JP2003255571A

JP2003255571A - 電子写真感光体塗工装置

Info

Publication number: JP2003255571A
Application number: JP2002060986A
Authority: JP
Inventors: Akira Okawa; 晃大川; Michiharu Narishima; 通晴成島; Yoko Hirai; 陽子平井
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 2002-03-06
Filing date: 2002-03-06
Publication date: 2003-09-10

Abstract

(57)【要約】【課題】感光体を構成する各層の全部または一部の層
をスプレー法で成膜してもディッピング法と同等以上の
良好な塗膜を形成することができ、優れた特性を有し良
好な画像が得られる感光体を製造することができる塗工
装置を提供すること。特に塗工ブース内で発生する異物
による付着欠陥の発生を防止し、塗膜の均一性を向上さ
せるスプレー塗工装置を提供すること。【解決手段】塗工ブース内に、回転可能な基体保持手
段、基体保持手段よりも上方に位置するスプレーガン、
基体保持手段の長手方向の両側にエアーノズルを有する
ことを特徴とする電子写真像担持体用スプレー塗工装
置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、被塗布基体に塗膜
を形成するためのスプレー塗布装置及び塗布方法に関す
る。さらに詳しくは、異物付着欠陥の発生を防止し、塗
膜の均一性を向上させるスプレー塗布装置及び塗布方法
に関するものであり、一般的なスプレー塗装分野にも応
用できる。

【０００２】

【従来の技術】従来技術としては、特開平７−２５６１
６６号公報に、フィルターの目詰まりによって排気ダク
ト内の風速が低下した場合に、風速を検出することな
く、排気能力を増大させて排気ダクト内の風速を一定に
維持できるようにすることを目的として、塗装室内から
排気ファンによって排出される排気中に含まれた塗料ミ
ストをフィルターで捕集する乾式塗装ブースに、塗装室
内に設置された塗装機から噴霧される塗料の消費量を算
出する消費量算出手段と、予め設定された消費量−排気
能力変換テーブルに基づき、前記消費量算出手段で算出
された消費量に応じた排気能力を設定する排気能力設定
手段と、前記排気能力に基づき排気風量を調節する制御
信号を排気風量調節手段に対して出力する制御信号出力
手段とを具備した乾式塗装ブースが記載されている。

【０００３】本発明は、電子写真感光体の塗工方法及び
装置に関し、詳しくは、周りを囲まれた空間内で円筒状
またはシームレス状の基体に塗液をスプレー塗布する、
いわゆる塗工ブースを用いた塗工方法と、この様な塗工
方法を実施するための塗工装置に関するものである。電
子写真感光体は、感光基体の周面に感光体材料を塗布し
て製造される。そして、その塗布方法としては、通常、
感光体材料の塗布液を収容した容器（塗工槽）と基体と
を相対移動させて基体を塗布液中に浸漬させた後引き上
げるディッピング方式が採用される。しかし、ディッピ
ング方式では塗液中に基体を浸漬しなければならないた
め、装置が大型となり塗液も多量に必要となる。また、
感光体の形状も小型で短小なものは適しているが、大型
で長大なものは適さない。この様な問題に対し、ディッ
ピング方式より優れる塗布方式としてスプレー法があ
る。

【０００４】スプレー法は、微小な孔のノズルから塗液
を多数の微粒液滴（ミスト）として吹き出させ回転させ
た基体面に吹付けて成膜する方法であり、必要とする塗
液は少量でよく、感光体の形状による制約が少ない利点
がある。しかし、スプレー法による問題としては、塗布
された塗膜への異物付着があり、これは複写機、プリン
ターの中で使用されたときに黒ポチとか白ポチ状の画像
欠陥として発生し問題となる。本発明者らの研究による
と、この異物の多くはスプレー塗布前の基体にもともと
付着していた異物と、スプレー塗布中に粗大スプレーミ
ストや塗工ブース内に付着したミストカス、ダスト類の
付着によるものであることが判った。

【０００５】塗布前の付着異物は、特に基体の運搬・ハ
ンドリングに伴い付着する異物が主である。塗布中の異
物は、ブース内の吸排気による気流と、基体の回転によ
り生ずる気流により生ずる乱気流により、基体に付着し
なかったオーバーミストの再付着や、ブース内に付着し
たミストカス、ダスト類の付着によるものである。更
に、オーバーミストの捕集用に排気側に設けられたフィ
ルターの目詰りによるブース内風速の低下に伴い、フィ
ルター上に捕集されたミスト、ダスト類の舞い上がりに
よる付着も原因となる。また、ブース内風速が低下する
と、スプレーミストの塗液の溶媒の蒸発が遅くなり、そ
のため、微粒化した塗液の粘度が低下し、塗布面上での
流動性が大きくなり不均一な塗膜の欠陥となる傾向があ
る。この様な欠陥があると、感光体の特性が悪化し、良
好な画像が得られないという問題がある。

【０００６】フィルターの目詰りによる風速低下を防ぐ
方法として、特開平７−２５６１６６号公報に記載の技
術がある。この方法は、排気風量で調節する技術である
が、フィルターの部分的な目詰りが発生した場合、基体
全幅における風速ムラが発生し、これが膜厚ムラとか感
光体特性ムラの原因となる。したがって基体全幅にわた
り均一な風速とする必要がる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問題
点を解消して、感光体を構成する各層の全部または一部
の層をスプレー法で成膜してもディッピング法と同等以
上の良好な塗膜を形成することができ、優れた特性を有
し良好な画像が得られる感光体を製造することができる
塗工装置を提供するものであり、特に塗工ブース内で発
生する異物による付着欠陥の発生を防止し、塗膜の均一
性を向上させるスプレー塗工装置を提供しようとするも
のである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記課題は、本発明の、
（１）「塗工ブース内に、回転可能な基体保持手段、基
体保持手段よりも上方に位置するスプレーガン、基体保
持手段の長手方向の両側にエアーノズルを有することを
特徴とする電子写真像担持体用スプレー塗工装置」、
（２）「前記基体保持手段とエアーノズルとの間隔を調
節可能な手段を有することを特徴とする前記第（１）項
に記載の電子写真像担持体用スプレー塗工装置」、
（３）「少なくとも側面が覆われている塗工ブース内
に、回転可能な基体保持手段、基体保持手段よりも上方
に位置するスプレーガンを有する電子写真像担持体用ス
プレー塗工装置であって、該塗工ブースは部分的に排気
方向に向かい断面積が狭くなっていることを特徴とする
電子写真像担持体用スプレー塗工装置」、（４）「スプ
レーミスト捕集フィルター、あるいはさらに該捕集用フ
ィルターのクリーニング手段を有することを特徴とする
前記第（１）項乃至第（３）項のいずれかに記載の電子
写真像担持体用スプレー塗工装置」、（５）「前記スプ
レーミスト補修用フィルター及び該捕集用フィルターの
クリーニング手段を有する場合において、前記フィルタ
ーの圧力損失を検知する機構と、設定した圧力損失以上
になるとクリーニング手段を作動する機構を有すること
を特徴とする前記第（４）項に記載の電子写真像担持体
用スプレー塗工装置」により達成される。

【０００９】図１は、従来のスプレー塗工の一例を示す
ものであり、塗工ブース（１）内にはワークに付着しな
かったオーバースプレーミストを排気するためと、ブー
ス内部をクリーンに保つために、給気（２）手段からク
リーンなエアーが送られ、排気（３）手段側に排気され
る。基体（４）は基体保持手段に支持され、基体駆動軸
（５）を介して任意の速度に回転できるようになってい
る。スプレーガン（６）は基体（４）に平行してスプレ
ーガン移動軸（７）により移動され、スプレー液（８）
が基体（４）に塗布される。

【００１０】図２はスプレー塗布中に粗大スプレーミス
トや、塗工ブース内に付着したミストカス、ダスト類の
付着原因を示すものであり、基体（４）の回転により生
じる気流と、給排気によるブース内気流がぶつかり、乱
気流が生じ、オーバースプレーミスト（９）が基体側に
も付着する。本発明者によれば、特に大きいオーバース
プレーミスト（９）が乱気流の影響を受け易く基体に付
着し易いことが分かっており、これが塗膜欠陥となる。
また、基体周囲の構造物に付着・固化したオーバースプ
レーミストとか、擦れ部より発生する異物、ダスト類
も、上記乱気流の影響により基体に付着し、塗膜欠陥の
原因となる。

【００１１】本発明者らは、これらの塗膜欠陥の原因お
よびその解決法について鋭意検討等を重ねた結果、塗膜
欠陥のない、良好な塗膜が得られる塗工装置を開発し、
本発明に至った。以下、本発明の電子写真用スプレー塗
工装置について具体的に説明する。図３は、本発明のス
プレー塗工装置の１例を示す図である。図３の装置は、
図１に示す装置と同様に、塗工ブースには、塗工ブース
内に新鮮なエアーを供給する給気手段と、塗工ブース内
のエアおよび基体に付着しなかったスプレーミストを排
気するための排気手段が設けられ、また、塗工ブース内
には、基体の保持手段が回転可能に設けられ、その上方
にスプレーガンが基体の長手方向に移動可能に設けられ
ているものであるが、図３の装置においては、さらに、
エアーノズル（１０）が、基体（４）の長さ方向にわた
り設けられいる。これにより、基体両サイドには離間し
てエアノズル（１０）からのエア噴出によるエアカーテ
ン（１１）が形成可能になっている。この基体（４）と
エアノズル（１０）の横方向離間距離（ａ）は、３００
ｍｍ以内、好ましくは１００〜２００ｍｍとなるように
設定する。本発明においては、このエアカーテン（１
１）を基体両サイドに形成してから、スプレーガンによ
る基体の塗工を行なうことにより、塗工ブース内の構造
物に付着・固化したオーバースプレーミスト、並びに擦
れ部により発生する異物・ダスト類が、エアカーテンに
より仕切られた塗工領域内に迷入するのを防止すると共
に、さらに、ブース内の空気流をエアーカーテンにより
整流し、基体の回転により生ずる乱気流の発生を低減さ
せて、オーバースプレーミストあるいは上記異物等の基
体への再付着を防止する。

【００１２】さらに、本発明においては、この図３の装
置において、エアガンを別途設けて、高圧空気を塗工液
スプレー直前の機体表面に吹き付け除塵を行ってもよい
が、本発明においては、基体保持手段上記とエアノズル
（１０）の間隔を調節可能に設けて、上記エアカーテン
形成用のエアノズル（１０）を用いて、基体表面の除塵
を行なってもよい。これには、図４に示すように上記エ
アノズル（１０）が、例えば、エアーノズル移動ガイド
（１４）等により、基体の長手方向に対し直角方向でか
つ水平方向に移動可能に設ける。これにより、塗工液ス
プレー前においてエアノズル（１０）は、基体側に移動
接近し、基体に直接エアを噴出し、基体の除塵を行うこ
とができる。このエアノズルの移動には、ウオーム・ギ
ア手段等の周知の移動手段を用いることができる。ま
た、エアノズルの移動方向は、基体の長手方向に対し直
角方向でかつ水平方向に移動可能に設けるのみではな
く、これに加えてさらに、上下および／または基体の長
手方向にも移動可能なように設けることができ、このよ
うにすることにより、基体に付着した異物を、より少な
いエアの噴射圧力で、効率的に除去することが可能とな
る。また、基体に対するエア吹き付けによる除塵とエア
カーテンの形成は、エアノズルの噴射方向を調節可能に
することによっても行ないうる。また、上記エアノズル
のエア噴射圧力も、基体表面の異物の付着力等に応じ
て、当然調節可能にすることができる。

【００１３】したがって、本発明のこの態様によれば、
まず、基体（４）を塗工ブース（１）内の基体保持手段
により保持し、基体駆動軸（５）により回転させなが
ら、エアノズル（１０）を基体（４）に接近させてエア
を噴射して基体表面を除塵し、次いでエアノズルを離間
させてエアカーテン（１１）を塗工ブース内に形成さ
せ、基体を基体駆動軸（５）により回転させながら、ス
プレーガン（６）により塗工液を基体表面に吹き付けて
塗工する。

【００１４】従来、塗布前に除塵を行なうには、除塵装
置として、エアノズルとエア供給装置、排気装置および
これらの配管、並びに基体をセットし回転させる機構を
伴う装置が別途必要となっていたが、上記のようにエア
ノズル（１０）を移動可能に、塗工装置内に組み込むこ
とにより、このような除塵装置が不要になると共に、塗
工作業中における基体回転に伴う乱気流発生による、オ
ーバースプレーミストあるいは塗工ブース内に付着した
異物等の基体表面への付着も防止することが可能とな
る。

【００１５】図５は、本発明のスプレー塗工装置の他の
例を示す図である。図５に示される装置は、塗工ブース
（１）は、部分的に排気方向に向かい断面積が次第に狭
くなるような構造を有するものであり、断面積の勾配
は、おおよそ基体保持手段の配置位置から始まるのが望
ましい。塗工ブースをこのように断面積が次第に狭くな
るように構成することにより、基体の回転により生じる
気流と、給排気によるブース内気流とがぶつかることに
より生じる乱気流の発生を防止することができる。した
がって、塗膜欠陥の原因となる、塗工時における基体に
付着しなかったオーバースプレーミスト、および基体周
囲の構造物に付着・固化したオーバースプレーミスト、
並びに擦れ部により発生する異物・ダスト類の基体への
付着を防止できる。この理由は、ブースの断面積が狭く
なることにより、空気流の速度がアップすることによ
り、上記乱気流の発生を抑制することに起因するもので
ある。断面積現象の勾配は、塗布する液の乾燥性と塗工
条件等に応じて、適宜最適なものを設計すればよく、ま
た、排気方向の距離に対する断面積の勾配を直線的に変
化させなくとも同様の効果が得られる。

【００１６】図７は、オーバースプレーミストを捕集す
るためのミスト捕集フィルター（１３）を塗工装置に設
けた例を示す図である。この捕集フィルター（１３）
は、上記図３あるいは図５の装置に設けることができ
る。このミスト捕集フィルター（１３）としては、ミス
ト捕集量及び捕集効率の点から３次元構造のフィルター
が好ましい。しかし、連続して塗工していくと、どの様
なフィルターでも表面に膜が張ったり、表面に詰りが発
生し、その結果、排気量が減少し、ブース内のオーバー
スプレーミスト等の飛散が発生し、塗膜欠陥となり、画
像上の欠陥として発生する。また、ブース内の圧力上昇
により、ブース外へ溶媒を含んだミスト、ガスが漏れ出
し、安全上、作業環境上の問題ともなる。一般的にはフ
ィルターの詰りが発生した時点で、フィルターの交換を
行なっているが、生産上の時間ロス、コストアップにつ
ながる。

【００１７】このようなミスト捕集フィルターの問題点
を解決するために、本発明においては、さらに、ミスト
捕集フィルターのクリーニング手段を設けることができ
る。図７は、ミスト捕集フィルタークリーニング手段と
して、フィルター表面を押圧しながら移動するフィルタ
ークリーニングローラ（１５）を設けた場合を示すが、
該クリーニングローラーは、詰りが発生した時点でフィ
ルター表面を転がすことで、フィルター表面に集中して
発生している膜を破り、あるいは表面の詰りを奥に押し
込み分散させ、フィルターの寿命を延命させることがで
きる。

【００１８】図８は、ミスト捕集フィルタークリーニン
グ手段として、フィルタークリーニングエアースプレー
（１６）及び／またはフィルタークリーニング溶剤スプ
レー（１７）をフィルター上に移動可能に設けた場合を
示すが、これらは、詰りが発生した時点でフィルター表
面にエアあるいは溶剤をスプレーし、フィルター表面に
集中して発生している膜を破り、あるいは表面の詰りを
エアーにより、あるいは溶剤により溶解させて奥に押し
込み分散させ、あるいはフィルター外部に排出させて、
フィルターの詰まりを解消させるものである。

【００１９】図９は、ミスト捕集フィルタークリーニン
グ手段として、フィルター表面上を移動可能に設けフィ
ルタークリニングバキューム（１８）をフィルター表面
上に移動可能に設けた場合を示すが、フィルター上ある
いはフィルター中の詰まりを吸い上げて除去するので、
半永久的にフィルターを使用することができる。

【００２０】本発明の装置においては、さらに図１０に
示すように、圧力損失を検知する機構と、設定した圧力
損失以上になるとクリーニング手段を作動する機構を有
することができる。すなわち具体的には、ミスト捕集フ
ィルターが詰まると、差圧計（１９）がその状態を検知
し、コントローラ（１９）を介して駆動モータが作動
し、例えばフィルタークリーニングローラ等のクリーニ
ング手段が作動し、フィルターの詰まりを自動的に解消
する。差圧計（１９）は、塗工ブース（１）中の圧力と
ミスト捕集フィルター出口側の圧力の差を検知し、塗工
ブース内の圧力が捕集フィルター出口側の圧力に対して
所定値以上の高くなると、その旨の信号をコントローラ
（１９）に出力するものである。なお、この図１０にお
いては、クリーニング手段として、フィルタークリーニ
ングローラを使用する場合が記載されているが、この図
１０における自動フィルタークリーニングシステムにお
いては、特にクリーニング手段はこの手段のみに限定さ
れず、上記フィルタークリーニングエアースプレー（１
６）及び／またはフィルタークリーニング溶剤スプレー
（１７）、あるいはフィルタークリニングバキューム
（１８）のいずれの手段であってもよいことは容易に理
解できるであろう。

【００２１】また、本発明のスプレー塗工装置の運転条
件は、特に限定されるものではないが、基体周囲の風速
が０．２〜１．０ｍ／ｓｅｃの範囲で、基体回転線速が
０．２〜１．０ｍ／ｓｅｃの範囲でスプレー塗工するこ
とがより望ましい。この範囲でスプレー塗工することに
より、基体の回転による乱流の発生を低減させ、オーバ
ースプレーミストあるいは異物の基体への付着を防止で
き、塗膜欠陥の発生を防止できる。

【００２２】一方、本発明に用いられる基体としては、
アルミニウム、銅、鉄、亜鉛、ニッケルなどの金属のド
ラム及びシート、紙、プラスチック又はガラス上にアル
ミニウム、銅、金、銀、白金、パラジウム、チタン、ニ
ッケル−クロム、ステンレス、銅−インジウムなどの金
属を蒸着するか、酸化インジウム、酸化錫などの導電性
金属酸化物を蒸着するか、金属箔をラミノートするか、
又はカーボンブラック、酸化インジウム、酸化錫−酸化
アンチモン粉、金属粉、ヨウ化銅などを結着樹脂に分散
し、塗布することによっても導電処理したドラム状、シ
ート状、プレート状のものなど、公知の材料を用いるこ
とができるが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。

【００２３】更に、必要に応じて導電性支持体の表面
は、画質に影響のない範囲で各種の処理を行なうことが
できる。例えば、表面の酸化処理、薬品処理、着色処理
等を行なうことができる。また、導電性支持体と電荷発
生層の間に更に下引き層を設けることができるが、この
下引き層は帯電時において、積層構造からなる感光層に
おける導電性支持体から感光層への電荷の注入を阻止す
るとともに、感光層を導電性支持体に対して一体的に接
着保持せしめる接着層としての作用、或いは導電性支持
体からの反射光の防止作用等を示す。

【００２４】この下引き層に用いる樹脂は、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、
ポリアミド樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、フ
ェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、アル
キド樹脂、ポリカーボネート、ポリウレタン、ポリイミ
ド樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリビニルアセタール樹
脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルアル
コール、水溶性ポリエステル、ニトロセルロース又はカ
ゼイン、ゼラチンなど公知な樹脂を用いることができる
が、これらに限定されるものではない。また、下引き層
の厚みは０．０１〜１０μｍ、好ましくは０．３〜７μ
ｍが適当である。

【００２５】電荷発生層（キャリア発生層）は、例えば
モノアゾ色素、ジスアゾ色素、トリスアゾ色素などのア
ゾ系色素、ペリレン酸無水物、ペリレン酸イミドなどの
ペリレン系色素、インジゴ、チオインジゴなどのインジ
ゴ系色素、アンスラキノン、ピレンキノン及びフラパン
スロン類などの多環キノン類、キナクリドン系色素、ビ
スベンゾイミダゾール系色素、インダスロン系色素、ス
クエアリリウム系色素、金属フタロシアニン、無金属フ
タロシアニンなどのフタロシアニン系顔料、ピリリウム
塩色素、チアピリリウム塩色素とポリカーボネートから
形成される共晶錯体等、公知各種の電荷発生物質（キャ
リア発生物質）を適当なバインダー樹脂及び必要により
電荷輸送物質（キャリア輸送物質）と共に溶媒中に溶解
或いは分散し、塗布液とする。

【００２６】電荷発生物質を樹脂中に分散させる方法と
してはボールミル分散法、アトライター分散法、サンド
ミル分散法などを用いることができる。この際、電荷発
生物質は、体積平均粒径で５μｍ以下、好ましくは２μ
ｍ以下、最適には０．５μｍ以下の粒子サイズにするこ
とが有効である。本発明で用いる電荷発生層の膜厚は、
一般的には０．１〜５μｍ、好ましくは０．２〜２μｍ
が適当である。

【００２７】本発明の電子写真感光体における電荷輸送
層は、電荷輸送物質を適当なバインダー中に含有させて
形成される。電荷輸送物質としては、２，５−ビス（ｐ
−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジア
ゾールなどのオキサジアゾール誘導体、１，３，５−ト
リフェニル−ピラゾリン、１−〔ピリジル−（２）〕−
３−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエ
チルアミノフェニル）ピラゾリンなどのピラゾリン誘導
体、トリフェニルアミン、スチリルトリフェニルアミ
ン、ジベンジルアニリンなどの芳香族、第３級アミノ化
合物、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メ
チルフェニル）−１，１−ビフェニル−４，４′−ジア
ミンなどの芳香族第３級ジアミノ化合物、３−（４′−
ジメチルアミノフェニル）−５，６−ジ−（４′−メト
キシフェニル）−１，２，４−トリアジンなどの１，
２，４−トリアジン誘導体、４−ジエチルアミノベンズ
アル」デヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾンなどのヒ
ドラゾン誘導体、２−フェニル−４−スチリル−キナゾ
リンなどのキナゾリン誘導体、６−ヒドロキシ−２，３
−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−ベンゾフランなどのベ
ンゾフラン誘導体、ｐ−（２，２−ジフェニルビニル）
−Ｎ、Ｎ−ジフェニルアニリンなどのα−スチルベン誘
導体、“Journal of Imaging Science”29:7〜10(1985)
に記載されているエナミン誘導体、Ｎ−エチルカルバゾ
ールなどのカルバゾール誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカル
バゾールなどのポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール及びその
誘導体、ポリ−γ−カルバゾリルエチルグルタナート及
びその誘導体、更にはピレン、ポリビニルピレン、ポリ
ビニルアントラセン、ポリビニルアクリジン、ポリ−９
−ビフェニルアントラセン、ピレン−ホルムアルデヒド
樹脂、エチルカルバゾールホルムアルデヒド樹脂などの
公知の電荷輸送物質を用いることができるが、これらに
限定されるものではない。また、これらの電荷輸送物質
は単独或いは２種以上混合して用いることができる。

【００２８】更に、電荷輸送層における結着樹脂として
は、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタク
リル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩
化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセ
テート樹脂、ブチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニ
リデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸
ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイ
ン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッ
ド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン
−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎビニルカルバゾールなどの
公知の樹脂を用いることができるが、これらに限定され
るものではない。また、これらの結着樹脂は単独或いは
２種以上混合して用いることができる。電荷輸送材料と
結着樹脂との配合比（重量比）は１０：１〜１：５が好
ましい。本発明で用いる電荷輸送層の膜厚は一般的には
５〜５０μｍ、好ましくは１０〜３０μｍが適当であ
る。

【００２９】その他本発明の電子写真感光体において
は、保護層として上記電荷輸送層の上に電荷輸送物質と
顔料を適当なバインダー中に含有させて形成される。顔
料としては、アルミナ、酸化チタン等の無機顔料の他、
有機顔料を使用しても良い。全固形分中の顔料の重量配
合率は５〜３０％が好ましい。厚みは一般的には２〜１
０μｍ、好ましくは４〜８μｍが適当である。なお、保
護層は使われる複写機、プリンターによっては設ける必
要がない場合もある。

【００３０】

【実施例】以下に、本発明の実施例を示すが、本発明は
これらによって限定されるものではない。以下の実施
例、比較例、参考例および参考比較例においては、下記
の＜下引き層塗工液の形成＞、＜電荷発生層塗工液の作
成＞、＜電化輸送層塗工液の作成＞、及び＜保護層の塗
工液の作成＞に示す組成の各塗工液を調製し、下記の＜
塗工条件＞に示す条件を共通にして行なった。＜下引き層塗工液の作成＞以下の材料を溶解して下引き
層塗布液を調合した。メラミン樹脂５重量部酸化チタン２０重量部シクロヘキサノン３５重量部メチルエチルケトン３５重量部

【００３１】＜電荷発生層塗工液の作成＞下記構造式で示される電荷発生剤１重量部

【００３２】

【化１】ポリビニルブチラール０．５重量部シクロヘキサノン４０重量部メチルエチルケトン６０重量部ボールミル分散後、シクロヘキサノンとメチルエチルケ
トンを加えて電荷発生層塗布液とした。

【００３３】＜電荷輸送層塗工液の作成＞下記構造式で示される電荷輸送剤４重量部

【００３４】

【化２】ポリカーボネート６重量部シクロヘキサノン４５重量部テトラヒドロフラン４５重量部シリコンオイル０．００１重量部以上を溶解して電荷輸送層塗布液を調合した。

【００３５】＜保護層液の作成＞下記構造式で示される電荷輸送剤２重量部

【００３６】

【化３】ポリカーボネート２重量部シクロヘキサノン２０重量部テトラヒドロフラン６５重量部ボールミル分散後、シクロヘキサノンとテトラヒドロフ
ランを加えて保護層塗布液とした。

【００３７】＜塗工条件＞外径１００ｍｍ、長さ３４０
ｍｍのアルミニウム製の円筒状基体に、前記のような処
方で調合した下引き層（ＵＬ）塗布液をスプレー塗布
し、１１０℃で１５分間乾燥して、厚さ０．５μｍの下
引き層を形成した。次にこの上に電荷発生層（ＣＧ
Ｌ）、電荷輸送層（ＣＴＬ）、保護層を逐次スプレー塗
布・乾燥し積層感光体試料を作成した。なお、電荷発生
層は乾燥膜厚０．２μｍ、電荷輸送層は２３μｍ、保護
層は３μｍになるような条件で行なった。また、スプレ
ーガンは明治機械製のノズル口径０．８ｍｍのガンを用
い、エアー流量は２０〜３０Ｌ／ｍｉｎの範囲とした。
送液にはシリンジポンプを用い、定量でノズルに送りこ
む機構とした。

【００３８】実施例１図３に示す装置、すなわち、エアーノズル（１０）が、
基体（４）幅にわたり設けられており、塗布時エアーカ
ーテン（１１）が形成される装置を用いた。上記下引き
層（ＵＬ）塗工液、電荷発生層（ＣＧＬ）塗工液、電化
輸送層（ＣＴＬ）塗工液及び保護層の各塗工液を、スプ
レーガンに逐次供給し、基体を回転させながら上記＜塗
工条件＞と同様にしてスプレー塗工を行い、感光体を作
製した。これらの各塗工において使用したエアーノズル
１０は、スプレーイングジャパン（株）製のウインドジ
ェット・ブローオフノズルフラットタイプであり、空気
流量２００Ｌ／ｍｉｎとし、基体両サイドから１５０ｍ
ｍ離間した位置にエアーカーテンを設けた。また、各塗
工時において、吸気量と排気のバランスを調製し、基体
周囲の風速を０．８〜１．０ｍ／ｓｅｃ、基体の回転線
速を０．５ｍ／ｓｅｃとした。なお、塗布直前の基体表
面はエアーガンにより高圧エアーを吹付け、除塵した。
表１に結果を示す。なお、本実施例、以下の実施例２〜
４、比較例１〜４、参考例１〜３及び参考比較例１にお
ける画像品質は自社製のデジタルコピー機「Ｉｐｓｉｏ
Ｃｏｌｏｒ８０００」を使用し、目視により出力画
像の濃淡ムラ、画像欠陥、画像汚れのないものを○、わ
ずかに発生を△、発生したものを×として判定した。に
より評価した。また、塗膜欠陥・異物付着は塗工済の感
光体の表面を目視判定し、発生なしを○、わずかに発生
を△、発生を×として評価した。以下の実施例及び比較
例の結果は、本実施例と共に表１に示した。

【００３９】実施例２基体周囲の風速を０．４〜０．７ｍ／ｓｅｃ、基体の回
転線速は０．１ｍ／ｓｅｃにした他は、実施例１と同様
に行なった。

【００４０】実施例３基体周囲の風速を０．４〜０．７ｍ／ｓｅｃ、基体の回
転線速は１．２ｍ／ｓｅｃにした他は、実施例１と同様
に塗工した。

【００４１】比較例１実施例１の装置において、エアカーテンを形成せず、基
体周囲の風速を０．１〜０．２ｍ／ｓｅｃ未満とし、基
体の回転線速を０．５ｍ／ｓｅｃとした以外は実施例１
と同様に塗工した。

【００４２】比較例２実施例１の装置において、エアカーテンを形成せず、基
体周囲の風速を０．８〜１．０ｍ／ｓｅｃとし、基体の
回転線速を０．５ｍ／ｓｅｃとした以外は実施例１と同
様に塗工した。

【００４３】比較例３実施例１の装置において、エアカーテンを形成せず、基
体周囲の風速を０．４〜０．７ｍ／ｓｅｃとし、基体の
回転線速を０．１ｍ／ｓｅｃとした以外は実施例１と同
様に塗工した。

【００４４】比較例４実施例１の装置において、エアカーテンを形成せず、基
体周囲の風速を０．４〜０．７ｍ／ｓｅｃとし、基体の
回転線速を１．２ｍ／ｓｅｃとした以外は実施例１と同
様に塗工した。

【００４５】実施例４図４の装置の装置、すなわち、エアーノズル（１０）
が、基体（４）の長さ方向にわたり設けられており、塗
布時エアーカーテン（１１）が形成されると共に、エア
ノズルを移動可能に設けた装置を用いた。使用したエア
ーノズル（１０）は、スプレーイングジャパン（株）製
のウインドジェット・ブローオフノズルフラットタイプ
であり、該エアノズル（１０）は、移動手段により基体
と接近し、基体に直接エアを吹き付けることが可能なよ
うに設計した。塗工液の塗工直前の除塵工程において
は、エアガンによる高圧エアーを基体に吹き付けること
に代え、上記エアノズル（１０）を移動させて基体に対
するエアの吹き付けを行ない、この場合の空気流量を２
００Ｌ／ｍｉｎとして除塵した。また、除塵後、エアノ
ズルを基体両サイドから１５０ｍ移動させエアカーテン
を形成し、以下、実施例１と同様にして塗工した。

【００４６】参考例１図１の塗工装置において、吸気手段（２）の給気量と排
気手段（３）の排気量のバランスを調製し、基体（４）
周囲の風速が０．３〜０．５ｍ／ｓｅｃとなるよう調整
した。次いで基体（４）を回転させ、線速を０．４ｍ／
ｓｅｃとした。スプレー塗布によりＵＬ、ＣＧＬ、ＣＴ
Ｌ、保護層を形成し感光体を作製した。なお、塗布直前
の基体表面はエアーガンにより高圧エアーを吹付け、除
塵した。

【００４７】参考例２基体（４）周囲の風速が０．７〜１．０ｍ／ｓｅｃ、基
体（４）の線速を０．９ｍ／ｓｅｃとした以外は、参考
例１と同様に塗工した。

【００４８】参考例３塗布直前の高圧エアの吹き付けによる除塵を行わず、実
施例４と同一条件で除塵した以外（但し、エアカーテン
の形成を行なわない。）は、参考例１と同様にして塗工
を行なった。

【００４９】参考比較例１除塵を行なわず、比較例２と同様に塗工を行なった。こ
れら参考例１〜３及び参考比較例１の結果もあわせて表
１に示す。

【００５０】

【表１】

【００５１】実施例５塗工ブースを図６に示す構造とし、該塗工ブースを使用
して、参考例１と同様にして、連続３００本の塗工を行
なった。その結果、オーバースプレーミスト及び基体周
囲の構造物に付着・固化したオーバースプレーミスト、
擦れ部より発生する異物、ダスト類の付着は一切発生せ
ず、当社製のデジタル複写機で画像欠陥のない綺麗な画
像が得られた。

【００５２】実施例６捕集用フィルターとして、ブリジストン社製のエバーラ
イトスコットＨＲ−０８をフィルターとして用い、実施
例５と同様にして、塗工液を基体に塗布した結果、３分
でフィルター表面に膜が張り、ブース内の圧力が上昇し
てしまった。次いで、本発明のローラでフィルターを転
がしたところ、膜は簡単に除去でき、ブース内圧力も初
期値に回復した。これを繰り返し２０回実施したが同様
の効果が得られた。ローラの寸法、形状も幾つか変化さ
せテストしたが、同様の効果が得られた。

【００５３】

【発明の効果】以上、詳細且つ具体的な説明より明らか
なように、本発明のスプレー塗工装置によれば、オーバ
ースプレーミスト及び基体周囲の構造物に付着・固化し
たオーバースプレーミスト、擦れ部より発生する異物、
ダスト類の付着は極力抑制され、塗膜欠陥がなく、優れ
た画像品質を与える電子写真感光体を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】従来のスプレー塗工装置の一例を示す図であ
る。

【図２】スプレー塗布中に粗大スプレーミストや、塗工
ブース内に付着したミストカス、ダスト類の付着する原
因を示した図である。

【図３】本件のスプレー塗工装置の一例を示す図であ
る。

【図４】本件のスプレー塗工装置の他の一例を示す図で
ある。

【図５】本件のスプレー塗工装置の他の一例を示す図で
ある。

【図６】本件のスプレー塗工装置の他の一例を示す図で
ある。

【図７】本件のスプレー塗工装置の他の一例を示す図で
ある。

【図８】本件のスプレー塗工装置の他の一例を示す図で
ある。

【図９】本件のスプレー塗工装置の他の一例を示す図で
ある。

【図１０】本件のスプレー塗工装置の他の一例を示す図
である。

【符号の説明】

１塗工ブース２給気３排気４基体５基体駆動軸６スプレーガン７スプレーガン移動軸８スプレー液９オーバースプレーミスト１０エアーノズル１１エアーカーテン１２除塵エアー１３ミスト捕集フィルター１４エアーノズル移動ガイド１５フィルタークリーニングローラ１６フィルタークリーニングエアースプレー１７フィルタークリーニング溶剤スプレー１８フィルタークリーニングバキューム１９差圧計２０コントローラー２１駆動モータ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者平井陽子東京都大田区中馬込１丁目３番６号株式会社リコー内Ｆターム(参考） 2H068 EA17 EA41 4D073 AA01 BB03 CB03 CB20 DC19 DD02 DD22 4F033 AA01 BA03 CA01 DA01 EA01 LA11 LA12

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】塗工ブース内に、回転可能な基体保持手
段、基体保持手段よりも上方に位置するスプレーガン、
基体保持手段の長手方向の両側にエアーノズルを有する
ことを特徴とする電子写真像担持体用スプレー塗工装
置。
【請求項２】前記基体保持手段とエアーノズルとの間
隔を調節可能な手段を有することを特徴とする請求項１
に記載の電子写真像担持体用スプレー塗工装置。
【請求項３】少なくとも側面が覆われている塗工ブー
ス内に、回転可能な基体保持手段、基体保持手段よりも
上方に位置するスプレーガンを有する電子写真像担持体
用スプレー塗工装置であって、該塗工ブースは部分的に
排気方向に向かい断面積が狭くなっていることを特徴と
する電子写真像担持体用スプレー塗工装置。
【請求項４】スプレーミスト捕集フィルター、あるい
はさらに該捕集用フィルターのクリーニング手段を有す
ることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記
載の電子写真像担持体用スプレー塗工装置。
【請求項５】前記スプレーミスト補修用フィルター及
び該捕集用フィルターのクリーニング手段を有する場合
において、前記フィルターの圧力損失を検知する機構
と、設定した圧力損失以上になるとクリーニング手段を
作動する機構を有することを特徴とする請求項４に記載
の電子写真像担持体用スプレー塗工装置。