JP2003277979A - 装飾品の表面処理方法、装飾品および時計 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】白っぽい金色の色彩を有し、長期間にわたって
優れた美的外観を保持することができる装飾品を提供す
ること、前記装飾品を提供することができる表面処理方
法を提供すること、前記装飾品を備えた時計を提供する
こと。 【解決手段】本発明の装飾品の表面処理方法は、基材２
の表面の少なくとも一部に（１ｂ）、下地層４０を形成
する工程（２ｂ）と、湿式めっき法により、０．１〜１
５ｗｔ％のＩｎを含むＡｕ−Ｉｎ系合金で構成される被
膜３を形成する工程（３ｂ）を有することを特徴とす
る。下地層４０は、基材２と被膜３との電位差を緩和す
る緩衝層であるのが好ましい。被膜３は、浴温：５０〜
６０℃、電流密度：０．５〜２．０Ａ／ｄｍ^２の条件の
電解めっきで形成されたものであるのが好ましい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、装飾品の表面処理
方法、装飾品および時計に関する。

【０００２】

【従来の技術】時計用外装部品のような装飾品には、優
れた美的外観が要求される。従来、このような目的を達
成するために、例えば、装飾品の構成材料として、Ａｕ
等の金色の金属材料や、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｐｔ等の銀白色の
金属材料を用いてきた。ところで、近年、装飾品には、
その色彩の多様化が求められており、例えば、前記の金
属材料では得ることのできない、美的外観に優れた色彩
の材料が求められている。例えば、白っぽい金色の装飾
品を得る目的で、Ａｕ−Ｆｅ系合金が用いられている。
しかしながら、Ａｕ−Ｆｅ系合金を用いた場合、高級感
に劣り、ＣＥＮ規格のＥＮ２８６５４で規定される１Ｎ
−１４色のような比較的白みの強い色の装飾品を得るの
が困難であった。また、Ａｕ−Ｆｅ系合金は、耐食性等
に劣るため、長期間にわたって安定した外観を保持する
のが困難であった。また、ＣＥＮ規格のＥＮ２８６５４
で規定される１Ｎ−１４色の近似色は、Ａｕ−Ａｇ−Ｃ
ｕ系合金を用いることにより得られるが、色彩の経時変
化が著しく、装飾品に適用するのは困難であった。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、白っ
ぽい金色の色彩を有し、長期間にわたって優れた美的外
観を保持することができる装飾品を提供すること、前記
装飾品を提供することができる表面処理方法を提供する
こと、前記装飾品を備えた時計を提供することにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
（１）〜（２３）の本発明により達成される。また、
（２４）〜（３２）であるのが好ましい。

【０００５】（１） 基材の表面の少なくとも一部に、
湿式めっき法により、０．１〜１５ｗｔ％のＩｎを含む
Ａｕ−Ｉｎ系合金で構成される被膜を形成する工程を有
することを特徴とする装飾品の表面処理方法。 （２） 前記被膜を形成する工程の前に、前記基材の表
面の少なくとも一部に、清浄化処理を施す工程を有する
上記（１）に記載の装飾品の表面処理方法。

【０００６】（３） 基材の表面の少なくとも一部に、
少なくとも１層の下地層を形成する工程と、前記下地層
上に、湿式めっき法により、０．１〜１５ｗｔ％のＩｎ
を含むＡｕ−Ｉｎ系合金で構成される被膜を形成する工
程を有することを特徴とする装飾品の表面処理方法。 （４） 前記下地層を形成する工程の前に、前記基材の
表面の少なくとも一部に、清浄化処理を施す工程を有す
る上記（３）に記載の装飾品の表面処理方法。 （５） 前記被膜を形成する工程の前に、前記下地層の
表面の少なくとも一部に、清浄化処理を施す工程を有す
る上記（３）または（４）に記載の装飾品の表面処理方
法。

【０００７】（６） 前記下地層のうち少なくとも１層
は、その一方の面側と他方の面側との電位差を緩和する
緩衝層である上記（３）ないし（５）のいずれかに記載
の装飾品の表面処理方法。 （７） 前記下地層のうち少なくとも１層は、Ｃｕ、Ｃ
ｏ、Ｐｄ、Ａｕ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｚ
ｎ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｉｒまたは
これらのうち少なくとも１種を含む合金で構成されるも
のである上記（３）ないし（６）のいずれかに記載の装
飾品の表面処理方法。

【０００８】（８） 前記装飾品は、前記下地層を２層
以上有するものである上記（３）ないし（７）のいずれ
かに記載の装飾品の表面処理方法。 （９） 隣接する前記下地層は、互いに共通の元素を含
む材料で構成されたものである上記（８）に記載の装飾
品の表面処理方法。 （１０） 前記共通の元素は、Ｃｕである上記（９）に
記載の装飾品の表面処理方法。

【０００９】（１１） 前記被膜は、電解めっきにより
形成されたものである上記（１）ないし（１０）のいず
れかに記載の装飾品の表面処理方法。 （１２） 前記被膜は、ＣＥＮ規格のＥＮ２８６５４で
規定される１Ｎ−１４色の近似色を有するものである上
記（１）ないし（１１）のいずれかに記載の装飾品の表
面処理方法。

【００１０】（１３） 前記基材は、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｎ
ｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｎｂまたはこれらのうち少なく
とも１種を含む合金で構成されるものである上記（１）
ないし（１２）のいずれかに記載の装飾品の表面処理方
法。

【００１１】（１４） 前記被膜を形成する工程の後、
さらに、前記被膜の表面の一部に、マスキングを形成す
る工程と、剥離剤を用いて、前記マスキングが被覆され
ていない部位の前記被膜を除去する工程と、前記マスキ
ングを除去する工程とを有する上記（１）ないし（１
３）のいずれかに記載の装飾品の表面処理方法。

【００１２】（１５） 上記（１）ないし（１４）のい
ずれかに記載の装飾品の表面処理方法を用いて製造され
たことを特徴とする装飾品。

【００１３】（１６） 基材と、該基材の少なくとも一
部を覆う被膜とを有する装飾品であって、前記被膜は、
０．１〜１５ｗｔ％のＩｎを含むＡｕ−Ｉｎ系合金で構
成されるものであることを特徴とする装飾品。

【００１４】（１７） 前記基材と前記被膜との間に、
少なくとも１層の下地層を有する上記（１６）に記載の
装飾品。 （１８） 前記下地層のうち少なくとも１層は、その一
方の面側と他方の面側との電位差を緩和する緩衝層であ
る上記（１７）に記載の装飾品。 （１９） 前記下地層のうち少なくとも１層は、Ｃｕ、
Ｃｏ、Ｐｄ、Ａｕ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｚ
ｎ、Ｉｒまたはこれらのうち少なくとも１種を含む合金
で構成されるものである上記（１７）または（１８）に
記載の装飾品。

【００１５】（２０） 前記被膜は、ＣＥＮ規格のＥＮ
２８６５４で規定される１Ｎ−１４色の近似色を有する
ものである上記（１６）ないし（１９）のいずれかに記
載の装飾品。 （２１） 少なくともその一部が皮膚に接触して用いら
れる上記（１５）ないし（２０）のいずれかに記載の装
飾品。 （２２） 装飾品は、時計用外装部品である上記（１
５）ないし（２１）のいずれかに記載の装飾品。

【００１６】（２３） 上記（１５）ないし（２２）の
いずれかに記載の装飾品を備えたことを特徴とする時
計。

【００１７】（２４） 前記下地層の平均厚さは、０．
１〜５０μｍである上記（３）ないし（７）のいずれか
に記載の装飾品の表面処理方法。 （２５） 前記電解めっき時における浴温は、５０〜６
０℃である上記（１１）に記載の装飾品の表面処理方
法。 （２６） 前記電解めっき時における電流密度は、０．
５〜２．０Ａ／ｄｍ^２である上記（１１）に記載の装飾
品の表面処理方法。 （２７） 前記マスキングの平均厚さは、１００〜２０
００μｍである上記（１４）に記載の装飾品の表面処理
方法。 （２８） 前記被膜の平均厚さが０．１〜１０μｍであ
る上記（１）ないし（１４）のいずれかに記載の装飾品
の表面処理方法。

【００１８】（２９） 前記基材は、主として、ステン
レス鋼で構成されるものである上記（１）ないし（１
４）のいずれかに記載の装飾品の表面処理方法。 （３０） 前記基材は、鋳造または金属粉末射出成形に
より作製されたものである上記（１）ないし（１４）の
いずれかに記載の装飾品の表面処理方法。 （３１） 前記基材は、その表面の少なくとも一部に、
鏡面加工、スジ目加工、梨地加工から選択される表面加
工が施されたものである上記（１）ないし（１４）のい
ずれかに記載の装飾品の表面処理方法。 （３２） 前記被膜の平均厚さが０．１〜１０μｍであ
る上記（１６）ないし（２２）のいずれかに記載の装飾
品。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の装飾品の表面処理
方法、装飾品および時計の好適な実施形態について、添
付図面を参照しつつ説明する。図１は、本発明の表面処
理方法の第１実施形態を示す断面図である。図１に示す
ように、本実施形態の表面処理方法は、基材２の表面の
少なくとも一部（１ａ）に、湿式めっき法により、Ａｕ
−Ｉｎ系合金で構成される被膜３を形成する工程（１
ｂ）を有する。

【００２０】［基材２］基材２は、いかなる材料で構成
されるものであってもよく、金属材料で構成されるもの
であっても、非金属材料で構成されるものであってもよ
い。

【００２１】基材２が金属材料で構成される場合、特に
優れた強度特性を有する装飾品１Ａを提供することがで
きる。また、基材２が金属材料で構成される場合、基材
２の表面粗さが比較的大きい場合であっても、後述する
被膜３を形成する際のレベリング効果により、得られる
装飾品１Ａの表面粗さを小さくすることができる。例え
ば、基材２の表面に対する切削加工、研磨加工などによ
る機械加工を省略しても、鏡面仕上げを行うことが可能
となったり、基材２がＭＩＭ法により成形されたもの
で、その表面が梨地面である場合でも、容易に鏡面にす
ることができる。これにより、光沢に優れた装飾品を得
ることができる。

【００２２】基材２が非金属材料で構成される場合、比
較的軽量で携帯し易く、かつ、重厚な外観を有する装飾
品１Ａを提供することができる。また、基材２が非金属
材料で構成される場合、比較的容易に、所望の形状に成
形することができる。このため、直接成形するのが困難
な形状の装飾品１Ａであっても、比較的容易に提供する
ことができる。また、基材２が非金属材料で構成される
場合、電磁ノイズを遮蔽する効果も得られる。

【００２３】基材２を構成する金属材料としては、例え
ば、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｍｇ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｍ
ｏ、Ｎｂ、Ａｌ、Ｖ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｐｔ、
Ａｇ等の各種金属や、これらのうち少なくとも１種を含
む合金等が挙げられる。この中でも特に、Ｃｕ、Ｚｎ、
Ｎｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｎｂまたはこれらのうち少な
くとも１種を含む合金で構成されることにより、基材２
と、後述する被膜３との密着性が特に優れたものとな
る。また、基材２が、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｎｉまたはこれらの
うち少なくとも１種を含む合金で構成されたものである
と、基材２と、後述する被膜３との密着性が特に優れた
ものとなるとともに、基材２の加工性が向上し、基材２
の成形の自由度がさらに増す。

【００２４】また、基材２が、主として、ステンレス鋼
で構成されるものである場合、基材２と、後述する被膜
３との密着性が特に優れたものとなるとともに、基材２
の加工性が向上し、基材２の成形の自由度がさらに増
す。なお、ステンレス鋼としては、Ｆｅ−Ｃｒ系合金、
Ｆｅ−Ｃｒ−Ｎｉ系合金等が挙げられる。Ｆｅ−Ｃｒ−
Ｎｉ系合金としては、例えば、ＳＵＳ３０４、ＳＵＳ３
０３、ＳＵＳ３１６、ＳＵＳ３１６Ｌ、ＳＵＳ３１６Ｊ
１、ＳＵＳ３１６Ｊ１Ｌ等が挙げられ、Ｆｅ−Ｃｒ系合
金としては、例えば、ＳＵＳ４０５、ＳＵＳ４３０、Ｓ
ＵＳ４３４、ＳＵＳ４４４、ＳＵＳ４２９、ＳＵＳ４３
０Ｆ等が挙げられる。

【００２５】また、基材２を構成する非金属材料として
は、例えば、プラスチックやセラミックス、石材、木
材、ガラス等が挙げられる。プラスチックとしては、各
種熱可塑性樹脂、各種熱硬化性樹脂が挙げられる。基材
２がプラスチックで構成される場合、比較的軽量で携帯
し易く、かつ、重厚な外観を有する装飾品１Ａを得るこ
とができる。また、基材２がプラスチックで構成される
場合、比較的容易に、所望の形状に成形することができ
る。このため、複雑な形状を有する装飾品１Ａであって
も、比較的容易に製造することができる。また、基材２
がプラスチックで構成される場合、電磁ノイズを遮蔽す
る効果が得られる。

【００２６】セラミックスとしては、例えば、Ａｌ
₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、Ｔｉ₂Ｏ₃、ＺｒＯ₂、Ｙ
₂Ｏ₃、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム等の
酸化物系セラミックス、ＡｌＮ、Ｓｉ₃Ｎ₄、ＳｉＮ、Ｔ
ｉＮ、ＢＮ、ＺｒＮ、ＨｆＮ、ＶＮ、ＴａＮ、ＮｂＮ、
ＣｒＮ、Ｃｒ₂Ｎ等の窒化物系セラミックス、グラファ
イト、ＳｉＣ、ＺｒＣ、Ａｌ₄Ｃ₃、ＣａＣ₂、ＷＣ、Ｔ
ｉＣ、ＨｆＣ、ＶＣ、ＴａＣ、ＮｂＣ等の炭化物系のセ
ラミックス、ＺｒＢ_２、ＭｏＢ等のホウ化物系のセラミ
ックス、あるいは、これらのうちの２以上を任意に組合
せた複合セラミックスが挙げられる。基材２が前記のよ
うなセラミックスで構成される場合、高強度、高硬度の
装飾品１Ａを得ることができる。

【００２７】基材２の製造方法は、特に限定されない。
基材２が金属材料で構成される場合、その製造方法とし
ては、例えば、プレス加工、切削加工、鍛造加工、鋳造
加工、粉末冶金焼結、金属粉末射出成形（ＭＩＭ）、ロ
ストワックス法等が挙げられるが、この中でも特に、鋳
造加工または金属粉末射出成形（ＭＩＭ）が好ましい。
鋳造加工、金属粉末射出成形（ＭＩＭ）は、特に、加工
性に優れている。このため、これらの方法を用いた場
合、複雑な形状の基材２を比較的容易に得ることができ
る。

【００２８】金属粉末射出成形（ＭＩＭ）は、通常、以
下のようにして行われる。まず、金属粉と有機バインダ
ーとを含む材料を混合、混練して混練物を得る。次に、
この混練物を射出成形することにより成形体を形成す
る。その後、この成形体に対して、脱脂処理（脱バイン
ダー処理）を施し、脱脂体を得る。この脱脂処理は、通
常、減圧条件下で、加熱することにより行われる。さら
に、得られた脱脂体を焼結することにより、焼結体を得
る。この焼結処理は、通常、前記脱脂処理より高温で加
熱することにより行われる。本発明では、以上のように
して得られる焼結体を基材として用いることができる。

【００２９】また、基材２が前記のようなプラスチック
で構成される場合、その製造方法としては、例えば、圧
縮成形、押出成形、射出成形、光造形等が挙げられる。

【００３０】また、基材２が前記のようなセラミックス
で構成される場合、その製造方法は、特に限定されない
が、金属粉末射出成形（ＭＩＭ）であるのが好ましい。
金属粉末射出成形（ＭＩＭ）は、特に、加工性に優れて
いるため、複雑な形状の基材２を比較的容易に得ること
ができる。

【００３１】また、基材２の表面に対しては、例えば、
鏡面加工、スジ目加工、梨地加工等の表面加工が施され
ているのが好ましい。これにより、得られる装飾品１Ａ
の表面の光沢具合にバリエーションを持たせることが可
能となり、得られる装飾品１Ａの装飾性をさらに向上さ
せることができる。また、このような表面加工を施した
基材２を用いて製造される装飾品１Ａは、被膜３に対し
て前記表面加工を直接施すことにより得られるものに比
べて、被膜３のギラツキ等が抑制されたものとなり、特
に美的外観に優れたものとなる。

【００３２】また、基材２と被膜３との密着性の向上等
を目的として、後述する被膜３の形成に先立ち、基材２
に対して、前処理を施してもよい。前処理としては、例
えば、ブラスト処理、アルカリ洗浄、酸洗浄、水洗、有
機溶剤洗浄、ボンバード処理等の清浄化処理、エッチン
グ処理等が挙げられるが、この中でも特に、清浄化処理
が好ましい。基材２の表面に、清浄化処理を施すことに
より、基材２と被膜３との密着性が特に優れたものとな
る。

【００３３】［被膜３の形成］基材２の表面に、被膜３
を形成する（１ｂ）。本発明は、被膜３が、０．１〜１
５ｗｔ％のＩｎを含むＡｕ−Ｉｎ系合金で構成されると
いう点に特徴を有する。被膜３が、前記のような組成を
有するものであることにより、白っぽい金色の、美的外
観に優れた装飾品１Ａを得ることができる。また、被膜
３が、前述のような組成であることにより、装飾品１Ａ
は、十分な耐食性を有するものとなる。一方、Ａｕ−Ｉ
ｎ系合金において、Ｉｎの含有量（含有率）が前記範囲
外の値であると、白っぽい金色の色彩を有し、美的外観
に優れた装飾品１Ａを得るのが困難となる。

【００３４】また、被膜３が、前述のような組成である
ことにより、従来用いられてきたＡｕ−Ｆｅ系合金で
は、製造するのが困難であった比較的白味の強い金色の
装飾品も、容易に製造することができる。また、Ａｕお
よびＩｎは、アレルギー反応を極めて起こし難い材料で
ある。したがって、本発明は、皮膚に接触して用いられ
る装飾品（例えば、時計等）に好適に適用することがで
きる。

【００３５】上述したように、本発明においては、被膜
３を構成する合金中のＩｎの含有量は、０．１〜１５ｗ
ｔ％であるが、１〜１３ｗｔ％であるのが好ましく、５
〜１０ｗｔ％であるのがより好ましい。Ｉｎの含有量が
前記範囲内の値であると、被膜３は、特に優れた耐食性
を有し、硬度が高いものとなる。

【００３６】なお、被膜３を構成する合金は、Ａｕおよ
びＩｎ（以下、「必須元素」ともいう。）以外の元素を
含むものであってもよい。また、このような元素として
は、例えば、Ｐｄ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｍｇ、Ｃ
ｒ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ｎｂ、Ｗ、Ａｌ、Ａｇ、Ｖ、Ｚｒ、Ｓ
ｎ、Ｐｔ等が挙げられ、これらのうち１種または２種以
上を組み合わせて含有することもできる。被膜３が必須
元素以外の元素を含むものである場合、前述した元素の
中でも特にＳｎが好ましい。また、このように、被膜３
を構成する合金が必須元素以外の元素を含むものである
場合、その含有量（２種以上の元素を含む場合はその総
量）は、７ｗｔ％以下であるのが好ましく、５ｗｔ％以
下であるのがより好ましい。

【００３７】また、本発明は、被膜３を湿式めっき法に
より形成する点に特徴を有する。湿式めっき法を用いて
被膜３を形成することにより、比較的簡易な装置、方法
で、均質で、かつ基材１との密着性に優れた被膜３を容
易に形成することができる。特に、基材１が複雑な形状
を有するものであっても、均質で、かつ基材１との密着
性に優れた被膜３を容易に形成することができる。この
ように、基材１と被膜３との密着性が優れたものとなる
ため、得られる装飾品１Ａの耐久性は、特に優れたもの
となる。

【００３８】また、湿式めっき法では、めっき液の組成
を調節することにより、形成される被膜３中のＩｎ含有
量を容易に調節することができる。その結果、例えば、
被膜３の色彩や、耐食性等の物性を容易に調節すること
ができる。また、湿式めっき法を用いることにより、バ
ッチ処理による被膜３の形成を容易に行うことができ
る。

【００３９】湿式めっき法としては、例えば、電解めっ
き、無電解めっき、浸漬めっき等が挙げられるが、この
中でも特に、電解めっきが好ましい。湿式めっき法とし
て電解めっきを用いることにより、安定した組成、物性
の被膜３を、より確実に形成することができる。また、
電解めっきでは、めっき液の組成を調節することによ
り、形成される被膜３中のＩｎ含有量を、さらに容易に
調節することができる。その結果、例えば、被膜３の色
彩や、耐食性等の物性を容易に調節することができる。

【００４０】電解めっきは、例えば、以下のような条件
で行うのが好ましい。電解めっき時における浴温は、特
に限定されないが、５０〜６０℃であるのが好ましく、
５５〜６０℃であるのがより好ましい。浴温が、前記下
限値未満であると、Ａｕ−Ｉｎ系合金の析出効率が低下
し、形成される被膜３の光沢が低下する傾向を示す。一
方、浴温が、前記上限値を超えると、形成される被膜３
の光沢が低下する傾向を示す。

【００４１】また、電解めっき時における電流密度は、
特に限定されないが、０．５〜２．０Ａ／ｄｍ^２である
のが好ましく、１．０〜１．５Ａ／ｄｍ^２であるのがよ
り好ましい。電流密度が、前記下限値未満であると、被
膜３の形成に要する時間が長くなり、装飾品１Ａの生産
性が低下する。一方、電流密度が、前記上限値を超える
と、いわゆる、クモリ、カブリといった光沢不良を生じ
る場合がある。

【００４２】電解めっきに用いるめっき液中におけるＡ
ｕの濃度は、特に限定されないが、８．０〜１１．０
［ｇ／リットル］であるのが好ましく、９．０〜１１．
０［ｇ／リットル］であるのがより好ましい。めっき液
中におけるＡｕの濃度が前記下限値未満であると、電解
めっき時における電流密度が低下し、Ａｕ−Ｉｎ系合金
の析出効率が低下する傾向を示す。一方、めっき液中に
おけるＡｕの濃度が前記上限値を超えると、ドラックア
ウトが増加する傾向を示す。

【００４３】また、電解めっきに用いるめっき液中にお
けるＩｎの濃度は、特に限定されないが、１〜５［ｇ／
リットル］であるのが好ましく、３〜４［ｇ／リット
ル］であるのがより好ましい。めっき液中におけるＩｎ
の濃度が前記下限値未満であると、形成される被膜３の
硬度が低下する傾向を示す。一方、めっき液中における
Ｉｎの濃度が前記上限値を超えると、Ａｕ−Ｉｎ系合金
の析出効率が低下する傾向を示す。

【００４４】また、電解めっきに用いるめっき液中にお
けるＡｕの濃度をＣ_Ａｕ［ｇ／リットル］、Ｉｎの濃度
をＣ_Ｉｎ［ｇ／リットル］としたとき、下記式（I）を
満足するのが好ましい。これにより、特に安定した耐食
性、色調、硬度を有する被膜３を形成することができ
る。一方、Ｃ_Ａｕ／Ｃ_Ｉｎの値が前記範囲から外れる
と、前述した組成の被膜３を形成するのが困難となる場
合がある。 ２．２≦Ｃ_Ａｕ／Ｃ_Ｉｎ≦１１ ・・・（I）

【００４５】また、式（I）に代わり、下記式（II）を
満足するのがより好ましく、下記式（III）を満足する
のがさらに好ましい。これにより、前述した効果はより
顕著なものとなる。 ２．５０≦Ｃ_Ａｕ／Ｃ_Ｉｎ≦５．５ ・・・（II） ２．７５≦Ｃ_Ａｕ／Ｃ_Ｉｎ≦３．７ ・・・（III）

【００４６】また、電解めっきに用いるめっき液は、硫
酸を含むものを用いるのが好ましい。この場合、めっき
液中における硫酸濃度は、１〜５ｖｏｌ％であるのが好
ましく、２〜４ｖｏｌ％であるのがより好ましい。めっ
き液中における硫酸濃度が前記範囲外の値であると、Ａ
ｕ−Ｉｎ系合金の析出効率が低下したり、形成される被
膜３の厚さのバラツキが大きくなる傾向を示す。

【００４７】湿式めっき法により形成される被膜３の平
均厚さは、特に限定されないが、０．１〜１０μｍであ
るのが好ましく、０．１〜５μｍであるのがより好まし
い。被膜３の平均厚さが前記下限値未満であると、被膜
３にピンホールが発生し易くなり、本発明の効果が十分
に発揮されない可能性がある。一方、被膜３の平均厚さ
が前記上限値を超えると、被膜３の内部応力が高くな
り、被膜３と基材２との密着性が低下したり、クラック
が発生し易くなる。

【００４８】また、被膜３が前記のような合金組成を有
することにより、容易に、その表面の滑り性を優れたも
のにすることができる。これにより、表面のザラツキ感
を軽減、防止することができ、装飾品１Ａが皮膚等に接
触したときの違和感、不快感を軽減、防止することがで
きる。

【００４９】以上説明したような本発明によれば、白っ
ぽい金色の装飾品１Ａを得ることができる。被膜３の色
彩は、特に限定されるものではないが、ＩＳＯ規格に基
づくＣＥＮ（Comite Europeen de Normalisation）規格
のＥＮ２８６５４で規定される１Ｎ−１４色の近似色で
あるのが好ましい。被膜３の色彩が１Ｎ−１４色の近似
色であると、装飾品１Ａは、美的外観が特に優れたもの
となり、高級感がさらに向上する。なお、「１Ｎ−１４
色の近似色」とは、例えば、ＪＩＳ Ｚ ８７２９で規
定されるＬ^＊ａ^＊ｂ^＊表示の色度図において、ａ^＊が−
３．０〜２．０であり、かつ、ｂ^＊が１９〜２５の範囲
とすることができる。

【００５０】なお、被膜３の各部位における組成は、一
定であっても、一定でなくてもよい。例えば、被膜３
は、その厚さ方向に沿って、組成が順次変化するもの
（傾斜材料）であってもよい。また、被膜３は、例え
ば、組成の異なる複数の層の積層体であってもよい。ま
た、被膜３は、図示の構成では基材２の全面に形成され
ているが、基材２の表面の少なくとも一部に形成される
ものであればよい。

【００５１】以上説明したような表面処理方法により、
装飾品１Ａが得られる。装飾品１Ａは、装飾性を備えた
物品であればいかなるものでもよいが、例えば、置物等
のインテリア、エクステリア用品、宝飾品、時計ケース
（胴、裏蓋等）、時計バンド、文字盤、時計用針等の時
計用外装部品、ムーブメントの地板、歯車、輪列受け、
回転錘等の時計用内装部品、メガネ、ネクタイピン、カ
フスボタン、指輪、ネックレス、ブレスレット、アンク
レット、ブローチ、ペンダント、イヤリング、ピアス等
の装身具、ライターまたはそのケース、ゴルフクラブ等
のスポーツ用品、銘板、パネル、賞杯、その他ハウジン
グ等を含む各種機器部品、各種容器等が挙げられる。こ
の中でも特に、少なくともその一部が皮膚に接触して用
いられるものが好ましく、時計用外装部品がより好まし
い。時計用外装部品は、装飾品として外観の美しさが要
求されるとともに、実用品として、耐久性、耐食性、耐
摩耗性や、優れた触感等が要求されるが、本発明の表面
処理方法によればこれらの要件を全て満足することがで
きる。

【００５２】また、本発明の時計は、上述したような本
発明の装飾品を有するものである。上述したように、本
発明の装飾品は、美的外観に優れた色彩を有し、耐食性
に優れたものである。このため、このような装飾品を備
えた本発明の時計は、時計としての求められる要件を十
分に満足することができる。すなわち、本発明の時計
は、特に優れた審美性を長期間にわたって保持すること
ができる。また、変色を生じにくいため、視認しやすい
状態を長期間にわたって維持することができる。特に、
本発明によれば、特別な気密構造を必要とすることな
く、上記のような効果が得られる点に特徴を有する。な
お、本発明の時計を構成する前記装飾品以外の部品とし
ては、公知のものを用いることができる。

【００５３】次に、本発明の表面処理方法、装飾品およ
び時計の第２実施形態について説明する。図２は、本発
明の表面処理方法の第２実施形態を示す断面図である。
以下、第２実施形態の表面処理方法および該方法を用い
て製造される第２実施形態の装飾品について、前記第１
実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項の説明
については、その説明を省略する。

【００５４】図２に示すように、本実施形態の表面処理
方法は、基材２の表面の少なくとも一部（２ａ）に、下
地層４０を形成する工程（２ｂ）と、下地層４０の表面
の少なくとも一部に、乾式めっき法により、Ａｕ−Ｉｎ
系合金で構成される被膜３を形成する工程（３ｃ）とを
有する。すなわち、被膜３の形成に先立ち、基材２の表
面の少なくとも一部に、下地層４０を形成する以外は、
前述した第１実施形態と同様である。以下、下地層４０
について詳細に説明する。

【００５５】［下地層４０］下地層４０は、いかなる目
的で形成するものであってもよいが、以下のような機能
を有するものであるのが好ましい。

【００５６】下地層４０は、例えば、基材２と被膜３と
の電位差を緩和する緩衝層として機能するものであるの
が好ましい。これにより、基材２と被膜３との電位差に
よる腐食（異種金属接触腐食）の発生をより効果的に防
止することが可能となる。

【００５７】また、下地層４０は、例えば、基材２、被
膜３との密着性を向上させる機能を有するものであるの
が好ましい。このように、基材２、被膜３との密着性が
向上することにより、装飾品１Ｂの耐食性がさらに優れ
たものとなる。その結果、装飾品１Ｂは、特に耐久性に
優れたものとなる。また、下地層４０は、例えば、基材
２の孔、キズ等をレベリング（ならし）により補修する
機能等を有するものであってもよい。

【００５８】下地層４０の形成方法としては、例えば、
電解めっき、浸漬めっき、無電解めっき等の湿式めっき
法、真空蒸着、スパッタリング、熱ＣＶＤ、プラズマＣ
ＶＤ、レーザーＣＶＤ等の化学蒸着法（ＣＶＤ）、イオ
ンプレーティング等の乾式めっき法、溶射、金属箔の接
合等が挙げられるが、この中でも特に、湿式めっき法ま
たは乾式めっき法が好ましい。下地層４０の形成方法と
して、湿式めっき法または乾式めっき法を用いることに
より、形成される下地層４０は、基材２との密着性に特
に優れたものとなる。その結果、得られる装飾品１Ｂの
長期耐久性は、特に優れたものとなる。

【００５９】また、下地層４０は、例えば、基材２の表
面に、酸化処理、窒化処理、クロメート処理、炭化処
理、酸浸漬、酸電解処理、アルカリ浸漬処理、アルカリ
電解処理等の化学処理を施すことにより形成された被
膜、特に、不動態膜であってもよい。

【００６０】下地層４０の構成材料は、特に限定されな
いが、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｐｄ、Ａｕ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｎ
ｉ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｒ
ｕ、Ｉｒ等の金属材料や、前記金属材料のうち少なくと
も１種を含む合金、前記金属材料のうち少なくとも１種
による金属化合物（例えば、金属酸化物、金属窒化物、
金属炭化物等）、またはこれらを２種以上組み合わせた
もの等が挙げられる。

【００６１】下地層４０が、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｐｄ、Ａｕ、
Ａｇ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｃ
ｒ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｉｒまたはこれらのうち少なく
とも１種を含む合金で構成されるものである場合、基材
２と被膜３との電位差による腐食の発生を、さらに効果
的に防止することができる。

【００６２】また、下地層４０が上記のような材料で構
成されたものである場合、基材２、被膜３との密着性も
向上する。このように、基材２、被膜３との密着性が向
上することにより、装飾品１Ｂの耐食性がさらに優れた
ものとなる。その結果、装飾品１Ｂは、特に耐久性に優
れたものとなる。

【００６３】また、下地層４０が、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｐｄ、
Ａｕ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｚｎまたはこれ
らのうち少なくとも１種を含む合金で構成されたもので
ある場合、上述した効果はさらに顕著なものとなる。

【００６４】下地層４０の平均厚さは、例えば、０．１
〜５０μｍであるのが好ましく、１〜３０μｍであるの
がより好ましい。下地層４０の平均厚さが前記下限値未
満であると、上述した下地層４０の効果が十分に発揮さ
れない可能性がある。一方、下地層４０の平均厚さが前
記上限値を超えると、下地層４０の各部位における膜厚
のバラツキが大きくなる傾向を示す。また、下地層４０
の内部応力が高くなり、クラックが発生し易くなる。

【００６５】また、下地層４０の構成材料は、基材２を
構成する材料または被膜３を構成する材料のうち少なく
とも１種を含むものであるのが好ましい。これにより、
基材２、被膜３との密着性がさらに向上する。このよう
に、基材２、被膜３との密着性が向上することにより、
装飾品１Ｂの耐食性がさらに優れたものとなる。その結
果、装飾品１Ｂは、特に耐久性に優れたものとなる。

【００６６】また、下地層４０の標準電位は、基材２の
標準電位と被膜３の標準電位との間の値であるのが好ま
しい。すなわち、下地層４０は、その標準電位が、基材
２の構成材料の標準電位と、被膜３の構成材料の標準電
位との間の値である材料で構成されたものであるのが好
ましい。これにより、基材２と被膜３との電位差による
腐食（異種金属接触腐食）の発生をより効果的に防止す
ることが可能となる。

【００６７】なお、下地層４０は、図示の構成では基材
２の全面に形成されているが、基材２の表面の少なくと
も一部に形成されるものであればよい。また、下地層４
０の各部位における組成は、一定であっても、一定でな
くてもよい。例えば、下地層４０は、その厚さ方向に沿
って、組成が順次変化するもの（傾斜材料）であっても
よい。また、下地層４０は、前記のような機能を有する
ものに限定されない。例えば、下地層４０は、保管時
（被膜３の形成の工程までの間）等に腐食が発生するの
を防止する機能等を有するものであってもよい。

【００６８】次に、本発明の表面処理方法、装飾品およ
び時計の第３実施形態について説明する。図３は、本発
明の表面処理方法の第３実施形態を示す断面図である。
以下、第３実施形態の表面処理方法および該方法を用い
て製造される第３実施形態の装飾品について、前記第
１、第２実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事
項の説明については、その説明を省略する。

【００６９】図３に示すように、本実施形態の表面処理
方法は、基材２の表面の少なくとも一部（３ａ）に、下
地層（基材側から順に、第１の下地層４１、第２の下地
層４２）を形成する工程（３ｂ、３ｃ）と、前記下地層
の表面の少なくとも一部に、乾式めっき法により、Ａｕ
−Ｉｎ系合金で構成される被膜３を形成する工程（３
ｄ）とを有する。すなわち、被膜３の形成に先立ち、基
材２の表面の少なくとも一部に、形成する下地層を２層
（第１の下地層４１ａおよび第２の下地層４２ｂ）にし
た以外は、前述した第２実施形態と同様である。以下、
第１の下地層４１ａ、第２の下地層４２ｂについて説明
する。

【００７０】［第１の下地層４１ａ］基材２の表面に、
第１の下地層４１ａを形成する。第１の下地層４１ａ
は、いかなる目的で形成するものであってもよいが、以
下のような機能を有するものであるのが好ましい。

【００７１】第１の下地層４１ａは、例えば、基材２と
後述する第２の下地層４２ａとの電位差を緩和する緩衝
層として機能するものであるのが好ましい。これによ
り、基材２と第２の下地層４２ａとの電位差による腐食
（異種金属接触腐食）の発生をより効果的に防止するこ
とが可能となる。

【００７２】また、第１の下地層４１ａは、例えば、基
材２、第２の下地層４２ａとの密着性を向上させる機能
を有するものであるのが好ましい。このように、基材
２、第２の下地層４２ａとの密着性が向上することによ
り、装飾品１Ｃの耐食性がさらに優れたものとなる。そ
の結果、装飾品１Ｃは特に耐久性に優れたものとなる。
また、第１の下地層４１ａは、例えば、基材２の孔、キ
ズ等をレベリング（ならし）により補修する機能等を有
するものであるのが好ましい。

【００７３】第１の下地層４１ａの形成方法としては、
例えば、電解めっき、浸漬めっき、無電解めっき等の湿
式めっき法、真空蒸着、スパッタリング、熱ＣＶＤ、プ
ラズマＣＶＤ、レーザーＣＶＤ等の化学蒸着法（ＣＶ
Ｄ）、イオンプレーティング等の乾式めっき法、溶射、
金属箔の接合等が挙げられるが、この中でも特に、湿式
めっき法または乾式めっき法が好ましい。第１の下地層
４１ａの形成方法として、湿式めっき法または乾式めっ
き法を用いることにより、形成される第１の下地層４１
ａは、基材２との密着性に特に優れたものとなる。その
結果、得られる装飾品１Ｃの長期耐久性は、特に優れた
ものとなる。

【００７４】また、第１の下地層４１ａは、例えば、基
材２の表面に、酸化処理、窒化処理、クロメート処理、
炭化処理、酸浸漬、酸電解処理、アルカリ浸漬処理、ア
ルカリ電解処理等の化学処理を施すことにより形成され
た被膜、特に、不動態膜であってもよい。

【００７５】第１の下地層４１ａの構成材料は、特に限
定されないが、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｐｄ、Ａｕ、Ａｇ、Ｉｎ、
Ｓｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｐｔ、Ｒ
ｈ、Ｒｕ、Ｉｒ等の金属材料や、前記金属材料のうち少
なくとも１種を含む合金、前記金属材料のうち少なくと
も１種による金属化合物（例えば、金属酸化物、金属窒
化物、金属炭化物等）、またはこれらを２種以上組み合
わせたもの等が挙げられるが、この中でも特に、Ｃｕ、
Ｃｏ、Ｐｄ、Ａｕ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｚ
ｎ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｉｒまたは
これらのうち少なくとも１種を含む合金であるのが好ま
しい。第１の下地層４１ａがこのような材料で構成され
たものである場合、基材２と第２の下地層４２ａとの電
位差による腐食の発生を、さらに効果的に防止すること
ができる。

【００７６】また、第１の下地層４１ａが上記のような
材料で構成されたものであると、基材２、第２の下地層
４２ａとの密着性も向上する。このように、基材２、第
２の下地層４２ａとの密着性が向上することにより、装
飾品１Ｃの耐食性がさらに優れたものとなる。その結
果、装飾品１Ｃは、特に耐久性に優れたものとなる。

【００７７】特に、第２の下地層４２ａが後述するよう
な材料で構成される場合、第１の下地層４１ａは、Ｃ
ｕ、Ｃｏ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｆｅまたは
これらのうち少なくとも１種を含む合金で構成されたも
のであるのが好ましい。これにより、上述した効果はさ
らに顕著なものとなる。

【００７８】第１の下地層４１ａの平均厚さは、例え
ば、０．１〜５０μｍであるのが好ましく、１〜３０μ
ｍであるのがより好ましい。第１の下地層４１ａの平均
厚さが前記下限値未満であると、上述した第１の下地層
４１ａの効果が十分に発揮されない可能性がある。一
方、第１の下地層４１ａの平均厚さが前記上限値を超え
ると、第１の下地層４１ａの各部位における膜厚のバラ
ツキが大きくなる傾向を示す。また、第１の下地層４１
ａの内部応力が高くなり、クラックが発生し易くなる。

【００７９】また、第１の下地層４１ａの構成材料は、
基材２を構成する材料または第２の下地層４２ａを構成
する材料のうち少なくとも１種を含むものであるのが好
ましい。これにより、基材２、第２の下地層４２ａとの
密着性がさらに向上する。このように、基材２、第２の
下地層４２ａとの密着性が向上することにより、装飾品
１Ｃの耐食性がさらに優れたものとなる。その結果、装
飾品１Ｃは、特に耐久性に優れたものとなる。

【００８０】また、第１の下地層４１ａの標準電位は、
基材２の標準電位と、第２の下地層４２ａの標準電位と
の間の値であるのが好ましい。すなわち、第１の下地層
４１ａは、その標準電位が、基材２の構成材料の標準電
位と、第２の下地層４２ａの構成材料の標準電位との間
の値である材料で構成されたものであるのが好ましい。
これにより、基材２と第２の下地層４２ａとの電位差に
よる腐食（異種金属接触腐食）の発生をより効果的に防
止することが可能となる。

【００８１】なお、第１の下地層４１ａは、図示の構成
では基材２の全面に形成されているが、基材２の表面の
少なくとも一部に形成されるものであればよい。また、
第１の下地層４１ａの各部位における組成は、一定であ
っても、一定でなくてもよい。例えば、第１の下地層４
１ａは、その厚さ方向に沿って、組成が順次変化するも
の（傾斜材料）であってもよい。また、第１の下地層４
１ａは、前記のような機能を有するものに限定されな
い。例えば、第１の下地層４１ａは、保管時（被膜３の
形成の工程までの間）等に腐食が発生するのを防止する
機能等を有するものであってもよい。

【００８２】［第２の下地層４２ａ］次に、第１の下地
層４１ａの表面に、第２の下地層４２ａを形成する。第
２の下地層４２ａは、いかなる目的で形成するものであ
ってもよいが、以下のような機能を有するものであるの
が好ましい。

【００８３】第２の下地層４２ａは、例えば、第１の下
地層４１ａと被膜３との電位差を緩和する緩衝層として
機能するものであるのが好ましい。これにより、第１の
下地層４１ａと被膜３との電位差による腐食（異種金属
接触腐食）の発生をより効果的に防止することが可能と
なる。

【００８４】また、第２の下地層４２ａは、例えば、第
１の下地層４１ａ、被膜３との密着性を向上させる機能
を有するものであるのが好ましい。このように、第１の
下地層４１ａ、被膜３との密着性が向上することによ
り、装飾品１Ｃの耐食性がさらに優れたものとなる。そ
の結果、装飾品１Ｃは特に耐久性に優れたものとなる。
また、第２の下地層４２ａは、例えば、第１の下地層４
１ａの孔、キズ等をレベリング（ならし）により補修す
る機能等を有するものであってもよい。

【００８５】第２の下地層４２ａの形成方法としては、
例えば、電解めっき、浸漬めっき、無電解めっき等の湿
式めっき法、真空蒸着、スパッタリング、熱ＣＶＤ、プ
ラズマＣＶＤ、レーザーＣＶＤ等の化学蒸着法（ＣＶ
Ｄ）、イオンプレーティング等の乾式めっき法、溶射、
金属箔の接合等が挙げられるが、この中でも特に、湿式
めっき法または乾式めっき法が好ましい。第２の下地層
４２ａの形成方法として、湿式めっき法または乾式めっ
き法を用いることにより、形成される第２の下地層４２
ａは、第１の下地層４１ａとの密着性に特に優れたもの
となる。その結果、得られる装飾品１Ｃの長期耐久性
は、特に優れたものとなる。

【００８６】また、第２の下地層４２ａは、例えば、第
１の下地層４１ａの表面に、酸化処理、窒化処理、クロ
メート処理、炭化処理、酸浸漬、酸電解処理、アルカリ
浸漬処理、アルカリ電解処理等の化学処理を施すことに
より形成された被膜、特に、不動態膜であってもよい。

【００８７】第２の下地層４２ａの構成材料は、特に限
定されないが、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｐｄ、Ａｕ、Ａｇ、Ｉｎ、
Ｓｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｐｔ、Ｒ
ｈ、Ｒｕ、Ｉｒ等の金属材料や、前記金属材料のうち少
なくとも１種を含む合金、前記金属材料のうち少なくと
も１種による金属化合物（例えば、金属酸化物、金属窒
化物、金属炭化物等）、またはこれらを２種以上組み合
わせたもの等が挙げられる。

【００８８】第２の下地層４２ａが、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｐ
ｄ、Ａｕ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ａ
ｌ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｉｒまたはこれら
のうち少なくとも１種を含む合金で構成されるものであ
る場合、第１の下地層４１ａと被膜３との電位差による
腐食の発生を、さらに効果的に防止することができる。

【００８９】また、第２の下地層４２ａが上記のような
材料で構成されたものであると、第１の下地層４１ａ、
被膜３との密着性も向上する。このように、第１の下地
層４１ａ、被膜３との密着性が向上することにより、装
飾品１Ｃの耐食性がさらに優れたものとなる。その結
果、装飾品１Ｃは、特に耐久性に優れたものとなる。

【００９０】特に、第１の下地層４１ａが前述したよう
な材料で構成される場合、第２の下地層４２ａは、Ｐ
ｄ、Ａｕ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｐｔ、Ｒ
ｈ、Ｒｕまたはこれらのうち少なくとも１種を含む合金
で構成されたものであるのが好ましい。これにより、上
述した効果はさらに顕著なものとなる。

【００９１】第２の下地層４２ａの平均厚さは、例え
ば、０．１〜３０μｍであるのが好ましく、１〜２０μ
ｍであるのがより好ましい。第２の下地層４２ａの平均
厚さが前記下限値未満であると、上述した第２の下地層
４２ａの効果が十分に発揮されない可能性がある。一
方、第２の下地層４２ａの平均厚さが前記上限値を超え
ると、第２の下地層４２ａの各部位における膜厚のバラ
ツキが大きくなる傾向を示す。また、第２の下地層４２
ａの内部応力が高くなり、クラックが発生し易くなる。

【００９２】また、第２の下地層４２ａの構成材料は、
第１の下地層４１ａを構成する材料または被膜３を構成
する材料のうち少なくとも１種を含むものであるのが好
ましい。これにより、第１の下地層４１ａ、被膜３との
密着性がさらに向上する。このように、第１の下地層４
１ａ、被膜３との密着性が向上することにより、装飾品
１Ｃの耐食性がさらに優れたものとなる。その結果、装
飾品１Ｃは、特に耐久性に優れたものとなる。

【００９３】また、第２の下地層４２ａの標準電位は、
第１の下地層４１ａの標準電位と、被膜３の標準電位と
の間の値であるのが好ましい。すなわち、第２の下地層
４２ａは、その標準電位が、第１の下地層４１ａの構成
材料の標準電位と、被膜３の構成材料の標準電位との間
の値である材料で構成されたものであるのが好ましい。
これにより、第１の下地層４１ａと被膜３との電位差に
よる腐食（異種金属接触腐食）の発生をより効果的に防
止することが可能となる。

【００９４】なお、第２の下地層４２ａは、図示の構成
では第１の下地層４１ａの全面に形成されているが、第
１の下地層４１ａの表面の少なくとも一部に形成される
ものであればよい。また、第２の下地層４２ａの各部位
における組成は、一定であっても、一定でなくてもよ
い。例えば、第２の下地層４２ａは、その厚さ方向に沿
って、組成が順次変化するもの（傾斜材料）であっても
よい。また、第２の下地層４２ａは、前記のような機能
を有するものに限定されない。例えば、第２の下地層４
２ａは、保管時（被膜３の形成の工程までの間）等に腐
食が発生するのを防止する機能等を有するものであって
もよい。

【００９５】次に、本発明の表面処理方法、装飾品およ
び時計の第４実施形態について説明する。図４は、本発
明の表面処理方法の第４実施形態を示す断面図である。
以下、第４実施形態の表面処理方法および該方法を用い
て製造される第４実施形態の装飾品について、前記第
１、第２、第３実施形態との相違点を中心に説明し、同
様の事項の説明については、その説明を省略する。

【００９６】図４に示すように、本実施形態の表面処理
方法は、基材２の表面の少なくとも一部（４ａ）に、下
地層（基材側から順に、第１の下地層４１ｂ、第２の下
地層４２ｂ、第３の下地層４３ｂ）を形成する工程（４
ｂ、４ｃ、４ｄ）と、前記下地層の表面の少なくとも一
部に、乾式めっき法により、Ａｕ−Ｉｎ系合金で構成さ
れる被膜３を形成する工程（４ｅ）とを有する。すなわ
ち、被膜３の形成に先立ち、基材２の表面の少なくとも
一部に、形成する下地層を３層（第１の下地層４１ｂ、
第２の下地層４２ｂおよび第３の下地層４３ｂ）にした
以外は、前述した第２、第３実施形態と同様である。以
下、第１の下地層４１ｂ、第２の下地層４２ｂおよび第
３の下地層４３ｂについて説明する。

【００９７】［第１の下地層４１ｂ］基材２の表面に、
第１の下地層４１ｂを形成する。第１の下地層４１ｂ
は、いかなる目的で形成するものであってもよいが、以
下のような機能を有するものであるのが好ましい。

【００９８】第１の下地層４１ｂは、例えば、基材２と
後述する第２の下地層４２ｂとの電位差を緩和する緩衝
層として機能するものであるのが好ましい。これによ
り、基材２と第２の下地層４２ｂとの電位差による腐食
（異種金属接触腐食）の発生をより効果的に防止するこ
とが可能となる。

【００９９】また、第１の下地層４１ｂは、例えば、基
材２、第２の下地層４２ｂとの密着性を向上させる機能
を有するものであるのが好ましい。このように、基材
２、第２の下地層４２ｂとの密着性が向上することによ
り、装飾品１Ｄの耐食性がさらに優れたものとなる。そ
の結果、装飾品１Ｄは特に耐久性に優れたものとなる。
また、第１の下地層４１ｂは、例えば、基材２の孔、キ
ズ等をレベリング（ならし）により補修する機能等を有
するものであるのが好ましい。

【０１００】第１の下地層４１ｂの形成方法としては、
例えば、電解めっき、浸漬めっき、無電解めっき等の湿
式めっき法、真空蒸着、スパッタリング、熱ＣＶＤ、プ
ラズマＣＶＤ、レーザーＣＶＤ等の化学蒸着法（ＣＶ
Ｄ）、イオンプレーティング等の乾式めっき法、溶射、
金属箔の接合等が挙げられるが、この中でも特に、湿式
めっき法または乾式めっき法が好ましい。第１の下地層
４１ｂの形成方法として、湿式めっき法または乾式めっ
き法を用いることにより、形成される第１の下地層４１
ｂは、基材２との密着性に特に優れたものとなる。その
結果、得られる装飾品１Ｄの長期耐久性は、特に優れた
ものとなる。

【０１０１】また、第１の下地層４１ｂは、例えば、基
材２の表面に、酸化処理、窒化処理、クロメート処理、
炭化処理、酸浸漬、酸電解処理、アルカリ浸漬処理、ア
ルカリ電解処理等の化学処理を施すことにより形成され
た被膜、特に、不動態膜であってもよい。

【０１０２】第１の下地層４１ｂの構成材料は、特に限
定されないが、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｐｄ、Ａｕ、Ａｇ、Ｉｎ、
Ｓｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｐｔ、Ｒ
ｈ、Ｒｕ、Ｉｒ等の金属材料や、前記金属材料のうち少
なくとも１種を含む合金、前記金属材料のうち少なくと
も１種による金属化合物（例えば、金属酸化物、金属窒
化物、金属炭化物等）、またはこれらを２種以上組み合
わせたもの等が挙げられるが、この中でも特に、Ｃｕ、
Ｃｏ、Ｐｄ、Ａｕ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｚ
ｎ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｉｒまたは
これらのうち少なくとも１種を含む合金であるのが好ま
しい。第１の下地層４１ｂがこのような材料で構成され
たものである場合、基材２と第２の下地層４２ｂとの電
位差による腐食の発生を、さらに効果的に防止すること
ができる。

【０１０３】また、第１の下地層４１ｂが上記のような
材料で構成されたものであると、基材２、第２の下地層
４２ｂとの密着性も向上する。このように、基材２、第
２の下地層４２ｂとの密着性が向上することにより、装
飾品１Ｄの耐食性がさらに優れたものとなる。その結
果、装飾品１Ｄは、特に耐久性に優れたものとなる。

【０１０４】特に、第２の下地層４２ｂが後述するよう
な材料で構成される場合、第１の下地層４１ｂは、Ｃ
ｕ、Ｃｏ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｆｅまたは
これらのうち少なくとも１種を含む合金で構成されたも
のであるのが好ましい。これにより、上述した効果はさ
らに顕著なものとなる。

【０１０５】第１の下地層４１ｂの平均厚さは、例え
ば、０．１〜５０μｍであるのが好ましく、１〜３０μ
ｍであるのがより好ましい。第１の下地層４１ｂの平均
厚さが前記下限値未満であると、上述した第１の下地層
４１ｂの効果が十分に発揮されない可能性がある。一
方、第１の下地層４１ｂの平均厚さが前記上限値を超え
ると、第１の下地層４１ｂの各部位における膜厚のバラ
ツキが大きくなる傾向を示す。また、第１の下地層４１
ｂの内部応力が高くなり、クラックが発生し易くなる。

【０１０６】また、第１の下地層４１ｂの構成材料は、
基材２を構成する材料または第２の下地層４２ｂを構成
する材料のうち少なくとも１種を含むものであるのが好
ましい。これにより、基材２、第２の下地層４２ｂとの
密着性がさらに向上する。このように、基材２、第２の
下地層４２ｂとの密着性が向上することにより、装飾品
１Ｄの耐食性がさらに優れたものとなる。その結果、装
飾品１Ｄは、特に耐久性に優れたものとなる。

【０１０７】また、第１の下地層４１ｂの標準電位は、
基材２の標準電位と、第２の下地層４２ｂの標準電位と
の間の値であるのが好ましい。すなわち、第１の下地層
４１ｂは、その標準電位が、基材２の構成材料の標準電
位と、第２の下地層４２ｂの構成材料の標準電位との間
の値である材料で構成されたものであるのが好ましい。
これにより、基材２と第２の下地層４２ｂとの電位差に
よる腐食（異種金属接触腐食）の発生をより効果的に防
止することが可能となる。

【０１０８】なお、第１の下地層４１ｂは、図示の構成
では基材２の全面に形成されているが、基材２の表面の
少なくとも一部に形成されるものであればよい。また、
第１の下地層４１ｂの各部位における組成は、一定であ
っても、一定でなくてもよい。例えば、第１の下地層４
１ｂは、その厚さ方向に沿って、組成が順次変化するも
の（傾斜材料）であってもよい。また、第１の下地層４
１ｂは、前記のような機能を有するものに限定されな
い。例えば、第１の下地層４１ｂは、保管時（被膜３の
形成の工程までの間）等に腐食が発生するのを防止する
機能等を有するものであってもよい。

【０１０９】［第２の下地層４２ｂ］第１の下地層４１
ｂの表面に、第２の下地層４２ｂを形成する。第２の下
地層４２ｂは、いかなる目的で形成するものであっても
よいが、以下のような機能を有するものであるのが好ま
しい。

【０１１０】第２の下地層４２ｂは、例えば、第１の下
地層４１ｂと後述する第３の下地層４３ｂとの電位差を
緩和する緩衝層として機能するものであるのが好まし
い。これにより、第１の下地層４１ｂと第３の下地層４
３ｂとの電位差による腐食（異種金属接触腐食）の発生
をより効果的に防止することが可能となる。

【０１１１】また、第２の下地層４２ｂは、例えば、第
１の下地層４１ｂ、第３の下地層４３ｂとの密着性を向
上させる機能を有するものであるのが好ましい。このよ
うに、第１の下地層４１ｂ、第３の下地層４３ｂとの密
着性が向上することにより、装飾品１Ｄの耐食性がさら
に優れたものとなる。その結果、装飾品１Ｄは、特に耐
久性に優れたものとなる。また、第２の下地層４２ｂ
は、例えば、第１の下地層４１ｂの孔、キズ等をレベリ
ング（ならし）により補修する機能等を有するものであ
るのが好ましい。

【０１１２】第２の下地層４２ｂの形成方法としては、
例えば、電解めっき、浸漬めっき、無電解めっき等の湿
式めっき法、真空蒸着、スパッタリング、熱ＣＶＤ、プ
ラズマＣＶＤ、レーザーＣＶＤ等の化学蒸着法（ＣＶ
Ｄ）、イオンプレーティング等の乾式めっき法、溶射、
金属箔の接合等が挙げられるが、この中でも特に、湿式
めっき法または乾式めっき法が好ましい。第２の下地層
４２ｂの形成方法として、湿式めっき法または乾式めっ
き法を用いることにより、形成される第２の下地層４２
ｂは、第１の下地層４１ｂとの密着性に特に優れたもの
となる。その結果、得られる装飾品１Ｄの長期耐久性
は、特に優れたものとなる。

【０１１３】また、第２の下地層４２ｂは、例えば、第
１の下地層４１ｂの表面に、酸化処理、窒化処理、クロ
メート処理、炭化処理、酸浸漬、酸電解処理、アルカリ
浸漬処理、アルカリ電解処理等の化学処理を施すことに
より形成された被膜、特に、不動態膜であってもよい。

【０１１４】第２の下地層４２ｂの構成材料は、特に限
定されないが、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｐｄ、Ａｕ、Ａｇ、Ｉｎ、
Ｓｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｐｔ、Ｒ
ｈ、Ｒｕ、Ｉｒ等の金属材料や、前記金属材料のうち少
なくとも１種を含む合金、前記金属材料のうち少なくと
も１種による金属化合物（例えば、金属酸化物、金属窒
化物、金属炭化物等）、またはこれらを２種以上組み合
わせたもの等が挙げられるが、この中でも特に、Ｃｕ、
Ｃｏ、Ｐｄ、Ａｕ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｚ
ｎ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｉｒまたは
これらのうち少なくとも１種を含む合金であるのが好ま
しい。第２の下地層４２ｂがこのような材料で構成され
たものである場合、第１の下地層４１ｂと第３の下地層
４３ｂとの電位差による腐食の発生を、さらに効果的に
防止することができる。

【０１１５】また、第２の下地層４２ｂが上記のような
材料で構成されたものであると、第１の下地層４１ｂ、
第３の下地層４３ｂとの密着性も向上する。このよう
に、第１の下地層４１ｂ、第３の下地層４３ｂとの密着
性が向上することにより、装飾品１Ｄの耐食性がさらに
優れたものとなる。その結果、装飾品１Ｄは、特に耐久
性に優れたものとなる。

【０１１６】特に、第１の下地層４１ｂが前述したよう
な材料で構成され、かつ、第３の下地層４３ｂが後述す
るような材料で構成される場合、第２の下地層４２ｂ
は、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚ
ｎ、Ｆｅ、Ｃｒまたはこれらのうち少なくとも１種を含
む合金で構成されたものであるのが好ましい。これによ
り、上述した効果はさらに顕著なものとなる。

【０１１７】第２の下地層４２ｂの平均厚さは、例え
ば、０．１〜３０μｍであるのが好ましく、１〜２０μ
ｍであるのがより好ましい。第２の下地層４２ｂの平均
厚さが前記下限値未満であると、上述した第２の下地層
４２ｂの効果が十分に発揮されない可能性がある。一
方、第２の下地層４２ｂの平均厚さが前記上限値を超え
ると、第２の下地層４２ｂの各部位における膜厚のバラ
ツキが大きくなる傾向を示す。また、第２の下地層４２
ｂの内部応力が高くなり、クラックが発生し易くなる。

【０１１８】また、第２の下地層４２ｂの構成材料は、
第１の下地層４１ｂを構成する材料または第３の下地層
４３ｂを構成する材料のうち少なくとも１種を含むもの
であるのが好ましい。これにより、第１の下地層４１
ｂ、第３の下地層４３ｂとの密着性がさらに向上する。
このように、第１の下地層４１ｂ、第３の下地層４３ｂ
との密着性が向上することにより、装飾品１Ｄの耐食性
がさらに優れたものとなる。その結果、装飾品１Ｄは、
特に耐久性に優れたものとなる。

【０１１９】また、第２の下地層４２ｂの標準電位は、
第１の下地層４１ｂの標準電位と、第３の下地層４３ｂ
の標準電位との間の値であるのが好ましい。すなわち、
第２の下地層４２ｂは、その標準電位が、第１の下地層
４１ｂの構成材料の標準電位と、第３の下地層４３ｂの
構成材料の標準電位との間の値である材料で構成された
ものであるのが好ましい。これにより、第１の下地層４
１ｂと第３の下地層４３ｂとの電位差による腐食（異種
金属接触腐食）の発生をより効果的に防止することが可
能となる。

【０１２０】なお、第２の下地層４２ｂは、図示の構成
では第１の下地層４１ｂの全面に形成されているが、第
１の下地層４１ｂの表面の少なくとも一部に形成される
ものであればよい。また、第２の下地層４２ｂの各部位
における組成は、一定であっても、一定でなくてもよ
い。例えば、第２の下地層４２ｂは、その厚さ方向に沿
って、組成が順次変化するもの（傾斜材料）であっても
よい。また、第２の下地層４２ｂは、前記のような機能
を有するものに限定されない。例えば、第２の下地層４
２ｂは、保管時（被膜３の形成の工程までの間）等に腐
食が発生するのを防止する機能等を有するものであって
もよい。

【０１２１】［第３の下地層４３ｂ］次に、第２の下地
層４２ｂの表面に、第３の下地層４３ｂを形成する。第
３の下地層４３ｂは、いかなる目的で形成するものであ
ってもよいが、以下のような機能を有するものであるの
が好ましい。

【０１２２】第３の下地層４３ｂは、例えば、第２の下
地層４２ｂと被膜３との電位差を緩和する緩衝層として
機能するものであるのが好ましい。これにより、第２の
下地層４２ｂと被膜３との電位差による腐食（異種金属
接触腐食）の発生をより効果的に防止することが可能と
なる。

【０１２３】また、第３の下地層４３ｂは、例えば、第
２の下地層４２ｂ、被膜３との密着性を向上させる機能
を有するものであるのが好ましい。このように、第２の
下地層４２ｂ、被膜３との密着性が向上することによ
り、装飾品１Ｄの耐食性がさらに優れたものとなる。そ
の結果、装飾品１Ｄは特に耐久性に優れたものとなる。
また、第３の下地層４３ｂは、例えば、第２の下地層４
２ｂの孔、キズ等をレベリング（ならし）により補修す
る機能等を有するものであってもよい。

【０１２４】第３の下地層４３ｂの形成方法としては、
例えば、電解めっき、浸漬めっき、無電解めっき等の湿
式めっき法、真空蒸着、スパッタリング、熱ＣＶＤ、プ
ラズマＣＶＤ、レーザーＣＶＤ等の化学蒸着法（ＣＶ
Ｄ）、イオンプレーティング等の乾式めっき法、溶射、
金属箔の接合等が挙げられるが、この中でも特に、湿式
めっき法または乾式めっき法が好ましい。第３の下地層
４３ｂの形成方法として、湿式めっき法または乾式めっ
き法を用いることにより、形成される第３の下地層４３
ｂは、第２の下地層４２ｂとの密着性に特に優れたもの
となる。その結果、得られる装飾品１Ｄの長期耐久性
は、特に優れたものとなる。

【０１２５】また、第３の下地層４３ｂは、例えば、第
２の下地層４２ｂの表面に、酸化処理、窒化処理、クロ
メート処理、炭化処理、酸浸漬、酸電解処理、アルカリ
浸漬処理、アルカリ電解処理等の化学処理を施すことに
より形成された被膜、特に、不動態膜であってもよい。

【０１２６】第３の下地層４３ｂの構成材料は、特に限
定されないが、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｐｄ、Ａｕ、Ａｇ、Ｉｎ、
Ｓｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｐｔ、Ｒ
ｈ、Ｒｕ、Ｉｒ等の金属材料や、前記金属材料のうち少
なくとも１種を含む合金、前記金属材料のうち少なくと
も１種による金属化合物（例えば、金属酸化物、金属窒
化物、金属炭化物等）、またはこれらを２種以上組み合
わせたもの等が挙げられる。

【０１２７】第３の下地層４３ｂが、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｐ
ｄ、Ａｕ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ａ
ｌ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｉｒまたはこれら
のうち少なくとも１種を含む合金で構成されるものであ
る場合、第２の下地層４２ｂと被膜３との電位差による
腐食の発生を、さらに効果的に防止することができる。

【０１２８】また、第３の下地層４３ｂが上記のような
材料で構成されるものであると、第２の下地層４２ｂ、
被膜３との密着性も向上する。このように、第２の下地
層４２ｂ、被膜３との密着性が向上することにより、装
飾品１Ｄの耐食性がさらに優れたものとなる。その結
果、装飾品１Ｄは、特に耐久性に優れたものとなる。

【０１２９】特に、第２の下地層４２ｂが前述したよう
な材料で構成される場合、第３の下地層４３ｂは、Ｐ
ｄ、Ａｕ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｐｔ、Ｒ
ｈ、Ｒｕまたはこれらのうち少なくとも１種を含む合金
で構成されたものであるのが好ましい。これにより、上
述した効果はさらに顕著なものとなる。

【０１３０】第３の下地層４３ｂの平均厚さは、例え
ば、０．１〜２０μｍであるのが好ましく、０．５〜１
０μｍであるのがより好ましい。第３の下地層４３ｂの
平均厚さが前記下限値未満であると、上述した第３の下
地層４３ｂの効果が十分に発揮されない可能性がある。
一方、第３の下地層４３ｂの平均厚さが前記上限値を超
えると、第３の下地層４３ｂの各部位における膜厚のバ
ラツキが大きくなる傾向を示す。また、第３の下地層４
３ｂの内部応力が高くなり、クラックが発生し易くな
る。

【０１３１】また、第３の下地層４３ｂの構成材料は、
第２の下地層４２ｂを構成する材料または被膜３を構成
する材料のうち少なくとも１種を含むものであるのが好
ましい。これにより、第２の下地層４２ｂ、被膜３との
密着性がさらに向上する。このように、第２の下地層４
２ｂ、被膜３との密着性が向上することにより、装飾品
１Ｄの耐食性がさらに優れたものとなる。その結果、装
飾品１Ｄは、特に耐久性に優れたものとなる。

【０１３２】また、第３の下地層４３ｂの標準電位は、
第２の下地層４２ｂの標準電位と、被膜３の標準電位と
の間の値であるのが好ましい。すなわち、第３の下地層
４３ｂは、その標準電位が、第２の下地層４２ｂの構成
材料の標準電位と、被膜３の構成材料の標準電位との間
の値である材料で構成されたものであるのが好ましい。
これにより、第２の下地層４２ｂと被膜３との電位差に
よる腐食（異種金属接触腐食）の発生をより効果的に防
止することが可能となる。

【０１３３】なお、第３の下地層４３ｂは、図示の構成
では第２の下地層４２ｂの全面に形成されているが、第
２の下地層４２ｂの表面の少なくとも一部に形成される
ものであればよい。また、第３の下地層４３ｂの各部位
における組成は、一定であっても、一定でなくてもよ
い。例えば、第３の下地層４３ｂは、その厚さ方向に沿
って、組成が順次変化するもの（傾斜材料）であっても
よい。また、第３の下地層４３ｂは、前記のような機能
を有するものに限定されない。例えば、第３の下地層４
３ｂは、保管時（被膜３の形成の工程までの間）等に腐
食が発生するのを防止する機能等を有するものであって
もよい。

【０１３４】次に、本発明の表面処理方法、装飾品およ
び時計の第５実施形態について説明する。図５は、本発
明の表面処理方法の第５実施形態を示す断面図である。
以下、第５実施形態の表面処理方法および該方法を用い
て製造される第５実施形態の装飾品について、前記第
１、第２、第３、第４実施形態との相違点を中心に説明
し、同様の事項の説明については、その説明を省略す
る。

【０１３５】図５に示すように、本実施形態の表面処理
方法は、基材２の表面の少なくとも一部（５ａ）に、下
地層（第１の下地層４１ｂ、第２の下地層４２ｂ、第３
の下地層４３ｂ）を形成する工程（５ｂ、５ｃ、５ｄ）
と、前記下地層の表面の少なくとも一部に、乾式めっき
法により、主としてクロム化合物で構成される被膜３を
形成する工程（５ｅ）と、被膜３の表面の一部にマスキ
ング５を形成する工程（５ｆ）と、剥離剤を用いて、マ
スキング５が被覆されていない部位の被膜３を除去する
工程（５ｇ）と、マスキング５を除去する工程（５ｈ）
とを有する。すなわち、被膜３の形成後、被膜３の表面
の一部にマスキング５を形成する工程（５ｆ）と、剥離
剤を用いて、マスキング５が被覆されていない部位の被
膜３を除去する工程（５ｇ）と、マスキング５を除去す
る工程（５ｈ）とを有する以外は、前述した第４実施形
態と同様である。

【０１３６】［マスキングの被覆］被膜３の形成後、被
膜３の表面の一部に、マスキング５を被覆する（５
ｆ）。このマスキング５は、後述する被膜３を除去する
工程において、被覆した部位の被膜３を保護するマスク
として機能する。

【０１３７】マスキング５としては、被膜３を除去する
工程において、被覆した部位の被膜３を保護する機能を
有するものであればいかなるものでもよいが、後述する
マスキング５を除去する工程において、容易に除去する
ことができるものであるのが好ましい。

【０１３８】このようなマスキング５を構成する材料と
しては、例えば、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、
ポリスルホン系樹脂、エポキシ系、フッ素系、ゴム系等
の樹脂材料や、Ａｕ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｃｕ、Ａｇ、Ｔｉ、
Ｃｒ等の金属材料を用いることができる。

【０１３９】マスキング５の形成方法は、特に限定され
ず、例えば、ディッピング、刷毛塗り、噴霧塗装、静電
塗装、電着塗装等の塗装、電解めっき、浸漬めっき、無
電解めっき等の湿式めっき法、真空蒸着、スパッタリン
グ、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、レーザーＣＶＤ等の化
学蒸着法（ＣＶＤ）、イオンプレーティング等の乾式め
っき法、溶射等が挙げられる。

【０１４０】マスキング５の平均厚さは、特に限定され
ないが、例えば、１００〜２０００μｍであるのが好ま
しく、５００〜１０００μｍであるのがより好ましい。
マスキング５の平均厚さが前記下限値未満であると、マ
スキング５にピンホールが発生し易くなる傾向がある。
このため、後述する被膜３の除去の工程において、マス
キング５が被覆された部位の被膜３の一部が溶解、剥離
する等して、得られる装飾品１Ｅの美的外観が低下する
可能性がある。一方、マスキング５の平均厚さが前記上
限値を超えると、マスキング５の各部位における膜厚の
バラツキが大きくなる傾向を示す。また、マスキング５
の内部応力が高くなり、結果として、マスキング５と被
膜３との密着性が低下したり、クラックが発生し易くな
る。また、マスキング５は透明であることが好ましい。
これにより被膜３との密着状態を外部から視認すること
が可能となる。

【０１４１】マスキング５は、被膜３の表面に、直接、
所望の形状となるように形成されるものに限定されな
い。例えば、被膜３の表面のほぼ全面に、マスキング５
の構成材料を被覆した後、その一部を除去することによ
り、所望のパターンを有するマスキング５としてもよ
い。

【０１４２】被膜３の表面のほぼ全面に被覆されたマス
キング５の一部を除去する方法としては、例えば、除去
したい部位のマスキング５に、レーザー光を照射する方
法等が挙げられる。このとき用いられるレーザーとして
は、例えば、Ｎｅ−Ｈｅレーザー、Ａｒレーザー、ＣＯ
_２レーザー等の気体レーザーや、ルビーレーザー、半導
体レーザー、ＹＡＧレーザー、ガラスレーザー、ＹＶＯ
_４レーザー、エキシマレーザー等が挙げられる。

【０１４３】［被膜の除去］次に、マスキング５が被覆
されていない部位の被膜３を除去する（５ｇ）。被膜３
の除去は、被膜３を除去することが可能で、かつマスキ
ング５を実質的に溶解、剥離しない剥離剤を用いて行
う。

【０１４４】被膜３の除去に用いられる剥離剤は、被膜
３を除去することが可能であり、かつマスキング５を実
質的に溶解、剥離しないものであれば、特に限定されな
いが、液体、気体等の流体であるのが好ましく、その中
でも特に、液体であるのが好ましい。これにより、被膜
３の除去を容易かつ確実に行うことが可能となる。

【０１４５】剥離剤としては、例えば、シアン化カリウ
ム（ＫＣＮ）を含む剥離液を用いることができる。この
ような剥離液としては、例えば、３０〜６０ｇ／リット
ル程度のシアン化カリウムを含む水溶液を用いることが
できる。なお、剥離剤中には、例えば、安定剤、剥離促
進剤、有機成分、触媒等の各種添加剤が含まれていても
よい。

【０１４６】被膜３を除去する方法としては、例えば、
剥離剤を噴霧する方法、液体状態の剥離剤（剥離液）に
浸漬する方法（ディッピング）、液体状態の剥離剤（剥
離液）に浸漬した状態で電解する方法等が挙げられる
が、この中でも特に、液体状態の剥離剤（剥離液）に浸
漬する方法が好ましい。これにより、被膜３の除去をさ
らに容易かつ確実に行うことが可能となる。

【０１４７】被膜３の除去を液体状態の剥離剤（剥離
液）に浸漬することにより行う場合、剥離剤の温度は、
特に限定されないが、例えば、１０〜１００℃であるの
が好ましく、２０〜８０℃であるのがより好ましく、２
０〜５０℃であるのがさらに好ましい。剥離剤の温度が
前記下限値未満であると、被膜３の厚さ等によっては、
マスキング５が被覆されていない部位の被膜３を十分に
除去するのに要する時間が長くなり、装飾品１Ｅの生産
性が低下する場合がある。一方、剥離剤の温度が前記上
限値を超えると、剥離剤の蒸気圧、沸点等によっては、
剥離剤の揮発量が多くなり、被膜３の除去に必要な剥離
剤の量が多くなる傾向を示す。

【０１４８】また、剥離剤への浸漬時間は、特に限定さ
れないが、例えば、１〜４０分間であるのが好ましく、
５〜２０分間であるのがより好ましい。剥離剤への浸漬
時間が前記下限値未満であると、被膜３の厚さ、剥離剤
の温度等によっては、マスキング５が被覆されていない
部位の被膜３を十分に除去するのが困難となる場合があ
る。一方、剥離剤への浸漬時間が前記上限値を超える
と、装飾品１Ｅの生産性が低下する。なお、被膜３の除
去を液体状態の剥離剤（剥離液）に浸漬することにより
行う場合、例えば、浸漬時に、剥離液に振動（例えば、
超音波振動等）を加えてもよい。これにより、被膜３の
除去の効率をさらに向上させることができる。

【０１４９】［マスキングの除去］その後、マスキング
５を除去することにより、装飾品１Ｅが得られる。マス
キング５の除去は、いかなる方法で行ってもよいが、マ
スキング５を除去することが可能であり、かつ基材２お
よび被膜３に対して、実質的にダメージを与えないマス
キング除去剤を用いて行うのが好ましい。このようなマ
スキング除去剤を用いることにより、マスキング５の除
去を容易かつ確実に行うことができる。

【０１５０】マスキング５の除去に用いられるマスキン
グ除去剤は、特に限定されないが、液体、気体等の流体
であるのが好ましく、その中でも特に、液体であるのが
好ましい。これにより、マスキング５の除去をさらに容
易かつ確実に行うことが可能となる。

【０１５１】マスキング除去剤としては、例えば、硝
酸、硫酸、アンモニア、過酸化水素、水、二硫化炭素、
四塩化炭素等の無機溶媒や、メチルエチルケトン（ＭＥ
Ｋ）、アセトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン（ＭＩＢＫ）、メチルイソプロピルケトン（ＭＩＰ
Ｋ）、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコー
ル、ジエチレングリコール（ＤＥＧ）、グリセリン等の
アルコール系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピル
エーテル、１，２−ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、１，
４−ジオキサン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、テト
ラヒドロピラン（ＴＨＰ）、アニソール、ジエチレング
リコールジメチルエーテル（ジグリム）等のエーテル系
溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、フェニル
セロソルブ等のセロソルブ系溶媒、ヘキサン、ペンタ
ン、ヘプタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶
媒、トルエン、キシレン、ベンゼン等の芳香族炭化水素
系溶媒、ピリジン、ピラジン、フラン、ピロール、チオ
フェン等の芳香族複素環化合物系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトア
ミド（ＤＭＡ）等のアミド系溶媒、ジクロロメタン、ク
ロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化合
物系溶媒、酢酸エチル、酢酸メチル、ギ酸エチル等のエ
ステル系溶媒、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、ス
ルホラン等の硫黄化合物系溶媒、アセトニトリル、プロ
ピオニトリル等のニトリル系溶媒、ギ酸、酢酸、トリク
ロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸系溶媒等の有機
溶媒等から選択される１種または２種以上を混合したも
のや、これらに、硝酸、硫酸、塩化水素、フッ化水素、
リン酸等の酸性物質、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化リチウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネ
シウム、アンモニア等のアルカリ性物質、過マンガン酸
カリウム（ＫＭｎＯ_４）、二酸化マンガン（Ｍｎ
Ｏ_２）、二クロム酸カリウム（Ｋ_２Ｃｒ_２Ｏ_７）、オゾ
ン、濃硫酸、硝酸、サラシ粉、過酸化水素、キノン類等
の酸化剤、チオ硫酸ナトリウム（Ｎａ_２Ｓ_２Ｏ_３）、硫
化水素、過酸化水素、ヒドロキノン類等の還元剤を混合
したもの等が挙げられる。

【０１５２】マスキング５を除去する方法としては、例
えば、マスキング除去剤を噴霧する方法、液体状態のマ
スキング除去剤に浸漬する方法、液体状態のマスキング
除去剤に浸漬した状態で電解する方法等が挙げられる
が、この中でも特に、液体状態のマスキング除去剤に浸
漬する方法が好ましい。これにより、マスキング５の除
去をさらに容易かつ確実に行うことが可能となる。

【０１５３】マスキング５の除去を、液体状態のマスキ
ング除去剤に浸漬することにより行う場合、マスキング
除去剤の温度は、特に限定されないが、例えば１５〜１
００℃であるのが好ましく、３０〜５０℃であるのがよ
り好ましい。マスキング除去剤の温度が前記下限値未満
であると、マスキング５の厚さ等によっては、マスキン
グ５を十分に除去するのに要する時間が長くなり、装飾
品１Ｅの生産性が低下する場合がある。一方、マスキン
グ除去剤の温度が前記上限値を超えると、マスキング除
去剤の蒸気圧、沸点等によっては、マスキング除去剤の
揮発量が多くなり、マスキング５の除去に必要なマスキ
ング除去剤の量が多くなる傾向を示す。

【０１５４】また、マスキング除去剤への浸漬時間は、
特に限定されないが、例えば、５〜６０分間であるのが
好ましく、５〜３０分間であるのがより好ましい。マス
キング除去剤への浸漬時間が前記下限値未満であると、
マスキング５の厚さ、マスキング除去剤の温度等によっ
ては、マスキング５を十分に除去するのが困難となる場
合がある。一方、マスキング除去剤への浸漬時間が前記
上限値を超えると、装飾品１Ｅの生産性が低下する。

【０１５５】なお、マスキング５の除去を液体状態のマ
スキング除去剤に浸漬することにより行う場合、例え
ば、浸漬時に、マスキング除去剤に振動（例えば、超音
波振動等）を加えてもよい。これにより、マスキング５
の除去の効率をさらに向上させることができる。

【０１５６】以上説明したように、被膜３の一部を除去
することにより、被膜３を所定の形状にパターニングし
易くなる。また、被膜３の一部を除去することにより、
例えば、被膜３が残存する部位と、被膜３が除去された
部位とで、凹凸のパターンを形成したり、色彩の違いが
顕著なものとなる。その結果、装飾品１Ｅの美的外観は
さらに優れたものとなる。

【０１５７】以上、本発明の表面処理方法、装飾品およ
び時計の好適な実施形態について説明したが、本発明
は、これらに限定されるものではない。例えば、前述し
た第２実施形態においては１層（下地層４０）の下地層
を形成しており、第３実施形態においては２層の下地層
（第１の下地層４１ａ、第２の下地層４２ａ）を形成し
ており、第４、第５実施形態においては３層の下地層
（第１の下地層４１ｂ、第２の下地層４２ｂ、第３の下
地層４３ｂ）を形成しているが、形成する下地層は、４
層以上であってもよい。この場合、下地層の少なくとも
１層がその片方の面側と他方側との電位差を緩和する作
用を有するものであるのが好ましい。

【０１５８】また、下地層が４層以上の場合であって
も、前述したように、隣接する２つの下地層は、互いに
共通の元素を含む材料で構成されたものであるのが好ま
しい。これにより、隣接する下地層同士の密着性がさら
に向上する。また、前記共通の元素がＣｕであると、隣
接する下地層同士の密着性は、特に優れたものとなる。

【０１５９】また、装飾品の表面の少なくとも一部に
は、耐食性、耐候性、耐水性、耐油性、耐摩耗性、耐変
色性等を付与し、防錆、防汚、防曇、防傷等の効果を向
上する保護層等が形成されていてもよい。

【０１６０】また、第５実施形態においては、被膜３の
一部を除去しているが、被膜３とともに、その部位にお
ける下地層（第１の下地層、第２の下地層、第３の下地
層）の少なくとも一部を除去してもよい。例えば、下地
層がＴｉまたはＴｉ化合物で構成されるものである場
合、この下地層の除去には、フッ酸と、硝酸とを含む溶
液を用いることができる。

【０１６１】

【実施例】次に、本発明の具体的実施例について説明す
る。 １．装飾品の製造 （実施例１） 以下に示すような表面処理を施すことにより、装飾品
（腕時計用針）を製造した。

【０１６２】まず、ステンレス鋼（ＳＵＳ４４４）を用
いて、鋳造により、腕時計用針の形状を有する基材を作
製し、その後、必要箇所を切削した後、ダイヤカットに
より、鏡面加工を施した。次に、この基材を洗浄した。
基材の洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒
間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行った。
その後、中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を
１０秒間行った。

【０１６３】このようにして洗浄を行った基材の表面
（鏡面加工を施した側の面）に、Ａｕ−Ｉｎ系合金（Ａ
ｕ：９１．０ｗｔ％、Ｉｎ：９．０ｗｔ％）で構成され
る被膜を形成した。被膜の形成は、以下に説明するよう
な電解めっきにより行った。

【０１６４】まず、濃硫酸と、シアン化第二金カリウム
と、硫酸インジウムと、水とを用いて、めっき液を調製
した。得られためっき液中におけるＡｕの濃度Ｃ_Ａｕは
１１．０［ｇ／リットル］、Ｉｎの濃度Ｃ_Ｉｎは４．０
［ｇ／リットル］、硫酸濃度は２ｖｏｌ％であった。こ
のめっき液を用いて、浴温：５５℃、電流密度：１．０
Ａ／ｄｍ^２、時間：２．５分という条件で、電解めっき
を行った。電解めっきにより形成された被膜の平均厚さ
は、０．５μｍであった。被膜の厚さは、ＪＩＳ Ｈ
５８２１の顕微鏡断面試験方法により測定した。

【０１６５】（実施例２）基材の構成材料を、Ｃｕ−Ｚ
ｎ系合金（合金組成：Ｃｕ６０ｗｔ％−Ｚｎ４０ｗｔ
％）とした以外は、前記実施例１と同様にして装飾品を
製造した。

【０１６６】（実施例３）以下に示すような表面処理を
施すことにより、装飾品（腕時計ケース（胴））を製造
した。まず、金属粉末射出成形（ＭＩＭ）により、腕時
計ケース（胴）の形状を有するＴｉ製の基材を作製し
た。Ｔｉ製の基材は、以下のようにして作製した。

【０１６７】まず、ガスアトマイズ法により製造された
平均粒径５２μｍのＴｉ粉末を用意した。このＴｉ粉
末：７５ｖｏｌ％と、ポリエチレン：８ｖｏｌ％と、ポ
リプロピレン：７ｖｏｌ％と、パラフィンワックス：１
０ｖｏｌ％とからなる材料を混練した。前記材料の混練
には、ニーダーを用いた。また、混練時における材料温
度は６０℃であった。次に、得られた混練物を粉砕、分
級して平均粒径３ｍｍのペレットとした。このペレット
を用いて、射出形成機にて金属粉末射出成形（ＭＩＭ）
し、腕時計用針の形状を有する成形体を製造した。この
とき成形体は、脱バインダー処理、焼結時での収縮を考
慮して成形した。射出成形時における成形条件は、金型
温度４０℃、射出圧力８０ｋｇｆ／ｃｍ^２、射出時間２
０秒、冷却時間４０秒であった。次に、前記成形体に対
して、脱脂炉を用いた脱バインダー処理を施し、脱脂体
を得た。この脱バインダー処理は、１×１０^−３Ｔｏｒ
ｒのアルゴンガス雰囲気中、８０℃で１時間、次いで、
１０℃／時間の速度で４００℃まで昇温した。熱処理時
におけるサンプルの重さを測定し、重量低下がなくなっ
た時点を脱バインダー終了時点とした。次に、このよう
にして得られた脱脂体に対し、焼結炉を用いて焼結を行
い、基材を得た。この焼結は、１×１０^−５〜１×１０
^−６Ｔｏｒｒのアルゴンガス雰囲気中で、９００〜１１
００℃×６時間の熱処理を施すことにより行った。以上
のようにして得られた基材について、その必要箇所を切
削、研磨した後、この基材を洗浄した。基材の洗浄とし
ては、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒間行い、次い
で、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行った。その後、中和
を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１０秒間行っ
た。

【０１６８】このようにして洗浄を行った基材の表面
に、Ａｕ−Ｉｎ系合金（Ａｕ：８９．８ｗｔ％、Ｉｎ：
１０．２ｗｔ％）で構成される被膜を形成した。被膜の
形成は、以下に説明するような電解めっきにより行っ
た。

【０１６９】まず、濃硫酸と、シアン化第二金カリウム
と、硫酸インジウムと、水とを用いて、めっき液を調製
した。得られためっき液中におけるＡｕの濃度Ｃ_Ａｕは
１０．０［ｇ／リットル］、Ｉｎの濃度Ｃ_Ｉｎは４．０
［ｇ／リットル］、硫酸濃度は２ｖｏｌ％であった。こ
のめっき液を用いて、浴温：５５℃、電流密度：１．０
Ａ／ｄｍ^２、時間：２．５分という条件で、電解めっき
を行った。電解めっきにより形成された被膜の平均厚さ
は、０．５μｍであった。被膜の厚さは、ＪＩＳ Ｈ
５８２１の顕微鏡断面試験方法により測定した。

【０１７０】また、基材および得られた装飾品につい
て、ＪＩＳ Ｂ ０６０１で規定される表面粗さＲ
_ｍａｘを測定した。基材の、切削および研磨を行った箇
所の表面粗さＲ_ｍａｘは、０．２〜０．４μｍであっ
た。被膜の形成後においては、これに対応する箇所の表
面粗さＲ_ｍａｘは、０．０５〜０．１μｍ（鏡面）とな
っていた。また、基材の、切削、研磨を施さなかった箇
所の表面粗さＲ_ｍａｘは、１．５〜３．０μｍ（梨地）
であった。被膜の形成後においては、これに対応する箇
所の表面粗さＲ_ｍａｘは、１．０〜１．２μｍ（半鏡
面）となっていた。このように、被膜を電解めっきによ
り形成したことにより、表面が平滑化されたことが分か
る。

【０１７１】（実施例４）めっき液として、濃硫酸と、
シアン化第二金カリウムと、硫酸インジウムと、硫酸ス
ズと、水とを用いて調製したものを用いた以外は、前記
実施例２と同様にして装飾品を製造した。電解めっきに
用いためっき液中におけるＡｕの濃度Ｃ_Ａｕは８．０
［ｇ／リットル］、Ｉｎの濃度Ｃ_Ｉｎは４．０［ｇ／リ
ットル］、Ｓｎの濃度Ｃ_Ｓｎは１．０［ｇ／リット
ル］、硫酸濃度は３ｖｏｌ％であった。また、被膜を形
成するための電解めっきは、めっき液を用いて、浴温：
５５℃、電流密度：１．０Ａ／ｄｍ^２、時間：１５分と
いう条件で行った。電解めっきにより形成された被膜の
平均厚さは、５．０μｍであった。

【０１７２】（実施例５）以下に示すような表面処理を
施すことにより、装飾品（腕時計ケース（胴））を製造
した。まず、ステンレス鋼（ＳＵＳ４４４）を用いて、
鋳造により、腕時計ケース（胴）の形状を有する基材を
作製し、その後、必要箇所を切削した後、ダイヤカット
により、鏡面加工を施した。次に、この基材を洗浄し
た。基材の洗浄としては、まず、アルカリ浸漬脱脂を３
０秒間行い、その後、中和を１０秒間、水洗を１０秒
間、純水洗浄を１０秒間行った。

【０１７３】次に、この基材の鏡面加工を施した側の面
に、Ａｕで構成される下地層を形成した。下地層の形成
は、電解めっきにより、浴温：３０℃、電流密度：３Ａ
／ｄｍ^２、時間：０．５分間という条件で行った。この
ようにして形成された下地層の平均厚さは、０．５μｍ
であった。次に、下地層が形成された基材を洗浄した。
この洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒間
行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行った。そ
の後、中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１
０秒間行った。

【０１７４】このようにして洗浄を行った下地層の表面
に、Ａｕ−Ｉｎ系合金（Ａｕ：９４．９ｗｔ％、Ｉｎ：
５．１ｗｔ％）で構成される被膜を形成した。被膜の形
成は、以下に説明するような電解めっきにより行った。

【０１７５】まず、濃硫酸と、シアン化第二金カリウム
と、硫酸インジウムと、水とを用いて、めっき液を調製
した。得られためっき液中におけるＡｕの濃度Ｃ_Ａｕは
９．０［ｇ／リットル］、Ｉｎの濃度Ｃ_Ｉｎは４．０
［ｇ／リットル］、硫酸濃度は３ｖｏｌ％であった。こ
のめっき液を用いて、浴温：５５℃、電流密度：１．０
Ａ／ｄｍ^２、時間：１５分という条件で、電解めっきを
行った。電解めっきにより形成された被膜の平均厚さ
は、３．０μｍであった。下地層、被膜の厚さは、ＪＩ
Ｓ Ｈ ５８２１の顕微鏡断面試験方法により測定し
た。

【０１７６】（実施例６）以下に示すような表面処理を
施すことにより、装飾品（腕時計用文字盤）を製造し
た。まず、Ｃｕ−Ｚｎ系合金（合金組成：Ｃｕ６０ｗｔ
％−Ｚｎ４０ｗｔ％）を用いて、鋳造により、腕時計用
文字盤の形状を有する基材を作製し、その後、必要箇所
を切削、研磨した。次に、この基材を洗浄した。基材の
洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒間行
い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行った。その
後、中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１０
秒間行った。

【０１７７】次に、この基材の表面に、Ａｕで構成され
る下地層を形成した。下地層の形成は、電解めっき（ス
トライクめっき）により、浴温：３０℃、電流密度：３
Ａ／ｄｍ^２、時間：０．５分間という条件で行った。こ
のようにして形成された下地層の平均厚さは、０．５μ
ｍであった。次に、下地層が形成された基材を洗浄し
た。この洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を３０
秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行っ
た。その後、中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗
浄を１０秒間行った。

【０１７８】このようにして洗浄を行った下地層の表面
に、Ａｕ−Ｉｎ系合金（Ａｕ：８７．７ｗｔ％、Ｉｎ：
１２．３ｗｔ％）で構成される被膜を形成した。被膜の
形成は、以下に説明するような電解めっきにより行っ
た。

【０１７９】まず、濃硫酸と、シアン化第二金カリウム
と、硫酸インジウムと、水とを用いて、めっき液を調製
した。得られためっき液中におけるＡｕの濃度Ｃ_Ａｕは
８．０［ｇ／リットル］、Ｉｎの濃度Ｃ_Ｉｎは４．０
［ｇ／リットル］、硫酸濃度は２ｖｏｌ％であった。こ
のめっき液を用いて、浴温：５５℃、電流密度：１．０
Ａ／ｄｍ^２、時間：９分という条件で、電解めっきを行
った。電解めっきにより形成された被膜の平均厚さは、
２．０μｍであった。下地層、被膜の厚さは、ＪＩＳ
Ｈ ５８２１の顕微鏡断面試験方法により測定した。

【０１８０】また、基材および得られた装飾品につい
て、ＪＩＳ Ｂ ０６０１で規定される表面粗さＲ
_ｍａｘを測定した。基材の、切削および研磨を行った箇
所の表面粗さＲ_ｍａｘは、０．２〜０．４μｍであっ
た。被膜の形成後においては、これに対応する箇所の表
面粗さＲ_ｍａｘは、０．０３〜０．０７μｍ（鏡面）と
なっていた。また、基材の、切削、研磨を施さなかった
箇所の表面粗さＲ_ｍａｘは、１．５〜３．０μｍ（梨
地）であった。被膜の形成後においては、これに対応す
る箇所の表面粗さＲ_ｍａｘは、０．８〜１．０μｍ（半
鏡面）となっていた。このように、被膜を電解めっきに
より形成したことにより、表面が平滑化されたことが分
かる。

【０１８１】（実施例７）前記実施例３で用いたＴｉ製
の基材を、前記と同様に製造し、さらに、この基材に、
以下に示すような表面処理を施すことにより、装飾品
（腕時計ケース（胴））を製造した。

【０１８２】まず、前記と同様にして製造したＴｉ製の
基材について、その必要箇所を切削、研磨した後、この
基材を洗浄した。基材の洗浄としては、まず、アルカリ
電解脱脂を３０秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を
３０秒間行った。その後、中和を１０秒間、水洗を１０
秒間、純水洗浄を１０秒間行った。

【０１８３】次に、この基材の表面に、Ａｕで構成され
る下地層を形成した。下地層の形成は、電解めっきによ
り、浴温：３０℃、電流密度：３Ａ／ｄｍ^２、時間：
０．５分間という条件で行った。このようにして形成さ
れた下地層の平均厚さは、０．５μｍであった。次に、
下地層が形成された基材を洗浄した。この洗浄として
は、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒間行い、次いで、
アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行った。その後、中和を１
０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１０秒間行った。

【０１８４】このようにして洗浄を行った下地層の表面
に、Ａｕ−Ｉｎ系合金（Ａｕ：９１．０ｗｔ％、Ｉｎ：
９．０ｗｔ％）で構成される被膜を形成した。被膜の形
成は、以下に説明するような電解めっきにより行った。

【０１８５】まず、濃硫酸と、シアン化第二金カリウム
と、硫酸インジウムと、水とを用いて、めっき液を調製
した。得られためっき液中におけるＡｕの濃度Ｃ_Ａｕは
１１．０［ｇ／リットル］、Ｉｎの濃度Ｃ_Ｉｎは４．０
［ｇ／リットル］、硫酸濃度は２ｖｏｌ％であった。こ
のめっき液を用いて、浴温：５５℃、電流密度：１．０
Ａ／ｄｍ^２、時間：２．５分という条件で、電解めっき
を行った。電解めっきにより形成された被膜の平均厚さ
は、０．５μｍであった。下地層、被膜の厚さは、ＪＩ
Ｓ Ｈ ５８２１の顕微鏡断面試験方法により測定し
た。

【０１８６】また、基材および得られた装飾品につい
て、ＪＩＳ Ｂ ０６０１で規定される表面粗さＲ
_ｍａｘを測定した。基材の、切削および研磨を行った箇
所の表面粗さＲ_ｍａｘは、０．１〜０．３μｍであっ
た。被膜の形成後においては、これに対応する箇所の表
面粗さＲ_ｍａｘは、０．０８〜０．１μｍ（鏡面）とな
っていた。また、基材の、切削、研磨を施さなかった箇
所の表面粗さＲ_ｍａｘは、１．３〜２．５μｍ（梨地）
であった。被膜の形成後においては、これに対応する箇
所の表面粗さＲ_ｍａｘは、０．９〜１．１μｍ（半鏡
面）となっていた。このように、被膜を電解めっきによ
り形成したことにより、表面が平滑化されたことが分か
る。

【０１８７】（実施例８）以下に示すような表面処理を
施すことにより、装飾品（腕時計ケース（胴））を製造
した。まず、ステンレス鋼（ＳＵＳ４４４）を用いて、
鋳造により、腕時計ケース（胴）の形状を有する基材を
作製し、その後、必要箇所を切削した後、ダイヤカット
により、鏡面加工を施した。次に、この基材を洗浄し
た。基材の洗浄としては、まず、アルカリ浸漬脱脂を３
０秒間行い、その後、中和を１０秒間、水洗を１０秒
間、純水洗浄を１０秒間行った。

【０１８８】次に、この基材の鏡面加工を施した側の面
に、Ａｕで構成される第１の下地層を形成した。第１の
下地層の形成は、電解めっきにより、浴温：３０℃、電
流密度：３．０Ａ／ｄｍ^２、時間：０．５分間という条
件で行った。このようにして形成された第１の下地層の
平均厚さは、０．５μｍであった。次に、第１の下地層
が形成された基材を洗浄した。この洗浄としては、ま
ず、アルカリ電解脱脂を３０秒間行い、次いで、アルカ
リ浸漬脱脂を３０秒間行った。その後、中和を１０秒
間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１０秒間行った。

【０１８９】このようにして洗浄を行った第１の下地層
の表面に、Ａｕ−Ｆｅで構成される第２の下地層を形成
した。第２の下地層の形成は、電解めっきにより、浴
温：４０℃、電流密度：１．０Ａ／ｄｍ^２、時間：２４
分間という条件で行った。このようにして形成された第
２の下地層の平均厚さは２．０μｍであった。次に、第
１の下地層、第２の下地層が積層された基材を洗浄し
た。この洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を３０
秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行っ
た。その後、中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗
浄を１０秒間行った。

【０１９０】このようにして洗浄を行った第２の下地層
の表面に、Ａｕ−Ｉｎ系合金（Ａｕ：９８．９ｗｔ％、
Ｉｎ：１．１ｗｔ％）で構成される被膜を形成した。被
膜の形成は、以下に説明するような電解めっきにより行
った。

【０１９１】まず、濃硫酸と、シアン化第二金カリウム
と、硫酸インジウムと、水とを用いて、めっき液を調製
した。得られためっき液中におけるＡｕの濃度Ｃ_Ａｕは
８．０［ｇ／リットル］、Ｉｎの濃度Ｃ_Ｉｎは２．０
［ｇ／リットル］、硫酸濃度は２ｖｏｌ％であった。こ
のめっき液を用いて、浴温：５５℃、電流密度：１．０
Ａ／ｄｍ^２、時間：５分という条件で、電解めっきを行
った。電解めっきにより形成された被膜の平均厚さは、
１．０μｍであった。

【０１９２】（実施例９）以下に示すような表面処理を
施すことにより、装飾品（腕時計用文字盤）を製造し
た。まず、Ｃｕ−Ｚｎ系合金（合金組成：Ｃｕ６０ｗｔ
％−Ｚｎ４０ｗｔ％）を用いて、鋳造により、腕時計用
文字盤の形状を有する基材を作製し、その後、必要箇所
を切削、研磨した。次に、この基材を洗浄した。基材の
洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒間行
い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行った。その
後、中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１０
秒間行った。

【０１９３】次に、この基材の表面に、Ａｕで構成され
る第１の下地層を形成した。第１の下地層の形成は、電
解めっき（ストライクめっき）により、浴温：３０℃、
電流密度：３Ａ／ｄｍ^２、時間：０．５分間という条件
で行った。このようにして形成された第１の下地層の平
均厚さは、０．５μｍであった。次に、第１の下地層が
形成された基材を洗浄した。この洗浄としては、まず、
アルカリ電解脱脂を３０秒間行い、次いで、アルカリ浸
漬脱脂を３０秒間行った。その後、中和を１０秒間、水
洗を１０秒間、純水洗浄を１０秒間行った。

【０１９４】このようにして洗浄を行った第１の下地層
の表面に、Ａｕ−Ａｇ系合金で構成される第２の下地層
を形成した。第２の下地層の形成は、電解めっきによ
り、浴温：３５℃、電流密度：２．０Ａ／ｄｍ^２、時
間：３分間という条件で行った。このようにして形成さ
れた第２の下地層の平均厚さは、２．０μｍであった。
次に、第１の下地層、第２の下地層が積層された基材を
洗浄した。この洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂
を３０秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間
行った。その後、中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純
水洗浄を１０秒間行った。

【０１９５】このようにして洗浄を行った第２の下地層
の表面に、Ａｕ−Ｉｎ系合金（Ａｕ：８９．２ｗｔ％、
Ｉｎ：１０．８ｗｔ％）で構成される被膜を形成した。
被膜の形成は、以下に説明するような電解めっきにより
行った。まず、濃硫酸と、シアン化第二金カリウムと、
硫酸インジウムと、水とを用いて、めっき液を調製し
た。得られためっき液中におけるＡｕの濃度Ｃ_Ａｕは
９．０［ｇ／リットル］、Ｉｎの濃度Ｃ_Ｉｎは５．０
［ｇ／リットル］、硫酸濃度は２ｖｏｌ％であった。こ
のめっき液を用いて、浴温：５５℃、電流密度：１．０
Ａ／ｄｍ^２、時間：５分という条件で、電解めっきを行
った。電解めっきにより形成された被膜の平均厚さは、
１．０μｍであった。

【０１９６】（実施例１０）以下に示すような表面処理
を施すことにより、装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を
製造した。まず、鋳造により、腕時計ケースの形状を有
する、アルミニウム製の基材を作製し、その後、必要箇
所を切削、研磨した。次に、この基材の表面に、エメリ
ー＃１８０研磨にて、スジ目加工を施した。 その後、
スジ目加工を施した基材を洗浄した。この洗浄として
は、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒間行い、次いで、
アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行った。その後、中和を１
０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１０秒間行った。

【０１９７】次に、基材のスジ目加工を施した側の表面
に、ＴｉＮで構成される第１の下地層、Ａｕ−Ｆｅ−Ｐ
ｄ系合金（Ａｕ：９６．３ｗｔ％、Ｆｅ：１．９５ｗｔ
％、Ｐｄ：１．７５ｗｔ％）で構成される第２の下地層
を、以下に説明するような真空蒸着により形成した。ま
ず、洗浄を行った基材を、チャンバー内に取付け、その
後、装置内を予熱しながら、チャンバー内を２×１０
^−５Ｔｏｒｒまで排気（減圧）した。さらに、チャンバ
ー内を２×１０^−６Ｔｏｒｒまで排気（減圧）し、アル
ゴンガス流量４７０ｍｌ／分で、ボンバード処理を５分
間行った。次に、チャンバー内を２×１０^−６Ｔｏｒｒ
まで排気（減圧）し、この状態で、チャンバー内のＴｉ
を電子ビームにより融解、気化させた。次いで、アルゴ
ンガスの導入を停止し、これに代わってチャンバー内に
窒素ガスを導入し、ＡＲＥ法によりＴｉＮで構成される
第１の下地層を形成した。第１の下地層形成時における
窒素ガス流量は１６０ｍｌ／分、雰囲気圧は５×１０
^−４Ｔｏｒｒであった。

【０１９８】引き続き、タングステンボードを用いた抵
抗加熱により、ターゲットを溶解、蒸着させ、第１の下
地層の表面に、Ａｕ−Ｆｅ−Ｐｄ系合金で構成される第
２の下地層を形成した。なお、形成された第１の下地
層、第２の下地層の平均厚さは、それぞれ、１．０μ
ｍ、０．５μｍであった。次に、第１の下地層、第２の
下地層が積層された基材を洗浄した。この洗浄として
は、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒間行い、次いで、
アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行った。その後、中和を１
０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１０秒間行った。

【０１９９】このようにして洗浄を行った第２の下地層
の表面に、Ａｕ−Ｉｎ系合金（Ａｕ：９１．３ｗｔ％、
Ｉｎ：８．７ｗｔ％）で構成される被膜を形成した。被
膜の形成は、以下に説明するような電解めっきにより行
った。

【０２００】まず、濃硫酸と、シアン化第二金カリウム
と、硫酸インジウムと、水とを用いて、めっき液を調製
した。得られためっき液中におけるＡｕの濃度Ｃ_Ａｕは
１０．０［ｇ／リットル］、Ｉｎの濃度Ｃ_Ｉｎは４．０
［ｇ／リットル］、硫酸濃度は３ｖｏｌ％であった。こ
のめっき液を用いて、浴温：５５℃、電流密度：１．０
Ａ／ｄｍ^２、時間：１０分という条件で、電解めっきを
行った。電解めっきにより形成された被膜の平均厚さ
は、２．０μｍであった。

【０２０１】（実施例１１）以下に示すような表面処理
を施すことにより、装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を
製造した。まず、鍛造により、腕時計ケースの形状を有
する、Ｎｉ製の基材を作製し、その後、必要箇所を切
削、研磨した。次に、この基材の表面に、エメリー＃１
８０研磨にて、スジ目加工を施した。

【０２０２】次に、スジ目加工を施した基材の表面に、
Ｎｉで構成される第１の下地層を形成した。第１の下地
層の形成は、電解めっきにより、浴温：６０℃、電流密
度：３Ａ／ｄｍ^２、時間：１０分間という条件で行っ
た。このようにして形成された第１の下地層の平均厚さ
は、５．０μｍであった。次に、第１の下地層が形成さ
れた基材を洗浄した。この洗浄としては、まず、アルカ
リ電解脱脂を３０秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂
を３０秒間行った。その後、中和を１０秒間、水洗を１
０秒間、純水洗浄を１０秒間行った。

【０２０３】このようにして洗浄を行った第１の下地層
の表面に、Ａｕで構成される第２の下地層を形成した。
第２の下地層の形成は、電解めっきにより、浴温：３０
℃、電流密度：３Ａ／ｄｍ^２、時間：０．５分間という
条件で行った。このようにして形成された第２の下地層
の平均厚さは、０．５μｍであった。次に、第１の下地
層、第２の下地層が積層された基材を洗浄した。この洗
浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒間行い、
次いで、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行った。その後、
中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１０秒間
行った。

【０２０４】このようにして洗浄を行った第２の下地層
の表面に、Ａｕ−Ｉｎ系合金（Ａｕ：９４．３ｗｔ％、
Ｉｎ：５．７ｗｔ％）で構成される被膜を形成した。被
膜の形成は、以下に説明するような電解めっきにより行
った。

【０２０５】まず、濃硫酸と、シアン化第二金カリウム
と、硫酸インジウムと、水とを用いて、めっき液を調製
した。得られためっき液中におけるＡｕの濃度Ｃ_Ａｕは
８．０［ｇ／リットル］、Ｉｎの濃度Ｃ_Ｉｎは４．０
［ｇ／リットル］、硫酸濃度は２ｖｏｌ％であった。こ
のめっき液を用いて、浴温：５５℃、電流密度：１．０
Ａ／ｄｍ^２、時間：１５分という条件で、電解めっきを
行った。電解めっきにより形成された被膜の平均厚さ
は、３．０μｍであった。

【０２０６】（実施例１２）前記実施例３で用いたＴｉ
製の基材を、前記と同様に製造し、さらに、この基材
に、以下に示すような表面処理を施すことにより、装飾
品（腕時計ケース（胴））を製造した。まず、前記と同
様にして製造したＴｉ製の基材について、その必要箇所
を切削、研磨した後、この基材を洗浄した。基材の洗浄
としては、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒間行い、次
いで、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行った。その後、中
和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１０秒間行
った。

【０２０７】次に、この基材の表面に、Ａｕで構成され
る第１の下地層を形成した。第１の下地層の形成は、電
解めっきにより、浴温：３０℃、電流密度：３．０Ａ／
ｄｍ ^２、時間：０．５分間という条件で行った。このよ
うにして形成された第１の下地層の平均厚さは、０．５
μｍであった。次に、第１の下地層が形成された基材を
洗浄した。この洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂
を３０秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間
行った。その後、中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純
水洗浄を１０秒間行った。

【０２０８】このようにして洗浄を行った第１の下地層
の表面に、Ａｕ−Ａｇで構成される第２の下地層を形成
した。第２の下地層の形成は、電解めっきにより、浴
温：４０℃、電流密度：２．０Ａ／ｄｍ^２、時間：３分
間という条件で行った。このようにして形成された第２
の下地層の平均厚さは、２．０μｍであった。次に、第
１の下地層、第２の下地層が積層された基材を洗浄し
た。この洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を３０
秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行っ
た。その後、中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗
浄を１０秒間行った。

【０２０９】このようにして洗浄を行った第２の下地層
の表面に、Ａｕ−Ｆｅで構成される第３の下地層を形成
した。第３の下地層の形成は、電解めっきにより、浴
温：４０℃、電流密度：１．０Ａ／ｄｍ^２、時間：２４
分間という条件で行った。このようにして形成された第
３の下地層の平均厚さは、２．０μｍであった。次に、
第１の下地層、第２の下地層、第３の下地層が積層され
た基材を洗浄した。この洗浄としては、まず、アルカリ
電解脱脂を３０秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を
３０秒間行った。その後、中和を１０秒間、水洗を１０
秒間、純水洗浄を１０秒間行った。

【０２１０】このようにして洗浄を行った第３の下地層
の表面に、Ａｕ−Ｉｎ系合金（Ａｕ：９１．０ｗｔ％、
Ｉｎ：９．０ｗｔ％）で構成される被膜を形成した。被
膜の形成は、以下に説明するような電解めっきにより行
った。

【０２１１】まず、濃硫酸と、シアン化第二金カリウム
と、硫酸インジウムと、水とを用いて、めっき液を調製
した。得られためっき液中におけるＡｕの濃度Ｃ_Ａｕは
１１．０［ｇ／リットル］、Ｉｎの濃度Ｃ_Ｉｎは４．０
［ｇ／リットル］、硫酸濃度は２ｖｏｌ％であった。こ
のめっき液を用いて、浴温：５５℃、電流密度：１．０
Ａ／ｄｍ^２、時間：５分という条件で、電解めっきを行
った。電解めっきにより形成された被膜の平均厚さは、
１．０μｍであった。

【０２１２】（実施例１３）以下に示すような表面処理
を施すことにより、装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を
製造した。まず、鋳造により、腕時計ケース（裏蓋）の
形状を有する、ステンレス鋼（ＳＵＳ４４４）製の基材
を作製し、その後、必要箇所を切削、研磨した。次に、
この基材の表面に、エメリー＃１８０研磨にて、スジ目
加工を施した。

【０２１３】次に、スジ目加工を施した基材の表面に、
Ａｕで構成される第１の下地層を形成した。第１の下地
層の形成は、電解めっきにより、浴温：３０℃、電流密
度：３．０Ａ／ｄｍ^２、時間：０．５分間という条件で
行った。このようにして形成された第１の下地層の平均
厚さは、０．５μｍであった。次に、第１の下地層が形
成された基材を洗浄した。この洗浄としては、まず、ア
ルカリ電解脱脂を３０秒間行い、次いで、アルカリ浸漬
脱脂を３０秒間行った。その後、中和を１０秒間、水洗
を１０秒間、純水洗浄を１０秒間行った。

【０２１４】このようにして洗浄を行った第１の下地層
の表面に、Ａｕ−Ａｇで構成される第２の下地層を形成
した。第２の下地層の形成は、電解めっきにより、浴
温：４０℃、電流密度：２．０Ａ／ｄｍ^２、時間：３分
間という条件で行った。このようにして形成された第２
の下地層の平均厚さは、２．０μｍであった。次に、第
１の下地層、第２の下地層が積層された基材を洗浄し
た。この洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を３０
秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行っ
た。その後、中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗
浄を１０秒間行った。

【０２１５】このようにして洗浄を行った第２の下地層
の表面に、Ａｕ−Ｆｅで構成される第３の下地層を形成
した。第３の下地層の形成は、電解めっきにより、浴
温：４０℃、電流密度：１．０Ａ／ｄｍ^２、時間：２４
分間という条件で行った。このようにして形成された第
３の下地層の平均厚さは、２．０μｍであった。次に、
第１の下地層、第２の下地層、第３の下地層が積層され
た基材を洗浄した。この洗浄としては、まず、アルカリ
電解脱脂を３０秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を
３０秒間行った。その後、中和を１０秒間、水洗を１０
秒間、純水洗浄を１０秒間行った。

【０２１６】このようにして洗浄を行った第３の下地層
の表面に、Ａｕ−Ｉｎ系合金（Ａｕ：９１．０ｗｔ％、
Ｉｎ：９．０ｗｔ％）で構成される被膜を形成した。被
膜の形成は、以下に説明するような電解めっきにより行
った。

【０２１７】まず、濃硫酸と、シアン化第二金カリウム
と、硫酸インジウムと、水とを用いて、めっき液を調製
した。得られためっき液中におけるＡｕの濃度Ｃ_Ａｕは
１１．０［ｇ／リットル］、Ｉｎの濃度Ｃ_Ｉｎは４．０
［ｇ／リットル］、硫酸濃度は２ｖｏｌ％であった。こ
のめっき液を用いて、浴温：５５℃、電流密度：１．０
Ａ／ｄｍ^２、時間：５分という条件で、電解めっきを行
った。電解めっきにより形成された被膜の平均厚さは、
１．０μｍであった。

【０２１８】（実施例１４）めっき液中におけるＡｕの
濃度Ｃ_Ａｕを８．０［ｇ／リットル］、Ｉｎの濃度Ｃ
_Ｉｎを３．０［ｇ／リットル］、硫酸濃度を３ｖｏｌ％
とすることにより、形成する被膜の合金組成を表２に示
すように変更した以外は、前記実施例１３と同様に装飾
品を製造した。

【０２１９】（実施例１５）めっき液中におけるＡｕの
濃度Ｃ_Ａｕを９．０［ｇ／リットル］、Ｉｎの濃度Ｃ
_Ｉｎを１．０［ｇ／リットル］、硫酸濃度を２ｖｏｌ％
とすることにより、形成する被膜の合金組成を表２に示
すように変更した以外は、前記実施例１３と同様に装飾
品を製造した。

【０２２０】（実施例１６）以下に示すような表面処理
を施すことにより、装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を
製造した。まず、Ｃｕ−Ｚｎ系合金（合金組成：Ｃｕ６
０ｗｔ％−Ｚｎ４０ｗｔ％）を用いて、鋳造により、腕
時計ケース（裏蓋）の形状を有する基材を作製し、その
後、必要箇所を切削、研磨した。次に、この基材の表面
に、梨地加工を施した。梨地加工は、基材表面に、ガラ
スビーズを２ｋｇ／ｃｍ^２の圧力で吹き付けることによ
り行った。次に、梨地加工を施した基材を洗浄した。基
材の洗浄としては、まず、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間
行い、その後、中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水
洗浄を１０秒間行った。

【０２２１】次に、梨地加工を施した基材の表面に、Ｃ
ｕで構成される第１の下地層を形成した。第１の下地層
の形成は、電解めっきにより、浴温：３０℃、電流密
度：３．０Ａ／ｄｍ^２、時間：１０分間という条件で行
った。このようにして形成された第１の下地層の平均厚
さは、１０μｍであった。次に、第１の下地層が形成さ
れた基材を洗浄した。この洗浄としては、まず、アルカ
リ電解脱脂を３０秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂
を３０秒間行った。その後、中和を１０秒間、水洗を１
０秒間、純水洗浄を１０秒間行った。

【０２２２】このようにして洗浄を行った第１の下地層
の表面に、Ｃｕ−Ｓｎで構成される第２の下地層を形成
した。第２の下地層の形成は、電解めっきにより、浴
温：４５℃、電流密度：２．０Ａ／ｄｍ^２、時間：３分
間という条件で行った。このようにして形成された第２
の下地層の平均厚さは、１．５μｍであった。次に、第
１の下地層、第２の下地層が積層された基材を洗浄し
た。この洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を３０
秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行っ
た。その後、中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗
浄を１０秒間行った。

【０２２３】このようにして洗浄を行った第２の下地層
の表面に、Ａｕで構成される第３の下地層を形成した。
第３の下地層の形成は、電解めっきにより、浴温：３０
℃、電流密度：３．０Ａ／ｄｍ^２、時間：０．５分間と
いう条件で行った。このようにして形成された第３の下
地層の平均厚さは、０．５μｍであった。次に、第１の
下地層、第２の下地層、第３の下地層が積層された基材
を洗浄した。この洗浄としては、まず、アルカリ電解脱
脂を３０秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を３０秒
間行った。その後、中和を１０秒間、水洗を１０秒間、
純水洗浄を１０秒間行った。

【０２２４】このようにして洗浄を行った第３の下地層
の表面に、Ａｕ−Ｉｎ系合金（Ａｕ：９０．２ｗｔ％、
Ｉｎ：９．８ｗｔ％）で構成される被膜を形成した。被
膜の形成は、以下に説明するような電解めっきにより行
った。

【０２２５】まず、濃硫酸と、シアン化第二金カリウム
と、硫酸インジウムと、水とを用いて、めっき液を調製
した。得られためっき液中におけるＡｕの濃度Ｃ_Ａｕは
１０．０［ｇ／リットル］、Ｉｎの濃度Ｃ_Ｉｎは４．０
［ｇ／リットル］、硫酸濃度は２ｖｏｌ％であった。こ
のめっき液を用いて、浴温：５５℃、電流密度：１．０
Ａ／ｄｍ^２、時間：２５分という条件で、電解めっきを
行った。電解めっきにより形成された被膜の平均厚さ
は、５．０μｍであった。

【０２２６】（実施例１７）めっき液中におけるＡｕの
濃度Ｃ_Ａｕを１１．０［ｇ／リットル］、Ｉｎの濃度Ｃ
_Ｉｎを４．０［ｇ／リットル］、硫酸濃度を３ｖｏｌ％
とすることにより、形成する被膜の合金組成を表２に示
すように変更した以外は、前記実施例１６と同様に装飾
品を製造した。

【０２２７】（実施例１８）めっき液中におけるＡｕの
濃度Ｃ_Ａｕを９．０［ｇ／リットル］、Ｉｎの濃度Ｃ
_Ｉｎを３．０［ｇ／リットル］、硫酸濃度を２ｖｏｌ％
とすることにより、形成する被膜の合金組成を表２に示
すように変更した以外は、前記実施例１６と同様に装飾
品を製造した。

【０２２８】（実施例１９）めっき液として、濃硫酸
と、シアン化第二金カリウムと、硫酸インジウムと、硫
酸パラジウムと、水とを用いて調製したものを用いた以
外は、前記実施例１６と同様にして装飾品を製造した。
電解めっきに用いためっき液中におけるＡｕの濃度Ｃ
_Ａｕは９．０［ｇ／リットル］、Ｉｎの濃度Ｃ_Ｉｎは
３．０［ｇ／リットル］、硫酸濃度は２ｖｏｌ％であっ
た。また、被膜を形成するための電解めっきは、めっき
液を用いて、浴温：５５℃、電流密度：１．０Ａ／ｄｍ
^２、時間：２５分という条件で行った。電解めっきによ
り形成された被膜の平均厚さは、５．０μｍであった。

【０２２９】（実施例２０）めっき液として、濃硫酸
と、シアン化第二金カリウムと、硫酸インジウムと、ク
エン酸鉄（III）と、水とを用いて調製したものを用い
た以外は、前記実施例１６と同様にして装飾品を製造し
た。電解めっきに用いためっき液中におけるＡｕの濃度
Ｃ_Ａｕは１０．０［ｇ／リットル］、Ｉｎの濃度Ｃ_Ｉｎ
は４．０［ｇ／リットル］、硫酸濃度は２ｖｏｌ％であ
った。また、被膜を形成するための電解めっきは、めっ
き液を用いて、浴温：５５℃、電流密度：１．０Ａ／ｄ
ｍ^２、時間：２５分という条件で行った。電解めっきに
より形成された被膜の平均厚さは、５．０μｍであっ
た。

【０２３０】（実施例２１）めっき液として、濃硫酸
と、シアン化第二金カリウムと、硫酸インジウムと、硫
酸スズと、水とを用いて調製したものを用いた以外は、
前記実施例２０と同様にして装飾品を製造した。電解め
っきに用いためっき液中におけるＡｕの濃度Ｃ_Ａｕは
９．０［ｇ／リットル］、Ｉｎの濃度Ｃ_Ｉｎは４．０
［ｇ／リットル］、Ｓｎの濃度Ｃ_Ｓｎは１．０［ｇ／リ
ットル］、硫酸濃度は２ｖｏｌ％であった。また、被膜
を形成するための電解めっきは、めっき液を用いて、浴
温：５５℃、電流密度：１．０Ａ／ｄｍ^２、時間：２５
分という条件で行った。電解めっきにより形成された被
膜の平均厚さは、５．０μｍであった。

【０２３１】（実施例２２）第３の下地層の表面に形成
した被膜の一部を、以下のようにして、除去した以外
は、前記実施例１９と同様にして、装飾品を製造した。
まず、被膜の表面の一部に、マスキングを所定の形状に
形成した。マスキングの形成は、ゴム系樹脂を刷毛塗り
することにより、被膜の表面の一部を被覆し、その後、
１８０〜２００℃で、３０分間乾燥することにより行っ
た。このようにして形成されたマスキングの平均厚さ
は、５００μｍであった。

【０２３２】次に、マスキングが被覆されていない部位
の被膜の除去を行った。被膜の除去は、液体状態の剥離
剤に浸漬することにより行った。剥離剤としては、シア
ン化カリウムを５０ｇ／リットル含む水溶液を用いた。
本工程における剥離剤の温度、剥離剤への浸漬時間は、
それぞれ３０℃、１０分であった。また、本工程は、剥
離剤に２８ｋＨｚの超音波振動を与えながら行った。

【０２３３】その後、ハロゲン化合物系溶媒、ケトン系
溶媒よりなるマスキング除去剤に浸漬することにより、
マスキングを除去した。また、本工程におけるマスキン
グ除去剤の温度、マスキング除去剤への浸漬時間は、そ
れぞれ３０℃、３０分であった。また、本工程は、マス
キング除去剤に２８ｋＨｚの超音波振動を与えながら行
った。

【０２３４】（実施例２３）以下に示すような表面処理
を施すことにより、装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を
製造した。まず、Ｃｕ−Ｚｎ系合金（合金組成：Ｃｕ６
０ｗｔ％−Ｚｎ４０ｗｔ％）を用いて、鋳造により、腕
時計ケース（裏蓋）の形状を有する基材を作製し、その
後、必要箇所を切削、研磨した。次に、この基材の表面
に、梨地加工を施した。梨地加工は、基材表面に、ガラ
スビーズを２ｋｇ／ｃｍ^２の圧力で吹き付けることによ
り行った。次に、梨地加工を施した基材を洗浄した。基
材の洗浄としては、まず、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間
行い、その後、中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水
洗浄を１０秒間行った。

【０２３５】次に、梨地加工を施した基材の表面に、Ｃ
ｕで構成される第１の下地層を形成した。第１の下地層
の形成は、電解めっきにより、浴温：３０℃、電流密
度：３．０Ａ／ｄｍ^２、時間：３分間という条件で行っ
た。このようにして形成された第１の下地層の平均厚さ
は、３μｍであった。次に、第１の下地層が形成された
基材を洗浄した。この洗浄としては、まず、アルカリ電
解脱脂を３０秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を３
０秒間行った。その後、中和を１０秒間、水洗を１０秒
間、純水洗浄を１０秒間行った。

【０２３６】このようにして洗浄を行った第１の下地層
の表面に、Ｃｕ−Ｓｎ合金で構成される第２の下地層を
形成した。第２の下地層の形成は、電解めっきにより、
浴温：４５℃、電流密度：２．０Ａ／ｄｍ^２、時間：４
分間という条件で行った。このようにして形成された第
２の下地層の平均厚さは、２μｍであった。次に、第１
の下地層、第２の下地層が積層された基材を洗浄した。
この洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒間
行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行った。そ
の後、中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１
０秒間行った。

【０２３７】このようにして洗浄を行った第２の下地層
の表面に、Ａｕで構成される第３の下地層を形成した。
第３の下地層の形成は、電解めっきにより、浴温：３０
℃、電流密度：３．０Ａ／ｄｍ^２、時間：０．５分間と
いう条件で行った。このようにして形成された第３の下
地層の平均厚さは、０．５μｍであった。次に、第１の
下地層、第２の下地層、第３の下地層が積層された基材
を洗浄した。この洗浄としては、まず、アルカリ電解脱
脂を３０秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を３０秒
間行った。その後、中和を１０秒間、水洗を１０秒間、
純水洗浄を１０秒間行った。

【０２３８】このようにして洗浄を行った第３の下地層
の表面に、Ａｕ−Ｆｅで構成される第４の下地層を形成
した。第４の下地層の形成は、電解めっきにより、浴
温：４０℃、電流密度：１．０Ａ／ｄｍ^２、時間：２４
分間という条件で行った。このようにして形成された第
４の下地層の平均厚さは、２μｍであった。次に、第１
の下地層〜第４の下地層が積層された基材を洗浄した。
この洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒間
行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行った。そ
の後、中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１
０秒間行った。

【０２３９】このようにして洗浄を行った第４の下地層
の表面に、Ａｕ−Ｉｎ系合金（Ａｕ：８６．９ｗｔ％、
Ｉｎ：１３．１ｗｔ％）で構成される被膜を形成した。
被膜の形成は、以下に説明するような電解めっきにより
行った。

【０２４０】まず、濃硫酸と、シアン化第二金カリウム
と、硫酸インジウムと、水とを用いて、めっき液を調製
した。得られためっき液中におけるＡｕの濃度Ｃ_Ａｕは
８．０［ｇ／リットル］、Ｉｎの濃度Ｃ_Ｉｎは５．０
［ｇ／リットル］、硫酸濃度は４ｖｏｌ％であった。こ
のめっき液を用いて、浴温：５５℃、電流密度：１．０
Ａ／ｄｍ^２、時間：５分という条件で、電解めっきを行
った。電解めっきにより形成された被膜の平均厚さは、
１．０μｍであった。

【０２４１】（比較例１）以下に示すような表面処理を
施すことにより、装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製
造した。まず、Ｃｕ−Ｚｎ系合金（合金組成：Ｃｕ６０
ｗｔ％−Ｚｎ４０ｗｔ％）を用いて、鋳造により、腕時
計ケース（裏蓋）の形状を有する基材を作製し、その
後、必要箇所を切削、研磨した。次に、この基材を洗浄
した。基材の洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を
３０秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行
った。その後、中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水
洗浄を１０秒間行った。

【０２４２】このようにして洗浄を行った基材の表面
に、Ａｕ−Ｆｅ系合金（Ａｕ：９８．０ｗｔ％、Ｆｅ：
２．０ｗｔ％）で構成される被膜を形成した。被膜の形
成は、以下に説明するような電解めっきにより行った。

【０２４３】まず、濃硫酸と、シアン化第二金カリウム
と、クエン酸鉄（III）と、水とを用いて、めっき液を
調製した。得られためっき液中におけるＡｕの濃度Ｃ
_Ａｕは８．０［ｇ／リットル］であった。このめっき液
を用いて、浴温：４０℃、電流密度：１．０Ａ／ｄ
ｍ^２、時間：３６分という条件で、電解めっきを行っ
た。電解めっきにより形成された被膜の平均厚さは、
３．０μｍであった。

【０２４４】（比較例２）基材の表面に形成する被膜
を、Ａｕ−Ｉｎ系合金（Ａｕ：８４．０ｗｔ％、Ｉｎ：
１６．０ｗｔ％）で構成されるものとした以外は、前記
比較例１と同様にして、装飾品を製造した。電解めっき
に用いためっき液中におけるＡｕの濃度Ｃ_{Ａ ｕ}は８．０
［ｇ／リットル］、Ｉｎの濃度Ｃ_Ｉｎは６．０［ｇ／リ
ットル］、硫酸濃度は２ｖｏｌ％であった。電解めっき
により形成された被膜の平均厚さは、３．０μｍであっ
た。

【０２４５】（比較例３）基材の表面に形成する被膜
を、Ａｕ−Ｉｎ系合金（Ａｕ：９９．０６ｗｔ％、Ｉ
ｎ：０．０４ｗｔ％）で構成されるものとした以外は、
前記比較例１と同様にして、装飾品を製造した。電解め
っきに用いためっき液中におけるＡｕの濃度Ｃ _Ａｕは
８．０［ｇ／リットル］、Ｉｎの濃度Ｃ_Ｉｎは１．０
［ｇ／リットル］、硫酸濃度は２ｖｏｌ％であった。電
解めっきにより形成された被膜の平均厚さは、３．０μ
ｍであった。

【０２４６】（比較例４）以下に示すような表面処理を
施すことにより、装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製
造した。まず、Ｃｕ−Ｚｎ系合金（合金組成：Ｃｕ６０
ｗｔ％−Ｚｎ４０ｗｔ％）を用いて、鋳造により、腕時
計ケース（裏蓋）の形状を有する基材を作製し、その
後、必要箇所を切削、研磨した。次に、この基材を洗浄
した。基材の洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を
３０秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行
った。その後、中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水
洗浄を１０秒間行った。

【０２４７】このようにして洗浄を行った基材の表面
に、Ａｕ−Ａｇ−Ｃｕ系合金（Ａｕ：５８．５ｗｔ％、
Ａｇ：２４．０ｗｔ％、Ｃｕ：１７．５ｗｔ％）で構成
される被膜を形成した。被膜の形成は、以下に説明する
ような真空蒸着により行った。

【０２４８】まず、基材をチャンバー内に取付け、その
後、装置内を予熱しながら、チャンバー内を２×１０
^−５Ｔｏｒｒまで排気（減圧）した。さらに、チャンバ
ー内を２×１０^−６Ｔｏｒｒまで排気（減圧）し、アル
ゴンガス流量４７０ｍｌ／分で、ボンバード処理を５分
間行った。次に、チャンバー内を２×１０^−６Ｔｏｒｒ
まで排気（減圧）し、このような状態で、タングステン
ボードを用いた抵抗加熱により、ターゲットを溶解、蒸
着させ、Ａｕ−Ａｇ−Ｃｕ系合金で構成される被膜を形
成し、装飾品を得た。ターゲットとしては、Ａｕ−Ａｇ
−Ｃｕ合金ターゲットを用いた。なお、形成された被膜
の平均厚さは、１．０μｍであった。被膜の厚さは、Ｊ
ＩＳ Ｈ ５８２１の顕微鏡断面試験方法により測定し
た。

【０２４９】各実施例および各比較例の表面処理方法の
条件を表１、表２および表３にまとめて示す。

【０２５０】

【表１】

【０２５１】

【表２】

【０２５２】

【表３】 ２．装飾品の外観評価 上記各実施例および各比較例で製造した装飾品につい
て、被膜の色調を、色度計（ミノルタ社製、ＣＭ−２０
２２）を用いて測定し、以下の基準に従い、評価した。 ○：ａ^＊ｂ^＊Ｌ^＊表示で、ａ^＊が−３．０〜２．０であ
り、かつ、ｂ^＊が１９〜２５の範囲内である。 ×：ａ^＊ｂ^＊Ｌ^＊表示で、ａ^＊が−３．０〜２．０であ
り、かつ、ｂ^＊が１９〜２５の範囲外である。

【０２５３】なお、色度計の光源としては、ＪＩＳ Ｚ
８７２０で規定されるＤ_６５のものを用い、視野角：
２°で測定した。測定により得られた色度図を図６に示
す。図６中、本発明の装飾品（実施例１〜２３）を●、
比較例の装飾品（比較例１〜４）を▲で示す。

【０２５４】３．被膜の長期安定性評価 上記各実施例および各比較例で製造した装飾品を、常温
（２５℃）、常圧、湿度７０％の環境下に、９０日間放
置した後の、被膜の色調を、色度計（ミノルタ社製、Ｃ
Ｍ−２０２２）を用いて測定し、上記の基準に従い、評
価した。

【０２５５】４．装飾品の耐酸化性評価 上記各実施例および各比較例で製造した装飾品を、２０
０℃、常圧の大気雰囲気下で８時間放置し、その後の被
膜の色調を、色度計（ミノルタ社製、ＣＭ−２０２２）
を用いて測定し、上記の基準に従い、評価した。

【０２５６】５．装飾品の耐薬品性評価 上記各実施例および各比較例で製造した装飾品につい
て、以下に示すような曝気試験を行うことにより、耐薬
品性を評価した。

【０２５７】デシケーター内に人工汗を入れ、４０℃で
２４時間放置した。その後、デシケーター内に、各装飾
品を入れ、さらに４０℃で放置した。このとき、各装飾
品は、人工汗中に浸漬しないように配置した。２４時間
後、各装飾品をデシケーター内から取り出し、被膜の色
調を、色度計（ミノルタ社製、ＣＭ−２０２２）を用い
て測定し、上記の基準に従い、評価した。これらの結果
を表４に示す。

【０２５８】

【表４】

【０２５９】表４から明らかなように、本発明の表面処
理方法を用いて製造された装飾品は、いずれも、ＣＥＮ
規格のＥＮ２８６５４で規定される１Ｎ−１４色の近似
色を有するものであり、優れた美的外観を有していた。

【０２６０】また、本発明の表面処理方法を用いて製造
された装飾品は、長期安定性、耐酸化性、耐薬品性にも
優れていた。これらの結果から、本発明の装飾品は、長
期間にわたって優れた美的外観を保持することができる
ものであることがわかる。また、緩衝層として機能する
下地層を有する装飾品は、特に優れた耐食性を有してい
た。

【０２６１】また、本発明の表面処理方法を用いて製造
された装飾品は、いずれも、ザラツキ感のない、優れた
触感を有していた。また、本発明においては、めっき液
の組成を調節することにより、所望の組成、特性を有す
る被膜を、容易に形成することができた。

【０２６２】これに対し、比較例１〜３の表面処理方法
では、ＣＥＮ規格のＥＮ２８６５４で規定される１Ｎ−
１４色の近似色の被膜を有する装飾品を得ることができ
なかった。また、比較例１の表面処理方法を用いて製造
された装飾品は、長期安定性、耐酸化性、耐薬品性に
も、特に劣っていた。また、比較例４の表面処理方法を
用いて製造された装飾品は、ＣＥＮ規格のＥＮ２８６５
４で規定される１Ｎ−１４色の近似色を有するものであ
ったが、長期安定性、耐酸化性、耐薬品性に劣ってい
た。

【０２６３】

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、白
っぽい金色の色彩を有し、美的外観に優れた装飾品、時
計を容易かつ迅速に製造することができる。特に、ＣＥ
Ｎ規格のＥＮ２８６５４で規定される１Ｎ−１４色の近
似色を有する装飾品、時計を容易かつ迅速に製造するこ
とができる。

【０２６４】また、本発明の装飾品、時計は、長期安定
性、耐酸化性、耐薬品性等に優れ、長期間にわたって、
優れた美的外観を保持することができる。また、めっき
液の組成を調節することにより、所望の組成、特性を有
する被膜を、容易に形成することができる。

【０２６５】また、基材の構成材料等を選択することに
より、複雑な形状を有する装飾品を容易に製造すること
が可能となり、また、装飾品、時計の軽量化、製造コス
トの低減等を達成することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の表面処理方法の第１実施形態を示す
断面図である。

【図２】 本発明の表面処理方法の第２実施形態を示す
断面図である。

【図３】 本発明の表面処理方法の第３実施形態を示す
断面図である。

【図４】 本発明の表面処理方法の第４実施形態を示す
断面図である。

【図５】 本発明の表面処理方法の第５実施形態を示す
断面図である。

【図６】 各実施例で得られた装飾品の被膜の色彩を示
す色度図である。

【符号の説明】

１Ａ、１Ｂ、１Ｃ、１Ｄ、１Ｅ……装飾品 ２……基材
３……被膜 ４０……下地層 ４１ａ……第１の下地
層 ４１ｂ……第１の下地層 ４２ａ……第２の下地層
４２ｂ……第２の下地層 ４３ｂ……第３の下地層
５……マスキング

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 塚本 亙 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 セイコ ーエプソン株式会社内 Ｆターム(参考） 4K024 AA11 AA15 AA24 AB02 AB03 AB15 BA01 BA06 BA09 BB20 CA01 CA04 CA06 DB10 GA02 GA04

Claims (23)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基材の表面の少なくとも一部に、湿式め
   っき法により、０．１〜１５ｗｔ％のＩｎを含むＡｕ−
   Ｉｎ系合金で構成される被膜を形成する工程を有するこ
   とを特徴とする装飾品の表面処理方法。
2. 【請求項２】 前記被膜を形成する工程の前に、前記基
   材の表面の少なくとも一部に、清浄化処理を施す工程を
   有する請求項１に記載の装飾品の表面処理方法。
3. 【請求項３】 基材の表面の少なくとも一部に、少なく
   とも１層の下地層を形成する工程と、 前記下地層上に、湿式めっき法により、０．１〜１５ｗ
   ｔ％のＩｎを含むＡｕ−Ｉｎ系合金で構成される被膜を
   形成する工程を有することを特徴とする装飾品の表面処
   理方法。
4. 【請求項４】 前記下地層を形成する工程の前に、前記
   基材の表面の少なくとも一部に、清浄化処理を施す工程
   を有する請求項３に記載の装飾品の表面処理方法。
5. 【請求項５】 前記被膜を形成する工程の前に、前記下
   地層の表面の少なくとも一部に、清浄化処理を施す工程
   を有する請求項３または４に記載の装飾品の表面処理方
   法。
6. 【請求項６】 前記下地層のうち少なくとも１層は、そ
   の一方の面側と他方の面側との電位差を緩和する緩衝層
   である請求項３ないし５のいずれかに記載の装飾品の表
   面処理方法。
7. 【請求項７】 前記下地層のうち少なくとも１層は、Ｃ
   ｕ、Ｃｏ、Ｐｄ、Ａｕ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｔ
   ｉ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｉｒ
   またはこれらのうち少なくとも１種を含む合金で構成さ
   れるものである請求項３ないし６のいずれかに記載の装
   飾品の表面処理方法。
8. 【請求項８】 前記装飾品は、前記下地層を２層以上有
   するものである請求項３ないし７のいずれかに記載の装
   飾品の表面処理方法。
9. 【請求項９】 隣接する前記下地層は、互いに共通の元
   素を含む材料で構成されたものである請求項８に記載の
   装飾品の表面処理方法。
10. 【請求項１０】 前記共通の元素は、Ｃｕである請求項
    ９に記載の装飾品の表面処理方法。
11. 【請求項１１】 前記被膜は、電解めっきにより形成さ
    れたものである請求項１ないし１０のいずれかに記載の
    装飾品の表面処理方法。
12. 【請求項１２】 前記被膜は、ＣＥＮ規格のＥＮ２８６
    ５４で規定される１Ｎ−１４色の近似色を有するもので
    ある請求項１ないし１１のいずれかに記載の装飾品の表
    面処理方法。
13. 【請求項１３】 前記基材は、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｔ
    ｉ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｎｂまたはこれらのうち少なくとも１
    種を含む合金で構成されるものである請求項１ないし１
    ２のいずれかに記載の装飾品の表面処理方法。
14. 【請求項１４】 前記被膜を形成する工程の後、さら
    に、前記被膜の表面の一部に、マスキングを形成する工
    程と、 剥離剤を用いて、前記マスキングが被覆されていない部
    位の前記被膜を除去する工程と、 前記マスキングを除去する工程とを有する請求項１ない
    し１３のいずれかに記載の装飾品の表面処理方法。
15. 【請求項１５】 請求項１ないし１４のいずれかに記載
    の装飾品の表面処理方法を用いて製造されたことを特徴
    とする装飾品。
16. 【請求項１６】 基材と、該基材の少なくとも一部を覆
    う被膜とを有する装飾品であって、 前記被膜は、０．１〜１５ｗｔ％のＩｎを含むＡｕ−Ｉ
    ｎ系合金で構成されるものであることを特徴とする装飾
    品。
17. 【請求項１７】 前記基材と前記被膜との間に、少なく
    とも１層の下地層を有する請求項１６に記載の装飾品。
18. 【請求項１８】 前記下地層のうち少なくとも１層は、
    その一方の面側と他方の面側との電位差を緩和する緩衝
    層である請求項１７に記載の装飾品。
19. 【請求項１９】 前記下地層のうち少なくとも１層は、
    Ｃｕ、Ｃｏ、Ｐｄ、Ａｕ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｔ
    ｉ、Ｚｎ、Ｉｒまたはこれらのうち少なくとも１種を含
    む合金で構成されるものである請求項１７または１８に
    記載の装飾品。
20. 【請求項２０】 前記被膜は、ＣＥＮ規格のＥＮ２８６
    ５４で規定される１Ｎ−１４色の近似色を有するもので
    ある請求項１６ないし１９のいずれかに記載の装飾品。
21. 【請求項２１】 少なくともその一部が皮膚に接触して
    用いられる請求項１５ないし２０のいずれかに記載の装
    飾品。
22. 【請求項２２】 装飾品は、時計用外装部品である請求
    項１５ないし２１のいずれかに記載の装飾品。
23. 【請求項２３】 請求項１５ないし２２のいずれかに記
    載の装飾品を備えたことを特徴とする時計。