JP2009222603A - 装飾品の製造方法、装飾品および時計 - Google Patents
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Abstract
【課題】 長期間にわたって優れた硬度および美的外観を保持することができる装飾品を提供すること、前記装飾品を提供することができる製造方法を提供すること、また、前記装飾品を備えた時計を提供すること。
【解決手段】 本発明の装飾品１の製造方法は、基材２上に、主としてＴｉＮで構成された第１の被膜３を形成する第１の被膜形成工程と、第１の被膜３上に、９９ｗｔ％以上の含有率でＡｕを含む第２の被膜４を形成する第２の被膜形成工程と、第２の被膜４上に、Ａｕを主成分とし、６．０〜１０．０ｗｔ％のＰｄ、および、１２．０〜１５．０ｗｔ％のＡｇを含むＡｕ−Ｐｄ−Ａｇ系合金をターゲットとして用いた乾式めっき法により、第３の被膜５を形成する第３の被膜形成工程とを有する。
【選択図】 図２
【解決手段】 本発明の装飾品１の製造方法は、基材２上に、主としてＴｉＮで構成された第１の被膜３を形成する第１の被膜形成工程と、第１の被膜３上に、９９ｗｔ％以上の含有率でＡｕを含む第２の被膜４を形成する第２の被膜形成工程と、第２の被膜４上に、Ａｕを主成分とし、６．０〜１０．０ｗｔ％のＰｄ、および、１２．０〜１５．０ｗｔ％のＡｇを含むＡｕ−Ｐｄ−Ａｇ系合金をターゲットとして用いた乾式めっき法により、第３の被膜５を形成する第３の被膜形成工程とを有する。
【選択図】 図２
Description
本発明は、装飾品の製造方法、装飾品および時計に関する。
時計用外装部品のような装飾品には、優れた美的外観が要求される。従来、このような目的を達成するために、一般に、装飾品の構成材料として、Ｐｔ、Ａｇ等の金属材料を用いてきた。
しかし、金属材料の硬度は、一般に比較的低く、前記のような材料で構成された装飾品（特に、時計用外装部品や装身具等）は、その表面に傷が付き易く、長期間使用することにより美的外観が著しく低下する等の問題点を有していた。
しかし、金属材料の硬度は、一般に比較的低く、前記のような材料で構成された装飾品（特に、時計用外装部品や装身具等）は、その表面に傷が付き易く、長期間使用することにより美的外観が著しく低下する等の問題点を有していた。
このような問題を解決するために、基材を硬質化する技術として、例えばステンレス鋼からなる基材に炭素を注入する浸炭処理により、表面を固くする技術（例えば、特許文献１参照）が用いられている。
しかしながら、浸炭処理は、表面荒れをおこすので、研磨外観が変わってしまう。鏡面品は特に荒れて、くもりとなってしまい、そのままでは、装飾品としては使用できない。
しかしながら、浸炭処理は、表面荒れをおこすので、研磨外観が変わってしまう。鏡面品は特に荒れて、くもりとなってしまい、そのままでは、装飾品としては使用できない。
そこで、後工程として、機械的研磨により、鏡面に磨く方法がとられていた。しかし、この方法は、研磨により固い硬化層を削り取りすぎて硬度が落ちたり、後研磨できない形状（バフが当たらないような形状）のものは処理不可であるといった欠点がある。
また、上記のような浸炭処理を施した基材においては、その色調が高級感に欠けるため、優れた外観が要求される（特に、淡い金色の）装飾品に適用するのが困難であった。
また、上記のような浸炭処理を施した基材においては、その色調が高級感に欠けるため、優れた外観が要求される（特に、淡い金色の）装飾品に適用するのが困難であった。
乾式めっきにより、Ａｕ−Ｎｉ層を形成することにより、淡い金色を呈する装飾品を得ることができるが、このような装飾品においては、Ａｕ−Ｎｉ層の経時的な色調の変化が起こり易く、長期間にわたって優れた美的外観を維持することができなかった。また、Ｎｉは、近年、人体等に対する悪影響（特に、アレルギー）が指摘されており、装飾品への使用を控えることが求められている。
本発明の目的は、長期間にわたって優れた硬度および美的外観を保持することができる装飾品を提供すること、前記装飾品を提供することができる製造方法を提供すること、また、前記装飾品を備えた時計を提供することにある。
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の装飾品の製造方法は、基材上に、主としてＴｉＮで構成された第１の被膜を形成する第１の被膜形成工程と、
前記第１の被膜上に、９９ｗｔ％以上の含有率でＡｕを含む第２の被膜を形成する第２の被膜形成工程と、
前記第２の被膜上に、Ａｕを主成分とし、６．０〜１０．０ｗｔ％のＰｄ、および、１２．０〜１６．０ｗｔ％のＡｇを含むＡｕ−Ｐｄ−Ａｇ系合金をターゲットとして用いた乾式めっき法により、第３の被膜を形成する第３の被膜形成工程とを有することを特徴とする。
これにより、長期間にわたって優れた硬度および美的外観を保持することができる装飾品を製造する製造方法を提供することができる。
本発明の装飾品の製造方法は、基材上に、主としてＴｉＮで構成された第１の被膜を形成する第１の被膜形成工程と、
前記第１の被膜上に、９９ｗｔ％以上の含有率でＡｕを含む第２の被膜を形成する第２の被膜形成工程と、
前記第２の被膜上に、Ａｕを主成分とし、６．０〜１０．０ｗｔ％のＰｄ、および、１２．０〜１６．０ｗｔ％のＡｇを含むＡｕ−Ｐｄ−Ａｇ系合金をターゲットとして用いた乾式めっき法により、第３の被膜を形成する第３の被膜形成工程とを有することを特徴とする。
これにより、長期間にわたって優れた硬度および美的外観を保持することができる装飾品を製造する製造方法を提供することができる。
本発明の装飾品の製造方法では、前記第３の被膜をスパッタリングにより形成することが好ましい。
これにより、特に優れた美的外観の装飾品を、安定して製造することができる。
本発明の装飾品の製造方法では、前記第１の被膜形成工程に先立ち、前記基材上に、少なくとも１層の下地層を形成する下地層形成工程を有することが好ましい。
これにより、例えば、基材と第１の被膜との密着性を向上させることができ、装飾品の信頼性、耐久性をより優れたものとすることができる。
これにより、特に優れた美的外観の装飾品を、安定して製造することができる。
本発明の装飾品の製造方法では、前記第１の被膜形成工程に先立ち、前記基材上に、少なくとも１層の下地層を形成する下地層形成工程を有することが好ましい。
これにより、例えば、基材と第１の被膜との密着性を向上させることができ、装飾品の信頼性、耐久性をより優れたものとすることができる。
本発明の装飾品の製造方法では、前記下地層として、主としてＴｉで構成された層を形成することが好ましい。
これにより、例えば、基材と第１の被膜との密着性をさらに向上させることができ、装飾品の信頼性、耐久性を特に優れたものとすることができる。
本発明の装飾品は、本発明の方法を用いて製造されたことを特徴とする。
これにより、長期間にわたって優れた硬度および美的外観を保持することができる装飾品を提供することができる。
これにより、例えば、基材と第１の被膜との密着性をさらに向上させることができ、装飾品の信頼性、耐久性を特に優れたものとすることができる。
本発明の装飾品は、本発明の方法を用いて製造されたことを特徴とする。
これにより、長期間にわたって優れた硬度および美的外観を保持することができる装飾品を提供することができる。
本発明の装飾品は、基材と、
主としてＴｉＮで構成された第１の被膜と、
前記第１の被膜の前記基材に対向する面とは反対側の表面に設けられ、９９ｗｔ％以上の含有率でＡｕを含む材料で構成された第２の被膜と、
前記第２の被膜の前記第１の被膜に対向する面とは反対側の表面に設けられ、Ａｕを主成分とし、６．０〜１０．０ｗｔ％のＰｄ、および、１２．０〜１６．０ｗｔ％のＡｇを含むＡｕ−Ｐｄ−Ａｇ系合金で構成された第３の被膜とを有することを特徴とする。
これにより、長期間にわたって優れた硬度および美的外観を保持することができる装飾品を提供することができる。
主としてＴｉＮで構成された第１の被膜と、
前記第１の被膜の前記基材に対向する面とは反対側の表面に設けられ、９９ｗｔ％以上の含有率でＡｕを含む材料で構成された第２の被膜と、
前記第２の被膜の前記第１の被膜に対向する面とは反対側の表面に設けられ、Ａｕを主成分とし、６．０〜１０．０ｗｔ％のＰｄ、および、１２．０〜１６．０ｗｔ％のＡｇを含むＡｕ−Ｐｄ−Ａｇ系合金で構成された第３の被膜とを有することを特徴とする。
これにより、長期間にわたって優れた硬度および美的外観を保持することができる装飾品を提供することができる。
本発明の装飾品では、前記基材は、少なくともその表面付近が主としてＴｉおよび／またはステンレス鋼で構成されたものであることが好ましい。
これにより、装飾品の硬度を特に優れたものとすることができ、傷や打痕等の凹み等が特に付き難いものとすることができ、より長期間にわたって優れた美的外観を保持することができる。また、基材と、第１の被膜との密着性が特に優れたものとなる。
本発明の装飾品では、前記第１の被膜中におけるＮの含有率が、２〜２９ｗｔ％であることが好ましい。
これにより、装飾品の美的外観を特に優れたものとしつつ、より長期間にわたって優れた美的外観を保持することができる。
これにより、装飾品の硬度を特に優れたものとすることができ、傷や打痕等の凹み等が特に付き難いものとすることができ、より長期間にわたって優れた美的外観を保持することができる。また、基材と、第１の被膜との密着性が特に優れたものとなる。
本発明の装飾品では、前記第１の被膜中におけるＮの含有率が、２〜２９ｗｔ％であることが好ましい。
これにより、装飾品の美的外観を特に優れたものとしつつ、より長期間にわたって優れた美的外観を保持することができる。
本発明の装飾品では、前記第１の被膜の平均厚さは、０．１〜５．０μｍであることが好ましい。
これにより、第１の被膜の内部応力が大きくなるのを十分に防止しつつ、装飾品を、傷や打痕等の凹み等が特に付き難いものとすることができ、より長期間にわたって優れた美的外観を保持することができる。
本発明の装飾品では、前記第２の被膜の平均厚さは、０．０１〜０．３μｍであることが好ましい。
これにより、装飾品の美的外観および耐久性を特に優れたものとすることができる。
これにより、第１の被膜の内部応力が大きくなるのを十分に防止しつつ、装飾品を、傷や打痕等の凹み等が特に付き難いものとすることができ、より長期間にわたって優れた美的外観を保持することができる。
本発明の装飾品では、前記第２の被膜の平均厚さは、０．０１〜０．３μｍであることが好ましい。
これにより、装飾品の美的外観および耐久性を特に優れたものとすることができる。
本発明の装飾品では、前記第３の被膜の平均厚さは、０．０２〜２．０μｍであることが好ましい。
これにより、装飾品としての硬度を十分に高いものとしつつ、装飾品の美的外観を特に優れたものとすることができ、より長期間にわたって優れた美的外観を保持することができる。
本発明の装飾品では、前記第３の被膜が設けられている側の面の色調は、ＪＩＳ Ｚ ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図において、ａ＊が０．５〜２．８であり、かつ、ｂ＊が１２．０〜１６．８であることが好ましい。
これにより、装飾品の美的外観は、特に優れたものとなる。
これにより、装飾品としての硬度を十分に高いものとしつつ、装飾品の美的外観を特に優れたものとすることができ、より長期間にわたって優れた美的外観を保持することができる。
本発明の装飾品では、前記第３の被膜が設けられている側の面の色調は、ＪＩＳ Ｚ ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図において、ａ＊が０．５〜２．８であり、かつ、ｂ＊が１２．０〜１６．８であることが好ましい。
これにより、装飾品の美的外観は、特に優れたものとなる。
本発明の装飾品では、前記第３の被膜が設けられている側の面の色調は、ＪＩＳ Ｚ ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図において、Ｌ＊が８３．６〜８８．０であることが好ましい。
これにより、装飾品の美的外観は、特に優れたものとなる。
本発明の装飾品は、時計用外装部品であることが好ましい。
時計用外装部品は、一般に、外部からの衝撃を受け易い装飾品であり、装飾品としての外観の美しさが要求されるとともに、実用品としての耐久性も求められるが、本発明によればこれらの要件を同時に満足することができる。
本発明の時計は、本発明の装飾品を備えたことを特徴とする。
これにより、長期間にわたって優れた美的外観を保持することができる時計を提供することができる。
これにより、装飾品の美的外観は、特に優れたものとなる。
本発明の装飾品は、時計用外装部品であることが好ましい。
時計用外装部品は、一般に、外部からの衝撃を受け易い装飾品であり、装飾品としての外観の美しさが要求されるとともに、実用品としての耐久性も求められるが、本発明によればこれらの要件を同時に満足することができる。
本発明の時計は、本発明の装飾品を備えたことを特徴とする。
これにより、長期間にわたって優れた美的外観を保持することができる時計を提供することができる。
本発明によれば、長期間にわたって優れた硬度および美的外観を保持することができる装飾品を提供すること、前記装飾品を提供することができる製造方法を提供すること、また、前記装飾品を備えた時計を提供することができる。
以下、本発明の好適な実施形態について、添付図面を参照しつつ説明する。
まず、本発明の装飾品の第１実施形態、およびその製造方法の好適な実施形態について説明する。
図１は、本発明の装飾品の第１実施形態を示す断面図、図２は、図１に示す装飾品の製造方法の好適な実施形態を示す断面図である。
図１に示すように、本実施形態の装飾品１は、基材２と、第１の被膜３と、第２の被膜４と、第３の被膜５とを有している。
まず、本発明の装飾品の第１実施形態、およびその製造方法の好適な実施形態について説明する。
図１は、本発明の装飾品の第１実施形態を示す断面図、図２は、図１に示す装飾品の製造方法の好適な実施形態を示す断面図である。
図１に示すように、本実施形態の装飾品１は、基材２と、第１の被膜３と、第２の被膜４と、第３の被膜５とを有している。
［基材］
基材２は、いかなる材料で構成されるものであってもよく、金属材料で構成されるものであっても、非金属材料で構成されるものであってもよい。
基材２が金属材料で構成される場合、特に優れた強度特性を有する装飾品１を提供することができる。
また、基材２が金属材料で構成される場合、基材２の表面粗さが比較的大きい場合であっても、後述する第１の被膜３、第２の被膜４、第３の被膜５を形成する際のレベリング効果により、得られる装飾品１の表面粗さを小さくすることができる。例えば、基材２の表面に対する切削加工、研磨加工等による機械加工を省略しても、鏡面仕上げを行うことが可能となったり、基材２がＭＩＭ法により成形されたもので、その表面が梨地面である場合でも、容易に鏡面にすることができる。これにより、光沢に優れた装飾品を得ることができる。
基材２は、いかなる材料で構成されるものであってもよく、金属材料で構成されるものであっても、非金属材料で構成されるものであってもよい。
基材２が金属材料で構成される場合、特に優れた強度特性を有する装飾品１を提供することができる。
また、基材２が金属材料で構成される場合、基材２の表面粗さが比較的大きい場合であっても、後述する第１の被膜３、第２の被膜４、第３の被膜５を形成する際のレベリング効果により、得られる装飾品１の表面粗さを小さくすることができる。例えば、基材２の表面に対する切削加工、研磨加工等による機械加工を省略しても、鏡面仕上げを行うことが可能となったり、基材２がＭＩＭ法により成形されたもので、その表面が梨地面である場合でも、容易に鏡面にすることができる。これにより、光沢に優れた装飾品を得ることができる。
基材２が非金属材料で構成される場合、比較的軽量で携帯し易く、かつ、重厚な外観を有する装飾品１を提供することができる。
また、基材２が非金属材料で構成される場合、比較的容易に、所望の形状に成形することができる。このため、直接成形するのが困難な形状の装飾品１であっても、比較的容易に提供することができる。
また、基材２が非金属材料で構成される場合、電磁ノイズを遮蔽する効果も得られる。
また、基材２が非金属材料で構成される場合、比較的容易に、所望の形状に成形することができる。このため、直接成形するのが困難な形状の装飾品１であっても、比較的容易に提供することができる。
また、基材２が非金属材料で構成される場合、電磁ノイズを遮蔽する効果も得られる。
基材２を構成する金属材料としては、例えば、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｍｇ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ｎｂ、Ａｌ、Ｖ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ａｇ等の各種金属や、これらのうち少なくとも１種を含む合金（例えば、各種ステンレス鋼、真鍮等）等が挙げられる。
基材２の少なくとも表面付近が、主としてＴｉおよび／またはステンレス鋼で構成されたものであると、装飾品１は、特に優れた硬度を有するものとなり、傷や打痕等の凹み等が特に付き難いものとなる。その結果、装飾品１は、より長期間にわたって優れた美的外観を保持することができる。また、基材２の少なくとも表面付近が、主としてＴｉおよび／またはステンレス鋼で構成されたものであると（特に、主としてＴｉで構成されたものであると）、基材２と、後述する第１の被膜３との密着性が特に優れたものとなる。なお、本発明では、「主として」とは、対象としている部位（部材）を構成する材料のうち最も含有量の多い成分を指し、その含有量は特に限定されないが、対象としている部位（部材）を構成する材料の７０ｗｔ％以上であることが好ましく、９０ｗｔ％以上であることがより好ましく、９５ｗｔ％以上であることがさらに好ましい。
基材２の少なくとも表面付近が、主としてＴｉおよび／またはステンレス鋼で構成されたものであると、装飾品１は、特に優れた硬度を有するものとなり、傷や打痕等の凹み等が特に付き難いものとなる。その結果、装飾品１は、より長期間にわたって優れた美的外観を保持することができる。また、基材２の少なくとも表面付近が、主としてＴｉおよび／またはステンレス鋼で構成されたものであると（特に、主としてＴｉで構成されたものであると）、基材２と、後述する第１の被膜３との密着性が特に優れたものとなる。なお、本発明では、「主として」とは、対象としている部位（部材）を構成する材料のうち最も含有量の多い成分を指し、その含有量は特に限定されないが、対象としている部位（部材）を構成する材料の７０ｗｔ％以上であることが好ましく、９０ｗｔ％以上であることがより好ましく、９５ｗｔ％以上であることがさらに好ましい。
主としてＴｉで構成される材料としては、例えば、Ｔｉ（単体としてのＴｉ）、Ｔｉ合金等が挙げられる。また、ステンレス鋼としては、Ｆｅ−Ｃｒ系合金、Ｆｅ−Ｃｒ−Ｎｉ系合金等が挙げられる。Ｆｅ−Ｃｒ−Ｎｉ系合金としては、例えば、ＳＵＳ３０４、ＳＵＳ３０３、ＳＵＳ３１６、ＳＵＳ３１６Ｌ、ＳＵＳ３１６Ｊ１、ＳＵＳ３１６Ｊ１Ｌ等が挙げられ、Ｆｅ−Ｃｒ系合金としては、例えば、ＳＵＳ４０５、ＳＵＳ４３０、ＳＵＳ４３４、ＳＵＳ４４４、ＳＵＳ４２９、ＳＵＳ４３０Ｆ等が挙げられる。
また、基材２を構成する非金属材料としては、例えば、プラスチックやセラミックス、石材、木材、ガラス等が挙げられる。
プラスチックとしては、各種熱可塑性樹脂、各種熱硬化性樹脂が挙げられ、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド（例：ナイロン６、ナイロン４６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６−１２、ナイロン６−６６）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ−（４−メチルペンテン−１）、アイオノマー、アクリル系樹脂、ポリメチルメタクリレート、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリシクロヘキサンテレフタレート（ＰＣＴ）等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリパラキシリレン（poly-para-xylylene）、ポリモノクロロパラキシリレン（poly-monochloro-para-xylylene）、ポリジクロロパラキシリレン（poly-dichloro-para-xylylene）、ポリモノフルオロパラキシリレン（poly-monofluoro-para-xylylene）、ポリモノエチルパラキシリレン（poly-monoethyl-para-xylylene）等のポリパラキシリレン樹脂等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（例えば、ブレンド樹脂、ポリマーアロイ、積層体等として）用いることができる。
基材２がプラスチックで構成される場合、比較的軽量で携帯し易く、かつ、重厚な外観を有する装飾品１を得ることができる。
また、基材２がプラスチックで構成される場合、比較的容易に、所望の形状に成形することができる。このため、複雑な形状を有する装飾品１であっても、比較的容易に製造することができる。
また、基材２がプラスチックで構成される場合、電磁ノイズを遮蔽する効果が得られる。
プラスチックとしては、各種熱可塑性樹脂、各種熱硬化性樹脂が挙げられ、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド（例：ナイロン６、ナイロン４６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６−１２、ナイロン６−６６）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ−（４−メチルペンテン−１）、アイオノマー、アクリル系樹脂、ポリメチルメタクリレート、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリシクロヘキサンテレフタレート（ＰＣＴ）等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリパラキシリレン（poly-para-xylylene）、ポリモノクロロパラキシリレン（poly-monochloro-para-xylylene）、ポリジクロロパラキシリレン（poly-dichloro-para-xylylene）、ポリモノフルオロパラキシリレン（poly-monofluoro-para-xylylene）、ポリモノエチルパラキシリレン（poly-monoethyl-para-xylylene）等のポリパラキシリレン樹脂等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（例えば、ブレンド樹脂、ポリマーアロイ、積層体等として）用いることができる。
基材２がプラスチックで構成される場合、比較的軽量で携帯し易く、かつ、重厚な外観を有する装飾品１を得ることができる。
また、基材２がプラスチックで構成される場合、比較的容易に、所望の形状に成形することができる。このため、複雑な形状を有する装飾品１であっても、比較的容易に製造することができる。
また、基材２がプラスチックで構成される場合、電磁ノイズを遮蔽する効果が得られる。
セラミックスとしては、例えば、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、Ｔｉ２Ｏ３、ＺｒＯ２、Ｙ２Ｏ３、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム等の酸化物系セラミックス、ＡｌＮ、Ｓｉ３Ｎ４、ＳｉＮ、ＴｉＮ、ＢＮ、ＺｒＮ、ＨｆＮ、ＶＮ、ＴａＮ、ＮｂＮ、ＣｒＮ、Ｃｒ２Ｎ等の窒化物系セラミックス、グラファイト、ＳｉＣ、ＺｒＣ、Ａｌ４Ｃ３、ＣａＣ２、ＷＣ、ＴｉＣ、ＨｆＣ、ＶＣ、ＴａＣ、ＮｂＣ等の炭化物系のセラミックス、ＺｒＢ２、ＭｏＢ等のホウ化物系のセラミックス、あるいは、これらのうちの２以上を任意に組み合わせた複合セラミックスが挙げられる。
基材２が前記のようなセラミックスで構成される場合、高強度、高硬度の装飾品１を得ることができる。
基材２が前記のようなセラミックスで構成される場合、高強度、高硬度の装飾品１を得ることができる。
また、基材２は、各部位でその組成が実質的に均一な組成を有するものであってもよいし、部位によって組成の異なるものであってもよい。例えば、基材２は、基部と、該基部上に設けられた表面層を有するものであってもよい。基材２がこのような構成のものであると、基部の構成材料の選択により、例えば、基材２の成形の自由度を増すことができ、より複雑な形状の装飾品１であっても、比較的容易に製造することができる。基材２が基部と、金属材料で構成された表面層とを有するものである場合、表面層の厚さ（平均値）は、特に限定されないが、０．１〜５０μｍであるのが好ましく、１．０〜１０μｍであるのがより好ましい。表面層の厚さが前記範囲内の値であると、基材２の強度を十分に優れたものとすることができるとともに、表面層の基部からの不本意な剥離等をより確実に防止することができる。
また、基材２の形状、大きさは、特に限定されず、通常、装飾品１の形状、大きさに基づいて決定される。
また、基材２の形状、大きさは、特に限定されず、通常、装飾品１の形状、大きさに基づいて決定される。
［第１の被膜］
基材２の表面には、第１の被膜３が設けられている。第１の被膜３は、主としてＴｉＮで構成されたものである。
このような第１の被膜３を有することにより、装飾品１全体としての硬度（第１の被膜３、第２の被膜４、第３の被膜５が設けられている面側における硬度。以下同様。）を優れたものとすることができ、傷や打痕等の凹み等を付き難くすることができる。また、このような第１の被膜３を有することにより、後述する第２の被膜４、第３の被膜５の膜厚が比較的小さい場合であっても、装飾品１全体としての美的外観を優れたものとすることができる。すなわち、後述する第２の被膜４、第３の被膜５の膜厚が比較的小さい場合には第１の被膜３の色調が装飾品１の美的外観に与える影響が大きくなるが、上記のようなＴｉＮ（第１の被膜３）の色調（色度）と、第２の被膜４、第３の被膜５の色調（色度）とは、比較的類似している（差が小さいため）ため、このような場合であっても、装飾品１全体としての美的外観を優れたものとすることができる。また、例えば、装飾品１の長期の使用により、万が一、第２の被膜４、第３の被膜５が磨耗、剥離した場合であっても、装飾品１の美的外観に与える悪影響を最小限に止めることができる。これに対し、装飾品がＴｉＮで構成された第１の被膜を有していない場合、装飾品全体としての硬度を十分に大きいものとすることができない。その結果、装飾品は、傷や打痕等の凹み等を生じ易いものとなる。また、装飾品がＴｉＮで構成された第１の被膜を有していない場合、基材等の色調が装飾品としての外観に及ぼす影響が大きくなる。このため、第２の被膜、第３の被膜の厚さ等によっては、装飾品としての美的外観を著しく損なう場合がある。
基材２の表面には、第１の被膜３が設けられている。第１の被膜３は、主としてＴｉＮで構成されたものである。
このような第１の被膜３を有することにより、装飾品１全体としての硬度（第１の被膜３、第２の被膜４、第３の被膜５が設けられている面側における硬度。以下同様。）を優れたものとすることができ、傷や打痕等の凹み等を付き難くすることができる。また、このような第１の被膜３を有することにより、後述する第２の被膜４、第３の被膜５の膜厚が比較的小さい場合であっても、装飾品１全体としての美的外観を優れたものとすることができる。すなわち、後述する第２の被膜４、第３の被膜５の膜厚が比較的小さい場合には第１の被膜３の色調が装飾品１の美的外観に与える影響が大きくなるが、上記のようなＴｉＮ（第１の被膜３）の色調（色度）と、第２の被膜４、第３の被膜５の色調（色度）とは、比較的類似している（差が小さいため）ため、このような場合であっても、装飾品１全体としての美的外観を優れたものとすることができる。また、例えば、装飾品１の長期の使用により、万が一、第２の被膜４、第３の被膜５が磨耗、剥離した場合であっても、装飾品１の美的外観に与える悪影響を最小限に止めることができる。これに対し、装飾品がＴｉＮで構成された第１の被膜を有していない場合、装飾品全体としての硬度を十分に大きいものとすることができない。その結果、装飾品は、傷や打痕等の凹み等を生じ易いものとなる。また、装飾品がＴｉＮで構成された第１の被膜を有していない場合、基材等の色調が装飾品としての外観に及ぼす影響が大きくなる。このため、第２の被膜、第３の被膜の厚さ等によっては、装飾品としての美的外観を著しく損なう場合がある。
第１の被膜３中におけるＮの含有率（Ｘ１Ｎ）は、特に限定されないが、２．０〜２９．０ｗｔ％であるのが好ましく、５．０〜２７．０ｗｔ％であるのがより好ましく、７．０〜２４．０ｗｔ％であるのがさらに好ましく、８．０〜１６．０ｗｔ％であるのが最も好ましい。第１の被膜３中におけるＮの含有率が前記範囲内の値であると、装飾品１の硬度を十分に高いものとしつつ、第１の被膜３の色調（色度）を最適なものとすることができる。その結果、前述したような本発明の効果が、より顕著に発揮される。これに対し、第１の被膜３中におけるＮの含有率が前記下限値未満であると、第１の被膜３の厚さや、第３の被膜５の組成等によっては、装飾品１の硬度を十分に高いものとするのが困難になる可能性がある。また、第１の被膜３中におけるＮの含有率が前記上限値を超えると、第１の被膜３の色調が濃くなり過ぎ（金色っぽくなり過ぎ）、第２の被膜４、第３の被膜５の厚さ等によっては、装飾品１の美的外観に悪影響を及ぼす可能性がある。
また、第１の被膜３中には、Ｔｉ、Ｎ以外の構成成分（構成元素）が含まれていてもよい。例えば、第１の被膜３中には、所定量のＣ（炭素）が含まれていてもよい。これにより、第１の被膜３の色調と、後述する第２の被膜４、第３の被膜５の色調との差をより小さなものとすることができるとともに、第１の被膜３の硬度等をさらに優れたものとすることができる。その結果、上述したような本発明の効果をさらに顕著なものとして発揮させることができる。
第１の被膜３が、Ｃを含む材料（ＴｉＣＮ）で構成されたものである場合、第１の被膜３中におけるＣの含有率（Ｘ１Ｃ）とＮの含有率（Ｘ１Ｎ）との和（Ｘ１）は、特に限定されないが、５〜３０ｗｔ％であるのが好ましく、１０．０〜２８．０ｗｔ％であるのがより好ましく、１５〜２５．０ｗｔ％であるのがさらに好ましい。
また、第１の被膜３中におけるＣの含有率（Ｘ１Ｃ）は、０．５〜１２．０ｗｔ％であるのが好ましく、１．０〜１０．０ｗｔ％であるのがより好ましく、５．０〜９．０ｗｔ％であるのがさらに好ましい。第１の被膜３中におけるＣの含有率が前記範囲内の値であると、装飾品１の硬度を十分に高いものとしつつ、第１の被膜３の色調（色度）を最適なものとすることができる。その結果、前述したような本発明の効果が、より顕著に発揮される。これに対し、第１の被膜３中におけるＣの含有率が前記上限値を超えると、第１の被膜３の色調が濃くなり過ぎ（黒っぽくなり過ぎ）、第２の被膜４、第３の被膜５の厚さ等によっては、装飾品１の美的外観に悪影響を及ぼす可能性がある。
また、第１の被膜３中におけるＣの含有率（Ｘ１Ｃ）は、０．５〜１２．０ｗｔ％であるのが好ましく、１．０〜１０．０ｗｔ％であるのがより好ましく、５．０〜９．０ｗｔ％であるのがさらに好ましい。第１の被膜３中におけるＣの含有率が前記範囲内の値であると、装飾品１の硬度を十分に高いものとしつつ、第１の被膜３の色調（色度）を最適なものとすることができる。その結果、前述したような本発明の効果が、より顕著に発揮される。これに対し、第１の被膜３中におけるＣの含有率が前記上限値を超えると、第１の被膜３の色調が濃くなり過ぎ（黒っぽくなり過ぎ）、第２の被膜４、第３の被膜５の厚さ等によっては、装飾品１の美的外観に悪影響を及ぼす可能性がある。
また、第１の被膜３中におけるＣの含有率Ｘ１Ｃ［ｗｔ％］は、第１の被膜３中におけるＮの含有率Ｘ１Ｎ［ｗｔ％］より低いのが好ましい。これにより、第１の被膜３の色調が黒っぽくなり過ぎるのを効果的に防止することができ、結果として、（特に、第２の被膜４、第３の被膜５の厚さが比較的小さい場合であっても、）装飾品１の美的外観を特に優れたものとすることができる。
また、第１の被膜３が、所定量のＣを含むものである場合（上記のようなＴｉＣＮで構成されたものである場合）、装飾品１は、通常の使用条件（例えば、温度：−５０〜１２０℃、湿度：０〜１００％ＲＨ）においては十分な安定性を有しつつ、特定の薬品を用いることにより、基材２に対して実質的な損傷を与えることなく、第１の被膜３の除去を容易かつ確実に行うことができる。したがって、装飾品１の第１の被膜３に汚損が生じた場合等には、当該第１の被膜３を除去し、再度、第１の被膜３を好適に形成することができる。このように、特定の薬品を用いることによる被膜（第１の被膜）の剥離および被膜の再形成を、容易かつ確実に行うことができるため、極めて長期間にわたって、その特性を発揮しつづけることができる。第１の被膜３の剥離に使用することができる剥離剤としては、例えば、硝酸（ＨＮＯ３）と硫酸（Ｈ２ＳＯ４）とを含む溶液等が挙げられる。剥離剤がこのような溶液である場合、当該溶液中における硝酸（ＨＮＯ３）の濃度は１０〜３０ｖｏｌ％程度であるのが好ましく、硫酸（Ｈ２ＳＯ４）の濃度は１０〜３０ｖｏｌ％程度であるのが好ましい。これにより、基材２等に対する実質的な損傷を与えることなく、比較的短時間で、第１の被膜３を容易かつ確実に除去することができる。
また、第１の被膜３の平均厚さは、特に限定されないが、０．１〜５．０μｍであるのが好ましく、０．２〜３．０μｍであるのがより好ましく、０．３〜０．８μｍであるのがさらに好ましい。第１の被膜３の平均厚さが前記範囲内の値であると、第１の被膜３の硬度を十分に高いものとしつつ、第１の被膜３の内部応力が大きくなるのをより効果的に防止することができ、結果として、装飾品１の信頼性、耐久性を特に優れたものとすることができる。これに対し、第１の被膜３の平均厚さが前記下限値未満であると、第１の被膜３の組成（例えば、Ｎの含有率等）等によっては、上述したような第１の被膜３の機能が十分に発揮されない可能性がある。また、第１の被膜３の平均厚さが前記上限値を超えると、第１の被膜３の組成（例えば、Ｎの含有率等）等によっては、第１の被膜３の内部応力が大きくなる傾向を示す。
また、第１の被膜３は、組成の異なる複数の領域を有していてもよい。例えば、第１の被膜３は、Ｎの含有率が所定値Ｘである第１の領域と、Ｎの含有率が前記Ｘより大きい所定値Ｘ’である第２の領域とを有するものであってもよい。このような場合、例えば、第１の領域が第２の領域よりも基材２側に設けられることにより、第１の被膜３の内部応力が大きくなるのをより効果的に防止しつつ、第１の被膜３の硬度をより高いものとすることができ、基材２と第１の被膜３との密着性を特に優れたものとすることができる。したがって、装飾品１は、より長期間にわたり、安定して、優れた美的外観を保持することができる。また、第２の領域が第１の領域よりも基材２側に設けられている場合には、以下のような効果が得られる。Ｃの含有率とＮの含有率との和が比較的大きい第２の領域を有することにより、第１の被膜３全体としての硬度（装飾品１全体としての硬度）を特に優れたものとしつつ、比較的濃い色調を有する第２の領域が、装飾品１の美的外観に与える影響を低減させることができる。すなわち、第２の領域よりも第２の被膜４側（装飾品の外表面側）に第１の領域を有することにより、装飾品１の外観は、第２の領域の色調による影響よりも、第１の領域の色調による影響を受け易くなるため、第１の被膜３全体としての硬度（装飾品１全体としての硬度）を特に優れたものとしつつ、装飾品１全体としての美的外観を特に優れたものとすることができる。したがって、装飾品１は、より長期間にわたり、安定して、優れた美的外観を保持することができる。
また、第１の被膜３が組成の異なる複数の領域を有するものである場合（例えば、上記のような第１の領域と第２の領域とを有するものである場合）、第１の被膜３は、例えば、異なる組成を有する複数の層を備えた積層体で構成されたものであってもよいし、組成がその厚さ方向に沿って傾斜的に変化するものであってもよい。
また、第１の被膜３は、図示の構成では基材２の全面に形成されているが、基材２上の少なくとも一部に形成されていればよい。
また、第１の被膜３は、図示の構成では基材２の全面に形成されているが、基材２上の少なくとも一部に形成されていればよい。
［第２の被膜］
第１の被膜３の表面（基材２に対向する面とは反対側の面）には、第２の被膜４が設けられている。
第２の被膜４は、９９ｗｔ％以上の含有率でＡｕを含む材料で構成されたものである。このような第２の被膜４を有することにより、第１の被膜３と後述する第３の被膜５との密着性（第２の被膜４を介しての密着性）を優れたものとすることができ、その結果、装飾品１の耐久性を優れたものとすることができる。また、第１の被膜３と第３の被膜５との間に第２の被膜４を有することにより、装飾品１の美的外観を優れたものとすることができる。すなわち、第２の被膜４は、装飾品１において、第３の被膜５で覆われているものであるため、直接、装飾品１の使用者等に視認されることはないが、装飾品１の光沢感等に影響を与えるものである。
第１の被膜３の表面（基材２に対向する面とは反対側の面）には、第２の被膜４が設けられている。
第２の被膜４は、９９ｗｔ％以上の含有率でＡｕを含む材料で構成されたものである。このような第２の被膜４を有することにより、第１の被膜３と後述する第３の被膜５との密着性（第２の被膜４を介しての密着性）を優れたものとすることができ、その結果、装飾品１の耐久性を優れたものとすることができる。また、第１の被膜３と第３の被膜５との間に第２の被膜４を有することにより、装飾品１の美的外観を優れたものとすることができる。すなわち、第２の被膜４は、装飾品１において、第３の被膜５で覆われているものであるため、直接、装飾品１の使用者等に視認されることはないが、装飾品１の光沢感等に影響を与えるものである。
上記のように、第２の被膜４は、９９ｗｔ％以上の含有率でＡｕを含む材料で構成されたものであるが、第２の被膜４中におけるＡｕの含有率は、９９．７ｗｔ％以上であるのが好ましく、９９．９ｗｔ％以上であるのがより好ましい。これにより、第１の被膜３と第３の被膜５との密着性（第２の被膜４を介しての密着性）を特に優れたものとすることができ、その結果、装飾品１の耐久性をさらに優れたものとすることができる。
第２の被膜４の平均厚さは、特に限定されないが、０．０１〜０．３μｍであるのが好ましく、０．０２〜０．２０μｍであるのがより好ましく、０．０３〜０．１０μｍであるのがさらに好ましい。第２の被膜４の平均厚さが前記下限値未満であると、第２の被膜４にピンホールが発生し易くなり、本発明の効果が十分に発揮されない可能性がある。一方、第２の被膜４の平均厚さが前記上限値を超えると、第３の被膜５の平均厚さ等によっては、第２の被膜４が装飾品１の外観に悪影響を与え、装飾品１全体としての美的外観を十分に優れたものとすることが困難になる可能性がある。また、第２の被膜４の平均厚さが前記上限値を超えると、第２の被膜４の内部応力が高くなり、第１の被膜３と第３の被膜５との密着性（第２の被膜４を介しての密着性）が低下したり、クラックが発生し易くなる。また、第２の被膜４の平均厚さが前記上限値を超えると、装飾品１としての硬度が低下する傾向を示す。
なお、第２の被膜４の各部位における組成は、一定であっても、一定でなくてもよい。例えば、第２の被膜４は、その厚さ方向に沿って、組成が順次変化するもの（傾斜材料）であってもよい。
また、第２の被膜４は、例えば、組成の異なる複数の層の積層体であってもよい。
また、第２の被膜４は、図示の構成では第１の被膜３の全面に形成されているが、第１の被膜３の表面の少なくとも一部に形成されるものであればよい。
また、第２の被膜４は、例えば、組成の異なる複数の層の積層体であってもよい。
また、第２の被膜４は、図示の構成では第１の被膜３の全面に形成されているが、第１の被膜３の表面の少なくとも一部に形成されるものであればよい。
［第３の被膜］
第２の被膜４の表面（第１の被膜３に対向する面とは反対側の面）には、第３の被膜５が設けられている。
第３の被膜５は、Ａｕを主成分とし、６．０〜１０．０ｗｔ％のＰｄ、および、１２．０〜１６．０ｗｔ％のＡｇを含むＡｕ−Ｐｄ−Ａｇ系合金で構成されたものである。第３の被膜５がこのような組成を有するものであることにより、装飾品１は、淡い金色の、外観に優れたものとなるとともに、十分な耐食性を有するものとなる。また、第３の被膜５が上記のようなＡｕ−Ｐｄ−Ａｇ系合金で構成されたものであると、第２の被膜４と第３の被膜５との密着性を特に優れたものとすることができる。その結果、装飾品１を、優れた美的外観を有するとともに耐久性に優れたもの、すなわち、長期間にわたって安定的に優れた外観を呈するものとすることができる。
第２の被膜４の表面（第１の被膜３に対向する面とは反対側の面）には、第３の被膜５が設けられている。
第３の被膜５は、Ａｕを主成分とし、６．０〜１０．０ｗｔ％のＰｄ、および、１２．０〜１６．０ｗｔ％のＡｇを含むＡｕ−Ｐｄ−Ａｇ系合金で構成されたものである。第３の被膜５がこのような組成を有するものであることにより、装飾品１は、淡い金色の、外観に優れたものとなるとともに、十分な耐食性を有するものとなる。また、第３の被膜５が上記のようなＡｕ−Ｐｄ−Ａｇ系合金で構成されたものであると、第２の被膜４と第３の被膜５との密着性を特に優れたものとすることができる。その結果、装飾品１を、優れた美的外観を有するとともに耐久性に優れたもの、すなわち、長期間にわたって安定的に優れた外観を呈するものとすることができる。
また、Ａｕ、ＰｄおよびＡｇは、アレルギー反応を極めて起こし難い材料である。したがって、本発明は、皮膚に接触して用いられる装飾品（例えば、時計等）に好適に適用することができる。
一方、Ａｕ−Ｐｄ−Ａｇ系合金において、各元素の含有量（含有率）が前記範囲外の値であると、十分な耐久性を有する、淡い金色の美的外観に優れた装飾品１を得るのが困難となる。
一方、Ａｕ−Ｐｄ−Ａｇ系合金において、各元素の含有量（含有率）が前記範囲外の値であると、十分な耐久性を有する、淡い金色の美的外観に優れた装飾品１を得るのが困難となる。
上述したように、Ｐｄの含有量（含有率）は、６．０〜１０．０ｗｔ％とされる。Ｐｄの含有量が前記下限値未満であると、十分な硬度が得られず、耐食性にも劣ったものとなる。また、Ｐｄの含有量が前記下限値未満であると、装飾品１の色調は、黄色味の強いものとなり、十分に優れた美的外観が得られない。一方、Ｐｄの含有量が前記上限値を超えると、第３の被膜５の内部応力が増加し、クラックが発生し易くなる。また、Ｐｄの含有量が前記上限値を超えると、装飾品１の色調は、白味の強いものとなり、十分に優れた美的外観が得られない。
また、上述したように、Ａｇの含有量（含有率）は、１２．０〜１６．０ｗｔ％とされる。Ａｇの含有量が前記下限値未満であると、第３の被膜５が脆くなる。また、Ａｇの含有量が前記下限値未満であると、装飾品１の色調は、黄色味の強いものとなり、十分に優れた美的外観が得られない。一方、Ａｇの含有量が前記上限値を超えると、十分な耐食性が得られない。また、Ａｇの含有量が前記上限値を超えると、装飾品１の色調は、白味の強いものとなり、十分に優れた美的外観が得られない。
また、上述したように、第３の被膜５を構成するＡｕ−Ｐｄ−Ａｇ系合金は、Ａｕを主成分とするものである。第３の被膜５におけるＡｕの含有量は、特に限定されないが、７６．０〜８０．０ｗｔ％であるのが好ましく、７６．５〜７９．５ｗｔ％であるのがより好ましく、７７．０〜７９．０ｗｔ％であるのがさらに好ましい。
また、上述したように、Ｐｄの含有量は、６．０〜１０．０ｗｔ％であるが、６．３〜８．５ｗｔ％であるのが好ましく、６．６〜８．１ｗｔ％であるのがより好ましい。Ｐｄの含有量が前記範囲内の値であると、装飾品１の美的外観および耐久性を特に優れたものとすることができる。
また、上述したように、Ａｇの含有量は、１２．０〜１６．０ｗｔ％であるが、１３．０〜１５．８ｗｔ％であるのが好ましく、１３．５〜１５．５ｗｔ％であるのがより好ましい。Ａｇの含有量が前記範囲内の値であると、装飾品１の美的外観および耐久性を特に優れたものとすることができる。
また、上述したように、Ｐｄの含有量は、６．０〜１０．０ｗｔ％であるが、６．３〜８．５ｗｔ％であるのが好ましく、６．６〜８．１ｗｔ％であるのがより好ましい。Ｐｄの含有量が前記範囲内の値であると、装飾品１の美的外観および耐久性を特に優れたものとすることができる。
また、上述したように、Ａｇの含有量は、１２．０〜１６．０ｗｔ％であるが、１３．０〜１５．８ｗｔ％であるのが好ましく、１３．５〜１５．５ｗｔ％であるのがより好ましい。Ａｇの含有量が前記範囲内の値であると、装飾品１の美的外観および耐久性を特に優れたものとすることができる。
なお、第３の被膜５を構成するＡｕ−Ｐｄ−Ａｇ系合金は、Ａｕ、Ｐｄ、および、Ａｇ（以下、「必須元素」ともいう。）以外の元素を含むものであってもよい。このような元素（必須元素以外の元素）としては、例えば、Ｍｇ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ｎｂ、Ｗ、Ａｌ、Ａｕ、Ｆｅ、Ｖ、Ｚｒ、Ｓｎ等が挙げられ、これらのうち１種または２種以上を組み合わせて含有することもできる。第３の被膜５が必須元素以外の元素を含むものである場合、前述した元素の中でも特にＳｎが好ましい。また、このように、第３の被膜５を構成する合金が必須元素以外の元素を含むものである場合、その含有量（２種以上の元素を含む場合はその総量）は、１．５ｗｔ％以下であるのが好ましく、１．０ｗｔ％以下であるのがより好ましい。このように、必須元素の含有率が十分に高いものであると、上述したような効果がより確実に発揮される。
また、第３の被膜５は、Ｎｉを実質的に含まないものであるのが好ましい。第３の被膜５が実質的にＮｉを実質的に含まないものであることにより、装飾品１は、アレルギー反応を極めて起こしにくいものとなる。その結果、例えば、装飾品１を、時計用外装部品（例えば、時計ケース（胴、裏蓋、胴と裏蓋とが一体化されたワンピースケース等）、時計バンド（バンド中留、バンド・バングル着脱機構等を含む）、ベゼル（例えば、回転ベゼル等）、りゅうず（例えば、ネジロック式りゅうず等）、ボタン等）等の皮膚に接触して用いられるもの（特に、長時間にわたって、皮膚に接触して用いるもの）に好適に適用することができる。第３の被膜５中におけるＮｉの含有率は、１００ｐｐｍ以下であるのが好ましく、５０ｐｐｍ以下であるのがより好ましい。これにより、上記のような効果がより確実に発揮される。⇒実質的には含まないと記載されていますが、含有率を規定しているのはどうしてでしょうか？実際には全く含まれないので０ｐｐｍでも構いません。
上記のような第３の被膜５の平均厚さは、特に限定されないが、０．０２〜２．０μｍであるのが好ましく、０．０３〜０．８μｍであるのがより好ましく、０．０５〜０．２０μｍであるのがさらに好ましい。第３の被膜５の平均厚さが前記下限値未満であると、第３の被膜５にピンホールが発生し易くなり、本発明の効果が十分に発揮されない可能性がある。一方、第３の被膜５の平均厚さが前記上限値を超えると、第３の被膜５の内部応力が高くなり、第２の被膜４と第３の被膜５との密着性が低下したり、クラックが発生し易くなる。また、第３の被膜５の平均厚さが前記上限値を超えると、装飾品１としての硬度が低下する傾向を示す。
また、上記のような第３の被膜５を有することにより、装飾品１は、表面の滑り性に優れたものとなる。これにより、表面のザラツキ感を軽減、防止することができ、装飾品１が皮膚等に接触したときの違和感、不快感を軽減、防止することができる。
なお、第３の被膜５の各部位における組成は、一定であっても、一定でなくてもよい。例えば、第３の被膜５は、その厚さ方向に沿って、組成が順次変化するもの（傾斜材料）であってもよい。
また、第３の被膜５は、例えば、組成の異なる複数の層の積層体であってもよい。
また、第３の被膜５は、図示の構成では第２の被膜４の全面に形成されているが、第２の被膜４の表面の少なくとも一部に形成されるものであればよい。
なお、第３の被膜５の各部位における組成は、一定であっても、一定でなくてもよい。例えば、第３の被膜５は、その厚さ方向に沿って、組成が順次変化するもの（傾斜材料）であってもよい。
また、第３の被膜５は、例えば、組成の異なる複数の層の積層体であってもよい。
また、第３の被膜５は、図示の構成では第２の被膜４の全面に形成されているが、第２の被膜４の表面の少なくとも一部に形成されるものであればよい。
［装飾品］
以上説明したような装飾品１は、装飾性を備えた物品であればいかなるものでもよいが、例えば、置物等のインテリア、エクステリア用品、宝飾品、時計ケース（胴、裏蓋、胴と裏蓋とが一体化されたワンピースケース等）、時計バンド（バンド中留、バンド・バングル着脱機構等を含む）、文字盤、時計用針、ベゼル（例えば、回転ベゼル等）、りゅうず（例えば、ネジロック式りゅうず等）、ボタン、カバーガラス、ガラス縁、ダイヤルリング、見切板、パッキン等の時計用外装部品、ムーブメントの地板、歯車、輪列受け、回転錘等の時計用内装部品、メガネ（例えば、メガネフレーム）、ネクタイピン、カフスボタン、指輪、ネックレス、ブレスレット、アンクレット、ブローチ、ペンダント、イヤリング、ピアス等の装身具、ライターまたはそのケース、自動車のホイール、ゴルフクラブ等のスポーツ用品、銘板、パネル、賞杯、その他ハウジング等を含む各種機器部品、各種容器等に適用することができる。この中でも特に、時計用外装部品がより好ましい。時計用外装部品は、装飾品として外観の美しさが要求されるとともに、実用品として、耐久性、耐食性、耐擦傷性、耐摩耗性や、優れた触感等が要求されるが、本発明によればこれらの要件を全て満足することができる。なお、本明細書中での「時計用外装部品」とは、外部から視認可能なものであればいかなるものであってもよく、時計の外部に露出しているものに限らず、時計の内部に内蔵されたものも含む。
以上説明したような装飾品１は、装飾性を備えた物品であればいかなるものでもよいが、例えば、置物等のインテリア、エクステリア用品、宝飾品、時計ケース（胴、裏蓋、胴と裏蓋とが一体化されたワンピースケース等）、時計バンド（バンド中留、バンド・バングル着脱機構等を含む）、文字盤、時計用針、ベゼル（例えば、回転ベゼル等）、りゅうず（例えば、ネジロック式りゅうず等）、ボタン、カバーガラス、ガラス縁、ダイヤルリング、見切板、パッキン等の時計用外装部品、ムーブメントの地板、歯車、輪列受け、回転錘等の時計用内装部品、メガネ（例えば、メガネフレーム）、ネクタイピン、カフスボタン、指輪、ネックレス、ブレスレット、アンクレット、ブローチ、ペンダント、イヤリング、ピアス等の装身具、ライターまたはそのケース、自動車のホイール、ゴルフクラブ等のスポーツ用品、銘板、パネル、賞杯、その他ハウジング等を含む各種機器部品、各種容器等に適用することができる。この中でも特に、時計用外装部品がより好ましい。時計用外装部品は、装飾品として外観の美しさが要求されるとともに、実用品として、耐久性、耐食性、耐擦傷性、耐摩耗性や、優れた触感等が要求されるが、本発明によればこれらの要件を全て満足することができる。なお、本明細書中での「時計用外装部品」とは、外部から視認可能なものであればいかなるものであってもよく、時計の外部に露出しているものに限らず、時計の内部に内蔵されたものも含む。
また、装飾品１は、第３の被膜５が設けられた側の面において、１０ｇｆの荷重で測定されるビッカース硬度Ｈｖが５００〜１０００であるのが好ましく、５５０〜８００であるのがより好ましい。これにより、より長期間にわたって、装飾品としての優れた美的外観を保持することができる。
また、装飾品１の第３の被膜５が設けられている側の面の色調は、例えば、ＪＩＳ Ｚ ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図において、ａ＊が０．５〜２．８でありかつｂ＊が１２．０〜１６．８の範囲のものであるのが好ましく、ａ＊が０．６〜１．４でありかつｂ＊が１２．２〜１４．２の範囲のものであるのがより好ましく、ａ＊が０．７〜１．２でありかつｂ＊が１２．４〜１３．８の範囲のものであるのがさらに好ましい。これにより、装飾品１の美的外観は、特に優れたものとなる。
また、装飾品１の第３の被膜５が設けられている側の面の色調は、例えば、ＪＩＳ Ｚ ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図において、Ｌ＊が８３．６〜８８．０であるのが好ましく、Ｌ＊が８３．７〜８６．８であるのがより好ましく、Ｌ＊が８４．０〜８５．７であるのがさらに好ましい。これにより、装飾品１の美的外観は、特に優れたものとなる。
また、装飾品１の第３の被膜５が設けられている側の面の色調は、例えば、ＪＩＳ Ｚ ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図において、ａ＊が０．５〜２．８でありかつｂ＊が１２．０〜１６．８の範囲のものであるのが好ましく、ａ＊が０．６〜１．４でありかつｂ＊が１２．２〜１４．２の範囲のものであるのがより好ましく、ａ＊が０．７〜１．２でありかつｂ＊が１２．４〜１３．８の範囲のものであるのがさらに好ましい。これにより、装飾品１の美的外観は、特に優れたものとなる。
また、装飾品１の第３の被膜５が設けられている側の面の色調は、例えば、ＪＩＳ Ｚ ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図において、Ｌ＊が８３．６〜８８．０であるのが好ましく、Ｌ＊が８３．７〜８６．８であるのがより好ましく、Ｌ＊が８４．０〜８５．７であるのがさらに好ましい。これにより、装飾品１の美的外観は、特に優れたものとなる。
次に、上述した装飾品１の製造方法について説明する。
図２は、図１に示す装飾品の製造方法の好適な実施形態を示す断面図である。
図２に示すように、本実施形態の装飾品の製造方法は、基材２の表面の少なくとも一部（２ａ）に、第１の被膜３を形成する第１の被膜形成工程（２ｂ）と、第１の被膜３の表面の少なくとも一部に、第２の被膜４を形成する第２の被膜形成工程（２ｃ）と第２の被膜４の表面の少なくとも一部に、第３の被膜５を形成する第３の被膜形成工程（２ｄ）とを有する。
図２は、図１に示す装飾品の製造方法の好適な実施形態を示す断面図である。
図２に示すように、本実施形態の装飾品の製造方法は、基材２の表面の少なくとも一部（２ａ）に、第１の被膜３を形成する第１の被膜形成工程（２ｂ）と、第１の被膜３の表面の少なくとも一部に、第２の被膜４を形成する第２の被膜形成工程（２ｃ）と第２の被膜４の表面の少なくとも一部に、第３の被膜５を形成する第３の被膜形成工程（２ｄ）とを有する。
［基材］
基材２としては、前述したようなものを用いることができる。
基材２の製造方法は、特に限定されない。
基材２が金属材料で構成される場合、その製造方法としては、例えば、プレス加工、切削加工、鍛造加工、鋳造加工、粉末冶金焼結、金属粉末射出成形（ＭＩＭ）、ロストワックス法等が挙げられるが、この中でも特に、鋳造加工または金属粉末射出成形（ＭＩＭ）が好ましい。鋳造加工、金属粉末射出成形（ＭＩＭ）は、特に、加工性に優れている。このため、これらの方法を用いた場合、複雑な形状の基材２を比較的容易に得ることができる。
基材２としては、前述したようなものを用いることができる。
基材２の製造方法は、特に限定されない。
基材２が金属材料で構成される場合、その製造方法としては、例えば、プレス加工、切削加工、鍛造加工、鋳造加工、粉末冶金焼結、金属粉末射出成形（ＭＩＭ）、ロストワックス法等が挙げられるが、この中でも特に、鋳造加工または金属粉末射出成形（ＭＩＭ）が好ましい。鋳造加工、金属粉末射出成形（ＭＩＭ）は、特に、加工性に優れている。このため、これらの方法を用いた場合、複雑な形状の基材２を比較的容易に得ることができる。
金属粉末射出成形（ＭＩＭ）は、通常、以下のようにして行われる。
まず、金属粉と有機バインダーとを含む材料を混合、混練して混練物を得る。
次に、この混練物を射出成形することにより成形体を形成する。
その後、この成形体に対して、脱脂処理（脱バインダー処理）を施し、脱脂体を得る。この脱脂処理は、通常、減圧条件下で、加熱することにより行われる。
さらに、得られた脱脂体を焼結することにより、焼結体を得る。この焼結処理は、通常、前記脱脂処理より高温で加熱することにより行われる。
本発明では、以上のようにして得られる焼結体を基材として用いることができる。
まず、金属粉と有機バインダーとを含む材料を混合、混練して混練物を得る。
次に、この混練物を射出成形することにより成形体を形成する。
その後、この成形体に対して、脱脂処理（脱バインダー処理）を施し、脱脂体を得る。この脱脂処理は、通常、減圧条件下で、加熱することにより行われる。
さらに、得られた脱脂体を焼結することにより、焼結体を得る。この焼結処理は、通常、前記脱脂処理より高温で加熱することにより行われる。
本発明では、以上のようにして得られる焼結体を基材として用いることができる。
また、基材２が前記のようなプラスチックで構成される場合、その製造方法としては、例えば、圧縮成形、押出成形、射出成形、光造形等が挙げられる。
また、基材２が前記のようなセラミックスで構成される場合、その製造方法は、特に限定されないが、金属粉末射出成形（ＭＩＭ）であるのが好ましい。金属粉末射出成形（ＭＩＭ）は、特に、加工性に優れているため、複雑な形状の基材２を比較的容易に得ることができる。
また、基材２が前記のようなセラミックスで構成される場合、その製造方法は、特に限定されないが、金属粉末射出成形（ＭＩＭ）であるのが好ましい。金属粉末射出成形（ＭＩＭ）は、特に、加工性に優れているため、複雑な形状の基材２を比較的容易に得ることができる。
また、基材２が前述したような基部と表面層とを有するものである場合、基材２は、以下のようにして製造することができる。すなわち、前述したような方法により製造した基部上に、表面層を形成することにより基材２を得ることができる。表面層の形成方法としては、例えば、ディッピング、刷毛塗り、噴霧塗装、静電塗装、電着塗装等の塗装、電解めっき、浸漬めっき、無電解めっき等の湿式めっき法、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、レーザーＣＶＤ等の化学蒸着法（ＣＶＤ）、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の乾式めっき法、溶射等が挙げられる。
また、基材２は、例えば、鏡面加工、スジ目加工、梨地加工等の表面加工が施されていてもよい。これにより、得られる装飾品１の表面の光沢具合にバリエーションを持たせることが可能となり、得られる装飾品１の装飾性をさらに向上させることができる。また、このような表面加工が施された基材２を用いて製造される装飾品１は、第１の被膜３、第２の被膜４、第３の被膜５に対して前記表面加工を直接施すことにより得られるものに比べて、ギラツキ等が抑制されたものとなり、特に美的外観に優れたものとなる。また、前述したように、第１の被膜３は硬質材料であるＴｉＮで構成されているため、第１の被膜３に対して表面加工を直接施す場合には、当該表面加工を施す際に第１の被膜３にカケ等の欠陥を生じ易く、装飾品１の製造の歩留りが著しく低下する場合があるが、基材２に対して表面処理を行うことにより、このような問題の発生も効果的に防止することができる。また、基材２に対する表面処理は、第１の被膜３に対する表面加工に比べて、温和な条件で容易に行うことができる。また、第２の被膜４、第３の被膜５は、通常、その厚さが比較的薄いものであるため、第２の被膜４の形成後、第３の被膜５の形成後に上記のような表面加工を施した場合、対応する部位における第２の被膜の膜厚、第３の被膜の膜厚が極端に薄くなったり、第１の被膜が露出してしまう可能性がある。このような場合、装飾品１の美的外観を著しく損なうことになる。
また、基材２と第１の被膜３との密着性の向上等を目的として、後述する第１の被膜３の形成に先立ち、基材２に対して、前処理を施してもよい。前処理としては、例えば、ブラスト処理、アルカリ洗浄、酸洗浄、水洗、有機溶剤洗浄、ボンバード処理等の清浄化処理、エッチング処理等が挙げられる。この中でも、清浄化処理を施すことにより、基材２と第１の被膜３との密着性を特に優れたものとすることができる。
［第１の被膜形成工程］
基材２の表面に、主としてＴｉＮで構成された第１の被膜３を形成する（２ｂ）。
第１の被膜３の形成方法は、特に限定されず、例えば、スピンコート、ディッピング、刷毛塗り、噴霧塗装、静電塗装、電着塗装等の塗装、電解めっき、浸漬めっき、無電解めっき等の湿式めっき法や、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、レーザーＣＶＤ等の化学蒸着法（ＣＶＤ）、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の乾式めっき法（気相成膜法）、溶射等が挙げられるが、乾式めっき法（気相成膜法）が好ましい。第１の被膜３の形成方法として乾式めっき法を適用することにより、均一な膜厚を有し、均質で、かつ、基材２との密着性が特に優れた第１の被膜３を確実に形成することができる。その結果、最終的に得られる装飾品１の審美的外観、耐久性を特に優れたものとすることができる。また、第１の被膜３の形成方法として乾式めっき法を適用することにより、形成すべき第１の被膜３が比較的薄いものであっても、膜厚のばらつきを十分に小さいものとすることができる。このため、装飾品１の信頼性を向上させる上でも有利である。また、第１の被膜３の形成方法として乾式めっき法を適用することにより、第１の被膜３中におけるＮの含有率（さらにはＣの含有率）をより確実に制御することができる。
基材２の表面に、主としてＴｉＮで構成された第１の被膜３を形成する（２ｂ）。
第１の被膜３の形成方法は、特に限定されず、例えば、スピンコート、ディッピング、刷毛塗り、噴霧塗装、静電塗装、電着塗装等の塗装、電解めっき、浸漬めっき、無電解めっき等の湿式めっき法や、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、レーザーＣＶＤ等の化学蒸着法（ＣＶＤ）、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の乾式めっき法（気相成膜法）、溶射等が挙げられるが、乾式めっき法（気相成膜法）が好ましい。第１の被膜３の形成方法として乾式めっき法を適用することにより、均一な膜厚を有し、均質で、かつ、基材２との密着性が特に優れた第１の被膜３を確実に形成することができる。その結果、最終的に得られる装飾品１の審美的外観、耐久性を特に優れたものとすることができる。また、第１の被膜３の形成方法として乾式めっき法を適用することにより、形成すべき第１の被膜３が比較的薄いものであっても、膜厚のばらつきを十分に小さいものとすることができる。このため、装飾品１の信頼性を向上させる上でも有利である。また、第１の被膜３の形成方法として乾式めっき法を適用することにより、第１の被膜３中におけるＮの含有率（さらにはＣの含有率）をより確実に制御することができる。
また、上記のような乾式めっき法の中でも、イオンプレーティングが特に好ましい。第１の被膜３の形成方法としてイオンプレーティングを適用することにより、上記のような効果はより顕著なものとなる。すなわち、第１の被膜３の形成方法としてイオンプレーティングを適用することにより、均一な膜厚を有し、均質で、かつ、基材２との密着性が特に優れた第１の被膜３をより確実に形成することができる。その結果、最終的に得られる装飾品１の審美的外観、耐久性をさらに優れたものとすることができる。また、第１の被膜３の形成方法としてイオンプレーティングを適用することにより、形成すべき第１の被膜３が比較的薄いものであっても、膜厚のばらつきを特に小さいものとすることができる。また、第１の被膜３の形成方法としてイオンプレーティングを適用することにより、第１の被膜３中におけるＮの含有率（さらにはＣの含有率）をより確実に制御することができる。
なお、上記のような乾式めっき法を適用する場合、例えば、Ｔｉをターゲットとして用い、Ｎ（窒素）を含む雰囲気中で処理を行うことにより、第１の被膜３を容易かつ確実に形成することができる。このような雰囲気ガスとしては、例えば、窒素ガス（Ｎ２ガス）等を用いることができる。そして、雰囲気ガスの圧力等を適宜調整することにより、形成される第１の被膜３の組成（Ｎの含有率）等を調節することができる。
なお、雰囲気ガス中には、例えば、アルゴンガス等の不活性ガスが含まれていてもよい。これにより、第１の被膜３中におけるＮの含有率を、容易かつ確実に比較的低く制御することができる。また、雰囲気ガス中に、Ｃ（炭素）を含むガス成分（例えば、アセチレン等の炭化水素ガス等）を含ませることにより、好適に、形成される第１の被膜３中に所定量のＣ（炭素）を含有させることができる（ＴｉＣＮで構成された第１の被膜３を形成することができる）。また、雰囲気ガス中には、例えば、Ｏ（酸素）を含むガス成分（例えば、酸素ガス（Ｏ２）等）等が含まれていてもよい。これにより、酸素を含む組成（例えば、ＴｉＮＯ、ＴｉＣＮＯ等）の第１の被膜３を容易かつ確実に形成することができる。
［第２の被膜形成工程］
次に、上記のようにして形成された第１の被膜３の表面に、９９ｗｔ％以上の含有率でＡｕを含む第２の被膜４を形成する（２ｃ）。
第２の被膜４の形成方法は、特に限定されず、例えば、スピンコート、ディッピング、刷毛塗り、噴霧塗装、静電塗装、電着塗装等の塗装、電解めっき、浸漬めっき、無電解めっき等の湿式めっき法や、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、レーザーＣＶＤ等の化学蒸着法（ＣＶＤ）、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の乾式めっき法（気相成膜法）、溶射等が挙げられるが、乾式めっき法（気相成膜法）が好ましい。第２の被膜４の形成方法として乾式めっき法を適用することにより、均一な膜厚を有し、均質で、かつ、第１の被膜３との密着性が特に優れた第２の被膜４を確実に形成することができる。その結果、最終的に得られる装飾品１の審美的外観、耐久性を特に優れたものとすることができる。また、第２の被膜４の形成方法として乾式めっき法を適用することにより、形成すべき第２の被膜４が比較的薄いものであっても、膜厚のばらつきを十分に小さいものとすることができる。このため、装飾品１の信頼性を向上させる上でも有利である。
次に、上記のようにして形成された第１の被膜３の表面に、９９ｗｔ％以上の含有率でＡｕを含む第２の被膜４を形成する（２ｃ）。
第２の被膜４の形成方法は、特に限定されず、例えば、スピンコート、ディッピング、刷毛塗り、噴霧塗装、静電塗装、電着塗装等の塗装、電解めっき、浸漬めっき、無電解めっき等の湿式めっき法や、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、レーザーＣＶＤ等の化学蒸着法（ＣＶＤ）、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の乾式めっき法（気相成膜法）、溶射等が挙げられるが、乾式めっき法（気相成膜法）が好ましい。第２の被膜４の形成方法として乾式めっき法を適用することにより、均一な膜厚を有し、均質で、かつ、第１の被膜３との密着性が特に優れた第２の被膜４を確実に形成することができる。その結果、最終的に得られる装飾品１の審美的外観、耐久性を特に優れたものとすることができる。また、第２の被膜４の形成方法として乾式めっき法を適用することにより、形成すべき第２の被膜４が比較的薄いものであっても、膜厚のばらつきを十分に小さいものとすることができる。このため、装飾品１の信頼性を向上させる上でも有利である。
また、上記のような乾式めっき法の中でも、真空蒸着（特に、電子ビームまたは抵抗加熱による真空蒸着）またはスパッタリングが特に好ましい。第２の被膜４の形成方法として真空蒸着またはスパッタリングを適用することにより、上記のような効果はより顕著なものとなる。
なお、上記のような乾式めっき法を適用する場合、例えば、Ａｕをターゲットとして用い、アルゴンガス等の不活性ガス中で処理を行うことにより、第２の被膜４を容易かつ確実に形成することができる。
なお、上記のような乾式めっき法を適用する場合、例えば、Ａｕをターゲットとして用い、アルゴンガス等の不活性ガス中で処理を行うことにより、第２の被膜４を容易かつ確実に形成することができる。
［第３の被膜形成工程］
次に、上記のようにして形成された第２の被膜４の表面に、Ａｕ−Ｐｄ−Ａｇ系合金で構成された第３の被膜５を形成する（２ｄ）。
第３の被膜５の形成は、乾式めっき法（気相成膜法）により行うものである。
乾式めっき法を用いることにより、第２の被膜４との密着性に優れた第３の被膜５を形成することができる。その結果、得られる装飾品１は、特に優れた耐食性、耐久性を有するものとなる。また、乾式めっき法を用いることにより、高密度の第３の被膜５を形成することが可能となる。これにより、第３の被膜５は、光沢度が大きく、特に美的外観に優れたものとなる。
次に、上記のようにして形成された第２の被膜４の表面に、Ａｕ−Ｐｄ−Ａｇ系合金で構成された第３の被膜５を形成する（２ｄ）。
第３の被膜５の形成は、乾式めっき法（気相成膜法）により行うものである。
乾式めっき法を用いることにより、第２の被膜４との密着性に優れた第３の被膜５を形成することができる。その結果、得られる装飾品１は、特に優れた耐食性、耐久性を有するものとなる。また、乾式めっき法を用いることにより、高密度の第３の被膜５を形成することが可能となる。これにより、第３の被膜５は、光沢度が大きく、特に美的外観に優れたものとなる。
また、乾式めっき法を用いることにより、形成される第３の被膜５の組成を、容易かつ確実に、成膜に用いる材料（ターゲット）の組成と同一のものとすることができる。これは、上述したようなＡｕ−Ｐｄ−Ａｇ系合金が極めて安定性の高い合金であるため、成膜に用いる材料（ターゲット）を構成する成分（元素）のうち特定の成分が他の成分に優先して気相粒子となってしまうのを防止されるためであると考えられる。なお、形成すべき第３の被膜の組成が、上述したような条件を満足しないものであると、成膜に用いる材料（ターゲット）の組成と、形成される第３の被膜の組成とを同一にするのが困難となり、成膜に用いる材料の組成の設定、成膜条件の設定が煩雑となり、また、形成される膜は信頼性（組成の均一性等）の低いものとなる。また、形成すべき第３の被膜の組成が、上述したような条件を満足せず、安定した合金を形成することが困難なものであっても、例えば、組成の異なる複数個のターゲットを用いて乾式めっきにより第３の被膜を形成することも考えられるが、このような場合においても、第３の被膜の、各部位での不本意な組成のばらつきや、個体間での不本意な組成のばらつきの発生を確実に防止するのは困難であり、製造される装飾品の信頼性は低いものとなる。
また、乾式めっき法を用いることにより、第３の被膜５の厚さが比較的薄い場合であっても、均一な膜厚で形成することができる。
また、乾式めっき法を用いることにより、第３の被膜５が必須元素以外の元素を含む複雑な組成のものであっても、第３の被膜５を容易かつ確実に形成することができる。
乾式めっき法としては、例えば、真空蒸着、スパッタリング、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、レーザーＣＶＤ等の化学蒸着法（ＣＶＤ）、イオンプレーティング、イオン注入等が挙げられるが、この中でも特に、スパッタリングが好ましい。乾式めっき法としてスパッタリングを用いることにより、特に優れた美的外観の装飾品１を得ることができる。また、乾式めっき法としてスパッタリングを用いることにより、ターゲットとして用いるＡｕ−Ｐｄ−Ａｇ系合金を構成する成分（元素）のうち特定の成分が他の成分に優先して気相粒子となってしまうことが、より確実に防止され、長期間にわたって安定した組成の第３の被膜５を形成することができる。その結果、第３の被膜５を、各部位での不本意な組成のばらつきや、個体間での不本意な組成のばらつきの発生が防止されたものとし、装飾品１の信頼性を特に高いものとすることができる。
また、乾式めっき法を用いることにより、第３の被膜５が必須元素以外の元素を含む複雑な組成のものであっても、第３の被膜５を容易かつ確実に形成することができる。
乾式めっき法としては、例えば、真空蒸着、スパッタリング、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、レーザーＣＶＤ等の化学蒸着法（ＣＶＤ）、イオンプレーティング、イオン注入等が挙げられるが、この中でも特に、スパッタリングが好ましい。乾式めっき法としてスパッタリングを用いることにより、特に優れた美的外観の装飾品１を得ることができる。また、乾式めっき法としてスパッタリングを用いることにより、ターゲットとして用いるＡｕ−Ｐｄ−Ａｇ系合金を構成する成分（元素）のうち特定の成分が他の成分に優先して気相粒子となってしまうことが、より確実に防止され、長期間にわたって安定した組成の第３の被膜５を形成することができる。その結果、第３の被膜５を、各部位での不本意な組成のばらつきや、個体間での不本意な組成のばらつきの発生が防止されたものとし、装飾品１の信頼性を特に高いものとすることができる。
また、上述した第１の被膜形成工程、第２の被膜形成工程を乾式めっき法により行う場合、例えば、ターゲットの種類、気相成膜装置内（チャンバー内）の雰囲気ガスの組成等を変更することにより、同一装置内で、第１の被膜形成工程と第２の被膜形成工程と第３の被膜形成工程とを、（基材２を装置内から取り出すことなく）引き続いて行うことができる。これにより、基材２、第１の被膜３、第２の被膜４、第３の被膜５の密着性が特に優れたものとなるとともに、装飾品１の生産性も向上する。
次に、本発明の装飾品の第２実施形態、およびその製造方法の好適な実施形態について説明する。
図３は、本発明の装飾品の第２実施形態を示す断面図、図４は、図３に示す装飾品の製造方法の好適な実施形態を示す断面図である。
以下、第２実施形態の装飾品およびその製造方法について、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項の説明については、その説明を省略する。
図３は、本発明の装飾品の第２実施形態を示す断面図、図４は、図３に示す装飾品の製造方法の好適な実施形態を示す断面図である。
以下、第２実施形態の装飾品およびその製造方法について、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項の説明については、その説明を省略する。
図３に示すように、本実施形態の装飾品１は、基材２と、基材２の表面に設けられた下地層６と、下地層６の表面に設けられた第１の被膜３と、第１の被膜３の表面に設けられた第２の被膜４と、第２の被膜４の表面に設けられた第３の被膜５とを有している。すなわち、装飾品１は、基材２と第１の被膜３との間に下地層６を有している以外は、前述した第１実施形態の装飾品と同様である。したがって、以下、下地層６について説明する。
［下地層］
下地層６は、例えば、基材２と第１の被膜３との密着性を向上させる機能（密着性向上層としての機能）や、基材２の傷をレベリング（ならし）により補修する機能（レベリング層としての機能）、得られる装飾品において、外部からの衝撃を緩和する機能（クッション層としての機能）等、いかなる機能を有するものであってもよい。
下地層６は、例えば、基材２と第１の被膜３との密着性を向上させる機能（密着性向上層としての機能）や、基材２の傷をレベリング（ならし）により補修する機能（レベリング層としての機能）、得られる装飾品において、外部からの衝撃を緩和する機能（クッション層としての機能）等、いかなる機能を有するものであってもよい。
下地層６の構成材料としては、例えば、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ａｌやこれらのうち少なくとも１種を含む合金等の金属材料等が挙げられるが、中でも、Ｔｉが好ましい。下地層６が主としてＴｉで構成されたものであると、例えば、基材２と第１の被膜３との密着性をさらに向上させることができ、装飾品１の信頼性、耐久性を特に優れたものとすることができる。また、下地層６が主としてＴｉで構成されたものであると、基材２の表面の凹凸を緩和するレベリング層としての機能がより顕著に発揮される。また、下地層６が主としてＴｉで構成されたものであると、得られる装飾品１において、下地層６が外部からの衝撃を緩和するクッション層としてより効果的に機能し、その結果、装飾品１は、打痕等の凹みが特に生じ難いものとなる。
下地層６の平均厚さは、特に限定されないが、０．０３〜１．５μｍであるのが好ましく、０．１〜０．５μｍであるのがより好ましい。下地層６の平均厚さが前記範囲内の値であると、下地層６の内部応力が大きくなり、クラック等が発生するのを十分に防止しつつ、上記のような下地層６の機能をより効果的に発揮することができる。
下地層６の平均厚さは、特に限定されないが、０．０３〜１．５μｍであるのが好ましく、０．１〜０．５μｍであるのがより好ましい。下地層６の平均厚さが前記範囲内の値であると、下地層６の内部応力が大きくなり、クラック等が発生するのを十分に防止しつつ、上記のような下地層６の機能をより効果的に発揮することができる。
次に、上述した装飾品１の製造方法について説明する。
図４は、図３に示す装飾品の製造方法の好適な実施形態を示す断面図である。
図４に示すように、本実施形態の装飾品の製造方法は、基材２の表面の少なくとも一部（４ａ）に、下地層６を形成する下地層形成工程（４ｂ）と、下地層６の表面の少なくとも一部に第１の被膜３を形成する第１の被膜形成工程（４ｃ）と、第１の被膜３の表面の少なくとも一部に第２の被膜４を形成する第２の被膜形成工程（４ｄ）と、第２の被膜４の表面の少なくとも一部に第３の被膜５を形成する第３の被膜形成工程（４ｅ）とを有する。すなわち、第１の被膜３の形成に先立ち、下地層６を形成する以外は、前述した実施形態と同様である。
図４は、図３に示す装飾品の製造方法の好適な実施形態を示す断面図である。
図４に示すように、本実施形態の装飾品の製造方法は、基材２の表面の少なくとも一部（４ａ）に、下地層６を形成する下地層形成工程（４ｂ）と、下地層６の表面の少なくとも一部に第１の被膜３を形成する第１の被膜形成工程（４ｃ）と、第１の被膜３の表面の少なくとも一部に第２の被膜４を形成する第２の被膜形成工程（４ｄ）と、第２の被膜４の表面の少なくとも一部に第３の被膜５を形成する第３の被膜形成工程（４ｅ）とを有する。すなわち、第１の被膜３の形成に先立ち、下地層６を形成する以外は、前述した実施形態と同様である。
［下地層形成工程］
本実施形態では、基材２の表面に下地層６を形成する（４ｂ）。
下地層６の形成方法は、特に限定されず、例えば、スピンコート、ディッピング、刷毛塗り、噴霧塗装、静電塗装、電着塗装等の塗装、電解めっき、浸漬めっき、無電解めっき等の湿式めっき法や、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、レーザーＣＶＤ等の化学蒸着法（ＣＶＤ）、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の乾式めっき法（気相成膜法）、溶射等が挙げられるが、乾式めっき法が好ましい。下地層６の形成方法として乾式めっき法を適用することにより、均一な膜厚を有し、均質で、かつ、基材２との密着性が特に優れた下地層６を確実に形成することができる。その結果、最終的に得られる装飾品１の審美的外観、耐久性を特に優れたものとすることができる。また、下地層６の形成方法として乾式めっき法を適用することにより、形成すべき下地層６が比較的薄いものであっても、膜厚のばらつきを十分に小さいものとすることができる。このため、装飾品１の信頼性を向上させる上でも有利である。
本実施形態では、基材２の表面に下地層６を形成する（４ｂ）。
下地層６の形成方法は、特に限定されず、例えば、スピンコート、ディッピング、刷毛塗り、噴霧塗装、静電塗装、電着塗装等の塗装、電解めっき、浸漬めっき、無電解めっき等の湿式めっき法や、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、レーザーＣＶＤ等の化学蒸着法（ＣＶＤ）、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の乾式めっき法（気相成膜法）、溶射等が挙げられるが、乾式めっき法が好ましい。下地層６の形成方法として乾式めっき法を適用することにより、均一な膜厚を有し、均質で、かつ、基材２との密着性が特に優れた下地層６を確実に形成することができる。その結果、最終的に得られる装飾品１の審美的外観、耐久性を特に優れたものとすることができる。また、下地層６の形成方法として乾式めっき法を適用することにより、形成すべき下地層６が比較的薄いものであっても、膜厚のばらつきを十分に小さいものとすることができる。このため、装飾品１の信頼性を向上させる上でも有利である。
また、上述した第１の被膜形成工程を乾式めっき法により行う場合、例えば、ターゲットの種類、気相成膜装置内（チャンバー内）の雰囲気ガスの組成等を変更することにより、同一装置内で、下地層形成工程と第１の被膜形成工程とを、（基材２を装置内から取り出すことなく）引き続いて行うことができる。これにより、基材２、下地層６、第１の被膜３の密着性が特に優れたものとなるとともに、装飾品１の生産性も向上する。また、特に、下地層６がＴｉで構成されるものである場合、同一のターゲットを用い、気相成膜装置内（チャンバー内）の雰囲気ガスの組成を変更することにより、好適に、下地層６と第１の被膜３とを引き続いて（連続的に）形成することができる。
次に、上述したような本発明の装飾品を備えた本発明の時計について説明する。
図５は、本発明の時計（携帯時計）の好適な実施形態を示す部分断面図である。
図５に示すように、本実施形態の腕時計（携帯時計）１０は、胴（ケース）２２と、裏蓋２３と、ベゼル（縁）２４と、ガラス板２５とを備えている。また、ケース２２内には、図示しないムーブメント（例えば、文字盤、針付きのもの）が収納されている。
胴２２には巻真パイプ２６が嵌入・固定され、この巻真パイプ２６内にはりゅうず２７の軸部２７１が回転可能に挿入されている。
図５は、本発明の時計（携帯時計）の好適な実施形態を示す部分断面図である。
図５に示すように、本実施形態の腕時計（携帯時計）１０は、胴（ケース）２２と、裏蓋２３と、ベゼル（縁）２４と、ガラス板２５とを備えている。また、ケース２２内には、図示しないムーブメント（例えば、文字盤、針付きのもの）が収納されている。
胴２２には巻真パイプ２６が嵌入・固定され、この巻真パイプ２６内にはりゅうず２７の軸部２７１が回転可能に挿入されている。
胴２２とベゼル２４とは、プラスチックパッキン２８により固定され、ベゼル２４とガラス板２５とはプラスチックパッキン２９により固定されている。
また、胴２２に対し裏蓋２３が嵌合（または螺合）されており、これらの接合部（シール部）５０には、リング状のゴムパッキン（裏蓋パッキン）４０が圧縮状態で介挿されている。この構成によりシール部５０が液密に封止され、防水機能が得られる。
りゅうず２７の軸部２７１の途中の外周には溝２７２が形成され、この溝２７２内にはリング状のゴムパッキン（りゅうずパッキン）３０が嵌合されている。ゴムパッキン３０は巻真パイプ２６の内周面に密着し、該内周面と溝２７２の内面との間で圧縮される。この構成により、りゅうず２７と巻真パイプ２６との間が液密に封止され防水機能が得られる。なお、りゅうず２７を回転操作したとき、ゴムパッキン３０は軸部２７１と共に回転し、巻真パイプ２６の内周面に密着しながら周方向に摺動する。
また、胴２２に対し裏蓋２３が嵌合（または螺合）されており、これらの接合部（シール部）５０には、リング状のゴムパッキン（裏蓋パッキン）４０が圧縮状態で介挿されている。この構成によりシール部５０が液密に封止され、防水機能が得られる。
りゅうず２７の軸部２７１の途中の外周には溝２７２が形成され、この溝２７２内にはリング状のゴムパッキン（りゅうずパッキン）３０が嵌合されている。ゴムパッキン３０は巻真パイプ２６の内周面に密着し、該内周面と溝２７２の内面との間で圧縮される。この構成により、りゅうず２７と巻真パイプ２６との間が液密に封止され防水機能が得られる。なお、りゅうず２７を回転操作したとき、ゴムパッキン３０は軸部２７１と共に回転し、巻真パイプ２６の内周面に密着しながら周方向に摺動する。
本発明の腕時計１０は、ベゼル２４、胴２２、りゅうず２７、裏蓋２３、時計バンド等の装飾品（特に、時計用外装部品）のうち少なくとも１つが前述したような本発明の装飾品で構成されたものである。
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。
例えば、本発明の装飾品の製造方法では、必要に応じて、任意の目的の工程を追加することもできる。例えば、第１の被膜形成工程と第２の被膜形成工程との間や、第２の被膜形成工程と第３の被膜形成工程との間、下地層形成工程と第１の被膜形成工程との間に、洗浄等の中間処理を施してもよい。また、基材に対しては、切削、研削、研磨、ホーニング等の前処理を施してもよい。
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。
例えば、本発明の装飾品の製造方法では、必要に応じて、任意の目的の工程を追加することもできる。例えば、第１の被膜形成工程と第２の被膜形成工程との間や、第２の被膜形成工程と第３の被膜形成工程との間、下地層形成工程と第１の被膜形成工程との間に、洗浄等の中間処理を施してもよい。また、基材に対しては、切削、研削、研磨、ホーニング等の前処理を施してもよい。
また、前述した実施形態では、第１の被膜を気相成膜により形成する場合について中心的に説明したが、第１の被膜は、例えば、Ｔｉで構成された被膜に対し、窒化処理を施すことにより形成されたものであってもよい。
また、装飾品の表面の少なくとも一部には、耐食性、耐候性、耐水性、耐油性、耐擦傷性、耐摩耗性、耐変色性等を付与し、防錆、防汚、防曇、防傷等の効果を向上するコート層（保護層）等が形成されていてもよい。このようなコート層は、装飾品の使用時等において除去されるものであってもよい。
また、前述した実施形態では、第１の被膜と第２の被膜、第２の被膜と第３の被膜は、互いに隣接して設けられるものとして説明したが、第１の被膜と第２の被膜との間、第２の被膜と第３の被膜との間には、少なくとも１層の中間層が設けられていてもよい。これにより、例えば、第１の被膜と第２の被膜との密着性、第２の被膜と第３の被膜との密着性の更なる向上等を図ることができる。
また、装飾品の表面の少なくとも一部には、耐食性、耐候性、耐水性、耐油性、耐擦傷性、耐摩耗性、耐変色性等を付与し、防錆、防汚、防曇、防傷等の効果を向上するコート層（保護層）等が形成されていてもよい。このようなコート層は、装飾品の使用時等において除去されるものであってもよい。
また、前述した実施形態では、第１の被膜と第２の被膜、第２の被膜と第３の被膜は、互いに隣接して設けられるものとして説明したが、第１の被膜と第２の被膜との間、第２の被膜と第３の被膜との間には、少なくとも１層の中間層が設けられていてもよい。これにより、例えば、第１の被膜と第２の被膜との密着性、第２の被膜と第３の被膜との密着性の更なる向上等を図ることができる。
次に、本発明の具体的実施例について説明する。
１．装飾品の製造
（実施例１）
以下に示すような方法により、装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製造した。
まず、ステンレス鋼（ＳＵＳ４４４）を用いて、鋳造により、腕時計ケース（裏蓋）の形状を有する基材を作製し、その後、必要箇所を切削、研磨した。
１．装飾品の製造
（実施例１）
以下に示すような方法により、装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製造した。
まず、ステンレス鋼（ＳＵＳ４４４）を用いて、鋳造により、腕時計ケース（裏蓋）の形状を有する基材を作製し、その後、必要箇所を切削、研磨した。
次に、この基材を洗浄した。基材の洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行った。その後、中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１０秒間行った。
上記のようにして洗浄を行った基材に対して、気相成膜装置を用いて、以下のようにして、主としてＴｉＮで構成される第１の被膜を形成した。
まず、気相成膜装置の処理室内を予熱しながら、処理室内を２×１０−３Ｐａまで排気（減圧）した。
上記のようにして洗浄を行った基材に対して、気相成膜装置を用いて、以下のようにして、主としてＴｉＮで構成される第１の被膜を形成した。
まず、気相成膜装置の処理室内を予熱しながら、処理室内を２×１０−３Ｐａまで排気（減圧）した。
次に、クリーニング用アルゴンガスを処理室内に導入して、５分間のクリーニング処理を行った。クリーニング処理は、３５０Ｖの直流電圧を印加することにより行った。
次に、処理室内を２×１０−３Ｐａまで排気（減圧）した後、窒素ガスを４０ｍｌ／分の流量で導入し、処理室内における雰囲気圧（全圧）を１．８×１０−３Ｐａとした。このような状態（窒素ガスを導入し続けた状態）で、ターゲットとしてＴｉを用い、イオン化電圧：５０Ｖ、イオン化電流：４０Ａに設定し、この状態で１９分間イオンプレーティングを行った（第１の被膜形成工程）。その結果、ＴｉＮで構成され、平均厚さが０．５μｍの第１の被膜が形成された。また、形成された第１の被膜中におけるＮの含有率は１５．０ｗｔ％であった。
次に、処理室内を２×１０−３Ｐａまで排気（減圧）した後、窒素ガスを４０ｍｌ／分の流量で導入し、処理室内における雰囲気圧（全圧）を１．８×１０−３Ｐａとした。このような状態（窒素ガスを導入し続けた状態）で、ターゲットとしてＴｉを用い、イオン化電圧：５０Ｖ、イオン化電流：４０Ａに設定し、この状態で１９分間イオンプレーティングを行った（第１の被膜形成工程）。その結果、ＴｉＮで構成され、平均厚さが０．５μｍの第１の被膜が形成された。また、形成された第１の被膜中におけるＮの含有率は１５．０ｗｔ％であった。
その後、上記の気相成膜装置を用いた真空蒸着により、第１の被膜の表面に、Ａｕで構成される第２の被膜を形成した（第２の被膜形成工程）。第２の被膜の形成は、以下のようにして行った。
まず、気相成膜装置の処理室内を予熱しながら、処理室内を２．７×１０−３Ｐａまで排気（減圧）した。その後、さらに、チャンバー内を８．０×１０−４Ｐａまで排気し、このような状態で、タングステンボードを用いた抵抗加熱により、鋳造により形成されたターゲットを溶解、蒸着させ、Ａｕで構成される第２の被膜を形成した。形成された第２の被膜の平均厚さは、０．０５μｍであった。また、第２の被膜中におけるＡｕの含有率は、９９．９９ｗｔ％以上であった。
まず、気相成膜装置の処理室内を予熱しながら、処理室内を２．７×１０−３Ｐａまで排気（減圧）した。その後、さらに、チャンバー内を８．０×１０−４Ｐａまで排気し、このような状態で、タングステンボードを用いた抵抗加熱により、鋳造により形成されたターゲットを溶解、蒸着させ、Ａｕで構成される第２の被膜を形成した。形成された第２の被膜の平均厚さは、０．０５μｍであった。また、第２の被膜中におけるＡｕの含有率は、９９．９９ｗｔ％以上であった。
その後、上記の気相成膜装置を用いたスパッタリングにより、第２の被膜の表面に、Ａｕ−Ｐｄ−Ａｇ系合金で構成される第３の被膜を形成した（第３の被膜形成工程）。第３の被膜の形成は、以下のようにして行った。
まず、気相成膜装置の処理室内を予熱しながら、処理室内を１．０×１０−１Ｐａまで排気（減圧）した。
まず、気相成膜装置の処理室内を予熱しながら、処理室内を１．０×１０−１Ｐａまで排気（減圧）した。
次に、アルゴン流量：４０ｍｌ／分でアルゴンガスを導入した。このような状態で、ターゲットとしてＡｕ−Ｐｄ−Ａｇ系合金を用い、電圧：６５０Ｖ、電流：２．０Ａ、処理時間：５．０分間という条件で放電を行うことにより、Ａｕ−Ｐｄ−Ａｇ系合金で構成される第３の被膜を形成した。このようにして形成された第３の被膜の平均厚さは、０．０８μｍであった。また、ターゲットとして用いたＡｕ−Ｐｄ−Ａｇ系合金、および、第３の被膜を構成するＡｕ−Ｐｄ−Ａｇ系合金は、いずれも、７８．０ｗｔ％Ａｕ−７．０ｗｔ％Ｐｄ−１５．０ｗｔ％Ａｇという組成を有するものであった。
なお、第１の被膜、第２の被膜、第３の被膜の厚さは、ＪＩＳ Ｈ ５８２１の顕微鏡断面試験方法により測定した。
なお、第１の被膜、第２の被膜、第３の被膜の厚さは、ＪＩＳ Ｈ ５８２１の顕微鏡断面試験方法により測定した。
（実施例２〜８）
第１の被膜形成工程における窒素ガスの流量および処理時間、第２の被膜形成工程の処理時間、第３の被膜形成工程で用いるターゲットの合金組成および処理時間を調整することにより、第１の被膜、第２の被膜、第３の被膜の構成を表１に示すようにした以外は、前記実施例１と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製造した。
第１の被膜形成工程における窒素ガスの流量および処理時間、第２の被膜形成工程の処理時間、第３の被膜形成工程で用いるターゲットの合金組成および処理時間を調整することにより、第１の被膜、第２の被膜、第３の被膜の構成を表１に示すようにした以外は、前記実施例１と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製造した。
（実施例９）
第１の被膜形成工程において、雰囲気ガスとして窒素ガスおよびアセチレンガスを用いることにより、第１の被膜をＴｉＣＮで構成されるものとして形成した以外は、前記実施例１と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製造した。
第１の被膜形成工程（イオンプレーティング）は、窒素ガス、アセチレンガスを、それぞれ、３０ｍｌ／分、２０ｍｌ／分の流量で導入し、処理室内における雰囲気圧（全圧）を３．０×１０−３Ｐａとし、イオン化電圧：５０Ｖ、イオン化電流：４０Ａに設定することによりを行った。
第１の被膜形成工程において、雰囲気ガスとして窒素ガスおよびアセチレンガスを用いることにより、第１の被膜をＴｉＣＮで構成されるものとして形成した以外は、前記実施例１と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製造した。
第１の被膜形成工程（イオンプレーティング）は、窒素ガス、アセチレンガスを、それぞれ、３０ｍｌ／分、２０ｍｌ／分の流量で導入し、処理室内における雰囲気圧（全圧）を３．０×１０−３Ｐａとし、イオン化電圧：５０Ｖ、イオン化電流：４０Ａに設定することによりを行った。
（実施例１０、１１）
第１の被膜形成工程における窒素ガスおよびアセチレンガスの流量を変更し、さらに、第１の被膜形成工程の処理時間を変更することにより第１の被膜の平均厚さ、第１の被膜中におけるＮの含有率、Ｃの含有率を表１に示すようにした以外は、前記実施例９と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製造した。
第１の被膜形成工程における窒素ガスおよびアセチレンガスの流量を変更し、さらに、第１の被膜形成工程の処理時間を変更することにより第１の被膜の平均厚さ、第１の被膜中におけるＮの含有率、Ｃの含有率を表１に示すようにした以外は、前記実施例９と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製造した。
（実施例１２）
基材として、Ｔｉで構成されたものを用いた以外は、前記実施例１と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製造した。
基材としては、以下に述べるような金属粉末射出成形（ＭＩＭ）により作製したものを用いた。
まず、ガスアトマイズ法により製造された平均粒径５２μｍのＴｉ粉末を用意した。
基材として、Ｔｉで構成されたものを用いた以外は、前記実施例１と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製造した。
基材としては、以下に述べるような金属粉末射出成形（ＭＩＭ）により作製したものを用いた。
まず、ガスアトマイズ法により製造された平均粒径５２μｍのＴｉ粉末を用意した。
このＴｉ粉末：７５ｖｏｌ％と、ポリエチレン：８ｖｏｌ％と、ポリプロピレン：７ｖｏｌ％と、パラフィンワックス：１０ｖｏｌ％とからなる材料を混練した。前記材料の混練には、ニーダーを用いた。また、混練時における材料温度は６０℃であった。
次に、得られた混練物を粉砕、分級して平均粒径３ｍｍのペレットとした。このペレットを用いて、射出形成機にて金属粉末射出成形（ＭＩＭ）し、腕時計ケースの形状を有する成形体を製造した。このとき成形体は、脱バインダー処理、焼結時での収縮を考慮して成形した。射出成形時における成形条件は、金型温度４０℃、射出圧力８０ｋｇｆ／ｃｍ２、射出時間２０秒、冷却時間４０秒であった。
次に、得られた混練物を粉砕、分級して平均粒径３ｍｍのペレットとした。このペレットを用いて、射出形成機にて金属粉末射出成形（ＭＩＭ）し、腕時計ケースの形状を有する成形体を製造した。このとき成形体は、脱バインダー処理、焼結時での収縮を考慮して成形した。射出成形時における成形条件は、金型温度４０℃、射出圧力８０ｋｇｆ／ｃｍ２、射出時間２０秒、冷却時間４０秒であった。
次に、前記成形体に対して、脱脂炉を用いた脱バインダー処理を施し、脱脂体を得た。この脱バインダー処理は、１．０×１０−１Ｐａのアルゴンガス雰囲気中、８０℃で１時間、次いで、１０℃／時間の速度で４００℃まで昇温した。熱処理時におけるサンプルの重さを測定し、重量低下がなくなった時点を脱バインダー終了時点とした。
次に、このようにして得られた脱脂体に対し、焼結炉を用いて焼結を行い、基材を得た。この焼結は、１．３×１０−３〜１．３×１０−４Ｐａのアルゴンガス雰囲気中で、９００〜１１００℃×６時間の熱処理を施すことにより行った。
以上のようにして得られた基材について、その必要箇所を切削、研磨した後、この基材を洗浄した。基材の洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行った。その後、中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１０秒間行った。
次に、このようにして得られた脱脂体に対し、焼結炉を用いて焼結を行い、基材を得た。この焼結は、１．３×１０−３〜１．３×１０−４Ｐａのアルゴンガス雰囲気中で、９００〜１１００℃×６時間の熱処理を施すことにより行った。
以上のようにして得られた基材について、その必要箇所を切削、研磨した後、この基材を洗浄した。基材の洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行った。その後、中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１０秒間行った。
（実施例１３〜１７）
第１の被膜形成工程における窒素ガスの流量および処理時間、第２の被膜形成工程の処理時間、第３の被膜形成工程で用いるターゲットの合金組成および処理時間を調整することにより、第１の被膜、第２の被膜、第３の被膜の構成を表１に示すようにした以外は、前記実施例１２と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製造した。
（実施例１８）
第１の被膜形成工程において、雰囲気ガスとして窒素ガスおよびアセチレンガスを用いることにより、第１の被膜をＴｉＣＮで構成されるものとして形成した以外は、前記実施例１２と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製造した。
第１の被膜形成工程（イオンプレーティング）は、窒素ガス、アセチレンガスを、それぞれ、３０ｍｌ／分、２０ｍｌ／分の流量で導入し、処理室内における雰囲気圧（全圧）を３．０×１０−３Ｐａとし、イオン化電圧：５０Ｖ、イオン化電流：４０Ａに設定することによりを行った。
第１の被膜形成工程における窒素ガスの流量および処理時間、第２の被膜形成工程の処理時間、第３の被膜形成工程で用いるターゲットの合金組成および処理時間を調整することにより、第１の被膜、第２の被膜、第３の被膜の構成を表１に示すようにした以外は、前記実施例１２と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製造した。
（実施例１８）
第１の被膜形成工程において、雰囲気ガスとして窒素ガスおよびアセチレンガスを用いることにより、第１の被膜をＴｉＣＮで構成されるものとして形成した以外は、前記実施例１２と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製造した。
第１の被膜形成工程（イオンプレーティング）は、窒素ガス、アセチレンガスを、それぞれ、３０ｍｌ／分、２０ｍｌ／分の流量で導入し、処理室内における雰囲気圧（全圧）を３．０×１０−３Ｐａとし、イオン化電圧：５０Ｖ、イオン化電流：４０Ａに設定することによりを行った。
（実施例１９、２０）
第１の被膜形成工程における窒素ガスおよびアセチレンガスの流量を変更し、さらに、第１の被膜形成工程の処理時間を変更することにより第１の被膜の平均厚さ、第１の被膜中におけるＮの含有率、Ｃの含有率を表１に示すようにした以外は、前記実施例１８と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製造した。
第１の被膜形成工程における窒素ガスおよびアセチレンガスの流量を変更し、さらに、第１の被膜形成工程の処理時間を変更することにより第１の被膜の平均厚さ、第１の被膜中におけるＮの含有率、Ｃの含有率を表１に示すようにした以外は、前記実施例１８と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製造した。
（実施例２１）
第１の被膜の形成に先立ち、基材の表面に下地層を形成した以外は、前記実施例１と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製造した。
下地層の形成は、以下のようにして行った。
まず、前記実施例１と同様にして洗浄を行った基材を、気相成膜装置の処理室内に設置した。
次に、気相成膜装置の処理室内を予熱しながら、処理室内を３×１０−３Ｐａまで排気（減圧）した。
第１の被膜の形成に先立ち、基材の表面に下地層を形成した以外は、前記実施例１と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製造した。
下地層の形成は、以下のようにして行った。
まず、前記実施例１と同様にして洗浄を行った基材を、気相成膜装置の処理室内に設置した。
次に、気相成膜装置の処理室内を予熱しながら、処理室内を３×１０−３Ｐａまで排気（減圧）した。
次に、クリーニング用アルゴンガスを処理室内に導入して、５分間のクリーニング処理を行った。クリーニング処理は、３５０Ｖの直流電圧を印加することにより行った。
その後、処理室内にアルゴンガスを、ガス圧力を５３Ｐａで導入し、４００Ｖの直流電圧を印加して３０〜６０分保持した。このような状態で、ターゲットとしてＴｉを用い、イオン化電圧：３０Ｖ、イオン化電流：２０Ａ、処理時間：２０分間に設定することにより、Ｔｉで構成される下地層を形成した（下地層形成工程）。形成された下地層の平均厚さは、０．５μｍであった。
なお、第１の被膜、第２の被膜、下地層の厚さは、ＪＩＳ Ｈ ５８２１の顕微鏡断面試験方法により測定した。
その後、処理室内にアルゴンガスを、ガス圧力を５３Ｐａで導入し、４００Ｖの直流電圧を印加して３０〜６０分保持した。このような状態で、ターゲットとしてＴｉを用い、イオン化電圧：３０Ｖ、イオン化電流：２０Ａ、処理時間：２０分間に設定することにより、Ｔｉで構成される下地層を形成した（下地層形成工程）。形成された下地層の平均厚さは、０．５μｍであった。
なお、第１の被膜、第２の被膜、下地層の厚さは、ＪＩＳ Ｈ ５８２１の顕微鏡断面試験方法により測定した。
（実施例２２〜２６）
下地層形成工程で用いるターゲットの組成および処理時間、第１の被膜形成工程における窒素ガスの流量および処理時間、第２の被膜形成工程の処理時間、第３の被膜形成工程で用いるターゲットの合金組成および処理時間を調整・選択することにより、下地層、第１の被膜、第２の被膜、第３の被膜の構成を表２に示すようにした以外は、前記実施例２１と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製造した。
下地層形成工程で用いるターゲットの組成および処理時間、第１の被膜形成工程における窒素ガスの流量および処理時間、第２の被膜形成工程の処理時間、第３の被膜形成工程で用いるターゲットの合金組成および処理時間を調整・選択することにより、下地層、第１の被膜、第２の被膜、第３の被膜の構成を表２に示すようにした以外は、前記実施例２１と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製造した。
（実施例２７）
第１の被膜形成工程において、雰囲気ガスとして窒素ガスおよびアセチレンガスを用いることにより、第１の被膜をＴｉＣＮで構成されるものとして形成した以外は、前記実施例２１と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製造した。
第１の被膜形成工程（イオンプレーティング）は、窒素ガス、アセチレンガスを、それぞれ、３０ｍｌ／分、２０ｍｌ／分の流量で導入し、処理室内における雰囲気圧（全圧）を３．０×１０−３Ｐａとし、イオン化電圧：５０Ｖ、イオン化電流：４０Ａに設定することによりを行った。
第１の被膜形成工程において、雰囲気ガスとして窒素ガスおよびアセチレンガスを用いることにより、第１の被膜をＴｉＣＮで構成されるものとして形成した以外は、前記実施例２１と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製造した。
第１の被膜形成工程（イオンプレーティング）は、窒素ガス、アセチレンガスを、それぞれ、３０ｍｌ／分、２０ｍｌ／分の流量で導入し、処理室内における雰囲気圧（全圧）を３．０×１０−３Ｐａとし、イオン化電圧：５０Ｖ、イオン化電流：４０Ａに設定することによりを行った。
（実施例２８、２９）
下地層形成工程の処理時間を変更するとともに、第１の被膜形成工程における窒素ガスおよびアセチレンガスの流量を変更し、さらに、第１の被膜形成工程の処理時間を変更することにより下地層の平均厚さ、第１の被膜の平均厚さ、第１の被膜中におけるＮの含有率、Ｃの含有率を表２に示すようにした以外は、前記実施例２７と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製造した。
下地層形成工程の処理時間を変更するとともに、第１の被膜形成工程における窒素ガスおよびアセチレンガスの流量を変更し、さらに、第１の被膜形成工程の処理時間を変更することにより下地層の平均厚さ、第１の被膜の平均厚さ、第１の被膜中におけるＮの含有率、Ｃの含有率を表２に示すようにした以外は、前記実施例２７と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製造した。
（実施例３０）
基材として、Ｔｉで構成されたものを用いた以外は、前記実施例２１と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製造した。
基材としては、以下に述べるような金属粉末射出成形（ＭＩＭ）により作製したものを用いた。
まず、ガスアトマイズ法により製造された平均粒径５２μｍのＴｉ粉末を用意した。
基材として、Ｔｉで構成されたものを用いた以外は、前記実施例２１と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製造した。
基材としては、以下に述べるような金属粉末射出成形（ＭＩＭ）により作製したものを用いた。
まず、ガスアトマイズ法により製造された平均粒径５２μｍのＴｉ粉末を用意した。
このＴｉ粉末：７５ｖｏｌ％と、ポリエチレン：８ｖｏｌ％と、ポリプロピレン：７ｖｏｌ％と、パラフィンワックス：１０ｖｏｌ％とからなる材料を混練した。前記材料の混練には、ニーダーを用いた。また、混練時における材料温度は６０℃であった。
次に、得られた混練物を粉砕、分級して平均粒径３ｍｍのペレットとした。このペレットを用いて、射出形成機にて金属粉末射出成形（ＭＩＭ）し、腕時計ケースの形状を有する成形体を製造した。このとき成形体は、脱バインダー処理、焼結時での収縮を考慮して成形した。射出成形時における成形条件は、金型温度４０℃、射出圧力８０ｋｇｆ／ｃｍ２、射出時間２０秒、冷却時間４０秒であった。
次に、得られた混練物を粉砕、分級して平均粒径３ｍｍのペレットとした。このペレットを用いて、射出形成機にて金属粉末射出成形（ＭＩＭ）し、腕時計ケースの形状を有する成形体を製造した。このとき成形体は、脱バインダー処理、焼結時での収縮を考慮して成形した。射出成形時における成形条件は、金型温度４０℃、射出圧力８０ｋｇｆ／ｃｍ２、射出時間２０秒、冷却時間４０秒であった。
次に、前記成形体に対して、脱脂炉を用いた脱バインダー処理を施し、脱脂体を得た。この脱バインダー処理は、１．０×１０−１Ｐａのアルゴンガス雰囲気中、８０℃で１時間、次いで、１０℃／時間の速度で４００℃まで昇温した。熱処理時におけるサンプルの重さを測定し、重量低下がなくなった時点を脱バインダー終了時点とした。
次に、このようにして得られた脱脂体に対し、焼結炉を用いて焼結を行い、基材を得た。この焼結は、１．３×１０−３〜１．３×１０−４Ｐａのアルゴンガス雰囲気中で、９００〜１１００℃×６時間の熱処理を施すことにより行った。
以上のようにして得られた基材について、その必要箇所を切削、研磨した後、この基材を洗浄した。基材の洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行った。その後、中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１０秒間行った。
次に、このようにして得られた脱脂体に対し、焼結炉を用いて焼結を行い、基材を得た。この焼結は、１．３×１０−３〜１．３×１０−４Ｐａのアルゴンガス雰囲気中で、９００〜１１００℃×６時間の熱処理を施すことにより行った。
以上のようにして得られた基材について、その必要箇所を切削、研磨した後、この基材を洗浄した。基材の洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行った。その後、中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１０秒間行った。
（実施例３１〜３５）
下地層形成工程で用いるターゲットの組成および処理時間、第１の被膜形成工程における窒素ガスの流量および処理時間、第２の被膜形成工程の処理時間、第３の被膜形成工程で用いるターゲットの合金組成および処理時間を調整・選択することにより、下地層、第１の被膜、第２の被膜、第３の被膜の構成を表２に示すようにした以外は、前記実施例３０と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製造した。
下地層形成工程で用いるターゲットの組成および処理時間、第１の被膜形成工程における窒素ガスの流量および処理時間、第２の被膜形成工程の処理時間、第３の被膜形成工程で用いるターゲットの合金組成および処理時間を調整・選択することにより、下地層、第１の被膜、第２の被膜、第３の被膜の構成を表２に示すようにした以外は、前記実施例３０と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製造した。
（実施例３６）
第１の被膜形成工程において、雰囲気ガスとして窒素ガスおよびアセチレンガスを用いることにより、第１の被膜をＴｉＣＮで構成されるものとして形成した以外は、前記実施例３０と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製造した。
第１の被膜形成工程（イオンプレーティング）は、窒素ガス、アセチレンガスを、それぞれ、３０ｍｌ／分、２０ｍｌ／分の流量で導入し、処理室内における雰囲気圧（全圧）を３．０×１０−３Ｐａとし、イオン化電圧：５０Ｖ、イオン化電流：４０Ａに設定することによりを行った。
第１の被膜形成工程において、雰囲気ガスとして窒素ガスおよびアセチレンガスを用いることにより、第１の被膜をＴｉＣＮで構成されるものとして形成した以外は、前記実施例３０と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製造した。
第１の被膜形成工程（イオンプレーティング）は、窒素ガス、アセチレンガスを、それぞれ、３０ｍｌ／分、２０ｍｌ／分の流量で導入し、処理室内における雰囲気圧（全圧）を３．０×１０−３Ｐａとし、イオン化電圧：５０Ｖ、イオン化電流：４０Ａに設定することによりを行った。
（実施例３７、３８）
下地層形成工程の処理時間を変更するとともに、第１の被膜形成工程における窒素ガスおよびアセチレンガスの流量を変更し、さらに、第１の被膜形成工程の処理時間を変更することにより下地層の平均厚さ、第１の被膜の平均厚さ、第１の被膜中におけるＮの含有率、Ｃの含有率を表２に示すようにした以外は、前記実施例３６と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製造した。
（実施例３９）
基材として、Ｃｕ−Ｚｎ合金（合金組成：Ｃｕ６０ｗｔ％−Ｚｎ４０ｗｔ％）で構成され、鋳造により成形されたものを用いた以外は、前記実施例１と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製造した。
下地層形成工程の処理時間を変更するとともに、第１の被膜形成工程における窒素ガスおよびアセチレンガスの流量を変更し、さらに、第１の被膜形成工程の処理時間を変更することにより下地層の平均厚さ、第１の被膜の平均厚さ、第１の被膜中におけるＮの含有率、Ｃの含有率を表２に示すようにした以外は、前記実施例３６と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製造した。
（実施例３９）
基材として、Ｃｕ−Ｚｎ合金（合金組成：Ｃｕ６０ｗｔ％−Ｚｎ４０ｗｔ％）で構成され、鋳造により成形されたものを用いた以外は、前記実施例１と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製造した。
（比較例１）
第１の被膜形成工程を省略した以外は、前記実施例１と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を得た。すなわち、本比較例では、第２の被膜を、基材の表面に直接形成した。
（比較例２）
第２の被膜形成工程を省略した以外は、前記実施例１と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を得た。すなわち、本比較例では、第３の被膜を、第１の被膜の表面に直接形成した。
第１の被膜形成工程を省略した以外は、前記実施例１と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を得た。すなわち、本比較例では、第２の被膜を、基材の表面に直接形成した。
（比較例２）
第２の被膜形成工程を省略した以外は、前記実施例１と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を得た。すなわち、本比較例では、第３の被膜を、第１の被膜の表面に直接形成した。
（比較例３）
第３の被膜形成工程を省略した以外は、前記実施例１と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を得た。すなわち、本比較例で製造された装飾品は、基材、第１の被膜、および、第２の被膜からなるものであり、第３の被膜を有していないものであった。
（比較例４）
以下に示すような方法により、装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製造した。
まず、前記実施例１２と同様にしてＴｉ製の基材を作製した。
第３の被膜形成工程を省略した以外は、前記実施例１と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を得た。すなわち、本比較例で製造された装飾品は、基材、第１の被膜、および、第２の被膜からなるものであり、第３の被膜を有していないものであった。
（比較例４）
以下に示すような方法により、装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製造した。
まず、前記実施例１２と同様にしてＴｉ製の基材を作製した。
次に、この基材を洗浄した。基材の洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行った。その後、中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１０秒間行った。
上記のようにして洗浄を行った基材に対して、浸炭処理を施すことにより、ＴｉＣで構成された浸炭層（ＴｉＣ層）を形成した。
浸炭処理は、以下に説明するようなプラズマ浸炭処理により行った。
上記のようにして洗浄を行った基材に対して、浸炭処理を施すことにより、ＴｉＣで構成された浸炭層（ＴｉＣ層）を形成した。
浸炭処理は、以下に説明するようなプラズマ浸炭処理により行った。
すなわち、加熱炉内にグラファイトファイバー等の断熱材で囲まれた処理室を有し、この処理室内をロッドグラファイトからなる発熱体で加熱すると共に、処理室内の上部に直流グロー放電の正極を接続し、かつ処理品の載置台に陰極を接続し、また処理室内の要所にガスマニホールドを設置して炭化水素、窒素、アルゴン、水素などのプロセスガス（浸炭用ガスおよび希釈用ガス）を適宜導入するようにした浸炭処理装置を用意した。
そして、まず、浸炭処理装置の処理室内に基材を設置し、処理室内を１．３Ｐａまで減圧した。このように、処理室内が減圧された状態で、ヒータにより、基材を約３００℃に加熱した。
その後、クリーニング用アルゴンガスを処理室内に導入して５分間のクリーニング処理を行った。クリーニング処理は、３５０Ｖの直流電圧を印加することにより行った。
その後、クリーニング用アルゴンガスを処理室内に導入して５分間のクリーニング処理を行った。クリーニング処理は、３５０Ｖの直流電圧を印加することにより行った。
その後、処理室内にプロパンガスを導入することにより、処理室内のガス組成をほぼ１００％プロパンガスとし、ガス圧力を５３Ｐａとし、４００Ｖの直流電圧を印加して９０〜１８０分保持することにより、プラズマ浸炭処理を行った。その後、アルゴンガスおよび窒素ガスを処理室内に圧入して基材を常温にまで冷却した。このような浸炭処理により、約１５μｍの厚さの浸炭層が形成された。
その後、浸炭層の表面に、前記実施例１と同様にして第２の被膜を形成し、さらにその後、第２の比較の表面に、前記実施例１と同様にして第３の被膜を形成することにより、装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を得た。
その後、浸炭層の表面に、前記実施例１と同様にして第２の被膜を形成し、さらにその後、第２の比較の表面に、前記実施例１と同様にして第３の被膜を形成することにより、装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を得た。
（比較例５〜１０）
表３に示すように、第３の被膜形成工程において用いるターゲットを変更し、第３の被膜の組成を変更した以外は、前記実施例１と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製造した。
（比較例１１）
第３の被膜形成工程において、Ａｕ−Ｐｄ−Ａｇ系合金の代わりに、Ａｕ−Ｎｉをターゲットとして用いた以外は、前記実施例１と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を得た。
表３に示すように、第３の被膜形成工程において用いるターゲットを変更し、第３の被膜の組成を変更した以外は、前記実施例１と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を製造した。
（比較例１１）
第３の被膜形成工程において、Ａｕ−Ｐｄ−Ａｇ系合金の代わりに、Ａｕ−Ｎｉをターゲットとして用いた以外は、前記実施例１と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を得た。
（比較例１２）
第２の被膜形成工程を省略した以外は、前記比較例１１と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を得た。
（比較例１３）
第１の被膜形成工程を省略した以外は、前記比較例１２と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を得た。
なお、前記各実施例および前記各比較例で形成した第３の被膜は、その形成に用いたターゲット（蒸発源）と同一の組成を有するものであった。
第２の被膜形成工程を省略した以外は、前記比較例１１と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を得た。
（比較例１３）
第１の被膜形成工程を省略した以外は、前記比較例１２と同様にして装飾品（腕時計ケース（裏蓋））を得た。
なお、前記各実施例および前記各比較例で形成した第３の被膜は、その形成に用いたターゲット（蒸発源）と同一の組成を有するものであった。
各実施例および各比較例の装飾品の構成を表１、表２、表３にまとめて示す。なお、表１〜表３中においては、ステンレス鋼をＳＵＳで示し、Ｃｕ−Ｚｎ合金をＢＳで示した。また、表３中、比較例４については、浸炭処理により形成された浸炭層に関する値を、第１の被膜の欄に示した。また、各実施例および各比較例について、基材、下地層は、実質的に、表中に示す成分のみで構成されたものであった（表中の成分の含有率が、いずれも９９．９ｗｔ％以上）。また、各実施例の装飾品の第２の被膜中におけるＡｕの含有率は、いずれも、９９．９８ｗｔ％以上であった。また、各実施例および比較例１〜１０の装飾品の第３の被膜中におけるＮｉの含有率は、いずれも、１０ｐｐｍ以下であった。
２．目視による外観評価
前記各実施例および各比較例で製造した各装飾品について、目視および顕微鏡による観察を行い、これらの外観を以下の５段階の基準に従い、評価した。
Ａ：外観優良。
Ｂ：外観良。
Ｃ：外観やや不良。
Ｄ：外観不良。
Ｅ：外観極めて不良。
前記各実施例および各比較例で製造した各装飾品について、目視および顕微鏡による観察を行い、これらの外観を以下の５段階の基準に従い、評価した。
Ａ：外観優良。
Ｂ：外観良。
Ｃ：外観やや不良。
Ｄ：外観不良。
Ｅ：外観極めて不良。
３．色度計による外観評価
（３−１）ａ＊およびｂ＊についての評価
前記各実施例および各比較例で製造した装飾品について、被膜が形成された面側の色度を、色度計（ミノルタ社製、ＣＭ−２０２２）を用いて測定し、以下の５段階の基準に従い、評価した。
Ａ：ＪＩＳ Ｚ ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図において、ａ＊が
０．７〜１．２でありかつｂ＊が１２．４〜１３．８の範囲内である。
Ｂ：ＪＩＳ Ｚ ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図において、ａ＊が
０．６〜１．４でありかつｂ＊が１２．２〜１４．２の範囲内である（ただし、
Ａの範囲を除く）。
Ｃ：ＪＩＳ Ｚ ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図において、ａ＊が
０．５〜２．８でありかつｂ＊が１２．０〜１６．８の範囲内である（ただし、
ＡおよびＢの範囲を除く）。
Ｄ：ＪＩＳ Ｚ ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図において、ａ＊が
０．４〜３．０でありかつｂ＊が１１．０〜１８．０の範囲内である（ただし、
Ａ、ＢおよびＣの範囲を除く）。
Ｅ：ＪＩＳ Ｚ ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図において、ａ＊が
０．４〜３．０でありかつｂ＊が１１．０〜１８．０の範囲外である。
なお、色度計の光源としては、ＪＩＳ Ｚ ８７２０で規定されるＤ６５のものを用い、視野角：２°で測定した。
（３−１）ａ＊およびｂ＊についての評価
前記各実施例および各比較例で製造した装飾品について、被膜が形成された面側の色度を、色度計（ミノルタ社製、ＣＭ−２０２２）を用いて測定し、以下の５段階の基準に従い、評価した。
Ａ：ＪＩＳ Ｚ ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図において、ａ＊が
０．７〜１．２でありかつｂ＊が１２．４〜１３．８の範囲内である。
Ｂ：ＪＩＳ Ｚ ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図において、ａ＊が
０．６〜１．４でありかつｂ＊が１２．２〜１４．２の範囲内である（ただし、
Ａの範囲を除く）。
Ｃ：ＪＩＳ Ｚ ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図において、ａ＊が
０．５〜２．８でありかつｂ＊が１２．０〜１６．８の範囲内である（ただし、
ＡおよびＢの範囲を除く）。
Ｄ：ＪＩＳ Ｚ ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図において、ａ＊が
０．４〜３．０でありかつｂ＊が１１．０〜１８．０の範囲内である（ただし、
Ａ、ＢおよびＣの範囲を除く）。
Ｅ：ＪＩＳ Ｚ ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図において、ａ＊が
０．４〜３．０でありかつｂ＊が１１．０〜１８．０の範囲外である。
なお、色度計の光源としては、ＪＩＳ Ｚ ８７２０で規定されるＤ６５のものを用い、視野角：２°で測定した。
（３−２）Ｌ＊についての評価
前記各実施例および各比較例で製造した装飾品について、被膜が形成された面側の色度を、色度計（ミノルタ社製、ＣＭ−２０２２）を用いて測定し、以下の５段階の基準に従い、評価した。
Ａ：ＪＩＳ Ｚ ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図において、Ｌ＊が
８４．０〜８５．７の範囲内である。
Ｂ：ＪＩＳ Ｚ ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図において、Ｌ＊が
８３．７〜８６．８の範囲内である（ただし、Ａの範囲を除く）。
Ｃ：ＪＩＳ Ｚ ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図において、Ｌ＊が
８３．６〜８８．０の範囲内である（ただし、ＡおよびＢの範囲を除く）。
Ｄ：ＪＩＳ Ｚ ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図において、Ｌ＊が
８３．２〜８９．０の範囲内である（ただし、Ａ、ＢおよびＣの範囲を除く）。
Ｅ：ＪＩＳ Ｚ ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図において、Ｌ＊が
８３．２〜８９．０の範囲外である。
なお、色度計の光源としては、ＪＩＳ Ｚ ８７２０で規定されるＤ６５のものを用い、視野角：２°で測定した。
前記各実施例および各比較例で製造した装飾品について、被膜が形成された面側の色度を、色度計（ミノルタ社製、ＣＭ−２０２２）を用いて測定し、以下の５段階の基準に従い、評価した。
Ａ：ＪＩＳ Ｚ ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図において、Ｌ＊が
８４．０〜８５．７の範囲内である。
Ｂ：ＪＩＳ Ｚ ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図において、Ｌ＊が
８３．７〜８６．８の範囲内である（ただし、Ａの範囲を除く）。
Ｃ：ＪＩＳ Ｚ ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図において、Ｌ＊が
８３．６〜８８．０の範囲内である（ただし、ＡおよびＢの範囲を除く）。
Ｄ：ＪＩＳ Ｚ ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図において、Ｌ＊が
８３．２〜８９．０の範囲内である（ただし、Ａ、ＢおよびＣの範囲を除く）。
Ｅ：ＪＩＳ Ｚ ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図において、Ｌ＊が
８３．２〜８９．０の範囲外である。
なお、色度計の光源としては、ＪＩＳ Ｚ ８７２０で規定されるＤ６５のものを用い、視野角：２°で測定した。
４．長期安定性評価
前記各実施例および各比較例で製造した装飾品を、常温（２５℃）、常圧、湿度７５％ＲＨの環境下に、８０日間放置した後の、装飾品の被膜が形成された面側の色調を、色度計（ミノルタ社製、ＣＭ−２０２２）を用いて測定し、当該環境下に置く前後での色差を求め、以下の４段階の基準に従い、評価した。
Ａ：色差ΔＥが３未満である。
Ｂ：色差ΔＥが３以上４未満である。
Ｃ：色差ΔＥが４以上５未満である。
Ｄ：色差ΔＥが５以上である。
なお、色度計の光源としては、ＪＩＳ Ｚ ８７２０で規定されるＤ６５のものを用い、視野角：２°で測定した。
前記各実施例および各比較例で製造した装飾品を、常温（２５℃）、常圧、湿度７５％ＲＨの環境下に、８０日間放置した後の、装飾品の被膜が形成された面側の色調を、色度計（ミノルタ社製、ＣＭ−２０２２）を用いて測定し、当該環境下に置く前後での色差を求め、以下の４段階の基準に従い、評価した。
Ａ：色差ΔＥが３未満である。
Ｂ：色差ΔＥが３以上４未満である。
Ｃ：色差ΔＥが４以上５未満である。
Ｄ：色差ΔＥが５以上である。
なお、色度計の光源としては、ＪＩＳ Ｚ ８７２０で規定されるＤ６５のものを用い、視野角：２°で測定した。
５．耐酸化性評価
前記各実施例および各比較例で製造した装飾品を、２００℃、常圧の大気雰囲気下で８時間放置し、その後の装飾品の被膜が形成された面側の色調を、色度計（ミノルタ社製、ＣＭ−２０２２）を用いて測定し、当該環境下に置く前後での色差を求め、以下の４段階の基準に従い、評価した。
Ａ：色差ΔＥが３未満である。
Ｂ：色差ΔＥが３以上４未満である。
Ｃ：色差ΔＥが４以上５未満である。
Ｄ：色差ΔＥが５以上である。
なお、色度計の光源としては、ＪＩＳ Ｚ ８７２０で規定されるＤ６５のものを用い、視野角：２°で測定した。
前記各実施例および各比較例で製造した装飾品を、２００℃、常圧の大気雰囲気下で８時間放置し、その後の装飾品の被膜が形成された面側の色調を、色度計（ミノルタ社製、ＣＭ−２０２２）を用いて測定し、当該環境下に置く前後での色差を求め、以下の４段階の基準に従い、評価した。
Ａ：色差ΔＥが３未満である。
Ｂ：色差ΔＥが３以上４未満である。
Ｃ：色差ΔＥが４以上５未満である。
Ｄ：色差ΔＥが５以上である。
なお、色度計の光源としては、ＪＩＳ Ｚ ８７２０で規定されるＤ６５のものを用い、視野角：２°で測定した。
６．耐薬品性評価
前記各実施例および各比較例で製造した装飾品について、以下に示すような曝気試験を行うことにより、耐薬品性を評価した。
デシケーター内に人工汗を入れ、４５℃で１２時間放置した。その後、デシケーター内に、各装飾品を入れ、さらに４５℃で放置した。このとき、各装飾品は、人工汗中に浸漬しないように配置した。３０時間後、各装飾品をデシケーター内から取り出し、装飾品の被膜が形成された面側の色調を、色度計（ミノルタ社製、ＣＭ−２０２２）を用いて測定し、前記曝気試験を行う前後での色差を求め、以下の４段階の基準に従い、評価した。
Ａ：色差ΔＥが３未満である。
Ｂ：色差ΔＥが３以上４未満である。
Ｃ：色差ΔＥが４以上５未満である。
Ｄ：色差ΔＥが５以上である。
なお、色度計の光源としては、ＪＩＳ Ｚ ８７２０で規定されるＤ６５のものを用い、視野角：２°で測定した。
前記各実施例および各比較例で製造した装飾品について、以下に示すような曝気試験を行うことにより、耐薬品性を評価した。
デシケーター内に人工汗を入れ、４５℃で１２時間放置した。その後、デシケーター内に、各装飾品を入れ、さらに４５℃で放置した。このとき、各装飾品は、人工汗中に浸漬しないように配置した。３０時間後、各装飾品をデシケーター内から取り出し、装飾品の被膜が形成された面側の色調を、色度計（ミノルタ社製、ＣＭ−２０２２）を用いて測定し、前記曝気試験を行う前後での色差を求め、以下の４段階の基準に従い、評価した。
Ａ：色差ΔＥが３未満である。
Ｂ：色差ΔＥが３以上４未満である。
Ｃ：色差ΔＥが４以上５未満である。
Ｄ：色差ΔＥが５以上である。
なお、色度計の光源としては、ＪＩＳ Ｚ ８７２０で規定されるＤ６５のものを用い、視野角：２°で測定した。
７．被膜の密着性評価
前記各実施例および各比較例で製造した装飾品について、以下に示すような試験を行い、被膜（第１の被膜、第２の被膜、第３の被膜、下地層）の密着性を評価した。
各装飾品を、以下のような熱サイクル試験に供した。
まず、装飾品を、２０℃の環境下に１．５時間、次いで、６５℃の環境下に２時間、次いで、２０℃の環境下に１．５時間、次いで、−１５℃の環境下に３時間静置した。その後、再び、環境温度を２０℃に戻し、これを１サイクル（８時間）とし、このサイクルを合計３回繰り返した（合計２４時間）。
その後、装飾品の外観を目視により観察し、これらの外観を以下の４段階の基準に従い、評価した。
Ａ：被膜の浮き、剥がれ等が全く認められない。
Ｂ：被膜の浮きがほとんど認められない。
Ｃ：被膜の浮きがはっきりと認められる。
Ｄ：被膜のひび割れ、剥離がはっきりと認められる。
前記各実施例および各比較例で製造した装飾品について、以下に示すような試験を行い、被膜（第１の被膜、第２の被膜、第３の被膜、下地層）の密着性を評価した。
各装飾品を、以下のような熱サイクル試験に供した。
まず、装飾品を、２０℃の環境下に１．５時間、次いで、６５℃の環境下に２時間、次いで、２０℃の環境下に１．５時間、次いで、−１５℃の環境下に３時間静置した。その後、再び、環境温度を２０℃に戻し、これを１サイクル（８時間）とし、このサイクルを合計３回繰り返した（合計２４時間）。
その後、装飾品の外観を目視により観察し、これらの外観を以下の４段階の基準に従い、評価した。
Ａ：被膜の浮き、剥がれ等が全く認められない。
Ｂ：被膜の浮きがほとんど認められない。
Ｃ：被膜の浮きがはっきりと認められる。
Ｄ：被膜のひび割れ、剥離がはっきりと認められる。
８．耐擦傷性評価
前記各実施例および各比較例で製造した各装飾品について、以下に示すような試験を行い、耐擦傷性を評価した。
スガ磨耗試験機（スガ試験機株式会社製、ＮＵＳ-ＩＳＯ-１）を用いて、荷重：２００ｇｆという条件で、各装飾品の被膜が形成された側の面（基材の表面が露出しているのとは反対側の面）を、合計３００ＤＳ（ダブルストローク）磨耗した後の各装飾品の外観を目視により観察し、これらの外観を以下の４段階の基準に従い、評価した。なお、上記試験は、住友スリーエム（株）製、ラッピングフィルム（酸化アルミニウム、粒度：３０μｍ）を用いて行った。
Ａ：被膜の表面に、傷の発生が全く認められない。
Ｂ：被膜の表面に、傷の発生がほとんど認められない。
Ｃ：被膜の表面に、傷の発生がわずかに認められる。
Ｄ：被膜の表面に、傷の発生が顕著に認められる。または、被膜の剥離が認められる。
前記各実施例および各比較例で製造した各装飾品について、以下に示すような試験を行い、耐擦傷性を評価した。
スガ磨耗試験機（スガ試験機株式会社製、ＮＵＳ-ＩＳＯ-１）を用いて、荷重：２００ｇｆという条件で、各装飾品の被膜が形成された側の面（基材の表面が露出しているのとは反対側の面）を、合計３００ＤＳ（ダブルストローク）磨耗した後の各装飾品の外観を目視により観察し、これらの外観を以下の４段階の基準に従い、評価した。なお、上記試験は、住友スリーエム（株）製、ラッピングフィルム（酸化アルミニウム、粒度：３０μｍ）を用いて行った。
Ａ：被膜の表面に、傷の発生が全く認められない。
Ｂ：被膜の表面に、傷の発生がほとんど認められない。
Ｃ：被膜の表面に、傷の発生がわずかに認められる。
Ｄ：被膜の表面に、傷の発生が顕著に認められる。または、被膜の剥離が認められる。
９．耐打痕性（打痕の付き難さ）評価
前記各実施例および各比較例で製造した各装飾品について、以下に示すような試験を行うことにより、耐打痕性を評価した。
各装飾品の被膜が形成されている側の面に向けて、ステンレス鋼製の球（径１ｃｍ）を高さ６０ｃｍの位置から落下させて、装飾品表面の凹み大きさ（凹み痕の直径）の測定を行い、以下の４段階の基準に従い、評価した。
Ａ：凹み痕の直径が１ｍｍ未満、または、凹み痕が求められない。
Ｂ：凹み痕の直径が１ｍｍ以上２ｍｍ未満。
Ｃ：凹み痕の直径が２ｍｍ以上３ｍｍ未満。
Ｄ：凹み痕の直径が３ｍｍ以上。
これらの結果を、被膜のビッカース硬度Ｈｖとともに表４、表５、表６に示す。なお、ビッカース硬度Ｈｖとしては、各装飾品の表面（被膜が設けられている側の面）について、測定荷重１０ｇｆにて測定した値を示す。
前記各実施例および各比較例で製造した各装飾品について、以下に示すような試験を行うことにより、耐打痕性を評価した。
各装飾品の被膜が形成されている側の面に向けて、ステンレス鋼製の球（径１ｃｍ）を高さ６０ｃｍの位置から落下させて、装飾品表面の凹み大きさ（凹み痕の直径）の測定を行い、以下の４段階の基準に従い、評価した。
Ａ：凹み痕の直径が１ｍｍ未満、または、凹み痕が求められない。
Ｂ：凹み痕の直径が１ｍｍ以上２ｍｍ未満。
Ｃ：凹み痕の直径が２ｍｍ以上３ｍｍ未満。
Ｄ：凹み痕の直径が３ｍｍ以上。
これらの結果を、被膜のビッカース硬度Ｈｖとともに表４、表５、表６に示す。なお、ビッカース硬度Ｈｖとしては、各装飾品の表面（被膜が設けられている側の面）について、測定荷重１０ｇｆにて測定した値を示す。
表４〜表６から明らかなように、本発明の装飾品は、優れた美的外観、特に、淡い金色を示す、優れた美的外観を有していた。また、本発明の装飾品は、長期安定性、耐酸化性、耐薬品性、被膜の密着性にも優れていた。また、本発明の装飾品は、高い硬度を有しており、耐擦傷性、耐打痕性にも優れていた。これらの結果から、本発明の装飾品は、長期間にわたって優れた美的外観を保持することができるものであることがわかる。
また、本発明の装飾品は、いずれも、ザラツキ感のない、優れた触感を有していた。
これに対し、比較例では満足な結果が得られなかった。
また、前記各実施例のうち、第１の被膜が所定量のＣを含むＴｉＮ（ＴｉＣＮ）で構成されたものについては、硝酸（ＨＮＯ３）：１５ｖｏｌ％、硫酸（Ｈ２ＳＯ４）：１５ｖｏｌ％を含む水溶液を用いることにより、被膜（第１の被膜、第２の被膜、第３の被膜）の除去を好適に行うことができ、また、その後の被膜（第１の被膜、第２の被膜、第３の被膜）の再形成を好適に行うことができ、優れた美的外観の装飾品を再生することができた。
また、前記各実施例および各比較例で製造した装飾品を用いて、図５に示すような腕時計を組み立てた。これらの腕時計について、上記と同様な評価を行ったところ、上記と同様な結果が得られた。
これに対し、比較例では満足な結果が得られなかった。
また、前記各実施例のうち、第１の被膜が所定量のＣを含むＴｉＮ（ＴｉＣＮ）で構成されたものについては、硝酸（ＨＮＯ３）：１５ｖｏｌ％、硫酸（Ｈ２ＳＯ４）：１５ｖｏｌ％を含む水溶液を用いることにより、被膜（第１の被膜、第２の被膜、第３の被膜）の除去を好適に行うことができ、また、その後の被膜（第１の被膜、第２の被膜、第３の被膜）の再形成を好適に行うことができ、優れた美的外観の装飾品を再生することができた。
また、前記各実施例および各比較例で製造した装飾品を用いて、図５に示すような腕時計を組み立てた。これらの腕時計について、上記と同様な評価を行ったところ、上記と同様な結果が得られた。
１…装飾品 ２…基材 ３…第１の被膜 ４…第２の被膜 ５…第３の被膜 ６…下地層 １０…腕時計（携帯時計） ２２…胴（ケース） ２３…裏蓋 ２４…ベゼル（縁） ２５…ガラス板 ２６…巻真パイプ ２７…りゅうず ２７１…軸部 ２７２…溝 ２８…プラスチックパッキン ２９…プラスチックパッキン ３０…ゴムパッキン（りゅうずパッキン） ４０…ゴムパッキン（裏蓋パッキン） ５０…接合部（シール部）
Claims (15)
- 基材上に、主としてＴｉＮで構成された第１の被膜を形成する第１の被膜形成工程と、
前記第１の被膜上に、９９ｗｔ％以上の含有率でＡｕを含む第２の被膜を形成する第２の被膜形成工程と、
前記第２の被膜上に、Ａｕを主成分とし、６．０〜１０．０ｗｔ％のＰｄ、および、１２．０〜１６．０ｗｔ％のＡｇを含むＡｕ−Ｐｄ−Ａｇ系合金をターゲットとして用いた乾式めっき法により、第３の被膜を形成する第３の被膜形成工程とを有することを特徴とする装飾品の製造方法。 - 前記第３の被膜をスパッタリングにより形成する請求項１に記載の装飾品の製造方法。
- 前記第１の被膜形成工程に先立ち、前記基材上に、少なくとも１層の下地層を形成する下地層形成工程を有する請求項１または２に記載の装飾品の製造方法。
- 前記下地層として、主としてＴｉで構成された層を形成する請求項３に記載の装飾品の製造方法。
- 請求項１ないし４のいずれかに記載の方法を用いて製造されたことを特徴とする装飾品。
- 基材と、
主としてＴｉＮで構成された第１の被膜と、
前記第１の被膜の前記基材に対向する面とは反対側の表面に設けられ、９９ｗｔ％以上の含有率でＡｕを含む材料で構成された第２の被膜と、
前記第２の被膜の前記第１の被膜に対向する面とは反対側の表面に設けられ、Ａｕを主成分とし、６．０〜１０．０ｗｔ％のＰｄ、および、１２．０〜１６．０ｗｔ％のＡｇを含むＡｕ−Ｐｄ−Ａｇ系合金で構成された第３の被膜とを有することを特徴とする装飾品。 - 前記基材は、少なくともその表面付近が主としてＴｉおよび／またはステンレス鋼で構成されたものである請求項５または６に記載の装飾品。
- 前記第１の被膜中におけるＮの含有率が、２〜２９ｗｔ％である請求項５ないし７のいずれかに記載の装飾品。
- 前記第１の被膜の平均厚さは、０．１〜５．０μｍである請求項５ないし８のいずれかに記載の装飾品。
- 前記第２の被膜の平均厚さは、０．０１〜０．３μｍである請求項５ないし９のいずれかに記載の装飾品。
- 前記第３の被膜の平均厚さは、０．０２〜２．０μｍである請求項５ないし１０のいずれかに記載の装飾品。
- 前記第３の被膜が設けられている側の面の色調は、ＪＩＳ Ｚ ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図において、ａ＊が０．５〜２．８であり、かつ、ｂ＊が１２．０〜１６．８である請求項５ないし１１のいずれかに記載の装飾品。
- 前記第３の被膜が設けられている側の面の色調は、ＪＩＳ Ｚ ８７２９で規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表示の色度図において、Ｌ＊が８３．６〜８８．０である請求項５ないし１２のいずれかに記載の装飾品。
- 装飾品は、時計用外装部品である請求項５ないし１３のいずれかに記載の装飾品。
- 請求項５ないし１４のいずれかに記載の装飾品を備えたことを特徴とする時計。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008068516A JP2009222603A (ja) | 2008-03-17 | 2008-03-17 | 装飾品の製造方法、装飾品および時計 |
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| JP2009222603A true JP2009222603A (ja) | 2009-10-01 |
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111512244A (zh) * | 2017-12-15 | 2020-08-07 | 斯沃奇集团研究和开发有限公司 | 钟表壳体的关闭/打开系统 |
| JP7431139B2 (ja) | 2020-10-20 | 2024-02-14 | シチズン時計株式会社 | 抗菌性金色部材および時計 |
-
2008
- 2008-03-17 JP JP2008068516A patent/JP2009222603A/ja active Pending
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