JP2003239083A - 装飾品の表面処理方法、装飾品および時計 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】長期間にわたって優れた美的外観を保持するこ
とができる装飾品を提供すること、前記装飾品を提供す
ることができる表面処理方法を提供すること、前記装飾
品を備えた時計を提供すること。 【解決手段】本発明の表面処理方法は、基材２（１ａ）
の表面の少なくとも一部に、下地層４０を形成する工程
（１ｂ）と、乾式メッキ法により、主としてクロム化合
物で構成される被膜３を形成する工程（１ｃ）とを有す
る。下地層４０は、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｐｄ、Ａｕ、Ａｇ、Ｉ
ｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｒ、ＡｌおよびＦｅの
うちの少なくとも１種の金属または該金属を含む合金を
主とする材料で構成されるものである。また、被膜３
は、クロムの酸化物、窒化物および炭化物のうちの少な
くとも１種を含むものである。被膜３の平均厚さは、５
〜１００μｍである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、装飾品の表面処理
方法、装飾品および時計に関する。

【０００２】

【従来の技術】時計用外装部品のような装飾品には、優
れた美的外観が要求される。従来、このような目的を達
成するために、例えば、装飾品の構成材料として、Ｐ
ｄ、Ｒｄ、Ｐｔ等の銀白色の金属材料を用いてきた。し
かし、これらの金属材料は、いずれも貴金属であり、装
飾品の製造コストが高くなる等の問題点を有していた。

【０００３】また、前述の貴金属に代わる銀白色の材料
としては、Ｔｉ、ステンレス鋼や、ＴｉＮ、ＴｉＣＮ等
のＴｉ化合物等が挙げられる。しかし、これらの材料
は、前述した貴金属に比べ、反射率が低く、高級感に劣
っていた。このため、得られる装飾品は、満足な美的外
観が得られないことがあった。また、従来用いられてき
た材料では、重厚な金属光沢を有する黒色の装飾品を製
造するのが困難であった。

【０００４】また、前述したように装飾品には、優れた
美的外観が要求されるが、前記のような材料で構成され
た装飾品（特に、時計用外装部品や装身具等）は、その
表面に傷が付き易く、長期間使用することにより美的外
観が著しく低下する等の問題点を有していた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、長期
間にわたって優れた美的外観を保持することができる装
飾品を提供すること、前記装飾品を提供することができ
る表面処理方法を提供すること、前記装飾品を備えた時
計を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
（１）〜（１６）の本発明により達成される。また、
（１７）〜（２２）であるのが好ましい。

【０００７】（１） 基材上の少なくとも一部に、少な
くとも１層の下地層を形成する工程と、前記下地層上
に、乾式メッキ法により、主としてクロム化合物で構成
される被膜を形成する工程とを有する製造方法であっ
て、前記下地層のうち少なくとも１層は、Ｃｕ、Ｃｏ、
Ｐｄ、Ａｕ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃ
ｒ、ＡｌおよびＦｅのうちの少なくとも１種の金属また
は該金属を含む合金を主とする材料で構成されるもので
あり、前記被膜は、クロムの酸化物、窒化物および炭化
物のうちの少なくとも１種を含むものであり、かつ、前
記被膜の平均厚さが５〜１００μｍであることを特徴と
する装飾品の表面処理方法。

【０００８】（２） 前記下地層のうち少なくとも１層
は、その一方の面側と他方の面側との電位差を緩和する
緩衝層である上記（１）に記載の装飾品の表面処理方
法。

【０００９】（３） 前記下地層は、金属化合物で構成
されるものである上記（１）または（２）に記載の装飾
品の表面処理方法。

【００１０】（４） 前記装飾品は、前記下地層を２層
以上有するものである上記（１）ないし（３）のいずれ
かに記載の装飾品の表面処理方法。

【００１１】（５） 隣接する前記下地層は、互いに共
通の元素を含む材料で構成されたものである上記（４）
に記載の装飾品の表面処理方法。

【００１２】（６） 前記共通の元素は、Ｃｕである上
記（５）に記載の装飾品の表面処理方法。

【００１３】（７） 前記下地層を被覆する工程の前
に、前記基材の表面の少なくとも一部に、清浄化処理を
施す工程を有する上記（１）ないし（６）のいずれかに
記載の装飾品の表面処理方法。

【００１４】（８） 前記被膜を被覆する工程の前に、
前記下地層の表面の少なくとも一部に、清浄化処理を施
す工程を有する上記（１）ないし（７）のいずれかに記
載の装飾品の表面処理方法。

【００１５】（９） 前記被膜は、２層以上の積層体で
ある上記（１）ないし（８）のいずれかに記載の装飾品
の表面処理方法。

【００１６】（１０） 前記基材は、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｎ
ｉ、Ｔｉ、Ａｌまたはこれらのうち少なくとも１種を含
む合金で構成されるものである上記（１）ないし（９）
のいずれかに記載の装飾品の表面処理方法。

【００１７】（１１） 前記基材は、その表面の少なく
とも一部に、鏡面加工、スジ目加工、梨地加工から選択
される表面加工が施されたものである上記（１）ないし
（１０）のいずれかに記載の装飾品の表面処理方法。

【００１８】（１２） 前記被膜を形成する工程の後、
さらに、前記被膜上の一部に、マスキングを形成する工
程と、剥離剤を用いて、前記マスキングが被覆されてい
ない部位の前記被膜を除去する工程と、前記マスキング
を除去する工程とを有する上記（１）ないし（１１）の
いずれかに記載の装飾品の表面処理方法。

【００１９】（１３） 上記（１）ないし（１２）のい
ずれかに記載の装飾品の表面処理方法を用いて製造され
たことを特徴とする装飾品。

【００２０】（１４） 少なくともその一部が皮膚に接
触して用いられる上記（１３）に記載の装飾品。

【００２１】（１５） 装飾品は、時計用外装部品であ
る上記（１３）または（１４）に記載の装飾品。

【００２２】（１６） 上記（１３）ないし（１５）の
いずれかに記載の装飾品を備えたことを特徴とする時
計。

【００２３】（１７） 前記被膜を被覆する工程の前
に、前記基材の表面の少なくとも一部に、清浄化処理を
施す工程を有する上記（１）ないし（１２）のいずれか
に記載の装飾品の表面処理方法。

【００２４】（１８） 前記被膜は、イオンプレーティ
ングにより形成されたものである上記（１）ないし（１
２）のいずれかに記載の装飾品の表面処理方法。

【００２５】（１９） 前記積層体を構成する複数の層
のうち、前記装飾品の最外表面側の層以外の層の少なく
とも１層は、主としてクロムの窒化物で構成されたもの
である上記（９）に記載の装飾品の表面処理方法。

【００２６】（２０） 前記被膜のビッカース硬度Ｈｖ
が１５００以上である上記（１）ないし（１２）のいず
れかに記載の装飾品の表面処理方法。

【００２７】（２１） 前記基材は、鋳造または金属粉
末射出成形により作製されたものである上記（１）ない
し（１２）のいずれかに記載の装飾品の表面処理方法。

【００２８】（２２） 前記マスキングの平均厚さは、
１００〜２０００μｍである上記（１２）に記載の装飾
品の表面処理方法。

【００２９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の表面処理方法、装
飾品および時計の好適な実施形態について、添付図面を
参照しつつ説明する。

【００３０】図１は、本発明の表面処理方法の第１実施
形態を示す断面図である。図１に示すように、本実施形
態の表面処理方法は、基材２の表面の少なくとも一部
（１ａ）に、下地層４０を形成する工程（１ｂ）と、下
地層４０の表面の少なくとも一部に、乾式メッキ法によ
り、主としてクロム化合物で構成される被膜３を形成す
る工程（１ｃ）とを有する。

【００３１】［基材］基材２は、いかなる材料で構成さ
れるものであってもよく、金属材料で構成されるもので
あっても、非金属材料で構成されるものであってもよ
い。基材２が金属材料で構成される場合、特に優れた強
度特性を有する装飾品１Ａを提供することができる。

【００３２】また、基材２が金属材料で構成される場
合、基材２の表面粗さが比較的大きい場合であっても、
後述する下地層４０、被膜３を形成する際のレベリング
効果により、得られる装飾品１Ａの表面粗さを小さくす
ることができる。例えば、基材２の表面に対する切削加
工、研磨加工などによる機械加工を省略しても、鏡面仕
上げを行うことが可能となったり、基材２がＭＩＭ法に
より成形されたもので、その表面が梨地面である場合で
も、容易に鏡面にすることができる。これにより、光沢
に優れた装飾品を得ることができる。

【００３３】基材２が非金属材料で構成される場合、比
較的軽量で携帯し易く、かつ、重厚な外観を有する装飾
品１Ａを提供することができる。また、基材２が非金属
材料で構成される場合、比較的容易に、所望の形状に成
形することができる。このため、後述するクロム化合物
では、直接成形するのが困難な形状の装飾品１Ａであっ
ても、比較的容易に提供することができる。また、基材
２が非金属材料で構成される場合、電磁ノイズを遮蔽す
る効果も得られる。

【００３４】基材２を構成する金属材料としては、例え
ば、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｍｇ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｍ
ｏ、Ｎｂ、Ａｌ、Ｖ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｐｔ、
Ａｇ等の各種金属や、これらのうち少なくとも１種を含
む合金等が挙げられる。この中でも特に、Ｃｕ、Ｚｎ、
Ｎｉ、Ｔｉ、Ａｌまたはこれらのうち少なくとも１種を
含む合金が好ましい。基材２が前述したような材料で構
成されることにより、基材２と、後述する下地層４０と
の密着性が特に優れたものとなる。また、基材２が、Ｃ
ｕ、Ｚｎ、Ｎｉまたはこれらのうち少なくとも１種を含
む合金で構成されたものであると、基材２と、後述する
下地層４０との密着性が特に優れたものとなるととも
に、基材２の加工性が向上し、基材２の成形の自由度が
さらに増す。

【００３５】また、基材２を構成する非金属材料として
は、例えば、プラスチックやセラミックス、石材、木材
等が挙げられる。プラスチックとしては、各種熱可塑性
樹脂、各種熱硬化性樹脂が挙げられる。基材２がプラス
チックで構成される場合、比較的軽量で携帯し易く、か
つ、重厚な外観を有する装飾品１Ａを得ることができ
る。

【００３６】また、基材２がプラスチックで構成される
場合、比較的容易に、所望の形状に成形することができ
る。このため、複雑な形状を有する装飾品１Ａであって
も、比較的容易に製造することができる。また、基材２
がプラスチックで構成される場合、電磁ノイズを遮蔽す
る効果が得られる。

【００３７】セラミックスとしては、例えば、Ａｌ
₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、Ｔｉ₂Ｏ₃、ＺｒＯ₂、Ｙ
₂Ｏ₃、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム等の
酸化物系セラミックス、ＡｌＮ、Ｓｉ₃Ｎ₄、ＳｉＮ、Ｔ
ｉＮ、ＢＮ、ＺｒＮ、ＨｆＮ、ＶＮ、ＴａＮ、ＮｂＮ、
ＣｒＮ、Ｃｒ₂Ｎ等の窒化物系セラミックス、グラファ
イト、ＳｉＣ、ＺｒＣ、Ａｌ₄Ｃ₃、ＣａＣ₂、ＷＣ、Ｔ
ｉＣ、ＨｆＣ、ＶＣ、ＴａＣ、ＮｂＣ等の炭化物系のセ
ラミックス、ＺｒＢ_２、ＭｏＢ等のホウ化物系のセラミ
ックス、あるいは、これらのうちの２以上を任意に組み
合わせた複合セラミックスが挙げられる。基材２が前記
のようなセラミックスで構成される場合、高強度、高硬
度の装飾品１Ａを得ることができる。

【００３８】基材２の製造方法は、特に限定されない。
基材２が金属材料で構成される場合、その製造方法とし
ては、例えば、プレス加工、切削加工、鍛造加工、鋳造
加工、粉末冶金焼結、金属粉末射出成形（ＭＩＭ）、ロ
ストワックス法等が挙げられるが、この中でも特に、鋳
造加工または金属粉末射出成形（ＭＩＭ）が好ましい。
鋳造加工、金属粉末射出成形（ＭＩＭ）は、特に、加工
性に優れている。このため、これらの方法を用いた場
合、複雑な形状の基材２を比較的容易に得ることができ
る。

【００３９】金属粉末射出成形（ＭＩＭ）は、通常、以
下のようにして行われる。まず、金属粉と有機バインダ
ーとを含む材料を混合、混練して混練物を得る。次に、
この混練物を射出成形することにより成形体を形成す
る。その後、この成形体に対して、脱脂処理（脱バイン
ダー処理）を施し、脱脂体を得る。この脱脂処理は、通
常、減圧条件下で、加熱することにより行われる。さら
に、得られた脱脂体を焼結することにより、焼結体を得
る。この焼結処理は、通常、前記脱脂処理より高温で加
熱することにより行われる。本発明では、以上のように
して得られる焼結体を基材として用いることができる。

【００４０】また、基材２が前記のようなプラスチック
で構成される場合、その製造方法としては、例えば、圧
縮成形、押出成形、射出成形、光造形等が挙げられる。

【００４１】また、基材２が前記のようなセラミックス
で構成される場合、その製造方法は、特に限定されない
が、金属粉末射出成形（ＭＩＭ）であるのが好ましい。
金属粉末射出成形（ＭＩＭ）は、特に、加工性に優れて
いるため、複雑な形状の基材２を比較的容易に得ること
ができる。

【００４２】また、基材２の表面に対しては、例えば、
鏡面加工、スジ目加工、梨地加工等の表面加工が施され
ているのが好ましい。これにより、得られる装飾品１Ａ
の表面の光沢具合にバリエーションを持たせることが可
能となり、得られる装飾品１Ａの装飾性をさらに向上さ
せることができる。

【００４３】また、このような表面加工を施した基材２
を用いて製造される装飾品１Ａは、被膜３に対して前記
表面加工を直接施すことにより得られるものに比べて、
被膜３のギラツキ等が抑制されたものとなり、特に美的
外観に優れたものとなる。

【００４４】また、基材２と下地層４０との密着性の向
上等を目的として、後述する下地層４０の形成に先立
ち、基材２に対して、前処理を施してもよい。前処理と
しては、例えば、ブラスト処理、アルカリ洗浄、酸洗
浄、水洗、有機溶剤洗浄、ボンバード処理等の清浄化処
理、エッチング処理等が挙げられるが、この中でも特
に、清浄化処理が好ましい。基材２の表面に、清浄化処
理を施すことにより、基材２と下地層４０との密着性が
特に優れたものとなる。 ［下地層の形成］基材２の表面に、下地層４０を形成す
る（１ｂ）。下地層４０は、例えば、基材２と被膜３と
の電位差を緩和する緩衝層として機能する。これによ
り、基材２と被膜３との電位差による腐食（異種金属接
触腐食）の発生をより効果的に防止することが可能とな
る。

【００４５】また、下地層４０は、例えば、基材２と被
膜３との密着性を向上させる機能や、基材２の孔、キズ
等をレベリング（ならし）により補修する機能等を有す
るものであってもよい。

【００４６】下地層４０の形成方法としては、例えば、
電解メッキ、浸漬メッキ、無電解メッキ等の湿式メッキ
法、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、レーザーＣＶＤ等の化
学蒸着法（ＣＶＤ）、真空蒸着、スパッタリング、イオ
ンプレーティング等の乾式メッキ法、溶射、金属箔の接
合等が挙げられるが、この中でも特に、湿式メッキ法ま
たは乾式メッキ法が好ましい。

【００４７】下地層４０の形成方法として、湿式メッキ
法または乾式メッキ法を用いることにより、形成される
下地層４０は、基材２との密着性に特に優れたものとな
る。その結果、得られる装飾品１Ａの長期耐久性は、特
に優れたものとなる。

【００４８】本発明においては、下地層４０は、Ｃｕ、
Ｃｏ、Ｐｄ、Ａｕ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｚ
ｎ、Ｃｒ、ＡｌおよびＦｅのうちの少なくとも１種の金
属または該金属を含む合金を主とする材料で構成されて
いる。また、下地層４０は、前述した材料以外の成分を
含むものであってもよい。このような成分としては、例
えば、前記金属材料のうち少なくとも１種による金属化
合物（例えば、金属酸化物、金属窒化物、金属炭化物
等）等が挙げられる。また、下地層４０の構成材料は、
基材２を構成する材料または被膜３を構成する材料のう
ち少なくとも１種を含むものであるのが好ましい。これ
により、基材２、被膜３との密着性がさらに向上する。

【００４９】下地層４０の標準電位は、基材２の標準電
位と、被膜３の標準電位との間の値であるのが好まし
い。すなわち、下地層４０は、その標準電位が、基材２
の構成材料の標準電位と、被膜３の構成材料の標準電位
との間の値である材料で構成されたものであるのが好ま
しい。これにより、基材２と被膜３との電位差による腐
食（異種金属接触腐食）の発生をより効果的に防止する
ことが可能となる。

【００５０】下地層４０の平均厚さは、特に限定されな
いが、例えば、０．１〜２０．０μｍであるのが好まし
く、０．５〜１０．０μｍであるのがより好ましい。下
地層４０の平均厚さが前記下限値未満であると、下地層
４０の効果が十分に発揮されない可能性がある。一方、
下地層４０の平均厚さが前記上限値を超えると、下地層
４０の各部位における膜厚のバラツキが大きくなる傾向
を示す。また、下地層４０の内部応力が高くなり、クラ
ックが発生し易くなる。

【００５１】このように、基材２の表面に、下地層４０
を形成することにより、基材２と被膜３との密着性、装
飾品１Ａの耐食性は、特に優れたものとなる。その結
果、装飾品１Ａは、特に耐久性に優れたものとなる。

【００５２】なお、下地層４０は、図示の構成では基材
２の全面に形成されているが、基材２の表面の少なくと
も一部に形成されるものであればよい。

【００５３】また、下地層４０の各部位における組成
は、一定であっても、一定でなくてもよい。例えば、下
地層４０は、その厚さ方向に沿って、組成が順次変化す
るもの（傾斜材料）であってもよい。

【００５４】また、下地層４０は、緩衝層として機能す
るものに限定されない。例えば、下地層４０は、保管時
（被膜３の形成の工程までの間）等に腐食が発生するの
を防止する機能等を有するものであってもよい。

【００５５】［被膜の形成］下地層４０の表面に、被膜
３を形成する（１ｃ）。

【００５６】本発明は、被膜３が主としてクロム化合物
で構成されている点に特徴を有する。このように、被膜
３が主としてクロム化合物で構成されることにより、被
膜３は、優れた光沢を有し、高硬度で、耐擦傷性（耐磨
耗性）に優れたものとなる。その結果、最終的に得られ
る装飾品１Ａは、長期間にわたって優れた美的外観を保
持できるものとなる。また、被膜３が主としてクロム化
合物で構成されることにより、被膜３は、適度な潤滑性
（摺動性）を有するものとなる。これにより、装飾品１
Ａが摺動させて用いるようなもの（例えば、ネジ部を有
するようなものや、後述するような回転ベゼル、ボタ
ン、ネジロック式りゅうず、歯車、輪列受け等）である
場合、その操作性が向上する。

【００５７】特に、本発明においては、被膜３は、少な
くともクロムの酸化物、窒化物および炭化物のうちの少
なくとも１種を含むものである。これにより、上記のよ
うな効果に加え、さらに以下のような効果が得られる。

【００５８】すなわち、被膜３がクロムの酸化物、炭化
物のうち少なくとも１種を含む材料で構成されたもので
あると、被膜３は美的外観に優れた黒色の金属光沢を有
するものとなる。その結果、最終的に得られる装飾品１
Ａは、従来では製造するのが困難であった、重厚な黒色
の金属光沢を有するものとすることができる。

【００５９】また、被膜３がクロムの窒化物を含む材料
で構成されたものであると、被膜３は、特に明るい金属
光沢を有するものとなるとともに、高硬度で、さらに優
れた耐擦傷性を有するものとなる。その結果、最終的に
得られる装飾品１Ａは、さらに長期間にわたって、優れ
た美的外観を保持できるものとなる。このような効果
は、被膜３がＣｒＮで構成される場合に、特に顕著なも
のとなる。

【００６０】クロムの酸化物としては、例えば、Ｃｒ
Ｏ、ＣｒＣＯ、ＣｒＮＯ、ＣｒＣＮＯ等が挙げられる。
また、クロムの窒化物としては、例えば、ＣｒＮ、Ｃｒ
ＣＮ、ＣｒＮＯ、ＣｒＣＮＯ等が挙げられる。また、ク
ロムの炭化物としては、例えば、ＣｒＣ、ＣｒＣＯ、Ｃ
ｒＣＮ、ＣｒＣＮＯ等が挙げられる。

【００６１】また、被膜３は、クロムの酸化物、窒化物
または炭化物以外の成分を含むものであってもよい。こ
のような成分としては、各種金属材料（ただし、合金を
含む）、クロムのハロゲン化物（例えば、ＣｒＣｌ、Ｃ
ｒＢｒ、ＣｒＩ等）、硫化物（例えば、ＣｒＳ等）、ケ
イ化物（ＣｒＳｉ）等が挙げられる。

【００６２】被膜３は、乾式メッキ法（気相成膜法）に
より形成する。乾式メッキ法を用いて被膜３を形成する
ことにより、基材２、下地層４０との密着性に優れた被
膜３を得ることができる。その結果、得られる装飾品１
Ａは、耐食性、耐久性に優れたものとなる。また、乾式
メッキ法を用いることにより、高密度の被膜３を形成す
ることが可能となる。このため、被膜３は、高硬度で、
耐摩耗性に優れたものとなり、結果として、装飾品１Ａ
は、長期間にわたって優れた美的外観を保持できるもの
となる。

【００６３】また、乾式メッキ法を用いて被膜３を形成
することにより、以下のような効果が得られる。すなわ
ち、後述するイオンプレーティングの説明で代表される
ように、雰囲気ガスの組成を適宜選択することにより、
容易に、所望の組成を有する被膜３を形成することがで
きる。このように、被膜３の組成を容易に調整すること
により、被膜３の特性（例えば、色、光沢度、硬度等）
を調整することが可能となる。

【００６４】乾式メッキ法としては、例えば、熱ＣＶ
Ｄ、プラズマＣＶＤ、レーザーＣＶＤ等の化学蒸着法
（ＣＶＤ）、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレー
ティング、イオン注入等が挙げられるが、この中でも特
に、イオンプレーティングが好ましい。

【００６５】乾式メッキ法としてイオンプレーティング
を用いることにより、均質で、かつ基材２、下地層４０
との密着性が特に優れた被膜３を比較的容易に得ること
ができる。その結果、得られる装飾品１Ａの耐久性は、
さらに向上する。また、イオンプレーティングを用いる
ことにより、特に高密度の被膜３を形成することが可能
となる。その結果、装飾品１Ａは、長期間にわたって特
に優れた美的外観を保持できるものとなる。

【００６６】イオンプレーティングは、例えば、以下の
ような条件で行うのが好ましい。イオンプレーティング
時におけるイオン化電圧は、例えば、１５〜２００Ｖで
あるのが好ましく、２０〜１３０Ｖであるのがより好ま
しい。イオン化電圧が前記範囲の値であると、基材２、
下地層４０との密着性に優れた被膜３を形成することが
できる。また、形成される被膜３は、各部位における膜
厚のバラツキが小さいものとなり、内部応力が小さく、
クラックが発生し難いものとなる。

【００６７】イオンプレーティング時におけるイオン化
電流は、例えば、５〜１５０Ａであるのが好ましく、１
０〜３０Ａであるのがより好ましい。イオン化電流が前
記範囲の値であると、基材２との密着性に優れた被膜３
を形成することができる。また、形成される被膜３は、
各部位における膜厚のバラツキが小さいものとなり、内
部応力が小さく、クラックが発生し難いものとなる。

【００６８】被膜３をイオンプレーティングにより形成
する場合、その組成は、雰囲気ガスの組成により制御す
ることができる。例えば、上述のようなイオンプレーテ
ィングを、酸素を含む雰囲気ガス中で行うことにより、
クロムの酸化物で構成される被膜３を形成することがで
きる。同様に、イオンプレーティングを、窒素を含む雰
囲気ガス中で行うことにより、クロムの窒化物で構成さ
れる被膜３を形成することができ、また、アセチレン等
の炭化水素を含む雰囲気ガス中で行うことにより、クロ
ムの炭化物で構成される被膜３を形成することができ
る。

【００６９】イオンプレーティング時における雰囲気の
圧力は、特に限定されないが、１×１０^−２〜５×１０
^−１Ｐａ程度であるのが好ましく、１×１０^−１〜３×
１０ ^−１Ｐａ程度であるのが好ましい。

【００７０】本発明では、乾式メッキ法により形成され
る被膜３の平均厚さは、５〜１００μｍである。被膜３
の平均厚さをこの範囲の値にすることにより、被膜３
は、優れた光沢と耐擦傷性とを有するものとなる。その
結果、長期間にわたって優れた美的外観を有する装飾品
１Ａを得ることができる。一方、被膜３の平均厚さが５
μｍ未満であると、被膜３の効果が十分に得られなくな
る。また、被膜３にピンホールが発生し易くなり、得ら
れる装飾品１Ａの美的外観が低下する。また、被膜３の
平均厚さが１００μｍを超えると、被膜３の内部応力が
高くなり、被膜３と下地層４０との密着性が低下した
り、クラックが発生し易くなる。その結果、装飾品１Ａ
の耐久性が低下し、安定した美的外観が得られなくな
る。上述したように、本発明では、乾式メッキ法により
形成される被膜３の平均厚さは、５〜１００μｍである
が、５〜３０μｍであるのが好ましく、５〜１５μｍで
あるのがより好ましい。被膜３の平均厚さがこのような
範囲の値であると、上述したような効果はより顕著なも
のとなる。

【００７１】以上のようにして形成される被膜３は、ビ
ッカース硬度Ｈｖが、１５００以上であるのが好まし
く、１８００以上であるのがより好ましく、２１００以
上であるのがさらに好ましい。被膜３のビッカース硬度
Ｈｖが前記下限値未満であると、装飾品１Ａの用途によ
っては、十分な耐擦傷性が得られない可能性がある。

【００７２】また、被膜３の表面の摩耗係数（対鋼）
は、装飾品１Ａの用途等により異なるが、０．８以下で
あるのが好ましく、０．７５以下であるのがより好まし
く、０．７以下であるのがさらに好ましい。被膜３の表
面の摩耗係数が前記上限値未満であると、装飾品１Ａの
滑り性が向上し、ザラツキ感を軽減、防止することがで
き、装飾品１Ａが皮膚等に接触したときの違和感、不快
感を軽減、防止することができる。

【００７３】なお、被膜３の各部位における組成は、一
定であっても、一定でなくてもよい。例えば、被膜３
は、その厚さ方向に沿って、組成が順次変化するもの
（傾斜材料）であってもよい。

【００７４】また、被膜３は、図示の構成では下地層４
０の全面に形成されているが、基材２の表面の少なくと
も一部に形成されるものであればよい。以上説明したよ
うな表面処理方法により、装飾品１Ａが得られる。

【００７５】装飾品１Ａは、装飾性を備えた物品であれ
ばいかなるものでもよいが、例えば、置物等のインテリ
ア、エクステリア用品、宝飾品、時計ケース（胴、裏蓋
等）、時計バンド（バンド中留、バンド・バングル着脱
機構等を含む）、文字盤、時計用針、ベゼル（例えば、
回転ベゼル等）、りゅうず（例えば、ネジロック式りゅ
うず等）、ボタン等の時計用外装部品、ムーブメントの
地板、歯車、輪列受け、回転錘等の時計用内装部品、メ
ガネ、ネクタイピン、カフスボタン、指輪、ネックレ
ス、ブレスレット、アンクレット、ブローチ、ペンダン
ト、イヤリング、ピアス等の装身具、ライターまたはそ
のケース、ゴルフクラブ等のスポーツ用品、銘板、パネ
ル、賞杯、その他ハウジング等を含む各種機器部品、各
種容器等が挙げられる。この中でも特に、少なくともそ
の一部が皮膚に接触して用いられるものが好ましく、時
計用外装部品がより好ましい。時計用外装部品は、装飾
品として外観の美しさが要求されるとともに、実用品と
して、耐久性、耐食性、耐摩耗性や、優れた触感等が要
求されるが、本発明の表面処理方法によればこれらの要
件を全て満足することができる。

【００７６】また、特に、本発明を回転ベゼルに適用し
た場合、クリック部のすべりが良くなり、ベゼルの回転
が滑らかになる。その結果、回転ベゼルの実用性が向上
し、また、装飾品としての高級感も向上する。また、ベ
ゼルの回転機構部のみぞ・突起部の磨耗等も好適に防止
・抑制される。また、回転ベゼルを量産した際におけ
る、各個体間でのベゼルの回転トルク値のばらつきを抑
制することができ、全体としての品質が安定する。

【００７７】また、本発明をネジ式ロックりゅうずに適
用した場合、ネジ回し時における、いわゆるゴリ感（ネ
ジが噛むような感触）を好適に防止することができる。
また、ネジ式ロックりゅうずを量産した際における、各
個体間でのネジの回転トルク値のばらつきを抑制するこ
とができ、全体としての品質が安定する。

【００７８】また、本発明をバンド中留バンドエンドピ
ース、バンド・バングル着脱機構、裏蓋等に適用した場
合、長期間にわたって、安定した留め力を確保すること
ができる。特に、本発明を裏蓋に適用した場合には、時
計の防水性をより確実に発揮することが可能になる。ま
た、本発明をボタンに適用した場合、ボタンの押し込み
感が滑らかになる。その結果、ボタンの実用性が向上
し、また、装飾品としての高級感も向上する。

【００７９】また、本発明の時計は、上述したような本
発明の装飾品を有するものである。上述したように、本
発明の装飾品は、高硬度で、耐擦傷性（体磨耗性）、耐
食性に優れ、長期間にわたって優れた美的外観を保持す
ることができるものである。このため、このような装飾
品を備えた本発明の時計は、時計としての求められる要
件を十分に満足することができる。すなわち、本発明の
時計は、特に優れた審美性を長期間にわたって保持する
ことができる。また、変色を生じにくいため、視認しや
すい状態を長期間にわたって維持することができる。特
に、本発明によれば、特別な気密構造を必要とすること
なく、上記のような効果が得られる点に特徴を有する。
なお、本発明の時計を構成する前記装飾品以外の部品と
しては、公知のものを用いることができる。

【００８０】次に、本発明の表面処理方法、装飾品およ
び時計の第２実施形態について説明する。図２は、本発
明の表面処理方法の第２実施形態を示す断面図である。
以下、第２実施形態の表面処理方法および該方法を用い
て製造される第２実施形態の装飾品について、前記第１
実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項の説明
については、その説明を省略する。

【００８１】図２に示すように、本実施形態の表面処理
方法は、基材２の表面の少なくとも一部（３ａ）に、下
地層４０を形成する工程（３ｂ）と、下地層４０の表面
の少なくとも一部に、乾式メッキ法により、主としてク
ロム化合物で構成される被膜３を積層体として形成する
工程（３ｃ、３ｄ）とを有する。すなわち、被膜３の構
成を、第１の層３１と第２の層３２との積層体とした以
外は、前述した第１実施形態と同様である。

【００８２】このように、被膜３を第１の層３１と第２
の層３２との積層体とすることにより、第１の層３１の
利点と、第２の層３２の利点とを併有することができ
る。その結果、装飾品１Ｃの美的外観をさらに優れたも
のとすることができる。

【００８３】以下、第１の層３１および第２の層３２に
ついて、順に説明する。 ［第１の層］第１の層３１の構成材料は、後述する第２
の層３２の構成材料と同一の組成を有するものであって
もよいし、異なる組成を有するものであってもよい。第
１の層３１は、前記第１実施形態の被膜３と同様、主と
してクロム化合物で構成されたものであればいかなるも
のであってもよいが、主としてクロムの窒化物で構成さ
れたものであるのが好ましく、主としてＣｒＮで構成さ
れたものであるのがより好ましい。これにより、後述す
る第２の層３２が比較的光沢度の低い材料で構成された
ものであっても、被膜３全体としては、十分な光沢度を
有するものとなる。

【００８４】第１の層３１は、前記第１実施形態の被膜
３と同様の方法で形成することができる。第１の層３１
の平均厚さは、特に限定されないが、５〜１００μｍで
あるのが好ましく、５〜３０μｍであるのがより好まし
い。

【００８５】［第２の層］第２の層３２の構成材料は、
前述した第１の層３１の構成材料と同一の組成を有する
ものであってもよいし、異なる組成を有するものであっ
てもよい。第２の層３２は、前記第１実施形態の被膜３
と同様、主としてクロム化合物で構成されたものであれ
ばいかなるものであってもよい。

【００８６】第２の層３２は、前記第１実施形態の被膜
３と同様の方法で形成することができる。第２の層３２
の平均厚さは、特に限定されないが、５〜１００μｍで
あるのが好ましく、５〜３０μｍであるのがより好まし
い。

【００８７】なお、第１の層３１、第２の層３２は、図
示の構成では基材２の全面に形成されているが、基材２
の表面の少なくとも一部に形成されるものであればよ
い。

【００８８】また、本実施形態では、被膜３は、第１の
層３１と、第２の層３２との２層からなる積層体である
ものとして説明したが、３層以上の層からなる積層体で
あってもよい。この場合、積層体を構成する複数の層の
うち、装飾品の最外表面側の層以外の少なくとも１層
が、主としてクロムの窒化物で構成されたものであるの
が好ましく、主としてＣｒＮで構成されたものであるの
がより好ましい。これにより、それ以外の層が比較的光
沢度の低い材料で構成されたものであっても、被膜３全
体としては、十分な光沢度を有するものとなる。

【００８９】また、本実施形態のように、２層以上の下
地層を有する場合、これらの下地層の平均厚さの和は、
１．０〜２００μｍであるのが好ましく、１．０〜３０
μｍであるのがより好ましい。下地層の平均厚さの和が
このような範囲の値であると、前述したような下地層の
効果がより効果的に発揮される。

【００９０】次に、本発明の表面処理方法、装飾品およ
び時計の第３実施形態について説明する。図３は、本発
明の表面処理方法の第３実施形態を示す断面図である。
以下、第３実施形態の表面処理方法および該方法を用い
て製造される第３実施形態の装飾品について、前記第
１、第２実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事
項の説明については、その説明を省略する。

【００９１】図３に示すように、本実施形態の表面処理
方法は、基材２の表面の少なくとも一部（４ａ）に、下
地層（基材側から順に、第１の下地層４１、第２の下地
層４２、第３の下地層４３）を形成する工程（４ｂ、４
ｃ、４ｄ）と、前記下地層の表面の少なくとも一部に、
乾式メッキ法により、主としてクロム化合物で構成され
る被膜３を形成する工程（４ｅ）とを有する。すなわ
ち、被膜３の形成に先立ち形成する下地層を３層（第１
の下地層４１、第２の下地層４２、第３の下地層４３）
とする以外は、前述した第１実施形態と同様である。本
発明においては、基材上に形成される下地層のうち少な
くとも１層が、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｐｄ、Ａｕ、Ａｇ、Ｉｎ、
Ｓｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｒ、ＡｌおよびＦｅのうち
の少なくとも１種の金属または該金属を含む合金を主と
する材料で構成されたものである。したがって、本実施
形態では、第１の下地層４１、第２の下地層４２、第３
の下地層４３のうち少なくとも１層が、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｐ
ｄ、Ａｕ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃ
ｒ、ＡｌおよびＦｅのうちの少なくとも１種の金属また
は該金属を含む合金を主とする材料で構成されたもので
ある。

【００９２】以下、第１の下地層４１、第２の下地層４
２および第３の下地層４３について、順に説明する。

【００９３】［第１の下地層］基材２の表面に、第１の
下地層４１を形成する。

【００９４】第１の下地層４１は、例えば、基材２と第
２の下地層４２との密着性を向上させる機能や、基材２
の孔、キズ等をレベリング（ならし）により補修する機
能等を有する。

【００９５】第１の下地層４１の形成方法としては、例
えば、電解メッキ、浸漬メッキ、無電解メッキ等の湿式
メッキ法、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、レーザーＣＶＤ
等の化学蒸着法（ＣＶＤ）、真空蒸着、スパッタリン
グ、イオンプレーティング等の乾式メッキ法、溶射、金
属箔の接合、基材２の表面に対する化学処理（例えば、
酸化処理、窒化処理）等が挙げられるが、この中でも特
に、湿式メッキ法または乾式メッキ法が好ましい。第１
の下地層４１の形成方法として、湿式メッキ法または乾
式メッキ法を用いることにより、形成される第１の下地
層４１は、基材２との密着性に特に優れたものとなる。
その結果、得られる装飾品１Ｄの長期耐久性は、特に優
れたものとなる。

【００９６】また、第１の下地層４１は、例えば、基材
２の表面に、酸化処理、窒化処理、クロメート処理、炭
化処理、酸浸漬、酸電解処理、アルカリ浸漬処理、アル
カリ電解処理等の化学処理を施すことにより形成された
被膜、特に、不動態膜であってもよい。

【００９７】第１の下地層４１の構成材料としては、例
えば、Ｃｕ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｉｎ、Ｃｏ、Ａ
ｌ等の金属材料や、前記金属材料のうち少なくとも１種
を含む合金、前記金属材料のうち少なくとも１種による
金属化合物（例えば、金属酸化物、金属窒化物、金属炭
化物等）、またはこれらを２種以上組み合わせたもの等
が挙げられる。

【００９８】また、第１の下地層４１の構成材料は、基
材２を構成する材料または第２の下地層４２を構成する
材料のうち少なくとも１種を含むものであるのが好まし
い。これにより、基材２、第２の下地層４２との密着性
がさらに向上する。

【００９９】第１の下地層４１の平均厚さは、特に限定
されないが、例えば、０．１〜２０．０μｍであるのが
好ましく、０．５〜１０．０μｍであるのがより好まし
い。第１の下地層４１の平均厚さが前記下限値未満であ
ると、第１の下地層４１の効果が十分に発揮されない可
能性がある。一方、第１の下地層４１の平均厚さが前記
上限値を超えると、第１の下地層４１の各部位における
膜厚のバラツキが大きくなる傾向を示す。また、第１の
下地層４１の内部応力が高くなり、クラックが発生し易
くなる。

【０１００】なお、図示の構成では、第１の下地層４１
は、基材２の全面に形成されているが、基材２の表面の
少なくとも一部に形成されるものであればよい。また、
第１の下地層４１の各部位における組成は、一定であっ
ても、一定でなくてもよい。例えば、第１の下地層４１
は、その厚さ方向に沿って、組成が順次変化するもの
（傾斜材料）であってもよい。

【０１０１】［第２の下地層］次に、第１の下地層４１
の表面に、第２の下地層４２を形成する。

【０１０２】第２の下地層４２は、例えば、その一方の
面側（第１の下地層４１）と他方の面側（第３の下地層
４３）との電位差を緩和する緩衝層として機能する。こ
れにより、下地層４２の一方の面側（第１の下地層４
１）と他方の面側（第３の下地層４３）との電位差によ
る腐食（異種金属接触腐食）の発生をより効果的に防止
することが可能となる。

【０１０３】第２の下地層４２の形成方法としては、例
えば、電解メッキ、浸漬メッキ、無電解メッキ等の湿式
メッキ法、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、レーザーＣＶＤ
等の化学蒸着法（ＣＶＤ）、真空蒸着、スパッタリン
グ、イオンプレーティング等の乾式メッキ法、溶射、金
属箔の接合、第１の下地層４１の表面に対する化学処理
（例えば、酸化処理、窒化処理）等が挙げられるが、こ
の中でも特に、湿式メッキ法または乾式メッキ法が好ま
しい。第２の下地層４２の形成方法として、湿式メッキ
法または乾式メッキ法を用いることにより、形成される
第２の下地層４２は、第１の下地層４１との密着性に特
に優れたものとなる。その結果、得られる装飾品１Ｄの
長期耐久性は、特に優れたものとなる。

【０１０４】また、第２の下地層４２は、例えば、第１
の下地層４１の表面に、酸化処理、窒化処理、クロメー
ト処理、炭化処理、酸浸漬、酸電解処理、アルカリ浸漬
処理、アルカリ電解処理等の化学処理を施すことにより
形成された被膜、特に、不動態膜であってもよい。

【０１０５】第２の下地層４２の標準電位は、第１の下
地層４１の標準電位と、第３の下地層４３の標準電位と
の間の値であるのが好ましい。すなわち、第２の下地層
４２は、その標準電位が、第１の下地層４１の構成材料
の標準電位と、第３の下地層４３の構成材料の標準電位
との間の値である材料で構成されたものであるのが好ま
しい。これにより、第２の下地層４２の一方の面側（第
１の下地層４１）と他方の面側（第３の下地層４３）と
の電位差による腐食（異種金属接触腐食）の発生をより
効果的に防止することが可能となる。

【０１０６】第２の下地層４２の構成材料としては、例
えば、Ｃｕ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｉｎ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐ
ｄ、Ｔｉ、Ｃｒ等の金属材料や、前記金属材料のうち少
なくとも１種を含む合金、前記金属材料のうち少なくと
も１種による金属化合物（例えば、金属酸化物、金属窒
化物、金属炭化物等）、またはこれらを２種以上組み合
わせたもの等が挙げられる。また、第２の下地層４２の
構成材料は、第１の下地層４１を構成する材料または第
３の下地層４３を構成する材料のうち少なくとも１種を
含むものであるのが好ましい。言い換えると、隣接する
２つの下地層は、互いに共通の元素を含む材料で構成さ
れたものであるのが好ましい。これにより、隣接する下
地層（第１の下地層４１、第３の下地層４３）との密着
性がさらに向上する。特に、前記共通の元素がＣｕであ
ると、隣接する下地層との密着性は、特に優れたものと
なる。

【０１０７】第２の下地層４２の平均厚さは、特に限定
されないが、例えば、０．１〜２０．０μｍであるのが
好ましく、０．５〜１０．０μｍであるのがより好まし
い。第２の下地層４２の平均厚さが前記下限値未満であ
ると、第２の下地層４２の効果が十分に発揮されない可
能性がある。一方、第２の下地層４２の平均厚さが前記
上限値を超えると、第２の下地層４２の各部位における
膜厚のバラツキが大きくなる傾向を示す。また、第２の
下地層４２の内部応力が高くなり、クラックが発生し易
くなる。

【０１０８】なお、図示の構成では、第２の下地層４２
は、第１の下地層４１の全面に形成されているが、第１
の下地層４１の表面の少なくとも一部に形成されるもの
であればよい。また、第２の下地層４２の各部位におけ
る組成は、一定であっても、一定でなくてもよい。例え
ば、第２の下地層４２は、その厚さ方向に沿って、組成
が順次変化するもの（傾斜材料）であってもよい。

【０１０９】［第３の下地層］さらに、第２の下地層４
２の表面に、第３の下地層４３を形成する。

【０１１０】第３の下地層４３は、例えば、第２の下地
層４２と被膜３との密着性を向上させる機能や、保管時
（被膜３の形成の工程までの間）等に腐食が発生するの
を防止する機能等を有する。

【０１１１】第３の下地層４３の形成方法としては、例
えば、電解メッキ、浸漬メッキ、無電解メッキ等の湿式
メッキ法、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、レーザーＣＶＤ
等の化学蒸着法（ＣＶＤ）、真空蒸着、スパッタリン
グ、イオンプレーティング等の乾式メッキ法、溶射、金
属箔の接合、第２の下地層４２の表面に対する化学処理
（例えば、酸化処理、窒化処理）等が挙げられるが、こ
の中でも特に、湿式メッキ法または乾式メッキ法が好ま
しい。第３の下地層４３の形成方法として、湿式メッキ
法または乾式メッキ法を用いることにより、形成される
第３の下地層４３は、第２の下地層４２との密着性に特
に優れたものとなる。その結果、得られる装飾品１Ｄの
長期耐久性は、特に優れたものとなる。

【０１１２】また、第３の下地層４３は、例えば、第２
の下地層４２の表面に、酸化処理、窒化処理、クロメー
ト処理、炭化処理、酸浸漬、酸電解処理、アルカリ浸漬
処理、アルカリ電解処理等の化学処理を施すことにより
形成された被膜、特に、不動態膜であってもよい。

【０１１３】第３の下地層４３の構成材料としては、例
えば、Ｎｉ、Ａｕ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｆｅ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｃ
ｒ、Ｓｎ、Ｃｕ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｒｕ等の金属材料や、前
記金属材料のうち少なくとも１種を含む合金、前記金属
材料のうち少なくとも１種による金属化合物（例えば、
金属酸化物、金属窒化物、金属炭化物等）、またはこれ
らを２種以上組み合わせたもの等が挙げられる。また、
第３の下地層４３の構成材料は、第２の下地層４２を構
成する材料または被膜３を構成する材料のうち少なくと
も１種を含むものであるのが好ましい。これにより、第
２の下地層４２、被膜３との密着性がさらに向上する。

【０１１４】第３の下地層４３の平均厚さは、特に限定
されないが、例えば、０．１〜２０．０μｍであるのが
好ましく、１．０〜３．０μｍであるのがより好まし
い。第３の下地層４３の平均厚さが前記下限値未満であ
ると、第３の下地層４３の効果が十分に発揮されない可
能性がある。一方、第３の下地層４３の平均厚さが前記
上限値を超えると、第３の下地層４３の各部位における
膜厚のバラツキが大きくなる傾向を示す。また、第３の
下地層４３の内部応力が高くなり、クラックが発生し易
くなる。

【０１１５】なお、図示の構成では、第３の下地層４３
は、第２の下地層４２の全面に形成されているが、第２
の下地層４２の表面の少なくとも一部に形成されるもの
であればよい。また、第３の下地層４３の各部位におけ
る組成は、一定であっても、一定でなくてもよい。例え
ば、第３の下地層４３は、その厚さ方向に沿って、組成
が順次変化するもの（傾斜材料）であってもよい。

【０１１６】以上説明したように、基材２の表面に、第
１の下地層４１と、第２の下地層４２と、第３の下地層
４３とを、この順に積層することにより、基材２と被膜
３との密着性、装飾品１Ｄの耐食性がさらに優れたもの
となる。その結果、装飾品１Ｄは、特に耐久性に優れた
ものとなる。

【０１１７】なお、第１の下地層４１、第２の下地層４
２、第３の下地層４３は、それぞれ前述したような機能
を有するものに限定されず、他の効果を有するものであ
ってもよい。

【０１１８】次に、本発明の表面処理方法、装飾品およ
び時計の第４実施形態について説明する。図４は、本発
明の表面処理方法の第４実施形態を示す断面図である。
以下、第４実施形態の表面処理方法および該方法を用い
て製造される第４実施形態の装飾品について、前記第
１、第２、第３実施形態との相違点を中心に説明し、同
様の事項の説明については、その説明を省略する。

【０１１９】図４に示すように、本実施形態の表面処理
方法は、基材２の表面の少なくとも一部（５ａ）に、下
地層（第１の下地層４１、第２の下地層４２、第３の下
地層４３）を形成する工程（５ｂ、５ｃ、５ｄ）と、前
記下地層の表面の少なくとも一部に、乾式メッキ法によ
り、主としてクロム化合物で構成される被膜３を形成す
る工程（５ｅ）と、被膜３の表面の一部にマスキング５
を形成する工程（５ｆ）と、剥離剤を用いて、マスキン
グ５が被覆されていない部位の被膜３を除去する工程
（５ｇ）と、マスキング５を除去する工程（５ｈ）とを
有する。すなわち、被膜３の形成後、被膜３の表面の一
部にマスキング５を形成する工程（５ｆ）と、剥離剤を
用いて、マスキング５が被覆されていない部位の被膜３
を除去する工程（５ｇ）と、マスキング５を除去する工
程（５ｈ）とを有する以外は、前述した第３実施形態と
同様である。

【０１２０】［マスキングの被覆］被膜３の形成後、被
膜３の表面の一部に、マスキング５を被覆する（５
ｆ）。このマスキング５は、後述する被膜３を除去する
工程において、被覆した部位の被膜３を保護するマスク
として機能する。

【０１２１】マスキング５としては、被膜３を除去する
工程において、被覆した部位の被膜３を保護する機能を
有するものであればいかなるものでもよいが、後述する
マスキング５を除去する工程において、容易に除去する
ことができるものであるのが好ましい。

【０１２２】このようなマスキング５を構成する材料と
しては、例えば、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、
ポリスルホン系樹脂、エポキシ系、フッ素系等の樹脂材
料や、Ａｕ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｃｕ、Ａｇ、Ｔｉ、Ｃｒ等の
金属材料を用いることができる。

【０１２３】マスキング５の形成方法は、特に限定され
ず、例えば、ディッピング、刷毛塗り、噴霧塗装、静電
塗装、電着塗装等の塗装、電解メッキ、浸漬メッキ、無
電解メッキ等の湿式メッキ法、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶ
Ｄ、レーザーＣＶＤ等の化学蒸着法（ＣＶＤ）、真空蒸
着、スパッタリング、イオンプレーティング等の乾式メ
ッキ法、溶射等が挙げられる。

【０１２４】マスキング５の平均厚さは、特に限定され
ないが、例えば、１００〜２０００μｍであるのが好ま
しく、５００〜１０００μｍであるのがより好ましい。
マスキング５の平均厚さが前記下限値未満であると、マ
スキング５にピンホールが発生し易くなる傾向がある。
このため、後述する被膜３の除去の工程において、マス
キング５が被覆された部位の被膜３の一部が溶解、剥離
する等して、得られる装飾品１Ｅの美的外観が低下する
可能性がある。一方、マスキング５の平均厚さが前記上
限値を超えると、マスキング５の各部位における膜厚の
バラツキが大きくなる傾向を示す。また、マスキング５
の内部応力が高くなり、結果として、マスキング５と被
膜３との密着性が低下したり、クラックが発生し易くな
る。

【０１２５】また、マスキング５は透明であることが好
ましい。これにより被膜３との密着状態を外部から視認
することが可能となる。

【０１２６】マスキング５は、被膜３の表面に、直接、
所望の形状となるように形成されるものに限定されな
い。例えば、被膜３の表面のほぼ全面に、マスキング５
の構成材料を被覆した後、その一部を除去することによ
り、所望のパターンを有するマスキング５としてもよ
い。

【０１２７】被膜３の表面のほぼ全面に被覆されたマス
キング５の一部を除去する方法としては、例えば、除去
したい部位のマスキング５に、レーザー光を照射する方
法等が挙げられる。このとき用いられるレーザーとして
は、例えば、Ｎｅ−Ｈｅレーザー、Ａｒレーザー、ＣＯ
_２レーザー等の気体レーザーや、ルビーレーザー、半導
体レーザー、ＹＡＧレーザー、ガラスレーザー、ＹＶＯ
_４レーザー、エキシマレーザー等が挙げられる。

【０１２８】［被膜の除去］次に、マスキング５が被覆
されていない部位の被膜３を除去する（５ｇ）。この工
程は、マスキング５を実質的に溶解、剥離せずに、マス
キング５が被覆されていない部位の被膜３のみを選択的
に除去するような条件で行うのが好ましい。

【０１２９】被膜３の除去は、例えば、５〜１０ｗｔ％
の炭酸ナトリウムを含む水溶液等を用いた陽極電解によ
り行うことができる。

【０１３０】陽極電解時における電流密度は、特に限定
されないが、通常、５Ａ／ｄｍ^２程度とされる。電解液
の温度は、特に限定されないが、３０〜３５℃であるの
が好ましい。陽極電解の処理時間は、通常、２０〜３０
分程度とされる。

【０１３１】［マスキングの除去］その後、マスキング
５を除去することにより、装飾品１Ｅが得られる。

【０１３２】マスキング５の除去は、いかなる方法で行
ってもよいが、マスキング５を除去することが可能であ
り、かつ基材２および被膜３に対して、実質的にダメー
ジを与えないマスキング除去剤を用いて行うのが好まし
い。このようなマスキング除去剤を用いることにより、
マスキング５の除去を容易かつ確実に行うことができ
る。

【０１３３】マスキング５の除去に用いられるマスキン
グ除去剤は、特に限定されないが、液体、気体等の流体
であるのが好ましく、その中でも特に、液体であるのが
好ましい。これにより、マスキング５の除去をさらに容
易かつ確実に行うことが可能となる。

【０１３４】マスキング除去剤としては、例えば、硝
酸、硫酸、アンモニア、過酸化水素、水、二硫化炭素、
四塩化炭素等の無機溶媒や、メチルエチルケトン（ＭＥ
Ｋ）、アセトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルテ
トン（ＭＩＢＫ）、メチルイソプロピルケトン（ＭＩＰ
Ｋ）、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコー
ル、ジエチレングリコール（ＤＥＧ）、グリセリン等の
アルコール系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピル
エーテル、１，２−ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、１，
４−ジオキサン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、テト
ラヒドロピラン（ＴＨＰ）、アニソール、ジエチレング
リコールジメチルエーテル（ジグリム）等のエーテル系
溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、フェニル
セロソルブ等のセロソルブ系溶媒、ヘキサン、ペンタ
ン、ヘプタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶
媒、トルエン、キシレン、ベンゼン等の芳香族炭化水素
系溶媒、ピリジン、ピラジン、フラン、ピロール、チオ
フェン等の芳香族複素環化合物系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトア
ミド（ＤＭＡ）等のアミド系溶媒、ジクロロメタン、ク
ロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化合
物系溶媒、酢酸エチル、酢酸メチル、ギ酸エチル等のエ
ステル系溶媒、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、ス
ルホラン等の硫黄化合物系溶媒、アセトニトリル、プロ
ピオニトリル等のニトリル系溶媒、ギ酸、酢酸、トリク
ロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸系溶媒等の有機
溶媒等から選択される１種または２種以上を混合したも
のや、これらに、硝酸、硫酸、塩化水素、フッ化水素、
リン酸等の酸性物質、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化リチウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネ
シウム、アンモニア等のアルカリ性物質、過マンガン酸
カリウム（ＫＭｎＯ_４）、二酸化マンガン（Ｍｎ
Ｏ_２）、二クロム酸カリウム（Ｋ_２Ｃｒ_２Ｏ_７）、オゾ
ン、濃硫酸、硝酸、サラシ粉、過酸化水素、キノン類等
の酸化剤、チオ硫酸ナトリウム（Ｎａ_２Ｓ_２Ｏ_３）、硫
化水素、過酸化水素、ヒドロキノン類等の還元剤を混合
したもの等が挙げられる。

【０１３５】マスキング５を除去する方法としては、例
えば、マスキング除去剤を噴霧する方法、液体状態のマ
スキング除去剤に浸漬する方法、液体状態のマスキング
除去剤に浸漬した状態で電解する方法等が挙げられる
が、この中でも特に、液体状態のマスキング除去剤に浸
漬する方法が好ましい。これにより、マスキング５の除
去をさらに容易かつ確実に行うことが可能となる。

【０１３６】マスキング５の除去を、液体状態のマスキ
ング除去剤に浸漬することにより行う場合、マスキング
除去剤の温度は、特に限定されないが、例えば、１５〜
１００℃であるのが好ましく、３０〜５０℃であるのが
より好ましい。マスキング除去剤の温度が前記下限値未
満であると、マスキング５の厚さ等によっては、マスキ
ング５を十分に除去するのに要する時間が長くなり、装
飾品１Ｅの生産性が低下する場合がある。一方、マスキ
ング除去剤の温度が前記上限値を超えると、マスキング
除去剤の蒸気圧、沸点等によっては、マスキング除去剤
の揮発量が多くなり、マスキング５の除去に必要なマス
キング除去剤の量が多くなる傾向を示す。

【０１３７】また、マスキング除去剤への浸漬時間は、
特に限定されないが、例えば、５〜６０分間であるのが
好ましく、５〜３０分間であるのがより好ましい。マス
キング除去剤への浸漬時間が前記下限値未満であると、
マスキング５の厚さ、マスキング除去剤の温度等によっ
ては、マスキング５を十分に除去するのが困難となる場
合がある。一方、マスキング除去剤への浸漬時間が前記
上限値を超えると、装飾品１Ｅの生産性が低下する。

【０１３８】以上説明したように、被膜３の一部を除去
することにより、被膜３を所定の形状にパターニングし
易くなる。また、被膜３の一部を除去することにより、
例えば、被膜３が残存する部位と、被膜３が除去された
部位とで、凹凸のパターンを形成したり、色彩の違いが
顕著なものとなる。その結果、装飾品１Ｅの美的外観
は、さらに優れたものとなる。

【０１３９】以上、本発明の表面処理方法、装飾品およ
び時計の好適な実施形態について説明したが、本発明
は、これらに限定されるものではない。

【０１４０】例えば、前述した第１、第２実施形態にお
いては１層の下地層を形成しており、また、第３、第４
実施形態においては３層の下地層（第１の下地層、第２
の下地層、第３の下地層）を形成しているが、形成する
下地層は、２層または４層以上であってもよい。この場
合、下地層の少なくとも１層がその片方の面側と他方側
との電位差を緩和する作用を有するものであるのが好ま
しい。また、下地層が２層または４層以上の場合であっ
ても、前述したように、隣接する２つの下地層は、互い
に共通の元素を含む材料で構成されたものであるのが好
ましい。これにより、隣接する下地層同士の密着性がさ
らに向上する。また、前記共通の元素がＣｕであると、
隣接する下地層同士の密着性は、特に優れたものとな
る。

【０１４１】また、装飾品の表面の少なくとも一部に
は、耐食性、耐候性、耐水性、耐油性、耐摩耗性、耐変
色性等を付与し、防錆、防汚、防曇、防傷等の効果を向
上する保護層等が形成されていてもよい。

【０１４２】また、前述した実施形態では、被膜３は、
１層または２層の積層体からなるものとして説明した
が、被膜３は、３層以上の積層体であってもよい。

【０１４３】また、第４実施形態においては、被膜３の
一部を除去しているが、被膜３とともに、その部位にお
ける下地層（第１の下地層、第２の下地層、第３の下地
層）の少なくとも一部が除去されてもよい。

【０１４４】

【実施例】次に、本発明の具体的実施例について説明す
る。 １． 装飾品の製造 （実施例１）以下に示すような表面処理を施すことによ
り、装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製造した。

【０１４５】まず、ステンレス鋼（ＳＵＳ３０４）を用
いて、鋳造により、腕時計ケース（裏蓋）の形状を有す
る基材を作製し、その後、必要箇所を切削、研磨した。
次に、この基材を洗浄した。基材の洗浄としては、ま
ず、アルカリ電解脱脂を３０秒間行い、次いで、アルカ
リ浸漬脱脂を３０秒間行った。その後、中和を１０秒
間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１０秒間行った。

【０１４６】このようにして洗浄を行った基材の表面
に、Ｎｉで構成される下地層を形成した。下地層の形成
は、湿式メッキにより、浴温：６０℃、電流密度：３Ａ
／ｄｍ^２、時間：１０分間という条件で行った。このよ
うにして形成された下地層の平均厚さは、５μｍであっ
た。次に、下地層が積層された基材を洗浄した。この洗
浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒間行い、
次いで、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行った。その後、
中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１０秒間
行った。

【０１４７】このようにして洗浄を行った下地層の表面
に、クロム化合物で構成される被膜を形成した。被膜の
形成は、以下に説明するようなイオンプレーティングに
より行った。まず、基材をイオンプレーティング装置内
に取付け、その後、装置内を予熱しながら、イオンプレ
ーティング装置内を３×１０^−３Ｐａまで排気（減圧）
した。次に、アルゴンガス流量１００ｍｌ／分で、ボン
バード処理を３分間行った。ボンバード処理におけるイ
オンプレーティング装置内の圧力は、９×１０^−２Ｐａ
であった。

【０１４８】次に、イオンプレーティング装置内を２×
１０^−３Ｐａまで排気（減圧）した後、窒素ガスを導入
し、イオンプレーティング装置内の圧力を３×１０^−１
Ｐａとした。このような状態で、ターゲットとしてＣｒ
を用い、イオン化電圧：３０Ｖ、イオン化電流：１４０
Ａに設定することにより、ＣｒＮで構成される被膜を形
成し、装飾品を得た。なお、形成された被膜の平均厚さ
は、１０μｍであった。被膜の厚さは、ＪＩＳ Ｈ ５
８２１の顕微鏡断面試験方法により測定した。

【０１４９】また、基材および得られた装飾品につい
て、ＪＩＳ Ｂ ０６０１で規定される表面粗さＲ
_ｍａｘを測定した。基材の研磨を行った箇所の表面粗さ
Ｒ_ｍａｘは、０．２〜０．４μｍであった。被膜の形成
後においては、これに対応する箇所の表面粗さＲ_ｍａｘ
は、０．０１〜０．０３μｍ（鏡面）となっていた。ま
た、基材の、切削、研磨を施さなかった箇所の表面粗さ
Ｒ_ｍａｘは、１．５〜１．８μｍ（梨地）であった。被
膜の形成後においては、これに対応する箇所の表面粗さ
Ｒ_ｍａｘは、１．０〜１．２μｍ（半鏡面）となってい
た。このように、被膜をイオンプレーティングにより形
成したことにより、表面が平滑化されたことが分かる。

【０１５０】（実施例２）以下に示すような表面処理を
施すことにより、装飾品（腕時計ケース（胴））を製造
した。まず、金属粉末射出成形（ＭＩＭ）により、腕時
計ケース（胴）の形状を有するＴｉ製の基材を作製し
た。Ｔｉ製の基材は、以下のようにして作製した。

【０１５１】まず、ガスアトマイズ法により製造された
平均粒径５２μｍのＴｉ粉末を用意した。このＴｉ粉
末：７５ｖｏｌ％と、ポリエチレン：８ｖｏｌ％と、ポ
リプロピレン：７ｖｏｌ％と、パラフィンワックス：１
０ｖｏｌ％とからなる材料を混練した。前記材料の混練
には、ニーダーを用いた。また、混練時における材料温
度は６０℃であった。次に、得られた混練物を粉砕、分
級して平均粒径３ｍｍのペレットとした。このペレット
を用いて、射出形成機にて金属粉末射出成形（ＭＩＭ）
し、腕時計ケースの形状を有する成形体を製造した。こ
のとき成形体は、脱バインダー処理、焼結時での収縮を
考慮して成形した。射出成形時における成形条件は、金
型温度４０℃、射出圧力８０ｋｇｆ／ｃｍ^２、射出時間
２０秒、冷却時間４０秒であった。次に、前記成形体に
対して、脱脂炉を用いた脱バインダー処理を施し、脱脂
体を得た。この脱バインダー処理は、１×１０^−３Ｔｏ
ｒｒのアルゴンガス雰囲気中、８０℃で１時間、次い
で、１０℃／時間の速度で４００℃まで昇温した。熱処
理時におけるサンプルの重さを測定し、重量低下がなく
なった時点を脱バインダー終了時点とした。次に、この
ようにして得られた脱脂体に対し、焼結炉を用いて焼結
を行い、基材を得た。この焼結は、１×１０^−５〜１×
１０^−６Ｔｏｒｒのアルゴンガス雰囲気中で、９００〜
１１００℃×６時間の熱処理を施すことにより行った。
以上のようにして得られた基材について、その必要箇所
を切削、研磨した後、この基材を洗浄した。基材の洗浄
としては、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒間行い、次
いで、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行った。その後、中
和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１０秒間行
った。

【０１５２】このようにして洗浄を行った基材の表面
に、Ｃｕで構成される下地層を形成した。下地層の形成
は、湿式メッキにより、浴温：６０℃、電流密度：３Ａ
／ｄｍ^２、時間：１０分間という条件で行った。このよ
うにして形成された下地層の平均厚さは、５μｍであっ
た。次に、下地層が積層された基材を洗浄した。この洗
浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒間行い、
次いで、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行った。その後、
中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１０秒間
行った。

【０１５３】このようにして洗浄を行った下地層の表面
に、クロム化合物で構成される被膜を形成した。被膜の
形成は、以下に説明するようなイオンプレーティングに
より行った。まず、基材をイオンプレーティング装置内
に取付け、その後、装置内を予熱しながら、イオンプレ
ーティング装置内を３×１０^−３Ｐａまで排気（減圧）
した。次に、アルゴンガス流量１００ｍｌ／分で、ボン
バード処理を３分間行った。ボンバード処理におけるイ
オンプレーティング装置内の圧力は、９×１０^−２Ｐａ
であった。

【０１５４】次に、イオンプレーティング装置内を２×
１０^−３Ｐａまで排気（減圧）した後、窒素ガス、酸素
ガスを、それぞれ、１６０ｍｌ／分、８０ｍｌ／分の流
量で導入し、イオンプレーティング装置内の圧力を３×
１０^−１Ｐａとした。このような状態で、ターゲットと
してＣｒを用い、イオン化電圧：３０Ｖ、イオン化電
流：１４０Ａに設定することにより、ＣｒＮＯで構成さ
れる被膜を形成し、装飾品を得た。なお、形成された被
膜の平均厚さは、１２μｍであった。被膜の厚さは、Ｊ
ＩＳ Ｈ ５８２１の顕微鏡断面試験方法により測定し
た。

【０１５５】また、基材および得られた装飾品につい
て、ＪＩＳ Ｂ ０６０１で規定される表面粗さＲ
_ｍａｘを測定した。基材の研磨を行った箇所の表面粗さ
Ｒ_ｍａｘは、０．２〜０．４μｍであった。被膜の形成
後においては、これに対応する箇所の表面粗さＲ_ｍａｘ
は、０．０１〜０．０３μｍ（鏡面）となっていた。ま
た、基材の、切削、研磨を施さなかった箇所の表面粗さ
Ｒ_ｍａｘは、１．５〜１．８μｍ（梨地）であった。被
膜の形成後においては、これに対応する箇所の表面粗さ
Ｒ_ｍａｘは、１．０〜１．２μｍ（半鏡面）となってい
た。このように、被膜をイオンプレーティングにより形
成したことにより、表面が平滑化されたことが分かる。

【０１５６】（実施例３）以下に示すような表面処理を
施すことにより、装飾品（腕時計ケース（胴））を製造
した。まず、アルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）粉末を用いて、粉
末冶金焼結により、腕時計ケース（胴）の形状を有する
基材を作製し、その後、必要箇所を切削、研磨した。次
に、この基材を洗浄した。基材の洗浄としては、まず、
アルカリ電解脱脂を３０秒間行い、次いで、アルカリ浸
漬脱脂を３０秒間行った。その後、中和を１０秒間、水
洗を１０秒間、純水洗浄を１０秒間行った。

【０１５７】このようにして洗浄を行った基材の表面
に、Ａｌで構成された下地層を形成した。下地層の形成
は、以下に説明するようなスパッタリングにより行っ
た。まず、基材をスパッタリング装置内に取付け、その
後、装置内を予熱しながら、スパッタリング装置内を３
×１０^−３Ｐａまで排気（減圧）した。次に、アルゴン
ガス流量５０ｍｌ／分で、ボンバード処理を３分間行っ
た。ボンバード処理におけるイオンプレーティング装置
内の圧力は、９×１０^−２Ｐａであった。

【０１５８】次に、装置内を３×１０^−３Ｐａまで排気
（減圧）した。このような状態で、ターゲットとしてＡ
ｌを用い、電圧：５〜７ｋＶ、電流密度：１ｍＡ／ｄｍ
^２という条件で放電を行うことにより、Ａｌで構成され
る下地層を形成した。このようにして形成された下地層
の平均厚さは、１０μｍであった。次に、この下地層を
洗浄した。下地層の洗浄としては、まず、アルカリ浸漬
脱脂を３０秒間行い、その後、中和を１０秒間、水洗を
１０秒間、純水洗浄を１０秒間行った。

【０１５９】このようにして洗浄を行った下地層の表面
に、クロム化合物で構成される被膜を形成した。被膜の
形成は、以下に説明するようなイオンプレーティングに
より行った。まず、基材をイオンプレーティング装置内
に取付け、その後、装置内を予熱しながら、イオンプレ
ーティング装置内を３×１０^−３Ｐａまで排気（減圧）
した。次に、アルゴンガス流量５０ｍｌ／分で、ボンバ
ード処理を５分間行った。ボンバード処理におけるイオ
ンプレーティング装置内の圧力は、９×１０^−２Ｐａで
あった。

【０１６０】次に、イオンプレーティング装置内を２×
１０^−３Ｐａまで排気（減圧）した後、窒素ガス、アセ
チレンガスを、それぞれ、１６０ｍｌ／分、１６０ｍｌ
／分の流量で導入し、イオンプレーティング装置内の圧
力を３×１０^−１Ｐａとした。このような状態で、ター
ゲットとしてＣｒを用い、イオン化電圧：３０Ｖ、イオ
ン化電流：１４０Ａに設定することにより、ＣｒＣＮで
構成される被膜を形成し、装飾品を得た。なお、形成さ
れた被膜の平均厚さは、１２μｍであった。被膜の厚さ
は、ＪＩＳ Ｈ ５８２１の顕微鏡断面試験方法により
測定した。

【０１６１】また、基材および得られた装飾品につい
て、ＪＩＳ Ｂ ０６０１で規定される表面粗さＲ
_ｍａｘを測定した。基材の研磨を行った箇所の表面粗さ
Ｒ_ｍａｘは、０．２〜０．４μｍであった。被膜の形成
後においては、これに対応する箇所の表面粗さＲ_ｍａｘ
は、０．０１〜０．０３μｍ（鏡面）となっていた。ま
た、基材の、切削、研磨を施さなかった箇所の表面粗さ
Ｒ_ｍａｘは、１．５〜１．８μｍ（梨地）であった。被
膜の形成後においては、これに対応する箇所の表面粗さ
Ｒ_ｍａｘは、１．０〜１．２μｍ（半鏡面）となってい
た。このように、被膜をイオンプレーティングにより形
成したことにより、表面が平滑化されたことが分かる。

【０１６２】（実施例４）以下に示すような表面処理を
施すことにより、装飾品（腕時計用文字盤）を製造し
た。まず、Ｃｕ−Ｚｎ系合金（合金組成：Ｃｕ６０ｗｔ
％−Ｚｎ４０ｗｔ％）を用いて、鋳造により、腕時計用
文字盤の形状を有する基材を作製し、その後、必要箇所
を切削、研磨した。次に、この基材の表面に、梨地加工
を施した。梨地加工は、基材表面に、ガラスビーズを２
ｋｇ／ｃｍ^２の圧力で吹き付けることにより行った。次
に、梨地加工を施した基材を洗浄した。基材の洗浄とし
ては、まず、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行い、その
後、中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１０
秒間行った。

【０１６３】次に、この基材の鏡面加工を施した側の面
に、Ｎｉで構成される下地層を形成した。下地層の形成
は、湿式メッキにより、浴温：６０℃、電流密度：３Ａ
／ｄｍ^２、時間：１０分間という条件で行った。このよ
うにして形成された下地層の平均厚さは、５μｍであっ
た。次に、下地層が積層された基材を洗浄した。この洗
浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒間行い、
次いで、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行った。その後、
中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１０秒間
行った。

【０１６４】このようにして洗浄を行った下地層の表面
に、クロム化合物で構成される被膜を形成した。被膜
は、第１の層と第２の層とからなる積層体として形成し
た。第１の層および第２の層は、以下に説明するような
イオンプレーティングにより、連続して形成した。ま
ず、下地層が形成された基材を、イオンプレーティング
装置内に取付け、その後、装置内を予熱しながら、イオ
ンプレーティング装置内を３×１０^−３Ｐａまで排気
（減圧）した。次に、アルゴンガス流量１００ｍｌ／分
で、ボンバード処理を３分間行った。ボンバード処理に
おけるイオンプレーティング装置内の圧力は、９×１０
^−２Ｐａであった。

【０１６５】次に、イオンプレーティング装置内を２×
１０^−３Ｐａまで排気（減圧）した後、窒素ガスを導入
し、イオンプレーティング装置内の圧力を３×１０^−１
Ｐａとした。このような状態で、ターゲットとしてＣｒ
を用い、イオン化電圧：３０Ｖ、イオン化電流：１４０
Ａに設定することにより、ＣｒＮで構成される第１の層
を形成した。

【０１６６】引き続き、以下のようにして、第１の層の
表面に、第２の層を形成した。イオンプレーティング装
置内を２×１０^−３Ｐａまで排気（減圧）した後、窒素
ガス、酸素ガスを、それぞれ、１６０ｍｌ／分、８０ｍ
ｌ／分の流量で導入し、イオンプレーティング装置内の
圧力を３×１０^−１Ｐａとした。このような状態で、タ
ーゲットとしてＣｒを用い、イオン化電圧：３０Ｖ、イ
オン化電流：１４０Ａに設定することにより、ＣｒＮＯ
で構成される第２の層を形成し、装飾品を得た。なお、
第１の層、第２の層の平均厚さは、それぞれ、１０μ
ｍ、１μｍであった。下地層、第１の層、第２の層の厚
さは、ＪＩＳ Ｈ ５８２１の顕微鏡断面試験方法によ
り測定した。

【０１６７】（実施例５）以下に示すような表面処理を
施すことにより、装飾品（腕時計用針）を製造した。ま
ず、Ｃｕ−Ｚｎ系合金（合金組成：Ｃｕ６０ｗｔ％−Ｚ
ｎ４０ｗｔ％）を用いて、鋳造により、腕時計用針の形
状を有する基材を作製し、その後、必要箇所を切削した
後、ダイヤカットにより、鏡面加工を施した。次に、こ
の基材を洗浄した。基材の洗浄としては、まず、アルカ
リ浸漬脱脂を３０秒間行い、その後、中和を１０秒間、
水洗を１０秒間、純水洗浄を１０秒間行った。

【０１６８】次に、この基材の鏡面加工を施した側の面
に、Ｃｕで構成される下地層を形成した。下地層の形成
は、湿式メッキにより、浴温：６０℃、電流密度：３Ａ
／ｄｍ^２、時間：１０分間という条件で行った。このよ
うにして形成された下地層の平均厚さは、５μｍであっ
た。次に、下地層が積層された基材を洗浄した。この洗
浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒間行い、
次いで、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行った。その後、
中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１０秒間
行った。

【０１６９】このようにして洗浄を行った下地層の表面
に、クロム化合物で構成される被膜を形成した。被膜
は、第１の層と第２の層とからなる積層体として形成し
た。第１の層および第２の層は、以下に説明するような
イオンプレーティングにより、連続して形成した。ま
ず、下地層が形成された基材を、イオンプレーティング
装置内に取付け、その後、装置内を予熱しながら、イオ
ンプレーティング装置内を３×１０^−３Ｐａまで排気
（減圧）した。次に、アルゴンガス流量１００ｍｌ／分
で、ボンバード処理を３分間行った。ボンバード処理に
おけるイオンプレーティング装置内の圧力は、９×１０
^−２Ｐａであった。

【０１７０】次に、イオンプレーティング装置内を２×
１０^−３Ｐａまで排気（減圧）した後、窒素ガスを導入
し、イオンプレーティング装置内の圧力を３×１０^−１
Ｐａとした。このような状態で、ターゲットとしてＣｒ
を用い、イオン化電圧：３０Ｖ、イオン化電流：１４０
Ａに設定することにより、ＣｒＮで構成される第１の層
を形成した。

【０１７１】引き続き、以下のようにして、第１の層の
表面に、第２の層を形成した。イオンプレーティング装
置内を２×１０^−３Ｐａまで排気（減圧）した後、窒素
ガス、アセチレンガスを、それぞれ、１６０ｍｌ／分、
１６０ｍｌ／分の流量で導入し、イオンプレーティング
装置内の圧力を３×１０^−１Ｐａとした。このような状
態で、ターゲットとしてＣｒを用い、イオン化電圧：３
０Ｖ、イオン化電流：１４０Ａに設定することにより、
ＣｒＣＮで構成される第２の層を形成し、装飾品を得
た。なお、第１の層、第２の層の平均厚さは、それぞ
れ、１０μｍ、１μｍであった。下地層、第１の層、第
２の層の厚さは、ＪＩＳ Ｈ ５８２１の顕微鏡断面試
験方法により測定した。

【０１７２】（実施例６）以下に示すような表面処理を
施すことにより、装飾品（腕時計ケース（胴））を製造
した。まず、鋳造により、腕時計ケース（胴）の形状を
有する、アルミニウム製の基材を作製し、その後、必要
箇所を切削、研磨した。次に、この基材の表面に、エメ
リー＃１８０研磨にて、スジ目加工を施した。

【０１７３】次に、スジ目加工を施した基材の表面に、
酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）で構成された下地層を
形成した。下地層の形成は、陽極酸化法により、浴温：
３０℃、電流密度：２Ａ／ｄｍ^２、時間：６０分という
条件で行った。このようにして形成された下地層の平均
厚さは、２０μｍであった。次に、この下地層を洗浄し
た。下地層の洗浄としては、まず、アルカリ浸漬脱脂を
３０秒間行い、その後、中和を１０秒間、水洗を１０秒
間、純水洗浄を１０秒間行った。

【０１７４】このようにして洗浄を行った下地層の表面
に、クロム化合物で構成される被膜を形成した。被膜
は、第１の層と第２の層とからなる積層体として形成し
た。第１の層および第２の層は、以下に説明するような
イオンプレーティングにより、連続して形成した。ま
ず、下地層が形成された基材を、イオンプレーティング
装置内に取付け、その後、装置内を予熱しながら、イオ
ンプレーティング装置内を３×１０^−３Ｐａまで排気
（減圧）した。次に、アルゴンガス流量１００ｍｌ／分
で、ボンバード処理を３分間行った。ボンバード処理に
おけるイオンプレーティング装置内の圧力は、９×１０
^−２Ｐａであった。

【０１７５】次に、イオンプレーティング装置内を２×
１０^−３Ｐａまで排気（減圧）した後、窒素ガスを導入
し、イオンプレーティング装置内の圧力を３×１０^−１
Ｐａとした。このような状態で、ターゲットとしてＣｒ
を用い、イオン化電圧：３０Ｖ、イオン化電流：２８０
Ａに設定することにより、ＣｒＮで構成される第１の層
を形成した。

【０１７６】引き続き、以下のようにして、第１の層の
表面に、第２の層を形成した。イオンプレーティング装
置内を２×１０^−３Ｐａまで排気（減圧）した後、窒素
ガスを導入し、イオンプレーティング装置内の圧力を８
×１０^−２Ｐａとした。このような状態で、ターゲット
としてＣｒを用い、イオン化電圧：３０Ｖ、イオン化電
流：１４０Ａに設定することにより、ＣｒＮで構成され
る第２の層を形成し、装飾品を得た。なお、第１の層、
第２の層の平均厚さは、それぞれ、１０μｍ、１μｍで
あった。下地層、第１の層、第２の層の厚さは、ＪＩＳ
Ｈ ５８２１の顕微鏡断面試験方法により測定した。

【０１７７】（実施例７）以下に示すような表面処理を
施すことにより、装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製
造した。まず、鋳造により、腕時計ケース（裏蓋）の形
状を有する、アルミニウム製の基材を作製し、その後、
必要箇所を切削、研磨した。次に、この基材の表面に、
エメリー＃１８０研磨にて、スジ目加工を施した。

【０１７８】次に、スジ目加工を施した基材の表面に、
酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）で構成された下地層を
形成した。下地層の形成は、陽極酸化法により、浴温：
３０℃、電流密度：２Ａ／ｄｍ^２、時間：６０分という
条件で行った。このようにして形成された下地層の平均
厚さは、２０μｍであった。次に、この下地層を洗浄し
た。下地層の洗浄としては、まず、アルカリ浸漬脱脂を
３０秒間行い、その後、中和を１０秒間、水洗を１０秒
間、純水洗浄を１０秒間行った。

【０１７９】このようにして洗浄を行った下地層の表面
に、クロム化合物で構成される被膜を形成した。被膜
は、第１の層と第２の層とからなる積層体として形成し
た。第１の層および第２の層は、以下に説明するような
イオンプレーティングにより、連続して形成した。ま
ず、下地層が形成された基材を、イオンプレーティング
装置内に取付け、その後、装置内を予熱しながら、イオ
ンプレーティング装置内を３×１０^−３Ｐａまで排気
（減圧）した。次に、アルゴンガス流量１００ｍｌ／分
で、ボンバード処理を３分間行った。ボンバード処理に
おけるイオンプレーティング装置内の圧力は、９×１０
^−２Ｐａであった。

【０１８０】次に、イオンプレーティング装置内を２×
１０^−３Ｐａまで排気（減圧）した後、窒素ガスを導入
し、イオンプレーティング装置内の圧力を３×１０^−１
Ｐａとした。このような状態で、ターゲットとしてＣｒ
を用い、イオン化電圧：３０Ｖ、イオン化電流：１４０
Ａに設定することにより、ＣｒＮで構成される第１の層
を形成した。

【０１８１】引き続き、以下のようにして、第１の層の
表面に、第２の層を形成した。イオンプレーティング装
置内を２×１０^−３Ｐａまで排気（減圧）した後、酸素
ガスを導入し、イオンプレーティング装置内の圧力を１
×１０^−１Ｐａとした。このような状態で、ターゲット
としてＣｒを用い、イオン化電圧：２５Ｖ、イオン化電
流：１１０Ａに設定することにより、ＣｒＯで構成され
る第２の層を形成し、装飾品を得た。なお、第１の層、
第２の層の平均厚さは、それぞれ、１０μｍ、１μｍで
あった。下地層、第１の層、第２の層の厚さは、ＪＩＳ
Ｈ ５８２１の顕微鏡断面試験方法により測定した。

【０１８２】（実施例８）以下に示すような表面処理を
施すことにより、装飾品（腕時計用文字盤）を製造し
た。まず、ステンレス鋼（ＳＵＳ４４４）を用いて、鋳
造により、腕時計用文字盤の形状を有する基材を作製
し、その後、必要箇所を切削、研磨した。次に、この基
材を洗浄した。基材の洗浄としては、まず、アルカリ電
解脱脂を３０秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を３
０秒間行った。その後、中和を１０秒間、水洗を１０秒
間、純水洗浄を１０秒間行った。

【０１８３】このようにして洗浄を行った基材の表面
に、Ｃｕで構成される第１の下地層を形成した。第１の
下地層の形成は、湿式メッキにより、浴温：６０℃、電
流密度：３Ａ／ｄｍ^２、時間：１分間という条件で行っ
た。このようにして形成された第１の下地層の平均厚さ
は、１μｍであった。

【０１８４】その後、第１の下地層の表面に、Ｃｕ−Ｓ
ｎ系合金で構成される第２の下地層を形成した。第２の
下地層の形成は、湿式メッキにより、浴温：６０℃、電
流密度：３Ａ／ｄｍ^２、時間：２分間という条件で行っ
た。このようにして形成された第２の下地層の平均厚さ
は、３μｍであった。

【０１８５】さらに、第２の下地層の表面に、Ａｕで構
成される第３の下地層を形成した。第３の下地層の形成
は、湿式メッキにより、浴温：６０℃、電流密度：３Ａ
／ｄｍ^２、時間：２分間という条件で行った。このよう
にして形成された第３の下地層の平均厚さは、３μｍで
あった。次に、第１〜第３の下地層が積層された基材を
洗浄した。この洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂
を３０秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間
行った。その後、中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純
水洗浄を１０秒間行った。

【０１８６】洗浄後、第３の下地層の表面に、クロム化
合物で構成される被膜を形成した。被膜の形成は、以下
に説明するようなイオンプレーティングにより行った。
まず、基材をイオンプレーティング装置内に取付け、そ
の後、装置内を予熱しながら、イオンプレーティング装
置内を３×１０^−３Ｐａまで排気（減圧）した。次に、
アルゴンガス流量１００ｍｌ／分で、ボンバード処理を
３分間行った。ボンバード処理におけるイオンプレーテ
ィング装置内の圧力は、９×１０^−２Ｐａであった。

【０１８７】次に、イオンプレーティング装置内を２×
１０^−３Ｐａまで排気（減圧）した後、窒素ガス、酸素
ガスを、それぞれ、１６０ｍｌ／分、８０ｍｌ／分の流
量で導入し、イオンプレーティング装置内の圧力を３×
１０^−１Ｐａとした。このような状態で、ターゲットと
してＣｒを用い、イオン化電圧：３０Ｖ、イオン化電
流：１４０Ａに設定することにより、ＣｒＮＯで構成さ
れる被膜を形成し、装飾品を得た。なお、形成された被
膜の平均厚さは、１２μｍであった。第１〜第３の下地
層、被膜の厚さは、ＪＩＳ Ｈ ５８２１の顕微鏡断面
試験方法により測定した。

【０１８８】（実施例９）以下に示すような表面処理を
施すことにより、装飾品（腕時計用文字盤）を製造し
た。まず、Ｃｕ−Ｚｎ系合金（合金組成：Ｃｕ６０ｗｔ
％−Ｚｎ４０ｗｔ％）を用いて、鋳造により、腕時計用
文字盤の形状を有する基材を作製し、その後、必要箇所
を切削、研磨した。次に、この基材を洗浄した。基材の
洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒間行
い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行った。その
後、中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１０
秒間行った。

【０１８９】このようにして洗浄を行った基材の表面
に、Ｃｕで構成される第１の下地層を形成した。第１の
下地層の形成は、湿式メッキにより、浴温：６０℃、電
流密度：３Ａ／ｄｍ^２、時間：１分間という条件で行っ
た。このようにして形成された第１の下地層の平均厚さ
は、１μｍであった。

【０１９０】その後、第１の下地層の表面に、Ｃｕ−Ｓ
ｎ系合金で構成される第２の下地層を形成した。第２の
下地層の形成は、湿式メッキにより、浴温：６０℃、電
流密度：３Ａ／ｄｍ^２、時間：２分間という条件で行っ
た。このようにして形成された第２の下地層の平均厚さ
は、３μｍであった。

【０１９１】さらに、第２の下地層の表面に、Ｐｄで構
成される第３の下地層を形成した。第３の下地層の形成
は、湿式メッキにより、浴温：６０℃、電流密度：２Ａ
／ｄｍ^２、時間：３分間という条件で行った。このよう
にして形成された第３の下地層の平均厚さは、３μｍで
あった。次に、第１〜第３の下地層が積層された基材を
洗浄した。この洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂
を３０秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間
行った。その後、中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純
水洗浄を１０秒間行った。

【０１９２】洗浄後、第３の下地層の表面に、クロム化
合物で構成される被膜を形成した。被膜の形成は、以下
に説明するようなイオンプレーティングにより行った。
まず、下地層が形成された基材を、イオンプレーティン
グ装置内に取付け、その後、装置内を予熱しながら、イ
オンプレーティング装置内を３×１０^−３Ｐａまで排気
（減圧）した。次に、アルゴンガス流量１００ｍｌ／分
で、ボンバード処理を３分間行った。ボンバード処理に
おけるイオンプレーティング装置内の圧力は、９×１０
^−２Ｐａであった。

【０１９３】次に、イオンプレーティング装置内を２×
１０^−３Ｐａまで排気（減圧）した後、窒素ガス、酸素
ガスを、それぞれ、１６０ｍｌ／分、８０ｍｌ／分の流
量で導入し、イオンプレーティング装置内の圧力を３×
１０^−１Ｐａとした。このような状態で、ターゲットと
してＣｒを用い、イオン化電圧：３０Ｖ、イオン化電
流：１４０Ａに設定することにより、ＣｒＮＯで構成さ
れる被膜を形成し、装飾品を得た。なお、形成された被
膜の平均厚さは、１０μｍであった。第１〜第３の下地
層、被膜の厚さは、ＪＩＳ Ｈ ５８２１の顕微鏡断面
試験方法により測定した。

【０１９４】（実施例１０）以下に示すような表面処理
を施すことにより、装飾品（腕時計ケース（胴））を製
造した。まず、Ｎｉを用いて、鍛造により、腕時計ケー
ス（胴）の形状を有する基材を作製し、その後、必要箇
所を切削、研磨した。次に、この基材の表面に、梨地加
工を施した。梨地加工は、基材表面に、ガラスビーズを
２ｋｇ／ｃｍ^２の圧力で吹き付けることにより行った。
次に、梨地加工を施した基材を洗浄した。基材の洗浄と
しては、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒間行い、次い
で、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行った。その後、中和
を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１０秒間行っ
た。

【０１９５】このようにして洗浄を行った基材の表面
に、Ｃｕで構成される第１の下地層を形成した。第１の
下地層の形成は、湿式メッキにより、浴温：６０℃、電
流密度：３Ａ／ｄｍ^２、時間：２０分間という条件で行
った。このようにして形成された第１の下地層の平均厚
さは、２０μｍであった。

【０１９６】その後、第１の下地層の表面に、Ｃｕ−Ｓ
ｎ系合金で構成される第２の下地層を形成した。第２の
下地層の形成は、湿式メッキにより、浴温：６０℃、電
流密度：３Ａ／ｄｍ^２、時間：３分間という条件で行っ
た。このようにして形成された第２の下地層の平均厚さ
は、３μｍであった。次に、第１の下地層、第２の下地
層が積層された基材を洗浄した。この洗浄としては、ま
ず、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行い、その後、中和を
１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１０秒間行っ
た。

【０１９７】洗浄後、第２の下地層の表面に、クロム化
合物で構成される被膜を形成した。被膜の形成は、以下
に説明するようなイオンプレーティングにより行った。
まず、基材をイオンプレーティング装置内に取付け、そ
の後、装置内を予熱しながら、イオンプレーティング装
置内を３×１０^−３Ｐａまで排気（減圧）した。次に、
アルゴンガス流量１００ｍｌ／分で、ボンバード処理を
３分間行った。ボンバード処理におけるイオンプレーテ
ィング装置内の圧力は、９×１０^−２Ｐａであった。

【０１９８】次に、イオンプレーティング装置内を２×
１０^−３Ｐａまで排気（減圧）した後、窒素ガス、酸素
ガスを、それぞれ、１６０ｍｌ／分、８０ｍｌ／分の流
量で導入し、イオンプレーティング装置内の圧力を３×
１０^−１Ｐａとした。このような状態で、ターゲットと
してＣｒを用い、イオン化電圧：３０Ｖ、イオン化電
流：１４０Ａに設定することにより、ＣｒＮＯで構成さ
れる被膜を形成し、装飾品を得た。なお、形成された被
膜の平均厚さは、１２μｍであった。第１、第２の下地
層、被膜の厚さは、ＪＩＳ Ｈ ５８２１の顕微鏡断面
試験方法により測定した。

【０１９９】（実施例１１）第３の下地層の表面に形成
した被膜の一部を、以下のようにして、除去した以外
は、前記実施例９と同様にして、装飾品を製造した。ま
ず、被膜の表面の一部に、マスキングを所定の形状に形
成した。マスキングの形成は、ゴム系樹脂を刷毛塗りす
ることにより、被膜の表面の一部を被覆し、その後、１
８０〜２００℃で、３０分間乾燥することにより行っ
た。このようにして形成されたマスキングの平均厚さ
は、５００μｍであった。

【０２００】次に、マスキングが被覆されていない部位
の被膜の除去を行った。被膜の除去は、７ｗｔ％の炭酸
ナトリウム水溶液を用いた陽極電解により行った。陽極
電解時における電流密度、電解液の温度は、それぞれ、
５Ａ／ｄｍ^２、３２℃であった。また、陽極電解の処理
時間は、３０分であった。その後、ハロゲン化合物系溶
媒、ケトン系溶媒よりなるマスキング除去剤に浸漬する
ことにより、マスキングを除去した。また、本工程にお
けるマスキング除去剤の温度、マスキング除去剤への浸
漬時間は、それぞれ３０℃、３０分であった。

【０２０１】（実施例１２）以下に示すような表面処理
を施すことにより、装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を
製造した。まず、Ｃｕ−Ｚｎ系合金（合金組成：Ｃｕ６
０ｗｔ％−Ｚｎ４０ｗｔ％）を用いて、鋳造により、腕
時計ケース（裏蓋）の形状を有する基材を作製し、その
後、必要箇所を切削、研磨した。次に、この基材の表面
に、梨地加工を施した。梨地加工は、基材表面に、ガラ
スビーズを２ｋｇ／ｃｍ^２の圧力で吹き付けることによ
り行った。次に、梨地加工を施した基材を洗浄した。基
材の洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒間
行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行った。そ
の後、中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１
０秒間行った。

【０２０２】このようにして洗浄を行った基材の表面
に、Ｃｕで構成される第１の下地層を形成した。第１の
下地層の形成は、湿式メッキにより、浴温：６０℃、電
流密度：３Ａ／ｄｍ^２、時間：１０分間という条件で行
った。このようにして形成された第１の下地層の平均厚
さは、５μｍであった。

【０２０３】その後、第１の下地層の表面に、Ｃｕ−Ｓ
ｎ系合金で構成される第２の下地層を形成した。第２の
下地層の形成は、湿式メッキにより、浴温：６０℃、電
流密度：３Ａ／ｄｍ^２、時間：２分間という条件で行っ
た。このようにして形成された第２の下地層の平均厚さ
は、３μｍであった。

【０２０４】さらに、第２の下地層の表面に、Ｐｄで構
成される第３の下地層を形成した。第３の下地層の形成
は、湿式メッキにより、浴温：６０℃、電流密度：２Ａ
／ｄｍ^２、時間：９分間という条件で行った。このよう
にして形成された第３の下地層の平均厚さは、３μｍで
あった。次に、第１〜第３の下地層が積層された基材を
洗浄した。この洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂
を３０秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間
行った。その後、中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純
水洗浄を１０秒間行った。

【０２０５】洗浄後、第３の下地層の表面に、クロム化
合物で構成される被膜を形成した。被膜は、第１の層と
第２の層とからなる積層体として形成した。第１の層お
よび第２の層は、以下に説明するようなイオンプレーテ
ィングにより、連続して形成した。まず、下地層が形成
された基材を、イオンプレーティング装置内に取付け、
その後、装置内を予熱しながら、イオンプレーティング
装置内を３×１０^−３Ｐａまで排気（減圧）した。次
に、アルゴンガス流量１００ｍｌ／分で、ボンバード処
理を３分間行った。ボンバード処理におけるイオンプレ
ーティング装置内の圧力は、９×１０^−２Ｐａであっ
た。

【０２０６】次に、イオンプレーティング装置内を２×
１０^−３Ｐａまで排気（減圧）した後、窒素ガスを導入
し、イオンプレーティング装置内の圧力を３×１０^−１
Ｐａとした。このような状態で、ターゲットとしてＣｒ
を用い、イオン化電圧：３０Ｖ、イオン化電流：１４０
Ａに設定することにより、ＣｒＮで構成される第１の層
を形成した。

【０２０７】引き続き、以下のようにして、第１の層の
表面に、第２の層を形成した。イオンプレーティング装
置内を２×１０^−３Ｐａまで排気（減圧）した後、窒素
ガス、酸素ガスを、それぞれ、１６０ｍｌ／分、８０ｍ
ｌ／分の流量で導入し、イオンプレーティング装置内の
圧力を３×１０^−１Ｐａとした。このような状態で、タ
ーゲットとしてＣｒを用い、イオン化電圧：３０Ｖ、イ
オン化電流：１４０Ａに設定することにより、ＣｒＮＯ
で構成される第２の層を形成した。なお、第１の層、第
２の層の平均厚さは、それぞれ、１０μｍ、１μｍであ
った。

【０２０８】次に、第３の下地層の表面に形成した被膜
（第１の層および第２の層）の一部を、以下のようにし
て除去し、装飾品を得た。まず、被膜の表面の一部に、
マスキングを所定の形状に形成した。マスキングの形成
は、ゴム系樹脂を刷毛塗りすることにより、被膜の表面
の一部を被覆し、その後、１８０〜２００℃で、３０分
間乾燥することにより行った。このようにして形成され
たマスキングの平均厚さは、５００μｍであった。

【０２０９】次に、マスキングが被覆されていない部位
の被膜の除去を行った。被膜の除去は、７ｗｔ％の炭酸
ナトリウム水溶液を用いた陽極電解により行った。陽極
電解時における電流密度、電解液の温度は、それぞれ、
５Ａ／ｄｍ^２、３２℃であった。また、陽極電解の処理
時間は、３０分であった。

【０２１０】その後、ハロゲン化合物系溶媒、ケトン系
溶媒よりなるマスキング除去剤に浸漬することにより、
マスキングを除去した。また、本工程におけるマスキン
グ除去剤の温度、マスキング除去剤への浸漬時間は、そ
れぞれ３０℃、３０分であった。なお、下地層（第１〜
第３の下地層）、第１の層、第２の層の厚さは、ＪＩＳ
Ｈ ５８２１の顕微鏡断面試験方法により測定した。

【０２１１】（実施例１３）以下に示すような表面処理
を施すことにより、装飾品（腕時計ケースおよび回転ベ
ゼル）を製造した。まず、ステンレス鋼（ＳＵＳ３１６
Ｌ）を用いて、鍛造により、腕時計ケース（胴）の形状
を有する基材、回転ベゼルの形状を有する基材をそれぞ
れ作製し、その後、必要箇所を切削、研磨した。次に、
これらの基材を洗浄した。基材の洗浄としては、まず、
アルカリ電解脱脂を３０秒間行い、次いで、アルカリ浸
漬脱脂を３０秒間行った。その後、中和を１０秒間、水
洗を１０秒間、純水洗浄を１０秒間行った。

【０２１２】このようにして洗浄を行った基材の表面
に、Ａｕで構成される第１の下地層を形成した。第１の
下地層の形成は、湿式メッキにより、浴温：６０℃、電
流密度：３Ａ／ｄｍ^２、時間：５分間という条件で行っ
た。このようにして形成された第１の下地層の平均厚さ
は、０．５μｍであった。

【０２１３】その後、第１の下地層の表面に、Ｐｄで構
成される第２の下地層を形成した。第２の下地層の形成
は、湿式メッキにより、浴温：６０℃、電流密度：３Ａ
／ｄｍ^２、時間：１０分間という条件で行った。このよ
うにして形成された第２の下地層の平均厚さは、３μｍ
であった。

【０２１４】次に、第１の下地層、第２の下地層が積層
された基材を洗浄した。この洗浄としては、まず、アル
カリ電解脱脂を３０秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱
脂を３０秒間行った。その後、中和を１０秒間、水洗を
１０秒間、純水洗浄を１０秒間行った。

【０２１５】洗浄後、第２の下地層の表面に、クロム化
合物で構成される被膜を形成した。被膜は、第１の層と
第２の層とからなる積層体として形成した。第１の層お
よび第２の層は、以下に説明するようなイオンプレーテ
ィングにより、連続して形成した。まず、下地層が形成
された基材を、イオンプレーティング装置内に取付け、
その後、装置内を予熱しながら、イオンプレーティング
装置内を３×１０^−３Ｐａまで排気（減圧）した。次
に、アルゴンガス流量１００ｍｌ／分で、ボンバード処
理を３分間行った。ボンバード処理におけるイオンプレ
ーティング装置内の圧力は、９×１０^−２Ｐａであっ
た。

【０２１６】次に、イオンプレーティング装置内を２×
１０^−３Ｐａまで排気（減圧）した後、窒素ガスを導入
し、イオンプレーティング装置内の圧力を３×１０^−１
Ｐａとした。このような状態で、ターゲットとしてＣｒ
を用い、イオン化電圧：３０Ｖ、イオン化電流：１４０
Ａに設定することにより、ＣｒＮで構成される第１の層
を形成した。

【０２１７】引き続き、以下のようにして、第１の層の
表面に、第２の層を形成した。イオンプレーティング装
置内を２×１０^−３Ｐａまで排気（減圧）した後、窒素
ガス、酸素ガスを、それぞれ、１６０ｍｌ／分、８０ｍ
ｌ／分の流量で導入し、イオンプレーティング装置内の
圧力を３×１０^−１Ｐａとした。このような状態で、タ
ーゲットとしてＣｒを用い、イオン化電圧：３０Ｖ、イ
オン化電流：１４０Ａに設定することにより、ＣｒＮＯ
で構成される第２の層を形成し、装飾品（腕時計ケース
および回転ベゼル）を得、これらを組み立てた。なお、
第１の層、第２の層の平均厚さは、それぞれ、１０μ
ｍ、１μｍであった。

【０２１８】また、基材および得られた装飾品につい
て、ＪＩＳ Ｂ ０６０１で規定される表面粗さＲ
_ｍａｘを測定した。基材の研磨を行った箇所の表面粗さ
Ｒ_ｍａｘは、０．２〜０．４μｍであった。被膜の形成
後においては、これに対応する箇所の表面粗さＲ_ｍａｘ
は、０．０１〜０．０３μｍ（鏡面）となっていた。ま
た、基材の、切削、研磨を施さなかった箇所の表面粗さ
Ｒ_ｍａｘは、１．５〜１．８μｍ（梨地）であった。被
膜の形成後においては、これに対応する箇所の表面粗さ
Ｒ_ｍａｘは、１．０〜１．２μｍ（半鏡面）となってい
た。このように、被膜をイオンプレーティングにより形
成したことにより、表面が平滑化されたことが分かる。

【０２１９】（実施例１４）以下に示すような表面処理
を施すことにより、装飾品（腕時計ケースおよびネジロ
ックりゅうず）を製造した。まず、ステンレス鋼（ＳＵ
Ｓ３１６Ｌ）を用いて、鍛造により、腕時計ケース
（胴）の形状を有する基材、ネジロックりゅうずの形状
を有する基材をそれぞれ作製し、その後、必要箇所を切
削、研磨した。次に、これらの基材を洗浄した。基材の
洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒間行
い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行った。その
後、中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１０
秒間行った。

【０２２０】このようにして洗浄を行った基材の表面
に、Ａｕで構成される第１の下地層を形成した。第１の
下地層の形成は、湿式メッキにより、浴温：６０℃、電
流密度：３Ａ／ｄｍ^２、時間：５分間という条件で行っ
た。このようにして形成された第１の下地層の平均厚さ
は、０．５μｍであった。

【０２２１】その後、第１の下地層の表面に、Ｐｄで構
成される第２の下地層を形成した。第２の下地層の形成
は、湿式メッキにより、浴温：６０℃、電流密度：３Ａ
／ｄｍ^２、時間：１０分間という条件で行った。このよ
うにして形成された第２の下地層の平均厚さは、３μｍ
であった。

【０２２２】次に、第１の下地層、第２の下地層が積層
された基材を洗浄した。この洗浄としては、まず、アル
カリ電解脱脂を３０秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱
脂を３０秒間行った。その後、中和を１０秒間、水洗を
１０秒間、純水洗浄を１０秒間行った。

【０２２３】洗浄後、第２の下地層の表面に、クロム化
合物で構成される被膜を形成した。被膜は、第１の層と
第２の層とからなる積層体として形成した。第１の層お
よび第２の層は、以下に説明するようなイオンプレーテ
ィングにより、連続して形成した。まず、下地層が形成
された基材を、イオンプレーティング装置内に取付け、
その後、装置内を予熱しながら、イオンプレーティング
装置内を３×１０^−３Ｐａまで排気（減圧）した。次
に、アルゴンガス流量１００ｍｌ／分で、ボンバード処
理を３分間行った。ボンバード処理におけるイオンプレ
ーティング装置内の圧力は、９×１０^−２Ｐａであっ
た。

【０２２４】次に、イオンプレーティング装置内を２×
１０^−３Ｐａまで排気（減圧）した後、窒素ガスを導入
し、イオンプレーティング装置内の圧力を３×１０^−１
Ｐａとした。このような状態で、ターゲットとしてＣｒ
を用い、イオン化電圧：３０Ｖ、イオン化電流：１４０
Ａに設定することにより、ＣｒＮで構成される第１の層
を形成した。

【０２２５】引き続き、以下のようにして、第１の層の
表面に、第２の層を形成した。イオンプレーティング装
置内を２×１０^−３Ｐａまで排気（減圧）した後、窒素
ガス、酸素ガスを、それぞれ、１６０ｍｌ／分、８０ｍ
ｌ／分の流量で導入し、イオンプレーティング装置内の
圧力を３×１０^−１Ｐａとした。このような状態で、タ
ーゲットとしてＣｒを用い、イオン化電圧：３０Ｖ、イ
オン化電流：１４０Ａに設定することにより、ＣｒＮＯ
で構成される第２の層を形成し、装飾品（腕時計ケース
およびネジロックりゅうず）を得、これらを組み立て
た。なお、第１の層、第２の層の平均厚さは、それぞ
れ、１０μｍ、１μｍであった。

【０２２６】また、基材および得られた装飾品につい
て、ＪＩＳ Ｂ ０６０１で規定される表面粗さＲ
_ｍａｘを測定した。基材の研磨を行った箇所の表面粗さ
Ｒ_ｍａｘは、０．２〜０．４μｍであった。被膜の形成
後においては、これに対応する箇所の表面粗さＲ_ｍａｘ
は、０．０１〜０．０３μｍ（鏡面）となっていた。ま
た、基材の、切削、研磨を施さなかった箇所の表面粗さ
Ｒ_ｍａｘは、１．５〜１．８μｍ（梨地）であった。被
膜の形成後においては、これに対応する箇所の表面粗さ
Ｒ_ｍａｘは、１．０〜１．２μｍ（半鏡面）となってい
た。このように、被膜をイオンプレーティングにより形
成したことにより、表面が平滑化されたことが分かる。

【０２２７】（実施例１５）以下に示すような表面処理
を施すことにより、装飾品（三つ折り構造のバンド中
留）を製造した。まず、ステンレス鋼（ＳＵＳ３１６
Ｌ）を用いて、鍛造により、三つ折り構造のバンド中留
の各構成部品の形状を有する基材をそれぞれ作製し、そ
の後、必要箇所を切削、研磨した。次に、これらの基材
を洗浄した。基材の洗浄としては、まず、アルカリ電解
脱脂を３０秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を３０
秒間行った。その後、中和を１０秒間、水洗を１０秒
間、純水洗浄を１０秒間行った。

【０２２８】このようにして洗浄を行った基材の表面
に、Ａｕで構成される第１の下地層を形成した。第１の
下地層の形成は、湿式メッキにより、浴温：６０℃、電
流密度：３Ａ／ｄｍ^２、時間：５分間という条件で行っ
た。このようにして形成された第１の下地層の平均厚さ
は、０．５μｍであった。

【０２２９】その後、第１の下地層の表面に、Ｐｄで構
成される第２の下地層を形成した。第２の下地層の形成
は、湿式メッキにより、浴温：６０℃、電流密度：３Ａ
／ｄｍ^２、時間：１０分間という条件で行った。このよ
うにして形成された第２の下地層の平均厚さは、３μｍ
であった。

【０２３０】次に、第１の下地層、第２の下地層が積層
された基材を洗浄した。この洗浄としては、まず、アル
カリ電解脱脂を３０秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱
脂を３０秒間行った。その後、中和を１０秒間、水洗を
１０秒間、純水洗浄を１０秒間行った。

【０２３１】洗浄後、第２の下地層の表面に、クロム化
合物で構成される被膜を形成した。被膜は、第１の層と
第２の層とからなる積層体として形成した。第１の層お
よび第２の層は、以下に説明するようなイオンプレーテ
ィングにより、連続して形成した。まず、下地層が形成
された基材を、イオンプレーティング装置内に取付け、
その後、装置内を予熱しながら、イオンプレーティング
装置内を３×１０^−３Ｐａまで排気（減圧）した。次
に、アルゴンガス流量１００ｍｌ／分で、ボンバード処
理を３分間行った。ボンバード処理におけるイオンプレ
ーティング装置内の圧力は、９×１０^−２Ｐａであっ
た。

【０２３２】次に、イオンプレーティング装置内を２×
１０^−３Ｐａまで排気（減圧）した後、窒素ガスを導入
し、イオンプレーティング装置内の圧力を３×１０^−１
Ｐａとした。このような状態で、ターゲットとしてＣｒ
を用い、イオン化電圧：３０Ｖ、イオン化電流：１４０
Ａに設定することにより、ＣｒＮで構成される第１の層
を形成した。

【０２３３】引き続き、以下のようにして、第１の層の
表面に、第２の層を形成した。イオンプレーティング装
置内を２×１０^−３Ｐａまで排気（減圧）した後、窒素
ガス、酸素ガスを、それぞれ、１６０ｍｌ／分、８０ｍ
ｌ／分の流量で導入し、イオンプレーティング装置内の
圧力を３×１０^−１Ｐａとした。このような状態で、タ
ーゲットとしてＣｒを用い、イオン化電圧：３０Ｖ、イ
オン化電流：１４０Ａに設定することにより、ＣｒＮＯ
で構成される第２の層を形成した。その後、各部品を組
み立てることにより、装飾品（三つ折り構造のバンド中
留）を得た。なお、第１の層、第２の層の平均厚さは、
それぞれ、１０μｍ、１μｍであった。

【０２３４】また、基材および得られた装飾品につい
て、ＪＩＳ Ｂ ０６０１で規定される表面粗さＲ
_ｍａｘを測定した。基材の研磨を行った箇所の表面粗さ
Ｒ_ｍａｘは、０．２〜０．４μｍであった。被膜の形成
後においては、これに対応する箇所の表面粗さＲ_ｍａｘ
は、０．０１〜０．０３μｍ（鏡面）となっていた。ま
た、基材の、切削、研磨を施さなかった箇所の表面粗さ
Ｒ_ｍａｘは、１．５〜１．８μｍ（梨地）であった。被
膜の形成後においては、これに対応する箇所の表面粗さ
Ｒ_ｍａｘは、１．０〜１．２μｍ（半鏡面）となってい
た。このように、被膜をイオンプレーティングにより形
成したことにより、表面が平滑化されたことが分かる。

【０２３５】（比較例１）以下に示すような表面処理を
施すことにより、装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製
造した。まず、ステンレス鋼（ＳＵＳ４４４）を用い
て、鋳造により、腕時計ケース（裏蓋）の形状を有する
基材を作製し、その後、必要箇所を切削、研磨した。次
に、この基材を洗浄した。基材の洗浄としては、まず、
アルカリ電解脱脂を３０秒間行い、次いで、アルカリ浸
漬脱脂を３０秒間行った。その後、中和を１０秒間、水
洗を１０秒間、純水洗浄を１０秒間行った。

【０２３６】このようにして洗浄を行った基材の表面
に、Ａｇで構成される被膜を形成した。被膜は、浴温：
５０℃、電流密度：３Ａ／ｄｍ^２、時間：２５分間とい
う条件で電解メッキを行うことにより形成した。形成さ
れた被膜の平均厚さは、１０μｍであった。被膜の厚さ
は、ＪＩＳ Ｈ５８２１の顕微鏡断面試験方法により測
定した。

【０２３７】（比較例２）以下に示すような表面処理を
施すことにより、装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製
造した。まず、Ｃｕ−Ｚｎ系合金（合金組成：Ｃｕ６０
ｗｔ％−Ｚｎ４０ｗｔ％）を用いて、鋳造により、腕時
計ケース（裏蓋）の形状を有する基材を作製し、その
後、必要箇所を切削、研磨した。次に、この基材を洗浄
した。基材の洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を
３０秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行
った。その後、中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水
洗浄を１０秒間行った。

【０２３８】このようにして洗浄を行った基材の表面
に、クロム化合物で構成される被膜を形成した。被膜の
形成は、以下に説明するようなイオンプレーティングに
より行った。まず、基材をイオンプレーティング装置内
に取付け、その後、装置内を予熱しながら、イオンプレ
ーティング装置内を３×１０^−３Ｐａまで排気（減圧）
した。次に、アルゴンガス流量５０ｍｌ／分で、ボンバ
ード処理を５分間行った。ボンバード処理におけるイオ
ンプレーティング装置内の圧力は、９×１０^−２Ｐａで
あった。

【０２３９】次に、イオンプレーティング装置内に、窒
素ガス、アセチレンガスを、それぞれ、１００ｍｌ／
分、１００ｍｌ／分の流量で導入し、イオンプレーティ
ング装置内の圧力を２×１０^−１Ｐａとした。このよう
な状態で、ターゲットとしてＣｒを用い、イオン化電
圧：２５Ｖ、イオン化電流：１１０Ａに設定することに
より、ＣｒＣＮで構成される被膜を形成し、装飾品を得
た。なお、形成された被膜の平均厚さは、１μｍであっ
た。被膜の厚さは、ＪＩＳＨ ５８２１の顕微鏡断面試
験方法により測定した。

【０２４０】（比較例３）以下に示すような表面処理を
施すことにより、装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製
造した。まず、Ｃｕ−Ｚｎ系合金（合金組成：Ｃｕ６０
ｗｔ％−Ｚｎ４０ｗｔ％）を用いて、鋳造により、腕時
計ケース（裏蓋）の形状を有する基材を作製し、その
後、必要箇所を切削、研磨した。次に、この基材を洗浄
した。基材の洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を
３０秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行
った。その後、中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水
洗浄を１０秒間行った。

【０２４１】このようにして洗浄を行った基材の表面
に、次に、この基材の表面に、Ｎｉで構成される下地層
を形成した。下地層の形成は、湿式メッキにより、浴
温：６０℃、電流密度：３Ａ／ｄｍ^２、時間：１０分間
という条件で行った。このようにして形成された下地層
の平均厚さは、５μｍであった。次に、下地層が積層さ
れた基材を洗浄した。この洗浄としては、まず、アルカ
リ電解脱脂を３０秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂
を３０秒間行った。その後、中和を１０秒間、水洗を１
０秒間、純水洗浄を１０秒間行った。

【０２４２】このようにして洗浄を行った下地層の表面
に、クロム化合物で構成される被膜を形成した。被膜の
形成は、以下に説明するようなイオンプレーティングに
より行った。まず、基材をイオンプレーティング装置内
に取付け、その後、装置内を予熱しながら、イオンプレ
ーティング装置内を３×１０^−３Ｐａまで排気（減圧）
した。次に、アルゴンガス流量５０ｍｌ／分で、ボンバ
ード処理を５分間行った。ボンバード処理におけるイオ
ンプレーティング装置内の圧力は、９×１０^−２Ｐａで
あった。

【０２４３】次に、イオンプレーティング装置内に、窒
素ガス、アセチレンガスを、それぞれ、１００ｍｌ／
分、１００ｍｌ／分の流量で導入し、イオンプレーティ
ング装置内の圧力を２×１０^−１Ｐａとした。このよう
な状態で、ターゲットとしてＣｒを用い、イオン化電
圧：２５Ｖ、イオン化電流：１１０Ａに設定することに
より、ＣｒＣＮで構成される被膜を形成し、装飾品を得
た。なお、形成された被膜の平均厚さは、１μｍであっ
た。被膜の厚さは、ＪＩＳＨ ５８２１の顕微鏡断面試
験方法により測定した。

【０２４４】（比較例４）以下に示すような表面処理を
施すことにより、装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製
造した。まず、Ｃｕ−Ｚｎ系合金（合金組成：Ｃｕ６０
ｗｔ％−Ｚｎ４０ｗｔ％）を用いて、鋳造により、腕時
計ケース（裏蓋）の形状を有する基材を作製し、その
後、必要箇所を切削、研磨した。次に、この基材を洗浄
した。基材の洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を
３０秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行
った。その後、中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水
洗浄を１０秒間行った。

【０２４５】このようにして洗浄を行った基材の表面
に、Ｃｕで構成される下地層を形成した。下地層の形成
は、湿式メッキにより、浴温：６０℃、電流密度：３Ａ
／ｄｍ^２、時間：１０分間という条件で行った。このよ
うにして形成された下地層の平均厚さは、５μｍであっ
た。次に、下地層が積層された基材を洗浄した。この洗
浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒間行い、
次いで、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行った。その後、
中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１０秒間
行った。

【０２４６】このようにして洗浄を行った下地層の表面
に、クロム化合物で構成される被膜を形成した。被膜の
形成は、以下に説明するようなイオンプレーティングに
より行った。まず、基材をイオンプレーティング装置内
に取付け、その後、装置内を予熱しながら、イオンプレ
ーティング装置内を３×１０^−３Ｐａまで排気（減圧）
した。次に、アルゴンガス流量５０ｍｌ／分で、ボンバ
ード処理を５分間行った。ボンバード処理におけるイオ
ンプレーティング装置内の圧力は、９×１０^−２Ｐａで
あった。

【０２４７】次に、イオンプレーティング装置内に、窒
素ガス、アセチレンガスを、それぞれ、１００ｍｌ／
分、１００ｍｌ／分の流量で導入し、イオンプレーティ
ング装置内の圧力を２×１０^−１Ｐａとした。このよう
な状態で、ターゲットとしてＣｒを用い、イオン化電
圧：２５Ｖ、イオン化電流：１１０Ａに設定することに
より、ＣｒＣＮで構成される被膜を形成し、装飾品を得
た。なお、形成された被膜の平均厚さは、１μｍであっ
た。被膜の厚さは、ＪＩＳＨ ５８２１の顕微鏡断面試
験方法により測定した。

【０２４８】（比較例５）以下に示すような表面処理を
施すことにより、装飾品（腕時計ケースおよび回転ベゼ
ル）を製造した。まず、前記実施例１３と同様にして、
腕時計ケース（胴）の形状を有するステンレス鋼（ＳＵ
Ｓ３１６Ｌ）製の基材、回転ベゼルの形状を有するステ
ンレス鋼（ＳＵＳ３１６Ｌ）製の基材をそれぞれ作製し
た。

【０２４９】これらの基材の必要箇所を切削、研磨した
後、洗浄した。基材の洗浄としては、まず、アルカリ電
解脱脂を３０秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を３
０秒間行った。その後、中和を１０秒間、水洗を１０秒
間、純水洗浄を１０秒間行った。

【０２５０】このようにして洗浄を行った基材の表面
に、クロム化合物で構成される被膜を形成した。被膜の
形成は、以下に説明するようなイオンプレーティングに
より行った。まず、基材をイオンプレーティング装置内
に取付け、その後、装置内を予熱しながら、イオンプレ
ーティング装置内を３×１０^−３Ｐａまで排気（減圧）
した。次に、アルゴンガス流量５０ｍｌ／分で、ボンバ
ード処理を５分間行った。ボンバード処理におけるイオ
ンプレーティング装置内の圧力は、９×１０^−２Ｐａで
あった。

【０２５１】次に、イオンプレーティング装置内に、窒
素ガス、アセチレンガスを、それぞれ、１００ｍｌ／
分、１００ｍｌ／分の流量で導入し、イオンプレーティ
ング装置内の圧力を２×１０^−１Ｐａとした。このよう
な状態で、ターゲットとしてＣｒを用い、イオン化電
圧：２５Ｖ、イオン化電流：１１０Ａに設定することに
より、ＣｒＣＮで構成される被膜を形成し、装飾品（腕
時計ケースおよび回転ベゼル）を得、これらを組み立て
た。なお、形成された被膜の平均厚さは、１μｍであっ
た。被膜の厚さは、ＪＩＳＨ ５８２１の顕微鏡断面試
験方法により測定した。

【０２５２】（比較例６）以下に示すような表面処理を
施すことにより、装飾品（腕時計ケースおよびネジロッ
クりゅうず）を製造した。まず、前記実施例１３と同様
にして、腕時計ケース（胴）の形状を有するステンレス
鋼（ＳＵＳ３１６Ｌ）製の基材、ネジロックりゅうずの
形状を有するステンレス鋼（ＳＵＳ３１６Ｌ）製の基材
をそれぞれ作製した。

【０２５３】これらの基材の必要箇所を切削、研磨した
後、洗浄した。基材の洗浄としては、まず、アルカリ電
解脱脂を３０秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を３
０秒間行った。その後、中和を１０秒間、水洗を１０秒
間、純水洗浄を１０秒間行った。

【０２５４】このようにして洗浄を行った基材の表面
に、クロム化合物で構成される被膜を形成した。被膜の
形成は、以下に説明するようなイオンプレーティングに
より行った。まず、基材をイオンプレーティング装置内
に取付け、その後、装置内を予熱しながら、イオンプレ
ーティング装置内を３×１０^−３Ｐａまで排気（減圧）
した。次に、アルゴンガス流量５０ｍｌ／分で、ボンバ
ード処理を５分間行った。ボンバード処理におけるイオ
ンプレーティング装置内の圧力は、９×１０^−２Ｐａで
あった。

【０２５５】次に、イオンプレーティング装置内に、窒
素ガス、アセチレンガスを、それぞれ、１００ｍｌ／
分、１００ｍｌ／分の流量で導入し、イオンプレーティ
ング装置内の圧力を２×１０^−１Ｐａとした。このよう
な状態で、ターゲットとしてＣｒを用い、イオン化電
圧：２５Ｖ、イオン化電流：１１０Ａに設定することに
より、ＣｒＣＮで構成される被膜を形成し、装飾品（腕
時計ケースおよびネジロックりゅうず）を得、これらを
組み立てた。なお、形成された被膜の平均厚さは、１μ
ｍであった。被膜の厚さは、ＪＩＳＨ ５８２１の顕微
鏡断面試験方法により測定した。

【０２５６】（比較例７）以下に示すような表面処理を
施すことにより、装飾品（三つ折り構造のバンド中留）
を製造した。まず、前記実施例１３と同様にして、三つ
折り構造のバンド中留の各構成部品の形状を有するステ
ンレス鋼（ＳＵＳ３１６Ｌ）製の基材を作製した。

【０２５７】これらの基材の必要箇所を切削、研磨した
後、洗浄した。基材の洗浄としては、まず、アルカリ電
解脱脂を３０秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を３
０秒間行った。その後、中和を１０秒間、水洗を１０秒
間、純水洗浄を１０秒間行った。

【０２５８】このようにして洗浄を行った基材の表面
に、クロム化合物で構成される被膜を形成した。被膜の
形成は、以下に説明するようなイオンプレーティングに
より行った。まず、基材をイオンプレーティング装置内
に取付け、その後、装置内を予熱しながら、イオンプレ
ーティング装置内を３×１０^−３Ｐａまで排気（減圧）
した。次に、アルゴンガス流量５０ｍｌ／分で、ボンバ
ード処理を５分間行った。ボンバード処理におけるイオ
ンプレーティング装置内の圧力は、９×１０^−２Ｐａで
あった。

【０２５９】次に、イオンプレーティング装置内に、窒
素ガス、アセチレンガスを、それぞれ、１００ｍｌ／
分、１００ｍｌ／分の流量で導入し、イオンプレーティ
ング装置内の圧力を２×１０^−１Ｐａとした。このよう
な状態で、ターゲットとしてＣｒを用い、イオン化電
圧：２５Ｖ、イオン化電流：１１０Ａに設定することに
より、ＣｒＣＮで構成される被膜を形成した。その後、
各部品を組み立てることにより、装飾品（三つ折り構造
のバンド中留）を得た。なお、形成された被膜の平均厚
さは、１μｍであった。被膜の厚さは、ＪＩＳＨ ５８
２１の顕微鏡断面試験方法により測定した。各実施例お
よび各比較例の表面処理方法の条件を表１、表２にまと
めて示す。

【０２６０】

【表１】

【０２６１】

【表２】

【０２６２】２．装飾品の外観評価 上記実施例１〜１５および比較例１〜７で製造した各装
飾品について、目視および顕微鏡による観察を行い、こ
れらの外観を以下の４段階の基準に従い、評価した。 ◎：外観優良（光沢度大）。 ○：外観良（光沢度中）。 △：外観やや不良（光沢度やや小、または表面の荒れあ
り）。 ×：外観不良（光沢度小、または表面の荒れ顕著）。

【０２６３】３．被膜の耐擦傷性評価 上記実施例１〜１５および比較例１〜７で製造した各装
飾品について、以下に示すような試験を行い、耐擦傷性
を評価した。

【０２６４】ステンレス製のブラシを、各装飾品の表面
上に押し付け、５０往復摺動させた。このときの押し付
け荷重は、０．２ｋｇｆであった。その後、装飾品表面
を目視により観察し、これらの外観を以下の４段階の基
準に従い、評価した。 ◎：被膜の表面に、傷の発生が全く認められない。 ○：被膜の表面に、傷の発生がほとんど認められない。 △：被膜の表面に、傷の発生がわずかに認められる。 ×：被膜の表面に、傷の発生が顕著に認められる。

【０２６５】４．装飾品の耐摩耗性評価 上記実施例１〜１５および比較例１〜７で製造した各装
飾品について、摩耗係数（耐鋼）の測定を行い、以下の
３段階の基準に従い、評価した。 ◎：摩耗係数が０．７未満。 ○：摩耗係数が０．７以上０．８未満。 ×：摩耗係数が０．８以上。

【０２６６】５．装飾品の耐酸性評価 上記実施例１〜１５および比較例１〜７で製造した各装
飾品について、以下に示すような試験を行うことによ
り、耐酸性を評価した。

【０２６７】まず、４６ｖｏｌ％フッ化水素酸と、６０
ｖｏｌ％硝酸とを用意し、これらを、混合容量比１：１
で混合することにより、混合溶液を得た。この混合溶液
に、各装飾品を浸漬した。１分間放置した後、各装飾品
を前記混合溶液内から取り出し、水洗、乾燥した。その
後、各装飾品の外観を目視により観察した。各装飾品の
耐食性は、以下の３段階の基準に従い、評価した。 ◎：被膜の腐食が全く認められない。 △：被膜の腐食がわずかに認められる。 ×：被膜の腐食がはっきりと認められる。

【０２６８】６．装飾品の耐酸化性評価 上記実施例１〜１５および比較例１〜７で製造した各装
飾品を、大気雰囲気中で、２００℃×８時間の加熱を行
った。その後、各装飾品を放冷し、これらの外観を以下
の３段階の基準に従い、評価した。 ◎：被膜の変色が全く認められない。 △：被膜の変色がわずかに認められる。 ×：被膜の変色がはっきりと認められる。

【０２６９】これらの結果を、被膜の色、ビッカース硬
度Ｈｖとともに表３に示す。なお、ビッカース硬度Ｈｖ
としては、各装飾品の被膜表面について、測定荷重２５
ｇｆにて測定した値を示す。

【０２７０】

【表３】

【０２７１】表３から明らかなように、本発明の表面処
理方法を用いて製造された装飾品は、いずれも優れた美
的外観を有しており、耐擦傷性、耐摩耗性にも優れてい
た。

【０２７２】また、本発明の表面処理方法を用いて製造
された装飾品は、耐酸化性、耐酸性（耐食性）にも優れ
ていた。これらの結果から、本発明の装飾品は、長期間
にわたって優れた美的外観を保持することができるもの
であることがわかる。また、緩衝層として機能する下地
層を有する装飾品は、特に優れた耐食性を有していた。

【０２７３】また、本発明の表面処理方法を用いて製造
された装飾品は、いずれも、ザラツキ感のない、優れた
触感を有していた。

【０２７４】また、実施例１〜１５においては、イオン
プレーティング時の雰囲気組成を適宜選択することによ
り、容易に、所望の組成、特性を有する被膜を形成する
ことができた。

【０２７５】これに対し、比較例の表面処理方法により
製造された装飾品は、美的外観に劣り、耐擦傷性、耐摩
耗性にも劣っていた。また、耐酸化性、耐酸性にも劣っ
ていた。

【０２７６】７．回転ベゼルの回転トルク 上記実施例１３および比較例５で製造した装飾品（腕時
計ケースおよび回転ベゼル）を用いて、時計を製造し
た。得られた各時計について、３００ｇｆの荷重を掛け
る条件で、回転ベゼルの回転トルクの測定を行った。ま
た、回転ベゼルを１００００回回転させた後、同様の条
件で回転トルクを測定した。その結果を表４に示す。

【０２７７】

【表４】

【０２７８】表４から明らかなように、本発明の表面処
理方法を用いて製造された装飾品（腕時計ケースおよび
回転ベゼル）を備えた時計では、回転ベゼルの回転操作
を繰り返し行った後でも、安定した回転トルクを有して
いた。これに対し、比較例の表面処理方法を用いて製造
された装飾品（腕時計ケースおよび回転ベゼル）を備え
た時計では、製造直後における回転トルクは比較的大き
いものであったが、回転ベゼルの回転操作を繰り返し行
うことにより、回転トルクの顕著な低下が認められた。

【０２７９】８．ネジロックりゅうずの着脱操作性評価 上記実施例１４および比較例６で製造した装飾品（腕時
計ケースおよびネジロックりゅうず）を用いて、時計を
製造した。得られた各時計について、ケースからネジロ
ックりゅうずを回転着脱する、回転着脱操作を行ったと
きの操作のし易さ（着脱操作性）を以下の４段階の基準
に従い、評価した。 ◎：回転着脱操作を非常にスムーズに行うことができ
る。 ○：回転着脱操作を十分にスムーズに行うことができ
る。 △：回転着脱操作を行う際に、若干のゴリ感がある。 ×：回転着脱操作を行う際に、顕著なゴリ感がある。 また、ネジロックりゅうずの回転着脱操作を１００００
回行った後、上記と同様の基準に従い、着脱操作性を評
価した。その結果を表５に示す。

【０２８０】

【表５】

【０２８１】表５から明らかなように、本発明の表面処
理方法を用いて製造された装飾品（腕時計ケースおよび
ネジロックりゅうず）を備えた時計では、製造直後、回
転着脱操作を繰り返し行った後のいずれにおいても、優
れた着脱操作性を示した。これに対し、比較例の表面処
理方法を用いて製造された装飾品（腕時計ケースおよび
ネジロックりゅうず）を備えた時計では、製造直後にお
いては、比較的優れた着脱操作性を示したものの、回転
着脱操作を繰り返し行うことにより、着脱操作性が著し
く低下した。

【０２８２】９．バンド中留の着脱性評価 上記実施例１５および比較例７で製造した装飾品（バン
ド中留）を用いて、時計を製造した。得られた各時計に
ついて、バンド中留の着脱操作を行ったときの操作のし
易さ（着脱操作性）を以下の４段階の基準に従い、評価
した。 ◎：着脱操作を非常にスムーズに行うことができる。 ○：着脱操作を十分にスムーズに行うことができる。 △：着脱操作を行う際に、若干の引っかかりが認められ
る。 ×：着脱操作を行う際に、顕著な引っかかりが認められ
る。 また、バンド中留の着脱操作を１００００回行った後、
上記と同様の基準に従い、着脱操作性を評価した。その
結果を表６に示す。

【０２８３】

【表６】

【０２８４】表６から明らかなように、本発明の表面処
理方法を用いて製造された装飾品（バンド中留）を備え
た時計では、製造直後、着脱操作を繰り返し行った後の
いずれにおいても、優れた着脱操作性を示した。これに
対し、比較例の表面処理方法を用いて製造された装飾品
（バンド中留）を備えた時計では、製造直後において
は、比較的優れた着脱操作性を示したものの、着脱操作
を繰り返し行うことにより、着脱操作性が著しく低下し
た。

【０２８５】

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、美
的外観に優れた装飾品、時計を容易かつ迅速に製造する
ことができる。

【０２８６】また、本発明の装飾品、時計は、耐擦傷
性、耐摩耗性、耐酸性、耐酸化性等に優れ、長期間にわ
たって、優れた美的外観を保持することができる。ま
た、本発明の装飾品、時計は、適度な潤滑性（摺動性）
を長期間にわたって維持することができる。これによ
り、装飾品の操作性、高級感が向上する。

【０２８７】また、被膜形成時における雰囲気ガスの組
成を適宜選択することにより、容易に、所望の組成、特
性を有する被膜を形成することができる。

【０２８８】また、基材の構成材料等を選択することに
より、複雑な形状を有する装飾品を容易に製造すること
が可能となり、また、装飾品の軽量化、製造コストの低
減等を達成することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の表面処理方法の第１実施形態を示す
断面図である。

【図２】 本発明の表面処理方法の第２実施形態を示す
断面図である。

【図３】 本発明の表面処理方法の第３実施形態を示す
断面図である。

【図４】 本発明の表面処理方法の第４実施形態を示す
断面図である。

【符号の説明】

１Ａ、１Ｃ、１Ｄ、１Ｅ……装飾品 ２……基材 ３…
…被膜 ３１……第１の層 ３２……第２の層 ４０…
…下地層 ４１……第１の下地層 ４２……第２の下地
層 ４３……第３の下地層 ５……マスキング

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4K044 AA01 AA02 AA03 AA06 AA09 AA11 AA13 AA16 AB06 BA02 BA06 BA08 BA10 BA12 BA15 BA18 BA21 BB02 BB06 BB10 BC06 BC09 CA11 CA12 CA13 CA14 CA15 CA17 CA18 CA53

Claims (16)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基材上の少なくとも一部に、少なくとも
   １層の下地層を形成する工程と、 前記下地層上に、乾式メッキ法により、主としてクロム
   化合物で構成される被膜を形成する工程とを有する製造
   方法であって、 前記下地層のうち少なくとも１層は、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｐ
   ｄ、Ａｕ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃ
   ｒ、ＡｌおよびＦｅのうちの少なくとも１種の金属また
   は該金属を含む合金を主とする材料で構成されるもので
   あり、 前記被膜は、クロムの酸化物、窒化物および炭化物のう
   ちの少なくとも１種を含むものであり、かつ、 前記被膜の平均厚さが５〜１００μｍであることを特徴
   とする装飾品の表面処理方法。
2. 【請求項２】 前記下地層のうち少なくとも１層は、そ
   の一方の面側と他方の面側との電位差を緩和する緩衝層
   である請求項１に記載の装飾品の表面処理方法。
3. 【請求項３】 前記下地層は、金属化合物で構成される
   ものである請求項１または２に記載の装飾品の表面処理
   方法。
4. 【請求項４】 前記装飾品は、前記下地層を２層以上有
   するものである請求項１ないし３のいずれかに記載の装
   飾品の表面処理方法。
5. 【請求項５】 隣接する前記下地層は、互いに共通の元
   素を含む材料で構成されたものである請求項４に記載の
   装飾品の表面処理方法。
6. 【請求項６】 前記共通の元素は、Ｃｕである請求項５
   に記載の装飾品の表面処理方法。
7. 【請求項７】 前記下地層を被覆する工程の前に、前記
   基材の表面の少なくとも一部に、清浄化処理を施す工程
   を有する請求項１ないし６のいずれかに記載の装飾品の
   表面処理方法。
8. 【請求項８】 前記被膜を被覆する工程の前に、前記下
   地層の表面の少なくとも一部に、清浄化処理を施す工程
   を有する請求項１ないし７のいずれかに記載の装飾品の
   表面処理方法。
9. 【請求項９】 前記被膜は、２層以上の積層体である請
   求項１ないし８のいずれかに記載の装飾品の表面処理方
   法。
10. 【請求項１０】 前記基材は、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｔ
    ｉ、Ａｌまたはこれらのうち少なくとも１種を含む合金
    で構成されるものである請求項１ないし９のいずれかに
    記載の装飾品の表面処理方法。
11. 【請求項１１】 前記基材は、その表面の少なくとも一
    部に、鏡面加工、スジ目加工、梨地加工から選択される
    表面加工が施されたものである請求項１ないし１０のい
    ずれかに記載の装飾品の表面処理方法。
12. 【請求項１２】 前記被膜を形成する工程の後、さら
    に、前記被膜上の一部に、マスキングを形成する工程
    と、 剥離剤を用いて、前記マスキングが被覆されていない部
    位の前記被膜を除去する工程と、 前記マスキングを除去する工程とを有する請求項１ない
    し１１のいずれかに記載の装飾品の表面処理方法。
13. 【請求項１３】 請求項１ないし１２のいずれかに記載
    の装飾品の表面処理方法を用いて製造されたことを特徴
    とする装飾品。
14. 【請求項１４】 少なくともその一部が皮膚に接触して
    用いられる請求項１３に記載の装飾品。
15. 【請求項１５】 装飾品は、時計用外装部品である請求
    項１３または１４に記載の装飾品。
16. 【請求項１６】 請求項１３ないし１５のいずれかに記
    載の装飾品を備えたことを特徴とする時計。