載さ
れている表面には、表面配線層として、例えば銅箔4が
形成されている。この銅箔4は、パッケージ部1とリー
ド部2の接続面2aとが位置する領域を含むように、多
層基板3表面に形成されている。また、例えば、写真現
像型液状レジストを用いて構成されるレジスト層5が、
はんだ付け部を除く領域にて、銅箔4の上に形成されて
いる。なお、表面配線層とは、基板の最表面に形成され
ている配線層であって、はんだ等を介して、電子部品と
電気的に接続される配線層である。
れている表面には、表面配線層として、例えば銅箔4が
形成されている。この銅箔4は、パッケージ部1とリー
ド部2の接続面2aとが位置する領域を含むように、多
層基板3表面に形成されている。また、例えば、写真現
像型液状レジストを用いて構成されるレジスト層5が、
はんだ付け部を除く領域にて、銅箔4の上に形成されて
いる。なお、表面配線層とは、基板の最表面に形成され
ている配線層であって、はんだ等を介して、電子部品と
電気的に接続される配線層である。
【0041】本実施形態では、はんだ付け部の他に、パ
ッケージ部1の底面1aに対向する領域においても、銅
箔4aがレジスト層5から露出している。この多層基板
3表面にて、リード部2の接続面2aと銅箔4とがはん
だ付けされ、TSOP10が多層基板3に電気的に接続
及び固定されている。
ッケージ部1の底面1aに対向する領域においても、銅
箔4aがレジスト層5から露出している。この多層基板
3表面にて、リード部2の接続面2aと銅箔4とがはん
だ付けされ、TSOP10が多層基板3に電気的に接続
及び固定されている。
【0042】また、パッケージ部1の底面1aと銅箔4
aとの間にアンダーフィル材7が形成されている。な
お、図1では、アンダーフィル材7は、パッケージ部1
と銅箔4aとの間からはみ出すようにして、リード部2
の下側まで形成されている。アンダーフィル材7として
は、例えば、エポキシ樹脂等の絶縁性が高く、硬化温度
が電子部品の保存温度よりも低い熱硬化性樹脂を用いる
ことができる。
aとの間にアンダーフィル材7が形成されている。な
お、図1では、アンダーフィル材7は、パッケージ部1
と銅箔4aとの間からはみ出すようにして、リード部2
の下側まで形成されている。アンダーフィル材7として
は、例えば、エポキシ樹脂等の絶縁性が高く、硬化温度
が電子部品の保存温度よりも低い熱硬化性樹脂を用いる
ことができる。
【0043】このように本実施形態における電子装置
は、多層基板3表面にて、パッケージ部1の下側に位置
する領域において、従来では銅箔4aに形成されていた
レジスト層5aが除去されている。そして、この銅箔4
aの上に直接アンダーフィル材7が形成された構造とな
っている。言い換えると、TSOP10の底面1a及び
銅箔4aとにアンダーフィル材7が直に接している。
は、多層基板3表面にて、パッケージ部1の下側に位置
する領域において、従来では銅箔4aに形成されていた
レジスト層5aが除去されている。そして、この銅箔4
aの上に直接アンダーフィル材7が形成された構造とな
っている。言い換えると、TSOP10の底面1a及び
銅箔4aとにアンダーフィル材7が直に接している。
【0044】このことから、図4に示すように、多層基
板3表面のうち、TSOP10の下側の銅箔4aの上に
レジスト層5aが形成されているときよりも、多層基板
3表面とTSOP10との間隙を広くすることができ
る。
板3表面のうち、TSOP10の下側の銅箔4aの上に
レジスト層5aが形成されているときよりも、多層基板
3表面とTSOP10との間隙を広くすることができ
る。
【0045】なお、本発明者は、パッケージ部1と多層
基板3との間にアンダーフィル材を良好に注入できるパ
ッケージ部1と多層基板3との間隔を調べた。そして、
間隔が30μm以上であれば、アンダーフィル材を良好
に注入できるという実験結果を得た。
基板3との間にアンダーフィル材を良好に注入できるパ
ッケージ部1と多層基板3との間隔を調べた。そして、
間隔が30μm以上であれば、アンダーフィル材を良好
に注入できるという実験結果を得た。
【0046】本実施形態では、TSOP10を多層基板
3に搭載したとき、パッケージ部1の底面1aの多層基
板3表面からの高さと、リード部2の接続面2aの多層
基板3表面からの高さとの差が、例えば50μmである
TSOP10を用いている。また、多層基板3におい
て、例えば、レジスト層5の厚さは38μmであり、銅
箔4の厚さは32μmである。
3に搭載したとき、パッケージ部1の底面1aの多層基
板3表面からの高さと、リード部2の接続面2aの多層
基板3表面からの高さとの差が、例えば50μmである
TSOP10を用いている。また、多層基板3におい
て、例えば、レジスト層5の厚さは38μmであり、銅
箔4の厚さは32μmである。
【0047】従来では、パッケージ部1の底面1aとリ
ード部2の接続面2aとの基板3表面からの高さの差が
50μmであっても、パッケージ部1と多層基板3との
間隙は、レジスト層の厚さ分狭くなり、12μmとなっ
ていた。このため、アンダーフィル材がパッケージ部1
と多層基板3との間に良好に注入されず、パッケージ部
1の下側にアンダーフィル材が形成されていない部分が
生じていた。
ード部2の接続面2aとの基板3表面からの高さの差が
50μmであっても、パッケージ部1と多層基板3との
間隙は、レジスト層の厚さ分狭くなり、12μmとなっ
ていた。このため、アンダーフィル材がパッケージ部1
と多層基板3との間に良好に注入されず、パッケージ部
1の下側にアンダーフィル材が形成されていない部分が
生じていた。
【0048】これに対して、本実施形態では、パッケー
ジ部1の下側の領域にレジスト層が形成されていない構
造であるので、パッケージ部1と銅箔4aとの間隔は5
0μmとなる。このようにして、TSOP10と多層基
板3との間隙が十分に確保された構造とすることができ
る。
ジ部1の下側の領域にレジスト層が形成されていない構
造であるので、パッケージ部1と銅箔4aとの間隔は5
0μmとなる。このようにして、TSOP10と多層基
板3との間隙が十分に確保された構造とすることができ
る。
【0049】次にこの電子装置の製造方法を説明する。
【0050】まず、上記した構造の多層基板3を用意す
る。具体的には、例えば、表面上に銅箔4と、この銅箔
4を覆ってレジスト層5が形成されている多層基板3を
用意する。そして、はんだ付け部と搭載されるTSOP
10のパッケージ部1に対向する領域とにおいて、銅箔
4aが露出するようにレジスト層5を除去する。これに
より、はんだ付け部とパッケージ部1に対向する領域に
て銅箔4がレジスト層5から露出した多層基板3を形成
する。
る。具体的には、例えば、表面上に銅箔4と、この銅箔
4を覆ってレジスト層5が形成されている多層基板3を
用意する。そして、はんだ付け部と搭載されるTSOP
10のパッケージ部1に対向する領域とにおいて、銅箔
4aが露出するようにレジスト層5を除去する。これに
より、はんだ付け部とパッケージ部1に対向する領域に
て銅箔4がレジスト層5から露出した多層基板3を形成
する。
【0051】そして、はんだ付け部にはんだ6を供給す
る。次にTSOP10を用意し、この多層基板3上に搭
載し、リード部2と銅箔4とをはんだ付けする。
る。次にTSOP10を用意し、この多層基板3上に搭
載し、リード部2と銅箔4とをはんだ付けする。
【0052】さらに、TSOP10の底面1aと多層基
板3の銅箔4aとの間に、液状のアンダーフィル材7を
注入し、このアンダーフィル材7を固化する。このよう
にして、TSOP10の底面1aと銅箔4aとに直に接
するようにアンダーフィル材7を形成する。
板3の銅箔4aとの間に、液状のアンダーフィル材7を
注入し、このアンダーフィル材7を固化する。このよう
にして、TSOP10の底面1aと銅箔4aとに直に接
するようにアンダーフィル材7を形成する。
【0053】なお、アンダーフィル材7を注入は、次の
ようにして行う。
ようにして行う。
【0054】多層基板3表面のうち、TSOP10のパ
ッケージ部1が対向する領域では、レジスト層5が形成
されていないことから、搭載されたTSOP10と多層
基板3との間に空間が生じている。このため、TSOP
10の周囲を全て囲むようにして、周囲から同時に注入
すると、空気が閉じこめられ、アンダーフィル材硬化時
にボイドが発生し、引いては本来の目的である強度確保
ができなくなる可能性がある。
ッケージ部1が対向する領域では、レジスト層5が形成
されていないことから、搭載されたTSOP10と多層
基板3との間に空間が生じている。このため、TSOP
10の周囲を全て囲むようにして、周囲から同時に注入
すると、空気が閉じこめられ、アンダーフィル材硬化時
にボイドが発生し、引いては本来の目的である強度確保
ができなくなる可能性がある。
【0055】これを回避するために、周囲の一部を開放
した状態で、TSOP10の周囲からアンダーフィル材
を注入する。これにより、空気を排出しながら注入する
ことができる。
した状態で、TSOP10の周囲からアンダーフィル材
を注入する。これにより、空気を排出しながら注入する
ことができる。
【0056】このようにして、図1に示す電子装置を製
造することができる。なお、アンダーフィル材7を固化
した後、防湿材等で電子部品等を保護し、検査等の工程
を経ることで、完成した電子装置となる。
造することができる。なお、アンダーフィル材7を固化
した後、防湿材等で電子部品等を保護し、検査等の工程
を経ることで、完成した電子装置となる。
【0057】本実施形態では、上記のように、TSOP
10と多層基板3との間隙が十分に確保された構造とな
っていることから、TSOP10の底面1aと多層基板
3との間隙に良好にアンダーフィル材7を注入すること
ができる。したがって、TSOP10と多層基板3とが
アンダーフィル材7によって十分に固定された構造とす
ることができる。
10と多層基板3との間隙が十分に確保された構造とな
っていることから、TSOP10の底面1aと多層基板
3との間隙に良好にアンダーフィル材7を注入すること
ができる。したがって、TSOP10と多層基板3とが
アンダーフィル材7によって十分に固定された構造とす
ることができる。
【0058】TSOP10と多層基板3とをはんだ6で
のみ固定した場合では、多層基板3とリード部2とは材
質が異なっているため、温度変化時では熱膨張係数差に
より、はんだ6にクラックが発生してしまう。このた
め、このクラックが原因となって、TSOP10と多層
基板3とが分離し、製品不良となってしまう。
のみ固定した場合では、多層基板3とリード部2とは材
質が異なっているため、温度変化時では熱膨張係数差に
より、はんだ6にクラックが発生してしまう。このた
め、このクラックが原因となって、TSOP10と多層
基板3とが分離し、製品不良となってしまう。
【0059】これに対して、本実施形態では、アンダー
フィル材7によっても、TSOP10と多層基板3とが
十分に固定されているので、はんだ6のみで固定してい
た場合と比較して、固定強度を高くすることができる。 (第2実施形態)図2に本実施形態における電子装置の
断面構造を示す。
フィル材7によっても、TSOP10と多層基板3とが
十分に固定されているので、はんだ6のみで固定してい
た場合と比較して、固定強度を高くすることができる。 (第2実施形態)図2に本実施形態における電子装置の
断面構造を示す。
【0060】本実施形態では、第1実施形態と同様に、
多層基板3上にTSOP10が実装されている。しかし
ながら、多層基板3表面のうち、TSOP10のパッケ
ージ部1に対向する領域において、第1実施形態では銅
箔4aのみが形成されていたが、本実施形態では、レジ
スト層8のみが形成されている。
多層基板3上にTSOP10が実装されている。しかし
ながら、多層基板3表面のうち、TSOP10のパッケ
ージ部1に対向する領域において、第1実施形態では銅
箔4aのみが形成されていたが、本実施形態では、レジ
スト層8のみが形成されている。
【0061】そして、この領域のレジスト層8の上にア
ンダーフィル材9が直接形成され、このアンダーフィル
材9にてパッケージ部1とレジスト層8とが固定されて
いる構造となっている。なお、その他の構造においては
第1実施形態と同じであるので説明を省略する。
ンダーフィル材9が直接形成され、このアンダーフィル
材9にてパッケージ部1とレジスト層8とが固定されて
いる構造となっている。なお、その他の構造においては
第1実施形態と同じであるので説明を省略する。
【0062】本実施形態では、このように、図4に示す
従来の構造と比較して、多層基板3表面のうち、パッケ
ージ部1に対向する領域において、銅箔4aが除去され
た構造となっている。
従来の構造と比較して、多層基板3表面のうち、パッケ
ージ部1に対向する領域において、銅箔4aが除去され
た構造となっている。
【0063】第1実施形態と同様に、TSOP10を多
層基板3に搭載したとき、パッケージ部1の底面1aと
リード部2の接続面2aとの基板3表面からの高さの差
が例えば50μmである。また、レジスト層5と銅箔4
との厚さは、それぞれ例えば38、32μmである。こ
の場合、TSOP10と多層基板3との間隙は44μm
であり、30μm以上であることから、第1実施形態と
同様の効果を有する。
層基板3に搭載したとき、パッケージ部1の底面1aと
リード部2の接続面2aとの基板3表面からの高さの差
が例えば50μmである。また、レジスト層5と銅箔4
との厚さは、それぞれ例えば38、32μmである。こ
の場合、TSOP10と多層基板3との間隙は44μm
であり、30μm以上であることから、第1実施形態と
同様の効果を有する。
【0064】次に、本実施形態における電子装置の製造
方法は、第1実施形態のときの製造方法にて、多層基板
3表面での銅箔4とレジスト層5の配置を変更すれば良
い。
方法は、第1実施形態のときの製造方法にて、多層基板
3表面での銅箔4とレジスト層5の配置を変更すれば良
い。
【0065】例えば、表面上に銅箔4と、この銅箔4を
覆ってレジスト層5が形成されている多層基板3を用意
する。なお、この銅箔4は、搭載されるTSOP10の
パッケージ部1と対向する領域に配置されていない。
覆ってレジスト層5が形成されている多層基板3を用意
する。なお、この銅箔4は、搭載されるTSOP10の
パッケージ部1と対向する領域に配置されていない。
【0066】次に、はんだ付け部において、銅箔4が露
出するようにレジスト層5を除去する。なお、パッケー
ジ部1と対向する領域には、レジスト層8を残してお
く。
出するようにレジスト層5を除去する。なお、パッケー
ジ部1と対向する領域には、レジスト層8を残してお
く。
【0067】このようにして、はんだ付け部では、銅箔
4がレジスト層5から露出しており、また、パッケージ
部1と対向する領域では、銅箔4が無く、基板3表面上
に直接レジスト層5が形成された構成の基板3を用意す
る。
4がレジスト層5から露出しており、また、パッケージ
部1と対向する領域では、銅箔4が無く、基板3表面上
に直接レジスト層5が形成された構成の基板3を用意す
る。
【0068】そして、多層基板3表面のはんだ付け部に
はんだ6を供給する。その後、TSOP10を用意し、
この多層基板3上に搭載し、リード部2と銅箔4とをは
んだ付けする。このはんだ6によって、TSOP10の
リード部2を多層基板3に電気的に接続及び固定する。
はんだ6を供給する。その後、TSOP10を用意し、
この多層基板3上に搭載し、リード部2と銅箔4とをは
んだ付けする。このはんだ6によって、TSOP10の
リード部2を多層基板3に電気的に接続及び固定する。
【0069】さらに、TSOP10の底面1aと多層基
板3のレジスト層8との間に、液状のアンダーフィル材
7を注入し、このアンダーフィル材7を固化する。この
ようにして、TSOP10の底面1a及びレジスト層8
と直に接するように、アンダーフィル材9を有する構造
とすることができる。
板3のレジスト層8との間に、液状のアンダーフィル材
7を注入し、このアンダーフィル材7を固化する。この
ようにして、TSOP10の底面1a及びレジスト層8
と直に接するように、アンダーフィル材9を有する構造
とすることができる。
【0070】本実施形態においても、TSOP10と多
層基板3との間隙が十分に確保された構造となっている
ことから、TSOP10と多層基板3との間隙に良好に
アンダーフィル材7を注入することができる。したがっ
て、TSOP10と多層基板3とがアンダーフィル材9
によって十分に固定された構造とすることができる。 (第3実施形態)図3に本実施形態における電子装置の
断面構造を示す。
層基板3との間隙が十分に確保された構造となっている
ことから、TSOP10と多層基板3との間隙に良好に
アンダーフィル材7を注入することができる。したがっ
て、TSOP10と多層基板3とがアンダーフィル材9
によって十分に固定された構造とすることができる。 (第3実施形態)図3に本実施形態における電子装置の
断面構造を示す。
【0071】本実施形態では、第1実施形態と同様に、
回路基板として、多層基板3を用いている。しかしなが
ら、第1実施形態と異なり、電子部品として、パッケー
ジ部11の回路基板側の底面11aの所定位置に端子1
2が形成されている部品20を用いている。なお、従来
と構造が同じ部分は同一の符号を付している。
回路基板として、多層基板3を用いている。しかしなが
ら、第1実施形態と異なり、電子部品として、パッケー
ジ部11の回路基板側の底面11aの所定位置に端子1
2が形成されている部品20を用いている。なお、従来
と構造が同じ部分は同一の符号を付している。
【0072】電子部品は、図3に示すように、パッケー
ジ部11のうち底面11aの両端に端子12が形成され
ており、端子12の銅箔4との接続面12aとパッケー
ジ部11の底面11aとは同一平面となっている。
ジ部11のうち底面11aの両端に端子12が形成され
ており、端子12の銅箔4との接続面12aとパッケー
ジ部11の底面11aとは同一平面となっている。
【0073】一方、多層基板3の表面には、第1実施形
態と同様に、表面配線層としての銅箔4と、レジスト層
5とが形成されている。この銅箔4は、部品20の端子
12が位置する領域を含むように配置されている。ただ
し、本実施形態では、パッケージ部11における端子1
2を除く部位に対向する領域Aには、銅箔4は形成され
ていない。
態と同様に、表面配線層としての銅箔4と、レジスト層
5とが形成されている。この銅箔4は、部品20の端子
12が位置する領域を含むように配置されている。ただ
し、本実施形態では、パッケージ部11における端子1
2を除く部位に対向する領域Aには、銅箔4は形成され
ていない。
【0074】また、レジスト層5は、基板表面のうち、
領域Aには形成されていない。
領域Aには形成されていない。
【0075】そして、部品20の端子12と多層基板3
の銅箔4との間にはんだ6が介在している。このはんだ
6によって、部品20と多層基板3とが電気的に接続、
及び固定されている。また、パッケージ部11の底面1
1aのうち端子12を除く領域Aと、多層基板3との間
には、アンダーフィル材17が形成されている。このア
ンダーフィル材17によって部品20と多層基板3とが
固定されている。
の銅箔4との間にはんだ6が介在している。このはんだ
6によって、部品20と多層基板3とが電気的に接続、
及び固定されている。また、パッケージ部11の底面1
1aのうち端子12を除く領域Aと、多層基板3との間
には、アンダーフィル材17が形成されている。このア
ンダーフィル材17によって部品20と多層基板3とが
固定されている。
【0076】第1、第2実施形態では、パッケージ部1
の底面1aの基板3表面からの高さは、リード部2の接
続面2aより高く、基板と垂直な方向におけるパッケー
ジ部1と回路基板3との間に間隙を有していた。このた
め、従来の構造に対して、基板表面のレジスト層5又
は、銅箔4のどちらかを除去した構造としていた。これ
により、電子部品と回路基板との間にアンダーフィル材
7が良好に注入できるような、十分な間隔が得られてい
た。
の底面1aの基板3表面からの高さは、リード部2の接
続面2aより高く、基板と垂直な方向におけるパッケー
ジ部1と回路基板3との間に間隙を有していた。このた
め、従来の構造に対して、基板表面のレジスト層5又
は、銅箔4のどちらかを除去した構造としていた。これ
により、電子部品と回路基板との間にアンダーフィル材
7が良好に注入できるような、十分な間隔が得られてい
た。
【0077】しかしながら、端子12の接続面12a
と、パッケージ部11の底面11aとの基板3表面から
の高さが等しい場合では、第1、第2実施形態のよう
に、基板3表面のレジスト層5又は、銅箔4のどちらか
を無くしただけでは、十分な間隔が得られない。
と、パッケージ部11の底面11aとの基板3表面から
の高さが等しい場合では、第1、第2実施形態のよう
に、基板3表面のレジスト層5又は、銅箔4のどちらか
を無くしただけでは、十分な間隔が得られない。
【0078】そこで、本実施形態では、基板3表面のう
ち領域Aにおいて、従来の構造に対して、レジスト層5
と、銅箔4との両方が除去された構造としている。
ち領域Aにおいて、従来の構造に対して、レジスト層5
と、銅箔4との両方が除去された構造としている。
【0079】例えば、銅箔4の厚さが32μmのときで
は、パッケージ部11と基板3との間隙は、電子部品の
端子12と接続されている銅箔4の厚さと、はんだ6と
を合わせた大きさとなる。したがって、パッケージ部1
1と基板3との間隙を30μm以上の大きさにすること
ができる。
は、パッケージ部11と基板3との間隙は、電子部品の
端子12と接続されている銅箔4の厚さと、はんだ6と
を合わせた大きさとなる。したがって、パッケージ部1
1と基板3との間隙を30μm以上の大きさにすること
ができる。
【0080】次に本実施形態における電子装置の製造方
法を説明する。
法を説明する。
【0081】例えば、表面上に銅箔4と、この銅箔4を
覆ってレジスト層5が形成されている多層基板3を用意
する。なお、この銅箔4は、搭載される部品20のパッ
ケージ部11における端子12を除く領域Aと対向する
領域に配置されていない。
覆ってレジスト層5が形成されている多層基板3を用意
する。なお、この銅箔4は、搭載される部品20のパッ
ケージ部11における端子12を除く領域Aと対向する
領域に配置されていない。
【0082】次に、はんだ付け部において、銅箔4が露
出するようにレジスト層5を除去する。なお、領域Aに
おいては、多層基板3表面が露出するように、レジスト
層5を除去する。
出するようにレジスト層5を除去する。なお、領域Aに
おいては、多層基板3表面が露出するように、レジスト
層5を除去する。
【0083】このようにして、はんだ付け部では、銅箔
4がレジスト層5から露出しており、領域Aと対向する
領域では、銅箔4及びレジスト層5が無く、基板3表面
が銅箔4及びレジスト層5から露出した構成の多層基板
3を用意する。
4がレジスト層5から露出しており、領域Aと対向する
領域では、銅箔4及びレジスト層5が無く、基板3表面
が銅箔4及びレジスト層5から露出した構成の多層基板
3を用意する。
【0084】そして、多層基板3表面のはんだ付け部
に、はんだ6を供給する。次に部品20をこの多層基板
3上に搭載し、部品20の端子12と銅箔4とをはんだ
付けする。このはんだ6によって、部品20の端子12
を多層基板3に電気的に接続及び固定する。
に、はんだ6を供給する。次に部品20をこの多層基板
3上に搭載し、部品20の端子12と銅箔4とをはんだ
付けする。このはんだ6によって、部品20の端子12
を多層基板3に電気的に接続及び固定する。
【0085】次に、パッケージ部11の底面11aと多
層基板3との間に、液状のアンダーフィル材17を注入
し、このアンダーフィル材17を固化する。このように
して、パッケージ部11の底面11a及び多層基板3表
面と直に接するように、アンダーフィル材17を形成す
る。
層基板3との間に、液状のアンダーフィル材17を注入
し、このアンダーフィル材17を固化する。このように
して、パッケージ部11の底面11a及び多層基板3表
面と直に接するように、アンダーフィル材17を形成す
る。
【0086】このとき、本実施形態においても、多層基
板3上に搭載された部品20と、多層基板3との間隙が
30μm以上であることから、部品20と多層基板3と
の間に良好にアンダーフィル材17を注入することがで
きる。したがって、部品20と多層基板3とがアンダー
フィル材17によって十分に固定された構造とすること
ができる。この結果、部品20と多層基板3とのはんだ
6による固定を十分に補強することができる。
板3上に搭載された部品20と、多層基板3との間隙が
30μm以上であることから、部品20と多層基板3と
の間に良好にアンダーフィル材17を注入することがで
きる。したがって、部品20と多層基板3とがアンダー
フィル材17によって十分に固定された構造とすること
ができる。この結果、部品20と多層基板3とのはんだ
6による固定を十分に補強することができる。
【0087】部品20と多層基板3とをはんだ6でのみ
固定した場合では、部品20内部のセラミック基板と多
層基板3とは熱膨張係数が異なるため、温度変化時では
熱膨張係数差により、はんだ6にクラックが発生してし
まう。
固定した場合では、部品20内部のセラミック基板と多
層基板3とは熱膨張係数が異なるため、温度変化時では
熱膨張係数差により、はんだ6にクラックが発生してし
まう。
【0088】これに対して、本実施形態では、アンダー
フィル材17によって部品20と多層基板3とが十分に
固定されているので、はんだ6のみで固定していた場合
と比較して、固定強度を高くすることができる。 (他の実施形態)なお、電子部品として、第1、第2実
施形態では、TSOP10を例として説明していたが、
電子部品を回路基板に搭載したときに、電子部品の基板
側の面と基板上の表面配線層との間隔が30μm以上と
なるものであれば、TSOPに限らず、他の表面実装型
のICパッケージを用いることができる。また、ICに
限らず、その他の電子部品を用いても良い。
フィル材17によって部品20と多層基板3とが十分に
固定されているので、はんだ6のみで固定していた場合
と比較して、固定強度を高くすることができる。 (他の実施形態)なお、電子部品として、第1、第2実
施形態では、TSOP10を例として説明していたが、
電子部品を回路基板に搭載したときに、電子部品の基板
側の面と基板上の表面配線層との間隔が30μm以上と
なるものであれば、TSOPに限らず、他の表面実装型
のICパッケージを用いることができる。また、ICに
限らず、その他の電子部品を用いても良い。
【0089】また、第3実施形態では、端子が電子部品
の底面に形成されていたものを例として説明していた
が、端子が電子部品の底面から離れており、基板に搭載
したとき、電子部品の底面の方が端子よりも基板表面か
ら離れているものを用いることもできる。例えば、第
1、第2実施形態のようにTSOPを用いても良い。こ
の場合、TSOPと多層基板との間隙を第1、第2実施
形態のときよりも広くすることができる。
の底面に形成されていたものを例として説明していた
が、端子が電子部品の底面から離れており、基板に搭載
したとき、電子部品の底面の方が端子よりも基板表面か
ら離れているものを用いることもできる。例えば、第
1、第2実施形態のようにTSOPを用いても良い。こ
の場合、TSOPと多層基板との間隙を第1、第2実施
形態のときよりも広くすることができる。
【0090】また、この場合においても、電子部品を回
路基板に搭載したときに、電子部品の基板側の面と基板
上の表面配線層との間隔が30μm以上となるものであ
れば、ICパッケージ等の他の電子部品を用いても良
い。
路基板に搭載したときに、電子部品の基板側の面と基板
上の表面配線層との間隔が30μm以上となるものであ
れば、ICパッケージ等の他の電子部品を用いても良
い。
【0091】また、上記した各実施形態では、電子部品
はパッケージ部を有していたが、電子部品はパッケージ
されていないものであっても良い。
はパッケージ部を有していたが、電子部品はパッケージ
されていないものであっても良い。
【0092】また、多層基板3においても、各実施形態
において、表面配線層は銅箔の上に金メッキが施された
ものでも良く、他の導体材料を用いることもできる。ま
た、多層基板として、ガラスエポキシ樹脂製のものを例
として説明していたが、紙・フェノール樹脂や、セラミ
ックス等他の材質の基板を用いることもできる。また、
多層基板でなくても良い。
において、表面配線層は銅箔の上に金メッキが施された
ものでも良く、他の導体材料を用いることもできる。ま
た、多層基板として、ガラスエポキシ樹脂製のものを例
として説明していたが、紙・フェノール樹脂や、セラミ
ックス等他の材質の基板を用いることもできる。また、
多層基板でなくても良い。
【図1】本発明を適用した第1実施形態における電子装
置の断面図である。
置の断面図である。
【図2】本発明を適用した第2実施形態における電子装
置の断面図である。
置の断面図である。
【図3】本発明を適用した第3実施形態における電子装
置の断面図である。
置の断面図である。
【図4】従来における第1の例としての電子装置の断面
図である。
図である。
【図5】従来における第2の例としての電子装置の断面
図である。
図である。
1、11…パッケージ部、2…リード部(端子)、3…
多層基板、4…銅箔、5、8…レジスト層、6…はん
だ、7、9、17…アンダーフィル材、12…端子。
多層基板、4…銅箔、5、8…レジスト層、6…はん
だ、7、9、17…アンダーフィル材、12…端子。
Claims (7)
- 【請求項1】 端子(2)を有する電子部品(10)が
回路基板(3)の表面上に搭載され、前記端子(2)が
前記回路基板(3)表面上に形成された表面配線層
(4)と電気的に接続されており、 前記電子部品(10)と前記回路基板(3)との間に介
在するアンダーフィル材(7)によって、前記電子部品
(10)が前記回路基板(3)に固定されてなる電子装
置において、 前記回路基板(3)表面のうち、前記電子部品(10)
における前記端子(2)を除く部位と対向する領域に、
前記表面配線層(4a)が配置されており、 前記アンダーフィル材(7)は、前記電子部品(10)
及び前記表面配線層(4a)と直に接していることを特
徴とする電子装置。 - 【請求項2】 端子(2)を有する電子部品(10)が
回路基板(3)の表面上に搭載され、前記端子(2)が
前記回路基板(3)表面上に形成された表面配線層
(4)と電気的に接続されており、 前記電子部品(10)と前記回路基板(3)との間に介
在するアンダーフィル材(9)によって、前記電子部品
(10)が前記回路基板(3)に固定されてなる電子装
置において、 前記回路基板(3)表面のうち、前記電子部品(10)
における前記端子(2)を除く部位に対向する領域に
て、前記回路基板(3)表面上に直接形成されたレジス
ト層(8)を有し、 前記アンダーフィル材(9)は、前記電子部品(10)
及び前記レジスト層(8)と直に接していることを特徴
とする電子装置。 - 【請求項3】 端子(12)を有する電子部品(20)
が回路基板(3)の表面上に搭載され、前記端子(1
2)が前記回路基板(3)表面上に形成された表面配線
層(4)と電気的に接続されており、 前記電子部品(20)と前記回路基板(3)との間に介
在するアンダーフィル材(17)によって、前記電子部
品(20)が前記回路基板(3)に固定されてなる電子
装置において、 前記表面配線層(4)は、前記回路基板(3)表面のう
ち、前記電子部品(20)における前記端子(12)を
除く部位に対向する領域にて、前記回路基板(3)表面
が露出するように、配置されており、 前記アンダーフィル材(17)は、前記電子部品(2
0)及び前記回路基板(3)表面と直に接していること
を特徴とする電子装置。 - 【請求項4】 前記電子部品(10、20)と前記回路
基板(3)との前記回路基板の垂直方向における間隙は
30μm以上であることを特徴とする請求項1乃至3の
いずれか1つに記載の電子装置。 - 【請求項5】 端子(2)を有する電子部品(10)が
回路基板(3)の表面上に搭載され、前記端子(2)が
前記回路基板(3)表面上に形成された表面配線層
(4)と電気的に接続されており、 前記電子部品(10)と前記回路基板(3)との間に介
在するアンダーフィル材(7)によって、前記電子部品
(10)が前記回路基板(3)に固定されてなる電子装
置の製造方法において、 前記回路基板(3)表面には、前記表面配線層(4)と
前記表面配線層(4)を覆うレジスト層(5)とが形成
されており、前記回路基板(3)表面のうち、前記電子
部品(10)が搭載されたとき、前記電子部品(10)
における前記端子(2)を除く部位と対向する予定の領
域では、前記表面配線層(4a)が前記レジスト層
(5)から露出している前記回路基板(3)を用意する
工程と、 前記電子部品(10)を前記回路基板(3)上に搭載
し、前記端子(2)を前記表面配線層(4)に電気的に
接続及び固定する工程と、 前記電子部品(10)及び前記銅箔(4a)と直に接す
るように、前記電子部品(10)と前記回路基板(3)
との間に前記アンダーフィル材(7)を形成する工程と
を有することを特徴とする電子装置の製造方法。 - 【請求項6】 端子(2)を有する電子部品(10)が
回路基板(3)の表面上に搭載され、前記端子(2)が
前記回路基板(3)表面上に形成された表面配線層
(4)と電気的に接続されており、 前記電子部品(10)と前記回路基板(3)との間に介
在するアンダーフィル材(9)によって、前記電子部品
(10)が前記回路基板(3)に固定されてなる電子装
置の製造方法において、 前記回路基板(3)表面のうち、前記電子部品(10)
が搭載されたとき、前記電子部品(10)における前記
端子(2)を除く部位と対向する予定の領域では、レジ
スト層(8)が前記回路基板(3)表面上に直接形成さ
れている前記回路基板(3)を用意する工程と、 前記電子部品(10)を前記回路基板(3)上に搭載
し、前記端子(2)を前記表面配線層(4)に電気的に
接続及び固定する工程と、 前記電子部品(10)及び前記レジスト層(8)と直に
接するように、前記電子部品(10)と前記回路基板
(3)との間に前記アンダーフィル材(9)を形成する
工程とを有することを特徴とする電子装置の製造方法。 - 【請求項7】 端子(12)を有する電子部品(20)
が回路基板(3)表面上に搭載され、前記回路基板
(3)に形成されている表面配線層(4)に前記端子
(12)が電気的に接続されており、 前記電子部品(20)と前記回路基板(3)との間に介
在するアンダーフィル材(17)によって、前記電子部
品(20)が前記回路基板(3)に固定されてなる電子
装置の製造方法において、 前記回路基板(3)表面には、前記表面配線層(4)と
前記表面配線層(4)を覆うレジスト層(5)とが形成
されており、前記回路基板(3)表面のうち、前記電子
部品(10)が搭載されたとき、前記電子部品(10)
における前記端子(2)を除く部位と対向する予定の領
域では、回路基板表面(3)が前記表面配線層(4)及
び前記レジスト層(5)から露出している前記回路基板
(3)を用意する工程と、 前記電子部品(20)を前記回路基板(3)上に搭載
し、前記端子(2)を前記表面配線層(4)に電気的に
接続及び固定する工程と、 前記電子部品(10)及び前記回路基板(3)表面と直
に接するように、前記電子部品(10)と前記回路基板
(3)との間に前記アンダーフィル材(17)を形成す
る工程とを有することを特徴とする電子装置の製造方
法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002074460A JP2003273156A (ja) | 2002-03-18 | 2002-03-18 | 電子装置及びその製造方法 |
US10/366,928 US20030173662A1 (en) | 2002-03-18 | 2003-02-14 | Electronic equipment having electronic part mounted on printed circuit board with under-fill material |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002074460A JP2003273156A (ja) | 2002-03-18 | 2002-03-18 | 電子装置及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003273156A true JP2003273156A (ja) | 2003-09-26 |
Family
ID=28035307
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002074460A Pending JP2003273156A (ja) | 2002-03-18 | 2002-03-18 | 電子装置及びその製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20030173662A1 (ja) |
JP (1) | JP2003273156A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100369532C (zh) * | 2003-09-29 | 2008-02-13 | 松下电器产业株式会社 | 微型组件及其制造方法 |
JP2008060230A (ja) * | 2006-08-30 | 2008-03-13 | Denso Corp | 混成集積回路装置、および混成集積回路装置の製造方法 |
JP2013149680A (ja) * | 2012-01-17 | 2013-08-01 | Toyota Motor Corp | 半導体パッケージの実装方法 |
JP2015012091A (ja) * | 2013-06-27 | 2015-01-19 | 太陽誘電株式会社 | 回路基板、回路モジュール、回路基板の製造方法及び回路モジュールの製造方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5888884A (en) * | 1998-01-02 | 1999-03-30 | General Electric Company | Electronic device pad relocation, precision placement, and packaging in arrays |
US6576495B1 (en) * | 2000-08-30 | 2003-06-10 | Micron Technology, Inc. | Microelectronic assembly with pre-disposed fill material and associated method of manufacture |
-
2002
- 2002-03-18 JP JP2002074460A patent/JP2003273156A/ja active Pending
-
2003
- 2003-02-14 US US10/366,928 patent/US20030173662A1/en not_active Abandoned
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100369532C (zh) * | 2003-09-29 | 2008-02-13 | 松下电器产业株式会社 | 微型组件及其制造方法 |
JP2008060230A (ja) * | 2006-08-30 | 2008-03-13 | Denso Corp | 混成集積回路装置、および混成集積回路装置の製造方法 |
JP2013149680A (ja) * | 2012-01-17 | 2013-08-01 | Toyota Motor Corp | 半導体パッケージの実装方法 |
JP2015012091A (ja) * | 2013-06-27 | 2015-01-19 | 太陽誘電株式会社 | 回路基板、回路モジュール、回路基板の製造方法及び回路モジュールの製造方法 |
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---|---|
US20030173662A1 (en) | 2003-09-18 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20061226 |