CN100407420C - 半导体装置及其制造方法、电路基板以及电子设备 - Google Patents

半导体装置及其制造方法、电路基板以及电子设备 Download PDF

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Abstract

一种半导体装置，包括：第1半导体封装(100)，其包括具有第1焊盘(12)的第1基板(10)和具有第2焊盘(32)的第2基板(30)；第2半导体封装(200)，其被搭载在第1半导体封装(100)上；和焊锡(60)，其被设置在第1以及第2基板(10、30)之间，将各个第1焊盘(12)和各个第2焊盘(32)电连接。并且，只在第1基板(10)的角部用树脂(70)覆盖焊锡(60)。因此，可以提供一种可靠性高的半导体装置及其制造方法、电路基板和电子设备。

Description

半导体装置及其制造方法、电路基板以及电子设备
技术领域
本发明涉及一种半导体装置及其制造方法、电路基板以及电子设备
背景技术
众所周知有在半导体封装上搭载具有密封部的其它半导体封装的半导体装置。并且，也周知通过在半导体封装之间设置的导电部，可实现两个半导体封装之间的电导通。这时，如果能减缓施加在该导电部的力，将可以提高半导体装置的可靠性。
专利文献1：JP特开平6-13541号公报，公开日期为1994年1月21日。
发明内容
本发明的目的在于提供一种可靠性高的半导体装置及其制造方法、电路基板以及电子设备。
(1)有关本发明的半导体装置，包括：第1半导体封装，其包括第1基板和第1半导体芯片，所述第1基板具有多个第1焊盘，所述第1半导体芯片具有电极，在将所述第1半导体芯片的形成有所述电极的面与所述第1基板对置的情况下，所述第1半导体芯片被安装在所述第1基板的形成了所述多个第1焊盘的面上；第2半导体封装，其包括具有多个第2焊盘的第2基板、在所述第2基板上与形成了所述多个第2焊盘的面相反的面上搭载的第2半导体芯片、和密封所述第2半导体芯片的密封部，按照与所述第1半导体芯片重叠，且所述多个第1焊盘与所述多个第2焊盘分别相面对的样子被搭载在所述第1基板上；和焊锡，其被设置在所述第1基板以及所述第2基板之间，将所述多个第1焊盘与所述多个第2焊盘分别电连接；只是在所述第1基板的角部，用树脂覆盖所述焊锡。
根据本发明，只是在第1半导体封装的第1基板的角部，用树脂覆盖焊锡。也就是说，只对应力容易集中的焊锡用树脂覆盖。为此，可以可靠性高并且树脂使用量少的半导体装置。
(2)有关本发明的半导体装置，包括：第1半导体封装，其包括第1基板和第1半导体芯片，所述第1基板具有多个第1焊盘，所述第1半导体芯片具有电极，在将所述第1半导体芯片的形成有所述电极的面与所述第1基板对置的情况下，所述第1半导体芯片被安装在所述第1基板的形成了所述多个第1焊盘的面上；第2半导体封装，其包括具有多个第2焊盘的第2基板、在所述第2基板上与形成了所述多个第2焊盘的面相反的面上搭载的第2半导体芯片、和密封所述第2半导体芯片的密封部，按照与所述第1半导体芯片重叠，且所述多个第1焊盘与所述多个第2焊盘分别相面对的样子被搭载在所述第1基板上；和焊锡，其被设置在所述第1基板以及所述第2基板之间，将所述多个第1焊盘与所述多个第2焊盘分别电连接；
只是在所述第2基板的角部，用树脂覆盖所述焊锡。
根据本发明，只是在第2半导体封装的第2基板的角部，用树脂覆盖焊锡。也就是说，只对应力容易集中的焊锡用树脂覆盖。为此，可以可靠性高并且树脂使用量少的半导体装置。
(3)有关本发明的半导体装置，包括：第1半导体封装，其包括第1基板和第1半导体芯片，所述第1基板具有多个第1焊盘，所述第1半导体芯片具有电极，在将所述第1半导体芯片的形成有所述电极的面与所述第1基板对置的情况下，所述第1半导体芯片被安装在所述第1基板的形成了所述多个第1焊盘的面上；第2半导体封装，其包括具有多个第2焊盘的第2基板、在所述第2基板上与形成了所述多个第2焊盘的面相反的面上搭载的第2半导体芯片、和密封所述第2半导体芯片的密封部，按照与所述第1半导体芯片重叠，且所述多个第1焊盘与所述多个第2焊盘分别相面对的样子被搭载在所述第1基板上；和焊锡，其被设置在所述第1基板以及所述第2基板之间，将所述多个第1焊盘与所述多个第2焊盘分别电连接；所述第2基板的外形是长方形；仅在沿所述第2基板的短边的边部，用树脂覆盖所述焊锡。
根据本发明，只是在第2半导体封装的第2基板的短边端部，用树脂覆盖焊锡。也就是说，只对应力容易集中的焊锡用树脂覆盖。为此，可以可靠性高并且树脂使用量少的半导体装置。
(4)在该半导体装置中，也可以是在所述第1半导体封装上，搭载两个以上的所述第2半导体封装。
(5)有关本发明的电路基板，安装有上述半导体装置。
(6)有关本发明的电子设备，具有上述半导体装置。
(7)有关本发明的半导体装置的制造方法，包括：准备第1半导体封装的步骤，所述第1半导体封装包括第1基板和第1半导体芯片，所述第1基板具有多个第1焊盘，所述第1半导体芯片具有电极，在将所述第1半导体芯片的形成有所述电极的面与所述第1基板对置的情况下，所述第1半导体芯片被安装在所述第1基板的形成了所述多个第1焊盘的面上；准备第2半导体封装的步骤，所述第2半导体封装包括具有多个第2焊盘的第2基板、在所述第2基板上与形成了所述多个第2焊盘的面相反的面上搭载的第2半导体芯片、和密封所述第2半导体芯片的密封部；将所述第2半导体封装搭载在所述第1半导体封装上的步骤，按照让所述第1半导体芯片与所述第2半导体封装重叠，并且所述多个第1焊盘与所述多个第2焊盘分别相面对的样子进行搭载；设置焊锡和热固化性树脂的步骤，在配置在所述第1基板的角部的所述多个第1焊盘和与其分别相面对的所述多个第2焊盘之间进行设置；设置焊锡的步骤，在配置在所述第1基板的角部之外的区域的所述多个第1焊盘和与其分别相面对的所述多个第2焊盘之间进行设置；然后，加热所述焊锡以及所述热固化性树脂，让所述焊锡熔化，形成将所述多个第1焊盘与所述多个第2焊盘分别电连接的导电部，并且，让所述热固化性树脂固化，让其向外侧移动，形成分别覆盖在所述第1基板的角部上配置的多个所述导电部的树脂部。
根据本发明，只是在第1半导体封装的第1基板的角部，用树脂覆盖焊锡。也就是说，只对应力容易集中的焊锡用树脂覆盖。为此，可以采用最低限量的树脂制造可靠性高的半导体装置。
(8)有关本发明的半导体装置的制造方法，包括：准备第1半导体封装的步骤，所述第1半导体封装包括第1基板和第1半导体芯片，所述第1基板具有多个第1焊盘，所述第1半导体芯片具有电极，在将所述第1半导体芯片的形成有所述电极的面与所述第1基板对置的情况下，所述第1半导体芯片被安装在所述第1基板的形成了所述多个第1焊盘的面上；准备第2半导体封装的步骤，所述第2半导体封装包括具有多个第2焊盘的第2基板、在所述第2基板上与形成了所述多个第2焊盘的面相反的面上搭载的第2半导体芯片、和密封所述第2半导体芯片的密封部；将所述第2半导体封装搭载在所述第1半导体封装上的步骤，按照让所述第1半导体芯片与所述第2半导体封装重叠，并且所述多个第1焊盘与所述多个第2焊盘分别相面对的样子进行搭载；设置焊锡和热固化性树脂的步骤，在配置在所述第2基板的角部的所述多个第2焊盘和与其分别相面对的所述多个第1焊盘之间进行设置；设置焊锡的步骤，在配置在所述第2基板的角部之外的区域的所述多个第2焊盘和与其分别相面对的所述多个第1焊盘之间进行设置；然后，加热所述焊锡以及所述热固化性树脂，让所述焊锡熔化，形成将所述多个第1焊盘与所述多个第2焊盘分别电连接的导电部，并且，让所述热固化性树脂固化，让其向外侧移动，形成分别覆盖在所述第2基板的角部上配置的多个所述导电部的树脂部。
根据本发明，只是在第2半导体封装的第2基板的角部，用树脂覆盖焊锡。也就是说，只对应力容易集中的焊锡用树脂覆盖。为此，可以采用最低限量的树脂制造可靠性高的半导体装置。
(9)有关本发明的半导体装置的制造方法，包括：准备第1半导体封装的步骤，所述第1半导体封装包括第1基板和第1半导体芯片，所述第1基板具有多个第1焊盘，所述第1半导体芯片具有电极，在将所述第1半导体芯片的形成有所述电极的面与所述第1基板对置的情况下，所述第1半导体芯片被安装在所述第1基板的形成了所述多个第1焊盘的面上；准备第2半导体封装的步骤，所述第2半导体封装包括具有多个第2焊盘且外形成长方形的第2基板、在所述第2基板上与形成了所述多个第2焊盘的面相反的面上搭载的第2半导体芯片、和密封所述第2半导体芯片的密封部；将所述第2半导体封装搭载在所述第1半导体封装上的步骤，按照让所述第1半导体芯片与所述第2半导体封装重叠，并且所述多个第1焊盘与所述多个第2焊盘分别相面对的样子进行搭载；设置焊锡和热固化性树脂的步骤，在配置在沿所述第2基板的短边的边部的所述多个第2焊盘和与其分别相面对的所述多个第1焊盘之间进行设置；设置焊锡的步骤，在配置在沿所述第2基板的短边的部边之外的区域的所述多个第2焊盘和与其分别相面对的所述多个第1焊盘之间进行设置；然后，加热所述焊锡以及所述热固化性树脂，让所述焊锡熔化，形成将所述多个第1焊盘与所述多个第2焊盘分别电连接的导电部，并且，让所述热固化性树脂固化，让其向外侧移动，形成分别覆盖在沿所述第2基板的短边的边部上配置的多个所述导电部的树脂部。
根据本发明，只是在第2半导体封装的第2基板的短边端部，用树脂覆盖焊锡。也就是说，只对应力容易集中的焊锡用树脂覆盖。为此，可以采用最低限量的树脂制造可靠性高的半导体装置。
(10)在该半导体装置的制造方法中，也可以是在1个所述第1半导体封装上搭载2个以上的所述第2半导体封装。
附图说明
图1(A)以及图1(B)是用于说明适用了本发明的有关第1实施方式的半导体装置图。
图2(A)以及图2(B)是用于说明适用了本发明的有关第1实施方式的半导体装置图。
图3(A)～图3(C)是用于说明适用了本发明的有关第1实施方式的半导体装置图。
图4表示安装适用了本发明的有关实施方式的半导体装置的电路基板图。
图5(A)以及图5(B)是用于说明适用了本发明的有关第1实施方式变形例的半导体装置图。
图6是用于说明适用了本发明的有关第1实施方式的半导体装置的制造方法图。
图7(A)以及图7(B)是用于说明适用了本发明的有关第1实施方式的半导体装置的制造方法图。
图8(A)以及图8(B)是用于说明适用了本发明的有关第2实施方式的半导体装置图。
图9(A)以及图9(B)是用于说明适用了本发明的有关第2实施方式的半导体装置图。
图10表示具有适用了本发明的有关实施方式的半导体装置的电子设备图。
图11表示具有适用了本发明的有关实施方式的半导体装置的电子设备图。
图中：10-第1基板；12-第1焊盘；20-第1半导体芯片；30-第2基板；32-第2焊盘；40-第2半导体芯片；50-密封部；60-焊锡；70--树脂；100-第1半导体封装；200-第2半导体封装。
具体实施方式
下面，参照附图对适用了本发明的实施方式进行说明。但是，本发明并不限定于以下的实施方式。
(第1实施方式)
图1(A)～图4是用于对适用了本发明的有关第1实施方式的半导体装置进行说明的图。
有关本实施方式的半导体装置包括第1半导体封装100。下面，对第1半导体封装100进行说明。还有，图1(A)和图1(B)是用于说明第1半导体封装100的图。这里，图1(A)是第1半导体封装100的平面图，图1(B)是图1(A)的IB-IB线截面的放大图。
第1半导体封装100具有第1基板10。对第1基板10的材料没有特别限定，可以是有机类(比如环氧树脂基板)，无机类(比如陶瓷基板、玻璃基板)，或者，这些材料的复合结构(比如玻璃环氧树脂基板)。第1基板10可以是刚性基板，这时，也可以将第1基板10称作插入件。或者，第1基板10也可以是聚酯基板和聚酰亚胺基板等柔软性基板。第1基板10也可以是COF(Chip On Film)用的基板和TAB(Tape AutomatedBonding)用的基板。另外，第1基板10可以是由单层构成的单层基板，也可以是具有层叠的多层的层叠基板。因此，对第1基板10的形状和厚度也没有特别限定。
第1基板10具有多个第1焊盘12。第1焊盘12，比如，也可以用铜(Cu)和铝(Al)形成薄且平的形状。另外，第1焊盘12的平面形状也没有特别限定，比如可以是圆形(参照图1(A))，或者也可以是矩形(图中没有画出)。如图1(A)和图1(B)所示，第1焊盘12也可以避开搭载第1半导体芯片20的区域进行配置。另外，第1基板10也可以具有焊盘14(参照图1(B))。焊盘14是用于与后述的第1半导体芯片20电连接的焊盘。焊盘14，也可以被放置在第1基板10的形成了第1焊盘12的面上。焊盘14，也可以被放置在搭载第1半导体芯片20的区域中。第1基板10，也可以进一步具有焊盘15(参照图1(B))。在焊盘15中，设置后述的外部端子18，用于与母板等电连接。焊盘15可以被设置在第1基板10中的形成了第1焊盘12相反一侧的面上。
第1半导体封装100，如图1(A)和图1(B)所示，具有第1半导体芯片20。第1半导体芯片20具有包括晶体管和存储器元件等的集成电路22。另外第1半导体芯片20具有电极24。这时，电极24与第1半导体芯片20的内部电连接。第1半导体芯片20，倒装在第1基板10上。具体地说，第1半导体芯片20，如图1(B)所示，按照形成集成电路22的面(有源面)与第1基板10相对的样子被搭载。第1半导体芯片20被安装在第1基板10上的形成了第1焊盘12的面上。并且，电极24和焊盘14相面对并电连接。如图1(A)和图1(B)所示，第1半导体芯片20也可以由树脂部26固定在第1基板10上。
有关本实施方式的半导体装置包括第2半导体封装200。下面，对第2半导体封装200进行说明。图2(A)和图2(B)是用于说明第2半导体封装200的图。这里，图2(A)是第2半导体封装200的平面图。图2(B)是图2(A)的IIB-IIB横截面放大图。
第2半导体封装200具有第2基板30。对第2基板30的材料或者结构也没有特别限定，可以应用任何关于第1基板10所说明的内容。
第2基板30具有多个第2焊盘32。第2焊盘32的材料以及形状也可以应用关于第1焊盘12所说明的任意一项内容。第2焊盘32，在把第2半导体封装200搭载到第1半导体封装100上时，按与第1半导体芯片20不重叠的样子放置(参照图3(B))。换句话说，第2焊盘32，配置在在第2基板30上避开与第1半导体芯片20重叠的区域。另外，第2基板30进一步具有焊盘34。焊盘34是用于与后述的第2半导体芯片40电连接的焊盘。焊盘34，也可以在第2基板30的形成第2焊盘32相反一侧的面上形成。
第2半导体封装200具有第2半导体芯片40。第2半导体芯片40也可以具有集成电路42。另外第2半导体芯片40也可以具有电极44。这时，电极44也可以与第2半导体芯片40的内部电连接。第2半导体芯片40被搭载在第2基板30上于形成了第2焊盘32的面相反一侧面上。也就是说，第2半导体芯片40也可以被搭载在第2基板30上的形成了焊盘34的面上。第2半导体芯片40，比如，也可以面朝上焊接在第2基板30上。也就是说，如图2(B)所示，第2半导体芯片40，也可以被搭载在与形成了集成电路42的面(有源面)相反的面上并与第2基板30相对。而且，第2半导体芯片40的电极44和第2基板30的焊盘34也可以通过电线46电连接。但是，这里对第2半导体芯片40的安装方式没有限定。另外，一个第2半导体封装200也可以有多个第2半导体芯片40。这时，第2半导体芯片40也可以被层叠(图中没有表示)。
第2半导体封装200具有密封部50(参照图2(B))。密封部50在第2基板30上安装了第2半导体芯片40一侧形成。因此，密封部50将第2半导体芯片40密封。密封部50也可以进一步密封焊盘34以及电线46。
在有关本实施方式的半导体装置中，第2半导体封装200，被搭载在第1半导体封装100上(参照图3(A)～图3(C))。第2半导体封装200，按照与第1半导体芯片20重叠的样子被搭载(参照图3(B))。因此，第2半导体封装200被搭载成第1焊盘12和第2焊盘32相面对(参照图3(B)以及图3(C))。还有，图3(A)～图3(C)表示有关本实施方式的半导体装置1。这里，图3(A)是半导体装置1的平面图。但是，为了简单起见，省略了焊盘(具体地说，焊盘12、14、15、32、34)以及半导体芯片(第1以及第2半导体芯片20、40)。并且，图3(B)是图3(A)的IIIB-IIIB线截面的放大图，图3(C)是图3(A)的IIIC-IIIC线截面的放大图。
有关本实施方式的半导体装置，如图3(A)～图3(C)所示，包括多个焊锡60。焊锡60设置在第1以及第2基板10、30之间。因此，通过各个焊锡60，将各个第1焊盘12和各个第2焊盘32电连接。
在有关本实施方式的半导体装置中，仅在第1基板10的角部用树脂70覆盖每个焊锡60(参照图3(A)以及图3(B))。如上所述，有关本实施方式的半导体装置，形成将第2半导体封装200搭载在第1半导体封装100上的结构。并且，第2半导体封装200形成有密封部50的结构，而第1半导体封装100形成没有密封部的结构。在形成这种结构的半导体装置中，由于密封部50等的影响，导致第1基板10和第2基板30的膨胀率不同。因此由于上述原因，力被施加在第1焊盘12和第2焊盘32之间设置的焊锡60上。特别在第1基板10的角部附近，很大的力被施加在焊锡60上。然而，有关本实施方式的半导体装置中，仅在第1基板10的角部，将每个焊锡60用树脂70覆盖。这样，可以只对应力容易集中的区域加固焊锡60，采用最低限量的树脂70就可以提高半导体装置的可靠性。因此，以低廉的价格能够制造可靠性高的半导体装置。另外，在有关本发明方式的半导体装置中，由于通过树脂70能够防止第1以及第2半导体封装100、200的位置偏差，因此能够提供可靠性高的半导体装置。还有，在有关本实施方式的半导体装置中，如图3(A)所示，用树脂70覆盖的焊锡60也可以在第1基板10的每个角部设置多个(在图3(A)中各3个)。但是，与其不同，用树脂70覆盖的焊锡60，也可以在第1基板10的每个角部只设置1个(没图示)。
有关本实施方式的半导体装置，如图3(B)以及图3(C)所示，也可以具有外部端子18。外部端子18，也可以被设置在第1基板10的焊盘15上。并且，图4表示安装了适用本发明的有关实施方式的半导体装置1的电路基板1000。
有关本实施方式的半导体装置1成为上述结构。然而，适用本发明的有关第1实施方式的半导体装置并不限定于此，可以有各种变形例。比如，如图5(A)以及图5(B)所示，在一个第1半导体封装100上，也可以搭载两个以上的第2半导体封装200。这样也可以得到同样的效果，所以能够提供具有多个半导体芯片且可靠性高的半导体装置。另外，图5(A)是适用本发明的有关第1实施方式的变形例的半导体装置的平面图。另外，图5(B)是图5(A)的VB-VB线截面的放大图。
下面，对有关本实施方式的半导体装置的制造方法进行说明。图6～图7(B)是用于对适用本发明的有关第1实施方式的半导体装置的制造方法进行说明的图。
有关本实施方式的半导体装置的制造方法，包括预备第1半导体封装100以及第2半导体封装200的步骤。第1以及第2半导体封装100、200的结构如同上述说明。第1以及第2半导体封装100、200也可以应用公知的任意一种方法形成。
有关本实施方式的半导体装置的制造方法，包括将第2半导体封装200搭载在第1半导体封装100上的步骤(参照图7(A)以及图7(B))。如图6所示，也可以在第1半导体封装100的第1焊盘12上设置膏料62、64。详细讲，也可以在配置于第1基板10的角部的每个第1焊盘12上设置膏料62。还有，在有关本实施方式的半导体装置的制造方法中，如图6所示，也可以在配置于第1基板10的每个角部的多个第1焊盘12设置膏料62(在图6表示的例子中为3个)。或者，也可以只在配置于第1基板10的每个角部的1个第1焊盘12设置膏料62(没图示)。这里，膏料62含有热固化性树脂。进一步膏料62也可以含有焊锡。另外，也可以在配置于第1基板10的角部以外的区域的每个第1焊盘12上设置膏料64。这里，膏料64是不含有热固化树脂的膏料。膏料64，比如也可以是焊锡膏料。另外，膏料62、64，进一步也可以包含焊剂。而且，也可以在第2半导体封装200的每个第2焊盘32上设置焊锡球66。在这之后，将第2半导体封装200搭载在第1半导体封装100上。图7(A)以及图7(B)表示第1以及第2半导体封装100、200的层叠状态的横截面图。如图7(A)所示，将第2半导体封装200按照第1半导体芯片20与第2半导体封装200重叠的样子搭载。而且，如图7(B)所示，将第2半导体封装200按照第1焊盘12与第2焊盘32相面对的样子搭载。
此外，将第2半导体封装200搭载在第1半导体封装100上的方法并不限定于此。也就是说，也可以根据下述任意一种方法将第2半导体封装200搭载在第1半导体封装100上：在配置于第1基板10角部的每个第1焊盘12、和与该焊盘相对的每个第2焊盘32之间设置焊锡和热固化性树脂；或者，在配置于第1基板10角部以外区域的每个第1焊盘12、和与该焊锡相对的每个第2焊盘32之间设置焊锡。
有关本实施方式的半导体装置的制造方法，包括加热焊锡以及热固化树脂的步骤。比如，如图7(A)以及图7(B)所示，也可以在将第1半导体封装100和第2半导体封装200层叠的状态下，加热焊锡球66以及膏料62、64。通过加热焊锡球66将其熔化，形成将各个第1焊盘12与各个第2焊盘32电连接的导电部(焊锡60)。还有，在膏料62、64含有焊锡时，也可以让这些焊锡熔化而形成导电部(焊锡60)。并且，通过加热在膏料62中所含的热固化性树脂，使其固化的同时让其向外侧移动，这样形成覆盖配置在第1基板10的角部的多个导电部(焊锡60)中的每一个的树脂70。
而且，经过设置外部端子的工序、和检查工序等，也可以制造半导体装置1(参照图3(A)～图3(C))。还有，也可以将两个以上的第2半导体封装200搭载在一个第1半导体封装100上，由此也可以制造有关本实施方式变形例的半导体装置(参照图5(A)以及图5(B))。
(第2实施方式)
图8(A)以及图8(B)是用于对适用本发明的有关第2实施方式的半导体装置进行说明的图。还有，在本实施方式中，在可能的范围内也可以适用已经说明的内容。
有关本实施方式的半导体装置，包括第1以及第2半导体封装100、200以及焊锡60。对于这些内容也可以适用已经说明的内容的任一个。将第2半导体封装200搭载在第1半导体封装100上。有关本实施方式的半导体装置，如图8(A)以及图8(B)所示，也可以将2个第2半导体封装200搭载在1个第1半导体封装100上。或者，也可以将一个第2半导体封装200搭载在一个第1半导体封装100上(参照图3(A))。而且，通过焊锡60，将第1焊盘12与第2焊盘32电连接。
并且，有关本实施方式的半导体装置，仅在第2基板30的角部，用树脂72覆盖每个焊锡60(参照图8(A)以及图8(B))。按照先前的说明，有关本实施方式的半导体装置，形成将第2半导体封装搭载在第1密封装置100上的结构。这时，力被施加在第1焊盘12与第2焊盘32之间所设置的焊锡60上。特别在第2基板30的角部附近，很大的力被施加在焊锡60上。这时，在有关本实施方式的半导体装置中，仅在第2基板30的角部，用树脂72覆盖焊锡60。这样，可以只对应力容易集中的区域加固焊锡60，采用最低限量的树脂就可以提高半导体装置的可靠性。
有关本实施方式的半导体装置，按照上述构成。下面，对其制造方法进行说明。有关本实施方式的半导体装置的制造方法，包括预备第1以及第2半导体封装100、200的步骤。半导体装置的制造方法，包括如下步骤：按照第1半导体芯片20与第2半导体封装200重叠且第1焊盘12与第2焊盘32相对的样子，将第2半导体封装200搭载在第1半导体封装100上。半导体装置的制造方法，包括如下步骤：在配置于第2基板30角部的每个第2焊盘32和与该焊盘相对的每个第1焊盘12之间设置焊锡和热固化性树脂。半导体装置的制造方法，包括如下步骤：在配置于第2基板30角部以外区域的每个第2焊盘32和与该焊锡相对的每个第1焊盘12之间设置焊锡。半导体装置的制造方法包括如下步骤：加热焊锡以及热固化性树脂，形成将每个第1焊盘12与每个第2焊盘32电连接的导电部(焊锡60)，并且，形成覆盖在第2基板30的角部配置的多个导电部(焊锡60)的每一个的树脂72。详细讲，通过加热焊锡，让焊锡熔化，形成将每个第1焊盘12和每个第2焊盘32电连接的导电部(焊锡60)。并且，通过加热热固化性树脂，使该热固化性树脂固化的同时让该树脂向外侧移动，这样形成覆盖配置在第2基板30的角部的多个导电部(焊锡60)的每一个的树脂72。
(第3实施方式)
图9(A)以及图9(B)是用于对适用本发明的有关第3实施方式的半导体装置进行说明的图。还有，在可能的范围内也可以适用已经说明的内容。
有关本实施方式的半导体装置，包括第1以及第2半导体封装100、200以及焊锡60。对于这些内容也可以适用已经说明的内容的任一个。但是，在本实施方式中，第2半导体封装200的第2基板30的外形是长方形。将第2半导体封装200搭载在第1半导体封装100上。有关本实施方式的半导体装置，如图9(A)以及图9(B)所示，也可以将2个第2半导体封装200搭载在1个第1半导体封装100上。或者，也可以将一个第2半导体封装200搭载在一个第1半导体封装100上(图中未画出)。而且，通过焊锡60，将第1焊盘12与第2焊盘32电连接。
有关本实施方式的半导体装置，仅在第2基板30的短边的端部，用树脂74覆盖焊锡60(参照图9(A)以及图9(B))。还有，此时也可以用树脂74覆盖仅在第2基板30的每个短边的端部的2个以上(在图9(A)和图9(B)中为2个)的焊锡60。另外，也可以用树脂74覆盖在每个短边端部配置的全部的焊锡60。或者，也可以用树脂74仅覆盖在每个短边端部配置的一个焊锡60(图中没有画出)。按照先前的说明，有关本实施方式的半导体装置，形成将第2半导体封装200搭载在第1密封装置100上的结构。此时，力被施加在第1焊盘12与第2焊盘32之间所设置的焊锡60上。特别当第2基板30的外形是长方形时，在第2基板30外部的短边端部附近，很大的力被施加在焊锡60上。此时，在有关本实施方式的半导体装置中，仅在第2基板30外形短边的端部，用树脂74覆盖焊锡60。这样，可以只对应力容易集中的区域加固焊锡60，采用最低限量的树脂就可以提高半导体装置的可靠性。
有关本实施方式的半导体装置，按照上述构成。下面，对其制造方法进行说明。有关本实施方式的半导体装置的制造方法，包括预备第1以及第2半导体封装100、200的步骤。还有，在有关本实施方式的半导体装置的制造方法中，第2半导体封装200的第2基板30的外形为长方形。半导体装置的制造方法包括如下步骤：按照第1半导体芯片20与第2半导体封装200重叠且第1焊盘12与第2焊盘32相对的样子，将第2半导体封装200搭载在第1半导体封装100上。半导体装置的制造方法，包括如下步骤：将焊锡和热固化性树脂设置在配置于第2基板30角部的每个第2焊盘32和与该焊盘相对的每个第1焊盘12之间。半导体装置的制造方法，包括：将焊锡设置在配置在第2基板30的角部以外区域的每个第2焊盘32与该焊锡相对的每个第1焊盘12之间。半导体装置的制造方法包括如下步骤：加热焊锡以及热固化性树脂，形成将每个第1焊盘12与每个第2焊盘32电连接的导电部(焊锡60)，并且，形成覆盖在第2基板30的角部配置的多个导电部(焊锡60)的每一个的树脂74。详细讲，通过加热焊锡，让该焊锡熔化，形成将每个第1焊盘12和每个第2焊盘32电连接的导电部(焊锡60)。因而，通过对热固化性树脂加热，使该热固化性树脂固化的同时让该树脂向外侧移动，这样，形成覆盖配置在第2基板30的短边端部的多个导电部(焊锡60)中的每一个的树脂74。
最后，作为应用本发明实施方式的半导体装置的电子设备，分别表示为在图10中的笔记本电脑2000和图11中的移动电话机。
还有，本发明，并不限定于上述实施方式，可以进行各种变形。比如，本发明，包括与在实施方式中说明的构成实质上相同的构成(比如，功能、方法、以及结果相同的构成，或者目的以及效果相同的构成)。另外，本发明，包括将在实施方式中所说明构成的非本质部分置换后的构成。另外，本发明包括：取得与在实施方式中说明的构成相同作用效果的构成，或者，能够达到相同目的的构成。另外，本发明包括将公知技术添加到实施方式所说明的构成中的构成。

Claims (10)

1.一种半导体装置，其特征在于，包括：
第1半导体封装，其包括第1基板和第1半导体芯片，所述第1基板具有多个第1焊盘，所述第1半导体芯片具有电极，在将所述第1半导体芯片的形成有所述电极的面与所述第1基板对置的情况下，所述第1半导体芯片被安装在所述第1基板的形成了所述多个第1焊盘的面上；
第2半导体封装，其包括具有多个第2焊盘的第2基板、在所述第2基板上与形成了所述多个第2焊盘的面相反的面上搭载的第2半导体芯片、和密封所述第2半导体芯片的密封部，按照与所述第1半导体芯片重叠，且所述多个第1焊盘与所述多个第2焊盘分别相面对的样子被搭载在所述第1基板上；和
焊锡，其被设置在所述第1基板以及所述第2基板之间，将所述多个第1焊盘与所述多个第2焊盘分别电连接；
只是在所述第1基板的角部，用树脂覆盖所述焊锡。
2.一种半导体装置，其特征在于，包括：
第1半导体封装，其包括第1基板和第1半导体芯片，所述第1基板具有多个第1焊盘，所述第1半导体芯片具有电极，在将所述第1半导体芯片的形成有所述电极的面与所述第1基板对置的情况下，所述第1半导体芯片被安装在所述第1基板的形成了所述多个第1焊盘的面上；
第2半导体封装，其包括具有多个第2焊盘的第2基板、在所述第2基板上与形成了所述多个第2焊盘的面相反的面上搭载的第2半导体芯片、和密封所述第2半导体芯片的密封部，按照与所述第1半导体芯片重叠，且所述多个第1焊盘与所述多个第2焊盘分别相面对的样子被搭载在所述第1基板上；和
焊锡，其被设置在所述第1基板以及所述第2基板之间，将所述多个第1焊盘与所述多个第2焊盘分别电连接；
只是在所述第2基板的角部，用树脂覆盖所述焊锡。
3.一种半导体装置，其特征在于，包括：
第1半导体封装，其包括第1基板和第1半导体芯片，所述第1基板具有多个第1焊盘，所述第1半导体芯片具有电极，在将所述第1半导体芯片的形成有所述电极的面与所述第1基板对置的情况下，所述第1半导体芯片被安装在所述第1基板的形成了所述多个第1焊盘的面上；
第2半导体封装，其包括具有多个第2焊盘的第2基板、在所述第2基板上与形成了所述多个第2焊盘的面相反的面上搭载的第2半导体芯片、和密封所述第2半导体芯片的密封部，按照与所述第1半导体芯片重叠，且所述多个第1焊盘与所述多个第2焊盘分别相面对的样子被搭载在所述第1基板上；和
焊锡，其被设置在所述第1基板以及所述第2基板之间，将所述多个第1焊盘与所述多个第2焊盘分别电连接；
所述第2基板的外形是长方形；
仅在沿所述第2基板的短边的边部，用树脂覆盖所述焊锡。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的半导体装置，其特征在于，
在所述第1半导体封装上，搭载两个以上的所述第2半导体封装。
5.一种电路基板，其特征在于，安装有权利要求1～4中任一项所述的半导体装置。
6.一种电子设备，其特征在于，具有权利要求1～4中任一项所述的半导体装置。
7.一种半导体装置的制造方法，其特征在于，包括：
准备第1半导体封装的步骤，所述第1半导体封装包括第1基板和第1半导体芯片，所述第1基板具有多个第1焊盘，所述第1半导体芯片具有电极，在将所述第1半导体芯片的形成有所述电极的面与所述第1基板对置的情况下，所述第1半导体芯片被安装在所述第1基板的形成了所述多个第1焊盘的面上；
准备第2半导体封装的步骤，所述第2半导体封装包括具有多个第2焊盘的第2基板、在所述第2基板上与形成了所述多个第2焊盘的面相反的面上搭载的第2半导体芯片、和密封所述第2半导体芯片的密封部；
将所述第2半导体封装搭载在所述第1半导体封装上的步骤，按照让所述第1半导体芯片与所述第2半导体封装重叠，并且所述多个第1焊盘与所述多个第2焊盘分别相面对的样子进行搭载；
设置焊锡和热固化性树脂的步骤，在配置在所述第1基板的角部的所述多个第1焊盘和与其分别相面对的所述多个第2焊盘之间进行设置；
设置焊锡的步骤，在配置在所述第1基板的角部之外的区域的所述多个第1焊盘和与其分别相面对的所述多个第2焊盘之间进行设置；
然后，加热所述焊锡以及所述热固化性树脂，让所述焊锡熔化，形成将所述多个第1焊盘与所述多个第2焊盘分别电连接的导电部，并且，让所述热固化性树脂固化，让其向外侧移动，形成分别覆盖在所述第1基板的角部上配置的多个所述导电部的树脂部。
8.一种半导体装置的制造方法，其特征在于，包括：
准备第1半导体封装的步骤，所述第1半导体封装包括第1基板和第1半导体芯片，所述第1基板具有多个第1焊盘，所述第1半导体芯片具有电极，在将所述第1半导体芯片的形成有所述电极的面与所述第1基板对置的情况下，所述第1半导体芯片被安装在所述第1基板的形成了所述多个第1焊盘的面上；
准备第2半导体封装的步骤，所述第2半导体封装包括具有多个第2焊盘的第2基板、在所述第2基板上与形成了所述多个第2焊盘的面相反的面上搭载的第2半导体芯片、和密封所述第2半导体芯片的密封部；
将所述第2半导体封装搭载在所述第1半导体封装上的步骤，按照让所述第1半导体芯片与所述第2半导体封装重叠，并且所述多个第1焊盘与所述多个第2焊盘分别相面对的样子进行搭载；
设置焊锡和热固化性树脂的步骤，在配置在所述第2基板的角部的所述多个第2焊盘和与其分别相面对的所述多个第1焊盘之间进行设置；
设置焊锡的步骤，在配置在所述第2基板的角部之外的区域的所述多个第2焊盘和与其分别相面对的所述多个第1焊盘之间进行设置；
然后，加热所述焊锡以及所述热固化性树脂，让所述焊锡熔化，形成将所述多个第1焊盘与所述多个第2焊盘分别电连接的导电部，并且，让所述热固化性树脂固化，让其向外侧移动，形成分别覆盖在所述第2基板的角部上配置的多个所述导电部的树脂部。
9.一种半导体装置的制造方法，其特征在于，包括：
准备第1半导体封装的步骤，所述第1半导体封装包括第1基板和第1半导体芯片，所述第1基板具有多个第1焊盘，所述第1半导体芯片具有电极，在将所述第1半导体芯片的形成有所述电极的面与所述第1基板对置的情况下，所述第1半导体芯片被安装在所述第1基板的形成了所述多个第1焊盘的面上；
准备第2半导体封装的步骤，所述第2半导体封装包括具有多个第2焊盘且外形成长方形的第2基板、在所述第2基板上与形成了所述多个第2焊盘的面相反的面上搭载的第2半导体芯片、和密封所述第2半导体芯片的密封部；
将所述第2半导体封装搭载在所述第1半导体封装上的步骤，按照让所述第1半导体芯片与所述第2半导体封装重叠，并且所述多个第1焊盘与所述多个第2焊盘分别相面对的样子进行搭载；
设置焊锡和热固化性树脂的步骤，在配置在沿所述第2基板的短边的边部的所述多个第2焊盘和与其分别相面对的所述多个第1焊盘之间进行设置；
设置焊锡的步骤，在配置在沿所述第2基板的短边的部边之外的区域的所述多个第2焊盘和与其分别相面对的所述多个第1焊盘之间进行设置；
然后，加热所述焊锡以及所述热固化性树脂，让所述焊锡熔化，形成将所述多个第1焊盘与所述多个第2焊盘分别电连接的导电部，并且，让所述热固化性树脂固化，让其向外侧移动，形成分别覆盖在沿所述第2基板的短边的边部上配置的多个所述导电部的树脂部。
10.根据权利要求7～10中任一项所述的半导体装置的制造方法，其特征在于，在1个所述第1半导体封装上搭载2个以上的所述第2半导体封装。
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100874923B1 (ko) 2007-04-02 2008-12-19 삼성전자주식회사 멀티 스택 패키지, 이의 제조 방법 및 이를 제조하기 위한반도체 패키지 금형
US8247267B2 (en) * 2008-03-11 2012-08-21 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Wafer level IC assembly method
US8896126B2 (en) * 2011-08-23 2014-11-25 Marvell World Trade Ltd. Packaging DRAM and SOC in an IC package
JP6091053B2 (ja) * 2011-09-14 2017-03-08 キヤノン株式会社 半導体装置、プリント回路板及び電子製品
US10111322B2 (en) 2016-12-09 2018-10-23 International Business Machines Corporation Implementing reworkable strain relief packaging structure for electronic component interconnects

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5598036A (en) * 1995-06-15 1997-01-28 Industrial Technology Research Institute Ball grid array having reduced mechanical stress
CN1277737A (zh) * 1998-09-09 2000-12-20 精工爱普生株式会社 半导体装置及其制造方法、电路基板和电子装置
US6285079B1 (en) * 1998-06-02 2001-09-04 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor device employing grid array electrodes and compact chip-size package
CN1343007A (zh) * 2000-09-05 2002-04-03 精工爱普生株式会社 半导体装置及其制造方法,电路基板及电子设备
US20020079577A1 (en) * 1999-12-03 2002-06-27 Ho Tony H. Advanced electronic package

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5222014A (en) 1992-03-02 1993-06-22 Motorola, Inc. Three-dimensional multi-chip pad array carrier
US5659203A (en) * 1995-06-07 1997-08-19 International Business Machines Corporation Reworkable polymer chip encapsulant
US5994166A (en) * 1997-03-10 1999-11-30 Micron Technology, Inc. Method of constructing stacked packages
TW434767B (en) * 1998-09-05 2001-05-16 Via Tech Inc Package architecture of ball grid array integrated circuit device
JP3532450B2 (ja) 1999-04-15 2004-05-31 シャープ株式会社 Ｂｇａ型半導体パッケージの実装構造およびその実装方法
JP3668074B2 (ja) 1999-10-07 2005-07-06 松下電器産業株式会社 半導体装置およびその製造方法
US6700209B1 (en) * 1999-12-29 2004-03-02 Intel Corporation Partial underfill for flip-chip electronic packages
US6916682B2 (en) * 2001-11-08 2005-07-12 Freescale Semiconductor, Inc. Semiconductor package device for use with multiple integrated circuits in a stacked configuration and method of formation and testing
JP2003318361A (ja) * 2002-04-19 2003-11-07 Fujitsu Ltd 半導体装置及びその製造方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5598036A (en) * 1995-06-15 1997-01-28 Industrial Technology Research Institute Ball grid array having reduced mechanical stress
US6285079B1 (en) * 1998-06-02 2001-09-04 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor device employing grid array electrodes and compact chip-size package
CN1277737A (zh) * 1998-09-09 2000-12-20 精工爱普生株式会社 半导体装置及其制造方法、电路基板和电子装置
US20020079577A1 (en) * 1999-12-03 2002-06-27 Ho Tony H. Advanced electronic package
CN1343007A (zh) * 2000-09-05 2002-04-03 精工爱普生株式会社 半导体装置及其制造方法,电路基板及电子设备

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