JP2003238944A - 酸化物表面の化学的−機械的磨き仕上げのための水性分散液、その製法および使用 - Google Patents
酸化物表面の化学的−機械的磨き仕上げのための水性分散液、その製法および使用Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 磨かれるべき表面上に引掻傷を残すことな
く、酸化物表面の化学的機械的磨き仕上げ中に高い割合
で除去され得る分散液を提供することである。 【解決手段】 エアロゾールの形で酸化アルミニウムを
ドープした熱分解法二酸化ケイ素粉末を含有する水性分
散液であって、粉末が粉末の総量に対して０.０１〜３
質量％、有利には０.２〜１.５質量％の酸化アルミニウ
ム含量を示し、分散液の平均粒子直径が最大０.１μｍ
である、水性分散液。
く、酸化物表面の化学的機械的磨き仕上げ中に高い割合
で除去され得る分散液を提供することである。 【解決手段】 エアロゾールの形で酸化アルミニウムを
ドープした熱分解法二酸化ケイ素粉末を含有する水性分
散液であって、粉末が粉末の総量に対して０.０１〜３
質量％、有利には０.２〜１.５質量％の酸化アルミニウ
ム含量を示し、分散液の平均粒子直径が最大０.１μｍ
である、水性分散液。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、酸化物表面の化学
的機械的磨き仕上げのための水性分散液およびその製法
に関する。
的機械的磨き仕上げのための水性分散液およびその製法
に関する。
【０００２】二酸化ケイ素を含有する水性分散液は、広
い分野に亘って使用される。使用例には、紙のコーティ
ング、ガラス繊維および石英ガラスの製造、半導体基体
の磨き仕上げ（ＣＭＰプロセス）が含まれる。
い分野に亘って使用される。使用例には、紙のコーティ
ング、ガラス繊維および石英ガラスの製造、半導体基体
の磨き仕上げ（ＣＭＰプロセス）が含まれる。
【０００３】
【従来の技術】従来の分散液は、殆どコロイド状の二酸
化ケイ素、シリカゲルに由来するかまたは、熱分解的に
製造された二酸化ケイ素に由来するものである。
化ケイ素、シリカゲルに由来するかまたは、熱分解的に
製造された二酸化ケイ素に由来するものである。
【０００４】コロイド状二酸化ケイ素を含有する分散液
は、一般的に、定義された小さな粒度を有し、良好な分
散安定性を示す。化学的機械的磨き仕上げに用いた場
合、磨き表面の欠損、例えば引掻傷の数の率は低い。し
かし、熱分解法二酸化ケイ素を含有する分散液と比べ
て、酸化物表面を磨き仕上げする際の除去率が低い。
は、一般的に、定義された小さな粒度を有し、良好な分
散安定性を示す。化学的機械的磨き仕上げに用いた場
合、磨き表面の欠損、例えば引掻傷の数の率は低い。し
かし、熱分解法二酸化ケイ素を含有する分散液と比べ
て、酸化物表面を磨き仕上げする際の除去率が低い。
【０００５】他方で、熱分解法二酸化ケイ素を含有する
分散液は、一次粒子が凝集および凝塊するために硬い粒
子となり、引掻傷の数が多くなる。凝集体および凝塊体
の分散が困難なことは認識されており、分散液はより不
安定で、堆積またはゲル化の傾向を有する。
分散液は、一次粒子が凝集および凝塊するために硬い粒
子となり、引掻傷の数が多くなる。凝集体および凝塊体
の分散が困難なことは認識されており、分散液はより不
安定で、堆積またはゲル化の傾向を有する。
【０００６】ＥＰ−Ａ−１１４８０２６には、エアロゾ
ールの形で酸化アルミニウムをドープした二酸化ケイ素
の分散液およびこの分散液のインキジェット用の塗工液
を製造するための、および化学的機械的磨き仕上げのた
めの使用が記載されている。１〜２０００００ｐｐｍの
非常に広い範囲の酸化アルミニウムでドープされた水性
分散液が請求されている。しかし、このように定義され
た分散液はインキジェット部門では有利に使用できるも
のの、化学的機械的磨き仕上げについては、満足のいく
磨き仕上げ特性を示さないことが分かった。従って、Ｅ
Ｐ−Ａ−１１４８０２６で製造されかつ２０質量％の酸
化アルミニウムでドープされた二酸化ケイ素を含有する
分散液は、非常に高い欠損率を示し、同時に例えば１０
ｐｐｍの酸化アルミニウムを含む、僅かにドープされた
粉末では除去率が低くなる。
ールの形で酸化アルミニウムをドープした二酸化ケイ素
の分散液およびこの分散液のインキジェット用の塗工液
を製造するための、および化学的機械的磨き仕上げのた
めの使用が記載されている。１〜２０００００ｐｐｍの
非常に広い範囲の酸化アルミニウムでドープされた水性
分散液が請求されている。しかし、このように定義され
た分散液はインキジェット部門では有利に使用できるも
のの、化学的機械的磨き仕上げについては、満足のいく
磨き仕上げ特性を示さないことが分かった。従って、Ｅ
Ｐ−Ａ−１１４８０２６で製造されかつ２０質量％の酸
化アルミニウムでドープされた二酸化ケイ素を含有する
分散液は、非常に高い欠損率を示し、同時に例えば１０
ｐｐｍの酸化アルミニウムを含む、僅かにドープされた
粉末では除去率が低くなる。
【０００７】
【特許文献１】ＥＰ−Ａ−１１４８０２６
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、磨か
れるべき表面上に引掻傷を残すことなく、酸化物表面の
化学的機械的磨き仕上げにおいて、高い割合で除去され
得る分散液を提供することである。
れるべき表面上に引掻傷を残すことなく、酸化物表面の
化学的機械的磨き仕上げにおいて、高い割合で除去され
得る分散液を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、酸化物表面の
化学的機械的磨き仕上げのための水性分散液を提供し、
これはエアロゾールの形で酸化アルミニウムをドープし
た熱分解法二酸化ケイ素粉末を含有し、粉末が粉末の総
質量に対して０.０１〜３質量％、有利には０.２〜１.
５質量％の酸化アルミニウム含量を示し、分散液中の平
均粒子直径が最大０.１μｍであることを特徴とする。
化学的機械的磨き仕上げのための水性分散液を提供し、
これはエアロゾールの形で酸化アルミニウムをドープし
た熱分解法二酸化ケイ素粉末を含有し、粉末が粉末の総
質量に対して０.０１〜３質量％、有利には０.２〜１.
５質量％の酸化アルミニウム含量を示し、分散液中の平
均粒子直径が最大０.１μｍであることを特徴とする。
【００１０】この粉末は、ＥＰ−Ａ−９９５７１８によ
って製造される。
って製造される。
【００１１】分散液の平均粒子直径は例えば動的光散乱
法で測定できる。本発明の分散液において、数に関する
および体積に関する平均粒子直径は０.１μｍを下回
る。
法で測定できる。本発明の分散液において、数に関する
および体積に関する平均粒子直径は０.１μｍを下回
る。
【００１２】酸化物表面の化学的機械的磨き仕上げにお
いて、本発明の分散液は処理中に引掻傷を残すことな
く、非常に高い割合で除去される。本発明の実質的な特
徴は、ドープ処理された二酸化ケイ素粉末の酸化アルミ
ニウム含量が０.０１〜３質量％であることならびに分
散液中の平均粒度である。０.０１質量％を下回る酸化
アルミニウム含量では、ほんの僅かな除去率しか得られ
ず、また、３質量％を上回るドープ処理では、磨き仕上
げ中にできる引掻傷の数が著しく増加する。いずれの状
態も、分散液中の平均粒度が０.１μｍを下回る粉末に
関するものである。分散液中の平均粒度が０.１μｍを
上回る場合、引掻傷の数は同様に著しく増加する。
いて、本発明の分散液は処理中に引掻傷を残すことな
く、非常に高い割合で除去される。本発明の実質的な特
徴は、ドープ処理された二酸化ケイ素粉末の酸化アルミ
ニウム含量が０.０１〜３質量％であることならびに分
散液中の平均粒度である。０.０１質量％を下回る酸化
アルミニウム含量では、ほんの僅かな除去率しか得られ
ず、また、３質量％を上回るドープ処理では、磨き仕上
げ中にできる引掻傷の数が著しく増加する。いずれの状
態も、分散液中の平均粒度が０.１μｍを下回る粉末に
関するものである。分散液中の平均粒度が０.１μｍを
上回る場合、引掻傷の数は同様に著しく増加する。
【００１３】本発明の分散液は、８.５〜１１のｐＨを
示してよい。ｐＨは、アルカリ水酸化物、有利に水酸化
カリウム溶液、アンモニアまたはアンモニウムの水酸化
物溶液、あるいはアミンまたはテトラアルキルアンモニ
ウム塩、例えばテトラメチルアンモニウムヒドロキシド
で調節できる。ｐＨを安定化するために、バッファー系
を使用してもよい。
示してよい。ｐＨは、アルカリ水酸化物、有利に水酸化
カリウム溶液、アンモニアまたはアンモニウムの水酸化
物溶液、あるいはアミンまたはテトラアルキルアンモニ
ウム塩、例えばテトラメチルアンモニウムヒドロキシド
で調節できる。ｐＨを安定化するために、バッファー系
を使用してもよい。
【００１４】本発明の分散液中の粉末の含量は、５〜５
０質量％、有利には１０質量％を上回る。
０質量％、有利には１０質量％を上回る。
【００１５】本発明の分散液の粉末のＢＥＴ表面積は有
利に５０〜９０ｍ２／ｇであってよい。
利に５０〜９０ｍ２／ｇであってよい。
【００１６】本発明の分散液を、堆積および凝結に対し
て安定化するために、添加剤、例えば界面活性物質およ
び分散剤をこれに添加してよい。界面活性物質はアニオ
ン性、カチオン性、非イオン性または両性特性を有する
物質またはそれらの混合物であってよい。量は個々の界
面活性物質によって調節され、０.００１〜２質量％に
調節できる。例えば硫酸ドデシルナトリウム、硫酸ラウ
リルナトリウム、硫酸ドデシルアンモニウムおよびそれ
らの混合物を使用できる。
て安定化するために、添加剤、例えば界面活性物質およ
び分散剤をこれに添加してよい。界面活性物質はアニオ
ン性、カチオン性、非イオン性または両性特性を有する
物質またはそれらの混合物であってよい。量は個々の界
面活性物質によって調節され、０.００１〜２質量％に
調節できる。例えば硫酸ドデシルナトリウム、硫酸ラウ
リルナトリウム、硫酸ドデシルアンモニウムおよびそれ
らの混合物を使用できる。
【００１７】本発明はまた、本発明の分散液を製造する
方法を提供し、この際、エアロゾールの形で酸化アルミ
ニウムをドープした二酸化ケイ素を、少なくとも２００
ｋＪ／ｍ３のエネルギー出力で水性媒体へ分散させる。
方法を提供し、この際、エアロゾールの形で酸化アルミ
ニウムをドープした二酸化ケイ素を、少なくとも２００
ｋＪ／ｍ３のエネルギー出力で水性媒体へ分散させる。
【００１８】このエネルギー出力が可能である、好適な
系の例には、ローターステーターの原理に基づく系が含
まれ、例えばＵｌｔｒａ−Ｔｕｒｒａｘマシーンまたは
磨砕機であってよい。高エネルギー出力は、プラネタリ
形混練機／混合機により可能になる。このような系は、
高い剪断エネルギーを取得するために粒子を破壊する必
要のある、高粘度の分散液に使用するのが有利である。
系の例には、ローターステーターの原理に基づく系が含
まれ、例えばＵｌｔｒａ−Ｔｕｒｒａｘマシーンまたは
磨砕機であってよい。高エネルギー出力は、プラネタリ
形混練機／混合機により可能になる。このような系は、
高い剪断エネルギーを取得するために粒子を破壊する必
要のある、高粘度の分散液に使用するのが有利である。
【００１９】本発明の分散液を製造するために、有利
に、高圧ホモジナイザーが使用できる。このような装置
では、２種類の懸濁液の予分散流を、高圧下で、ノズル
を通して圧縮する。分散液の２種類のジェットは相互に
真っ向からぶつかり、粒子は粒子自体で破砕される。他
の態様では、予分散液はやはり高圧下に放置されるが、
粒子は壁の補強部に衝突する。操作を任意回数繰り返し
て、より小さな粒度を得る。
に、高圧ホモジナイザーが使用できる。このような装置
では、２種類の懸濁液の予分散流を、高圧下で、ノズル
を通して圧縮する。分散液の２種類のジェットは相互に
真っ向からぶつかり、粒子は粒子自体で破砕される。他
の態様では、予分散液はやはり高圧下に放置されるが、
粒子は壁の補強部に衝突する。操作を任意回数繰り返し
て、より小さな粒度を得る。
【００２０】本発明はまた、酸化物表面、有利には二酸
化ケイ素を化学的機械的に磨き仕上げするための、本発
明の分散液の使用に関する。
化ケイ素を化学的機械的に磨き仕上げするための、本発
明の分散液の使用に関する。
【００２１】実施例
分析法
粒度：分散液の平均粒度は、Ｍａｌｖｅｒｎ製のＺｅｔ
ａｓｉｚｅｒ３０００Ｈｓａで測定された。
ａｓｉｚｅｒ３０００Ｈｓａで測定された。
【００２２】ＢＥＴ表面積：使用する粉末の表面積は、
ＤＩＮ６６１３１で測定された。
ＤＩＮ６６１３１で測定された。
【００２３】粘度：製造された分散液の粘度は、Ｐｈｙ
ｓｉｃａ製のＭＣＲ３００ロータリー流動計およびＣＣ
２７計量ビーカーで測定された。粘度の値は、５００
ｌ／ｓｅｃの剪断速度で測定された。この剪断速度は、
粘度が剪断応力とは実質的に無関係となる範囲である。
ｓｉｃａ製のＭＣＲ３００ロータリー流動計およびＣＣ
２７計量ビーカーで測定された。粘度の値は、５００
ｌ／ｓｅｃの剪断速度で測定された。この剪断速度は、
粘度が剪断応力とは実質的に無関係となる範囲である。
【００２４】堆積物：１０００ｍｌの広口ポリエチレン
ボトル中での実際の測定により、１週間の滞留時間後の
堆積物を評価した。注意深くボトルを傾かせることによ
り、存在する堆積物を容易に検出することができる。
ボトル中での実際の測定により、１週間の滞留時間後の
堆積物を評価した。注意深くボトルを傾かせることによ
り、存在する堆積物を容易に検出することができる。
【００２５】除去特性および不均一性：除去特性は分散
液に応じて達成され、不均一性は、Ｚｅｉｓｓ Ａｘｉ
ｏｓｐｅｅｄ 分光光度計によるコーティング厚さの測
定により決定される。ラインスキャン測定は、それぞれ
の場合に周辺部を６ｍｍ除外したウェハ上で実施した。
２５個のウェハを磨き、平均除去率を測定するために評
価した。
液に応じて達成され、不均一性は、Ｚｅｉｓｓ Ａｘｉ
ｏｓｐｅｅｄ 分光光度計によるコーティング厚さの測
定により決定される。ラインスキャン測定は、それぞれ
の場合に周辺部を６ｍｍ除外したウェハ上で実施した。
２５個のウェハを磨き、平均除去率を測定するために評
価した。
【００２６】欠損：欠損（引掻傷およびパーティクル）
の判定を、曇りランプ（haze lamp）下に目視により実
施するかまたはＣｅｎｓｏｒ ＡＮＳ １００表面粒子
計数管を用いて実施する。
の判定を、曇りランプ（haze lamp）下に目視により実
施するかまたはＣｅｎｓｏｒ ＡＮＳ １００表面粒子
計数管を用いて実施する。
【００２７】粉末
０.２５質量％の酸化アルミニウムをドープした二酸化
ケイ素粉末Ｐ１および８質量％の酸化アルミニウムをド
ープした二酸化ケイ素粉末Ｐ２を、ＥＰ−Ａ−９９５７
１８により製造した。Ｐ１は、５５ｍ２／ｇのＢＥＴ表
面積を有し、Ｐ２は６３ｍ２／ｇであった。
ケイ素粉末Ｐ１および８質量％の酸化アルミニウムをド
ープした二酸化ケイ素粉末Ｐ２を、ＥＰ−Ａ−９９５７
１８により製造した。Ｐ１は、５５ｍ２／ｇのＢＥＴ表
面積を有し、Ｐ２は６３ｍ２／ｇであった。
【００２８】分散液
Ｄ１：脱イオン水３６ｋｇおよび３０％ＫＯＨ溶液１０
４ｇを、６０−ｌのステンレススチールバッチ容器へ導
入する。粉末Ｐ１ １６.５ｋｇを取り、分散剤とＹｓ
ｔｒａｌ社製の誘導混合機（４５００ｒｐｍ）の助成に
より予分散した。粉末の導入後に、４個のプロセスリン
グ（processing ring）を有し、ステータースロット幅
が１ｍｍ、速度が１１５００ｒｐｍである、Ｙｓｔｒａ
ｌ社製のＺ６６回転／固定連続ホモジナイザーで、完全
に分散させる。１１５００ｒｐｍでの１５分の分散の
間、ｐＨは、付加的なＫＯＨ溶液の添加により１０.５
に調節され、この値が維持される。さらにＫＯＨ７７９
ｇを使用して、水１.５ｋｇの添加により固体濃度３０
質量％とした。こうして得られる分散液を、２５０ＭＰ
ａの圧力下に、ダイアモンドノズル直径が０.３ｍｍの
高圧ホモジナイザー（Ｓｕｇｉｎｏ Ｍａｃｈｉｎｅ
Ｌｔｄ.製ＨＪＰ−２５０５０Ｕｌｔｉｍａｉｚｅｒシ
ステム）を用いて、２回の破砕サイクルにより破砕し
た。
４ｇを、６０−ｌのステンレススチールバッチ容器へ導
入する。粉末Ｐ１ １６.５ｋｇを取り、分散剤とＹｓ
ｔｒａｌ社製の誘導混合機（４５００ｒｐｍ）の助成に
より予分散した。粉末の導入後に、４個のプロセスリン
グ（processing ring）を有し、ステータースロット幅
が１ｍｍ、速度が１１５００ｒｐｍである、Ｙｓｔｒａ
ｌ社製のＺ６６回転／固定連続ホモジナイザーで、完全
に分散させる。１１５００ｒｐｍでの１５分の分散の
間、ｐＨは、付加的なＫＯＨ溶液の添加により１０.５
に調節され、この値が維持される。さらにＫＯＨ７７９
ｇを使用して、水１.５ｋｇの添加により固体濃度３０
質量％とした。こうして得られる分散液を、２５０ＭＰ
ａの圧力下に、ダイアモンドノズル直径が０.３ｍｍの
高圧ホモジナイザー（Ｓｕｇｉｎｏ Ｍａｃｈｉｎｅ
Ｌｔｄ.製ＨＪＰ−２５０５０Ｕｌｔｉｍａｉｚｅｒシ
ステム）を用いて、２回の破砕サイクルにより破砕し
た。
【００２９】Ｄ２およびＤ３：同様にして、分散液Ｄ２
を粉末Ｐ２から製造し、分散液Ｄ３をＰ３であるＤｅｇ
ｕｓｓａＡＧ製のＡｅｒｏｓｉｌ １３０（ＢＥＴ表面
積１３０ｍ２／ｇ）から製造した。
を粉末Ｐ２から製造し、分散液Ｄ３をＰ３であるＤｅｇ
ｕｓｓａＡＧ製のＡｅｒｏｓｉｌ １３０（ＢＥＴ表面
積１３０ｍ２／ｇ）から製造した。
【００３０】これらの分散液の付加的な分析データを、
表１に詳細する。
表１に詳細する。
【００３１】
【表１】
【００３２】（１）固形分含量３０質量％、ｐＨ１０.
５；（２）５００ｌ／ｓｅｃ 分散液Ｄ１〜Ｄ３に加えて、以下の市販の分散液も磨き
仕上げに使用できる：Ｄ４：Ｋｌｅｂｏｓｏｌ ３０Ｎ
５０（Ｒｏｄｅｌ）、固形分含量３０質量％、アンモニ
アで安定化、ｐＨ９.５。
５；（２）５００ｌ／ｓｅｃ 分散液Ｄ１〜Ｄ３に加えて、以下の市販の分散液も磨き
仕上げに使用できる：Ｄ４：Ｋｌｅｂｏｓｏｌ ３０Ｎ
５０（Ｒｏｄｅｌ）、固形分含量３０質量％、アンモニ
アで安定化、ｐＨ９.５。
【００３３】Ｄ５：Ｋｌｅｂｏｓｏｌ １５０１（Ｒｏ
ｄｅｌ）、固形分含量３０質量％、ＫＯＨで安定化、ｐ
Ｈ１０.９。
ｄｅｌ）、固形分含量３０質量％、ＫＯＨで安定化、ｐ
Ｈ１０.９。
【００３４】Ｄ６：Ｓｅｍｉ−Ｓｐｅｒｓｅ２５（Ｃａ
ｂｏｔ Ｍｉｃｒｏｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ）、固形分
含量２５質量％、ＫＯＨで安定化、ｐＨ１１.０、水で
１：１に希釈。
ｂｏｔ Ｍｉｃｒｏｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ）、固形分
含量２５質量％、ＫＯＨで安定化、ｐＨ１１.０、水で
１：１に希釈。
【００３５】磨き仕上げ工程
装置：Ｐｅｔｅｒ Ｗｏｌｔｅｒｓ ＣＭＰ Ｓｙｓｔ
ｅｍｅ製の、ＰＭ２００磨き装置を装備したＰ２０００
ＣＭＰクラスターツール、およびＣｏｎｔｒａｄｅ社製
のブラシクリーナーを使用して磨き仕上げ試験を実施し
た。清浄試験を水またはアンモニアを用いて実施した。
ｅｍｅ製の、ＰＭ２００磨き装置を装備したＰ２０００
ＣＭＰクラスターツール、およびＣｏｎｔｒａｄｅ社製
のブラシクリーナーを使用して磨き仕上げ試験を実施し
た。清浄試験を水またはアンモニアを用いて実施した。
【００３６】磨きヘッドはＲｏｄｅｌ社製のＤＦ２００
バッキングフィルムを施され、やはりＲｏｄｅｌ社製の
ＩＣ１０００／ＳｕｂａＩＶパッドを研磨布として使用
する。表２に記載のパラメーターを磨き仕上げ工程に利
用した。
バッキングフィルムを施され、やはりＲｏｄｅｌ社製の
ＩＣ１０００／ＳｕｂａＩＶパッドを研磨布として使用
する。表２に記載のパラメーターを磨き仕上げ工程に利
用した。
【００３７】
【表２】
【００３８】１）温度：約２５℃；
２）チャック中心から研磨定盤中心までの距離をｍｍで
表す（研磨定盤の直径＝６００ｍｍ）； ３）ツーゾーンチャックを使用；これにより逆圧を２つ
のエリアに別個に適用でき、均一性が向上する； ウェハ：２００ｍｍ Ｓｉウェハ、１０００ｎｍのＬＰ
ＣＶＤ ＴＥＯＳで被覆される（６７０℃、７５０ｍＴ
ｏｒｒ） 磨き仕上げ結果 ０.２５質量％の酸化アルミニウムでドープされた二酸
化ケイ素粉末を含有し、０.１μｍを下回る平均粒度を
有する分散液は、磨き仕上げに使用する際、コロイド二
酸化ケイ素であるＫｌｅｂｏｓｏｌ ３０Ｎ５０（Ｄ
４）および１５０１（Ｄ５）および熱分解法二酸化ケイ
素をベースとするＳＳ２５分散液（Ｄ６）と比較して、
除去率および不均一性の点で利点を示す。試験した全て
の分散液において、Ｄ２は最も高い除去率を示したが、
欠損数が多いので、酸化物コーティングを磨くのには不
適当である。
表す（研磨定盤の直径＝６００ｍｍ）； ３）ツーゾーンチャックを使用；これにより逆圧を２つ
のエリアに別個に適用でき、均一性が向上する； ウェハ：２００ｍｍ Ｓｉウェハ、１０００ｎｍのＬＰ
ＣＶＤ ＴＥＯＳで被覆される（６７０℃、７５０ｍＴ
ｏｒｒ） 磨き仕上げ結果 ０.２５質量％の酸化アルミニウムでドープされた二酸
化ケイ素粉末を含有し、０.１μｍを下回る平均粒度を
有する分散液は、磨き仕上げに使用する際、コロイド二
酸化ケイ素であるＫｌｅｂｏｓｏｌ ３０Ｎ５０（Ｄ
４）および１５０１（Ｄ５）および熱分解法二酸化ケイ
素をベースとするＳＳ２５分散液（Ｄ６）と比較して、
除去率および不均一性の点で利点を示す。試験した全て
の分散液において、Ｄ２は最も高い除去率を示したが、
欠損数が多いので、酸化物コーティングを磨くのには不
適当である。
【００３９】ＣＭＰ後清浄の後の欠損の測定でも、Ｄ２
を除く全ての試験分散液で同様の値が認められた（表
３）。
を除く全ての試験分散液で同様の値が認められた（表
３）。
【００４０】
【表３】
【００４１】（１）周辺部除外 ６ｍｍ；
（２）標準偏差１シグマ；
（３）粒度０.２５〜１.００μｍ、２％アンモニアによ
るブラシ掛け清浄
るブラシ掛け清浄
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 ガブリエレ パーレット
ドイツ連邦共和国 グロースクロッツェン
ブルク オーバーハークシュトラーセ ７
アー
(72)発明者 ヴェルナー ヴィル
ドイツ連邦共和国 ゲルンハウゼン シュ
ールシュトラーセ 46
Ｆターム(参考） 3C058 AA07 CB02 DA02 DA12
Claims (8)
- 【請求項１】 エアロゾールの形で酸化アルミニウムを
ドープした熱分解法二酸化ケイ素の粉末を含有する、酸
化物表面の化学的機械的磨き仕上げのための水性分散液
において、粉末が、粉末の総量に対して０.０１〜３質
量％、有利には０.２〜１.５質量％の酸化アルミニウム
含量を示し、分散液中の平均粒子直径が最大０.１μｍ
であることを特徴とする、水性分散液。 - 【請求項２】 ｐＨが８.５〜１１であることを特徴と
する、請求項１に記載の水性分散液。 - 【請求項３】 分散液の粉末含量が、５〜５０質量％で
あることを特徴とする、請求項１または２に記載の水性
分散液。 - 【請求項４】 ＢＥＴ表面積が５０〜９０ｍ２／ｇであ
ることを特徴とする、請求項１から３までのいずれか１
項に記載の水性分散液。 - 【請求項５】 界面活性物質および／または分散剤を含
有することを特徴とする、請求項１から４までのいずれ
か１項に記載の水性分散液。 - 【請求項６】 エアロゾールの形で酸化アルミニウムを
ドープした二酸化ケイ素を、少なくとも２００ｋＪ／ｍ
３のエネルギー出力で水性媒体へ分散させることを特徴
とする、請求項１から５までのいずれか１項に記載の水
性分散液の製法。 - 【請求項７】 分散のために高圧ホモジナイザーを使用
することを特徴とする、請求項６に記載の水性分散液の
製法。 - 【請求項８】 酸化物表面、有利には二酸化ケイ素の化
学的機械的磨き仕上げのための、請求項１から５までの
いずれか１項に記載の水性分散液の使用。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE10205280.8 | 2002-02-07 | ||
| DE10205280A DE10205280C1 (de) | 2002-02-07 | 2002-02-07 | Dispersion zum chemisch-mechanischen Polieren |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003238944A true JP2003238944A (ja) | 2003-08-27 |
Family
ID=7713758
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003027530A Withdrawn JP2003238944A (ja) | 2002-02-07 | 2003-02-04 | 酸化物表面の化学的−機械的磨き仕上げのための水性分散液、その製法および使用 |
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| Country | Link |
|---|---|
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| EP (1) | EP1335009A1 (ja) |
| JP (1) | JP2003238944A (ja) |
| KR (1) | KR100572138B1 (ja) |
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| JP2012511251A (ja) * | 2008-12-04 | 2012-05-17 | キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション | 炭化ケイ素膜を選択的に研磨する方法 |
| JP2015157745A (ja) * | 2007-01-03 | 2015-09-03 | ナノグラム・コーポレイションＮａｎｏＧｒａｍ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ | シリコン／ゲルマニウムによるナノ粒子インク、ドーピングされた粒子、印刷法、及び半導体用途のためのプロセス |
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| DE10320854A1 (de) * | 2003-05-09 | 2004-12-09 | Degussa Ag | Dispersion zum chemisch-mechanischen Polieren |
| DE102004016600A1 (de) * | 2004-04-03 | 2005-10-27 | Degussa Ag | Dispersion zum chemisch-mechanischen Polieren von Metalloberflächen enthaltend Metalloxidpartikel und ein kationisches Polymer |
| DE102004021092A1 (de) * | 2004-04-29 | 2005-11-24 | Degussa Ag | Verwendung einer kationischen Siliciumdioxid-Dispersion als Textilveredlungsmittel |
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| DE102004037044A1 (de) | 2004-07-29 | 2006-03-23 | Degussa Ag | Mittel zur Ausstattung von auf Cellulose und/oder Stärke basierenden Substraten mit Wasser abweisenden und gleichzeitig pilz-, bakterien-, insekten- sowie algenwidrigen Eigenschaften |
| DE102004037045A1 (de) | 2004-07-29 | 2006-04-27 | Degussa Ag | Wässrige Silan-Nanokomposite |
| DE102004049427A1 (de) | 2004-10-08 | 2006-04-13 | Degussa Ag | Polyetherfunktionelle Siloxane, polyethersiloxanhaltige Zusammensetzungen, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung |
| DE102005004872A1 (de) * | 2005-02-03 | 2006-08-10 | Degussa Ag | Wässrige Emulsionen von funktionellen Alkoxysilanen und deren kondensierten Oligomeren, deren Herstellung und Verwendung zur Oberflächenbehandlung |
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| DE102006006655A1 (de) * | 2005-08-26 | 2007-03-01 | Degussa Ag | Cellulose- bzw. lignocellulosehaltige Verbundwerkstoffe auf der Basis eines auf Silan basierenden Komposits als Bindemittel |
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