JP2003247811A5 - - Google Patents

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【０００２】
【従来の技術】
カメラ、顕微鏡等の光学機器に用いられる光学素子には、目的に応じて反射防止膜や干渉フィルタのような光学薄膜が設けられている。これらの光学薄膜は１層のみからなるものもあれば、１００層を超えるものまで様々であるが、所望の光学特性を得るためには、各層の膜厚を正確に制御することが重要である。こうした膜の作成には真空蒸着法やスパッタリング法が用いられるが、上述したように膜厚を制御するために何らかの手段で膜厚を監視するのが一般的である。
【００１３】
請求項３の発明によれば、光学薄膜を被成膜基板に成膜する以前に、被成膜基板を加熱する加熱手段とモニタ基板を連続的または間欠的に公転または自転させる回転手段を作動させることにより、モニタ基板の温度を均一にすることができる。また、請求項４，５，６の発明では、請求項１，２，３の発明において、加熱手段により被成膜基板を加熱するとともにモニタ基板を加熱する。これによれば、被成膜基板の温度に対応させてモニタ基板の温度を均一にすることができる。

Claims (6)

  1. 基板に形成される光学薄膜の光学的膜厚を監視する光学式膜厚監視方法において、光学薄膜を被成膜基板に成膜する以前に、加熱手段により前記被成膜基板を加熱するとともに、光学的膜厚を監視するための複数のモニタ基板を特定の軸の回りに連続的または間欠的に公転させることを特徴とする光学式膜厚監視方法。
  2. 基板に形成される光学薄膜の光学的膜厚を監視する光学式膜厚監視方法において、光学薄膜を被成膜基板に成膜する以前に、加熱手段により前記被成膜基板を加熱するとともに、光学的膜厚を監視するための単一のモニタ基板を連続的または間欠的に自転させることを特徴とする光学式膜厚監視方法。
  3. 基板に形成される光学薄膜の光学的膜厚を監視する光学式膜厚監視装置において、光学薄膜の光学的膜厚を監視するためのモニタ基板と、被成膜基板を加熱する加熱手段と、前記モニタ基板を連続的または間欠的に公転または自転させる回転手段とを具備しており、光学薄膜を前記被成膜基板に成膜する以前に、前記加熱手段とともに前記回転手段を作動させることを特徴とする光学式膜厚監視装置。
  4. 基板に形成される光学薄膜の光学的膜厚を監視する光学式膜厚監視方法において、光学薄膜を被成膜基板に成膜する以前に、加熱手段により前記被成膜基板を加熱するとともに、光学的膜厚を監視するための複数のモニタ基板を特定の軸の回りに連続的または間欠的に公転させて前記加熱手段により加熱することを特徴とする光学式膜厚監視方法。
  5. 基板に形成される光学薄膜の光学的膜厚を監視する光学式膜厚監視方法において、光学薄膜を被成膜基板に成膜する以前に、加熱手段により前記被成膜基板を加熱するとともに、光学的膜厚を監視するための単一のモニタ基板を連続的または間欠的に自転させて前記加熱手段により加熱することを特徴とする光学式膜厚監視方法。
  6. 基板に形成される光学薄膜の光学的膜厚を監視する光学式膜厚監視装置において、光学薄膜の光学的膜厚を監視するためのモニタ基板と、被成膜基板と前記モニタ基板とを加熱する加熱手段と、前記モニタ基板を連続的または間欠的に公転または自転させる回転手段とを具備しており、光学薄膜を前記被成膜基板に成膜する以前に、前記加熱手段とともに前記回転手段を作動させることを特徴とする光学式膜厚監視装置。
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