JP2003241124A - 揺動反射鏡装置 - Google Patents
揺動反射鏡装置Info
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Abstract
精度が低下しにくい揺動反射鏡装置を提供する。 【解決手段】 筐体内に、回転軸が回転可能に支持さ
れ、少なくとも一端が筐体の外側まで突出している。反
射鏡が、筐体の外側に突出した部分において回転軸に取
り付けられている。この反射鏡は、回転軸の回転によっ
て揺動する。駆動機構が筐体内に配置され、電流を流す
ことによって回転軸を回転させる。回転軸の、回転方向
に関する基準位置からの回転角度を、センサが検出す
る。冷却手段が、筐体内を冷却する。
Description
関し、特に回転軸に反射鏡を取り付けて、回転軸を回転
させることによって反射鏡を遥動させる揺動反射鏡装置
に関する。
ラミックからなるグリーンシート等に穴をあけるレーザ
加工機に、レーザビームを走査するガルバノスキャナが
使用されている。ガルバノスキャナ(揺動反射鏡装置)
は、レーザビームを反射する反射鏡、この反射鏡を遥動
させる駆動機構、及び反射鏡の回転方向に関する基準位
置からの回転角を検出するセンサとを含んで構成され
る。
構成される。駆動機構を動作させるとコイルが発熱し、
センサの温度が上昇する。センサの温度が上昇すると、
反射鏡の回転角の検出精度が低下する。また、レーザビ
ームの入射によって反射鏡が熱変形する場合もある。反
射鏡の回転角の検出精度が低下したり、反射鏡が熱変形
したりすると、レーザビームの入射位置が変動してしま
う。
機構を動作させても、反射鏡の回転角の精度が低下しに
くい揺動反射鏡装置を提供することである。
と、筐体と、前記筐体内に回転可能に支持され、少なく
とも一端が該筐体の外側まで突出した回転軸と、前記筐
体の外側に突出した部分において前記回転軸に取り付け
られ、該回転軸の回転によって揺動する反射鏡と、前記
筐体内に配置され、電流を流すことによって前記回転軸
を回転させる駆動機構と、前記回転軸の、回転方向に関
する基準位置からの回転角度を検出するセンサと、前記
筐体内を冷却する冷却手段とを有する揺動反射鏡装置が
提供される。
度上昇を抑制することができる。これにより、温度上昇
に起因するセンサの精度の低下を防止することができ
る。本発明の他の観点によると、反射面と背面とを有す
る反射鏡と、前記反射鏡を遥動可能に支持する回転軸
と、前記反射鏡の背面に取り付けられた冷却用フィンと
を有する揺動反射鏡装置が提供される。
を有する反射鏡と、前記反射鏡を揺動可能に支持する回
転軸と、前記反射鏡に冷却用気体を吹き付ける強制空冷
手段とを有する揺動反射鏡装置が提供される。
り、反射鏡の温度上昇を抑制することができる。これに
より、反射鏡の熱変形を防止することができる。
施例による揺動反射鏡装置の断面図を示す。円筒状の筐
体1の一端にセンサ部20が画定され、他の部分が駆動
部10とされている。筐体1の内部に、その中心軸に沿
って回転軸2が挿入されている。回転軸2は、センサ部
20及び駆動部10を貫通し、回転軸受け3及び4によ
り、回転可能に支持されている。回転軸受け3は、駆動
部10とセンサ部20とを区分する隔壁に取り付けられ
ている。他方の回転軸受け4は、駆動部10の他方の端
部に取り付けられている。
体1の外部まで突出しており、その先端に反射鏡30が
取り付けられている。反射鏡30の反射面は、回転軸2
の回転中心線と平行である。回転軸2が回転すると、反
射鏡30が揺動する。
かれている。筐体1の内周面上に、コイル12と間隙を
隔てて永久磁石11が取り付けられている。コイル12
に電流を流すことにより、回転軸2を回転させることが
できる。
する基準位置からの回転角度を検出する。以下、センサ
20の構造について説明する。センサ20は、可動板2
1、電極22及び23を含んで構成される。
23を、回転軸2に平行な視線で見たときの正面図を示
す。センサ部20内の回転軸2に、可動板21が取り付
けられている。可動板21は、回転軸2を中心とした中
心角90°の扇形の一対の板が、回転軸2に関して回転
対称となる位置に配置されて構成される。可動板21の
一方の面に対向するように電極22が配置され、他方の
面に対向するように他の電極23が配置されている。電
極22及び23の各々は、回転軸2を中心とした中心角
90°の扇形の一対の板が、回転軸2に関して回転対称
となる位置に配置されて構成されており、筐体1に固定
されている。
2が他の電極23にほぼ重なる。回転軸2が回転する
と、電極22と可動板21との重なり部分の面積が変化
する。この面積が変化すると、電極22と23との間の
静電容量が変化する。静電容量の変化から、回転軸2の
基準位置からの回転角に関する情報を得ることができ
る。
る部分に、冷却管路40が取り付けられている。冷却管
路40に冷却水を流すことにより、筐体1及びその内部
を冷却することができる。なお、冷却管路40をセンサ
部20を画定する部分まで延ばしてもよい。
発熱し、センサ部20の温度が上昇する。センサ部20
の温度が上昇すると、電極22と可動板21との間隔、
及び電極23と可動板21との間隔が変動してしまう。
これらの間隔が変化すると、電極22と23との間の静
電容量が変化するため、回転軸2の回転角の検出精度が
低下してしまう。
びその内部を冷却することにより、センサ部20の温度
上昇を抑制することができる。これにより、回転軸2の
回転角の検出精度の低下を防止することができる。
射鏡装置の断面図を示す。第2の実施例においては、図
1(A)に示した第1の実施例による揺動反射鏡装置の
冷却管路40の代わりに冷却フィン41が、筐体1の外
周面上に取り付けられている。その他の構成は、第1の
実施例の揺動反射鏡の構成と同様である。冷却フィン4
1により、コイル12からの発熱を効率的に外部に放散
させることができる。
射鏡装置の断面図を示す。図1(A)に示した第1の実
施例による揺動反射鏡装置の冷却管路40の代わりに、
筐体1にガス導入口45及びガス排出口46が取り付け
られている。その他の構成は、第1の実施例の揺動反射
鏡の構成と同様である。
部近傍に取り付けられ、ガス排出口46は、駆動部10
の他方の端部近傍に取り付けられている。ガス導入口4
5から冷却用のガス、例えば空気が筐体1内に導入され
る。筐体1内に導入されたガスは、コイル12を冷却
し、ガス排出口46から外部に排出される。ガスは、筐
体1内の駆動部10を流れるが、センサ部20を流れな
い。このため、ガスの流量を増大させて冷却能力を高め
た場合でも、センサ部20内のセンサ部品が振動して検
出精度が低下することを防止できる。
射鏡装置の断面図を示す。第4の実施例においては、筐
体1のセンサ部20に、ガス導入口47及びガス排出口
48が取り付けられている。ガス導入口47から冷却用
ガスがセンサ部20内に導入され、センサ部20内を冷
却して、ガス排出口48から外部に排出される。
射鏡装置の断面図を示す。第5の実施例においては、筐
体1のセンサ部20に、ガス導入口49が取り付けら
れ、駆動部10の、センサ部20とは反対側の端部近傍
にガス排出口50が取り付けられている。センサ部20
と駆動部10との間の隔壁に、ガス流通孔51が設けら
れている。
用ガスが導入される。センサ部20に導入された冷却用
ガスは、ガス流通孔51を通過し、コイル12を冷却し
て、ガス排出口50から外部に排出される。
内及びセンサ部20内の少なくとも一方が、冷却ガスに
よって強制冷却される。このため、コイル12からの発
熱による影響を軽減することでき、センサの検出精度の
低下を防止することができる。
射鏡装置の断面図を示す。駆動部10、センサ部20、
及び反射鏡30は、図1(A)に示した第1の実施例に
よる揺動反射鏡装置の構造と同様である。第6の実施例
では、反射鏡30に冷却用ガスを吹き付けるガス噴出口
55が配置されている。ガス噴出口55から反射鏡30
に冷却用ガスを吹き付けることにより、反射鏡30の温
度上昇を抑制し、熱変形を防止することができる。
射鏡装置の断面図を示す。センサ部20にガス導入口5
6が設けられている。筐体1の端面に設けられた、回転
軸2が貫通する孔の内周面と、回転軸2の外周面との間
に、間隙57が設けられている。その他の構成は、図1
(A)に示した第1の実施例による揺動反射鏡装置の構
造と同様である。ガス導入口56からセンサ部20内に
導入された冷却用ガスが、センサ部20内を冷却し、間
隙57を通って外部に噴き出す。間隙57から噴出した
冷却用ガスが、反射鏡30を冷却する。すなわち、間隙
57がガス噴出口として作用する。
射鏡装置の断面図を示す。反射鏡30の反射面とは反対
側の面に、冷却用フィン58が取り付けられている。そ
の他の構成は、図1(A)に示した第1の実施例による
揺動反射鏡装置の構造と同様である。冷却用フィン58
により、反射鏡30の温度上昇を抑制し、熱変形を防止
することができる。
を用いたレーザ加工装置の概略図を示す。レーザ光源6
0が、加工用レーザビームを出射する。レーザ光源60
から出射したレーザビームが、揺動反射鏡装置61の反
射鏡61Aで反射され、揺動反射鏡装置62の反射鏡6
2Aに入射する。反射鏡62Aで反射されたレーザビー
ムが、fθレンズ63で収束され、XYテーブル64に
保持された加工対象物65に入射する。
により、レーザビームを2次元方向に走査することがで
きる。反射鏡61A及び62Aの回転角を制御すること
により、レーザビームを、加工対象物65の所望の位置
に入射させることができる。なお、必要に応じて、レー
ザビームの経路に、フィールドレンズやマスクが配置さ
れる。
装置を用いることにより、センサ部の温度上昇による回
転角の検出精度の低下を防止することができる。また、
第6〜第8の実施例による揺動反射鏡装置を用いること
により、反射鏡の熱変形によるレーザビームの反射方向
のずれを防止することができる。
の少なくとも1つと、第6〜第8の実施例による冷却機
構の少なくとも1つとを組み合わせることにより、セン
サ部の検出精度の低下及び反射鏡の熱変形を防止するこ
とができる。これにより、レーザビームの入射位置を、
高精度に制御することが可能になる。また、センサとし
て安価な静電容量センサを用いることができるため、温
度変動による影響を受けにくい高価な他のセンサを用い
る必要が無い。
冷却の効果について説明する。図4に示したレーザ加工
装置で、一辺の長さが50mmの正方形の4つの頂点に
レーザビームを入射させる場合を考える。冷却機構の装
備されていない揺動反射鏡装置を用いた場合には、1時
間の連続運転後に、レーザビームの入射によって形成さ
れる正方形の一辺の長さが約25〜35μm程度短くな
った。これに対し、上記第1の実施例による揺動反射鏡
装置を用いた場合には、1時間の連続運転後の正方形の
一辺の長さのの短縮量は、高々5μm程度であった。な
お、冷却水の流量は、10リットル/分とした。このよ
うに、揺動反射鏡装置を冷却することによって、十分な
効果が得られる。
本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種
々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に
自明であろう。
揺動反射鏡装置を冷却することにより、反射鏡の取り付
けられた回転軸の回転角の精度の低下を防止することが
できる。
る揺動反射鏡装置の断面図、及びセンサ部の正面図であ
る。
鏡装置の断面図である。
鏡装置の断面図である。
たレーザ加工装置の概略図である。
Claims (10)
- 【請求項1】 筐体と、 前記筐体内に回転可能に支持され、少なくとも一端が該
筐体の外側まで突出した回転軸と、 前記筐体の外側に突出した部分において前記回転軸に取
り付けられ、該回転軸の回転によって揺動する反射鏡
と、 前記筐体内に配置され、電流を流すことによって前記回
転軸を回転させる駆動機構と、 前記回転軸の、回転方向に関する基準位置からの回転角
度を検出するセンサと、 前記筐体内を冷却する冷却手段とを有する揺動反射鏡装
置。 - 【請求項2】 前記冷却手段が、前記筐体を水冷する水
冷手段を含む請求項1に記載の揺動反射鏡装置。 - 【請求項3】 前記冷却手段が、前記筐体内に冷却用気
体を通す第1の強制空冷手段を含む請求項1または2に
記載の揺動反射鏡装置。 - 【請求項4】 前記第1の強制空冷手段が、前記筐体内
を通った冷却用気体を前記反射鏡に向けて噴き出す第1
の噴出口を有する請求項3に記載の揺動反射鏡装置。 - 【請求項5】 前記センサが前記筐体内に配置されてお
り、前記第1の強制空冷手段が、前記筐体内のうち、前
記駆動機構の配置された空間に冷却用気体を流し、前記
センサの配置された空間には冷却用気体を流さない請求
項3または4に記載の揺動反射鏡装置。 - 【請求項6】 前記冷却手段が、前記筐体の外側の表面
に取り付けられた冷却フィンを含む請求項1〜5のいず
れかに記載の揺動反射鏡装置。 - 【請求項7】 前記角度センサが、前記筐体内の回転軸
に固定された可動部材と、前記筐体に固定された固定部
材との相対位置に基いて、前記回転軸の回転角度を検出
し、 前記冷却手段が、前記可動部材と固定部材との配置され
た空間に冷却用気体を通す第2の強制空冷手段を有する
請求項1〜6のいずれかに記載の揺動反射鏡装置。 - 【請求項8】 前記第2の強制空冷手段が、前記筐体内
を通った冷却用気体を前記反射鏡に向けて噴き出す第2
の噴出口を有する請求項7に記載の揺動反射鏡装置。 - 【請求項9】 反射面と背面とを有する反射鏡と、 前記反射鏡を遥動可能に支持する回転軸と、 前記反射鏡の背面に取り付けられた冷却用フィンとを有
する揺動反射鏡装置。 - 【請求項10】 反射面を有する反射鏡と、 前記反射鏡を揺動可能に支持する回転軸と、 前記反射鏡に冷却用気体を吹き付ける強制空冷手段とを
有する揺動反射鏡装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002038760A JP3607898B2 (ja) | 2002-02-15 | 2002-02-15 | 揺動反射鏡装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002038760A JP3607898B2 (ja) | 2002-02-15 | 2002-02-15 | 揺動反射鏡装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003241124A true JP2003241124A (ja) | 2003-08-27 |
JP3607898B2 JP3607898B2 (ja) | 2005-01-05 |
Family
ID=27779989
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002038760A Expired - Fee Related JP3607898B2 (ja) | 2002-02-15 | 2002-02-15 | 揺動反射鏡装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP3607898B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008245464A (ja) * | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Hitachi Via Mechanics Ltd | 電磁アクチュエータ及びレーザ加工機 |
CN100432743C (zh) * | 2004-02-19 | 2008-11-12 | 日立比亚机械股份有限公司 | 电扫描器的控制方法、电扫描器 |
JP2015086970A (ja) * | 2013-10-31 | 2015-05-07 | 日本精工株式会社 | 滑り直動ガイド |
JP2021096295A (ja) * | 2019-12-13 | 2021-06-24 | ミツミ電機株式会社 | 光走査装置 |
-
2002
- 2002-02-15 JP JP2002038760A patent/JP3607898B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JP2021096295A (ja) * | 2019-12-13 | 2021-06-24 | ミツミ電機株式会社 | 光走査装置 |
JP7155099B2 (ja) | 2019-12-13 | 2022-10-18 | ミツミ電機株式会社 | 光走査装置 |
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