JP2003261473A - トルクセン誘導体 - Google Patents
トルクセン誘導体Info
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Abstract
用に適した有機物質を提供する。 【解決手段】 本発明者らは、トルクセン(truxene)
に適切な化学修飾を施すことにより、高いガラス転移温
度の他、優れた電子輸送能、発光性能等、多様な機能を
持たせることができることを見出した。特に、トルクセ
ンの5位、10位および15位をアルキル化またはアル
コキシ化することにより、化学修飾が容易となることが
分かった。本発明のトルクセン誘導体の好ましい例を化
学構造式により示す。本発明のトルクセン誘導体は、E
L素子用材料のみならず、固体レーザー用発光体、フォ
トレジスト、超耐熱性構造材料等、あらゆる用途への応
用が期待できる。 【化9】
Description
およびそれを用いたエレクトロルミネッセンス(EL)
素子に関する。
「EL素子」という場合がある。)は、従来、主として
ディスプレイへの応用が試みられてきたが、最近は、そ
れ以外にも、屋内照明やレーザー光源等、様々な用途へ
の応用が検討されている。これに伴い、有機材料を使用
した有機EL素子が注目を集めている。有機物質は無機
物質に比べて多様な化学修飾が可能であるため、適切な
分子設計により、EL素子が必要とする物性および機能
を発現することができると考えられるためである。
ため、高い耐熱性が必要である。特に、車載ディスプレ
イ等、高温となる可能性がある環境においてEL素子を
用いる場合は、耐熱性が重要な要素となる。また、EL
素子を屋内照明やレーザー光源に応用する場合は、さら
に大量のジュール熱が発生することが予測されるため、
より高い耐熱性が要求される。このように、EL素子の
耐熱性の向上は工業的に重要である。
に、成形加工が容易であると言う理由により、アモルフ
ァスガラス状態の有機薄膜として用いられる。したがっ
て、高い耐熱性を有する有機EL素子を作製するために
は、有機材料が高いガラス転移温度を有することが必要
である。
くつかのπ電子共役系分子が報告されているが、そのほ
とんどは、ガラス転移温度が100℃以下または100
℃近辺と低い。このため耐熱性に優れるEL素子の作製
は困難であった。
目的は、耐熱性に優れ、有機EL素子用材料等への使用
に適した有機物質を提供することである。
を解決するために、下記構造式で表されるトルクセン
(truxene)に注目し、鋭意研究を重ねた。このトルク
センは、[R. Seka and W.Kellermann, Chem. Ber., 75,
1730 (1942). ]に記載の化合物である。
め、ガラス状態を形成しない。このため、従来は、EL
素子用材料としては不適であると思われてきた。また、
トルクセンは各種溶媒への溶解性が低いため、化学修飾
を施して各種材料へ応用することは困難であるとされて
いた。
な化学修飾を施すことにより、高いガラス転移温度の
他、優れた電子輸送能、発光性能等、多様な機能を持た
せることができることを見出した。特に、トルクセン骨
格の5位、10位および15位をアルキル化またはアル
コキシ化することにより、無置換のトルクセンと比較し
て各種溶媒への溶解性が著しく向上し、多様な化学修飾
を容易に施せるようになることがわかった。
一般式(1)で表される。
は異なり、水素、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アル
キル基、または炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルコ
キシ基であり、A1〜A3は、それぞれ同一であるかまた
は異なり、水素、ハロゲン、ヒドロキシ基、炭素数1〜
6の直鎖もしくは分枝アルキル基、炭素数1〜6の直鎖
もしくは分枝アルコキシ基、アミノ基、ボリル基(ただ
し、前記アミノ基およびボリル基は、1個以上の置換基
で置換されていても良く、それらの置換基は同一である
かまたは異なり、ヒドロキシ基、または1〜4個の4〜
7員環からなる飽和もしくは不飽和の単環もしくは縮合
環(それぞれの環はヘテロ原子を含んでいてもいなくて
も良く、そして、前記環は1個以上の置換基でさらに置
換されていても良く、それらの置換基は同一であるかま
たは異なり、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル
基、または、任意に炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝ア
ルキル基で置換されたフェニル基である。)であ
る。)、または1〜10個の4〜7員環からなる飽和も
しくは不飽和の単環もしくは縮合環(ただし、それぞれ
の環はヘテロ原子を含んでいてもいなくても良く、そし
て、1個以上の置換基でさらに置換されていても良く、
それらの置換基は同一であるかまたは異なり、炭素数1
〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基、炭素数1〜6の直
鎖もしくは分枝アルコキシ基、または電子吸引基であ
る。)であり、そして、R1〜R6の全てが水素である場
合は、A1〜A3のうち少なくとも一つは、水素以外の上
記原子または原子団である。
子量化合物と比較して極めて優れた耐熱性を発揮するこ
とができる。このため、本発明のトルクセン誘導体は、
EL素子用材料等への使用に適しており、その他にも、
固体レーザー用発光体、フォトレジスト等、あらゆる用
途への応用が期待できる。さらに、本発明のトルクセン
誘導体の耐熱性は、その構造によっては、一般的な高分
子材料を上回り、スーパーエンジニアリングプラスチッ
クと同等またはそれ以上である。このため、本発明のト
ルクセン誘導体は、超耐熱性構造材料としての使用も期
待できる。本発明のトルクセン誘導体のガラス転移温度
は、EL素子用材料として使用する場合は、150℃以
上であることが好ましく、より好ましくは170℃以
上、特に好ましくは200℃以上、最適には220℃以
上である。前記ガラス転移温度の上限は特に限定されな
いが、通常400℃以下である。
なくとも一つが、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アル
キル基、または炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルコ
キシ基であることが、無置換のトルクセンと比較して分
子の平面性が低くガラス状態が安定であるため好まし
い。R1〜R6は、それぞれ、メチル基、エチル基、n-プ
ロピル基、sec-プロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル
基、tert-ブチル基、メトキシ基、またはエトキシ基で
あることがより好ましい。
下記一般式(2)で表されるトルクセン誘導体が、正孔
輸送能または発光特性に優れ好ましい。
または異なり、水素、ヒドロキシ基、または1〜4個の
4〜7員環からなる飽和もしくは不飽和の単環もしくは
縮合環(それぞれの環はヘテロ原子を含んでいてもいな
くても良く、そして、前記環は1個以上の置換基でさら
に置換されていても良く、それらの置換基は同一である
かまたは異なり、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アル
キル基、または、任意に炭素数1〜6の直鎖もしくは分
枝アルキル基で置換されたフェニル基である。)であ
る。各N原子のトルクセン骨格に対する付加位置は任意
であるが、トルクセン骨格のフェニル−フェニル結合か
ら見てパラ位(すなわち、2位、7位および12位)に
結合していることがより好ましい。
それぞれ、フェニル基、o−トルイル基、m−トルイル
基、p−トルイル基、メシチル基、o−ビフェニル基、m
−ビフェニル基、p−ビフェニル基、1−ナフチル基、
2−ナフチル基、アントリル基、ピロリル基、チエニル
基、フリル基、フルオレニル基または9,9−ジメチル
フルオレニル基であることがより好ましい。なお、特に
示さない限り、環状置換基の結合位置は任意であり、例
えば「チエニル基」とは、2−チエニル基および3−チ
エニル基の両方を含む。
下記(A−1)〜(A−6)のいずれかの式で表される
トルクセン誘導体が特に好ましい。
は、A1〜A3が、それぞれ、フェニル基、ピリジル基、
ピロリル基、チエニル基、フリル基またはオキサジアゾ
イル基(ただし、それぞれの基は1個以上の置換基でさ
らに置換されていてもよく、それらの置換基は同一であ
るかまたは異なり、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝ア
ルキル基、または電子吸引基である。)であることが、
電子輸送能または正孔阻止能に優れるため好ましい。そ
のようなトルクセン誘導体のうち、下記一般式(3)で
表されるトルクセン誘導体がより好ましい。
は異なり、水素または電子吸引基である。
吸引基は、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、
炭素数1〜6のアルコキシスルホニル基(ただし、その
アルキル基は1個以上のハロゲンで置換されていても良
い。)、炭素数1〜6のアルキルスルホニル基(ただ
し、そのアルキル基は1個以上のハロゲンで置換されて
いても良い。)、ホルミル基、カルボキシル基、炭素数
1〜6のアルカノイル基、炭素数1〜6のアルコキシカ
ルボニル基、および1個以上のハロゲンで置換された炭
素数1〜6のアルキル基からなる群から選択されること
が好ましく、フッ素、シアノ基、ニトロ基およびトリフ
ルオロメチル基からなる群から選択されることがさらに
好ましい。
うち、下記(B−1)〜(B−4)のいずれかの式で表
されるトルクセン誘導体が特に好ましい。
のうち、下記一般式(4)で表されるトルクセン誘導体
が、電子輸送能に優れるため好ましい。
かまたは異なり、水素、ヒドロキシ基、または1〜4個
の4〜7員環からなる飽和もしくは不飽和の単環もしく
は縮合環(それぞれの環はヘテロ原子を含んでいてもい
なくても良く、そして、前記環は1個以上の置換基でさ
らに置換されていても良く、それらの置換基は同一であ
るかまたは異なり、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝ア
ルキル基、または、任意に炭素数1〜6の直鎖もしくは
分枝アルキル基で置換されたフェニル基である。)であ
る。各B原子のトルクセン骨格に対する付加位置は任意
であるが、トルクセン骨格のフェニル−フェニル結合か
ら見てパラ位(すなわち、2位、7位および12位)に
結合していることがより好ましい。
12は、それぞれ、フェニル基、o−トルイル基、m−トル
イル基、p−トルイル基、メシチル基、o−ビフェニル
基、m−ビフェニル基、p−ビフェニル基、1−ナフチル
基、2−ナフチル基、アントリル基、ピロリル基、チエ
ニル基、フリル基、フルオレニル基または9,9−ジメ
チルフルオレニル基であることがより好ましい。
下記(C−1)または(C−2)のいずれかの式で表さ
れるトルクセン誘導体が特に好ましい。
のうち、下記一般式(5)で表されるトルクセン誘導体
が、特にガラス転移温度が高く、発光特性に優れ好まし
い。
たは異なり、水素、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝ア
ルキル基、または炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アル
コキシ基である。
れぞれ、メチル基、エチル基、n-プロピル基、sec-プロ
ピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、
メトキシ基、またはエトキシ基であることがより好まし
い。
下記(D−1)または(D−2)のいずれかの式で表さ
れるトルクセン誘導体が特に好ましい。
下記(6)〜(8)のいずれかの式で表されるトルクセ
ン誘導体は、その他のトルクセン誘導体の合成原料とし
て特に適している。また、これら自体をEL素子用材料
等に使用することもできる。
トルクセンの5位、10位および15位のうち少なくと
も一つを炭素数1〜6のアルキル基または炭素数1〜6
のアルコキシ基で置換する工程を含むことが好ましい。
このような置換を行うと、無置換のトルクセンと比較し
て各種溶媒への溶解度が著しく向上し、さらなる化学修
飾を容易に行うことができる。
ルクセン誘導体を少なくとも一種類含むEL素子であ
る。本発明のEL素子は、この構成を有することによ
り、高い耐熱性を有し、車載ディスプレイ等、高温とな
る可能性がある環境での使用に適している。また、ディ
スプレイ用以外にも、屋内照明やレーザー光源等、様々
な用途への応用が期待できる。
入層および発光層のうち少なくとも一つが、前記式
(2)のトルクセン誘導体を少なくとも一種類含むこと
が好ましく、正孔輸送層がそのトルクセン誘導体を含む
ことが特に好ましい。
正孔阻止層および発光層のうち少なくとも一つが、下記
のトルクセン誘導体を少なくとも一種類含むことが好ま
しい。そのトルクセン誘導体とは、前記式(1)のトル
クセン誘導体のうち、A1〜A3が、それぞれ、フェニル
基、ピリジル基、ピロリル基、チエニル基、フリル基ま
たはオキサジアゾイル基(ただし、それぞれの基は1個
以上の置換基でさらに置換されていてもよく、それらの
置換基は同一であるかまたは異なり、炭素数1〜6の直
鎖もしくは分枝アルキル基または電子吸引基である。)
であるトルクセン誘導体であり、特に前記式(3)のト
ルクセン誘導体である。このトルクセン誘導体は、正孔
阻止層に含まれることが特に好ましい。
よび発光層のうち少なくとも一つが、前記式(4)のト
ルクセン誘導体を少なくとも一種類含むことが好まし
く、電子輸送層がそのトルクセン誘導体を含むことが特
に好ましい。
電子輸送層、正孔阻止層および発光層のうち少なくとも
一つが、前記式(5)のトルクセン誘導体を少なくとも
一種類含むことが好ましく、発光層がそのトルクセン誘
導体を含むことが特に好ましい。
て説明する。
合成方法は特に限定されないが、例えば以下に示す方法
によって合成することができる。
の誘導体)は、例えば、下記スキーム1に従って合成す
ることができる。しかし、この方法はアミノ置換トルク
センの合成法の一例に過ぎず、この方法に限定されるも
のではない。
まず、母体化合物のトルクセン(式(9))を準備す
る。トルクセンは、例えば、[E.V. Dhmlow and T. Kell
e, Synthetic communications, 27 (1997) 2021.]に記
載の方法により、すなわち、1−インダノンを酢酸およ
び濃塩酸とともに加熱することにより、簡単に、しかも
高収率で得ることができる。反応温度および時間は特に
限定されないが、例えば、100℃で20時間反応させ
る。
15位を必要に応じアルキル化またはアルコキシ化す
る。前記アルキル化の方法は特に限定されないが、トル
クセンと類似の化学構造を有するジフェニルメタンやフ
ルオレンのアルキル化と同様に行うことができる。例え
ば、トルクセンの5位、10位および15位の水素をブ
チルリチウムにより脱離させてカルボアニオンを生成さ
せ、次に、化学式R25Iで表されるヨウ化アルキル(た
だし、R25は炭素数1〜6の直鎖または分枝アルキル基
である)を加えてアルキル化して、式(10)のトルク
セン誘導体を得ることができる。前記アルコキシ化の方
法も特に限定されないが、ベンジル位のアルコキシ化に
通常用いられる方法、例えばハロゲン化の後アルコーリ
シス反応させる方法等を使用することができる。
のトリヨードトルクセン誘導体を得る。トルクセン
(9)をアルキル化またはアルコキシ化せず、直接ヨウ
素化しても良いが、アルキル化またはアルコキシ化した
後にヨウ素化することが、ヨウ素化反応を容易に行うこ
とができ好ましい。ヨウ素化の方法は特に限定されず、
公知の方法を用いることができるが、例えば、式(1
0)の誘導体と、ヨウ素、濃硫酸、酸化剤としての過ヨ
ウ素酸、および溶媒としての酢酸と水を混合して加熱す
ることにより行うことができる。この場合の反応温度は
特に限定されないが、例えば90℃程度である。反応時
間も特に限定されないが、例えば2〜10時間である。
を、式(12)で表されるアミンとカップリング反応さ
せて、式(13)で表される目的化合物を得ることがで
きる。Ar13およびAr14として用いることのできる置
換基は、前記Ar1〜Ar6と同じであり、例えば、フェ
ニル基、p-トルイル基、p-ビフェニル基、1-ナフチル
基または9,9−ジメチル−フルオレン−2−イル基等
である。また、Ar13およびAr14は同一でも異なって
いても良い。
れず、公知の方法を用いることができるが、例えば、以
下のようにして行うことができる。すなわち、まず、式
(11)のトルクセン誘導体および式(12)のアミン
と、炭酸カリウム、銅紛および18−クラウン−6等の
触媒と、メシチレン等の溶媒とを混合し、窒素雰囲気下
で加熱攪拌する。反応温度および反応時間は特に限定さ
れず、反応させる化合物次第で適宜選択することができ
るが、例えば170℃で10時間反応させる。そして、
溶媒を留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで精製し、トルエンとヘキサンの混合溶媒から
再結晶して、式(13)のアミノ置換トルクセンを得
る。
般式(3)の誘導体)は、例えば、下記スキーム2に従
って合成することができる。しかし、この方法はフェニ
ル置換トルクセンの合成法の一例に過ぎず、この方法に
限定されるものではない。
まず、式(11)のトルクセン誘導体を準備する。これ
は前記の方法により合成することができる。つぎに、こ
れを、式(14)のフェニルボロン酸誘導体と、いわゆ
るスズキカップリング法によりカップリング反応させ
て、式(15)で表される目的化合物を得ることができ
る。X4として用いることのできる置換基は、前記X1〜
X3と同じである。
れないが、例えば、以下のようにして行うことができ
る。すなわち、まず、式(11)のトルクセン誘導体お
よび式(14)のフェニルボロン酸誘導体と、テトラキ
ス(トリフェニルホスフェイン)パラジウム(0)等の
触媒とを、テトラハイドロフラン(THF)と2規定(1
M)の炭酸カリウム水溶液との混合溶液中に加える。つ
ぎに、その混合物を窒素置換条件下で還流攪拌すること
により反応させる。反応時間は特に限定されないが、例
えば4〜20時間である。そして、溶媒を留去した後、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、
トルエンとヘキサンの混合溶媒から再結晶して、式(1
5)のフェニル置換トルクセンを得る。
式(4)の誘導体)は、例えば、下記スキーム3にした
がって合成することができる。しかし、この方法はボリ
ル置換トルクセンの合成法の一例に過ぎず、この方法に
限定されるものではない。
まず、式(11)のトルクセン誘導体を準備する。これ
は前記の方法により合成することができる。つぎに、こ
れをリチオ化した後、式(16)のフッ化ホウ素誘導体
とカップリング反応させて、式(17)で表される目的
化合物を得ることができる。Ar15およびAr16として
用いることのできる置換基は、前記Ar7〜Ar12と同
じであり、例えば、メシチル基または9−アントリル基
等である。また、Ar15およびAr16は同一でも異なっ
ていても良い。
うにして行うことができる。すなわち、まず、式(1
1)のトルクセン誘導体を、窒素置換条件下でテトラハ
イドロフランに溶解させ、tert-ブチルリチウムを加え
た後、式(16)のフッ化ホウ素誘導体を加え攪拌し、
反応させる。反応温度および反応時間は、特に限定され
ないが、例えば−78〜20℃で1〜5時間反応させ
る。そして、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで精製し、トルエンとヘキサンの混合
溶媒から再結晶して、式(17)のボリル置換トルクセ
ンを得る。
記一般式(5)の誘導体)は、例えば、下記スキーム4
に従って合成することができる。しかし、この方法はト
ルクセニル置換トルクセンの合成法の一例に過ぎず、こ
の方法に限定されるものではない。
まず、式(18)のトルクセン誘導体を準備する。R26
は炭素数1〜6の直鎖または分枝アルキル基である。こ
れは、前記式(10)の誘導体と同様にトルクセンをア
ルキル化して製造することができる。
て、式(19)のモノブロモトルクセン誘導体を得る。
トルクセンを直接臭素化しても良いが、アルキル化また
はアルコキシ化の後に臭素化することが、臭素化反応を
容易に行うことができ好ましい。臭素化の方法は特に限
定されず、公知の方法を用いることができるが、例え
ば、以下のようにして行うことができる。すなわち、ま
ず、式(18)の誘導体と、等モル量の臭素とを、クロ
ロホルムと酢酸との混合溶媒中に加え、加熱攪拌して反
応させる。反応温度および時間は特に限定されないが、
例えば−20〜70℃で1〜5時間反応させる。その
後、反応混合物を水で洗浄し、溶媒を留去し、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーにより精製して、式(1
9)の誘導体を得ることができる。
体を得る。この操作は、例えば以下のようにして行うこ
とができる。すなわち、まず、式(19)の誘導体を、
窒素置換条件下で、無水テトラハイドロフランに溶か
す。つぎに、これにtert-ブチルリチウムを加え、続い
てトリメチルホウ酸を加え、攪拌して反応させる。反応
温度は特に限定されないが、例えば、−78〜20℃で
ある。反応時間も特に限定されないが、例えば1〜5時
間である。そして、反応混合物に水を加え、溶媒を留去
して、式(20)の誘導体を得ることができる。
れは、前記の方法により合成することができる。
の誘導体とを前記スズキカップリング法によりカップリ
ング反応させて、式(21)で表される目的化合物のト
ルクセニル置換トルクセンを得ることができる。
誘導体を用いたEL素子について説明する。
いが、例えば、図1〜図6の各図に示す形態が可能であ
る。
このEL素子は、ガラス基板1の上に、陽極2、発光層
3および陰極4がこの順番で積層されている。陽極2お
よび陰極4には、それぞれ導線9が接続されており、導
線9の他端は電源(図示せず)に接続されている。
を示す。このEL素子は、ガラス基板1の上に、陽極
2、正孔輸送層5、発光層3および陰極4がこの順番で
積層されている。それ以外は図1のEL素子と同様であ
る。
の一例を示す。このEL素子は、ガラス基板1の上に、
陽極2、正孔注入層6、正孔輸送層5、発光層3および
陰極4がこの順番で積層されている。それ以外は図1の
EL素子と同様である。
の一例を示す。このEL素子は、ガラス基板1の上に、
陽極2、正孔輸送層5、発光層3、電子輸送層7および
陰極4がこの順番で積層されている。それ以外は図1の
EL素子と同様である。
の一例を示す。このEL素子は、ガラス基板1の上に、
陽極2、正孔輸送層5、発光層3、正孔阻止層8、電子
輸送層7および陰極4がこの順番で積層されている。そ
れ以外は図1のEL素子と同様である。
の一例を示す。このEL素子は、ガラス基板1の上に、
陽極2、正孔注入層6、正孔輸送層5、発光層3、電子
輸送層7および陰極4がこの順番で積層されている。そ
れ以外は図1のEL素子と同様である。
定されないが、例えば、ITO電極等が好ましい。陰極
4も特に限定されないが、例えば、マグネシウム−銀合
金電極、アルミニウム電極、カルシウム電極、リチウム
/アルミニウム積層電極、またはフッ化リチウム/アル
ミニウム積層電極等が好ましい。
挟まれた各層のうち、少なくとも一層が、本発明のトル
クセン誘導体を含む。前記各層は、本発明のトルクセン
誘導体のみで構成されていても良いが、それ以外の物質
を適宜含んでいても良い。また、本発明のトルクセン誘
導体以外の物質のみで構成された層が存在しても良い。
前記各層は、前記一般式(2)〜(5)のトルクセン誘
導体をその特性に応じて含んでいることが好ましい。そ
れぞれのトルクセン誘導体の好ましい用途は、前記の通
りである。
トルクセン誘導体以外で好ましい物質としては、例え
ば、下記の物質がある。なお、以下に記載する学術文献
は、すべて本発明者らの発明に係る文献である。
ルアミン誘導体が好ましく、より好ましくは、4,
4’,4”−トリス(3−メチルフェニルフェニルアミ
ノ)トリフェニルアミン(以下、略して「m−MTDAT
A」と呼ぶことがある)[Chem. Lett., 1989,1145.]や、
4,4’,4”−トリス(1−ナフチルフェニルアミノ)
トリフェニルアミン(以下、略して「1−TNATA」と
呼ぶことがある)および4,4’,4”−トリス(2−
ナフチルフェニルアミノ)トリフェニルアミン(以下、
略して「2−TNATA」と呼ぶことがある)[J. Lumi
n., 72-74, 985 (1997).]や、4,4’,4”−トリス
[ビフェニル−2−イル(フェニル)アミノ]トリフェニ
ルアミン(以下、略して「o−PTDATA」と呼ぶこと
がある)、4,4’,4”−トリス[ビフェニル−3−
イル(フェニル)アミノ]トリフェニルアミン(以下、略
して「m−PTDATA」と呼ぶことがある)および4,
4’,4”−トリス[ビフェニル−4−イル(3−メチ
ルフェニル)アミノ]トリフェニルアミン(以下、略して
「p−PMTDATA」と呼ぶことがある)[Synth. Me
t., 111, 387(2000)]や、4,4’、4”−トリス[9,
9−ジメチル−2−フルオレニル(フェニル)アミノ]
トリフェニルアミン(以下、略して「TFATA」と呼ぶ
ことがある)[Chem. Lett., 2000, 1834.]等である。以
下に、上記各化合物の構造式を示す。
に優れる発光材料が好ましく、より好ましくは、例え
ば、N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチルフ
ェニル)−[1,1’−ビフェニル]−4,4’−ジアミ
ン(以下、略して「TPD」と呼ぶことがある)およびN,
N’−ジ(1−ナフチル)−N,N’−ジフェニル−[1,
1’−ビフェニル]−4,4’−ジアミン(以下、略し
て「α-NPD」と呼ぶことがある)や、N,N’−ジ(ビフェ
ニル−4−イル)−N,N’−ジフェニル−[1,1’−
ビフェニル]−4,4’−ジアミン(以下、略して「p-BP
D」と呼ぶことがある)[Synth. Met., 111, 387 (2000)]
や、N,N’−ビス(9,9−ジメチル−2−フルオレニ
ル)−N,N’−ジフェニル−9,9−ジメチルフルオレ
ン−2,7−ジアミン(以下、略して「PFFA」と呼ぶこと
がある)[Mater. Sci. Eng. B, 85, 135 (2001)]や、
N,N,N’,N’−テトラキス(9,9−ジメチル−2−
フルオレニル)−[1,1’−ビフェニル]−4,4’−
ジアミン(以下、略して「FFD」と呼ぶことがある)[Che
m. Lett., 2000, 1834.]や、トリ[パラターフェニル−
4−イル]アミン(以下、略して「p-TTA」と呼ぶことがあ
る)[Synth. Met., 91, 243 (1997).]や、N,N−ビス
(9,9−ジメチル−2−フルオレニル)アニリン(以
下、略して「F2PA」と呼ぶことがある)や、1,3,5−
トリス[4−(4−メチルフェニルフェニルアミノ)フ
ェニル]ベンゼン(以下、略して「p-MTDAPB」と呼ぶこと
がある)[J. Mater. Chem., 3, 319 (1993).]等であ
る。以下に、上記各化合物の構造式を示す。
る物質であり、例えば次のようにして合成することがで
きる。すなわち、まず、アニリンと、9,9−ジメチル
−2−ヨードフルオレンを、銅と炭酸カリウムと18−
クラウン−6の存在下において加熱反応させる。そし
て、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製
し、トルエンとヘキサンの混合溶媒から再結晶させてF
2PAを得ることができる。
して好ましいのは、例えば、トリス(8−キノリノラ
ト)アルミニウム(以下、略して「Alq3」と呼ぶことが
ある)や、1,3,5−トリス(4−ターシャリーブチ
ルフェニル―1,3,4−オキサジアゾリル)ベンゼン
(以下、略して「TPOB」と呼ぶことがある)[J. Lumin.,
72-74, 985 (1997).]や、化合物1,3,5-トリス[5-
(ジメシチルボリル)−2−チエニル]ベンゼン(以下、
略して「TMB-TB」と呼ぶことがある)[Chem. Lett., 200
1, 614.]や、5,5’−ビス(ジメシチルボリル)−
2,2’−ビチオフェン(以下、略して「BMB-2T」と呼ぶ
ことがある)および5,5’’−ビス(ジメシチルボリ
ル)−2,2’:5’,2’’−ターチオフェン(以
下、略して「BMB-3T」と呼ぶことがある)[J. Am. Chem.
Soc., 120, 9714 (1999).]等である。以下に上記各化合
物の構造式を示す。
ント色素を含んでいても良く、本発明のトルクセン誘導
体は、前記発光性ドーパント色素のホスト層として用い
ることもできる。前記発光性ドーパント色素は特に限定
されないが、例えば、ジメチルキナクリドン、ジエチル
キナクリドン、ルブレン、ペリレン、クマリン−6等が
好ましい。
されず、ガラス基板1の上に、各構成要素を、公知の方
法により順番に積層させて製造することができる。積層
方法は特に限定されないが、発光層3、正孔輸送層5、
正孔注入層6、電子輸送層7および正孔阻止層8に対し
ては、例えば、真空蒸着法、スピンキャスト法によるコ
ーティング(スピンコート法)、または、溶融状態を冷
却する方法等が好ましい。本発明のトルクセン誘導体
は、上記のような方法で加工することにより、均一・透
明なアモルファスガラスを容易に形成し、また、そのガ
ラス状態が、長期間にわたって極めて安定に持続する。
陽極2および陰極4の積層方法も特に限定されず、公知
の方法を用いることができる。
されず、ディスプレイ用等、公知の用途に使用すること
ができる。また、それ以外にも、前記の通り、本発明の
EL素子は優れた耐熱性を有しているから、様々な用途
への応用が期待できる。
しかし、本発明は以下の実施例に限定されない。核磁気
共鳴(NMR)スペクトルは、商品名Inova-750(Varia
n社、1H測定時750MHz)を用いて測定した。ケミ
カルシフトは百万分率(ppm)で表している。内部標
準0ppmには、テトラメチルシラン(TMS)を用い
た。結合定数(J)は、ヘルツで示しており、略号s、
d、t、q、mおよびbrは、それぞれ、一重線(singl
et)、二重線(doublet)、三重線(triplet)、四重線(quar
tet)、多重線(multiplet)および広幅線(broad)を表す。
質量分析(MS)は、商品名RP(Voyager社)を用い、MAL
DI-TOF/MS法により行った。元素分析は、商品名MT-5
(柳本製作所)を用いて行った。カラムクロマトグラフ
ィー分離には、シリカゲル(商品名ワコーゲルC−30
0、和光純薬工業株式会社)またはアルミナ(商品名Al
uminium oxide 90 active basic (0.063-0.200)、Merck
社)を用いた。全ての化学物質は、試薬級であり、東京
化成工業株式会社、和光純薬工業株式会社、ナカライテ
スク株式会社、関東化学株式会社およびAldrich社から
購入した。
トルクセン誘導体を合成した。
l三口フラスコに、220mlの酢酸と、130 mlの濃塩酸と、
50 g (380 mmol)の1−インダノン(和光純薬工業株式
会社より購入)とを加え、100 ℃で20時間加熱攪拌し
た。得られた懸濁液を水1リットルに流し込み反応を停
止させた。析出した固体を濾取し、これを熱エタノー
ル、熱トルエンにより洗浄し、目的化合物である黄色固
体38 g (収率:92 %)を得た。
5−ヘキサメチルトルクセン(HMTr、式(6)) 攪拌装置、冷却管および窒素導入管を備え付けた500 ml
三口フラスコに、100mlのTHFに懸濁させたトルクセン8g
(23 mmol)を加え、0 ℃に保った。これに1.6 M n-ブ
チルリチウム ヘキサン溶液を45 ml加え、この後、ヨウ
化メチル10 gを加えた。さらに1.6 M n-ブチルリチウム
ヘキサン溶液を45 ml加え、この後、ヨウ化メチル10 g
を加えた。THFを留去した後、得られた固体をアルミナ
カラムクロマトグラフィーにより精製して、目的化合物
である白色固体7.8 g(収率:80%)を得た。この化合物
の物性値を以下に示す。
C, 92.97; H, 7.31%. 計算値 C33H30N 3: C, 92.91; H,
7.09%. 1H NMR (THF-d8): δ (ppm) 8.31 (3H, d), 7.
55 (3H, d), 7.44 (3H, t), 7.39 (3H, t), 1.89 (18H,
s).
5,5,10,10,15,15−ヘキサメチルトルク
セン(TI-HMTr、式(7)) 攪拌装置、冷却管および窒素導入管を備え付けた500 ml
三口フラスコに、120mlの酢酸と、30 mlの水と、5.0 g
(20 mmol)のヨウ素と、1.1 g (2.6 mmol)のHMTr(原料
2)と、1.5 gのオルト過ヨウ素酸とを加えた。つぎ
に、濃硫酸3 mlを加え、この混合溶液を90℃で7時間加
熱攪拌した。得られた溶液をトルエンで抽出し、5%亜硫
酸水素ナトリウムで洗浄した後、アルミナカラムクロマ
トグラフィーおよび再結晶により生成し、目的化合物で
ある白色固体 1.6 g(収率 77%)を得た。この化合物の
物性値を以下に示す。
(ppm) 7.98 (3H, d), 7.85 (3H, s), 7.74 (3H, dd),
1.82 (18H, s).
ロキシボリル)−5,5,10,10,15,15−ヘ
キサメチルトルクセン(TB-HMTr) 攪拌装置、冷却管および窒素導入管を備え付けた500 ml
三口フラスコに、充分に水を取り除いたTHF 300 mlと、
TI-HMTr(原料3) 6.0 g (7.5 mmol)とを加え、-78℃
に保った。これに、tert-ブチルリチウム ヘプタン溶液
(1.6 M) 30 mlを加え、その後トリメチルホウ酸 10 g
(96 mmol)を加えて反応させた。反応後、水を加え、溶
媒を留去し、目的化合物である白色固体 4g(収率 90
%)を得た。
0,15,15−ヘキサメチルトルクセン(Br-HMTr、
式(8)) 攪拌装置、冷却管、窒素導入管を備え付けた500 ml三口
フラスコに、クロロホルム:酢酸=1:1混合溶媒500
mlと、HMTr(原料2) 8.0 g (19 mmol)と、臭素 3 g
(19 mmol)とを加え、70℃で7時間加熱攪拌した。得られ
た溶液を水で洗浄した後、溶媒を留去し、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにより精製し、目的化合物であ
る白色固体 4.0 (収率 42%)を得た。以下にこの化合物
の物性値を示す。
(ppm) 8.30 (1H, d), 8.27 (1H, s), 8.15 (1H, d), 7.
66 (1H, s), 7.56-7.53 (3H, m), 7.44-7.38 (4H, m),
1.88 (12H, s), 1.85 (6H, s).
5,5,10,10,15,15−ヘキサメチルトルク
セン(B-HMTr) 攪拌装置、冷却管および窒素導入管を備え付けた500 ml
三口フラスコに、充分に水を取り除いたTHF 300 mlと、
Br-HMTr(原料5) 4.0 g (7.9 mmol)とを加え、-78℃
に保った。これに、tert-ブチルリチウム ヘプタン溶液
(1.6 M) 7.4 mlを加え、その後トリメチルホウ酸 5.0
g (47 mmol)を加えて反応させた。反応後、水を加え、
溶液を留去し、目的化合物である白色固体 3.3 g(収率
90%)を得た。
ェニルアミノ)−5,5,10,10,15,15−ヘ
キサメチルトルクセン(TDATr、式(A−1)) 攪拌装置、冷却管および窒素導入管を備え付けた300 ml
三口フラスコに、メシチレン100 mlと、TI-HMTr(原料
3) 1.9 g (2.4 mmol)と、ジフェニルアミン 4.0 g (2
4 mmol)と、炭酸カリウム 8.0 gと、銅粉 2.0 gと、1
8−クラウン−60.3 gとを加え、170 ℃で12 時間加熱
攪拌した。得られた溶液をトルエンで抽出し、無機物を
濾過して除き、溶媒を留去した後、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーおよび再結晶により精製を行い、目的
化合物である白色固体850 mg (収率55%)を得た。以下
にこの化合物の物性値を示す。
C, 89.08; H, 6.27; N, 4.55%. 計算値 C69H57N3: C, 8
9.28; H, 6.19; N, 4.53%. 1H NMR (THF-d8): δ (pp
m) 8.09 (3H, d), 7.32 (3H, s), 7.25 (12H, t), 7.13
(12H, d), 7.02 (3H, d), 7.00 (6H, t), 1.74 (18H,
s).
−(9,9−ジメチルフルオレン−2−イル)−N−フ
ェニル]アミノ}−5,5,10,10,15,15−
ヘキサメチルトルクセン(TFATr、式(A−6)) 攪拌装置、冷却管および窒素導入管を備え付けた300 ml
三口フラスコに、メシチレン100 mlと、TI-HMTr(原料
3) 2.0 g (2.5 mmol)と、N−(9,9−ジメチルフル
オレン−2−イル)アニリン 10 g (35 mmol)と、炭酸
カリウム 8.5 gと、銅粉 2.2 gと、18−クラウン−6
0.4 gとを加え、170 ℃で12 時間加熱攪拌した。得ら
れた溶液をトルエンで抽出し、無機物を濾過して除き、
溶媒を留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーおよび再結晶により精製を行い、目的化合物である白
色固体700 mg (収率21 %)を得た。以下にこの化合物
の物性値を示す。
C, 90.06; H, 6.40; N, 3.23%. 計算値 C96H81N3: C,
90.31; H,6.39; N, 3.21%. 1H NMR (THF-d8): δ (ppm)
8.09(3H, d), 7.65 (3H,d), 7.63 (3H,d), 7.39 (3H,
d), 7.38 (3H,s), 7.35 (3H,s), 7.27 (6H,d), 7.25 (3
H,t), 7.20 (6H,d), 7.20 (3H,t), 7.07 (3H,d), 7.04
(3H,d), 7.02(3H,t).
フルオロフェニル)−5,5,10,10,15,15
−ヘキサメチルトルクセン(F-TPTr、式(B−2)) 攪拌装置、冷却管および窒素導入管を備え付けた300 ml
三口フラスコに、THF100 lmと、4−フルオロフェニル
ボロン酸 2.5 g (17.8 mmol)と、TI-HMTr(原料3)
1.5 g (1.87 mmol)と、テトラキス(トリフェニルホス
フェイン)パラジウム(0)0.5 gとを加え、つぎに、
2規定(1M)の炭酸カリウム水溶液 35 mlを加えた。
この溶液を70℃で8時間加熱攪拌した。この後、水層を
分離し、溶媒を留去した後、シリカゲルクロマトグラフ
ィーおよび再結晶により精製し、目的化合物である白色
固体 700 mg (収率53 %)を得た。以下にこの化合物の
物性値を示す。
C, 86.15; H, 5.55%. 計算値 C51H39F3: C, 86.41; H,
5.55, F, 8.04%. 1H NMR (CDCl3): δ (ppm) 8.37 (3
H, d), 7.72 (3H, s), 7.70 (6H, dd), 7.64 (3H, d),
7.20 (6H, t), 1.97 (18H, s).
シアノフェニル)−5,5,10,10,15,15−
ヘキサメチルトルクセン(CN-TPTr、式(B−3)) 攪拌装置、冷却管および窒素導入管を備え付けた500 ml
三口フラスコに、THF200 mlと、TB-HMTr(原料4) 4 g
(7 mmol)と、4−ブロモベンゾニトリル 8.2g (45 mmo
l)と、テトラキス(トリフェニルホスフェイン)パラジ
ウム(0)0.8 gとを加え、この後、2規定(1M)の炭
酸カリウム水溶液 60 mlを加えた。この溶液を70度で8
時間加熱攪拌した。この後、水層を分離し、溶媒を留去
した後、シリカゲルクロマトグラフィーおよび再結晶に
より精製し、目的化合物である白黄色固体 700 mg (収
率53 %)を得た。以下にこの化合物の物性値を示す。
8.60; H, 5.32; N, 5.78%, 計算値 C54H39N3: C, 88.8
6; H, 5.39; N, 5.76%. 1H NMR (CDCl3): δ (ppm) 8.
42 (3H,d), 7.84 (6H, d), 7.80 (6H, d), 7.78 (3H,
s), 7.71 (3H, dd), 1.98 (18H,s).
シチルボリル)−5,5,10,10,15,15−ヘ
キサメチルトルクセン(TMBTr、式(C−1)) 攪拌装置、冷却管および窒素導入管を備え付けた300 ml
三口フラスコに、充分に水を取り除いたTHF 300 mlと、
TI-HMTr(原料3) 2.4 g (3.0 mmol) とを加え、-78℃
に保った。これにtert-ブチルリチウム ヘプタン溶液
(1.6 M) 16 mlを加え、その後ジメシチルボリルフルオ
ライド 5.0 g (18 mmol)を加えて反応させた。この後、
溶媒を留去し、シリカゲルクロマトグラフィーおよび再
結晶により精製し、目的化合物である白色固体 260 mg
(収率18 %)を得た。以下にこの化合物の物性値を示
す。
C, 89.48; H, 8.00%. 計算値 C89H93B3: C, 89.23; H,
8.00; B, 2.33% 1H NMR (CDCl3): δ (ppm) 8.22 (3H,
d), 7.71 (3H, s), 7.54 (3H, d), 6.86 (12H, s), 2.
34 (18H, s), 2.07 (36H, s),1.81 (18H, s).
5,10,10,15,15−ヘキサメチルトルクセン
−2−イル)−5,5,10,10,15,15−ヘキ
サメチルトルクセン(TTrTr、式(D−1)) 攪拌装置、冷却管および窒素導入管を備え付けた300 ml
三口フラスコに、THF100 lmと、B-HMTr(原料6) 2.6g
(4.7 mmol)と、TI-HMTr(原料3) 0.8 g (1.0 mmol)
と、テトラキス(トリフェニルホスフェイン)パラジウ
ム(0)0.3 gとを加え、つぎに、2規定(1M)の炭酸
カリウム水溶液 35 mlを加えた。この溶液を70度で8時
間加熱攪拌した。この後、水層を分離し、溶媒を留去し
た後、シリカゲルクロマトグラフィーおよび再結晶によ
り精製し、目的化合物である白色固体 1.05 g (収率62
%)を得た。以下にこの化合物の物性値を示す。
C, 92.85; H, 6.73%. 計算値 C132H1 14: C, 93.24; H,
6.76%. 1H NMR (CDCl3): δ (ppm) 8.50 (3H, d), 8.4
5 (3H,d), 8.36 (3H, d), 8.34 (3H, d), 7.94 (3H,
s), 7.92 (3H, s), 7.88 (3H, d), 7.86 (3H, d), 7.59
(3H, d), 7.58 (3H, d), 7.48-7.40 (12H, m), 2.09
(18H, s), 2.03 (18H, s), 1.97 (18H, s), 1.93 (18H,
s).
セン誘導体のガラス転移温度(Tg)、融点(Tm)お
よびAg/Ag+参照電極に対する酸化電位(Eox)または
還元電位(Ered)を測定した。結果を表1に示す。な
お、ガラス転移温度は示差走査熱量測定により測定し、
酸化還元電位はサイクリックボルタンメトリーにより決
定した。
物は、全て190℃以上の高いガラス転移温度を示し
た。これは、従来の低分子量化合物と比較して極めて優
れた耐熱性を有することを表す。特に、実施例6の化合
物は、358℃という非常に高いガラス転移温度を示し
た。これは、実施例6の化合物の耐熱性が、一般的な高
分子材料を上回り、スーパーエンジニアリングプラスチ
ックと同等またはそれ以上であることを表す。また、実
施例1および2の化合物は低い酸化電位を示し、このこ
とは、EL素子の正孔輸送層用材料に適することを表
す。実施例3の化合物は高い酸化電位を示し、このこと
は、正孔阻止層用材料に適することを表す。実施例4〜
6の化合物は低い還元電位を示し、このことは、電子輸
送層用材料に適することを表す。
収率を測定したところ、いずれも0.5以上の高い蛍光
量子収率を示した。したがって、実施例1〜6の化合物
は、発光材料としても優れた機能を発揮することが期待
できる。特に、実施例6の化合物は、0.8という非常
に高い蛍光量子収率を示した。
を用いてEL素子を作製し、その性能を評価した。
以下の手順により、図6に示す構造を有するEL素子を
作製した。すなわち、まず、ガラス基板1の上にITO
ガラス電極により陽極2が形成されている基盤を準備し
た。次に陽極2の上に、前記化合物TFATAを真空蒸
着法により厚さ30nm(300オングストローム)と
なるように堆積させ、正孔注入層6を形成した。このと
き、正孔注入層6の一部がガラス基板1の表面に接触す
るようにした。そして、正孔注入層6の上に、実施例1
の化合物を真空蒸着法により厚さ20nm(200オン
グストローム)となるように堆積させ、正孔輸送層5を
形成した。さらに、正孔輸送層5の上に、N,N−ジメ
チルキナクリドンと前記化合物Alq3を体積比0.0
08:1で共蒸着し厚さ30nm(300オングストロ
ーム)となるように堆積させ、発光層3を形成した。さ
らに、発光層3の上にAlq3を真空蒸着法により厚さ
20nm(200オングストローム)となるように堆積
させ、電子輸送層7を形成した。そして、電子輸送層7
の上にフッ化リチウムを厚さ0.5nm(5オングスト
ローム)堆積させ、さらにその上にアルミニウムを厚さ
100nm(1000オングストローム)堆積させるこ
とにより陰極4(背面電極)とし、EL素子を作製し
た。
と陰極4との間に2.5ボルト以上の電圧を印加する
と、N,N−ジメチルキナクリドンの発光に基づく緑色
の発光が得られた。最高輝度は12Vで125,900 c
d m-2、300 cd m-2 発光時における発光効率は 3.
6 lm W-1、量子収率は1.65%であり、高輝度・高
効率の緑色発光が得られた。
以下の手順により、図4に示す構造を有するEL素子を
作製した。すなわち、まず、ガラス基板1の上にITO
ガラス電極により陽極2が形成されている基盤を準備し
た。次に陽極2の上に、実施例2の化合物をスピンコー
ト法により厚さ70nm(700オングストローム)と
なるように堆積させ、正孔輸送層5を形成した。さら
に、正孔輸送層5の上に、N,N−ジメチルキナクリド
ンと前記化合物Alq3を体積比0.008:1で共蒸
着し厚さ40nm(400オングストローム)となるよ
うに堆積させ、発光層3を形成した。さらに、発光層3
の上にAlq3を真空蒸着法により厚さ30nm(30
0オングストローム)となるように堆積させ、電子輸送
層7を形成した。そして、電子輸送層7の上にフッ化リ
チウムを厚さ0.5nm(5オングストローム)堆積さ
せ、さらにその上にアルミニウムを厚さ100nm(1
000オングストローム)堆積させることにより陰極4
(背面電極)とし、EL素子を作製した。
と陰極4との間に2.5ボルト以上の電圧を印加する
と、N,N−ジメチルキナクリドンの発光に基づく緑色
の発光が得られた。最高輝度は10.5Vで86、400
cd m-2、300 cd m-2 発光時における発光効率は
3.6 lm W-1、量子収率は1.65%であり、高輝度
・高効率の緑色発光が得られた。
以下の手順により、図5に示す構造を有するEL素子を
作製した。すなわち、まず、ガラス基板1の上にITO
ガラス電極により陽極2が形成されている基板を準備し
た。つぎに、陽極2の上に、前記化合物TFATAを真空蒸
着法により厚さ50nm(500オングストローム)と
なるように堆積させ、正孔輸送層5を形成した。このと
き、正孔輸送層5の一部がガラス基板1の表面に接触す
るように形成した。さらに、正孔輸送層5の上に、前記
化合物PFFAを真空蒸着法により厚さ20nm(20
0オングストローム)となるように堆積させ、発光層3
を形成した。そして、発光層3の上に、実施例3の化合
物を真空蒸着により厚さ10nm(100オングストロ
ーム)となるように堆積させ、正孔阻止層8を形成し
た。さらに、正孔阻止層8の上に、前記化合物Alq3
を真空蒸着法により厚さ20nm(200オングストロ
ーム)となるように堆積させ、電子輸送層7を形成し
た。そして、電子輸送層7の上に、マグネシウムと銀の
合金(体積比10:1)よりなる面積4平方ミリメート
ルの電極を形成して陰極4(背面電極)とし、EL素子
を作製した。
と陰極4との間に3ボルト以上の電圧を印加すると、化
合物PFFAの発光に基づく緑色の発光が得られた。さ
らに、4ボルト以上の電圧を印加することにより濃青色
発光が確認された。最高輝度は13Vで2800 cd
m-2、300 cd m-2 発光時における発光効率は 0.19 lm
W -1、量子収率は0.7%であり、高輝度・高効率の濃
青色発光が得られた。
を用い、以下の手順により、図5に示す構造を有するE
L素子を作製した。すなわち、まず、ガラス基板1の上
にITOガラス電極により陽極2が形成されている基盤
を準備した。つぎに、陽極2の上に、ポリスチレンスル
ホネートをドープしたポリ(3,4−エチレンジオキシ
チオフェン)(バイエル株式会社、製品番号BAYTRON P
AI 4083)を、スピンコート法により厚さ50nm(5
00オングストローム)となるように堆積させ、正孔輸
送層5を形成した。そして、正孔輸送層5の上に、実施
例6の化合物をスピンコート法により厚さ70nm(7
00オングストローム)となるように堆積させ、発光層
3を形成した。さらに、発光層3の上に、実施例5の化
合物を真空蒸着法により厚さ12nm(120オングス
トローム)となるように堆積させ、正孔阻止層8を形成
した。さらに、正孔阻止層8の上に前記化合物Alq3
を真空蒸着法により厚さ2nm(20オングストロー
ム)となるように堆積させ、電子輸送層7を形成した。
そして、電子輸送層7の上にフッ化リチウムを厚さ0.
5nm(5オングストローム)堆積させ、さらにその上
にアルミニウムを厚さ100nm(1000オングスト
ローム)堆積させることにより陰極4(背面電極)と
し、EL素子を作製した。
と陰極4との間に3.5ボルト以上の電圧を印加する
と、実施例6の化合物の発光に基づく青紫色の発光が得
られた。最高輝度は8.8Vで1530 cd m-2、1 cd
m-2 発光時における発光効率は0.23 lm W-1、量子
収率は0.80%であり、高輝度・高効率の青紫色発光
が得られた。
いて、耐熱性の評価を行った。すなわち、上記各素子
を、13Pa(0.1Torr)の減圧下に設置して定電流
駆動し、温度を変化させながら素子の輝度を測定した。
図7にこの結果を示す。なお、発光輝度は、室温での輝
度を100%とした相対値で示している。
熱安定性に優れ、200℃近い高温でも室温とほぼ同程
度の発光輝度を示した。さらに、一度加熱した素子を室
温に戻して再び測定しても、加熱前と比較して輝度は低
下していなかった。このことから、上記各素子は、20
0℃前後に加熱しても劣化しなかったことが分かる。こ
のように、本発明のトルクセン誘導体を用いることによ
り、200℃近辺でも安定に駆動するEL素子を作製す
ることが可能となる。
明してきたが、本発明は上記実施例に限定されるもので
はなく、本発明の範囲を逸脱しない限りにおいてあらゆ
る変形や変更が可能である。
誘導体は、従来の低分子量化合物と比較して極めて高い
ガラス転移温度および優れた耐熱性を発揮することがで
きる。このため、本発明のトルクセン誘導体は、有機E
L素子用材料等への使用に適している。本発明のEL素
子は、車載ディスプレイ等、高温となる可能性がある環
境での使用に適し、高温でも劣化しないため、優れた発
光効率を発揮することができ、かつ、ディスプレイ用以
外にも、屋内照明やレーザー光源等、様々な用途への応
用が期待できる。さらに、本発明のトルクセン誘導体の
耐熱性は、その構造によっては、一般的な高分子材料を
上回り、スーパーエンジニアリングプラスチックと同等
またはそれ以上である。このため、本発明のトルクセン
誘導体は、超耐熱性構造材料としての使用も期待でき
る。その他、本発明のトルクセン誘導体は、固体レーザ
ー用発光体、フォトレジスト等、あらゆる用途への応用
が期待でき、その工業的価値は多大である。
ある。
面図である。
面図である。
面図である。
面図である。
すグラフである。
Claims (24)
- 【請求項1】 下記一般式(1)で表されるトルクセン
誘導体。 【化1】 ただし、式中、 R1〜R6は、それぞれ同一であるかまたは異なり、水
素、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基、また
は炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルコキシ基であ
り、 A1〜A3は、それぞれ同一であるかまたは異なり、水
素、ハロゲン、ヒドロキシ基、炭素数1〜6の直鎖もし
くは分枝アルキル基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝
アルコキシ基、アミノ基、ボリル基(ただし、前記アミ
ノ基およびボリル基は、1個以上の置換基で置換されて
いても良く、それらの置換基は同一であるかまたは異な
り、ヒドロキシ基、または1〜4個の4〜7員環からな
る飽和もしくは不飽和の単環もしくは縮合環(それぞれ
の環はヘテロ原子を含んでいてもいなくても良く、そし
て、前記環は1個以上の置換基でさらに置換されていて
も良く、それらの置換基は同一であるかまたは異なり、
炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基、または、
任意に炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基で置
換されたフェニル基である。)である。)、または1〜
10個の4〜7員環からなる飽和もしくは不飽和の単環
もしくは縮合環(ただし、それぞれの環はヘテロ原子を
含んでいてもいなくても良く、そして、1個以上の置換
基でさらに置換されていても良く、それらの置換基は同
一であるかまたは異なり、炭素数1〜6の直鎖もしくは
分枝アルキル基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アル
コキシ基、または電子吸引基である。)であり、 そして、R1〜R6の全てが水素である場合は、A1〜A3
のうち少なくとも一つは、水素以外の上記原子または原
子団である。 - 【請求項2】 R1〜R6のうち少なくとも一つが、炭素
数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基、または炭素数
1〜6の直鎖もしくは分枝アルコキシ基である請求項1
に記載のトルクセン誘導体。 - 【請求項3】 R1〜R6が、それぞれ、メチル基、エチ
ル基、n-プロピル基、sec-プロピル基、n-ブチル基、se
c-ブチル基、tert-ブチル基、メトキシ基、またはエト
キシ基である請求項1に記載のトルクセン誘導体。 - 【請求項4】 下記一般式(2)で表される請求項1か
ら3のいずれかに記載のトルクセン誘導体。 【化2】 ただし、式中、 Ar1〜Ar6は、それぞれ同一であるかまたは異なり、
水素、ヒドロキシ基、または1〜4個の4〜7員環から
なる飽和もしくは不飽和の単環もしくは縮合環(それぞ
れの環はヘテロ原子を含んでいてもいなくても良く、そ
して、前記環は1個以上の置換基でさらに置換されてい
ても良く、それらの置換基は同一であるかまたは異な
り、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基、また
は、任意に炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基
で置換されたフェニル基である。)である。 - 【請求項5】 Ar1〜Ar6が、それぞれ、フェニル
基、o−トルイル基、m−トルイル基、p−トルイル基、
メシチル基、o−ビフェニル基、m−ビフェニル基、p−
ビフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、アン
トリル基、ピロリル基、チエニル基、フリル基、フルオ
レニル基または9,9−ジメチルフルオレニル基である
請求項4に記載のトルクセン誘導体。 - 【請求項6】 下記(A−1)〜(A−6)のいずれか
の式で表される請求項5に記載のトルクセン誘導体。 【化3】 - 【請求項7】 A1〜A3が、それぞれ、フェニル基、ピ
リジル基、ピロリル基、チエニル基、フリル基またはオ
キサジアゾイル基(ただし、それぞれの基は1個以上の
置換基でさらに置換されていてもよく、それらの置換基
は同一であるかまたは異なり、炭素数1〜6の直鎖もし
くは分枝アルキル基、または電子吸引基である。)であ
る請求項1から3のいずれかに記載のトルクセン誘導
体。 - 【請求項8】 下記一般式(3)で表される請求項7に
記載のトルクセン誘導体。 【化4】 ただし、式中、X1〜X3は、それぞれ同一であるかまた
は異なり、水素または電子吸引基である。 - 【請求項9】 電子吸引基が、ハロゲン、シアノ基、ニ
トロ基、スルホ基、炭素数1〜6のアルコキシスルホニ
ル基(ただし、そのアルキル基は1個以上のハロゲンで
置換されていても良い。)、炭素数1〜6のアルキルス
ルホニル基(ただし、そのアルキル基は1個以上のハロ
ゲンで置換されていても良い。)、ホルミル基、カルボ
キシル基、炭素数1〜6のアルカノイル基、炭素数1〜
6のアルコキシカルボニル基、および1個以上のハロゲ
ンで置換された炭素数1〜6のアルキル基からなる群か
ら選択される請求項1から3および7から8のいずれか
に記載のトルクセン誘導体。 - 【請求項10】 電子吸引基が、フッ素、シアノ基、ニ
トロ基およびトリフルオロメチル基からなる群から選択
される請求項9に記載のトルクセン誘導体。 - 【請求項11】 下記(B−1)〜(B−4)のいずれ
かの式で表される請求項10に記載のトルクセン誘導
体。 【化5】 - 【請求項12】 下記一般式(4)で表される請求項1
から3のいずれかに記載のトルクセン誘導体。 【化6】 ただし、式中、 Ar7〜Ar12は、それぞれ同一であるかまたは異な
り、水素、ヒドロキシ基、または1〜4個の4〜7員環
からなる飽和もしくは不飽和の単環もしくは縮合環(そ
れぞれの環はヘテロ原子を含んでいてもいなくても良
く、そして、前記環は1個以上の置換基でさらに置換さ
れていても良く、それらの置換基は同一であるかまたは
異なり、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基、
または、任意に炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキ
ル基で置換されたフェニル基である。)である。 - 【請求項13】 Ar7〜Ar12が、それぞれ、フェニ
ル基、o−トルイル基、m−トルイル基、p−トルイル
基、メシチル基、o−ビフェニル基、m−ビフェニル基、
p−ビフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、
アントリル基、ピロリル基、チエニル基、フリル基、フ
ルオレニル基または9,9−ジメチルフルオレニル基で
ある請求項12に記載のトルクセン誘導体。 - 【請求項14】 下記(C−1)または(C−2)のい
ずれかの式で表される請求項13に記載のトルクセン誘
導体。 【化7】 - 【請求項15】 下記一般式(5)で表される請求項1
から3のいずれかに記載のトルクセン誘導体。 【化8】 ただし、式中、 R7〜R24は、それぞれ同一であるかまたは異なり、水
素、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基、また
は炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルコキシ基であ
る。 - 【請求項16】 R7〜R24が、それぞれ、メチル基、
エチル基、n-プロピル基、sec-プロピル基、n-ブチル
基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、メトキシ基、また
はエトキシ基である請求項15に記載のトルクセン誘導
体。 - 【請求項17】 下記(D−1)または(D−2)のい
ずれかの式で表される請求項16に記載のトルクセン誘
導体。 【化9】 - 【請求項18】 下記(6)〜(8)のいずれかの式で
表される請求項1に記載のトルクセン誘導体。 【化10】 - 【請求項19】 トルクセンの5位、10位および15
位のうち少なくとも一つを炭素数1〜6のアルキル基ま
たは炭素数1〜6のアルコキシ基で置換する工程を含む
トルクセン誘導体の製造方法。 - 【請求項20】 請求項1〜18のいずれかに記載のト
ルクセン誘導体を少なくとも一種類含むエレクトロルミ
ネッセンス(EL)素子。 - 【請求項21】 正孔輸送層、正孔注入層および発光層
のうち少なくとも一つが、請求項4〜6のいずれかに記
載のトルクセン誘導体を少なくとも一種類含むEL素
子。 - 【請求項22】 電子輸送層、正孔阻止層および発光層
のうち少なくとも一つが、請求項7〜11のいずれかに
記載のトルクセン誘導体を少なくとも一種類含むEL素
子。 - 【請求項23】 電子輸送層および発光層のうち少なく
とも一つが、請求項12〜14のいずれかに記載のトル
クセン誘導体を少なくとも一種類含むEL素子。 - 【請求項24】 正孔輸送層、電子輸送層、正孔阻止層
および発光層のうち少なくとも一つが、請求項15〜1
7のいずれかに記載のトルクセン誘導体を少なくとも一
種類含むEL素子。
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